JP2011202636A - 粒子状物質除去用フィルターの洗浄方法及び洗浄装置 - Google Patents

粒子状物質除去用フィルターの洗浄方法及び洗浄装置 Download PDF

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Abstract

【課題】粒子状物質をフィルターから効果的に除去できる洗浄方法及び洗浄装置の提供。
【解決手段】粒子状物質除去用フィルターの洗浄装置100は、内燃機関1の排気通路2内に設置され且つ排気ガスに含まれる粒子状物質19を捕獲するフィルター3と、前記排気ガスの流れ方向F1に対する逆方向F2から前記フィルター3に高圧空気及び高圧蒸気を噴射できる噴射装置4と、前記噴射装置4に前記高圧空気を供給できる高圧空気供給装置5と、前記噴射装置4に前記高圧蒸気を供給できる高圧蒸気供給装置6と、を備えている。
【選択図】図1

Description

内燃機関又は燃焼機器の排気通路内に設置され且つ排気ガスに含まれる粒子状物質を捕獲するフィルターを洗浄する洗浄方法及び洗浄装置に関する。
内燃機関や燃焼機器からの排気ガスには、黒煙などの粒子状物質が含まれている。内燃機関は、例えば、ディーゼル機関、ガス機関、ガソリン機関、及びガスタービン等である。燃焼機器は、例えばボイラである。従来、粒子状物質を排気ガスから除去するために、内燃機関又は燃焼機器の排気通路内に、粒子状物質を物理的に捕獲するためのフィルターが配置される。
捕獲された粒子状物質をフィルターから除去する技術として、次の技術(A)、(B)、及び(C)が実用化されている。技術(A)は、フィルターに捕獲された粒子状物質を電気ヒータ又はバーナーなどにより焼却することによって、フィルターから粒子状物質を除去する。技術(B)は、酸化作用のある触媒成分を微粒子フィルターに担持させることによって、又はフィルターの上流に酸化触媒を設置することによって、フィルターから粒子状物質を連続的に除去する。技術(C)は、排気ガスの流れ方向に対して逆方向に高圧空気をフィルターに噴射することによって、捕獲された粒子状物質をフィルターから払い落とす。
技術(A)は、フィルターの温度を粒子状物質が燃焼する温度に上昇させるのに大きなエネルギーを必要としており、ランニングコストが大きく掛かる。技術(B)は、自動車用機関で主に採用されている。しかし、発電用機関や舶用機関では燃料中に含まれる硫黄分が多いことから、酸化触媒再生方式は発電用機関や舶用機関に適用できない。
一方、技術(C)では、次のような問題がある。排気ガス中の粒子状物質には、燃料や潤滑油に起因する可溶有機成分が含まれている。排気ガス温度が高い場合、少なくとも一部の可溶有機成分は揮発する。揮発によってガス状態となった可溶有機成分はフィルターを通過する。このため、多くの可溶有機成分がフィルターに残留することは防止される。一方、機関始動時や暖機運転時などの排気ガス温度が低い場合、可溶有機成分が揮発しないので、高粘性成分となる。高粘性成分となった可溶有機成分は、黒煙や灰分とともにフィルター内に残留する。粒子状物質に高粘性成分が残留している場合、高圧空気の逆方向噴射によって粒子状物質をフィルターから払い落とすことは困難である。この結果、フィルター差圧が上昇したままとなり、粒子状物質の除去装置の運転が困難になってしまう。
技術(C)における問題を解決する技術、すなわちフィルターに残留する高粘性成分を除去するための技術として、特許文献1〜3に提示される技術がある。
特許文献1の技術は、まず、加熱された高温空気(加熱再生ガス)により、フィルターからススに含まれるオイルミスト(高粘性成分)を揮発させる。該技術は、次に、フィルターに圧縮エア(圧縮ガス)を排気ガスの流れに対して逆方向から噴射する(逆洗する)ことによって、高粘性成分の揮発により剥離しやすくなったススをフィルターから払い落とす。
特許文献2の技術は、高圧水(高圧流体)をフィルターに噴射することによって、フィルターを洗浄する。
特許文献3の技術は、80度より高い温度且つ0.5〜2.0MPaの水又は水蒸気をフィルターに噴射することによって、フィルターを洗浄する方法である。水蒸気は、フィルターへの到達時に液相状態をなすように吹き付けられる。このため、特許文献3も、実質的には特許文献2と同様に、水によってフィルターを洗浄する。
特許第3653055号公報 特開2001−50028号公報 特許第3941550号公報
フィルターから粒子状物質を除去するために、特許文献1の技術は高温空気及び圧縮空気を用いており、特許文献2、3の技術は水又は温水を用いている。
フィルターからオイルミストを揮発させるには、フィルター表面の付着物を加熱することが望ましい。このため、特許文献1の技術は、圧縮空気を噴射する前に、フィルターからオイルミストを揮発させるために、まず空気を加熱する。このため、特許文献1の技術は、多大なエネルギーを必要としている。
フィルターから粒子状物質を除去するために、特許文献1では圧縮空気が用いられており、特許文献2、3では水又は温水が用いられている。しかし、水、温水、又は圧縮空気による洗浄力は、水蒸気による洗浄力よりも弱い。水、温水、又は圧縮空気では、フィルターの洗浄力が不十分である場合がある。
また、フィルターの洗浄に水が用いられた場合、フィルターに水分が残留する。この水分に排気ガスが加わると、ススが固着したり、硫黄分が硫酸に変化する可能性がある。
つまり、高温空気及び圧縮空気による洗浄又は高圧水による洗浄では、粒子状物質をフィルターから効果的に除去できない場合がある。そこで、本発明は、粒子状物質をフィルターから効果的に除去できる洗浄方法及び洗浄装置を提供する。
第1発明は、内燃機関又は燃焼機器の排気通路内に設置され且つ排気ガスに含まれる粒子状物質を捕獲するフィルターに、前記排気ガスの流れ方向に対する逆方向から、高圧空気及び高圧蒸気を噴射する、粒子状物質除去用フィルターの洗浄方法であって、前記フィルターに前記高圧蒸気を噴射した後に、前記フィルターに前記高圧空気を噴射する。
第2発明は、内燃機関又は燃焼機器の排気通路内に設置され且つ排気ガスに含まれる粒子状物質を捕獲するフィルターと、前記排気ガスの流れ方向に対する逆方向から前記フィルターに高圧空気及び高圧蒸気を噴射できる噴射装置と、前記噴射装置に前記高圧空気を供給できる高圧空気供給装置と、前記噴射装置に前記高圧蒸気を供給できる高圧蒸気供給装置とを備えている、粒子状物質除去用フィルターの洗浄装置である。
第2発明は、好ましくは、構成(a)及び(b)を採用できる。
構成(a)において、前記洗浄装置は、前記噴射装置に前記高圧空気及び前記高圧蒸気の一方を択一的に供給するための切換装置と、前記噴射装置に前記高圧蒸気を供給した後に前記噴射装置に前記高圧空気を供給するように、前記切換装置を制御するコントローラと、を更に備えている。
構成(b)において、前記高圧蒸気供給装置が、前記排気ガスを熱源にして前記高圧蒸気を発生させる蒸気発生器である。
第1発明において、気相状態の水蒸気は、液相状態の水や前記水蒸気と同じ温度の高温空気よりも、熱容量の点で大きく、大きなエネルギーを保有している。このため、気相状態の水蒸気は、フィルターから高粘性成分を除去しやすく、フィルター内の微細孔に入り込んだ黒煙や灰分などの除去に効果的である。このため、洗浄方法は、粒子状物質をフィルターから効果的に除去できる。高圧蒸気の噴射によってフィルターに少量の水分が残留するが、洗浄方法は、高圧空気の噴射によって、フィルターに水分が残留することを防止できる。
第2発明において、洗浄装置は、フィルターに高圧蒸気を噴射することによってフィルターから粒子状物質を除去した後に、フィルターに高圧空気を噴射することによってフィルターから水分を除去できる。気相状態の水蒸気は液相状態の水や気相状態の空気よりも、熱容量の点で大きい。このため、気相状態の水蒸気は、フィルターから高粘性成分を除去しやすく、フィルター内の微細孔に入り込んだ黒煙や灰分などの除去に効果的である。つまり、洗浄装置は、粒子状物質をフィルターから効果的に除去できる。高圧蒸気の噴射によってフィルターに少量の水分が残留するが、洗浄装置は、高圧空気の噴射によって、フィルターに水分が残留することを防止できる。
構成(a)において、洗浄装置は、自動的に、フィルターに高圧蒸気を噴射した後に、フィルターに高圧空気を噴射できる。このため、フィルターの洗浄作業が容易である。
構成(b)において、洗浄装置は、排気ガスを熱源として利用するので、高圧蒸気を発生させるために特別の熱源を必要としない。このため、洗浄装置は、経済的に有利である。
粒子状物質除去用フィルターの洗浄装置の構成を示す図である(第1実施形態)。 ハニカムフィルターの構造を示す側断面図である。 高圧空気のみによる洗浄後及び高圧蒸気による洗浄後におけるフィルター差圧の残留率を示す図である。 粒子状物質除去用フィルターの洗浄装置の構成を示す図である(第2実施形態)。 粒子状物質除去用フィルターの洗浄装置の構成を示す図である(第3実施形態)。
(第1実施形態)
図1は、第1実施形態における粒子状物質除去用フィルターの洗浄装置100の構成を示す図である。図1において、内燃機関1、内燃機関1の排気通路2、及び洗浄装置100が示されている。内燃機関1から排出される排気ガスは、排気通路2を通過して、大気中に放出される。図1において、排気ガスの流れ方向F1は、右方向である。
洗浄装置100は、フィルター3、噴射装置4、高圧空気供給装置5、高圧蒸気供給装置6、空気開閉弁7、蒸気開閉弁8、コントローラ9、上流ガス圧センサ11、及び下流ガス圧センサ12を備えている。
フィルター3は、排気通路2内に設置されており、排気ガスに含まれる粒子状物質を捕獲する。
図2は、ハニカムフィルター3の構造を示す側断面図である。フィルター3は、隔壁3aによって区画された多数のセルを有するハニカム構造を有している。各セルは例えば四角柱である。フィルター3が排気通路2内に配置されているとき、各セルの軸方向は排気ガスの流れ方向F1に対して平行であり、隔壁3aの表面も流れ方向F1に対して平行である。各セルは交互に一端を仕切り壁3bにより目封じされている。隔壁3aは濾過膜であり、ガスは隔壁3aを通過できる。また、濾過膜には微細孔が形成されており、隔壁3aを通過する排気ガス中の粒子状物質が隔壁3aに捕獲される。このため、フィルター3を通過する排気ガスは、必ずいずれかの隔壁3aを通過し、排気ガス中の粒子状物質が濾過される。フィルター3の材質は、コージェライト、炭化珪素、又は窒化珪素などのセラミック製が好ましい。
図1において、噴射装置4は、流れ方向F1におけるフィルター3の下流側に配置されている。噴射装置4は、流れ方向F1に対する逆方向F2からフィルター3に高圧空気及び高圧蒸気を噴射できる。
図1において、高圧空気供給装置5は、噴射装置4に高圧空気を供給できる。高圧蒸気供給装置6は、噴射装置4に高圧蒸気を供給できる。
図1において、空気開閉弁7は、高圧空気供給装置5から噴射装置4に高圧空気を供給する供給経路上に配置されている。蒸気開閉弁8は、高圧蒸気供給装置6から噴射装置4に高圧蒸気を供給する供給経路上に配置されている。空気開閉弁7及び蒸気開閉弁8は、共に、電磁開閉弁である。また、空気開閉弁7及び蒸気開閉弁8は、噴射装置4に高圧空気及び高圧蒸気の一方を択一的に供給するための切換装置を構成している。
図1において、上流ガス圧センサ11及び下流ガス圧センサ12は、フィルター3の差圧を検出する差圧センサを構成している。上流ガス圧センサ11は、流れ方向F1におけるフィルター3の上流側に配置されている。下流ガス圧センサ12は、流れ方向F1におけるフィルター3の下流側に配置されている。フィルター3の差圧は、上流ガス圧センサ11によって検出される上流側のガス圧と、下流ガス圧センサ12によって検出される下流側のガス圧との差である。上流ガス圧センサ11及び下流ガス圧センサ12は、共に、自らが配置されている場所におけるガス圧を検出できる。このため、上流ガス圧センサ11及び下流ガス圧センサ12によって検出された上流側及び下流側のガス圧に基づいて、フィルター3の差圧が検出される。
図1において、コントローラ9は、切換装置としての空気開閉弁7及び蒸気開閉弁8の開閉を制御する。コントローラ9は、空気開閉弁7及び蒸気開閉弁8の一方が択一的に開放されるように、空気開閉弁7及び蒸気開閉弁8を制御する。コントローラ10は、差圧センサによって得られたフィルター3の差圧の情報に基づいて、切換装置を制御する。
図1において、排気通路2は、流れ方向F1におけるフィルター3の上流側に、ダストボックス21を有している。ダストボックス21は、噴射装置4の作動によってフィルター3から除去された粒子状物質19を収納する。
図1を参照して、洗浄装置100の作動を説明する。フィルター3の差圧が所定の閾値を越えた場合、コントローラ9は、洗浄装置100による洗浄処理の開始を決定する。洗浄処理の開始が決定されると、コントローラ9は、例えば、排気通路2への排気ガスの排出が停止しているときに、洗浄処理を実行する。洗浄処理の開始前において、空気開閉弁7及び蒸気開閉弁8の双方は閉じられている。このため、噴射装置4は作動していない。
洗浄処理は、フィルター3に高圧蒸気を噴射する蒸気噴射工程と、フィルター3に高圧空気を噴射する空気噴射工程と、を備えている。洗浄処理において、蒸気噴射工程の後に、空気噴射工程が実行される。
蒸気噴射工程において、コントローラ9は、蒸気開閉弁8のみを開放する。蒸気開閉弁8が開放されると、噴射装置4からフィルター3に向けて、排気ガスの流れ方向F1に対する逆方向F2に、高圧蒸気が噴射される。噴射装置4から噴射される水蒸気がフィルター3の全表面(微細孔の形成されている全ての表面)に到達した状態において気相状態を保つように、高圧蒸気の圧力、高圧蒸気の温度、及び噴射装置4からフィルター3までの距離、が設定されている。このため、フィルター3の全表面には、気相状態の水蒸気が吹き付けられる。水蒸気による洗浄力は、高温空気による洗浄力よりも強い。このため、逆方向F2への高圧蒸気の噴射は、逆方向F2への高圧空気の噴射よりも効率的に、高粘性成分を含むスス等の粒子状物質19を、フィルター3から除去できる。蒸気噴射工程が終了すると、コントローラ9は、蒸気開閉弁8を閉鎖する。
フィルター3から除去された粒子状物質19は、フィルター3の上流側に配置されているダストボックス21内に収納される。
空気噴射工程において、コントローラ9は、空気開閉弁7のみを開放する。空気開閉弁7が開放されると、噴射装置4からフィルター3に向けて、排気ガスの流れ方向F1に対する逆方向F2に、高圧空気が噴射される。ここで、蒸気噴射工程の実行により、フィルター3内に水分が残留する。空気噴射工程における逆方向F2への高圧空気の噴射は、フィルター3内に残留する水分をフィルター3から除去できる。空気噴射工程が終了すると、コントローラ9は、空気開閉弁7を閉鎖する。
蒸気噴射工程及び空気噴射工程の終了により、洗浄処理が完了する。
高圧空気及び高圧蒸気の圧力は、共に、大気圧よりも大きな圧力であって、フィルター3の全表面に気相状態の空気及び蒸気を供給できる圧力であればよい。圧力が0.4Mpa以上あれば、高圧蒸気による粒子状物質の除去や高圧空気によるフィルター3の乾燥が効果的である。圧力が0.8Mpa程度(飽和蒸気圧)であるとき、高圧空気及び高圧蒸
気の製造に汎用性があり、高圧空気及び高圧蒸気の取扱いが容易である。
図3は、高圧空気のみによる洗浄後及び高圧蒸気による洗浄後におけるフィルター差圧の残留率を示す図である。図3において、縦軸はフィルター差圧の残留率を示しており、横軸は、フィルター3の状態を示している。フィルター3の状態には、フィルター差圧上昇時の状態、高圧空気のみによる洗浄後の状態、及び高圧蒸気及び高圧空気による洗浄後の状態がある。フィルター差圧上昇時の状態は洗浄前の状態を示している。フィルター差圧上昇時の状態が差圧残留率の基準として設定されており、この状態における残留率は100%である。高圧空気のみによる洗浄後の状態では、高圧空気の噴射が、フィルター3の水分を乾燥させるためではなく、フィルター3から粒子状物質を除去するために行われている。高圧空気のみによる洗浄後の状態では、差圧残留率は40%程度である。高圧蒸気による洗浄後の状態では、差圧残留率は20%程度である。このため、図3において、高圧蒸気による洗浄が効果的であることが、明らかである。
第1実施形態における洗浄装置100は、上述の構成により、次のような作用、効果を有している。
洗浄装置100は、フィルター3、噴射装置4、高圧空気供給装置5、及び高圧蒸気供給装置6を備えている。このため、洗浄装置100は、フィルター3に高圧蒸気を噴射することによってフィルター3から粒子状物質を除去した後に、フィルター3に高圧空気を噴射することによってフィルター3から水分を除去できる。気相状態の水蒸気は液相状態の水や気相状態の空気よりも、熱容量の点で大きい。このため、気相状態の水蒸気は、フィルター3から高粘性成分を除去しやすく、フィルター3内の微細孔に入り込んだ黒煙や灰分などの除去に効果的である。つまり、洗浄装置100は、粒子状物質をフィルター3から効果的に除去できる。高圧蒸気の噴射によってフィルター3に少量の水分が残留するが、洗浄装置100は、高圧空気の噴射によって、フィルター3に水分が残留することを防止できる。
洗浄装置100は、更に、切換装置(空気開閉弁7及び蒸気開閉弁8)及びコントローラ9を備えている。このため、洗浄装置100は、自動的に、フィルター3に高圧蒸気を噴射した後に、フィルター3に高圧空気を噴射できる。このため、フィルター3の洗浄作業が容易である。
(第2実施形態)
図4は、第2実施形態における粒子状物質除去用フィルターの洗浄装置200の構成を示す図である。第2実施形態は、第1実施形態における高圧蒸気供給装置6に代えて、排気ガスボイラ16を備えている。高圧蒸気供給装置6及び排気ガスボイラ16は、共に、高圧蒸気を供給できる高圧蒸気供給装置である。第2実施形態は、排気ガスボイラ16の構成を除いて、第1実施形態と同じ構成を備えている。
排気ガスボイラ(蒸気発生器)16は、排気通路2上に設けられている。排気ガスボイラ16は、排気ガスの流れ方向F1において、フィルター3の下流側に位置している。排気ガスボイラ16には、水が供給される。排気ガスボイラ16内に供給される水と排気通路2を流れる排気ガスとの間で熱交換をすることによって、排気ガスボイラ16は水を沸騰させ、高圧蒸気を発生させる。
第2実施形態における洗浄装置200は、上述の構成により、次のような効果を有している。
洗浄装置200は、排気ガスを熱源として利用するので、高圧蒸気を発生させるために特別の熱源を必要としない。このため、洗浄装置200は、経済的に有利である。
(第3実施形態)
図5は、第3実施形態における粒子状物質除去用フィルターの洗浄装置300の構成を示す図である。第3実施形態は、第1実施形態における排気通路2に代えて、排気通路102を備えている。排気通路102は、中間部に3つの分岐経路102a、102b、及び102cを備えている。3つの分岐経路102a、102b、及び102cのそれぞれの中には、1つのフィルター3が配置されている。また、各フィルター3に対応するように、第3実施形態は3つの噴射装置4を備えている。図示しないが、第3実施形態は、高圧蒸気供給装置5、高圧空気供給装置6、及び切換装置(蒸気開閉弁7及び空気開閉弁8)も備えている。当然ながら、各噴射装置4に、高圧空気及び高圧蒸気の一方が択一的に供給されるように、高圧蒸気供給装置5、高圧空気供給装置6、及び切換装置(蒸気開閉弁7及び空気開閉弁8)が配置されている。
洗浄装置300の作動を説明する。いずれか1つのフィルター3の差圧が所定の閾値を越えた場合、コントローラ9は、当該フィルター3の洗浄処理を開始する。排気通路102は3つの分岐経路102a、102b、及び102cを有するので、1つの分岐経路において洗浄処理が実行されても、排気ガスの排出が阻害されない。ただし、2つのフィルター3において同時に洗浄処理が実行されている場合は、コントローラ9は、現在実行中の洗浄処理が完了するまで、新たな洗浄処理の開始を待機させる。
排気ガス流量が多い場合、第3実施形態のように、複数のフィルター3を並列に配置することが好ましい。
(変形例)
本実施形態における洗浄装置は、次のような変形構成を採用できる。
洗浄装置は、内燃機関の排気通路だけでなく、燃焼機器の排気通路に適用できる。内燃機関は、例えば、ディーゼル機関、ガス機関、ガソリン機関、及びガスタービンを含んでいる。燃焼機器は、例えば、ボイラを含んでいる。
洗浄装置は、コントローラ9による自動制御の代わりに、手動制御を採用できる。手動制御が採用される場合、コントローラ8は洗浄装置の構成要素に含まれない。洗浄処理において、オペレータは、手動により、切換装置を構成する空気開閉弁7及び蒸気開閉弁8を開閉する。
洗浄方法は、最小構成として、蒸気噴射工程と、蒸気噴射工程の後に実行される空気噴射工程と、を含んでいればよい。洗浄方法は、複数回の蒸気噴射工程と、複数回の空気噴射工程とを含んでいても良い。ただし、フィルター3に水分が残留しないように、最後の工程は、必ず、空気噴射工程である。
洗浄方法は、上記洗浄装置を利用する場合に限定されない。オペレータが、内燃機関等の排気通路内に配置されているフィルター3を取り出し、取り出されたフィルター3に対して蒸気を噴射し、その後に該フィルター3に空気を噴射しても良い。この場合、噴射装置4、高圧蒸気供給装置5、及び高圧空気供給装置6は、例えばメンテナンスステーションに配置されており、排気通路2及びフィルター3とは別に設けられている。
フィルター3の洗浄処理の実行は、本実施形態のようにフィルター差圧に基づいて決定するだけでなく、内燃機関又は燃焼装置の運転時間に基づいて決定しても良い。例えば、運転時間が所定時間を超えた場合に、オペレータ又はコントローラ4が、フィルター3を洗浄することを決定する。また、フィルター3を洗浄する時期は、排気ガスの排出が停止しているときだけでなく、排気ガスが排出されているときであっても良い。
1 内燃機関
2 排気通路
3 フィルター
4 噴射装置
5 高圧空気供給装置
6 高圧蒸気供給装置
7 空気開閉弁(切換装置の一部)
8 蒸気開閉弁(切換装置の一部)
9 コントローラ
16 蒸気発生器

Claims (4)

  1. 内燃機関又は燃焼機器の排気通路内に設置され且つ排気ガスに含まれる粒子状物質を捕獲するフィルターに、前記排気ガスの流れ方向に対する逆方向から、高圧空気及び高圧蒸気を噴射する、粒子状物質除去用フィルターの洗浄方法であって、
    前記フィルターに前記高圧蒸気を噴射した後に、前記フィルターに前記高圧空気を噴射する、粒子状物質除去用フィルターの洗浄方法。
  2. 内燃機関又は燃焼機器の排気通路内に設置され且つ排気ガスに含まれる粒子状物質を捕獲するフィルターと、
    前記排気ガスの流れ方向に対する逆方向から前記フィルターに高圧空気及び高圧蒸気を噴射できる噴射装置と、
    前記噴射装置に前記高圧空気を供給できる高圧空気供給装置と、
    前記噴射装置に前記高圧蒸気を供給できる高圧蒸気供給装置と、
    を備えている、粒子状物質除去用フィルターの洗浄装置。
  3. 前記噴射装置に前記高圧空気及び前記高圧蒸気の一方を択一的に供給するための切換装置と、
    前記噴射装置に前記高圧蒸気を供給した後に前記噴射装置に前記高圧空気を供給するように、前記切換装置を制御するコントローラと、
    を更に備えている、請求項2に記載の粒子状物質除去用フィルターの洗浄装置。
  4. 前記高圧蒸気供給装置が、前記排気ガスを熱源にして前記高圧蒸気を発生させる蒸気発生器である、請求項2又は3に記載の粒子状物質除去用フィルターの洗浄装置。
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