JP2011200984A - 研磨パッド - Google Patents
研磨パッド Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011200984A JP2011200984A JP2010071526A JP2010071526A JP2011200984A JP 2011200984 A JP2011200984 A JP 2011200984A JP 2010071526 A JP2010071526 A JP 2010071526A JP 2010071526 A JP2010071526 A JP 2010071526A JP 2011200984 A JP2011200984 A JP 2011200984A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- layer
- hardness
- polishing pad
- intermediate layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
【解決手段】研磨層と、下地層とを持つ研磨パッドにおいて、吸水率が1%以下である中間層を研磨層と下地層の間に含み、研磨層のD硬度と中間層のD硬度の差が20以下であることを特徴とする研磨パッド。
【選択図】なし
Description
1.1センサ部
(1)荷重方式:片持ばり形板バネ
(2)ばね荷重:0ポイント/2.24gf。100ポイント/33.85gf
(3)ばね荷重誤差:±0.32gf
(4)押針寸法:直径:0.16mm円柱形。 高さ0.5mm
(5)変位検出方式:歪ゲージ式
(6)加圧脚寸法:外径4mm 内径1.5mm
1.2センサ駆動部
(1)駆動方式:ステッピングモータによる上下駆動。エアダンパによる降下速度制御
(2)上下動ストローク:12mm
(3)降下速度:10〜30mm/sec
(4)高さ調整範囲:0〜67mm(試料テーブルとセンサ加圧面の距離)
1.3試料台
(1)試料台寸法:直径 80mm
(2)微動機構:XYテーブルおよびマイクロメータヘッドによる微動。ストローク:X軸、Y軸とも15mm
(3)レベル調整器:レベル調整用本体脚および丸型水準器。
ポリプロピレングリコール30重量部とジフェニルメタンジイソシアネート40重量部と水0.5重量部とトリエチルアミン0.3重量部とシリコーン整泡剤1.7重量部とオクチル酸スズ0.09重量部をRIM成型機で混合して、金型に吐出して加圧成型を行い、厚み2.6mmの独立気泡の発泡ポリウレタンシート(マイクロゴムA硬度:42,密度:0.78g/cm3 、独立気泡の平均気泡径:34μm)を作製した。
中間層として、熱可塑性ポリエステルエラストマーである、東レ・デュポン(株)製“ハイトレル(登録商標)5577”の厚み0.8mmのシートを作成した。該シートのD硬度は53、吸水率は0.6%であった。研磨層と中間層のD硬度差は8であった。
実施例1と同様の厚み1.70mmの研磨層を作製した。中間層として熱可塑性ポリエステルエラストマーである、東レ・デュポン(株)製“ハイトレル(登録商標)6347”の厚み0.3mmのシートを作成した。該シートのD硬度は63、吸水率は0.4%であった。研磨層と中間層のD硬度差は2であった。
実施例1と同様の厚み1.0mmの研磨層を作製した。中間層として熱可塑性ポリエステルエラストマーである、東レ・デュポン(株)製“ハイトレル(登録商標)4767”の厚み1.0mmのシートを作成した。該シートのD硬度は46、吸水率は0.8%であった。研磨層と中間層のD硬度差は15であった。
実施例1と同様の厚み2.00mmの研磨層を作製した。中間層として、熱可塑性ポリエステルエラストマーである、東レ・デュポン(株)製“ハイトレル(登録商標)5577”の厚み0.05mmのシートを作成した。該シートのD硬度は53、吸水率は0.6%であった。研磨層と中間層のD硬度差は8であった。
実施例1と同様の厚み1.80mmの研磨層を作製した。中間層としてポリプロピレンの厚み0.2mmのシートを作製した。該シートのD硬度は85、吸水率は0.1%であった。研磨層と中間層のD硬度差は24であった。
研磨層にホットメルト接着剤として、日立化成ポリマー(株)製ハイボンYR713−1Wを80μで塗工し、該シートとニップロールプレスで加圧して、複合層を作製した。下地層として日本マタイ(株)製の熱可塑性ポリウレタンのマイクロゴムA硬度で65度の1.0mm品(引っ張り弾性率=4MPa)を、該複合層と同様にホットメルト接着剤にて貼り合わせ、積層体を作成し、さらに裏面に裏面テープとして積水化学工業(株)両面テープ5604TDXを貼り合わせた。この積層体を508mmの直径の円に加工し、研磨層表面に溝幅1mm、溝深さ1.5mm、溝ピッチ20mmの格子状のXY−グルーブをNCルーターで形成して、積層研磨パッドとした。ここに作製された研磨パッドを、研磨機に貼り付けて、実施例1と同様に評価を行った。ブレークイン後10枚目の研磨レートは200nm/分、面内均一性は6.8%であった。100枚目の研磨レートは220nm/分、面内均一性は4.9%。12時間ウェットアイドル後1枚目の研磨中に、研磨層と中間層の間で剥離が生じ、8枚目まで研磨が出来なかった。研磨初期の10枚目の面内均一性は合格基準には到達しておらず、不合格であった。
Claims (4)
- 研磨層と、下地層とを持つ研磨パッドにおいて、吸水率が1%以下である中間層を研磨層と下地層の間に含み、研磨層のD硬度と中間層のD硬度の差が20以下であることを特徴とする研磨パッド。
- 中間層が熱可塑性ポリエステルエラストマーである請求項1記載の研磨パッド。
- 中間層のD硬度が45以上65以下である請求項1または2に記載の研磨パッド。
- 中間層の厚みが0.1mm以上、1.5mm以下である請求項1〜3のいずれかに記載の研磨パッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010071526A JP2011200984A (ja) | 2010-03-26 | 2010-03-26 | 研磨パッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010071526A JP2011200984A (ja) | 2010-03-26 | 2010-03-26 | 研磨パッド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011200984A true JP2011200984A (ja) | 2011-10-13 |
Family
ID=44878253
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010071526A Pending JP2011200984A (ja) | 2010-03-26 | 2010-03-26 | 研磨パッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011200984A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012144458A1 (ja) * | 2011-04-21 | 2012-10-26 | 東洋ゴム工業株式会社 | 積層研磨パッド用ホットメルト接着剤シート、及び積層研磨パッド用接着剤層付き支持層 |
WO2014125797A1 (ja) | 2013-02-12 | 2014-08-21 | 株式会社クラレ | 硬質シート及び硬質シートの製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002043921A1 (fr) * | 2000-12-01 | 2002-06-06 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Tampon de polissage, procede de fabrication de ce tampon de polissage, et couche d'amortissement pour ce tampon de polissage |
JP2004025407A (ja) * | 2002-06-27 | 2004-01-29 | Jsr Corp | 化学機械研磨用研磨パッド |
JP2009095944A (ja) * | 2007-10-18 | 2009-05-07 | Nitta Haas Inc | 研磨パッド |
-
2010
- 2010-03-26 JP JP2010071526A patent/JP2011200984A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002043921A1 (fr) * | 2000-12-01 | 2002-06-06 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Tampon de polissage, procede de fabrication de ce tampon de polissage, et couche d'amortissement pour ce tampon de polissage |
JP2004025407A (ja) * | 2002-06-27 | 2004-01-29 | Jsr Corp | 化学機械研磨用研磨パッド |
JP2009095944A (ja) * | 2007-10-18 | 2009-05-07 | Nitta Haas Inc | 研磨パッド |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012144458A1 (ja) * | 2011-04-21 | 2012-10-26 | 東洋ゴム工業株式会社 | 積層研磨パッド用ホットメルト接着剤シート、及び積層研磨パッド用接着剤層付き支持層 |
WO2014125797A1 (ja) | 2013-02-12 | 2014-08-21 | 株式会社クラレ | 硬質シート及び硬質シートの製造方法 |
KR20150116876A (ko) | 2013-02-12 | 2015-10-16 | 가부시키가이샤 구라레 | 경질 시트 및 경질 시트의 제조 방법 |
CN105008614A (zh) * | 2013-02-12 | 2015-10-28 | 可乐丽股份有限公司 | 硬质片材及硬质片材的制造方法 |
EP2957672A4 (en) * | 2013-02-12 | 2016-07-27 | Kuraray Co | RIGID FOIL AND METHOD FOR PRODUCING THE ROLLED FILM |
TWI607832B (zh) * | 2013-02-12 | 2017-12-11 | 可樂麗股份有限公司 | 硬質薄片及硬質薄片之製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2013039181A1 (ja) | 研磨パッド | |
JP2006339570A (ja) | 研磨パッドおよび研磨装置 | |
WO2012111502A1 (ja) | 研磨パッド | |
JP2013018056A (ja) | 研磨パッド | |
KR20010073039A (ko) | 연마 패드 | |
WO2013011921A1 (ja) | 研磨パッド | |
WO2013039203A1 (ja) | 研磨パッド | |
JP2006210657A (ja) | 研磨パッド、研磨装置、および半導体デバイスの製造方法 | |
JP2006339573A (ja) | 研磨パッドおよび研磨装置 | |
JP2011200984A (ja) | 研磨パッド | |
WO2013103142A1 (ja) | 研磨パッド | |
JP5292958B2 (ja) | 研磨パッド | |
US20140154962A1 (en) | Polishing pad | |
JP2006035367A (ja) | 研磨パッドおよび研磨装置 | |
WO2013129426A1 (ja) | 研磨パッド | |
JP2007116194A (ja) | 研磨方法 | |
JP5454153B2 (ja) | 研磨方法および半導体デバイスの製造方法 | |
JP2007150337A (ja) | 研磨方法 | |
JP2004014744A (ja) | 研磨パッド、研磨装置、およびそれを用いた研磨方法 | |
JP2014188647A (ja) | 研磨パッド | |
JP2006339572A (ja) | 研磨パッドおよび研磨装置 | |
JP2009147307A (ja) | 研磨方法 | |
JP2004140253A (ja) | 研磨方法 | |
JP2007105836A (ja) | 研磨パッドおよび研磨装置 | |
JP2006339571A (ja) | 研磨パッドおよび研磨装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130128 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140127 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140204 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140304 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140603 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20141028 |