JP2011198577A - Apparatus and method for manufacturing light emitting device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus and method for manufacturing a light emitting device, capable of reducing a manufacturing cost by improving the efficiency of using an organic EL material.SOLUTION: A controller 301 of a printing device 300 controls a head 303 to discharge ink as a material for an organic layer toward an anilox roll 310 in accordance with a printing pattern previously stored in a storage part 302. At this point, the controller 301 controls it to selectively discharge the ink into a region on the anilox roll 310 corresponding to the printing pattern to form an ink film 341. Then, the ink is transferred from the anilox roll 310 to a plate cylinder 320 having a flexographic plate, and the plate cylinder 320 prints the ink on a substrate 31 to form the organic layer.

Description

本発明は、発光装置の製造装置及び製造方法に関する。   The present invention relates to a light emitting device manufacturing apparatus and a manufacturing method.

有機エレクトロルミネッセンス(electroluminescence)素子(有機EL素子)或いは有機発光ダイオード(Organic Light Emitting Diode)素子と呼称される自発光素子は、電場を加えることによって発光する蛍光性の有機化合物によって形成されたものであり、この素子を各画素に有してなる表示パネルを備えた表示装置は次世代ディスプレイデバイスとして注目されている。   A self-luminous element called an organic electroluminescence element (organic EL element) or an organic light emitting diode element is formed of a fluorescent organic compound that emits light when an electric field is applied. A display device including a display panel having this element in each pixel has attracted attention as a next-generation display device.

有機EL素子は、アノード電極とカソード電極とのこれらの一対の電極間に形成され、例えば発光層、正孔注入層等を有する有機EL層(有機層)を備える。有機EL素子は、発光層において正孔と電子とが再結合することによって発生するエネルギーによって発光する。   The organic EL element is formed between a pair of electrodes of an anode electrode and a cathode electrode, and includes an organic EL layer (organic layer) having, for example, a light emitting layer, a hole injection layer, and the like. The organic EL element emits light by energy generated by recombination of holes and electrons in the light emitting layer.

このような有機層を形成するため、所定の高分子材料をインクとして凸版の一種であるフレキソ版を用いた印刷(以下、フレキソ印刷という)により基板上に形成することが従来から行われている(例えば、特許文献1)。フレキソ印刷は、低粘度インクを用いることで、基板上に形成される等発光層等を薄膜とすることが可能である。また、フレキソ印刷では、例えばローラー状に形成される版胴とアニロックスロールとをダイレクトドライブモーター等によって駆動することで、精密な印刷が可能となる。これらの理由により、フレキソ印刷を有機ELの有機層のパターニングに好適に用いることができる。   In order to form such an organic layer, it has been conventionally performed to form a predetermined polymer material on a substrate by printing using a flexographic printing plate, which is a type of relief printing, as an ink (hereinafter referred to as flexographic printing). (For example, patent document 1). In flexographic printing, by using a low-viscosity ink, it is possible to make a thin light-emitting layer or the like formed on a substrate. In flexographic printing, for example, a printing cylinder formed in a roller shape and an anilox roll are driven by a direct drive motor or the like, thereby enabling precise printing. For these reasons, flexographic printing can be suitably used for patterning the organic EL organic layer.

特開2007−299616号公報JP 2007-299616 A

しかしながら、従来のフレキソ印刷法には以下に示すような問題点がある。ディスペンサ(特許文献1ではインキチャンバー)からアニロックスロール表面全体に広がるように供給されたインクは、版胴に巻かれた印刷パターンが形成されたフレキソ版に転写される。フレキソ版と印刷対象となる基板が接触することで、基板上にインクが印刷される。その際、アニロックスロール上に残った余分なインクはスクレーパ(ドクター)によって除去し廃棄されることとなる。それゆえ、従来のフレキソ印刷法では高価な有機EL材料を溶解させたインクを多量に必要とし、有機EL材料の使用効率が低くなってしまう。従って、発光装置の製造コストが増大するという問題点があった。   However, the conventional flexographic printing method has the following problems. The ink supplied from the dispenser (ink chamber in Patent Document 1) so as to spread over the entire surface of the anilox roll is transferred to a flexographic plate on which a printing pattern wound around a plate cylinder is formed. When the flexographic plate comes into contact with the substrate to be printed, ink is printed on the substrate. At that time, excess ink remaining on the anilox roll is removed by a scraper (doctor) and discarded. Therefore, the conventional flexographic printing method requires a large amount of ink in which an expensive organic EL material is dissolved, and the use efficiency of the organic EL material is lowered. Therefore, there is a problem that the manufacturing cost of the light emitting device increases.

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、有機EL材料の使用効率を向上させ、製造コストを低減させることが可能な発光装置の製造装置及び製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a light emitting device manufacturing apparatus and a manufacturing method capable of improving the use efficiency of an organic EL material and reducing the manufacturing cost. .

上記目的を達成するため、本発明の第1の観点に係る発光装置の製造装置は、
基板上に配列された複数の発光素子を備える発光装置の製造装置であって、
前記基板上に前記発光素子の有機層を形成するインクを印刷するためのフレキソ版を備える回転式の版胴と、
前記フレキソ版に当接して前記インクを転写する中間転写体と、
前記中間転写体に前記インクを供給するヘッド部と、
前記基板の印刷パターンに対応する前記中間転写体の表面におけるインク供給パターンを記憶する記憶部と、
前記中間転写体の前記インク供給パターンの領域内に前記ヘッド部から前記インクを供給する制御部と、を備える、
ことを特徴とする。
この場合、前記ヘッド部を前記インク供給パターンに対向する位置に移動させるヘッド駆動部を更に備える、
こととしてもよい。
また、前記ヘッド部は、インクジェット方式で前記中間転写体に前記インクを吐出する、
こととしてもよい。
また、前記ヘッド部は、前記インクを吐出する位置が固定された複数のノズルを備え、
前記複数のノズルは、前記インクを液滴としてインクジェット方式で吐出するピエゾ素子をそれぞれ備え、
前記記憶部は、各前記ピエゾ素子の動作波形を記憶し、
前記制御部は、前記動作波形に基づいて各前記ピエゾ素子からの前記インクの吐出量が均一となるよう制御する、
こととしてもよい。
また、前記発光素子は、有機エレクトロルミネッセンス素子であり、
前記インクは、有機エレクトロルミネッセンス素子の有機層となる材料を含む、
こととしてもよい。
また、前記中間転写体は、回転式のアニロックスロールである、
こととしてもよい。
また、前記中間転写体は、板状のアニロックス板である、
こととしてもよい。
上記目的を達成するため、本発明の第2の観点に係る発光装置の製造方法は、
上述した発光装置の製造装置を用いて前記基板上に1又は複数層の前記有機層を形成する、
ことを特徴とする。
また、本発明の第3の観点に係る発光装置の製造方法は、
インクジェット方式により、発光素子の有機層の材料を含むインクを、中間転写体の表面のうち版胴のフレキソ版に当接する領域に選択的に供給する工程と、
前記中間転写体から前記版胴の前記フレキソ版に前記インクを転写する工程と、
前記版胴から基板上に前記インクを印刷する工程と、を備える、
ことを特徴とする。
In order to achieve the above object, a light-emitting device manufacturing apparatus according to the first aspect of the present invention provides:
A light-emitting device manufacturing apparatus comprising a plurality of light-emitting elements arranged on a substrate,
A rotary plate cylinder provided with a flexographic plate for printing an ink for forming an organic layer of the light emitting element on the substrate;
An intermediate transfer member that contacts the flexographic plate and transfers the ink;
A head portion for supplying the ink to the intermediate transfer member;
A storage unit for storing an ink supply pattern on the surface of the intermediate transfer member corresponding to the printed pattern of the substrate;
A control unit that supplies the ink from the head unit in the region of the ink supply pattern of the intermediate transfer member,
It is characterized by that.
In this case, the apparatus further includes a head driving unit that moves the head unit to a position facing the ink supply pattern.
It is good as well.
Further, the head unit ejects the ink onto the intermediate transfer member by an inkjet method.
It is good as well.
In addition, the head unit includes a plurality of nozzles in which positions for ejecting the ink are fixed,
Each of the plurality of nozzles includes a piezo element that discharges the ink as a droplet by an inkjet method,
The storage unit stores operation waveforms of the piezo elements,
The control unit controls the ejection amount of the ink from each of the piezoelectric elements to be uniform based on the operation waveform;
It is good as well.
Further, the light emitting element is an organic electroluminescence element,
The ink includes a material that becomes an organic layer of an organic electroluminescence element.
It is good as well.
The intermediate transfer member is a rotary anilox roll.
It is good as well.
The intermediate transfer member is a plate-shaped anilox plate.
It is good as well.
In order to achieve the above object, a method for manufacturing a light emitting device according to the second aspect of the present invention includes:
Forming one or a plurality of the organic layers on the substrate using the light emitting device manufacturing apparatus described above;
It is characterized by that.
A method for manufacturing a light emitting device according to the third aspect of the present invention includes:
A step of selectively supplying ink containing an organic layer material of a light emitting element to a region of the surface of the intermediate transfer member that is in contact with the flexographic plate of the plate cylinder by an inkjet method;
Transferring the ink from the intermediate transfer member to the flexographic plate of the plate cylinder;
Printing the ink on the substrate from the plate cylinder,
It is characterized by that.

本発明によれば発光装置の製造コストを低減させることができる。   According to the present invention, the manufacturing cost of the light emitting device can be reduced.

本発明の実施形態に係る印刷装置の構成を示す模式図である。1 is a schematic diagram illustrating a configuration of a printing apparatus according to an embodiment of the present invention. 印刷装置の主要な構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the main structures of a printing apparatus. アニロックスロールから版胴へのインクの転写動作を示す図である。It is a figure which shows the transfer operation | movement of the ink from an anilox roll to a plate cylinder. 版胴から基板への印刷動作を示す図である。It is a figure which shows the printing operation from a printing cylinder to a board | substrate. 発光装置の構成例を示す平面図である。It is a top view which shows the structural example of a light-emitting device. 画素の駆動回路の一例の等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram of an example of the drive circuit of a pixel. 画素の平面図である。It is a top view of a pixel. 図7に示すVIII−VIII線断面図である。It is the VIII-VIII sectional view taken on the line shown in FIG. (a)〜(c)は、発光装置の製造方法を示す図である。(A)-(c) is a figure which shows the manufacturing method of a light-emitting device. (a)〜(c)は、図9に続き、発光装置の製造方法を示す図である。(A)-(c) is a figure which shows the manufacturing method of a light-emitting device following FIG. (a)及び(b)は、発光装置が用いられる電子機器を示す図である。(A) And (b) is a figure which shows the electronic device with which a light-emitting device is used. 発光装置が用いられる電子機器を示す図である。It is a figure which shows the electronic device with which a light-emitting device is used. 発光装置が用いられる電子機器を示す図である。It is a figure which shows the electronic device with which a light-emitting device is used. 発光装置が用いられる電子機器を示す図である。It is a figure which shows the electronic device with which a light-emitting device is used. (a)及び(b)は、ヘッドの構成例を示す模式図である。(A) And (b) is a schematic diagram which shows the structural example of a head.

以下、本発明の実施形態について添付図面を参照して説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

図1に示すように、本実施形態の印刷装置300は、制御部301と、記憶部302と、ヘッド303と、インク340が収容されたインク収容部304と、アニロックスロール310と、版胴320と、印刷ステージ330と、を備えている。   As illustrated in FIG. 1, the printing apparatus 300 according to the present embodiment includes a control unit 301, a storage unit 302, a head 303, an ink storage unit 304 that stores ink 340, an anilox roll 310, and a plate cylinder 320. And a printing stage 330.

制御部301は、CPU(Central Processing Unit)等を備えており、後述するヘッド303からのインクの吐出並びにアニロックスロール310及び版胴320の駆動等、印刷装置300の機能全体を制御する。   The control unit 301 includes a CPU (Central Processing Unit) and the like, and controls the overall functions of the printing apparatus 300, such as ejection of ink from a head 303, which will be described later, and driving of an anilox roll 310 and a plate cylinder 320.

記憶部302は、ROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)等から構成された記憶装置である。記憶部302には、例えば制御部301が実行するプログラム、及び、版胴320による印刷パターンに関するデータ等が格納されている。また、記憶部302は、例えば、制御部301がプログラムを実行する際のワークメモリとして動作する。   The storage unit 302 is a storage device including a ROM (Read Only Memory), a RAM (Random Access Memory), and the like. The storage unit 302 stores, for example, a program executed by the control unit 301, data related to a printing pattern by the plate cylinder 320, and the like. The storage unit 302 operates as a work memory when the control unit 301 executes a program, for example.

ヘッド303は、制御部301の指示に基づいて、ヘッド303からインク340をアニロックスロール310に向けて吐出する。本実施形態では、ヘッド303はピエゾ素子(図示せず)を備えており、いわゆるインクジェット方式によりインク340を吐出する。また、ヘッド303は、アニロックスロール310の長さに合わせて図のX軸方向に走査しながらインク340を吐出することが可能となるように構成されている。インク収容部304は、その内部にインク340を収容しており、ヘッド303にインク340を供給する。本実施形態におけるインク340は、有機ELの例えば、発光層等の材料となる所定の高分子材料の溶液である。   The head 303 discharges ink 340 from the head 303 toward the anilox roll 310 based on an instruction from the control unit 301. In this embodiment, the head 303 includes a piezo element (not shown), and ejects the ink 340 by a so-called inkjet method. Further, the head 303 is configured to be able to eject ink 340 while scanning in the X-axis direction in the figure in accordance with the length of the anilox roll 310. The ink storage unit 304 stores ink 340 therein and supplies the ink 340 to the head 303. The ink 340 in the present embodiment is a solution of a predetermined polymer material that is a material of an organic EL, for example, a light emitting layer.

アニロックスロール310は、図のX軸方向を軸として回転可能に支持されており、X軸方向に所定の長さを有する。アニロックスロール310の外周面、即ちインク340を受ける面には浅い凹部である多数のセル311が形成されている。本明細書ではセル311を簡略化して表示しているが、セル311は、印刷条件に応じて所定の深さ、パターン等を有するように設けられている。なお、ヘッド303が、アニロックスロール310のX軸方向に所定の長さに応じて、インク340を任意に吐出する吐出口を、X軸に沿って複数配置された構造であれば、ヘッド303をX軸方向に走査することなしに、アニロックスロール310の任意のセル311内にインク340を吐出することができる。   The anilox roll 310 is supported so as to be rotatable about the X-axis direction in the figure, and has a predetermined length in the X-axis direction. A large number of cells 311 that are shallow concave portions are formed on the outer peripheral surface of the anilox roll 310, that is, the surface that receives the ink 340. In this specification, the cells 311 are displayed in a simplified manner, but the cells 311 are provided to have a predetermined depth, pattern, and the like according to printing conditions. In addition, if the head 303 has a structure in which a plurality of ejection openings for arbitrarily ejecting the ink 340 are arranged along the X axis according to a predetermined length in the X axis direction of the anilox roll 310, the head 303 is arranged. The ink 340 can be ejected into any cell 311 of the anilox roll 310 without scanning in the X-axis direction.

版胴320は、図のX軸方向を軸として回転可能に支持されており、X軸方向に所定の長さを有する。後述するように、版胴320はX軸方向に回転する他に、印刷ステージ330に載置される基板31の印刷面の面方向における図のX軸方向に直交するY軸方向に移動可能であるとともに、X軸方向及びY軸方向に直交する、つまり、基板31の印刷面に対する法線方向のZ軸方向に移動可能となるように構成されている。版胴320の外周面には、フレキソ版の1又は複数個の版の凸部321が形成されている。版の凸部321は、印刷される発光層等に応じて所定のパターンとなるように形成されており、アニロックスロール310からのインク340を受けるとともに印刷対象物の基板31にインク340を転写する。版胴320のうち、版の凸部321を含むフレキソ版の部分は、樹脂及びゴム等、フレキソ印刷に適した材料から形成されている。なお、基板31は、本実施形態では印刷ステージ330上に固定される。   The plate cylinder 320 is supported so as to be rotatable about the X-axis direction in the figure, and has a predetermined length in the X-axis direction. As will be described later, in addition to rotating in the X-axis direction, the plate cylinder 320 is movable in the Y-axis direction orthogonal to the X-axis direction in the drawing in the surface direction of the printing surface of the substrate 31 placed on the printing stage 330. In addition, it is configured to be movable in the Z-axis direction perpendicular to the X-axis direction and the Y-axis direction, that is, in the normal direction to the printing surface of the substrate 31. On the outer peripheral surface of the plate cylinder 320, one or a plurality of plate convex portions 321 of the flexographic plate are formed. The convex part 321 of the plate is formed to have a predetermined pattern according to the light emitting layer to be printed, etc., and receives the ink 340 from the anilox roll 310 and transfers the ink 340 to the substrate 31 to be printed. . Of the plate cylinder 320, the portion of the flexographic plate including the convex portion 321 of the plate is formed of a material suitable for flexographic printing, such as resin and rubber. Note that the substrate 31 is fixed on the printing stage 330 in this embodiment.

印刷ステージ330は、印刷装置300の印刷対象物である基板31を図のXY平面上に載置するステージである。なお、印刷ステージ330は例えば基板31を固定するための機構を備えているが、本明細書ではその詳細な説明は省略する。   The printing stage 330 is a stage on which the substrate 31 that is a printing object of the printing apparatus 300 is placed on the XY plane in the drawing. The printing stage 330 includes a mechanism for fixing the substrate 31, for example, but detailed description thereof is omitted in this specification.

図2に、制御部301に関連するより詳細な構成をブロック図で示す。印刷装置300は、図1に示す構成物以外に、ヘッド駆動部305と、駆動部312と、角度検出部313と、駆動部322と、角度検出部323と、を備えている。   FIG. 2 is a block diagram showing a more detailed configuration related to the control unit 301. The printing apparatus 300 includes a head drive unit 305, a drive unit 312, an angle detection unit 313, a drive unit 322, and an angle detection unit 323 in addition to the components illustrated in FIG.

ヘッド駆動部305は、制御部301の指示に基づいて、ヘッド303が内蔵するピエゾ素子を駆動してインク340を吐出させる。また、ヘッド駆動部305は駆動用モータ(図示せず)及びレール等の機構を備えており、ヘッド303を図のX軸方向に走査させる。   The head driving unit 305 drives a piezo element built in the head 303 based on an instruction from the control unit 301 to discharge the ink 340. The head driving unit 305 includes a mechanism such as a driving motor (not shown) and a rail, and scans the head 303 in the X-axis direction in the drawing.

駆動部312は、ダイレクトドライブ方式の駆動用モータ(図示せず)を備えており、制御部301の指示に基づいて、アニロックスロール310の所定の位置に、ヘッド303から吐出するインク340が到達するようにアニロックスロール310を回転させる。   The drive unit 312 includes a direct drive type drive motor (not shown), and the ink 340 discharged from the head 303 reaches a predetermined position of the anilox roll 310 based on an instruction from the control unit 301. In this way, the anilox roll 310 is rotated.

角度検出部313は、アニロックスロール310又は駆動用モータの回転軸に設けられている角度センサである。角度検出部313は、直接的又は間接的にアニロックスロール310の位置を検出し、その位置を示す信号を制御部301に送信する。   The angle detection unit 313 is an angle sensor provided on the rotation shaft of the anilox roll 310 or the drive motor. The angle detection unit 313 detects the position of the anilox roll 310 directly or indirectly, and transmits a signal indicating the position to the control unit 301.

駆動部322は、ダイレクトドライブ方式の駆動用モータ(図示せず)を備えており、制御部301の指示に基づいて、版胴320に備えられた版の所定の位置に、アニロックスロール310に吐出されたインク340が転写されるように版胴320を回転させる。また、駆動部322は、後述するように、版胴320を図のY軸方向及びZ軸方向に移動させる。   The drive unit 322 includes a direct drive type drive motor (not shown), and discharges to the anilox roll 310 at a predetermined position of the plate provided in the plate cylinder 320 based on an instruction from the control unit 301. The plate cylinder 320 is rotated so that the transferred ink 340 is transferred. Further, the drive unit 322 moves the plate cylinder 320 in the Y-axis direction and the Z-axis direction in the drawing, as will be described later.

角度検出部323は、版胴320又は駆動用モータの回転軸に設けられている角度センサである。角度検出部323は、直接的又は間接的に版胴320の位置を検出し、その位置を示す信号を制御部301に送信する。   The angle detection unit 323 is an angle sensor provided on the plate cylinder 320 or the rotation shaft of the drive motor. The angle detection unit 323 detects the position of the plate cylinder 320 directly or indirectly, and transmits a signal indicating the position to the control unit 301.

次に、本実施形態に係る印刷装置300の動作について、図3及び図4を参照して説明する。なお、以下に示す印刷装置300の動作は、特に断りがない限り、制御部301の指示に基づいて行われる。また、以下の説明において、アニロックスロール310の表面とはセル311の範囲を含むアニロックスロール310の外周面を指す。   Next, the operation of the printing apparatus 300 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 3 and 4. Note that the following operation of the printing apparatus 300 is performed based on an instruction from the control unit 301 unless otherwise specified. In the following description, the surface of the anilox roll 310 refers to the outer peripheral surface of the anilox roll 310 including the range of the cell 311.

まず、制御部301において、アニロックスロール310に対応する角度検出部313からの信号に基づいて、アニロックスロール310の位置を算出する。続いて、制御部301は、記憶部302に記憶された印刷パターンから、アニロックスロール310の表面におけるインク塗布領域を算出する。本実施形態では、インク塗布領域は、版胴320に備えられた版の凸部321の表面である。   First, the control unit 301 calculates the position of the anilox roll 310 based on a signal from the angle detection unit 313 corresponding to the anilox roll 310. Subsequently, the control unit 301 calculates an ink application region on the surface of the anilox roll 310 from the print pattern stored in the storage unit 302. In the present embodiment, the ink application region is the surface of the convex portion 321 of the plate provided in the plate cylinder 320.

次に、ヘッド303は、算出されたインク塗布領域にインク340を吐出し、アニロックスロール310の表面にインク340で満たされたインク膜341を形成する。このとき、アニロックスロール310は矢印R1の方向に回転する。また、ヘッド303は、図のX軸方向に走査することでアニロックスロール310の長さ範囲をカバーしてインク340を吐出する。   Next, the head 303 discharges the ink 340 to the calculated ink application region, and forms an ink film 341 filled with the ink 340 on the surface of the anilox roll 310. At this time, the anilox roll 310 rotates in the direction of the arrow R1. Further, the head 303 discharges ink 340 while covering the length range of the anilox roll 310 by scanning in the X-axis direction in the figure.

中間転写体であるアニロックスロール310に塗布されたインク膜341のインク340は、アニロックスロール310と版胴320上の版との当接により、版胴320の版の凸部321上に転写される。版胴320は、矢印C1の方向に回転する。図3の例では、ある版の凸部321上のインク膜342のインク340は既にアニロックスロール310から転写されており、次いでその隣の版の凸部321に対して図示されたインク膜341がアニロックスロール310から転写される。このようなアニロックスロール310から版胴320上の版への転写によりほぼ全てのインク膜341がアニロックスロール310から移動して除去される。なお、本実施形態の説明において、アニロックスロール310及び版胴320の一方又は双方が図示と反対方向に回転することとしてもよい。   The ink 340 of the ink film 341 applied to the anilox roll 310 as an intermediate transfer member is transferred onto the convex portion 321 of the plate of the plate cylinder 320 by the contact between the anilox roll 310 and the plate on the plate cylinder 320. . The plate cylinder 320 rotates in the direction of the arrow C1. In the example of FIG. 3, the ink 340 of the ink film 342 on the convex portion 321 of a certain plate has already been transferred from the anilox roll 310, and then the illustrated ink film 341 is formed on the convex portion 321 of the adjacent plate. Transferred from the anilox roll 310. By such transfer from the anilox roll 310 to the plate on the plate cylinder 320, almost all the ink film 341 moves from the anilox roll 310 and is removed. In the description of the present embodiment, one or both of the anilox roll 310 and the plate cylinder 320 may rotate in the direction opposite to that illustrated.

インクの転写によって版胴320に備えられた版におけるインク膜342の形成が完了すると、続いて、駆動部322が版胴320を基板31上の所定の位置まで移動させる。その後、図4に示すように、インク340は基板31と接触しながら矢印C1の方向に回転するするとともに、矢印C2の方向に進行しながらインク膜342を基板31に転写する。これにより、基板31上に、インク膜343が形成される。なお、前述したように、版胴320上の版へ転写後のアニロックスロール310の表面からはほぼ全てのインク膜341が除去されている。   When the formation of the ink film 342 in the plate provided on the plate cylinder 320 is completed by the transfer of the ink, the driving unit 322 subsequently moves the plate cylinder 320 to a predetermined position on the substrate 31. Thereafter, as shown in FIG. 4, the ink 340 rotates in the direction of the arrow C <b> 1 while being in contact with the substrate 31 and transfers the ink film 342 to the substrate 31 while proceeding in the direction of the arrow C <b> 2. As a result, an ink film 343 is formed on the substrate 31. As described above, almost all of the ink film 341 is removed from the surface of the anilox roll 310 after being transferred to the plate on the plate cylinder 320.

次に、前述した印刷装置300を用いて製造される発光装置の製造方法について説明する。なお、以下の説明では、有機EL素子により発生した光を有機EL素子が形成された基板を介して外部に出射するボトムエミッション型の有機EL素子を用いたアクティブ駆動方式の発光装置を例に挙げて説明する。また、本明細書における発光装置は表示装置としても用いられる。   Next, a method for manufacturing a light emitting device manufactured using the printing apparatus 300 described above will be described. In the following description, an active drive type light emitting device using a bottom emission type organic EL element that emits light generated by the organic EL element to the outside through a substrate on which the organic EL element is formed is taken as an example. I will explain. The light-emitting device in this specification is also used as a display device.

図5に示す発光装置10は、前述の基板31上に形成される。発光装置10がカラー表示を行うものである場合、それぞれ赤(R)、緑(G)、青(B)の3色の何れかの発光色で発光する発光素子を有する3つの画素30(30R、30G、30B)を一組として、この組が行方向(図5の左右方向)に繰り返し複数個、例えばm個配列されるとともに、列方向(図5の上下方向)に同一色の発光色の発光素子を有する画素が複数個、例えばn個配列されている。換言すれば、画素自体は行方向に3m個配列されており、RGBの各色を発光する画素はマトリクス状に、3m×n個配列される。   The light emitting device 10 shown in FIG. 5 is formed on the substrate 31 described above. When the light emitting device 10 performs color display, three pixels 30 (30R) each having a light emitting element that emits light in any one of three colors of red (R), green (G), and blue (B). , 30G, 30B) as a set, a plurality of sets, for example, m, are repeatedly arranged in the row direction (left-right direction in FIG. 5), and the same emission color in the column direction (up-down direction in FIG. 5). A plurality of, for example, n pixels each having the light emitting element are arranged. In other words, 3m pixels are arranged in the row direction, and 3m × n pixels emitting each color of RGB are arranged in a matrix.

以下、発光装置10を構成する画素30について説明する。なお、本実施形態において、画素30R,30G,30Bの構成は、後述する発光層がそれぞれ発光層45R,45G,45Bであることを除いて同一である。従って、以下で個別の画素としては画素30Gを例に挙げて説明する。   Hereinafter, the pixels 30 constituting the light emitting device 10 will be described. In the present embodiment, the configuration of the pixels 30R, 30G, and 30B is the same except that the light emitting layers described later are the light emitting layers 45R, 45G, and 45B, respectively. Accordingly, the pixel 30G will be described below as an example of the individual pixel.

画素30Gは、図6に示すように、画素回路DSを有して構成されている。画素回路DSは、例えば図6に示すように、選択トランジスタTr11、駆動トランジスタTr12、キャパシタCs、有機EL素子(発光素子)OELと、を備える。   As shown in FIG. 6, the pixel 30G includes a pixel circuit DS. For example, as illustrated in FIG. 6, the pixel circuit DS includes a selection transistor Tr11, a drive transistor Tr12, a capacitor Cs, and an organic EL element (light emitting element) OEL.

図6に示すように、選択トランジスタTr11は、ゲート端子が走査ラインLsに、ドレイン端子がデータラインLdに、ソース端子が接点N11にそれぞれ接続される。また、駆動トランジスタTr12は、ゲート端子が接点N11に接続されており、ドレイン端子がアノードラインLaに、ソース端子が接点N12にそれぞれ接続されている。キャパシタCsは、駆動トランジスタTr12のゲート端子及びソース端子に接続されている。なお、キャパシタCsは、駆動トランジスタTr12のゲート−ソース間に付加的に設けられた補助容量、もしくは駆動トランジスタTr12のゲート−ソース間の寄生容量と補助容量からなる容量成分である。また、有機EL素子OELは、アノード電極(画素電極42)が接点N12に接続され、カソード電極(対向電極46)に基準電圧Vssが印加されている。   As shown in FIG. 6, the selection transistor Tr11 has a gate terminal connected to the scanning line Ls, a drain terminal connected to the data line Ld, and a source terminal connected to the contact N11. The drive transistor Tr12 has a gate terminal connected to the contact N11, a drain terminal connected to the anode line La, and a source terminal connected to the contact N12. The capacitor Cs is connected to the gate terminal and the source terminal of the drive transistor Tr12. Note that the capacitor Cs is an auxiliary capacitance additionally provided between the gate and the source of the driving transistor Tr12 or a capacitance component including a parasitic capacitance and an auxiliary capacitance between the gate and the source of the driving transistor Tr12. In the organic EL element OEL, the anode electrode (pixel electrode 42) is connected to the contact N12, and the reference voltage Vss is applied to the cathode electrode (counter electrode 46).

走査ラインLsは、画素基板の周縁部に配置された走査ドライバ(図示せず)に接続されており、所定タイミングで行方向に配列された複数の画素30を選択状態に設定するための選択電圧信号(走査信号)が印加される。また、データラインLdは、画素基板の周縁部に配置されたデータドライバ(図示せず)に接続され、上記画素30の選択状態に同期するタイミングで発光データに応じたデータ電圧(階調信号)が印加される。行方向に配列された複数の駆動トランジスタTr12が、当該駆動トランジスタTr12に接続された有機EL素子OELの画素電極42(例えばアノード電極)に発光データに応じた駆動電流を流す状態に設定するように、アノードラインLa(供給電圧ライン)は、所定の高電位電源に直接又は間接的に接続されている。つまり、アノードラインLaは、有機EL素子OELの対向電極46に印加される基準電圧Vssより十分電位の高い所定の高電位(供給電圧Vdd)が印加される。また、対向電極46は、例えば、所定の低電位電源に直接又は間接的に接続され、基板31上にアレイ状に配列された全ての画素30に対して単一の電極層により形成されており、所定の低電圧(基準電圧Vss、例えば接地電位GND)が共通に印加されるように設定されている。   The scanning line Ls is connected to a scanning driver (not shown) arranged on the peripheral edge of the pixel substrate, and a selection voltage for setting a plurality of pixels 30 arranged in the row direction at a predetermined timing to a selected state. A signal (scanning signal) is applied. The data line Ld is connected to a data driver (not shown) arranged at the peripheral edge of the pixel substrate, and a data voltage (grayscale signal) corresponding to light emission data at a timing synchronized with the selection state of the pixel 30. Is applied. A plurality of drive transistors Tr12 arranged in the row direction are set to a state in which a drive current corresponding to light emission data flows through the pixel electrode 42 (for example, an anode electrode) of the organic EL element OEL connected to the drive transistor Tr12. The anode line La (supply voltage line) is directly or indirectly connected to a predetermined high potential power source. In other words, the anode line La is applied with a predetermined high potential (supply voltage Vdd) sufficiently higher than the reference voltage Vss applied to the counter electrode 46 of the organic EL element OEL. The counter electrode 46 is directly or indirectly connected to, for example, a predetermined low potential power source, and is formed of a single electrode layer for all the pixels 30 arranged in an array on the substrate 31. The predetermined low voltage (reference voltage Vss, for example, ground potential GND) is set to be applied in common.

また、アノードラインLaと走査ラインLsとは、各トランジスタTr11、Tr12のソース電極、ドレイン電極とを形成するソース−ドレイン導電層を用いてこれらソース電極、ドレイン電極とともに形成される。データラインLdは、各トランジスタTr11、Tr12のゲート電極となるゲート導電層を用いてゲート電極とともに形成される。データラインLdとドレイン電極Tr11dとの間の絶縁膜32には、図7に示すように、コンタクトホール61が形成され、データラインLdとドレイン電極Tr11dとはコンタクトホール61を介して導通している。走査ラインLsとゲート電極Tr11gの両端との間の絶縁膜32には、それぞれコンタクトホール62、63が形成され、走査ラインLsとゲート電極Tr11gとはコンタクトホール62、63を介して導通している。ソース電極Tr11sとゲート電極Tr12gとの間の絶縁膜32には、コンタクトホール64が形成され、ソース電極Tr11sとゲート電極Tr12gとはコンタクトホール64を介して導通している。なお、絶縁膜32は、絶縁性材料、例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜等から形成され、データラインLd、ゲート電極Tr11g及びゲート電極Tr12gを覆うように基板31上に形成される。   The anode line La and the scanning line Ls are formed together with the source electrode and the drain electrode by using a source-drain conductive layer that forms the source electrode and the drain electrode of each of the transistors Tr11 and Tr12. The data line Ld is formed together with the gate electrode using a gate conductive layer that becomes a gate electrode of each of the transistors Tr11 and Tr12. As shown in FIG. 7, a contact hole 61 is formed in the insulating film 32 between the data line Ld and the drain electrode Tr11d, and the data line Ld and the drain electrode Tr11d are conducted through the contact hole 61. . Contact holes 62 and 63 are respectively formed in the insulating film 32 between the scanning line Ls and both ends of the gate electrode Tr11g, and the scanning line Ls and the gate electrode Tr11g are electrically connected through the contact holes 62 and 63. . A contact hole 64 is formed in the insulating film 32 between the source electrode Tr11s and the gate electrode Tr12g, and the source electrode Tr11s and the gate electrode Tr12g are electrically connected via the contact hole 64. The insulating film 32 is formed of an insulating material, such as a silicon oxide film or a silicon nitride film, and is formed on the substrate 31 so as to cover the data line Ld, the gate electrode Tr11g, and the gate electrode Tr12g.

次に、有機EL素子OELは、図8に示すように、画素電極42と、正孔注入層43と、インターレイヤ層44と、発光層45Gと、対向電極46と、を備える。なお、図8では、説明の便宜上、発光に寄与する発光機能層として正孔注入層43と発光層45Gとを備える構成を例に挙げている。この他に、発光機能層は、発光層45Gのみであってもよく、正孔注入層43と発光層45Gとを備えていてもよい。   Next, as shown in FIG. 8, the organic EL element OEL includes a pixel electrode 42, a hole injection layer 43, an interlayer layer 44, a light emitting layer 45 </ b> G, and a counter electrode 46. In FIG. 8, for convenience of explanation, a configuration including a hole injection layer 43 and a light emitting layer 45G as a light emitting functional layer contributing to light emission is taken as an example. In addition, the light emitting functional layer may be only the light emitting layer 45G or may include the hole injection layer 43 and the light emitting layer 45G.

各画素の基板31上には、ゲート導電層をパターニングしてなる選択トランジスタTr11、駆動トランジスタTr12のゲート電極Tr11g、Tr12gが形成されている。各画素に隣接した基板31上には、ゲート導電層をパターニングしてなり、列方向に沿って延びるデータラインLdが形成されている。   On the substrate 31 of each pixel, a selection transistor Tr11 obtained by patterning a gate conductive layer and gate electrodes Tr11g and Tr12g of the drive transistor Tr12 are formed. On the substrate 31 adjacent to each pixel, a data line Ld extending in the column direction is formed by patterning the gate conductive layer.

画素電極(アノード電極)42は、透光性を備える導電材料、例えばITO(Indium Tin Oxide)、ZnO等から構成される。各画素電極42は隣接する他の画素30の画素電極42と層間絶縁膜47によって絶縁されている。   The pixel electrode (anode electrode) 42 is made of a conductive material having translucency, for example, ITO (Indium Tin Oxide), ZnO, or the like. Each pixel electrode 42 is insulated from the pixel electrode 42 of another adjacent pixel 30 by an interlayer insulating film 47.

層間絶縁膜47は、絶縁性材料、例えばシリコン窒化膜から形成されている。層間絶縁膜47は、画素電極42間に形成され、トランジスタTr11、Tr12や走査ラインLs、アノードラインLaを絶縁保護する。層間絶縁膜47には略方形の開口部47aが形成されており、この開口部47aによって画素30Gの発光領域が画される。更に層間絶縁膜47上には隔壁48が形成されている。隔壁48には列方向(図7の上下方向)に延びる溝状の開口部48aが複数の画素30にわたって形成されている。ここで、層間絶縁膜47及びその上に形成される隔壁48は、行方向に隣接して配列される各画素30の発光領域間の間隙領域を形成している。   The interlayer insulating film 47 is made of an insulating material such as a silicon nitride film. The interlayer insulating film 47 is formed between the pixel electrodes 42 and insulates and protects the transistors Tr11 and Tr12, the scanning line Ls, and the anode line La. A substantially rectangular opening 47a is formed in the interlayer insulating film 47, and the light emitting region of the pixel 30G is defined by the opening 47a. Further, a partition wall 48 is formed on the interlayer insulating film 47. The partition wall 48 is formed with a groove-shaped opening 48 a extending in the column direction (vertical direction in FIG. 7) over the plurality of pixels 30. Here, the interlayer insulating film 47 and the partition wall 48 formed thereon form a gap region between the light emitting regions of the pixels 30 arranged adjacent to each other in the row direction.

隔壁48は、絶縁材料、例えばポリイミド等の感光性樹脂を硬化してなり、層間絶縁膜47上に形成される。隔壁48は、図7に示すように列方向に沿った複数の画素の画素電極42をまとめて開口するようにストライプ状に形成されている。なお、隔壁48の平面形状は、これに限られず各画素電極42毎に開口部をもった格子状であってもよい。また、隔壁48の上面は、発光層45R,45G,45Bの中央の平坦部の上面より高くなるように形成される。   The partition wall 48 is formed by curing an insulating material, for example, a photosensitive resin such as polyimide, and is formed on the interlayer insulating film 47. As shown in FIG. 7, the partition wall 48 is formed in a stripe shape so as to open the pixel electrodes 42 of a plurality of pixels along the column direction. The planar shape of the partition wall 48 is not limited to this, and may be a lattice shape having an opening for each pixel electrode 42. The upper surface of the partition wall 48 is formed to be higher than the upper surface of the flat portion at the center of the light emitting layers 45R, 45G, and 45B.

なお、隔壁48の表面、層間絶縁膜47の表面に撥液処理を施してもよい。ここで撥液とは、水系の溶媒、有機系溶媒のいずれをも弾く性質を示す。   Note that the surface of the partition wall 48 and the surface of the interlayer insulating film 47 may be subjected to a liquid repellent treatment. Here, the liquid repellency indicates the property of repelling both aqueous solvents and organic solvents.

正孔注入層43は、画素電極42上に形成されている。正孔注入層43は発光層45に正孔を供給する機能を有する。正孔注入層43は正孔(ホール)注入・輸送が可能な有機高分子系の材料、例えばPEDOT:PSS(導電性ポリマーであるポリエチレンジオキシチオフェンとドーパントであるポリスチレンスルホン酸との混合物)から構成される。   The hole injection layer 43 is formed on the pixel electrode 42. The hole injection layer 43 has a function of supplying holes to the light emitting layer 45. The hole injection layer 43 is made of an organic polymer material capable of hole injection / transport, such as PEDOT: PSS (a mixture of polyethylenedioxythiophene as a conductive polymer and polystyrenesulfonic acid as a dopant). Composed.

インターレイヤ層44は、正孔注入層43上に形成されている。インターレイヤ層44は、電子をブロックして発光層45G内において電子と正孔とを再結合させやすくする機能を有し、発光層45Gの発光効率を高める。   The interlayer layer 44 is formed on the hole injection layer 43. The interlayer layer 44 has a function of blocking electrons to facilitate recombination of electrons and holes in the light emitting layer 45G, and increases the light emission efficiency of the light emitting layer 45G.

発光層45Gは、正孔注入層43上に形成されている。発光層45G(及びR,B)は、アノード電極42とカソード電極46との間に電圧を印加することにより各画素の発光色の光を発生する機能を有する。発光層45Gは、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の高分子発光材料、例えばポリパラフェニレンビニレン系やポリフルオレン系等の共役二重結合ポリマーを含む発光材料から構成される。また、これらの発光材料は、適宜水系溶媒あるいはテトラリン、テトラメチルベンゼン、メシチレン、キシレン等の有機溶媒に溶解(又は分散)した溶液(分散液)を塗布し、溶媒を揮発させることによって形成する。   The light emitting layer 45G is formed on the hole injection layer 43. The light emitting layer 45G (and R, B) has a function of generating light of the emission color of each pixel by applying a voltage between the anode electrode 42 and the cathode electrode 46. The light emitting layer 45G is made of a known polymer light emitting material capable of emitting fluorescence or phosphorescence, for example, a light emitting material containing a conjugated double bond polymer such as polyparaphenylene vinylene or polyfluorene. These luminescent materials are formed by applying a solution (dispersion) dissolved (or dispersed) in an aqueous solvent or an organic solvent such as tetralin, tetramethylbenzene, mesitylene, and xylene as appropriate, and volatilizing the solvent.

対向電極(カソード電極)46は、ボトムエミッション型の場合、発光層45G側に設けられ、導電材料、例えばLi、Mg、Ca、Ba等の仕事関数の低い材料からなる電子注入性の下層と、Al等の光反射性導電金属からなる上層を有する積層構造である。本実施形態では、対向電極46は複数の画素30に跨って形成される単一の電極層から構成され、例えば接地電位である基準電圧Vssが印加されている。なお、有機EL素子OELをトップエミッション型とする場合、対向電極46は、発光層45G側に設けられ、10nm程度の膜厚の極薄い例えばLi、Mg、Ca、Ba等の仕事関数の低い材料からなる低仕事関数層と、100nm〜200nm程度の膜厚のITO等の光透過性導電層を有する透明積層構造とする。   In the case of the bottom emission type, the counter electrode (cathode electrode) 46 is provided on the light emitting layer 45G side, and an electron-injecting lower layer made of a conductive material, for example, a material having a low work function such as Li, Mg, Ca, Ba, It is a laminated structure having an upper layer made of a light-reflective conductive metal such as Al. In the present embodiment, the counter electrode 46 is composed of a single electrode layer formed across a plurality of pixels 30, and for example, a reference voltage Vss which is a ground potential is applied. When the organic EL element OEL is a top emission type, the counter electrode 46 is provided on the light emitting layer 45G side and is an extremely thin material having a film thickness of about 10 nm, such as Li, Mg, Ca, Ba, or the like, which has a low work function. And a transparent laminated structure having a light transmissive conductive layer such as ITO having a thickness of about 100 nm to 200 nm.

対向電極46の上には、パッシベーション膜49が設けられる。パッシベーション膜49の上に接着層50が設けられる。そして、接着層50の上に封止基板51が設けられている。   A passivation film 49 is provided on the counter electrode 46. An adhesive layer 50 is provided on the passivation film 49. A sealing substrate 51 is provided on the adhesive layer 50.

次に、本実施形態に係る発光装置の製造方法を、図9(a)〜(c)及び図10(a)〜(c)を用いて説明する。なお、選択トランジスタTr11は駆動トランジスタTr12と同一工程によって形成されるので、選択トランジスタTr11の形成の説明を一部省略する。   Next, a method for manufacturing the light emitting device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 9 (a) to 9 (c) and FIGS. 10 (a) to 10 (c). Since the selection transistor Tr11 is formed in the same process as the driving transistor Tr12, a part of the description of the formation of the selection transistor Tr11 is omitted.

図9(a)に示すように、まず、ガラス基板等からなる基板31を用意する。次に、この基板31上に、スパッタ法、真空蒸着法等により例えば、Mo膜、Cr膜、Al膜、Cr/Al積層膜、AlTi合金膜又はAlNdTi合金膜、AlNi合金膜、MoNb合金膜等からなるゲート導電膜を形成し、これを図9(a)に示すように駆動トランジスタTr12のゲート電極Tr12gの形状にパターニングする。この際、図示はしていないが、選択トランジスタTr11のゲート電極Tr11g、及びデータラインLdも形成する。続いて、図9(b)に示すように、CVD(Chemical Vapor Deposition)法等によりゲート電極Tr12g及びデータラインLd上に絶縁膜32を形成する。   As shown in FIG. 9A, first, a substrate 31 made of a glass substrate or the like is prepared. Next, on the substrate 31, for example, a Mo film, a Cr film, an Al film, a Cr / Al laminated film, an AlTi alloy film or an AlNdTi alloy film, an AlNi alloy film, a MoNb alloy film, etc. A gate conductive film is formed and patterned into the shape of the gate electrode Tr12g of the drive transistor Tr12 as shown in FIG. At this time, although not shown, the gate electrode Tr11g of the selection transistor Tr11 and the data line Ld are also formed. Subsequently, as shown in FIG. 9B, an insulating film 32 is formed on the gate electrode Tr12g and the data line Ld by a CVD (Chemical Vapor Deposition) method or the like.

次に、絶縁膜32上に、CVD法等により、アモルファスシリコン等からなる半導体層を形成する。次に、半導体層上に、CVD法等により、例えばSiN等からなる絶縁膜を形成する。続いて、絶縁膜をフォトリソグラフィ等によりパターニングし、ストッパ膜115を形成する。更に、半導体層及びストッパ膜115上に、CVD法等により、n型不純物が含まれたアモルファスシリコン等からなる膜を形成し、この膜と半導体層とをフォトリソグラフィ等によりパターニングすることで、図9(b)に示すように、半導体層114とオーミックコンタクト層116,117とを形成する。   Next, a semiconductor layer made of amorphous silicon or the like is formed on the insulating film 32 by a CVD method or the like. Next, an insulating film made of, for example, SiN is formed on the semiconductor layer by a CVD method or the like. Subsequently, the insulating film is patterned by photolithography or the like to form the stopper film 115. Further, a film made of amorphous silicon or the like containing n-type impurities is formed on the semiconductor layer and the stopper film 115 by a CVD method or the like, and this film and the semiconductor layer are patterned by photolithography or the like. As shown in FIG. 9B, the semiconductor layer 114 and the ohmic contact layers 116 and 117 are formed.

次に、スパッタ法、真空蒸着法等により絶縁膜32上に、ITO等の透明導電膜、或いは光反射性導電膜及びITO等の透明導電膜を被膜後、フォトリソグラフィによってパターニングして画素電極42を形成する。   Next, a transparent conductive film such as ITO or a light-reflective conductive film and a transparent conductive film such as ITO are coated on the insulating film 32 by sputtering, vacuum deposition, or the like, and then patterned by photolithography to be pixel electrodes 42. Form.

続いて、絶縁膜32に貫通孔であるコンタクトホール61〜64を形成してから、例えば、Mo膜、Cr膜、Al膜、Cr/Al積層膜、AlTi合金膜又はAlNdTi合金膜、AlNi合金膜、MoNb合金膜等からなるソース−ドレイン導電膜をスパッタ法、真空蒸着法等により被膜して、フォトリソグラフィによってパターニングして図9(b)に示すようにドレイン電極Tr12d及びソース電極Tr12sを形成する。これと同時に、アノードラインLaを形成する。このとき、駆動トランジスタTr12のソース電極Tr12sはそれぞれ画素電極42の一部と重なるように形成される。   Subsequently, after forming contact holes 61 to 64 as through holes in the insulating film 32, for example, a Mo film, a Cr film, an Al film, a Cr / Al laminated film, an AlTi alloy film, an AlNdTi alloy film, or an AlNi alloy film. Then, a source-drain conductive film made of a MoNb alloy film or the like is coated by a sputtering method, a vacuum deposition method, or the like, and patterned by photolithography to form a drain electrode Tr12d and a source electrode Tr12s as shown in FIG. 9B. . At the same time, the anode line La is formed. At this time, the source electrode Tr12s of the drive transistor Tr12 is formed so as to overlap with a part of the pixel electrode 42, respectively.

続いて、図9(c)に示すように、駆動トランジスタTr12等を覆うようにシリコン窒化膜からなる層間絶縁膜47をCVD法等により形成後、フォトリソグラフィにより、開口部47aを形成する。次に、感光性ポリイミドを、層間絶縁膜47を覆うように塗布し、隔壁48の形状に対応するマスクを介して露光、現像することによってパターニングし、図9(c)に示すように開口部48aを有する隔壁48を形成する。   Subsequently, as shown in FIG. 9C, an interlayer insulating film 47 made of a silicon nitride film is formed by a CVD method or the like so as to cover the driving transistor Tr12 and the like, and then an opening 47a is formed by photolithography. Next, a photosensitive polyimide is applied so as to cover the interlayer insulating film 47, and is patterned by exposure and development through a mask corresponding to the shape of the partition wall 48. As shown in FIG. A partition wall 48 having 48a is formed.

次に、図10(a)に示すように、発光層45Gを形成する。ここでは、正孔注入層となるPEDOT:PSSの溶液をインク340として、前述の印刷装置300により開口部47aで囲まれた画素電極42上に選択的に印刷する。インク340は、PEDOT:PSSに粘度及び表面張力を調整するためのアルコール、非イオン系界面活性剤、エチレングリコール等を添加して、PEDOT:PSSインクとして調整する。続いて、基板31を大気雰囲気下で150℃〜250℃で5〜30分間乾燥を行う。これにより、有機化合物含有液の溶媒を揮発させて、正孔注入層43を形成する。有機化合物含有液は加熱雰囲気で塗布されてもよい。なお、フレキソ版である版胴320上の版の凸部321のパターンは、印刷される各層のパターンに応じて、フォトリソグラフィ法を用いて予め所定のパターンで形成される。また、正孔注入層用の印刷装置300では、版胴320上の版の凸部321の厚さが、層間絶縁膜47の厚さ及び隔壁48の厚さの和より十分高いので、版胴320上の版は画素電極42上にインク膜342のインク340を容易に突出することができる。   Next, as shown in FIG. 10A, a light emitting layer 45G is formed. Here, a PEDOT: PSS solution to be used as a hole injection layer is selectively printed as ink 340 on the pixel electrode 42 surrounded by the opening 47a by the printing apparatus 300 described above. Ink 340 is prepared as PEDOT: PSS ink by adding alcohol, nonionic surfactant, ethylene glycol or the like for adjusting viscosity and surface tension to PEDOT: PSS. Subsequently, the substrate 31 is dried at 150 ° C. to 250 ° C. for 5 to 30 minutes in an air atmosphere. Thereby, the hole injection layer 43 is formed by volatilizing the solvent of the organic compound-containing liquid. The organic compound-containing liquid may be applied in a heated atmosphere. Note that the pattern of the convex portions 321 of the plate on the plate cylinder 320 which is a flexographic plate is formed in advance in a predetermined pattern using a photolithography method in accordance with the pattern of each layer to be printed. In the printing apparatus 300 for the hole injection layer, the thickness of the convex portion 321 of the plate on the plate cylinder 320 is sufficiently higher than the sum of the thickness of the interlayer insulating film 47 and the thickness of the partition wall 48. The plate on 320 can easily protrude the ink 340 of the ink film 342 onto the pixel electrode 42.

次に、図10(b)に示すように、インターレイヤ層44を形成する。ここでは、インターレイヤ層44となる材料を含有する有機化合物含有液をインク340として、印刷装置300により開口部47aで囲まれた正孔注入層43上に印刷する。続いて、窒素またはアルゴン等の不活性雰囲気中の加熱乾燥、或いは真空中での加熱乾燥を行い、残留溶媒の除去を行ってインターレイヤ層44を形成する。有機化合物含有液は加熱雰囲気で塗布されてもよい。なお、正孔注入層43及びインターレイヤ層44は、本実施形態のように複数色の発光層45を備える場合であっても、共通した材料から形成することができる。また、インターレイヤ層用の印刷装置300では、版胴320上の版の凸部321の厚さが、層間絶縁膜47の厚さ及び隔壁48の厚さの和より十分高いので、版胴320上の版は正孔注入層43上にインク膜342のインク340を容易に突出することができる。   Next, as shown in FIG. 10B, an interlayer layer 44 is formed. Here, an organic compound-containing liquid containing a material for forming the interlayer layer 44 is printed as ink 340 on the hole injection layer 43 surrounded by the opening 47 a by the printing apparatus 300. Subsequently, heat drying in an inert atmosphere such as nitrogen or argon, or heat drying in a vacuum is performed, and the residual solvent is removed to form the interlayer layer 44. The organic compound-containing liquid may be applied in a heated atmosphere. The hole injection layer 43 and the interlayer layer 44 can be formed of a common material even when the light emitting layer 45 of a plurality of colors is provided as in the present embodiment. In the printing apparatus 300 for the interlayer layer, the thickness of the convex portion 321 of the plate on the plate cylinder 320 is sufficiently higher than the sum of the thickness of the interlayer insulating film 47 and the thickness of the partition wall 48. The upper plate can easily protrude the ink 340 of the ink film 342 on the hole injection layer 43.

次に、発光層45Gを形成する。ここでは、発光ポリマー材料(R、G、B)を含有する有機化合物含有液をインク340として、印刷装置300により開口部47aで囲まれたインターレイヤ層44上に印刷する。インク340は、ポリフルオレン系の高分子発光材料をトルエン、キシレン、メチシレン、テトラメチルベンゼン等の溶媒に溶解させ、所定の濃度に調整する。溶媒は前記の混合溶媒でもよい。続いて、露点−70℃以下の乾燥雰囲気又は真空中で80〜150℃、但し発光層のガラス転移温度以下で10〜30分間加熱し、膜中の溶媒を除去する。また、発光層用の印刷装置300では、版胴320上の版の凸部321の厚さが、層間絶縁膜47の厚さ及び隔壁48の厚さの和より十分高いので、版胴320上の版はインターレイヤ層44上にインク膜342のインク340を容易に突出することができる。   Next, the light emitting layer 45G is formed. Here, the organic compound-containing liquid containing the light emitting polymer material (R, G, B) is printed as the ink 340 on the interlayer layer 44 surrounded by the opening 47a by the printing apparatus 300. The ink 340 is adjusted to a predetermined concentration by dissolving a polyfluorene-based polymer light-emitting material in a solvent such as toluene, xylene, methicylene, or tetramethylbenzene. The solvent may be the above mixed solvent. Subsequently, the film is heated at 80 to 150 ° C. in a dry atmosphere or a vacuum with a dew point of −70 ° C. or lower, but below the glass transition temperature of the light emitting layer for 10 to 30 minutes to remove the solvent in the film. In the printing device 300 for the light emitting layer, the thickness of the convex portion 321 of the plate on the plate cylinder 320 is sufficiently higher than the sum of the thickness of the interlayer insulating film 47 and the thickness of the partition wall 48. In this plate, the ink 340 of the ink film 342 can easily protrude on the interlayer layer 44.

次に、図10(c)に示すように、対向電極46を形成する。ここでは、乾燥雰囲気を保ったまま冷却後、発光層45Gまで形成した基板31に真空蒸着や電子ビーム蒸着法で、Li,Mg,LiF,Ca,Ba等、アルカリ金属、アルカリ土類金属、又はそれらの化合物を蒸着法で形成する。続いて、Al等の光反射性導電層を蒸着法又は電子ビーム蒸着法で形成する。これにより、2層構造の対向電極46が形成される。   Next, as shown in FIG. 10C, the counter electrode 46 is formed. Here, after cooling in a dry atmosphere, the substrate 31 formed up to the light emitting layer 45G is vacuum-deposited or electron-beam-deposited, such as Li, Mg, LiF, Ca, Ba, alkali metal, alkaline earth metal, or Those compounds are formed by vapor deposition. Subsequently, a light-reflective conductive layer such as Al is formed by vapor deposition or electron beam vapor deposition. Thereby, the counter electrode 46 having a two-layer structure is formed.

次に、図8に示したように、対向電極46上にSiNやSiON等を電子ビーム蒸着法、スパッタ法又はCVD法にて成層することにより、パッシベーション膜49を形成する。続いて、パッシベーション膜49上に紫外線硬化樹脂、又は熱硬化樹脂からなる接着層50を塗布し、ガラス又は金属キャップから形成された封止基板51を塗布面に貼り合わせる。続いて、紫外線又は熱によって接着層50を硬化させて、基板31と封止基板51とを接合する。以上により、発光装置10が製造される。   Next, as shown in FIG. 8, a passivation film 49 is formed on the counter electrode 46 by depositing SiN, SiON or the like by electron beam evaporation, sputtering, or CVD. Subsequently, an adhesive layer 50 made of an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin is applied on the passivation film 49, and a sealing substrate 51 formed of glass or a metal cap is bonded to the application surface. Subsequently, the adhesive layer 50 is cured by ultraviolet rays or heat, and the substrate 31 and the sealing substrate 51 are bonded. Thus, the light emitting device 10 is manufactured.

このような構成を採る発光装置10は、デジタルカメラ、パーソナルコンピュータ、携帯電話等の電子機器の表示部(ディスプレイ)として用いられる。具体的には、カメラ200は、例えば図11(a)及び(b)に示すように、レンズ部201と、操作部202と、表示部203と、ファインダー204と、を備える。この表示部203として、発光装置10が用いられる。同様に、図12に示すパーソナルコンピュータ210は表示部211と操作部212とを備え、発光装置10は、表示部211として用いられる。また、図13に示す携帯電話220は表示部221と操作部222と受話部223と送話部224とを備え、発光装置10は表示部221として用いられる。また、図14に示す大画面テレビ230は、表示部231を備え、この表示部231に発光装置10が用いられる。   The light emitting device 10 having such a configuration is used as a display unit (display) of an electronic device such as a digital camera, a personal computer, or a mobile phone. Specifically, the camera 200 includes a lens unit 201, an operation unit 202, a display unit 203, and a viewfinder 204, as shown in FIGS. 11A and 11B, for example. The light emitting device 10 is used as the display unit 203. Similarly, the personal computer 210 illustrated in FIG. 12 includes a display unit 211 and an operation unit 212, and the light emitting device 10 is used as the display unit 211. 13 includes a display unit 221, an operation unit 222, a reception unit 223, and a transmission unit 224, and the light emitting device 10 is used as the display unit 221. Further, the large-screen television 230 illustrated in FIG. 14 includes a display unit 231, and the light-emitting device 10 is used for the display unit 231.

以上説明したように、本実施形態では、フレキソ印刷において、基板31上の表示部(画素30)に対応する部分にのみインクジェット法でアニロックスロール310の表面にインクを形成する。これにより、フレキソ印刷に用いるインクの使用量を低減させることができる。即ち、高価な有機EL材料の使用効率を向上させるとともに、発光装置の製造コストを低減させることができる。   As described above, in the present embodiment, in flexographic printing, ink is formed on the surface of the anilox roll 310 by an ink jet method only in a portion corresponding to the display portion (pixel 30) on the substrate 31. Thereby, the usage-amount of the ink used for flexographic printing can be reduced. That is, it is possible to improve the use efficiency of the expensive organic EL material and reduce the manufacturing cost of the light emitting device.

なお、この発明は上述した実施形態、具体例に限定されず、種々の変形及び応用が可能である。   In addition, this invention is not limited to embodiment mentioned above and a specific example, A various deformation | transformation and application are possible.

例えば、上述した実施形態では、発光装置10がカラー表示を行うものであって、3色の発光素子を備える構成を例に挙げて説明したが、これに限られず2色又は4色以上であってもよい。また、発光装置10が単色表示を行うものである場合、1色の発光素子のみを備える。   For example, in the above-described embodiment, the light emitting device 10 performs color display and has been described by taking a configuration including light emitting elements of three colors as an example. However, the present invention is not limited to this, and there are two colors or four colors or more. May be. Moreover, when the light-emitting device 10 performs a monochromatic display, it has only one color light-emitting element.

また、上述した実施形態では、発光機能層は正孔注入層43、インターレイヤ層44及び発光層45(R,G,B)を備える構成を例に挙げているが、これに限られない。例えば、正孔注入層43と発光層45とから発光機能層を構成してもよく、発光層45のみを発光機能層としてもよい。   In the above-described embodiment, the light emitting functional layer has a configuration including the hole injection layer 43, the interlayer layer 44, and the light emitting layer 45 (R, G, B), but is not limited thereto. For example, the light emitting functional layer may be configured by the hole injection layer 43 and the light emitting layer 45, or only the light emitting layer 45 may be used as the light emitting functional layer.

また、上述した実施形態では、画素回路DSは2つのトランジスタを備える構成を例に挙げているが、3つ以上のトランジスタを備えるものであってもよい。   In the above-described embodiment, the pixel circuit DS has a configuration including two transistors as an example. However, the pixel circuit DS may include three or more transistors.

また、上述した実施形態では、ボトムエミッション型の有機EL素子を中心に説明したが、これに限られず有機EL素子OELにより発生した光を、対向電極を介して外部に出射するトップエミッション型の有機EL素子に用いることも可能である。   In the above-described embodiment, the description is centered on the bottom emission type organic EL element. However, the present invention is not limited to this, and the top emission type organic EL element that emits light generated by the organic EL element OEL to the outside through the counter electrode is used. It can also be used for EL elements.

また、上述した実施形態では、発光装置を表示装置として利用する構成を例に挙げて説明しているが、プリンタの感光ドラムに光を照射するプリンタヘッド等の露光装置としても利用することができる。   In the above-described embodiment, the configuration in which the light emitting device is used as a display device has been described as an example. However, it can also be used as an exposure device such as a printer head that irradiates light to a photosensitive drum of a printer. .

また、上述した実施形態ではヘッド303が図のX軸方向に走査するいわゆるシリアルヘッド方式として説明している。シリアルヘッド方式では、例えば図15(a)に示すガイドレール307に沿ってヘッド303が走査する。これ以外に、例えば複数の吐出口(ノズル)を備えるいわゆるラインヘッド方式のヘッドを使用することとしてもよい。この場合、ヘッドは1本でもよいが、図15(b)に示すように例えば3本のヘッド308a,308b,308cをZ軸方向から見て千鳥状に配置することとしてもよい。これにより、ヘッド駆動部305のうちヘッド303を走査するための構成を省略又は簡略化することができる。また、ラインヘッド方式を採用することにより、広い範囲に一度に印刷されるため工程を短縮することができ好ましい。なお、この場合、各ノズルの吐出量のバラツキに基づいて、各ノズルが有するピエゾ素子についての動作波形を予め設定して記憶部302に記憶させておくことにより、各ノズルからの吐出量を一定とすることが望ましい。   Further, in the above-described embodiment, the head 303 is described as a so-called serial head system in which scanning is performed in the X-axis direction in the figure. In the serial head system, for example, the head 303 scans along the guide rail 307 shown in FIG. In addition to this, for example, a so-called line head type head having a plurality of discharge ports (nozzles) may be used. In this case, the number of heads may be one, but as shown in FIG. 15B, for example, the three heads 308a, 308b, and 308c may be arranged in a staggered manner when viewed from the Z-axis direction. Accordingly, the configuration for scanning the head 303 in the head driving unit 305 can be omitted or simplified. In addition, it is preferable to employ a line head system because the process can be shortened because printing is performed at once in a wide range. In this case, based on the variation in the discharge amount of each nozzle, the operation waveform for the piezo element of each nozzle is preset and stored in the storage unit 302, so that the discharge amount from each nozzle is constant. Is desirable.

また、上述した実施形態では中間転写体として回転式のアニロックスロール310として説明しているが、板状のアニロックス板であるように構成してもよい。   In the embodiment described above, the rotary anilox roll 310 is described as the intermediate transfer member. However, a plate-shaped anilox plate may be used.

10・・・発光装置、30,30R,30G,30B・・・画素、31・・・基板、32・・・絶縁膜、42・・・画素電極(アノード電極)、43・・・正孔注入層、44・・・インターレイヤ層、45R,45G,45B・・・発光層、46・・・対向電極(カソード電極)、47・・・層間絶縁膜、48・・・隔壁、49・・・パッシベーション膜、50・・・接着層、51・・・封止基板、114・・・半導体層、115・・・ストッパ膜、116,117・・・オーミックコンタクト層、300…印刷装置、301…制御部、302…記憶部、303,308a〜c…ヘッド、304…インク収容部、305…ヘッド駆動部、307…ガイドレール、310…アニロックスロール、311…セル、312,322…駆動部、313,323…角度検出部、320…版胴、321…版の凸部、330…印刷ステージ、340…インク、341〜343…インク膜、Tr11d,Tr12d・・・ドレイン電極、Tr11g,Tr12g・・・ゲート電極、Tr11s,Tr12s・・・ソース電極、La・・・アノードライン、Ls・・・走査ライン、Ld・・・データライン、Tr11・・・選択トランジスタ、Tr12・・・駆動トランジスタ   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Light-emitting device, 30, 30R, 30G, 30B ... Pixel, 31 ... Substrate, 32 ... Insulating film, 42 ... Pixel electrode (anode electrode), 43 ... Hole injection Layer, 44 ... interlayer layer, 45R, 45G, 45B ... light emitting layer, 46 ... counter electrode (cathode electrode), 47 ... interlayer insulating film, 48 ... partition wall, 49 ... Passivation film, 50 ... adhesive layer, 51 ... sealing substrate, 114 ... semiconductor layer, 115 ... stopper film, 116,117 ... ohmic contact layer, 300 ... printing apparatus, 301 ... control 302, storage unit, 303, 308a to c ... head, 304 ... ink storage unit, 305 ... head drive unit, 307 ... guide rail, 310 ... anilox roll, 311 ... cell, 312, 322 ... drive unit, 313 323... Angle detection unit, 320... Plate cylinder, 321... Plate convex part, 330... Printing stage, 340 .. Ink, 341 to 343 .. Ink film, Tr11d, Tr12d. Electrode, Tr11s, Tr12s ... Source electrode, La ... Anode line, Ls ... Scan line, Ld ... Data line, Tr11 ... Selection transistor, Tr12 ... Drive transistor

Claims (9)

基板上に配列された複数の発光素子を備える発光装置の製造装置であって、
前記基板上に前記発光素子の有機層を形成するインクを印刷するためのフレキソ版を備える回転式の版胴と、
前記フレキソ版に当接して前記インクを転写する中間転写体と、
前記中間転写体に前記インクを供給するヘッド部と、
前記基板の印刷パターンに対応する前記中間転写体の表面におけるインク供給パターンを記憶する記憶部と、
前記中間転写体の前記インク供給パターンの領域内に前記ヘッド部から前記インクを供給する制御部と、を備える、
ことを特徴とする発光装置の製造装置。
A light-emitting device manufacturing apparatus comprising a plurality of light-emitting elements arranged on a substrate,
A rotary plate cylinder provided with a flexographic plate for printing an ink for forming an organic layer of the light emitting element on the substrate;
An intermediate transfer member that contacts the flexographic plate and transfers the ink;
A head portion for supplying the ink to the intermediate transfer member;
A storage unit for storing an ink supply pattern on the surface of the intermediate transfer member corresponding to the printed pattern of the substrate;
A control unit that supplies the ink from the head unit in the region of the ink supply pattern of the intermediate transfer member,
An apparatus for manufacturing a light-emitting device.
前記ヘッド部を前記インク供給パターンに対向する位置に移動させるヘッド駆動部を更に備える、
ことを特徴とする請求項1に記載の発光装置の製造装置。
A head driving unit that moves the head unit to a position facing the ink supply pattern;
The apparatus for manufacturing a light emitting device according to claim 1.
前記ヘッド部は、インクジェット方式で前記中間転写体に前記インクを吐出する、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の発光装置の製造装置。
The head portion discharges the ink to the intermediate transfer member by an ink jet method.
The light-emitting device manufacturing apparatus according to claim 1 or 2.
前記ヘッド部は、前記インクを吐出する位置が固定された複数のノズルを備え、
前記複数のノズルは、前記インクを液滴としてインクジェット方式で吐出するピエゾ素子をそれぞれ備え、
前記記憶部は、各前記ピエゾ素子の動作波形を記憶し、
前記制御部は、前記動作波形に基づいて各前記ピエゾ素子からの前記インクの吐出量が均一となるよう制御する、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の発光装置の製造装置。
The head unit includes a plurality of nozzles fixed at positions where the ink is ejected,
Each of the plurality of nozzles includes a piezo element that discharges the ink as a droplet by an inkjet method,
The storage unit stores operation waveforms of the piezo elements,
The control unit controls the ejection amount of the ink from each of the piezoelectric elements to be uniform based on the operation waveform;
The light emitting device manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the light emitting device manufacturing apparatus is a light emitting device.
前記発光素子は、有機エレクトロルミネッセンス素子であり、
前記インクは、有機エレクトロルミネッセンス素子の有機層となる材料を含む、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の発光装置の製造装置。
The light emitting element is an organic electroluminescence element,
The ink includes a material that becomes an organic layer of an organic electroluminescence element.
The light emitting device manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the light emitting device manufacturing apparatus is a light emitting device.
前記中間転写体は、回転式のアニロックスロールである、
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の発光装置の製造装置。
The intermediate transfer member is a rotating anilox roll,
The light emitting device manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the light emitting device manufacturing apparatus is a light emitting device.
前記中間転写体は、板状のアニロックス板である、
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の発光装置の製造装置。
The intermediate transfer member is a plate-shaped anilox plate,
The light emitting device manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the light emitting device manufacturing apparatus is a light emitting device.
請求項1乃至7のいずれか1項に記載の発光装置の製造装置を用いて前記基板上に1又は複数層の前記有機層を形成する、
ことを特徴とする発光装置の製造方法。
One or a plurality of organic layers are formed on the substrate using the light emitting device manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 7.
A method for manufacturing a light-emitting device.
インクジェット方式により、発光素子の有機層の材料を含むインクを、中間転写体の表面のうち版胴のフレキソ版に当接する領域に選択的に供給する工程と、
前記中間転写体から前記版胴の前記フレキソ版に前記インクを転写する工程と、
前記版胴から基板上に前記インクを印刷する工程と、を備える、
ことを特徴とする発光装置の製造方法。
A step of selectively supplying ink containing an organic layer material of a light emitting element to a region of the surface of the intermediate transfer member that is in contact with the flexographic plate of the plate cylinder by an inkjet method;
Transferring the ink from the intermediate transfer member to the flexographic plate of the plate cylinder;
Printing the ink on the substrate from the plate cylinder,
A method for manufacturing a light-emitting device.
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