JP2011198577A - Apparatus and method for manufacturing light emitting device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、発光装置の製造装置及び製造方法に関する。 The present invention relates to a light emitting device manufacturing apparatus and a manufacturing method.
有機エレクトロルミネッセンス(electroluminescence)素子(有機EL素子)或いは有機発光ダイオード(Organic Light Emitting Diode)素子と呼称される自発光素子は、電場を加えることによって発光する蛍光性の有機化合物によって形成されたものであり、この素子を各画素に有してなる表示パネルを備えた表示装置は次世代ディスプレイデバイスとして注目されている。 A self-luminous element called an organic electroluminescence element (organic EL element) or an organic light emitting diode element is formed of a fluorescent organic compound that emits light when an electric field is applied. A display device including a display panel having this element in each pixel has attracted attention as a next-generation display device.
有機EL素子は、アノード電極とカソード電極とのこれらの一対の電極間に形成され、例えば発光層、正孔注入層等を有する有機EL層(有機層)を備える。有機EL素子は、発光層において正孔と電子とが再結合することによって発生するエネルギーによって発光する。 The organic EL element is formed between a pair of electrodes of an anode electrode and a cathode electrode, and includes an organic EL layer (organic layer) having, for example, a light emitting layer, a hole injection layer, and the like. The organic EL element emits light by energy generated by recombination of holes and electrons in the light emitting layer.
このような有機層を形成するため、所定の高分子材料をインクとして凸版の一種であるフレキソ版を用いた印刷(以下、フレキソ印刷という)により基板上に形成することが従来から行われている(例えば、特許文献1)。フレキソ印刷は、低粘度インクを用いることで、基板上に形成される等発光層等を薄膜とすることが可能である。また、フレキソ印刷では、例えばローラー状に形成される版胴とアニロックスロールとをダイレクトドライブモーター等によって駆動することで、精密な印刷が可能となる。これらの理由により、フレキソ印刷を有機ELの有機層のパターニングに好適に用いることができる。 In order to form such an organic layer, it has been conventionally performed to form a predetermined polymer material on a substrate by printing using a flexographic printing plate, which is a type of relief printing, as an ink (hereinafter referred to as flexographic printing). (For example, patent document 1). In flexographic printing, by using a low-viscosity ink, it is possible to make a thin light-emitting layer or the like formed on a substrate. In flexographic printing, for example, a printing cylinder formed in a roller shape and an anilox roll are driven by a direct drive motor or the like, thereby enabling precise printing. For these reasons, flexographic printing can be suitably used for patterning the organic EL organic layer.
しかしながら、従来のフレキソ印刷法には以下に示すような問題点がある。ディスペンサ(特許文献1ではインキチャンバー)からアニロックスロール表面全体に広がるように供給されたインクは、版胴に巻かれた印刷パターンが形成されたフレキソ版に転写される。フレキソ版と印刷対象となる基板が接触することで、基板上にインクが印刷される。その際、アニロックスロール上に残った余分なインクはスクレーパ(ドクター)によって除去し廃棄されることとなる。それゆえ、従来のフレキソ印刷法では高価な有機EL材料を溶解させたインクを多量に必要とし、有機EL材料の使用効率が低くなってしまう。従って、発光装置の製造コストが増大するという問題点があった。 However, the conventional flexographic printing method has the following problems. The ink supplied from the dispenser (ink chamber in Patent Document 1) so as to spread over the entire surface of the anilox roll is transferred to a flexographic plate on which a printing pattern wound around a plate cylinder is formed. When the flexographic plate comes into contact with the substrate to be printed, ink is printed on the substrate. At that time, excess ink remaining on the anilox roll is removed by a scraper (doctor) and discarded. Therefore, the conventional flexographic printing method requires a large amount of ink in which an expensive organic EL material is dissolved, and the use efficiency of the organic EL material is lowered. Therefore, there is a problem that the manufacturing cost of the light emitting device increases.
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、有機EL材料の使用効率を向上させ、製造コストを低減させることが可能な発光装置の製造装置及び製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a light emitting device manufacturing apparatus and a manufacturing method capable of improving the use efficiency of an organic EL material and reducing the manufacturing cost. .
上記目的を達成するため、本発明の第1の観点に係る発光装置の製造装置は、
基板上に配列された複数の発光素子を備える発光装置の製造装置であって、
前記基板上に前記発光素子の有機層を形成するインクを印刷するためのフレキソ版を備える回転式の版胴と、
前記フレキソ版に当接して前記インクを転写する中間転写体と、
前記中間転写体に前記インクを供給するヘッド部と、
前記基板の印刷パターンに対応する前記中間転写体の表面におけるインク供給パターンを記憶する記憶部と、
前記中間転写体の前記インク供給パターンの領域内に前記ヘッド部から前記インクを供給する制御部と、を備える、
ことを特徴とする。
この場合、前記ヘッド部を前記インク供給パターンに対向する位置に移動させるヘッド駆動部を更に備える、
こととしてもよい。
また、前記ヘッド部は、インクジェット方式で前記中間転写体に前記インクを吐出する、
こととしてもよい。
また、前記ヘッド部は、前記インクを吐出する位置が固定された複数のノズルを備え、
前記複数のノズルは、前記インクを液滴としてインクジェット方式で吐出するピエゾ素子をそれぞれ備え、
前記記憶部は、各前記ピエゾ素子の動作波形を記憶し、
前記制御部は、前記動作波形に基づいて各前記ピエゾ素子からの前記インクの吐出量が均一となるよう制御する、
こととしてもよい。
また、前記発光素子は、有機エレクトロルミネッセンス素子であり、
前記インクは、有機エレクトロルミネッセンス素子の有機層となる材料を含む、
こととしてもよい。
また、前記中間転写体は、回転式のアニロックスロールである、
こととしてもよい。
また、前記中間転写体は、板状のアニロックス板である、
こととしてもよい。
上記目的を達成するため、本発明の第2の観点に係る発光装置の製造方法は、
上述した発光装置の製造装置を用いて前記基板上に1又は複数層の前記有機層を形成する、
ことを特徴とする。
また、本発明の第3の観点に係る発光装置の製造方法は、
インクジェット方式により、発光素子の有機層の材料を含むインクを、中間転写体の表面のうち版胴のフレキソ版に当接する領域に選択的に供給する工程と、
前記中間転写体から前記版胴の前記フレキソ版に前記インクを転写する工程と、
前記版胴から基板上に前記インクを印刷する工程と、を備える、
ことを特徴とする。
In order to achieve the above object, a light-emitting device manufacturing apparatus according to the first aspect of the present invention provides:
A light-emitting device manufacturing apparatus comprising a plurality of light-emitting elements arranged on a substrate,
A rotary plate cylinder provided with a flexographic plate for printing an ink for forming an organic layer of the light emitting element on the substrate;
An intermediate transfer member that contacts the flexographic plate and transfers the ink;
A head portion for supplying the ink to the intermediate transfer member;
A storage unit for storing an ink supply pattern on the surface of the intermediate transfer member corresponding to the printed pattern of the substrate;
A control unit that supplies the ink from the head unit in the region of the ink supply pattern of the intermediate transfer member,
It is characterized by that.
In this case, the apparatus further includes a head driving unit that moves the head unit to a position facing the ink supply pattern.
It is good as well.
Further, the head unit ejects the ink onto the intermediate transfer member by an inkjet method.
It is good as well.
In addition, the head unit includes a plurality of nozzles in which positions for ejecting the ink are fixed,
Each of the plurality of nozzles includes a piezo element that discharges the ink as a droplet by an inkjet method,
The storage unit stores operation waveforms of the piezo elements,
The control unit controls the ejection amount of the ink from each of the piezoelectric elements to be uniform based on the operation waveform;
It is good as well.
Further, the light emitting element is an organic electroluminescence element,
The ink includes a material that becomes an organic layer of an organic electroluminescence element.
It is good as well.
The intermediate transfer member is a rotary anilox roll.
It is good as well.
The intermediate transfer member is a plate-shaped anilox plate.
It is good as well.
In order to achieve the above object, a method for manufacturing a light emitting device according to the second aspect of the present invention includes:
Forming one or a plurality of the organic layers on the substrate using the light emitting device manufacturing apparatus described above;
It is characterized by that.
A method for manufacturing a light emitting device according to the third aspect of the present invention includes:
A step of selectively supplying ink containing an organic layer material of a light emitting element to a region of the surface of the intermediate transfer member that is in contact with the flexographic plate of the plate cylinder by an inkjet method;
Transferring the ink from the intermediate transfer member to the flexographic plate of the plate cylinder;
Printing the ink on the substrate from the plate cylinder,
It is characterized by that.
本発明によれば発光装置の製造コストを低減させることができる。 According to the present invention, the manufacturing cost of the light emitting device can be reduced.
以下、本発明の実施形態について添付図面を参照して説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
図1に示すように、本実施形態の印刷装置300は、制御部301と、記憶部302と、ヘッド303と、インク340が収容されたインク収容部304と、アニロックスロール310と、版胴320と、印刷ステージ330と、を備えている。
As illustrated in FIG. 1, the
制御部301は、CPU(Central Processing Unit)等を備えており、後述するヘッド303からのインクの吐出並びにアニロックスロール310及び版胴320の駆動等、印刷装置300の機能全体を制御する。
The
記憶部302は、ROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)等から構成された記憶装置である。記憶部302には、例えば制御部301が実行するプログラム、及び、版胴320による印刷パターンに関するデータ等が格納されている。また、記憶部302は、例えば、制御部301がプログラムを実行する際のワークメモリとして動作する。
The
ヘッド303は、制御部301の指示に基づいて、ヘッド303からインク340をアニロックスロール310に向けて吐出する。本実施形態では、ヘッド303はピエゾ素子(図示せず)を備えており、いわゆるインクジェット方式によりインク340を吐出する。また、ヘッド303は、アニロックスロール310の長さに合わせて図のX軸方向に走査しながらインク340を吐出することが可能となるように構成されている。インク収容部304は、その内部にインク340を収容しており、ヘッド303にインク340を供給する。本実施形態におけるインク340は、有機ELの例えば、発光層等の材料となる所定の高分子材料の溶液である。
The
アニロックスロール310は、図のX軸方向を軸として回転可能に支持されており、X軸方向に所定の長さを有する。アニロックスロール310の外周面、即ちインク340を受ける面には浅い凹部である多数のセル311が形成されている。本明細書ではセル311を簡略化して表示しているが、セル311は、印刷条件に応じて所定の深さ、パターン等を有するように設けられている。なお、ヘッド303が、アニロックスロール310のX軸方向に所定の長さに応じて、インク340を任意に吐出する吐出口を、X軸に沿って複数配置された構造であれば、ヘッド303をX軸方向に走査することなしに、アニロックスロール310の任意のセル311内にインク340を吐出することができる。
The
版胴320は、図のX軸方向を軸として回転可能に支持されており、X軸方向に所定の長さを有する。後述するように、版胴320はX軸方向に回転する他に、印刷ステージ330に載置される基板31の印刷面の面方向における図のX軸方向に直交するY軸方向に移動可能であるとともに、X軸方向及びY軸方向に直交する、つまり、基板31の印刷面に対する法線方向のZ軸方向に移動可能となるように構成されている。版胴320の外周面には、フレキソ版の1又は複数個の版の凸部321が形成されている。版の凸部321は、印刷される発光層等に応じて所定のパターンとなるように形成されており、アニロックスロール310からのインク340を受けるとともに印刷対象物の基板31にインク340を転写する。版胴320のうち、版の凸部321を含むフレキソ版の部分は、樹脂及びゴム等、フレキソ印刷に適した材料から形成されている。なお、基板31は、本実施形態では印刷ステージ330上に固定される。
The
印刷ステージ330は、印刷装置300の印刷対象物である基板31を図のXY平面上に載置するステージである。なお、印刷ステージ330は例えば基板31を固定するための機構を備えているが、本明細書ではその詳細な説明は省略する。
The
図2に、制御部301に関連するより詳細な構成をブロック図で示す。印刷装置300は、図1に示す構成物以外に、ヘッド駆動部305と、駆動部312と、角度検出部313と、駆動部322と、角度検出部323と、を備えている。
FIG. 2 is a block diagram showing a more detailed configuration related to the
ヘッド駆動部305は、制御部301の指示に基づいて、ヘッド303が内蔵するピエゾ素子を駆動してインク340を吐出させる。また、ヘッド駆動部305は駆動用モータ(図示せず)及びレール等の機構を備えており、ヘッド303を図のX軸方向に走査させる。
The
駆動部312は、ダイレクトドライブ方式の駆動用モータ(図示せず)を備えており、制御部301の指示に基づいて、アニロックスロール310の所定の位置に、ヘッド303から吐出するインク340が到達するようにアニロックスロール310を回転させる。
The
角度検出部313は、アニロックスロール310又は駆動用モータの回転軸に設けられている角度センサである。角度検出部313は、直接的又は間接的にアニロックスロール310の位置を検出し、その位置を示す信号を制御部301に送信する。
The
駆動部322は、ダイレクトドライブ方式の駆動用モータ(図示せず)を備えており、制御部301の指示に基づいて、版胴320に備えられた版の所定の位置に、アニロックスロール310に吐出されたインク340が転写されるように版胴320を回転させる。また、駆動部322は、後述するように、版胴320を図のY軸方向及びZ軸方向に移動させる。
The
角度検出部323は、版胴320又は駆動用モータの回転軸に設けられている角度センサである。角度検出部323は、直接的又は間接的に版胴320の位置を検出し、その位置を示す信号を制御部301に送信する。
The
次に、本実施形態に係る印刷装置300の動作について、図3及び図4を参照して説明する。なお、以下に示す印刷装置300の動作は、特に断りがない限り、制御部301の指示に基づいて行われる。また、以下の説明において、アニロックスロール310の表面とはセル311の範囲を含むアニロックスロール310の外周面を指す。
Next, the operation of the
まず、制御部301において、アニロックスロール310に対応する角度検出部313からの信号に基づいて、アニロックスロール310の位置を算出する。続いて、制御部301は、記憶部302に記憶された印刷パターンから、アニロックスロール310の表面におけるインク塗布領域を算出する。本実施形態では、インク塗布領域は、版胴320に備えられた版の凸部321の表面である。
First, the
次に、ヘッド303は、算出されたインク塗布領域にインク340を吐出し、アニロックスロール310の表面にインク340で満たされたインク膜341を形成する。このとき、アニロックスロール310は矢印R1の方向に回転する。また、ヘッド303は、図のX軸方向に走査することでアニロックスロール310の長さ範囲をカバーしてインク340を吐出する。
Next, the
中間転写体であるアニロックスロール310に塗布されたインク膜341のインク340は、アニロックスロール310と版胴320上の版との当接により、版胴320の版の凸部321上に転写される。版胴320は、矢印C1の方向に回転する。図3の例では、ある版の凸部321上のインク膜342のインク340は既にアニロックスロール310から転写されており、次いでその隣の版の凸部321に対して図示されたインク膜341がアニロックスロール310から転写される。このようなアニロックスロール310から版胴320上の版への転写によりほぼ全てのインク膜341がアニロックスロール310から移動して除去される。なお、本実施形態の説明において、アニロックスロール310及び版胴320の一方又は双方が図示と反対方向に回転することとしてもよい。
The
インクの転写によって版胴320に備えられた版におけるインク膜342の形成が完了すると、続いて、駆動部322が版胴320を基板31上の所定の位置まで移動させる。その後、図4に示すように、インク340は基板31と接触しながら矢印C1の方向に回転するするとともに、矢印C2の方向に進行しながらインク膜342を基板31に転写する。これにより、基板31上に、インク膜343が形成される。なお、前述したように、版胴320上の版へ転写後のアニロックスロール310の表面からはほぼ全てのインク膜341が除去されている。
When the formation of the
次に、前述した印刷装置300を用いて製造される発光装置の製造方法について説明する。なお、以下の説明では、有機EL素子により発生した光を有機EL素子が形成された基板を介して外部に出射するボトムエミッション型の有機EL素子を用いたアクティブ駆動方式の発光装置を例に挙げて説明する。また、本明細書における発光装置は表示装置としても用いられる。
Next, a method for manufacturing a light emitting device manufactured using the
図5に示す発光装置10は、前述の基板31上に形成される。発光装置10がカラー表示を行うものである場合、それぞれ赤(R)、緑(G)、青(B)の3色の何れかの発光色で発光する発光素子を有する3つの画素30(30R、30G、30B)を一組として、この組が行方向(図5の左右方向)に繰り返し複数個、例えばm個配列されるとともに、列方向(図5の上下方向)に同一色の発光色の発光素子を有する画素が複数個、例えばn個配列されている。換言すれば、画素自体は行方向に3m個配列されており、RGBの各色を発光する画素はマトリクス状に、3m×n個配列される。
The
以下、発光装置10を構成する画素30について説明する。なお、本実施形態において、画素30R,30G,30Bの構成は、後述する発光層がそれぞれ発光層45R,45G,45Bであることを除いて同一である。従って、以下で個別の画素としては画素30Gを例に挙げて説明する。
Hereinafter, the pixels 30 constituting the
画素30Gは、図6に示すように、画素回路DSを有して構成されている。画素回路DSは、例えば図6に示すように、選択トランジスタTr11、駆動トランジスタTr12、キャパシタCs、有機EL素子(発光素子)OELと、を備える。
As shown in FIG. 6, the
図6に示すように、選択トランジスタTr11は、ゲート端子が走査ラインLsに、ドレイン端子がデータラインLdに、ソース端子が接点N11にそれぞれ接続される。また、駆動トランジスタTr12は、ゲート端子が接点N11に接続されており、ドレイン端子がアノードラインLaに、ソース端子が接点N12にそれぞれ接続されている。キャパシタCsは、駆動トランジスタTr12のゲート端子及びソース端子に接続されている。なお、キャパシタCsは、駆動トランジスタTr12のゲート−ソース間に付加的に設けられた補助容量、もしくは駆動トランジスタTr12のゲート−ソース間の寄生容量と補助容量からなる容量成分である。また、有機EL素子OELは、アノード電極(画素電極42)が接点N12に接続され、カソード電極(対向電極46)に基準電圧Vssが印加されている。 As shown in FIG. 6, the selection transistor Tr11 has a gate terminal connected to the scanning line Ls, a drain terminal connected to the data line Ld, and a source terminal connected to the contact N11. The drive transistor Tr12 has a gate terminal connected to the contact N11, a drain terminal connected to the anode line La, and a source terminal connected to the contact N12. The capacitor Cs is connected to the gate terminal and the source terminal of the drive transistor Tr12. Note that the capacitor Cs is an auxiliary capacitance additionally provided between the gate and the source of the driving transistor Tr12 or a capacitance component including a parasitic capacitance and an auxiliary capacitance between the gate and the source of the driving transistor Tr12. In the organic EL element OEL, the anode electrode (pixel electrode 42) is connected to the contact N12, and the reference voltage Vss is applied to the cathode electrode (counter electrode 46).
走査ラインLsは、画素基板の周縁部に配置された走査ドライバ(図示せず)に接続されており、所定タイミングで行方向に配列された複数の画素30を選択状態に設定するための選択電圧信号(走査信号)が印加される。また、データラインLdは、画素基板の周縁部に配置されたデータドライバ(図示せず)に接続され、上記画素30の選択状態に同期するタイミングで発光データに応じたデータ電圧(階調信号)が印加される。行方向に配列された複数の駆動トランジスタTr12が、当該駆動トランジスタTr12に接続された有機EL素子OELの画素電極42(例えばアノード電極)に発光データに応じた駆動電流を流す状態に設定するように、アノードラインLa(供給電圧ライン)は、所定の高電位電源に直接又は間接的に接続されている。つまり、アノードラインLaは、有機EL素子OELの対向電極46に印加される基準電圧Vssより十分電位の高い所定の高電位(供給電圧Vdd)が印加される。また、対向電極46は、例えば、所定の低電位電源に直接又は間接的に接続され、基板31上にアレイ状に配列された全ての画素30に対して単一の電極層により形成されており、所定の低電圧(基準電圧Vss、例えば接地電位GND)が共通に印加されるように設定されている。
The scanning line Ls is connected to a scanning driver (not shown) arranged on the peripheral edge of the pixel substrate, and a selection voltage for setting a plurality of pixels 30 arranged in the row direction at a predetermined timing to a selected state. A signal (scanning signal) is applied. The data line Ld is connected to a data driver (not shown) arranged at the peripheral edge of the pixel substrate, and a data voltage (grayscale signal) corresponding to light emission data at a timing synchronized with the selection state of the pixel 30. Is applied. A plurality of drive transistors Tr12 arranged in the row direction are set to a state in which a drive current corresponding to light emission data flows through the pixel electrode 42 (for example, an anode electrode) of the organic EL element OEL connected to the drive transistor Tr12. The anode line La (supply voltage line) is directly or indirectly connected to a predetermined high potential power source. In other words, the anode line La is applied with a predetermined high potential (supply voltage Vdd) sufficiently higher than the reference voltage Vss applied to the
また、アノードラインLaと走査ラインLsとは、各トランジスタTr11、Tr12のソース電極、ドレイン電極とを形成するソース−ドレイン導電層を用いてこれらソース電極、ドレイン電極とともに形成される。データラインLdは、各トランジスタTr11、Tr12のゲート電極となるゲート導電層を用いてゲート電極とともに形成される。データラインLdとドレイン電極Tr11dとの間の絶縁膜32には、図7に示すように、コンタクトホール61が形成され、データラインLdとドレイン電極Tr11dとはコンタクトホール61を介して導通している。走査ラインLsとゲート電極Tr11gの両端との間の絶縁膜32には、それぞれコンタクトホール62、63が形成され、走査ラインLsとゲート電極Tr11gとはコンタクトホール62、63を介して導通している。ソース電極Tr11sとゲート電極Tr12gとの間の絶縁膜32には、コンタクトホール64が形成され、ソース電極Tr11sとゲート電極Tr12gとはコンタクトホール64を介して導通している。なお、絶縁膜32は、絶縁性材料、例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜等から形成され、データラインLd、ゲート電極Tr11g及びゲート電極Tr12gを覆うように基板31上に形成される。
The anode line La and the scanning line Ls are formed together with the source electrode and the drain electrode by using a source-drain conductive layer that forms the source electrode and the drain electrode of each of the transistors Tr11 and Tr12. The data line Ld is formed together with the gate electrode using a gate conductive layer that becomes a gate electrode of each of the transistors Tr11 and Tr12. As shown in FIG. 7, a
次に、有機EL素子OELは、図8に示すように、画素電極42と、正孔注入層43と、インターレイヤ層44と、発光層45Gと、対向電極46と、を備える。なお、図8では、説明の便宜上、発光に寄与する発光機能層として正孔注入層43と発光層45Gとを備える構成を例に挙げている。この他に、発光機能層は、発光層45Gのみであってもよく、正孔注入層43と発光層45Gとを備えていてもよい。
Next, as shown in FIG. 8, the organic EL element OEL includes a
各画素の基板31上には、ゲート導電層をパターニングしてなる選択トランジスタTr11、駆動トランジスタTr12のゲート電極Tr11g、Tr12gが形成されている。各画素に隣接した基板31上には、ゲート導電層をパターニングしてなり、列方向に沿って延びるデータラインLdが形成されている。
On the
画素電極(アノード電極)42は、透光性を備える導電材料、例えばITO(Indium Tin Oxide)、ZnO等から構成される。各画素電極42は隣接する他の画素30の画素電極42と層間絶縁膜47によって絶縁されている。
The pixel electrode (anode electrode) 42 is made of a conductive material having translucency, for example, ITO (Indium Tin Oxide), ZnO, or the like. Each
層間絶縁膜47は、絶縁性材料、例えばシリコン窒化膜から形成されている。層間絶縁膜47は、画素電極42間に形成され、トランジスタTr11、Tr12や走査ラインLs、アノードラインLaを絶縁保護する。層間絶縁膜47には略方形の開口部47aが形成されており、この開口部47aによって画素30Gの発光領域が画される。更に層間絶縁膜47上には隔壁48が形成されている。隔壁48には列方向(図7の上下方向)に延びる溝状の開口部48aが複数の画素30にわたって形成されている。ここで、層間絶縁膜47及びその上に形成される隔壁48は、行方向に隣接して配列される各画素30の発光領域間の間隙領域を形成している。
The
隔壁48は、絶縁材料、例えばポリイミド等の感光性樹脂を硬化してなり、層間絶縁膜47上に形成される。隔壁48は、図7に示すように列方向に沿った複数の画素の画素電極42をまとめて開口するようにストライプ状に形成されている。なお、隔壁48の平面形状は、これに限られず各画素電極42毎に開口部をもった格子状であってもよい。また、隔壁48の上面は、発光層45R,45G,45Bの中央の平坦部の上面より高くなるように形成される。
The
なお、隔壁48の表面、層間絶縁膜47の表面に撥液処理を施してもよい。ここで撥液とは、水系の溶媒、有機系溶媒のいずれをも弾く性質を示す。
Note that the surface of the
正孔注入層43は、画素電極42上に形成されている。正孔注入層43は発光層45に正孔を供給する機能を有する。正孔注入層43は正孔(ホール)注入・輸送が可能な有機高分子系の材料、例えばPEDOT:PSS(導電性ポリマーであるポリエチレンジオキシチオフェンとドーパントであるポリスチレンスルホン酸との混合物)から構成される。
The
インターレイヤ層44は、正孔注入層43上に形成されている。インターレイヤ層44は、電子をブロックして発光層45G内において電子と正孔とを再結合させやすくする機能を有し、発光層45Gの発光効率を高める。
The
発光層45Gは、正孔注入層43上に形成されている。発光層45G(及びR,B)は、アノード電極42とカソード電極46との間に電圧を印加することにより各画素の発光色の光を発生する機能を有する。発光層45Gは、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の高分子発光材料、例えばポリパラフェニレンビニレン系やポリフルオレン系等の共役二重結合ポリマーを含む発光材料から構成される。また、これらの発光材料は、適宜水系溶媒あるいはテトラリン、テトラメチルベンゼン、メシチレン、キシレン等の有機溶媒に溶解(又は分散)した溶液(分散液)を塗布し、溶媒を揮発させることによって形成する。
The
対向電極(カソード電極)46は、ボトムエミッション型の場合、発光層45G側に設けられ、導電材料、例えばLi、Mg、Ca、Ba等の仕事関数の低い材料からなる電子注入性の下層と、Al等の光反射性導電金属からなる上層を有する積層構造である。本実施形態では、対向電極46は複数の画素30に跨って形成される単一の電極層から構成され、例えば接地電位である基準電圧Vssが印加されている。なお、有機EL素子OELをトップエミッション型とする場合、対向電極46は、発光層45G側に設けられ、10nm程度の膜厚の極薄い例えばLi、Mg、Ca、Ba等の仕事関数の低い材料からなる低仕事関数層と、100nm〜200nm程度の膜厚のITO等の光透過性導電層を有する透明積層構造とする。
In the case of the bottom emission type, the counter electrode (cathode electrode) 46 is provided on the
対向電極46の上には、パッシベーション膜49が設けられる。パッシベーション膜49の上に接着層50が設けられる。そして、接着層50の上に封止基板51が設けられている。
A passivation film 49 is provided on the
次に、本実施形態に係る発光装置の製造方法を、図9(a)〜(c)及び図10(a)〜(c)を用いて説明する。なお、選択トランジスタTr11は駆動トランジスタTr12と同一工程によって形成されるので、選択トランジスタTr11の形成の説明を一部省略する。 Next, a method for manufacturing the light emitting device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 9 (a) to 9 (c) and FIGS. 10 (a) to 10 (c). Since the selection transistor Tr11 is formed in the same process as the driving transistor Tr12, a part of the description of the formation of the selection transistor Tr11 is omitted.
図9(a)に示すように、まず、ガラス基板等からなる基板31を用意する。次に、この基板31上に、スパッタ法、真空蒸着法等により例えば、Mo膜、Cr膜、Al膜、Cr/Al積層膜、AlTi合金膜又はAlNdTi合金膜、AlNi合金膜、MoNb合金膜等からなるゲート導電膜を形成し、これを図9(a)に示すように駆動トランジスタTr12のゲート電極Tr12gの形状にパターニングする。この際、図示はしていないが、選択トランジスタTr11のゲート電極Tr11g、及びデータラインLdも形成する。続いて、図9(b)に示すように、CVD(Chemical Vapor Deposition)法等によりゲート電極Tr12g及びデータラインLd上に絶縁膜32を形成する。
As shown in FIG. 9A, first, a
次に、絶縁膜32上に、CVD法等により、アモルファスシリコン等からなる半導体層を形成する。次に、半導体層上に、CVD法等により、例えばSiN等からなる絶縁膜を形成する。続いて、絶縁膜をフォトリソグラフィ等によりパターニングし、ストッパ膜115を形成する。更に、半導体層及びストッパ膜115上に、CVD法等により、n型不純物が含まれたアモルファスシリコン等からなる膜を形成し、この膜と半導体層とをフォトリソグラフィ等によりパターニングすることで、図9(b)に示すように、半導体層114とオーミックコンタクト層116,117とを形成する。
Next, a semiconductor layer made of amorphous silicon or the like is formed on the insulating
次に、スパッタ法、真空蒸着法等により絶縁膜32上に、ITO等の透明導電膜、或いは光反射性導電膜及びITO等の透明導電膜を被膜後、フォトリソグラフィによってパターニングして画素電極42を形成する。
Next, a transparent conductive film such as ITO or a light-reflective conductive film and a transparent conductive film such as ITO are coated on the insulating
続いて、絶縁膜32に貫通孔であるコンタクトホール61〜64を形成してから、例えば、Mo膜、Cr膜、Al膜、Cr/Al積層膜、AlTi合金膜又はAlNdTi合金膜、AlNi合金膜、MoNb合金膜等からなるソース−ドレイン導電膜をスパッタ法、真空蒸着法等により被膜して、フォトリソグラフィによってパターニングして図9(b)に示すようにドレイン電極Tr12d及びソース電極Tr12sを形成する。これと同時に、アノードラインLaを形成する。このとき、駆動トランジスタTr12のソース電極Tr12sはそれぞれ画素電極42の一部と重なるように形成される。
Subsequently, after forming contact holes 61 to 64 as through holes in the insulating
続いて、図9(c)に示すように、駆動トランジスタTr12等を覆うようにシリコン窒化膜からなる層間絶縁膜47をCVD法等により形成後、フォトリソグラフィにより、開口部47aを形成する。次に、感光性ポリイミドを、層間絶縁膜47を覆うように塗布し、隔壁48の形状に対応するマスクを介して露光、現像することによってパターニングし、図9(c)に示すように開口部48aを有する隔壁48を形成する。
Subsequently, as shown in FIG. 9C, an
次に、図10(a)に示すように、発光層45Gを形成する。ここでは、正孔注入層となるPEDOT:PSSの溶液をインク340として、前述の印刷装置300により開口部47aで囲まれた画素電極42上に選択的に印刷する。インク340は、PEDOT:PSSに粘度及び表面張力を調整するためのアルコール、非イオン系界面活性剤、エチレングリコール等を添加して、PEDOT:PSSインクとして調整する。続いて、基板31を大気雰囲気下で150℃〜250℃で5〜30分間乾燥を行う。これにより、有機化合物含有液の溶媒を揮発させて、正孔注入層43を形成する。有機化合物含有液は加熱雰囲気で塗布されてもよい。なお、フレキソ版である版胴320上の版の凸部321のパターンは、印刷される各層のパターンに応じて、フォトリソグラフィ法を用いて予め所定のパターンで形成される。また、正孔注入層用の印刷装置300では、版胴320上の版の凸部321の厚さが、層間絶縁膜47の厚さ及び隔壁48の厚さの和より十分高いので、版胴320上の版は画素電極42上にインク膜342のインク340を容易に突出することができる。
Next, as shown in FIG. 10A, a
次に、図10(b)に示すように、インターレイヤ層44を形成する。ここでは、インターレイヤ層44となる材料を含有する有機化合物含有液をインク340として、印刷装置300により開口部47aで囲まれた正孔注入層43上に印刷する。続いて、窒素またはアルゴン等の不活性雰囲気中の加熱乾燥、或いは真空中での加熱乾燥を行い、残留溶媒の除去を行ってインターレイヤ層44を形成する。有機化合物含有液は加熱雰囲気で塗布されてもよい。なお、正孔注入層43及びインターレイヤ層44は、本実施形態のように複数色の発光層45を備える場合であっても、共通した材料から形成することができる。また、インターレイヤ層用の印刷装置300では、版胴320上の版の凸部321の厚さが、層間絶縁膜47の厚さ及び隔壁48の厚さの和より十分高いので、版胴320上の版は正孔注入層43上にインク膜342のインク340を容易に突出することができる。
Next, as shown in FIG. 10B, an
次に、発光層45Gを形成する。ここでは、発光ポリマー材料(R、G、B)を含有する有機化合物含有液をインク340として、印刷装置300により開口部47aで囲まれたインターレイヤ層44上に印刷する。インク340は、ポリフルオレン系の高分子発光材料をトルエン、キシレン、メチシレン、テトラメチルベンゼン等の溶媒に溶解させ、所定の濃度に調整する。溶媒は前記の混合溶媒でもよい。続いて、露点−70℃以下の乾燥雰囲気又は真空中で80〜150℃、但し発光層のガラス転移温度以下で10〜30分間加熱し、膜中の溶媒を除去する。また、発光層用の印刷装置300では、版胴320上の版の凸部321の厚さが、層間絶縁膜47の厚さ及び隔壁48の厚さの和より十分高いので、版胴320上の版はインターレイヤ層44上にインク膜342のインク340を容易に突出することができる。
Next, the
次に、図10(c)に示すように、対向電極46を形成する。ここでは、乾燥雰囲気を保ったまま冷却後、発光層45Gまで形成した基板31に真空蒸着や電子ビーム蒸着法で、Li,Mg,LiF,Ca,Ba等、アルカリ金属、アルカリ土類金属、又はそれらの化合物を蒸着法で形成する。続いて、Al等の光反射性導電層を蒸着法又は電子ビーム蒸着法で形成する。これにより、2層構造の対向電極46が形成される。
Next, as shown in FIG. 10C, the
次に、図8に示したように、対向電極46上にSiNやSiON等を電子ビーム蒸着法、スパッタ法又はCVD法にて成層することにより、パッシベーション膜49を形成する。続いて、パッシベーション膜49上に紫外線硬化樹脂、又は熱硬化樹脂からなる接着層50を塗布し、ガラス又は金属キャップから形成された封止基板51を塗布面に貼り合わせる。続いて、紫外線又は熱によって接着層50を硬化させて、基板31と封止基板51とを接合する。以上により、発光装置10が製造される。
Next, as shown in FIG. 8, a passivation film 49 is formed on the
このような構成を採る発光装置10は、デジタルカメラ、パーソナルコンピュータ、携帯電話等の電子機器の表示部(ディスプレイ)として用いられる。具体的には、カメラ200は、例えば図11(a)及び(b)に示すように、レンズ部201と、操作部202と、表示部203と、ファインダー204と、を備える。この表示部203として、発光装置10が用いられる。同様に、図12に示すパーソナルコンピュータ210は表示部211と操作部212とを備え、発光装置10は、表示部211として用いられる。また、図13に示す携帯電話220は表示部221と操作部222と受話部223と送話部224とを備え、発光装置10は表示部221として用いられる。また、図14に示す大画面テレビ230は、表示部231を備え、この表示部231に発光装置10が用いられる。
The
以上説明したように、本実施形態では、フレキソ印刷において、基板31上の表示部(画素30)に対応する部分にのみインクジェット法でアニロックスロール310の表面にインクを形成する。これにより、フレキソ印刷に用いるインクの使用量を低減させることができる。即ち、高価な有機EL材料の使用効率を向上させるとともに、発光装置の製造コストを低減させることができる。
As described above, in the present embodiment, in flexographic printing, ink is formed on the surface of the
なお、この発明は上述した実施形態、具体例に限定されず、種々の変形及び応用が可能である。 In addition, this invention is not limited to embodiment mentioned above and a specific example, A various deformation | transformation and application are possible.
例えば、上述した実施形態では、発光装置10がカラー表示を行うものであって、3色の発光素子を備える構成を例に挙げて説明したが、これに限られず2色又は4色以上であってもよい。また、発光装置10が単色表示を行うものである場合、1色の発光素子のみを備える。
For example, in the above-described embodiment, the
また、上述した実施形態では、発光機能層は正孔注入層43、インターレイヤ層44及び発光層45(R,G,B)を備える構成を例に挙げているが、これに限られない。例えば、正孔注入層43と発光層45とから発光機能層を構成してもよく、発光層45のみを発光機能層としてもよい。
In the above-described embodiment, the light emitting functional layer has a configuration including the
また、上述した実施形態では、画素回路DSは2つのトランジスタを備える構成を例に挙げているが、3つ以上のトランジスタを備えるものであってもよい。 In the above-described embodiment, the pixel circuit DS has a configuration including two transistors as an example. However, the pixel circuit DS may include three or more transistors.
また、上述した実施形態では、ボトムエミッション型の有機EL素子を中心に説明したが、これに限られず有機EL素子OELにより発生した光を、対向電極を介して外部に出射するトップエミッション型の有機EL素子に用いることも可能である。 In the above-described embodiment, the description is centered on the bottom emission type organic EL element. However, the present invention is not limited to this, and the top emission type organic EL element that emits light generated by the organic EL element OEL to the outside through the counter electrode is used. It can also be used for EL elements.
また、上述した実施形態では、発光装置を表示装置として利用する構成を例に挙げて説明しているが、プリンタの感光ドラムに光を照射するプリンタヘッド等の露光装置としても利用することができる。 In the above-described embodiment, the configuration in which the light emitting device is used as a display device has been described as an example. However, it can also be used as an exposure device such as a printer head that irradiates light to a photosensitive drum of a printer. .
また、上述した実施形態ではヘッド303が図のX軸方向に走査するいわゆるシリアルヘッド方式として説明している。シリアルヘッド方式では、例えば図15(a)に示すガイドレール307に沿ってヘッド303が走査する。これ以外に、例えば複数の吐出口(ノズル)を備えるいわゆるラインヘッド方式のヘッドを使用することとしてもよい。この場合、ヘッドは1本でもよいが、図15(b)に示すように例えば3本のヘッド308a,308b,308cをZ軸方向から見て千鳥状に配置することとしてもよい。これにより、ヘッド駆動部305のうちヘッド303を走査するための構成を省略又は簡略化することができる。また、ラインヘッド方式を採用することにより、広い範囲に一度に印刷されるため工程を短縮することができ好ましい。なお、この場合、各ノズルの吐出量のバラツキに基づいて、各ノズルが有するピエゾ素子についての動作波形を予め設定して記憶部302に記憶させておくことにより、各ノズルからの吐出量を一定とすることが望ましい。
Further, in the above-described embodiment, the
また、上述した実施形態では中間転写体として回転式のアニロックスロール310として説明しているが、板状のアニロックス板であるように構成してもよい。
In the embodiment described above, the
10・・・発光装置、30,30R,30G,30B・・・画素、31・・・基板、32・・・絶縁膜、42・・・画素電極(アノード電極)、43・・・正孔注入層、44・・・インターレイヤ層、45R,45G,45B・・・発光層、46・・・対向電極(カソード電極)、47・・・層間絶縁膜、48・・・隔壁、49・・・パッシベーション膜、50・・・接着層、51・・・封止基板、114・・・半導体層、115・・・ストッパ膜、116,117・・・オーミックコンタクト層、300…印刷装置、301…制御部、302…記憶部、303,308a〜c…ヘッド、304…インク収容部、305…ヘッド駆動部、307…ガイドレール、310…アニロックスロール、311…セル、312,322…駆動部、313,323…角度検出部、320…版胴、321…版の凸部、330…印刷ステージ、340…インク、341〜343…インク膜、Tr11d,Tr12d・・・ドレイン電極、Tr11g,Tr12g・・・ゲート電極、Tr11s,Tr12s・・・ソース電極、La・・・アノードライン、Ls・・・走査ライン、Ld・・・データライン、Tr11・・・選択トランジスタ、Tr12・・・駆動トランジスタ
DESCRIPTION OF
Claims (9)
前記基板上に前記発光素子の有機層を形成するインクを印刷するためのフレキソ版を備える回転式の版胴と、
前記フレキソ版に当接して前記インクを転写する中間転写体と、
前記中間転写体に前記インクを供給するヘッド部と、
前記基板の印刷パターンに対応する前記中間転写体の表面におけるインク供給パターンを記憶する記憶部と、
前記中間転写体の前記インク供給パターンの領域内に前記ヘッド部から前記インクを供給する制御部と、を備える、
ことを特徴とする発光装置の製造装置。 A light-emitting device manufacturing apparatus comprising a plurality of light-emitting elements arranged on a substrate,
A rotary plate cylinder provided with a flexographic plate for printing an ink for forming an organic layer of the light emitting element on the substrate;
An intermediate transfer member that contacts the flexographic plate and transfers the ink;
A head portion for supplying the ink to the intermediate transfer member;
A storage unit for storing an ink supply pattern on the surface of the intermediate transfer member corresponding to the printed pattern of the substrate;
A control unit that supplies the ink from the head unit in the region of the ink supply pattern of the intermediate transfer member,
An apparatus for manufacturing a light-emitting device.
ことを特徴とする請求項1に記載の発光装置の製造装置。 A head driving unit that moves the head unit to a position facing the ink supply pattern;
The apparatus for manufacturing a light emitting device according to claim 1.
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の発光装置の製造装置。 The head portion discharges the ink to the intermediate transfer member by an ink jet method.
The light-emitting device manufacturing apparatus according to claim 1 or 2.
前記複数のノズルは、前記インクを液滴としてインクジェット方式で吐出するピエゾ素子をそれぞれ備え、
前記記憶部は、各前記ピエゾ素子の動作波形を記憶し、
前記制御部は、前記動作波形に基づいて各前記ピエゾ素子からの前記インクの吐出量が均一となるよう制御する、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の発光装置の製造装置。 The head unit includes a plurality of nozzles fixed at positions where the ink is ejected,
Each of the plurality of nozzles includes a piezo element that discharges the ink as a droplet by an inkjet method,
The storage unit stores operation waveforms of the piezo elements,
The control unit controls the ejection amount of the ink from each of the piezoelectric elements to be uniform based on the operation waveform;
The light emitting device manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the light emitting device manufacturing apparatus is a light emitting device.
前記インクは、有機エレクトロルミネッセンス素子の有機層となる材料を含む、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の発光装置の製造装置。 The light emitting element is an organic electroluminescence element,
The ink includes a material that becomes an organic layer of an organic electroluminescence element.
The light emitting device manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the light emitting device manufacturing apparatus is a light emitting device.
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の発光装置の製造装置。 The intermediate transfer member is a rotating anilox roll,
The light emitting device manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the light emitting device manufacturing apparatus is a light emitting device.
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の発光装置の製造装置。 The intermediate transfer member is a plate-shaped anilox plate,
The light emitting device manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the light emitting device manufacturing apparatus is a light emitting device.
ことを特徴とする発光装置の製造方法。 One or a plurality of organic layers are formed on the substrate using the light emitting device manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 7.
A method for manufacturing a light-emitting device.
前記中間転写体から前記版胴の前記フレキソ版に前記インクを転写する工程と、
前記版胴から基板上に前記インクを印刷する工程と、を備える、
ことを特徴とする発光装置の製造方法。 A step of selectively supplying ink containing an organic layer material of a light emitting element to a region of the surface of the intermediate transfer member that is in contact with the flexographic plate of the plate cylinder by an inkjet method;
Transferring the ink from the intermediate transfer member to the flexographic plate of the plate cylinder;
Printing the ink on the substrate from the plate cylinder,
A method for manufacturing a light-emitting device.
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