JP5515488B2 - LIGHT EMITTING DEVICE, LIGHT EMITTING DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE - Google Patents

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JP5515488B2 JP2009177042A JP2009177042A JP5515488B2 JP 5515488 B2 JP5515488 B2 JP 5515488B2 JP 2009177042 A JP2009177042 A JP 2009177042A JP 2009177042 A JP2009177042 A JP 2009177042A JP 5515488 B2 JP5515488 B2 JP 5515488B2
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  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Description

本発明は、有機EL(electroluminescence)素子を用いた発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器に関する。   The present invention relates to a light emitting device using an organic EL (electroluminescence) element, a method for manufacturing the light emitting device, and an electronic apparatus.

近年、液晶表示装置(LCD)に続く次世代の表示デバイスとして、有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、「有機EL素子」と略記する)等の自発光素子を2次元配列した発光素子型の表示パネルを備えた発光装置の研究開発が行われている。   In recent years, as a next-generation display device following a liquid crystal display (LCD), a light-emitting element type display panel in which self-light-emitting elements such as organic electroluminescence elements (hereinafter abbreviated as “organic EL elements”) are two-dimensionally arranged. Research and development of the light-emitting device provided is underway.

有機EL素子は、アノード電極と、カソード電極と、これらの一対の電極間に形成され、例えば発光層、正孔注入層、等を有する有機EL層(発光機能層)と、を備える。有機EL素子では、発光層において正孔と電子とが再結合することによって発生するエネルギーによって発光する。   The organic EL element includes an anode electrode, a cathode electrode, and an organic EL layer (light emitting functional layer) formed between the pair of electrodes and having, for example, a light emitting layer, a hole injection layer, and the like. In the organic EL element, light is emitted by energy generated by recombination of holes and electrons in the light emitting layer.

このような有機EL素子の発光層、正孔注入層等は、例えば、特許文献1に開示されているように、隔壁によって仕切られた空間に、溶液を塗布し、溶媒を乾燥させることによって形成される。溶液の塗布は、例えばノズルプリンティング方式、インクジェットプリント方式等によって行われる。   The light emitting layer, the hole injection layer, and the like of such an organic EL element are formed by applying a solution to a space partitioned by a partition and drying the solvent, as disclosed in Patent Document 1, for example. Is done. The application of the solution is performed by, for example, a nozzle printing method, an ink jet printing method, or the like.

特開2005−123083号公報JP 2005-123083 A

ところで、有機EL素子では、有機EL層の膜厚が不均一であると、発光が不均一となるという問題がある。このため、発光機能層の膜厚を良好に制御し、良好な均一性を有する膜とすることが求められている。   By the way, in an organic EL element, when the film thickness of an organic EL layer is non-uniform | heterogenous, there exists a problem that light emission becomes non-uniform | heterogenous. For this reason, it is required to control the film thickness of the light-emitting functional layer well to obtain a film having good uniformity.

本発明は上述した実情に鑑みてなされたものであって、膜厚が良好な均一性を有する発光機能層を備える発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and an object of the present invention is to provide a light-emitting device including a light-emitting functional layer having a uniform film thickness, a method for manufacturing the light-emitting device, and an electronic apparatus.

上記目的を達成するため、本発明の第1の観点に係る発光装置は、
複数の行及び複数の列に沿って配列された複数の発光素子を備え、
前記各発光素子は、所定の発光色で発光する発光層を含む発光機能層を有し、
行方向に一定の順序で配列されたn(nは偶数個の前記発光素子を有する複数の組が、行方向に一定の順序で互いに隣接して配列されており、
行方向に隣接して配列された前記各発光素子間に設けられた間隙領域を有し、
前記各発光素子の前記発光機能層は、前記発光層の形成領域と行方向に沿った両側の前記間隙領域の一部とに跨って形成されており、
該各組は、n/2個の前記発光素子を含む第1発光素子群とn/2個の前記発光素子を含む第2発光素子群のみを有し、
前記第1発光素子群の前記各発光素子と前記第2発光素子群の前記各発光素子とは、1個の前記発光素子毎に、行方向に沿って交互に配列され、
前記第1発光素子群の前記各発光素子の前記発光機能層該各発光素子の行方向に沿った両側に隣接して配列された前記第2発光素子群の2個の前記発光素子の各々との間の前記間隙領域において、該第2発光素子群の前記2個の発光素子の前記発光機能層の一部にわれ、
前記第2発光素子群の前記各発光素子の前記発光機能層は、該各発光素子の行方向に沿った両側に隣接して配列された前記第1発光素子群の2個の前記発光素子の各々との間の前記間隙領域において、該第1発光素子群の前記2個の発光素子の前記発光機能層の一部を覆っていることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a light-emitting device according to the first aspect of the present invention includes:
Comprising a plurality of light emitting elements arranged along a plurality of rows and a plurality of columns;
Each of the light emitting elements has a light emitting functional layer including a light emitting layer that emits light in a predetermined emission color,
A plurality of sets having n (n is an even number ) light emitting elements arranged in a fixed order in the row direction are arranged adjacent to each other in a fixed order in the row direction;
A gap region provided between the light emitting elements arranged adjacent to each other in the row direction;
The light emitting functional layer of each light emitting element is formed across the formation region of the light emitting layer and a part of the gap region on both sides along the row direction ,
Each set includes only a first light emitting element group including n / 2 light emitting elements and a second light emitting element group including n / 2 light emitting elements.
The light emitting elements of the first light emitting element group and the light emitting elements of the second light emitting element group are alternately arranged along the row direction for each of the light emitting elements.
The light emitting functional layer of each light emitting element of the first light emitting element group includes two light emitting elements of the second light emitting element group arranged adjacent to both sides along the row direction of each light emitting element. in the gap region between each, we covered on a part of the light-emitting functional layer of the two light emitting elements of the second light emitting element group,
The light emitting functional layer of each light emitting element of the second light emitting element group includes two light emitting elements of the first light emitting element group arranged adjacent to both sides along the row direction of each light emitting element. A part of the light emitting functional layer of the two light emitting elements of the first light emitting element group is covered in the gap region between each of them.

前記各組の前記n個の発光素子は、
第1の発光色の第1の発光層を有する第1の発光素子と、
前記第1の発光色と異なる第2の発光色の第2の発光層を有する第2の発光素子と、
前記第1及び前記第2の発光色と異なる第3の発光色の第3の発光層を有する第3の発光素子と、を有し、
前記第1の発光素子、前記第2の発光素子及び前記第3の発光素子のいずれか1つの特定の発光素子と同じ色の発光色の第4の発光層を有する第4の発光素子と、備えていてもよい。
The n light emitting elements in each set are
A first light-emitting element having a first light-emitting layer of a first emission color;
A second light emitting element having a second light emitting layer of a second light emitting color different from the first light emitting color;
A third light-emitting element having a third light-emitting layer having a third light-emitting color different from the first and second light-emitting colors,
The first light-emitting element, and the fourth light-emitting element having a fourth light-emitting layer of the light emitting color of the same color and the second light-emitting element and the third light-emitting element Neu Zureka one particular light emitting element , May be provided .

記特定の発光素子と前記第4の発光素子は、前記第1発光素子群と前記第2発光素子群の一方をなしていてもよい。 Before the fourth light emitting element and the light-emitting element of Kitoku constant is, or can be a one of the second light emitting element group and the first light emitting element group.

前記各組の前記個の発光素子は
第1の発光色の第1の発光層を有する第1の発光素子と、
前記第1の発光色と異なる第2の発光色の第2の発光層を有する第2の発光素子と、
前記第1及び前記第2の発光色と異なる第3の発光色の第3の発光層を有する第3の発光素子と、
前記第1乃至前記第3の発光色と異なる第4の発光色の第4の発光層を有する第4の発光素子と、を備えてもよい。
The n light emitting element of said each set,
A first light-emitting element having a first light-emitting layer of a first emission color;
A second light emitting element having a second light emitting layer of a second light emitting color different from the first light emitting color;
A third light emitting element having a third light emitting layer of a third light emitting color different from the first and second light emitting colors;
A fourth light emitting element having a fourth light emitting layer having a fourth light emitting color different from the first to third light emitting colors.

上記目的を達成するため、本発明の第2の観点に係る発光装置の製造方法は、
複数の行及び複数の列に沿って所定の発光色で発光する複数の発光素子が配列された発光装置の製造方法であって、
前記発光装置は、行方向に隣接して配列された前記各発光素子間に設けられた間隙領域を有し、
行方向に一定の順序で配列されたn(nは偶数)個の前記発光素子を有する複数の組を、行方向に一定の順序で互いに隣接して配列するように形成し、該各組として、n/2個の前記発光素子を含む第1発光素子群とn/2個の前記発光素子を含む第2発光素子群のみを形成し、前記第1発光素子群の前記各発光素子と前記第2発光素子群の前記各発光素子とを、1個の前記発光素子毎に、行方向に沿って交互に配列して形成する発光素子形成工程を備え、
前記発光素子形成工程は、
個の前記発光素子毎に行方向に沿って交互に配列される前記第1発光素子群の前記各発光素子の所定の発光色で発光する発光層の形成領域に、溶液を列方向に塗布して、前記発光層を含む発光機能層を1列おきに形成する第1の工程と、
前記第1の工程の後、前記第1の工程で前記溶液が塗布されなかった列に配列される前記第2発光素子群の前記各発光素子の前記発光層の形成領域に、前記溶液を列方向に塗布して、前記発光機能層を形成する第2の工程と、を含み、
前記第1の工程及び前記第2の工程で形成される前記発光機能層は、前記発光層の形成領域と行方向に沿った両側の前記間隙領域の一部とに跨って形成され、
前記第1の工程により形成される前記第1発光素子群の前記各発光素子の前記発光機能層は、該各発光素子の行方向に沿って両側に隣接して配列された前記第2発光素子群の2個の前記発光素子の各々との間の前記間隙領域において、該第2発光素子群の前記2個の発光素子の前記発光機能層の一部に覆われるように形成され、
前記第2の工程により形成される前記第2発光素子群の前記各発光素子の前記発光機能層は、該各発光素子の行方向に沿った両側に隣接して配列された前記第1発光素子群の2個の前記発光素子の各々との間の前記間隙領域において、該第1発光素子群の前記2個の発光素子の前記発光機能層の一部を覆うように形成されることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a method for manufacturing a light emitting device according to the second aspect of the present invention includes:
A method of manufacturing a light-emitting device in which a plurality of light-emitting elements that emit light of a predetermined emission color along a plurality of rows and a plurality of columns are arranged,
The light emitting device has a gap region provided between the light emitting elements arranged adjacent to each other in a row direction,
A plurality of sets having n (n is an even number) light emitting elements arranged in a fixed order in the row direction are formed so as to be adjacent to each other in a fixed order in the row direction, , Forming only a first light emitting element group including n / 2 light emitting elements and a second light emitting element group including n / 2 light emitting elements, and each of the light emitting elements of the first light emitting element group A light emitting element forming step of forming each light emitting element of the second light emitting element group alternately arranged along the row direction for each one of the light emitting elements;
The light emitting element forming step includes:
A solution is applied in a column direction to a formation region of a light emitting layer that emits light of a predetermined light emission color of each light emitting element of the first light emitting element group that is alternately arranged along the row direction for each of the light emitting elements. And forming a light emitting functional layer including the light emitting layer every other row,
After the first step, the solution is arranged in the formation region of the light emitting layer of each light emitting element of the second light emitting element group arranged in the row where the solution is not applied in the first step. A second step of applying in the direction to form the light emitting functional layer,
The light emitting functional layer formed in the first step and the second step is formed across the formation region of the light emitting layer and a part of the gap region on both sides along the row direction,
The second light emitting element in which the light emitting functional layer of each light emitting element of the first light emitting element group formed by the first step is arranged adjacent to both sides along the row direction of each light emitting element. Formed in the gap region between each of the two light emitting elements of the group so as to be covered by a part of the light emitting functional layer of the two light emitting elements of the second light emitting element group;
The first light emitting element in which the light emitting functional layer of each light emitting element of the second light emitting element group formed by the second step is arranged adjacent to both sides along the row direction of each light emitting element. The gap region between each of the two light emitting elements of the group is formed so as to cover a part of the light emitting functional layer of the two light emitting elements of the first light emitting element group. And

前記発光素子形成工程は、前記各組の前記n個の発光素子として、第1の発光色の第1の発光層を有する第1の発光素子と、前記第1の発光色と異なる第2の発光色の第2の発光層を有する第2の発光素子と、前記第1及び前記第2の発光色と異なる第3の発光色の第3の発光層を有する第3の発光素子と、を形成するとともに、前記第1の発光素子、前記第2の発光素子及び前記第3の発光素子のいずれか1つの特定の発光素子と同じ色の発光色の第4の発光層を有する第4の発光素子と、を形成してもよい。 The light emitting element forming step includes a first light emitting element having a first light emitting layer of a first light emitting color as the n light emitting elements of each set, and a second light emitting color different from the first light emitting color. A second light emitting element having a second light emitting layer having a light emitting color, and a third light emitting element having a third light emitting layer having a third light emitting color different from the first and second light emitting colors. and forming a fourth with the first light emitting element, the second light-emitting element and the third light-emitting element Neu Zureka one fourth emission color of the same color as the particular light-emitting elements of the light emitting layer a light emitting element, may form the shape of.

前記発光素子形成工程は、前記特定の発光素子と前記第4の発光素子を、前記第1発光素子群と前記第2発光素子群の一方として形成してもよい。 The light emitting device forming step, before the Kitoku constant of the light emitting device said fourth light-emitting element may be formed as one of the second light emitting element group and the first light emitting element group.

前記発光素子形成工程は、前記一組の発光素子として、第1の発光色の第1の発光層を有する第1の発光素子と、前記第1の発光色と異なる第2の発光色の第2の発光層を有する第2の発光素子と、前記第1及び前記第2の発光色と異なる第3の発光色の第3の発光層を有する第3の発光素子と、前記第1乃至前記第3の発光色と異なる第4の発光色の第4の発光層を有する第4の発光素子と、を形成してもよい。   The light emitting element forming step includes a first light emitting element having a first light emitting layer of a first light emitting color as the set of light emitting elements, and a second light emitting color different from the first light emitting color. A second light-emitting element having two light-emitting layers; a third light-emitting element having a third light-emitting layer having a third light-emitting color different from the first and second light-emitting colors; A fourth light emitting element having a fourth light emitting layer having a fourth light emitting color different from the third light emitting color may be formed.

上記目的を達成するため、本発明の第3の観点に係る電子機器は、
上記第1の観点に係る発光装置を備えることを特徴とする。
In order to achieve the above object, an electronic device according to a third aspect of the present invention provides:
The light-emitting device according to the first aspect is provided.

本発明によれば、偶数個からなる画素組とした上で、一列おきに発光機能層を形成することにより膜厚が良好な均一性を有する発光機能層を備える発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器を提供することができる。   According to the present invention, a light-emitting device including a light-emitting functional layer having a uniform thickness by forming a light-emitting functional layer in every other row after forming an even pixel group, and a method for manufacturing the light-emitting device In addition, an electronic device can be provided.

第1実施形態に係る発光装置の構成例を示す平面図である。It is a top view which shows the structural example of the light-emitting device which concerns on 1st Embodiment. (a)及び(b)は、発光装置が用いられる電子機器を示す図である。(A) And (b) is a figure which shows the electronic device with which a light-emitting device is used. 発光装置が用いられる電子機器を示す図である。It is a figure which shows the electronic device with which a light-emitting device is used. 発光装置が用いられる電子機器を示す図である。It is a figure which shows the electronic device with which a light-emitting device is used. 図1に示す発光装置の断面構成を示す図である。It is a figure which shows the cross-sectional structure of the light-emitting device shown in FIG. 画素の駆動回路の一例の等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram of an example of the drive circuit of a pixel. 画素の平面図である。It is a top view of a pixel. 図7に示すVIII−VIII線断面図である。It is the VIII-VIII sectional view taken on the line shown in FIG. 発光装置の製造方法を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing method of a light-emitting device. 発光装置の製造方法を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing method of a light-emitting device. 発光装置の製造方法を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing method of a light-emitting device. 発光装置の製造方法を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing method of a light-emitting device. 発光装置の製造方法を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing method of a light-emitting device. ノズルプリンティング方式を説明するためのノズルプリンティング装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the nozzle printing apparatus for demonstrating a nozzle printing system. ノズルプリンティング方式を説明するためのノズルプリンティング装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the nozzle printing apparatus for demonstrating a nozzle printing system. 第1実施形態の各発光層の膜厚を示す図である。It is a figure which shows the film thickness of each light emitting layer of 1st Embodiment. 比較例の各発光層の膜厚を示す図である。It is a figure which shows the film thickness of each light emitting layer of a comparative example. 第2実施形態に係る発光装置の構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of the light-emitting device which concerns on 2nd Embodiment. 図13に示す発光装置の断面構成を示す図である。It is a figure which shows the cross-sectional structure of the light-emitting device shown in FIG. 発光装置の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of a light-emitting device.

本発明の実施形態に係る発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器について図を用いて説明する。本実施形態では、有機EL(electroluminescence)素子により発生した光を有機EL素子が形成された基板を介して外部に出射するボトムエミッション型の有機EL素子を用いたアクティブ駆動方式の発光装置を例に挙げて説明する。また、本実施形態の発光装置は表示装置としても用いられる。   A light-emitting device, a method for manufacturing a light-emitting device, and an electronic device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the present embodiment, an active drive type light emitting device using a bottom emission type organic EL element that emits light generated by an organic EL (electroluminescence) element to the outside through a substrate on which the organic EL element is formed is taken as an example. I will give you a description. Further, the light emitting device of this embodiment is also used as a display device.

(第1実施形態)
図1は第1実施形態に係る発光装置の構成例を示す平面図である。図2乃至図4は、発光装置が用いられる電子機器を示す図である。図5は、図1に示す発光装置10の断面構成を示す図である。また、図6は画素30の駆動回路の一例の等価回路図である。図7は、画素30Gの平面図であり、図8は図7に示すVIII−VIII線断面図である。
(First embodiment)
FIG. 1 is a plan view showing a configuration example of a light emitting device according to the first embodiment. 2 to 4 illustrate electronic devices in which the light-emitting device is used. FIG. 5 is a diagram illustrating a cross-sectional configuration of the light emitting device 10 illustrated in FIG. 1. FIG. 6 is an equivalent circuit diagram of an example of a drive circuit for the pixel 30. 7 is a plan view of the pixel 30G, and FIG. 8 is a cross-sectional view taken along the line VIII-VIII shown in FIG.

発光装置10では、基板31上に、図1に示すようにそれぞれ赤色(R)、青色(B)、緑色(G)、の3色の何れかの発光色で発光する発光素子を有する4つの画素30(30G1、30R、30B、30G2)を一組として、この組が行方向(図1の左右方向)に繰り返し複数個、例えばm個配列されている。列方向(図1の上下方向)には、同一の発光色の発光素子を有する画素が複数個、例えばn個配列されている。換言すれば、画素自体は行方向に4m個配列されており、RGBの各色を発光する画素はマトリクス状に、4m×n個配列される。また、本実施形態では、画素30G1と画素30G2との2つの画素は同じ緑色の発光色の光を発光する。このため、本実施形態では、赤色の画素30R、青色の画素30B、緑色の画素30G1及び画素30G2とで、所望の色を表現する。   In the light-emitting device 10, four light-emitting elements that emit light in any one of three colors of red (R), blue (B), and green (G) are provided on the substrate 31 as illustrated in FIG. 1. A set of pixels 30 (30G1, 30R, 30B, 30G2) is set, and a plurality of, for example, m pieces are arranged in the row direction (left-right direction in FIG. 1). In the column direction (vertical direction in FIG. 1), a plurality of, for example, n pixels having light emitting elements of the same light emission color are arranged. In other words, 4m pixels are arranged in the row direction, and 4m × n pixels emitting each color of RGB are arranged in a matrix. In the present embodiment, the two pixels, the pixel 30G1 and the pixel 30G2, emit light of the same green emission color. Therefore, in the present embodiment, a desired color is expressed by the red pixel 30R, the blue pixel 30B, the green pixel 30G1, and the pixel 30G2.

なお、発光装置10では、偶数個の発光素子を一組として、画像を構成する要素として固定して用いる構成に限らず、1つの画素を複数の論理画素間で共有する構成を採ることも可能である。例えば、1つの画素は、6種類の論理画素を構成するのに用いられる。具体的には、1つの画素は、6種類の論理画素の中心の1つの論理画素として用いられ、当該画素の周辺にある画素は上記中心となる論理画素を囲む5種類の論理画素の一部として用いられ、このような処理を各画素に対して行う。この結果、1つの画像を形成するために1つの画素が複数回用いられることになる。このように1つの発光素子を複数回用いることにより、一組の画素を、画像を構成する要素として固定して発光させる構成以上に、解像度を高めることができる。   The light-emitting device 10 is not limited to a configuration in which an even number of light-emitting elements are used as a set and fixed as an element constituting an image, and a configuration in which one pixel is shared among a plurality of logical pixels is also possible. It is. For example, one pixel is used to configure six types of logic pixels. Specifically, one pixel is used as one logical pixel at the center of six types of logical pixels, and pixels around the pixel are a part of the five types of logical pixels surrounding the central logical pixel. And performing such processing on each pixel. As a result, one pixel is used a plurality of times to form one image. As described above, by using one light emitting element a plurality of times, the resolution can be increased more than a configuration in which a set of pixels is fixed and emitted as an element constituting an image.

基板31上には、行方向に配列され、図6に示す複数の画素回路DSに接続されたアノードラインLaと、行方向に配列された複数の画素回路DSにそれぞれ接続された複数のデータラインLdと、行方向に配列された複数の画素回路DSのトランジスタTr11を選択する走査ラインLsと、が形成されている。   On the substrate 31, an anode line La arranged in the row direction and connected to the plurality of pixel circuits DS shown in FIG. 6, and a plurality of data lines respectively connected to the plurality of pixel circuits DS arranged in the row direction. Ld and a scanning line Ls for selecting the transistors Tr11 of the plurality of pixel circuits DS arranged in the row direction are formed.

このような構成を採る発光装置10は、デジタルカメラ、パーソナルコンピュータ、携帯電話等の電子機器の表示部(ディスプレイ)として用いられる。具体的には、カメラ200は、例えば図2(a)及び(b)に示すように、レンズ部201と、操作部202と、表示部203と、ファインダー204と、を備える。この表示部203として、発光装置10が用いられる。同様に、パーソナルコンピュータ210は図3に示すように、表示部211と操作部212とを備え、発光装置10は、表示部211として用いられる。更に、携帯電話220は表示部221と操作部222と受話部223と送話部224とを備え、発光装置10は表示部221として用いられる。   The light emitting device 10 having such a configuration is used as a display unit (display) of an electronic device such as a digital camera, a personal computer, or a mobile phone. Specifically, the camera 200 includes a lens unit 201, an operation unit 202, a display unit 203, and a viewfinder 204, for example, as shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b). The light emitting device 10 is used as the display unit 203. Similarly, as shown in FIG. 3, the personal computer 210 includes a display unit 211 and an operation unit 212, and the light emitting device 10 is used as the display unit 211. Further, the mobile phone 220 includes a display unit 221, an operation unit 222, a reception unit 223, and a transmission unit 224, and the light emitting device 10 is used as the display unit 221.

次に、図1に示す発光装置10の断面構成を図5に示す。図5では、説明の便宜のため、基板31、画素電極42、隔壁48、それぞれ緑色(G)、赤色(R)、青色(B)、緑色(G)の発光色を有する3色の発光層45G1,45R,45B,45G2(以下、発光層45R,45G,45Bを総称して発光層45とも記す)のみを図示し、その他の構成要素については図示を省略している。各発光層45G1,45R,45B,45G2は、それぞれ画素30G1,30R,30B,30G2の各々の発光素子を形成するものである。詳細に後述するように、本実施形態では、緑色の画素を、画素30G1と、画素30G2との、2つに分割する。画素30G1,G2の発光領域は、いずれも、赤色の画素30R及び青色の画素30Bの発光領域より狭い面積である。また、緑色の発光層45G1,45G2を形成した上で、赤色の発光層45R、青色の発光層45Bを形成する。このため、赤色の発光層45Rの、緑色の発光層45G1に接する部分と、45G2とに接する部分とは、それぞれ緑色の発光層45G1と45G2との隔壁48に乗り上げた部分の一部を覆うように、その上に乗り上げて形成される。青色の発光層45Bについても同様であり、青色の発光層45Bの緑色の発光層45G1と45G2とに接する部分は、それぞれ緑色の発光層45G1と45G2との隔壁48に乗り上げた部分の一部を覆うように、その上に乗り上げて形成される。   Next, FIG. 5 shows a cross-sectional configuration of the light-emitting device 10 shown in FIG. In FIG. 5, for convenience of explanation, the substrate 31, the pixel electrode 42, the partition wall 48, and three color light emitting layers having green (G), red (R), blue (B), and green (G) emission colors, respectively. Only 45G1, 45R, 45B, and 45G2 (hereinafter, the light emitting layers 45R, 45G, and 45B are collectively referred to as the light emitting layer 45) are illustrated, and the other components are not illustrated. The light emitting layers 45G1, 45R, 45B, and 45G2 form the light emitting elements of the pixels 30G1, 30R, 30B, and 30G2, respectively. As will be described in detail later, in the present embodiment, the green pixel is divided into two, a pixel 30G1 and a pixel 30G2. The light emitting areas of the pixels 30G1 and G2 are both narrower than the light emitting areas of the red pixel 30R and the blue pixel 30B. Further, after forming the green light emitting layers 45G1 and 45G2, the red light emitting layer 45R and the blue light emitting layer 45B are formed. For this reason, the portion of the red light emitting layer 45R that is in contact with the green light emitting layer 45G1 and the portion that is in contact with 45G2 cover a part of the portion of the green light emitting layers 45G1 and 45G2 that rides on the partition wall 48, respectively. It is formed by riding on it. The same applies to the blue light-emitting layer 45B, and the portions of the blue light-emitting layer 45B that are in contact with the green light-emitting layers 45G1 and 45G2 are part of the portions that ride on the partition walls 48 of the green light-emitting layers 45G1 and 45G2, respectively. It is formed on it so as to cover it.

次に、発光装置10を構成する画素30について、図6乃至8を用いて説明する。なお、本実施形態では、画素30G1、画素30G2と、緑の画素を2つに分割するため、画素30G1,G2の発光領域は、いずれも、赤の画素30R及び青の画素30Bの発光領域より狭い面積である点を除けば、画素30R,30B,30G1,30G2の構成はいずれも同じであるため、以下、赤の画素30Rを例に挙げて説明する。   Next, the pixels 30 constituting the light emitting device 10 will be described with reference to FIGS. In the present embodiment, since the pixel 30G1, the pixel 30G2, and the green pixel are divided into two, the light emitting areas of the pixels 30G1 and G2 are both from the light emitting areas of the red pixel 30R and the blue pixel 30B. Except for the small area, the configuration of the pixels 30R, 30B, 30G1, and 30G2 is the same, and therefore, the red pixel 30R will be described below as an example.

画素30は画素回路DSを有して構成されている。画素回路DSは、図6に示すように、選択トランジスタTr11、駆動トランジスタTr12、キャパシタCs、有機EL素子(発光素子)OEL、を備える。   The pixel 30 has a pixel circuit DS. As shown in FIG. 6, the pixel circuit DS includes a selection transistor Tr11, a drive transistor Tr12, a capacitor Cs, and an organic EL element (light emitting element) OEL.

図6に示すように選択トランジスタTr11は、ゲート端子が走査ラインLsに、ドレイン端子がデータラインLdに、ソース端子が接点N11にそれぞれ接続されている。また、駆動トランジスタTr12は、ゲート端子が接点N11に接続されており、ドレイン端子がアノードラインLaに、ソース端子が接点N12にそれぞれ接続されている。キャパシタCsは、駆動トランジスタTr12のゲート端子及びソース端子に接続されている。なお、キャパシタCsは、駆動トランジスタTr12のゲート−ソース間に付加的に設けられた補助容量、もしくは駆動トランジスタTr12のゲート−ソース間の寄生容量と補助容量からなる容量成分である。また、有機EL素子OELは、アノード端子(画素電極42)が接点N12に接続され、カソード端子(対向電極46)には基準電圧Vssが印加されている。   As shown in FIG. 6, the selection transistor Tr11 has a gate terminal connected to the scanning line Ls, a drain terminal connected to the data line Ld, and a source terminal connected to the contact N11. The drive transistor Tr12 has a gate terminal connected to the contact N11, a drain terminal connected to the anode line La, and a source terminal connected to the contact N12. The capacitor Cs is connected to the gate terminal and the source terminal of the drive transistor Tr12. Note that the capacitor Cs is an auxiliary capacitance additionally provided between the gate and the source of the driving transistor Tr12 or a capacitance component including a parasitic capacitance and an auxiliary capacitance between the gate and the source of the driving transistor Tr12. In the organic EL element OEL, the anode terminal (pixel electrode 42) is connected to the contact N12, and the reference voltage Vss is applied to the cathode terminal (counter electrode 46).

走査ラインLsは、画素基板の周縁部に配置された走査ドライバ(図示せず)に接続されている。走査ラインLsには、所定のタイミングで行方向に配列された複数の画素30を選択状態に設定するための選択電圧信号(走査信号)が印加される。また、データラインLdは、画素基板の周縁部に配置されたデータドライバ(図示せず)に接続されている。データラインLdには、上記画素30の選択状態に同期するタイミングで発光データに応じたデータ電圧(階調信号)が印加される。行方向に配列された複数の駆動トランジスタTr12が、当該駆動トランジスタTr12に接続された有機EL素子OELの、例えばアノード端子(画素電極42)に発光データに応じた駆動電流を流す状態に設定するように、アノードラインLa(供給電圧ライン)は、所定の高電位電源に直接又は間接的に接続されている。つまり、アノードラインLaは、有機EL素子OELの対向電極46に印加される基準電圧Vssより十分電位の高い所定の高電位(供給電圧Vdd)が印加される。また、対向電極46は、例えば、所定の低電位電源に直接又は間接的に接続され、基板31上にアレイ状に配列された全ての画素30に対して単一の電極層により形成されており、所定の低電圧(基準電圧Vss、例えば接地電位GND)が共通に印加されるように設定されている。   The scanning line Ls is connected to a scanning driver (not shown) disposed on the peripheral edge of the pixel substrate. A selection voltage signal (scanning signal) for setting a plurality of pixels 30 arranged in the row direction at a predetermined timing to a selected state is applied to the scanning line Ls. The data line Ld is connected to a data driver (not shown) disposed on the peripheral edge of the pixel substrate. A data voltage (gradation signal) corresponding to light emission data is applied to the data line Ld at a timing synchronized with the selection state of the pixel 30. A plurality of drive transistors Tr12 arranged in the row direction are set to a state in which a drive current corresponding to light emission data flows through, for example, the anode terminal (pixel electrode 42) of the organic EL element OEL connected to the drive transistor Tr12. In addition, the anode line La (supply voltage line) is directly or indirectly connected to a predetermined high potential power source. In other words, the anode line La is applied with a predetermined high potential (supply voltage Vdd) sufficiently higher than the reference voltage Vss applied to the counter electrode 46 of the organic EL element OEL. The counter electrode 46 is directly or indirectly connected to, for example, a predetermined low potential power source, and is formed of a single electrode layer for all the pixels 30 arranged in an array on the substrate 31. The predetermined low voltage (reference voltage Vss, for example, ground potential GND) is set to be applied in common.

また、アノードラインLaと走査ラインLsは、各トランジスタTr11、Tr12のソース電極、ドレイン電極を形成するソース−ドレイン導電層を用いてこれらソース電極、ドレイン電極とともに形成される。データラインLdは、各トランジスタTr11、Tr12のゲート電極となるゲート導電層を用いてゲート電極とともに形成される。データラインLdとドレイン電極Tr11dとの間の絶縁膜32には、図7に示すように、コンタクトホール61が形成され、データラインLdとドレイン電極Tr11dとはコンタクトホール61を介して導通している。走査ラインLsとゲート電極Tr11gの両端との間の絶縁膜32には、それぞれコンタクトホール62,63が形成されている。走査ラインLsとゲート電極Tr11gとはコンタクトホール62,63を介して導通している。ソース電極Tr11sとゲート電極Tr12gとの間の絶縁膜32には、コンタクトホール64が形成されている。ソース電極Tr11sとゲート電極Tr12gとはコンタクトホール64を介して導通している。なお、絶縁膜32は、絶縁性材料、例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜等から形成され、データラインLd、ゲート電極Tr11g及びゲート電極Tr12gを覆うように基板31上に形成される。   The anode line La and the scanning line Ls are formed together with the source electrode and the drain electrode by using a source-drain conductive layer that forms the source electrode and the drain electrode of each of the transistors Tr11 and Tr12. The data line Ld is formed together with the gate electrode using a gate conductive layer that becomes a gate electrode of each of the transistors Tr11 and Tr12. As shown in FIG. 7, a contact hole 61 is formed in the insulating film 32 between the data line Ld and the drain electrode Tr11d, and the data line Ld and the drain electrode Tr11d are conducted through the contact hole 61. . Contact holes 62 and 63 are formed in the insulating film 32 between the scanning line Ls and both ends of the gate electrode Tr11g, respectively. The scanning line Ls and the gate electrode Tr11g are electrically connected via the contact holes 62 and 63. A contact hole 64 is formed in the insulating film 32 between the source electrode Tr11s and the gate electrode Tr12g. The source electrode Tr11s and the gate electrode Tr12g are electrically connected through the contact hole 64. The insulating film 32 is formed of an insulating material, such as a silicon oxide film or a silicon nitride film, and is formed on the substrate 31 so as to cover the data line Ld, the gate electrode Tr11g, and the gate electrode Tr12g.

次に、有機EL素子OELは、図8に示すように、画素電極42と、発光層45と、対向電極46と、を備える。なお、図8では、説明の便宜上、発光に寄与する発光機能層として発光層45のみを備える構成を例に挙げているが、これに限られず、後述する図15に示すように、発光機能層は、正孔注入層43と発光層45とを備えていてもよく、更に、正孔注入層43とインターレイヤ層44と発光層45とを備えていてもよい。   Next, as shown in FIG. 8, the organic EL element OEL includes a pixel electrode 42, a light emitting layer 45, and a counter electrode 46. In FIG. 8, for the sake of convenience of explanation, a configuration including only the light emitting layer 45 as a light emitting functional layer that contributes to light emission is taken as an example. However, the present invention is not limited to this, and as shown in FIG. May include a hole injection layer 43 and a light emitting layer 45, and may further include a hole injection layer 43, an interlayer layer 44, and a light emitting layer 45.

各画素の基板31上には、ゲート導電層をパターニングしてなる選択トランジスタTr11、駆動トランジスタTr12のゲート電極Tr11g,Tr12gが形成されている。各画素に隣接した基板31上には、ゲート導電層をパターニングしてなり、列方向に沿って延びるデータラインLdが形成されている。   On the substrate 31 of each pixel, a selection transistor Tr11 formed by patterning a gate conductive layer and gate electrodes Tr11g and Tr12g of the drive transistor Tr12 are formed. On the substrate 31 adjacent to each pixel, a data line Ld extending in the column direction is formed by patterning the gate conductive layer.

画素電極(アノード電極)42は、透光性を備える導電材料、例えばITO(Indium Tin Oxide)、ZnO等から構成される。各画素電極42は隣接する他の画素30の画素電極42と層間絶縁膜47によって絶縁されている。   The pixel electrode (anode electrode) 42 is made of a conductive material having translucency, for example, ITO (Indium Tin Oxide), ZnO, or the like. Each pixel electrode 42 is insulated from the pixel electrode 42 of another adjacent pixel 30 by an interlayer insulating film 47.

層間絶縁膜47は、絶縁性材料、例えばシリコン窒化膜から形成され、画素電極42間に形成され、トランジスタTr11,Tr12や走査ラインLs、アノードラインLaを絶縁保護する。層間絶縁膜47には略方形の開口部47aが形成されており、この開口部47aによって画素30の発光領域が画される。更に層間絶縁膜47上には隔壁48が形成されている。隔壁48には列方向(図7の上下方向)に延びる溝状の開口部48aが複数の画素30にわたって形成されている。ここで、層間絶縁膜47及びその上に形成される隔壁48は、行方向に隣接して配列される各画素30の発光領域間の間隙領域を形成している。   The interlayer insulating film 47 is formed of an insulating material, for example, a silicon nitride film, is formed between the pixel electrodes 42, and insulates and protects the transistors Tr11 and Tr12, the scanning line Ls, and the anode line La. A substantially rectangular opening 47a is formed in the interlayer insulating film 47, and the light emitting region of the pixel 30 is defined by the opening 47a. Further, a partition wall 48 is formed on the interlayer insulating film 47. The partition wall 48 is formed with a groove-shaped opening 48 a extending in the column direction (vertical direction in FIG. 7) over the plurality of pixels 30. Here, the interlayer insulating film 47 and the partition wall 48 formed thereon form a gap region between the light emitting regions of the pixels 30 arranged adjacent to each other in the row direction.

隔壁48は、絶縁材料、例えばポリイミド等の感光性樹脂を硬化してなり、層間絶縁膜47上に形成される。隔壁48は、図7に示すように列方向に沿った複数の画素の画素電極42をまとめて開口するようにストライプ状に形成されている。なお、隔壁48の平面形状は、これに限られず各画素電極42毎に開口部をもった格子状であってもよい。また、図5に示すように、隔壁48の上面は、発光層45R,45G,45Bの中央部の平坦部の上面より高くなるように形成される。   The partition wall 48 is formed by curing an insulating material, for example, a photosensitive resin such as polyimide, and is formed on the interlayer insulating film 47. As shown in FIG. 7, the partition wall 48 is formed in a stripe shape so as to open the pixel electrodes 42 of a plurality of pixels along the column direction. The planar shape of the partition wall 48 is not limited to this, and may be a lattice shape having an opening for each pixel electrode 42. Further, as shown in FIG. 5, the upper surface of the partition wall 48 is formed to be higher than the upper surface of the flat portion at the center of the light emitting layers 45R, 45G, 45B.

なお、隔壁48の表面、層間絶縁膜47の表面に撥液処理を施してもよい。ここで撥液とは、水系の溶媒、有機系溶媒のいずれをも弾く性質を示す。   Note that the surface of the partition wall 48 and the surface of the interlayer insulating film 47 may be subjected to a liquid repellent treatment. Here, the liquid repellency indicates the property of repelling both aqueous solvents and organic solvents.

発光層45は、画素電極(アノード電極)42上に形成されている。発光層45は、アノード電極42とカソード電極46との間に電圧を印加することにより所定の発光色の光を発生する機能を有する。発光層45は、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の高分子発光材料、例えばポリパラフェニレンビニレン系やポリフルオレン系等の共役二重結合ポリマーを含む発光材料から構成される。また、これらの発光材料は、適宜水系溶媒あるいはテトラリン、テトラメチルベンゼン、メシチレン、キシレン等の有機溶媒に溶解(又は分散)した溶液(分散液)をノズルプリンティング方式やインクジェットプリント方式等により塗布し、溶媒を揮発させることによって形成する。   The light emitting layer 45 is formed on the pixel electrode (anode electrode) 42. The light emitting layer 45 has a function of generating light of a predetermined emission color by applying a voltage between the anode electrode 42 and the cathode electrode 46. The light emitting layer 45 is made of a known polymer light emitting material capable of emitting fluorescence or phosphorescence, for example, a light emitting material containing a conjugated double bond polymer such as polyparaphenylene vinylene or polyfluorene. In addition, these luminescent materials are appropriately coated with a solution (dispersion) dissolved (or dispersed) in an aqueous solvent or an organic solvent such as tetralin, tetramethylbenzene, mesitylene, and xylene by a nozzle printing method, an inkjet printing method, or the like. Formed by volatilizing the solvent.

本実施形態では、赤色の画素30Rに隣接する緑色の画素の発光層45G1,45G2を形成した上で、赤色の発光層45Rを形成する。このため、赤色の発光層45Rの、緑色の発光層45G1と45G2とに接する部分は、それぞれ緑色の発光層45G1と45G2との隔壁48に乗り上げた部分の一部を覆うように、その上に乗り上げて形成される。なお、青色の発光層45Bについても、赤色の発光層45Rと同様であり、緑色の発光層45G1と45G2とに接する部分は、それぞれ緑色の発光層45G1と45G2との隔壁48に乗り上げた部分の一部を覆うように、その上に乗り上げて形成される。   In the present embodiment, the green light emitting layers 45G1 and 45G2 adjacent to the red pixel 30R are formed, and then the red light emitting layer 45R is formed. Therefore, the portion of the red light emitting layer 45R that is in contact with the green light emitting layers 45G1 and 45G2 covers a part of the portion of the green light emitting layers 45G1 and 45G2 that rides on the partition wall 48, respectively. Formed on board. The blue light-emitting layer 45B is the same as the red light-emitting layer 45R, and the portions in contact with the green light-emitting layers 45G1 and 45G2 are the portions that run on the partition walls 48 of the green light-emitting layers 45G1 and 45G2, respectively. It is formed by riding on it so as to cover a part.

ここで、発光機能層として、正孔注入層が設けられる場合、図15に示すように、正孔注入層43は、画素電極42と発光層45との間に設けられる。正孔注入層43は発光層45に正孔を供給する機能を有する。正孔注入層43は正孔(ホール)注入・輸送が可能な有機高分子系の材料、例えば導電性ポリマーであるポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)とドーパントであるポリスチレンスルホン酸(PSS)から構成される。
更に、発光機能層としてインターレイヤ層が設けられる場合、図15に示すように、インターレイヤ層44は正孔注入層43と発光層45との間に設けられる。インターレイヤ層44は、正孔注入層43の正孔注入性を抑制して発光層45内において電子と正孔とを再結合させやすくする機能を有し、発光層45の発光効率を高める。
Here, when a hole injection layer is provided as the light emitting functional layer, the hole injection layer 43 is provided between the pixel electrode 42 and the light emitting layer 45 as shown in FIG. The hole injection layer 43 has a function of supplying holes to the light emitting layer 45. The hole injection layer 43 is made of an organic polymer material capable of injecting and transporting holes, for example, polyethylenedioxythiophene (PEDOT) which is a conductive polymer and polystyrene sulfonic acid (PSS) which is a dopant. The
Further, when an interlayer layer is provided as the light emitting functional layer, the interlayer layer 44 is provided between the hole injection layer 43 and the light emitting layer 45 as shown in FIG. The interlayer layer 44 has a function of suppressing the hole injection property of the hole injection layer 43 to facilitate recombination of electrons and holes in the light emitting layer 45, and increases the light emission efficiency of the light emitting layer 45.

また、対向電極(カソード電極)46は、ボトムエミッション型の場合、発光層45側に設けられ、導電材料、例えばLi、Mg、Ca、Ba等の仕事関数の低い材料からなる電子注入性の下層と、Al等の光反射性導電金属からなる上層を有する積層構造である。本実施形態では、対向電極46は複数の画素30に跨って形成される単一の電極層から構成され、例えば接地電位である基準電圧Vssが印加されている。なお、有機EL素子OELをトップエミッション型とする場合、対向電極46は、発光層45側に設けられ、10nm程度の膜厚の極薄い例えばLi、Mg、Ca、Ba等の仕事関数の低い材料からなる光透過性低仕事関数層と、100nm〜200nm程度の膜厚のITO等の光反射性導電層を有する透明積層構造とする。   Further, in the case of the bottom emission type, the counter electrode (cathode electrode) 46 is provided on the light emitting layer 45 side, and is an electron injecting lower layer made of a conductive material, for example, a material having a low work function such as Li, Mg, Ca, Ba or the like. And a laminated structure having an upper layer made of a light-reflective conductive metal such as Al. In the present embodiment, the counter electrode 46 is composed of a single electrode layer formed across a plurality of pixels 30, and for example, a reference voltage Vss which is a ground potential is applied. When the organic EL element OEL is a top emission type, the counter electrode 46 is provided on the light emitting layer 45 side and is an extremely thin material having a thickness of about 10 nm, such as Li, Mg, Ca, Ba, etc. A transparent laminated structure having a light transmissive low work function layer made of and a light reflective conductive layer such as ITO having a film thickness of about 100 nm to 200 nm.

次に、本実施形態に係る発光装置の製造方法を、図9A〜図9E、図10A及び図10Bを用いて説明する。また、図10A及び図10Bは、ノズルプリンティング方式を説明するためのノズルプリンティング装置の概略構成を示す図である。ノズルプリンティング装置は、図10A及び図10Bに示すように、概略、有機化合物含有液からなる溶液52を連続して吐出するノズルを有するノズルヘッド50を備え、ノズルヘッド50を基板31上の塗布領域に沿って移動させることによって、基板31上の塗布領域に溶液52を塗布するものである。また、図10Aはノズルヘッド50を1つだけ有する場合の構成を示し、図10Bはノズルヘッド50を2つ有する場合の構成を示す。なお、図10A及び図10Bにおける基板31は、図7の上下方向が図10の左右方向となる向きに配置されている。ここで、図10Bにおいてはノズルプリンティング装置がノズルヘッド50を2つ有する場合について示したが、これに限らず、ノズルヘッド50を3つ以上の複数個有するものであってもよい。また、選択トランジスタTr11は駆動トランジスタTr12と同一工程によって形成されるので、選択トランジスタTr11の形成の説明を一部省略する。   Next, a method for manufacturing the light emitting device according to this embodiment will be described with reference to FIGS. 9A to 9E, FIG. 10A, and FIG. 10B. 10A and 10B are diagrams showing a schematic configuration of a nozzle printing apparatus for explaining the nozzle printing method. As shown in FIGS. 10A and 10B, the nozzle printing apparatus generally includes a nozzle head 50 having a nozzle that continuously discharges a solution 52 made of an organic compound-containing liquid, and the nozzle head 50 is applied to a coating region on the substrate 31. The solution 52 is applied to the application region on the substrate 31 by being moved along the direction. 10A shows a configuration in the case where only one nozzle head 50 is provided, and FIG. 10B shows a configuration in the case where two nozzle heads 50 are provided. 10A and 10B are arranged in a direction in which the vertical direction in FIG. 7 is the horizontal direction in FIG. Here, FIG. 10B shows the case where the nozzle printing apparatus has two nozzle heads 50, but the present invention is not limited to this, and the nozzle printing apparatus may have three or more nozzle heads 50. Since the selection transistor Tr11 is formed in the same process as the driving transistor Tr12, a part of the description of the formation of the selection transistor Tr11 is omitted.

図9Aに示すように、まず、ガラス基板等からなる基板31を用意する。次に、この基板31上に、スパッタ法、真空蒸着法等により例えば、Mo膜、Cr膜、Al膜、Cr/Al積層膜、AlTi合金膜又はAlNdTi合金膜、MoNb合金膜等からなるゲート導電膜を形成し、これを図9Aに示すように駆動トランジスタTr12のゲート電極Tr12gの形状にパターニングする。この際、図示はしていないが、選択トランジスタTr11のゲート電極Tr11g、及びデータラインLdも形成する。続いて、図9Bに示すように、CVD(Chemical Vapor Deposition)法等によりゲート電極Tr12g及びデータラインLd上に絶縁膜32を形成する。   As shown in FIG. 9A, first, a substrate 31 made of a glass substrate or the like is prepared. Next, on the substrate 31, for example, a gate conduction made of a Mo film, a Cr film, an Al film, a Cr / Al laminated film, an AlTi alloy film or an AlNdTi alloy film, a MoNb alloy film, or the like by sputtering, vacuum deposition, or the like. A film is formed and patterned into the shape of the gate electrode Tr12g of the drive transistor Tr12 as shown in FIG. 9A. At this time, although not shown, the gate electrode Tr11g of the selection transistor Tr11 and the data line Ld are also formed. Subsequently, as shown in FIG. 9B, an insulating film 32 is formed on the gate electrode Tr12g and the data line Ld by a CVD (Chemical Vapor Deposition) method or the like.

次に、絶縁膜32上に、CVD法等により、アモルファスシリコン等からなる半導体層を形成する。次に、半導体層上に、CVD法等により、例えばSiN等からなる絶縁膜を形成する。続いて、絶縁膜をフォトリソグラフィ等によりパターニングし、ストッパ膜115を形成する。更に、半導体層及びストッパ膜115上に、CVD法等により、n型不純物が含まれたアモルファスシリコン等からなる膜を形成し、この膜と半導体層とをフォトリソグラフィ等によりパターニングすることで、図9Bに示すように、半導体層114とオーミックコンタクト層116,117とを形成する。   Next, a semiconductor layer made of amorphous silicon or the like is formed on the insulating film 32 by a CVD method or the like. Next, an insulating film made of, for example, SiN is formed on the semiconductor layer by a CVD method or the like. Subsequently, the insulating film is patterned by photolithography or the like to form the stopper film 115. Further, a film made of amorphous silicon or the like containing n-type impurities is formed on the semiconductor layer and the stopper film 115 by a CVD method or the like, and this film and the semiconductor layer are patterned by photolithography or the like. As shown in FIG. 9B, the semiconductor layer 114 and the ohmic contact layers 116 and 117 are formed.

次に、スパッタ法、真空蒸着法等により絶縁膜32上に、ITO等の透明導電膜、或いは光反射性導電膜及びITO等の透明導電膜を被膜後、この膜をフォトリソグラフィによってパターニングして画素電極42を形成する。   Next, a transparent conductive film such as ITO or a light-reflective conductive film and a transparent conductive film such as ITO are coated on the insulating film 32 by sputtering, vacuum deposition, or the like, and this film is patterned by photolithography. A pixel electrode 42 is formed.

続いて、絶縁膜32に貫通孔であるコンタクトホール61〜64を形成してから、例えば、Mo膜、Cr膜、Al膜、Cr/Al積層膜、AlTi合金膜又はAlNdTi合金膜、MoNb合金膜等からなるソース−ドレイン導電膜をスパッタ法、真空蒸着法等により被膜する。この膜をフォトリソグラフィによってパターニングして図9Bに示すようにドレイン電極Tr12d及びソース電極Tr12sを形成する。これと同時に、アノードラインLaを形成する。このとき、駆動トランジスタTr12のソース電極Tr12sはそれぞれ画素電極42の一部と重なるように形成される。   Subsequently, after forming contact holes 61 to 64 as through holes in the insulating film 32, for example, a Mo film, a Cr film, an Al film, a Cr / Al laminated film, an AlTi alloy film, an AlNdTi alloy film, or a MoNb alloy film. A source-drain conductive film made of, for example, is coated by sputtering, vacuum deposition, or the like. This film is patterned by photolithography to form a drain electrode Tr12d and a source electrode Tr12s as shown in FIG. 9B. At the same time, the anode line La is formed. At this time, the source electrode Tr12s of the drive transistor Tr12 is formed so as to overlap with a part of the pixel electrode 42, respectively.

続いて、図9Cに示すように、駆動トランジスタTr12等を覆うようにシリコン窒化膜からなる層間絶縁膜47をCVD法等により形成後、フォトリソグラフィにより、開口部47aを形成する。次に、感光性ポリイミドを、層間絶縁膜47を覆うように塗布し、隔壁48の形状に対応するマスクを介して露光、現像することによってパターニングし、図9Cに示すように開口部48aを有する隔壁48を形成する。   Subsequently, as shown in FIG. 9C, an interlayer insulating film 47 made of a silicon nitride film is formed by a CVD method or the like so as to cover the driving transistor Tr12 and the like, and then an opening 47a is formed by photolithography. Next, photosensitive polyimide is applied so as to cover the interlayer insulating film 47, patterned by exposure and development through a mask corresponding to the shape of the partition wall 48, and has an opening 48a as shown in FIG. 9C. A partition wall 48 is formed.

次に、図10Aに示すように、ノズルヘッド50のノズルから溶液52を連続して流すノズルプリンティング装置を用いて、溶液52として発光ポリマー材料(R,G,B)を含有する有機化合物含有液を、隔壁48の間に設けられ、開口部47aで囲まれた画素電極42上に塗布する。塗布は、隔壁48の形成方向(図7に示す上下方向)に沿って塗布する。なお、ノズルプリンティング装置を用いた塗布においては、図10Aに示すように、有機化合物含有液はノズルヘッド50のノズルから吐出され、基板31上に塗布される。ノズルヘッド50は隔壁48間に有機化合物含有液を吐出しながら、隔壁48が形成された方向(図10Aでは左右方向)に沿って移動する。なお、複数各列への塗布を連続して行う場合は、図10Aに示すように、ノズルヘッド50が基板31外にある間に、基板31を隔壁48が形成された方向と直交する方向(図10Aでは上下方向)に、所定の距離だけ移動させる。これを繰り返すことで、溶液52が所定の列に塗布される。または、基板31を移動させる代わりに、ノズルヘッド50を隔壁48が形成された方向と直交する方向に所定の距離だけ移動させてもよい。なお、ノズルヘッド50が基板31外にある間、溶液52は吐出させたままであってもよいし、吐出を一旦停止させてもよい。ここで、図10Aに示すように、ノズルプリンティング装置がノズルヘッド50を1つだけ有する場合には、1列毎にノズルヘッド50の移動方向を交互に変えて塗布する。また、図10Bに示すように、ノズルプリンティング装置がノズルヘッド50を2つ有する場合には、2列毎にノズルヘッド50の移動方向を交互に変えて塗布する。   Next, as shown in FIG. 10A, an organic compound-containing liquid containing a light emitting polymer material (R, G, B) as the solution 52 using a nozzle printing apparatus that continuously flows the solution 52 from the nozzles of the nozzle head 50. Is applied on the pixel electrode 42 provided between the partition walls 48 and surrounded by the opening 47a. Application is performed along the formation direction of the partition wall 48 (vertical direction shown in FIG. 7). In the application using the nozzle printing apparatus, as shown in FIG. 10A, the organic compound-containing liquid is discharged from the nozzles of the nozzle head 50 and applied onto the substrate 31. The nozzle head 50 moves along the direction in which the partition walls 48 are formed (the left-right direction in FIG. 10A) while discharging the organic compound-containing liquid between the partition walls 48. In addition, when performing application | coating to each row | line | column continuously, as shown to FIG. 10A, while the nozzle head 50 exists outside the board | substrate 31, the direction orthogonal to the direction (the direction where the partition wall 48 was formed) It is moved by a predetermined distance in the vertical direction in FIG. 10A. By repeating this, the solution 52 is applied to a predetermined row. Alternatively, instead of moving the substrate 31, the nozzle head 50 may be moved by a predetermined distance in a direction orthogonal to the direction in which the partition walls 48 are formed. Note that while the nozzle head 50 is outside the substrate 31, the solution 52 may be discharged, or the discharge may be temporarily stopped. Here, as shown in FIG. 10A, when the nozzle printing apparatus has only one nozzle head 50, application is performed by alternately changing the moving direction of the nozzle head 50 for each column. As shown in FIG. 10B, when the nozzle printing apparatus has two nozzle heads 50, application is performed by alternately changing the moving direction of the nozzle head 50 every two rows.

本実施形態では、図9Dに示すように、まずノズルプリンティング装置を用い、緑色の発光層45G1、45G2を形成する。次に、図9Eに示すように、赤色の発光層45R及び青色の発光層45Bを、ノズルプリンティング装置を用いて形成する。   In the present embodiment, as shown in FIG. 9D, first, green light emitting layers 45G1 and 45G2 are formed using a nozzle printing apparatus. Next, as shown in FIG. 9E, a red light emitting layer 45R and a blue light emitting layer 45B are formed using a nozzle printing apparatus.

このように、1列おきに発光層を形成すると、赤色の発光層45Rを形成する際には、赤色の発光層45Rに隣接する隔壁48上には、予め緑色の発光層45G1、45G2が隔壁48上に形成されている。従って、赤色の発光層45Rは、いずれの発光層に対しても同じ程度なじみやすいため、乾燥速度が異なることが抑制される。従って、赤色の発光層45Rは左右で膜厚が均一なものとなる。青色の発光層45Bについても同様である。また、予め1列おきに形成される緑色の発光層45G1,45G2については、隔壁48上に発光層が形成されていない状態で形成されるため、左右での乾燥速度の不均衡は生じない。従って、緑色の発光層45G1,45G2についても、左右が対称な膜厚とすることができる。   As described above, when the light emitting layers are formed every other row, when the red light emitting layer 45R is formed, the green light emitting layers 45G1 and 45G2 are previously formed on the barrier ribs 48 adjacent to the red light emitting layer 45R. 48 is formed. Therefore, the red light emitting layer 45R is easily compatible with any of the light emitting layers to the same extent, so that the drying speed is prevented from being different. Therefore, the red light emitting layer 45R has a uniform film thickness on the left and right. The same applies to the blue light emitting layer 45B. Further, since the green light emitting layers 45G1 and 45G2 formed in advance every other row are formed in a state in which no light emitting layer is formed on the partition wall 48, there is no imbalance between the drying speeds on the left and right. Therefore, the green light emitting layers 45G1 and 45G2 can also have a symmetrical film thickness.

なお、発光機能層として正孔注入層43を形成する場合は、発光層45を形成する前に、正孔注入材料を含む有機化合物含有液を溶液52として、溶液52を連続して吐出する図10Aに示すノズルプリンティング装置あるいは個々に独立した複数の液滴として間欠的に吐出するインクジェット装置によって、開口部47aで囲まれた画素電極42上に選択的に塗布する。続いて、基板31を大気雰囲気下で加熱し有機化合物含有液の溶媒を揮発させて、正孔注入層43を形成する。有機化合物含有液は加熱雰囲気で塗布されてもよい。   In the case where the hole injection layer 43 is formed as the light emitting functional layer, the organic compound containing liquid containing the hole injection material is used as the solution 52 and the solution 52 is continuously discharged before the light emitting layer 45 is formed. The ink is selectively applied onto the pixel electrode 42 surrounded by the opening 47a by the nozzle printing apparatus shown in FIG. 10A or an inkjet apparatus that intermittently discharges a plurality of independent droplets. Subsequently, the substrate 31 is heated in an air atmosphere to volatilize the solvent of the organic compound-containing liquid, thereby forming the hole injection layer 43. The organic compound-containing liquid may be applied in a heated atmosphere.

また、発光機能層として更にインターレイヤ層44を形成する場合は、インターレイヤ層44となる材料を含有する有機化合物含有液を溶液52として、溶液52をノズルから連続して吐出する図10Aに示すノズルプリンティング装置またはインクジェット装置を用いて正孔注入層43上に塗布する。窒素雰囲気中の加熱乾燥、或いは真空中での加熱乾燥を行い、残留溶媒の除去を行ってインターレイヤ層44を形成する。有機化合物含有液は加熱雰囲気で塗布されてもよい。   When the interlayer layer 44 is further formed as the light emitting functional layer, an organic compound-containing liquid containing a material to be the interlayer layer 44 is used as the solution 52, and the solution 52 is continuously discharged from the nozzle as shown in FIG. 10A. It coats on the hole injection layer 43 using a nozzle printing apparatus or an inkjet apparatus. The interlayer 44 is formed by performing heat drying in a nitrogen atmosphere or heat drying in a vacuum to remove the residual solvent. The organic compound-containing liquid may be applied in a heated atmosphere.

続いて、発光層45まで形成した基板31に、真空蒸着やスパッタリングで、Li,Mg,Ca,Ba等の仕事関数の低い材料からなる層と、Al等の光反射性導電層からなる2層構造の対向電極46を形成する。   Subsequently, two layers of a layer 31 made of a material having a low work function such as Li, Mg, Ca, Ba and a light-reflective conductive layer such as Al are formed on the substrate 31 formed up to the light emitting layer 45 by vacuum deposition or sputtering. A counter electrode 46 having a structure is formed.

次に、複数の画素30が形成された発光領域の外側において、基板31上に紫外線硬化樹脂、又は熱硬化樹脂からなる封止樹脂を塗布し、図示しない封止基板と基板31と貼り合わせる。次に紫外線もしくは熱によって封止樹脂を硬化させて、基板31と封止基板とを接合する。
以上から、発光装置10が製造される。
Next, a sealing resin made of an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin is applied on the substrate 31 outside the light emitting region where the plurality of pixels 30 are formed, and the sealing substrate (not shown) and the substrate 31 are bonded together. Next, the sealing resin is cured by ultraviolet rays or heat, and the substrate 31 and the sealing substrate are bonded.
From the above, the light emitting device 10 is manufactured.

このように、本実施形態の発光装置の製造方法では、一つの発光色の画素を2つに分割し、偶数個からなる画素の組とした上で、一列おきに発光層を形成する。これにより、後に形成される発光層の乾燥速度を比較的均一とすることができるため、各色の発光層45を良好な均一性を備える膜とすることができる。   As described above, in the method for manufacturing the light emitting device according to the present embodiment, one light emitting color pixel is divided into two to form an even number of pixels, and light emitting layers are formed every other column. Thereby, since the drying speed of the light emitting layer formed later can be made relatively uniform, the light emitting layer 45 of each color can be made into a film having good uniformity.

ここで、赤色の発光層45Rを全列塗布した上で、緑色の発光層45Gを全列塗布し、青色の発光層45Bを全列に塗布することによって各色の発光層を形成する構成を比較例として、これと比較したときの本実施形態における効果を説明する。   Here, the configuration in which the light emitting layers of the respective colors are formed by coating the red light emitting layer 45R in all rows, coating the green light emitting layer 45G in all rows, and coating the blue light emitting layer 45B in all rows is compared. As an example, the effect in this embodiment when compared with this will be described.

図11は、本実施形態における発光装置の断面構造及び各発光層の膜厚分布を示す図であり、図12は、比較例における発光装置の断面構造及び各発光層の膜厚分布を示す図である。   FIG. 11 is a diagram showing a cross-sectional structure of the light emitting device and the film thickness distribution of each light emitting layer in the present embodiment, and FIG. 12 is a diagram showing a cross sectional structure of the light emitting device and a film thickness distribution of each light emitting layer in the comparative example. It is.

上記比較例の場合、図12に示すように、後から塗布する発光層45G、発光層45Bの膜厚が均一となりにくい。これは、隔壁上より発光層上の方が発光層形成用の有機化合物含有液がなじみやすいことに起因している。すなわち、赤色の発光層を全列塗布した後に緑色の発光層を塗布すると、緑色の発光層形成用の有機化合物含有液が赤色の発光層側へと引っ張られやすくなる。これにより、G色の発光層中、特に図12に示す左右方向で有機化合物含有液の乾燥速度が異なり、図12に模式的に示すように、赤色側の膜厚が厚くなり、左右が非対称な膜厚となる。青色の発光層についても同様であり、先に形成された緑色の発光層側の膜厚が厚くなり、左右の膜厚が非対称となる。   In the case of the comparative example, as shown in FIG. 12, the film thickness of the light emitting layer 45G and the light emitting layer 45B to be applied later is difficult to be uniform. This is due to the fact that the organic compound-containing liquid for forming the light emitting layer is more easily adapted on the light emitting layer than on the partition. That is, when the green light emitting layer is applied after the red light emitting layers are applied in all rows, the organic compound-containing liquid for forming the green light emitting layer is easily pulled toward the red light emitting layer side. As a result, in the G light emitting layer, the drying speed of the organic compound-containing liquid differs particularly in the left-right direction shown in FIG. 12, and as shown schematically in FIG. 12, the red-side film thickness increases and the left-right is asymmetric. Film thickness. The same applies to the blue light-emitting layer. The film thickness on the green light-emitting layer side formed earlier is increased, and the left and right film thicknesses are asymmetric.

これに対し、本実施形態のように緑の画素を二つに分け、4つの画素を1組とし、更に緑の発光層45G1,45G2を先に形成した上で、赤色の発光層45R、青色の発光層45Bを形成すると、乾燥速度をより均一とすることができる。例えば、緑色の発光層45G1,45G2を予め形成した上で、赤色の発光層45Rの有機化合物含有液を塗布する。赤色の有機化合物含有液は、緑色の発光層45G1,45G2との上に塗布されても、いずれの発光層に対しても同じ程度なじみやすいため、図11に示す左右方向で乾燥速度が異なることはない。従って、赤色の発光層45Rは図11に示すように、左右で膜厚が均一なものとなる。青色の発光層45Bについても同様である。また、予め1列おきに形成される緑色の発光層45G1,45G2については、隔壁上に発光層が形成されていない状態で形成されるため、左右での乾燥速度の不均衡は生じない。従って、緑色の発光層45G1,45G2についても、左右の膜厚を対称にすることができる。   On the other hand, the green pixel is divided into two as in the present embodiment, the four pixels are combined into one set, and the green light emitting layers 45G1 and 45G2 are formed first, and then the red light emitting layer 45R and blue When the light emitting layer 45B is formed, the drying rate can be made more uniform. For example, after the green light emitting layers 45G1 and 45G2 are formed in advance, the organic compound-containing liquid of the red light emitting layer 45R is applied. Even if the red organic compound-containing liquid is applied on the green light-emitting layers 45G1 and 45G2, the drying rate is different in the left-right direction shown in FIG. There is no. Accordingly, as shown in FIG. 11, the red light emitting layer 45R has a uniform thickness on the left and right. The same applies to the blue light emitting layer 45B. Further, since the green light emitting layers 45G1 and 45G2 formed in advance every other row are formed in a state in which no light emitting layer is formed on the partition walls, there is no imbalance between the drying speeds on the left and right. Accordingly, the left and right film thicknesses of the green light emitting layers 45G1 and 45G2 can be made symmetrical.

なお、上述した実施形態では、緑色の発光層45G1,45G2を形成した上で、赤色の発光層45R、青色の発光層45Bを形成する構成を例に挙げて説明しているが、これに限られない。要するに1列おきに発光層を塗布すればよいため、例えば、赤色の発光層45R、青色の発光層45Bを形成した後で、緑色の発光層45G1,45G2を形成するようにしてもよい。   In the above-described embodiment, the configuration in which the red light emitting layer 45R and the blue light emitting layer 45B are formed after forming the green light emitting layers 45G1 and 45G2 has been described as an example. I can't. In short, since it is only necessary to apply the light emitting layers every other row, for example, the green light emitting layers 45G1 and 45G2 may be formed after the red light emitting layer 45R and the blue light emitting layer 45B are formed.

また、上述した実施形態では、緑色の画素を2つに分割する構成を例に挙げて説明しているが、これに限られない。例えば、赤色の画素、青色の画素のいずれかを2つに分割するようにしてもよい。   In the above-described embodiment, the configuration in which the green pixel is divided into two is described as an example, but the present invention is not limited to this. For example, either a red pixel or a blue pixel may be divided into two.

(第2実施形態)
第2実施形態に係る発光装置20について、図を用いて説明する。本実施形態の発光装置が、上述した第1実施形態に係る発光装置10と異なるのは、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)に加えて白色(W)の画素30Wを更に備える点にある。第1実施形態と共通する部分については、詳細な説明を省略する。
(Second Embodiment)
The light emitting device 20 according to the second embodiment will be described with reference to the drawings. The light emitting device of the present embodiment is different from the light emitting device 10 according to the first embodiment described above in that a white (W) pixel 30 </ b> W is further added in addition to red (R), green (G), and blue (B). It is in the point to prepare. Detailed description of portions common to the first embodiment will be omitted.

図13は第2実施形態に係る発光装置20の構成例を示す平面図である。図14は、図13に示す発光装置20の断面構成を示す図である。   FIG. 13 is a plan view illustrating a configuration example of the light emitting device 20 according to the second embodiment. FIG. 14 is a diagram showing a cross-sectional configuration of the light emitting device 20 shown in FIG.

発光装置20では、基板31上に、図13に示すようにそれぞれ赤色(R)、青色(B)、緑色(G)、白色(W)の4色に発光する4つの画素30R、30B、30G、30Wを一組として、この組が行方向(図13の左右方向)に繰り返し複数個、例えばx個配列されている。列方向(図13の上下方向)には、同一の発光色の発光素子を有する画素が複数個、例えばy個配列されている。換言すれば、画素自体は行方向に4x個配列されており、RGBWの各色を発光する画素はマトリクス状に、4x×y個配列される。   In the light emitting device 20, four pixels 30 </ b> R, 30 </ b> B, and 30 </ b> G that emit light in four colors of red (R), blue (B), green (G), and white (W), respectively, on the substrate 31 as illustrated in FIG. 13. , 30 W as a set, a plurality of, for example, x sets are arranged in the row direction (left-right direction in FIG. 13). In the column direction (vertical direction in FIG. 13), a plurality of, for example, y pixels having light emitting elements of the same light emitting color are arranged. In other words, 4x pixels are arranged in the row direction, and 4x × y pixels emitting each color of RGBW are arranged in a matrix.

次に、図13に示す発光装置20の断面構成を図14に示す。図14では、説明の便宜のため、基板31、画素電極42、隔壁48、それぞれ赤色(R)、緑色(G)、青色(B)、白色(W)の発光色を有する4色の発光層45(45R,45G,45B,45W)のみを図示し、その他の構成要素については図示を省略している。本実施形態では、4色の画素30R,30G,30B,30Wを備え、各発光層45R,45G,45B,45Wは、それぞれ画素30R,30G,30B,30Wの各々の発光素子を形成するものである。また、特に本実施の形態では、赤色の発光層45R、青色の発光層45Bを形成した上で、緑色の発光層45G、白色の発光層45Wを形成する。このため、緑色の発光層45Gの、赤色の発光層45Rと青色の発光層45Bとに接する部分は、それぞれ赤色の発光層45Rと青色の発光層45Bとの隔壁48に乗り上げた部分の一部を覆うように、その上に乗り上げて形成される。白色の発光層45Wについても同様であり、青色の発光層45Bと赤色の発光層45Rとに接する部分は、それぞれ青色の発光層45Bと赤色の発光層45Rとの隔壁48に乗り上げた部分の一部を覆うように、その上に乗り上げて形成される。   Next, FIG. 14 shows a cross-sectional configuration of the light-emitting device 20 shown in FIG. In FIG. 14, for convenience of explanation, the substrate 31, the pixel electrode 42, and the partition wall 48, four-color light emitting layers having red (R), green (G), blue (B), and white (W) emission colors, respectively. Only 45 (45R, 45G, 45B, 45W) is illustrated, and the other components are not shown. In the present embodiment, four-color pixels 30R, 30G, 30B, and 30W are provided, and the light emitting layers 45R, 45G, 45B, and 45W form the light emitting elements of the pixels 30R, 30G, 30B, and 30W, respectively. is there. In the present embodiment, in particular, the red light emitting layer 45R and the blue light emitting layer 45B are formed, and then the green light emitting layer 45G and the white light emitting layer 45W are formed. Therefore, the portion of the green light emitting layer 45G that is in contact with the red light emitting layer 45R and the blue light emitting layer 45B is a part of the portion that rides on the partition wall 48 of the red light emitting layer 45R and the blue light emitting layer 45B. It is formed by riding on it so as to cover it. The same applies to the white light-emitting layer 45W, and the portion in contact with the blue light-emitting layer 45B and the red light-emitting layer 45R is one of the portions on the partition wall 48 of the blue light-emitting layer 45B and the red light-emitting layer 45R, respectively. It is formed by riding on it so as to cover the part.

本実施形態でも、1列おきに発光層を形成するため、緑色の発光層45Gを形成する際には、緑色の発光層45Gに隣接する隔壁48上には、予め赤色の発光層45Rと、青色の発光層45Bが隔壁48上に形成されている。緑色の発光層45Gは、いずれの発光層に対しても同じ程度なじみやすいため、乾燥速度が異なることが抑制される。従って、緑色の発光層45Gは左右で膜厚が均一なものとなる。白色の発光層45Wについても同様である。また、予め1列おきに形成される赤色の発光層45R、青色の発光層45Bについては、隔壁48上に発光層が形成されていない状態で形成されるため、左右での乾燥速度の不均衡は生じない。従って、赤色の発光層45R、青色の発光層45Bについても、左右が対称な膜厚とすることができる。   Also in this embodiment, since the light emitting layer is formed every other row, when the green light emitting layer 45G is formed, the red light emitting layer 45R is previously formed on the partition wall 48 adjacent to the green light emitting layer 45G. A blue light emitting layer 45 </ b> B is formed on the partition wall 48. Since the green light-emitting layer 45G is easily adapted to the same degree as any light-emitting layer, it is suppressed that the drying speed is different. Therefore, the green light emitting layer 45G has a uniform thickness on the left and right. The same applies to the white light emitting layer 45W. In addition, the red light emitting layer 45R and the blue light emitting layer 45B, which are formed in every other row in advance, are formed in a state in which no light emitting layer is formed on the partition wall 48, and therefore, the drying rate imbalance between the left and right Does not occur. Therefore, the red light-emitting layer 45R and the blue light-emitting layer 45B can also have a symmetrical film thickness.

なお、本実施形態では、赤色の発光層45R、青色の発光層45Bを先に形成する構成を例に挙げて説明しているが、緑色の発光層45G、白色の発光層45Wを先に形成し、後から赤色の発光層45R、青色の発光層45Bを形成してもよい。なお、1列おきに発光層を形成すれば、本実施形態の効果を得られるため、発光層の色の順番や、発光層の塗布の順番は適宜変更可能である。   In the present embodiment, the configuration in which the red light emitting layer 45R and the blue light emitting layer 45B are formed first is described as an example, but the green light emitting layer 45G and the white light emitting layer 45W are formed first. Then, the red light emitting layer 45R and the blue light emitting layer 45B may be formed later. In addition, since the effect of this embodiment can be obtained if the light emitting layers are formed every other row, the order of the colors of the light emitting layers and the order of application of the light emitting layers can be appropriately changed.

また、発光素子の個数を偶数個とすればよく、例えば、第1実施形態と第2実施形態とを組み合わせ、1色を2分割にした上で、複数色を備える構成、例えば第2実施形態のように偶数個の色、具体的に4色としてもよい。   Further, the number of light emitting elements may be an even number. For example, the first embodiment and the second embodiment are combined, and one color is divided into two, and then a plurality of colors are provided, for example, the second embodiment. An even number of colors, specifically four colors, may be used.

本発明は上述した実施形態に限られず様々な変形及び応用が可能である。
また、上述した実施形態では、発光機能層が発光層のみを備える構成を例に挙げているが、これに限られず、図15に示すように、正孔注入層43、インターレイヤ層44等を更に備えてもよい。正孔注入層43、インターレイヤ層44は、複数色の発光層を備える場合であっても、共通した材料から形成することができる。従って、これらの正孔注入層43、インターレイヤ層44を形成する際は、1列おきにこれらの材料を含有する有機化合物含有液を塗布すると、これらの膜厚を比較的均一とすることができ好ましい。1列おきに塗布した場合、図15に示すように、正孔注入層43の端は、隣接する正孔注入層43の端を覆うように形成される。インターレイヤ層44についても同様に、隣接するインターレイヤ層44の端を覆うように形成される。
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications and applications are possible.
In the above-described embodiment, the configuration in which the light emitting functional layer includes only the light emitting layer is given as an example. However, the present invention is not limited thereto, and as illustrated in FIG. Further, it may be provided. The hole injection layer 43 and the interlayer layer 44 can be formed of a common material even when a plurality of light emitting layers are provided. Therefore, when these hole injection layer 43 and interlayer layer 44 are formed, if an organic compound-containing liquid containing these materials is applied every other row, the film thickness can be made relatively uniform. This is preferable. When applied every other row, as shown in FIG. 15, the end of the hole injection layer 43 is formed so as to cover the end of the adjacent hole injection layer 43. Similarly, the interlayer layer 44 is formed so as to cover the end of the adjacent interlayer layer 44.

なお、正孔注入層43を形成する場合、例えば導電性ポリマーであるポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)とドーパントであるポリスチレンスルホン酸(PSS)を水系溶媒に分散させた分散液であるPEDOT/PSS水溶液を用いる。   When the hole injection layer 43 is formed, for example, a PEDOT / PSS aqueous solution that is a dispersion in which polyethylenedioxythiophene (PEDOT) that is a conductive polymer and polystyrene sulfonic acid (PSS) that is a dopant are dispersed in an aqueous solvent. Is used.

上述した実施形態では、画素回路DSは2つのトランジスタを備える構成を例に挙げているが、3つ以上のトランジスタを備えるものであってもよい。   In the embodiment described above, the pixel circuit DS has a configuration including two transistors as an example. However, the pixel circuit DS may include three or more transistors.

また、上述した実施形態ではボトムエミッション型の有機EL素子を中心に説明したが、これに限られず有機EL素子OELにより発生した光を、対向電極46を介して外部に出射するトップエミッション型の有機EL素子に用いることも可能である。この場合、画素電極42は透光性を有しない材料から形成してもよく、対向電極46は、10nm程度の膜厚の極薄い例えばLi、Mg、Ca、Ba等の仕事関数の低い材料からなる光透過性低仕事関数層と、100nm〜200nm程度の膜厚のITO等の光反射性導電層を有する透明積層構造とする。   In the above-described embodiments, the bottom emission type organic EL element has been described. However, the present invention is not limited to this, and the top emission type organic EL element that emits light generated by the organic EL element OEL to the outside through the counter electrode 46 is not limited thereto. It can also be used for EL elements. In this case, the pixel electrode 42 may be formed from a material that does not have translucency, and the counter electrode 46 is formed from a material with a low work function such as Li, Mg, Ca, Ba such as a very thin film having a thickness of about 10 nm. A transparent laminated structure having a light transmissive low work function layer and a light reflective conductive layer such as ITO having a thickness of about 100 nm to 200 nm.

上述した各実施形態では、発光装置を表示装置として利用する構成を例に挙げて説明しているが、プリンタの感光ドラムに光を照射するプリンタヘッド等の露光装置としても利用することができる。   In each of the above-described embodiments, the configuration in which the light emitting device is used as a display device has been described as an example. However, it can also be used as an exposure device such as a printer head that irradiates light to a photosensitive drum of a printer.

10,20・・・発光装置、30,30R,30G,30G1,30G2,30B,30W・・・画素、31・・・基板、32・・・絶縁膜、42・・・画素電極(アノード電極)、43・・・正孔注入層、44・・・インターレイヤ層、45,45R,45G1,45G2,45B,45W・・・発光層、46・・・対向電極(カソード電極)、47・・・層間絶縁膜、48・・・隔壁、50・・・ノズルヘッド、52・・・溶液、114・・・半導体層、115・・・ストッパ膜、116,117・・・オーミックコンタクト層、Tr11d,Tr12d・・・ドレイン電極、Tr11g,Tr12g・・・ゲート電極、Tr11s,Tr12s・・・ソース電極、La・・・アノードライン、Ls・・・走査ライン、Ld・・・データライン、Tr11・・・選択トランジスタ、Tr12・・・駆動トランジスタ DESCRIPTION OF SYMBOLS 10,20 ... Light-emitting device, 30, 30R, 30G, 30G1, 30G2, 30B, 30W ... Pixel, 31 ... Substrate, 32 ... Insulating film, 42 ... Pixel electrode (anode electrode) , 43 ... hole injection layer, 44 ... interlayer layer, 45, 45R, 45G1, 45G2, 45B, 45W ... light emitting layer, 46 ... counter electrode (cathode electrode), 47 ... Interlayer insulating film 48... Partition wall 50... Nozzle head 52. Solution 114. Semiconductor layer 115 stopper film 116 and 117 ohmic contact layer Tr11d and Tr12d ... Drain electrode, Tr11g, Tr12g ... Gate electrode, Tr11s, Tr12s ... Source electrode, La ... Anode line, Ls ... Scan line, Ld ... Data Inn, Tr11 ··· selection transistor, Tr12 ··· drive transistor

Claims (9)

複数の行及び複数の列に沿って配列された複数の発光素子を備え、
前記各発光素子は、所定の発光色で発光する発光層を含む発光機能層を有し、
行方向に一定の順序で配列されたn(nは偶数)個の前記発光素子を有する複数の組が、行方向に一定の順序で互いに隣接して配列されており、
行方向に隣接して配列された前記各発光素子間に設けられた間隙領域を有し、
前記各発光素子の前記発光機能層は、前記発光層の形成領域と行方向に沿った両側の前記間隙領域の一部とに跨って形成されており、
該各組は、n/2個の前記発光素子を含む第1発光素子群とn/2個の前記発光素子を含む第2発光素子群のみを有し、
前記第1発光素子群の前記各発光素子と前記第2発光素子群の前記各発光素子とは、1個の前記発光素子毎に、行方向に沿って交互に配列され、
前記第1発光素子群の前記各発光素子の前記発光機能層は、該各発光素子の行方向に沿った両側に隣接して配列された前記第2発光素子群の2個の前記発光素子の各々との間の前記間隙領域において、該第2発光素子群の前記2個の発光素子の前記発光機能層の一部に覆われ、
前記第2発光素子群の前記各発光素子の前記発光機能層は、該各発光素子の行方向に沿った両側に隣接して配列された前記第1発光素子群の2個の前記発光素子の各々との間の前記間隙領域において、該第1発光素子群の前記2個の発光素子の前記発光機能層の一部を覆っていることを特徴とする発光装置。
Comprising a plurality of light emitting elements arranged along a plurality of rows and a plurality of columns;
Each of the light emitting elements has a light emitting functional layer including a light emitting layer that emits light in a predetermined emission color,
A plurality of sets having n (n is an even number) light emitting elements arranged in a fixed order in the row direction are arranged adjacent to each other in a fixed order in the row direction;
A gap region provided between the light emitting elements arranged adjacent to each other in the row direction;
The light emitting functional layer of each light emitting element is formed across the formation region of the light emitting layer and a part of the gap region on both sides along the row direction,
Each set includes only a first light emitting element group including n / 2 light emitting elements and a second light emitting element group including n / 2 light emitting elements.
The light emitting elements of the first light emitting element group and the light emitting elements of the second light emitting element group are alternately arranged along the row direction for each of the light emitting elements.
The light emitting functional layer of each light emitting element of the first light emitting element group includes two light emitting elements of the second light emitting element group arranged adjacent to both sides along the row direction of each light emitting element. In the gap region between each of the two light emitting element groups, the two light emitting element groups are covered by a part of the light emitting functional layer,
The light emitting functional layer of each light emitting element of the second light emitting element group includes two light emitting elements of the first light emitting element group arranged adjacent to both sides along the row direction of each light emitting element. The light emitting device characterized in that a part of the light emitting functional layer of the two light emitting elements of the first light emitting element group is covered in the gap region between each.
前記各組の前記n個の発光素子は、
第1の発光色の第1の発光層を有する第1の発光素子と、
前記第1の発光色と異なる第2の発光色の第2の発光層を有する第2の発光素子と、
前記第1及び前記第2の発光色と異なる第3の発光色の第3の発光層を有する第3の発光素子と、を有し、
前記第1の発光素子、前記第2の発光素子及び前記第3の発光素子のいずれか1つの特定の発光素子と同じ色の発光色の第4の発光層を有する第4の発光素子と、備えることを特徴とする請求項1に記載の発光装置。
The n light emitting elements in each set are
A first light-emitting element having a first light-emitting layer of a first emission color;
A second light emitting element having a second light emitting layer of a second light emitting color different from the first light emitting color;
A third light-emitting element having a third light-emitting layer having a third light-emitting color different from the first and second light-emitting colors,
The first light-emitting element, and the fourth light-emitting element having a fourth light-emitting layer of the light emitting color of the same color and the second light-emitting element and the third light-emitting element Neu Zureka one particular light emitting element the light emitting device according to claim 1, characterized in that it comprises a.
記特定の発光素子と前記第4の発光素子は、前記第1発光素子群と前記第2発光素子群の一方をなすことを特徴とする請求項2に記載の発光装置。 Before Kitoku the fourth light emitting element and the light emitting element of the constant-emitting device according to claim 2, wherein the forming one of said second light emitting element group and the first light emitting element group. 前記各組の前記個の発光素子は
第1の発光色の第1の発光層を有する第1の発光素子と、
前記第1の発光色と異なる第2の発光色の第2の発光層を有する第2の発光素子と、
前記第1及び前記第2の発光色と異なる第3の発光色の第3の発光層を有する第3の発光素子と、
前記第1乃至前記第3の発光色と異なる第4の発光色の第4の発光層を有する第4の発光素子と、を備えることを特徴とする請求項1に記載の発光装置。
The n light emitting element of said each set,
A first light-emitting element having a first light-emitting layer of a first emission color;
A second light emitting element having a second light emitting layer of a second light emitting color different from the first light emitting color;
A third light emitting element having a third light emitting layer of a third light emitting color different from the first and second light emitting colors;
The light-emitting device according to claim 1, further comprising: a fourth light-emitting element having a fourth light-emitting layer having a fourth light-emitting color different from the first to third light-emitting colors.
複数の行及び複数の列に沿って所定の発光色で発光する複数の発光素子が配列された発光装置の製造方法であって、
前記発光装置は、行方向に隣接して配列された前記各発光素子間に設けられた間隙領域を有し、
行方向に一定の順序で配列されたn(nは偶数)個の前記発光素子を有する複数の組を、行方向に一定の順序で互いに隣接して配列するように形成し、該各組として、n/2個の前記発光素子を含む第1発光素子群とn/2個の前記発光素子を含む第2発光素子群のみを形成し、前記第1発光素子群の前記各発光素子と前記第2発光素子群の前記各発光素子とを、1個の前記発光素子毎に、行方向に沿って交互に配列して形成する発光素子形成工程を備え、
前記発光素子形成工程は、
個の前記発光素子毎に行方向に沿って交互に配列される前記第1発光素子群の前記各発光素子の所定の発光色で発光する発光層の形成領域に、溶液を列方向に塗布して、前記発光層を含む発光機能層を1列おきに形成する第1の工程と、
前記第1の工程の後、前記第1の工程で前記溶液が塗布されなかった列に配列される前記第2発光素子群の前記各発光素子の前記発光層の形成領域に、前記溶液を列方向に塗布して、前記発光機能層を形成する第2の工程と、を含み、
前記第1の工程及び前記第2の工程で形成される前記発光機能層は、前記発光層の形成領域と行方向に沿った両側の前記間隙領域の一部とに跨って形成され、
前記第1の工程により形成される前記第1発光素子群の前記各発光素子の前記発光機能層は、該各発光素子の行方向に沿って両側に隣接して配列された前記第2発光素子群の2個の前記発光素子の各々との間の前記間隙領域において、該第2発光素子群の前記2個の発光素子の前記発光機能層の一部に覆われるように形成され、
前記第2の工程により形成される前記第2発光素子群の前記各発光素子の前記発光機能層は、該各発光素子の行方向に沿った両側に隣接して配列された前記第1発光素子群の2個の前記発光素子の各々との間の前記間隙領域において、該第1発光素子群の前記2個の発光素子の前記発光機能層の一部を覆うように形成されることを特徴とする発光装置の製造方法。
A method of manufacturing a light-emitting device in which a plurality of light-emitting elements that emit light of a predetermined emission color along a plurality of rows and a plurality of columns are arranged,
The light emitting device has a gap region provided between the light emitting elements arranged adjacent to each other in a row direction,
A plurality of sets having n (n is an even number) light emitting elements arranged in a fixed order in the row direction are formed so as to be adjacent to each other in a fixed order in the row direction, , Forming only a first light emitting element group including n / 2 light emitting elements and a second light emitting element group including n / 2 light emitting elements, and each of the light emitting elements of the first light emitting element group A light emitting element forming step of forming each light emitting element of the second light emitting element group alternately arranged along the row direction for each one of the light emitting elements;
The light emitting element forming step includes:
A solution is applied in a column direction to a formation region of a light emitting layer that emits light of a predetermined light emission color of each light emitting element of the first light emitting element group that is alternately arranged along the row direction for each of the light emitting elements. And forming a light emitting functional layer including the light emitting layer every other row,
After the first step, the solution is arranged in the formation region of the light emitting layer of each light emitting element of the second light emitting element group arranged in the row where the solution is not applied in the first step. A second step of applying in the direction to form the light emitting functional layer,
The light emitting functional layer formed in the first step and the second step is formed across the formation region of the light emitting layer and a part of the gap region on both sides along the row direction,
The second light emitting element in which the light emitting functional layer of each light emitting element of the first light emitting element group formed by the first step is arranged adjacent to both sides along the row direction of each light emitting element. Formed in the gap region between each of the two light emitting elements of the group so as to be covered by a part of the light emitting functional layer of the two light emitting elements of the second light emitting element group;
The first light emitting element in which the light emitting functional layer of each light emitting element of the second light emitting element group formed by the second step is arranged adjacent to both sides along the row direction of each light emitting element. The gap region between each of the two light emitting elements of the group is formed so as to cover a part of the light emitting functional layer of the two light emitting elements of the first light emitting element group. A method for manufacturing a light emitting device.
前記発光素子形成工程は、前記各組の前記n個の発光素子として、第1の発光色の第1の発光層を有する第1の発光素子と、前記第1の発光色と異なる第2の発光色の第2の発光層を有する第2の発光素子と、前記第1及び前記第2の発光色と異なる第3の発光色の第3の発光層を有する第3の発光素子と、を形成するとともに、前記第1の発光素子、前記第2の発光素子及び前記第3の発光素子のいずれか1つの特定の発光素子と同じ色の発光色の第4の発光層を有する第4の発光素子と、を形成する、ことを特徴とする請求項5に記載の発光装置の製造方法。 The light emitting element forming step includes a first light emitting element having a first light emitting layer of a first light emitting color as the n light emitting elements of each set, and a second light emitting color different from the first light emitting color. A second light emitting element having a second light emitting layer having a light emitting color, and a third light emitting element having a third light emitting layer having a third light emitting color different from the first and second light emitting colors. and forming a fourth with the first light emitting element, the second light-emitting element and the third light-emitting element Neu Zureka one fourth emission color of the same color as the particular light-emitting elements of the light emitting layer method of manufacturing a light-emitting device according to claim 5 in which the light emitting element, to form formed of, it is characterized. 前記発光素子形成工程は、前記特定の発光素子と前記第4の発光素子を、前記第1発光素子群と前記第2発光素子群の一方として形成することを特徴とする請求項6に記載の発光装置の製造方法。 The light emitting device forming step, before the Kitoku constant of the light emitting device said fourth light-emitting element, to claim 6, characterized in that formed as one of the second light emitting element group and the first light emitting element group The manufacturing method of the light-emitting device of description. 前記発光素子形成工程は、前記一組の発光素子として、第1の発光色の第1の発光層を有する第1の発光素子と、前記第1の発光色と異なる第2の発光色の第2の発光層を有する第2の発光素子と、前記第1及び前記第2の発光色と異なる第3の発光色の第3の発光層を有する第3の発光素子と、前記第1乃至前記第3の発光色と異なる第4の発光色の第4の発光層を有する第4の発光素子と、を形成することを特徴とする請求項5に記載の発光装置の製造方法。   The light emitting element forming step includes a first light emitting element having a first light emitting layer of a first light emitting color as the set of light emitting elements, and a second light emitting color different from the first light emitting color. A second light-emitting element having two light-emitting layers; a third light-emitting element having a third light-emitting layer having a third light-emitting color different from the first and second light-emitting colors; The method for manufacturing a light emitting device according to claim 5, further comprising: forming a fourth light emitting element having a fourth light emitting layer having a fourth light emitting color different from the third light emitting color. 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の発光装置を備えることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the light-emitting device according to claim 1.
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