JP2011185698A - Chip structure - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a chip structure used in a surface plasmon enhanced fluorescent device, capable of being configured to eliminate the need for a lens, and preventing the lowering of an S/N value caused by the lowering of condensing efficiency regardless of low cost. <P>SOLUTION: In the chip structure used in the surface plasmon enhanced fluorescent device having a metal membrane receiving the irradiation with exciting light on one side to be enhanced in electric field, the reaction part formed on the other side of the metal membrane to excite a fluorescent substance by the enhanced electric field, and a substrate comprising a fluorescence pervious base material and having a flow channel for sending a liquid using the reaction part as a base by joining the surface having a flow channel groove formed thereto to the surface of the metal membrane, the cavity groove surrounding the periphery of the reaction part to upwardly extend is provided to the substrate centering the reaction part and fluorescence can be reflected from the boundary surface of the cavity groove and the substrate. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、表面プラズモン励起増強蛍光分光法(SPFS;Surface Plasmon-field enhanced Fluorescence Spectroscopy)の原理に基づいた表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるチップ構造体に関する。   The present invention relates to a chip structure used in a surface plasmon enhanced fluorescence measuring apparatus based on the principle of surface plasmon excitation enhanced fluorescence spectroscopy (SPFS).

従来、表面プラズモン励起増強蛍光分光法(SPFS)の原理に基づき、例えば生体内の極微少なアナライトの検出が行われている。表面プラズモン励起増強蛍光分光法(SPFS)は、光源より照射したレーザ光(励起光)が金属薄膜表面で全反射減衰(ATR;attenuated total reflectance)する条件において、金属薄膜表面に粗密波(表面プラズモン)を発生させることによって、光源より照射したレーザ光(励起光)が有するフォトン量を数十倍〜数百倍に増やし(表面プラズモンの電場増強効果)、これにより金属薄膜近傍の蛍光物質を効率良く励起させることによって、極微量および/または極低濃度のアナライトを検出する方法である。   Conventionally, based on the principle of surface plasmon excitation enhanced fluorescence spectroscopy (SPFS), for example, detection of extremely small analytes in a living body has been performed. Surface plasmon excitation-enhanced fluorescence spectroscopy (SPFS) is a method in which a rough wave (surface plasmon) is generated on the surface of a metal thin film under the condition that the laser light (excitation light) irradiated from a light source attenuates total reflection (ATR) on the surface of the metal thin film. ) To increase the photon amount of the laser light (excitation light) emitted from the light source by several tens to several hundreds times (electric field enhancement effect of surface plasmons), thereby improving the efficiency of the fluorescent material near the metal thin film. It is a method for detecting an extremely small amount and / or an extremely low concentration of analyte by exciting well.

近年、このような表面プラズモン励起増強蛍光分光法(SPFS)の原理に基づいた表面プラズモン増強蛍光測定装置の開発が進められており、例えば特許文献1や特許文献2などにその技術開示がなされている。   In recent years, development of a surface plasmon enhanced fluorescence measuring apparatus based on the principle of such surface plasmon excitation enhanced fluorescence spectroscopy (SPFS) has been promoted, and the technical disclosure thereof has been made in, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2. Yes.

このような表面プラズモン増強蛍光測定装置10は、図8に示したように基本的な構造において、誘電体部材106の表面に金属薄膜102、更にその表面に反応部104が設けられたチップ構造体108を備えている。   Such a surface plasmon enhanced fluorescence measuring apparatus 10 has a basic structure as shown in FIG. 8 and has a chip structure in which a metal thin film 102 is provided on the surface of a dielectric member 106 and a reaction portion 104 is provided on the surface thereof. 108 is provided.

そして、チップ構造体108の誘電体部材106側には、誘電体部材106内に入射され、金属薄膜102に向かって励起光b1を照射する光源112を備え、さらに光源112から照射され金属薄膜102で全反射した金属薄膜全反射光b2を受光する受光手段116が備えられている。   The chip structure 108 includes a light source 112 that is incident on the dielectric member 106 and irradiates the excitation light b1 toward the metal thin film 102 on the dielectric member 106 side. The light receiving means 116 for receiving the metal thin film total reflection light b2 totally reflected in (1) is provided.

一方、チップ構造体108の反応部104側には、反応部104に捕捉されたアナライトを標識した蛍光物質が発する蛍光b3を受光する光検出手段120が設けられている。   On the other hand, on the reaction part 104 side of the chip structure 108, a light detection means 120 for receiving the fluorescence b3 emitted from the fluorescent substance labeled with the analyte captured by the reaction part 104 is provided.

なお、反応部104と光検出手段120との間には、蛍光b3を効率よく集光するための集光部材122と、蛍光b3以外に含まれる光を除去し、必要な蛍光のみを選択するフィルタ124が設けられている。   In addition, between the reaction part 104 and the light detection means 120, the condensing member 122 for condensing the fluorescence b3 efficiently and the light contained other than the fluorescence b3 are removed, and only the necessary fluorescence is selected. A filter 124 is provided.

そして、表面プラズモン増強蛍光測定装置10の使用においては、あらかじめ金属薄膜102の表面上には検出対象のDNA等のアナライトに含まれる抗原に特異的に結合する1次抗体があらかじめ固定されている。金属薄膜102に接する反応部104に、アナライト及び当該アナライトに特異的に結合する2次抗体を順に送液して、2次抗体を反応部104で捕捉させる。アナライトとともに捕捉される2次抗体は蛍光物質で標識されている。   In using the surface plasmon enhanced fluorescence measuring apparatus 10, a primary antibody that specifically binds to an antigen contained in an analyte such as DNA to be detected is immobilized in advance on the surface of the metal thin film 102. . An analyte and a secondary antibody that specifically binds to the analyte are sequentially sent to the reaction part 104 in contact with the metal thin film 102, and the secondary antibody is captured by the reaction part 104. The secondary antibody captured together with the analyte is labeled with a fluorescent substance.

反応部104の蛍光標識に光源112より誘電体部材106内に励起光b1を照射し、この励起光b1が特定の角度(共鳴角)θ1で金属薄膜102に入射することで、金属薄膜102上に粗密波(表面プラズモン)を生ずるようになっている。なお、金属薄膜102上に粗密波(表面プラズモン)が生ずる際には、励起光b1と金属薄膜102中の電子振動とがカップリングし、金属薄膜全反射光b2の光量減少という現象が生ずる。   The excitation light b1 is irradiated into the dielectric member 106 from the light source 112 to the fluorescent label of the reaction unit 104, and the excitation light b1 is incident on the metal thin film 102 at a specific angle (resonance angle) θ1. In this way, a dense wave (surface plasmon) is generated. In addition, when a close-packed wave (surface plasmon) is generated on the metal thin film 102, the excitation light b1 and the electronic vibration in the metal thin film 102 are coupled, resulting in a phenomenon that the light amount of the metal thin film total reflection light b2 is reduced.

受光手段116及び光源112とは対となって金属薄膜102の照射領域を中心として回動し、金属薄膜102への入射角度を変更することができる。入射角度を変化させ、その際の受光手段116で受光される金属薄膜全反射光b2のシグナルが変化(光量が減少)する地点を見つければ、粗密波(表面プラズモン)が生ずる共鳴角θ1を得ることができる。   The light receiving means 116 and the light source 112 can be paired and rotated around the irradiation area of the metal thin film 102 to change the incident angle to the metal thin film 102. If the incident angle is changed and a point where the signal of the metal thin film total reflection light b2 received by the light receiving means 116 at that time changes (the amount of light decreases) is found, a resonance angle θ1 at which a dense wave (surface plasmon) occurs is obtained. be able to.

そして、この粗密波(表面プラズモン)を生ずる現象により、金属薄膜102上の反応部104の蛍光物質が効率良く励起され、これにより蛍光物質が発する蛍光b3の光量が増大することとなる。   Then, due to the phenomenon of generating the rough wave (surface plasmon), the fluorescent material in the reaction portion 104 on the metal thin film 102 is efficiently excited, and thereby the amount of fluorescent b3 emitted from the fluorescent material is increased.

この増大した蛍光b3を、集光部材122およびフィルタ124を介して光検出手段120で受光することで、極微量および/または極低濃度のアナライトを検出することができるようになっている。   The increased fluorescence b3 is received by the light detection means 120 through the light collecting member 122 and the filter 124, so that an extremely small amount and / or extremely low concentration of the analyte can be detected.

このように、表面プラズモン増強蛍光測定装置10は、特に生体分子間などの微細な分子活動を観察可能とする高感度計測センサである。   Thus, the surface plasmon enhanced fluorescence measurement device 10 is a high-sensitivity measurement sensor that enables observation of minute molecular activities, particularly between biomolecules.

特許第3294605号公報Japanese Patent No. 3294605 特開2008−102117号公報JP 2008-102117 A

しかしながら、上述したような従来の表面プラズモン増強蛍光装置10では、集光部材122を用いて、増強された蛍光b3を光検出手段120で検出するようになっている。このような集光部材122には通常レンズが用いられているが、レンズは非常に高価であり、焦点合わせが非常に大変なものあった。   However, in the conventional surface plasmon enhanced fluorescence apparatus 10 as described above, the enhanced fluorescence b3 is detected by the light detection means 120 using the light collecting member 122. A lens is usually used for such a light collecting member 122, but the lens is very expensive and focusing is very difficult.

また、反応部104の蛍光物質から発せられる蛍光を効率よく集光するためには、集光部材122を反応部104に近接することが望ましいが、チップ構造体108と集光部材122とは別部品で構成されているために、自ずと限界があり、離れた位置に配置された集光部材122では十分な集光効率が確保できず、やはりS/Nの値が低くなってしまう問題を有するものであった。   Further, in order to efficiently collect the fluorescence emitted from the fluorescent material in the reaction unit 104, it is desirable that the light collecting member 122 be close to the reaction unit 104. However, the chip structure 108 and the light collecting member 122 are different from each other. Since it is composed of parts, there is a limit naturally, and the condensing member 122 arranged at a distant position cannot secure sufficient condensing efficiency, and also has a problem that the value of S / N becomes low. It was a thing.

本発明はこのような問題に鑑み、レンズを不要の構成とすることが可能となり、低コストにも係わらず、集光効率が落ちてS/Nの値が低下することがない、表面プラズモン増強蛍光装置に用いられるチップ構造体を提供することを目的とする。   In view of such a problem, the present invention makes it possible to make the lens an unnecessary configuration, and in spite of low cost, the light collection efficiency does not decrease and the S / N value does not decrease. It aims at providing the chip structure used for a fluorescence device.

上記の目的は、下記に記載する発明により達成される。   The above object is achieved by the invention described below.

1.表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるチップ構造体であって、
一方の面に励起光が照射されることにより電場が増強される金属薄膜と、
前記金属薄膜の他方の面側に形成された反応部であって、増強された前記電場により蛍光物質を励起させる反応部と、
蛍光を透過する基材からなり、流路溝が形成された面を前記金属薄膜の面に接合することにより前記反応部を底面として液体を送液する流路を形成した基体と、を有し、
前記基体には、前記反応部を中心として、その周囲を囲み上方に伸びる空洞溝が設けられており、前記空洞溝と前記基体との境界面で前記蛍光を反射可能であることを特徴とするチップ構造体。
1. A chip structure used in a surface plasmon enhanced fluorescence measuring device,
A metal thin film whose electric field is enhanced by irradiating one surface with excitation light;
A reaction part formed on the other surface side of the metal thin film, the reaction part exciting the fluorescent substance by the enhanced electric field;
And a substrate on which a flow path for sending liquid is formed with the reaction part as a bottom surface by joining the surface on which the channel groove is formed to the surface of the metal thin film. ,
The substrate is provided with a hollow groove extending around the periphery of the reaction portion and extending upward, and the fluorescence can be reflected at a boundary surface between the hollow groove and the substrate. Chip structure.

2.前記空洞溝に囲まれた基体の形状は円柱状又は、上方に広がる円錐台形状であることを特徴とする前記1に記載のチップ構造体。   2. 2. The chip structure according to 1 above, wherein the shape of the substrate surrounded by the hollow groove is a columnar shape or a truncated cone shape extending upward.

3.前記空洞溝は、前記流路に貫通していないことを特徴とする、前記1又は2に記載のチップ構造体。   3. 3. The chip structure according to 1 or 2, wherein the hollow groove does not penetrate the flow path.

4.前記空洞溝には、前記基材よりも低屈折率の他の基材からなる部材が挿入されていることを特徴とする前記1から3のいずれか一項に記載のチップ構造体。   4). 4. The chip structure according to any one of 1 to 3, wherein a member made of another base material having a lower refractive index than the base material is inserted into the hollow groove.

5.前記基材は、透明樹脂であり、前記基体は成形により製造されていることを特徴とする前記1から4のいずれか一項に記載のチップ構造体。   5. 5. The chip structure according to claim 1, wherein the base is a transparent resin, and the base is manufactured by molding.

6.表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるチップ構造体であって、
一方の面に励起光が照射されることにより電場が増強される金属薄膜と、
前記金属薄膜の他方の面側に形成された反応部であって、増強された前記電場により蛍光物質を励起させる反応部と、
蛍光を透過する基材からなり、流路溝が形成された面を前記金属薄膜の面に接合することにより前記反応部を底面として液体を送液する流路を形成した基体と、を有し、
前記基体には、前記反応部を中心として、その上方に空洞溝が設けられており、
前記空洞溝には、円柱状又は円錐台形状の集光ロッドが挿入されており、前記集光ロッドの側壁で前記蛍光を反射可能であることを特徴とするチップ構造体。
6). A chip structure used in a surface plasmon enhanced fluorescence measuring device,
A metal thin film whose electric field is enhanced by irradiating one surface with excitation light;
A reaction part formed on the other surface side of the metal thin film, the reaction part exciting the fluorescent substance by the enhanced electric field;
And a substrate on which a flow path for sending liquid is formed with the reaction part as a bottom surface by joining the surface on which the channel groove is formed to the surface of the metal thin film. ,
The base body is provided with a hollow groove above the reaction part,
A cylindrical structure or a truncated cone-shaped condensing rod is inserted into the hollow groove, and the chip structure is capable of reflecting the fluorescence by a side wall of the condensing rod.

7.前記集光ロッドは、光ファイバであることを特徴とする前記6に記載のチップ構造体。   7). 7. The chip structure according to 6, wherein the condensing rod is an optical fiber.

8.表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるチップ構造体であって、
一方の面に励起光が照射されることにより電場が増強される金属薄膜と、
前記金属薄膜の他方の面側に形成された反応部であって、増強された前記電場により蛍光物質を励起させる反応部と、
蛍光を透過する基材からなり、流路溝が形成された面を前記金属薄膜の面に接合することにより前記反応部を底面として液体を送液する流路を形成した基体と、を有し、
前記基体には、前記反応部を中心として、その上方に空洞溝が設けられており、
前記基体の前記空洞溝に面する表面に鏡面加工が施されていることを特徴とするチップ構造体。
8). A chip structure used in a surface plasmon enhanced fluorescence measuring device,
A metal thin film whose electric field is enhanced by irradiating one surface with excitation light;
A reaction part formed on the other surface side of the metal thin film, the reaction part exciting the fluorescent substance by the enhanced electric field;
And a substrate on which a flow path for sending liquid is formed with the reaction part as a bottom surface by joining the surface on which the channel groove is formed to the surface of the metal thin film. ,
The base body is provided with a hollow groove above the reaction part,
A chip structure, wherein the surface of the substrate facing the hollow groove is mirror-finished.

レンズを不要の構成とすることが可能となり、低コストにも係わらず、集光効率が落ちてS/Nの値が低下することがない、表面プラズモン増強蛍光装置に用いられるチップ構造体を提供することが可能となる。   Provided chip structure for use in a surface plasmon-enhanced fluorescent device that allows a lens to have an unnecessary configuration and does not lower the light collection efficiency and reduce the S / N value despite the low cost. It becomes possible to do.

マイクロチップ送液システムを用いた表面プラズモン増強蛍光測定装置の概略図である。It is the schematic of the surface plasmon enhanced fluorescence measuring apparatus using a microchip liquid feeding system. 図2(a)はマイクロチップ14周辺の断面図であり、図2(b)はその一部の上面図である。2A is a cross-sectional view around the microchip 14, and FIG. 2B is a top view of a part thereof. チップ構造体108の構成を示す模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing a configuration of a chip structure 108. 第2の実施形態におけるチップ構造体108の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the chip structure 108 in 2nd Embodiment. 第3の実施形態におけるチップ構造体108の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the chip structure 108 in 3rd Embodiment. 第4の実施形態におけるチップ構造体108の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the chip structure 108 in 4th Embodiment. 第5の実施形態におけるチップ構造体108の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the chip structure 108 in 5th Embodiment. 従来の表面プラズモン増強蛍光測定装置の概略図である。It is the schematic of the conventional surface plasmon enhanced fluorescence measuring apparatus.

本発明を実施の形態に基づいて説明するが、本発明は該実施の形態に限られない。   Although the present invention will be described based on an embodiment, the present invention is not limited to the embodiment.

図1、図2は、実施形態に係るマイクロチップ送液システムを用いた表面プラズモン増強蛍光測定装置の概略図である。   1 and 2 are schematic views of a surface plasmon enhanced fluorescence measuring apparatus using the microchip liquid feeding system according to the embodiment.

表面プラズモン増強蛍光測定装置は、励起光を金属薄膜に照射して粗密波(表面プラズモン)を生じさせて励起された蛍光物質が生ずる蛍光を正確に検出し、検出感度を上げても超高精度に蛍光検出を行うことを可能とするものである。   Surface plasmon-enhanced fluorescence measurement device accurately detects the fluorescence generated by the excited fluorescent material by irradiating a metal thin film with excitation light to generate a rough wave (surface plasmon), and it is extremely accurate even if the detection sensitivity is increased. It is possible to detect fluorescence.

[表面プラズモン増強蛍光測定装置10、及び検体検出方法]
本発明の表面プラズモン増強蛍光測定装置10は、図1に示したように、金属薄膜102と、金属薄膜102の表面に形成された反応部104と、基体142とを有するチップ構造体108を備えている。金属薄膜102の一方の面側には誘電体部材106が形成されており、反応部104は金属薄膜102の他方の面側に形成されている。
[Surface Plasmon Enhanced Fluorescence Measurement Apparatus 10 and Specimen Detection Method]
As shown in FIG. 1, the surface plasmon enhanced fluorescence measuring apparatus 10 of the present invention includes a chip structure 108 having a metal thin film 102, a reaction portion 104 formed on the surface of the metal thin film 102, and a base 142. ing. A dielectric member 106 is formed on one surface side of the metal thin film 102, and the reaction portion 104 is formed on the other surface side of the metal thin film 102.

基体に用いる基材としては、樹脂が用いられる。その樹脂としては、成形性(転写性、離型性)が良いこと、透明性が高いこと、紫外線や可視光に対する自家蛍光性が低いことなどが条件として挙げられるが、特に限定されるものではない。例えば、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ナイロン6、ナイロン66、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリプロピレン、ポリイソプレン、ポリエチレン、ポリジメチルシロキサン、環状ポリオレフィンなどが用いられる。   A resin is used as the base material used for the base. Examples of the resin include good moldability (transferability and releasability), high transparency, and low autofluorescence with respect to ultraviolet rays and visible light, but are not particularly limited. Absent. For example, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyacrylonitrile, polyvinyl chloride, polyethylene terephthalate, nylon 6, nylon 66, polyvinyl acetate, polyvinylidene chloride, polypropylene, polyisoprene, polyethylene, polydimethylsiloxane, cyclic polyolefin, etc. Used.

また、高屈折率の観点からは、更にポリカーボネートが好ましい。   Further, from the viewpoint of high refractive index, polycarbonate is more preferable.

基体142の一方の面には流路溝が形成されており、流路溝が形成された面を金属薄膜102の面に接着剤塗布あるいは加熱及び加圧を所定時間行うこと等により接合することにより反応部104を底面として液体を送液する流路143が形成される。また基体142には反応部104を中心として、その周囲を囲み上方に伸びる空洞溝h1が設けられている。空洞溝h1についての詳細は後述の図3の説明で行う。また、基体142の形成方法としては、コストの観点から金型を用いた射出成形が好ましい。   A channel groove is formed on one surface of the substrate 142, and the surface on which the channel groove is formed is bonded to the surface of the metal thin film 102 by applying an adhesive or heating and pressing for a predetermined time. As a result, the flow path 143 for feeding the liquid with the reaction unit 104 as the bottom surface is formed. The base body 142 is provided with a hollow groove h1 surrounding the reaction portion 104 and extending upward. Details of the hollow groove h1 will be described with reference to FIG. In addition, as a method for forming the base 142, injection molding using a mold is preferable from the viewpoint of cost.

またチップ構造体108の誘電体部材106側には、誘電体部材106内に入射され、金属薄膜102に向かって励起光b1を照射する光源112を備え、さらに光源112から照射され金属薄膜102に全反射した金属薄膜全反射光b2を受光する受光手段116を備えている。   The chip structure 108 further includes a light source 112 that is incident on the dielectric member 106 and irradiates the excitation light b1 toward the metal thin film 102 on the dielectric member 106 side, and is further irradiated from the light source 112 to the metal thin film 102. Light receiving means 116 for receiving the totally reflected metal thin film totally reflected light b2 is provided.

ここで光源112から照射される励起光b1としてはレーザ光が好ましく、波長200〜1000nmのガスレーザまたは固体レーザ、波長385〜800nmの半導体レーザが好適である。   Here, the excitation light b1 emitted from the light source 112 is preferably laser light, and a gas laser or solid-state laser having a wavelength of 200 to 1000 nm and a semiconductor laser having a wavelength of 385 to 800 nm are preferable.

一方、チップ構造体108の反応部104側には、反応部104で生じた蛍光b3を受光する光検出手段120が設けられている。   On the other hand, on the reaction part 104 side of the chip structure 108, a light detection means 120 for receiving the fluorescence b3 generated in the reaction part 104 is provided.

光検出手段120としては、超高感度の光電子増倍管、または多点計測が可能なCCDイメージセンサを用いることが好ましい。   As the light detection means 120, it is preferable to use an ultrasensitive photomultiplier tube or a CCD image sensor capable of multipoint measurement.

そしてチップ構造体108の反応部104と光検出手段120との間には、光を効率よく集光するための集光部材122と、光の内で蛍光b3とは異なる波長の光の透過を低減して蛍光b3を選択的に透過するように形成されたフィルタ124が設けられている。   And between the reaction part 104 of the chip structure 108 and the light detection means 120, a light collecting member 122 for efficiently collecting light, and transmission of light having a wavelength different from the fluorescence b3 in the light. A filter 124 formed so as to reduce and selectively transmit the fluorescence b3 is provided.

なお、集光部材122は、本実施形態においては空洞溝h1を設けた基体142にその機能の一部を担わせることで省略することが可能である。そのことにより表面プラズモン増強蛍光測定装置全体としてコストダウンが図れる。また集光部材122が設けた構成においても、集光効率が良くなりS/Nの値が低下することがない、
集光部材122としては、光検出手段120に蛍光シグナルを効率よく集光することを目的とするものであれば、任意の集光系で良い。簡易な集光系としては、顕微鏡などで使用されている市販の対物レンズを転用してもよい。対物レンズの倍率としては、10〜100倍が好ましい。
In this embodiment, the light collecting member 122 can be omitted by causing the base body 142 provided with the hollow groove h1 to bear a part of its function. As a result, the cost of the entire surface plasmon enhanced fluorescence measuring apparatus can be reduced. Further, in the configuration in which the light collecting member 122 is provided, the light collecting efficiency is improved and the S / N value does not decrease.
As the condensing member 122, any condensing system may be used as long as it aims at efficiently condensing the fluorescent signal on the light detection means 120. As a simple condensing system, a commercially available objective lens used in a microscope or the like may be used. The magnification of the objective lens is preferably 10 to 100 times.

一方、フィルタ124としては、光学フィルタ、カットフィルタなどを用いることができる。光学フィルタとしては、減光(ND)フィルタ、ダイアフラムレンズなどが挙げられる。さらにカットフィルタとしては、外光(装置外の照明光)、励起光(励起光の透過成分)、迷光(各所での励起光の散乱成分)、プラズモンの散乱光(励起光を起源とし、プラズモン励起センサ表面上の構造体または付着物などの影響で発生する散乱光)、酵素蛍光基質の自家蛍光などの各種ノイズ光を除去するフィルタであって、例えば干渉フィルタ、色フィルタなどが挙げられる。   On the other hand, as the filter 124, an optical filter, a cut filter, or the like can be used. Examples of the optical filter include a neutral density (ND) filter and a diaphragm lens. Furthermore, the cut filter includes external light (illumination light outside the device), excitation light (excitation light transmission component), stray light (excitation light scattering component in various places), and plasmon scattering light (excitation light originated from plasmon A filter that removes various types of noise light such as scattered light generated by the influence of structures or deposits on the surface of the excitation sensor) and autofluorescence of the enzyme fluorescent substrate, such as an interference filter and a color filter.

そして、このような表面プラズモン増強蛍光測定装置10を用いたアナライト検出方法では、反応部104に接する側の金属薄膜102表面上には1次抗体を結合させたSAM膜(Self-Assembled Monolayer:「自己組織化単分子膜」ともいう)あるいは高分子材料膜が設けられている。1次抗体はSAM膜あるいは高分子材料膜の一方の面に結合されており、SAM膜あるいは高分子材料膜の他方の面は、直接若しくは間接に金属薄膜102表面に固定されている。SAM膜としては例えばHOOC−(CH11−SHなどの置換脂肪族チオールで形成された膜、高分子材料としては例えばポリエチレングリコール(polyethylene glycol、以下「PEG」と記す。)やMPCポリマー等が挙げられる。これは使用時に調製しても、予めこれらを結合させた基板を用いてもよい。また、1次抗体に対する反応性基(または反応性基に変換可能な官能基)を備えたポリマーを直接基板上に固定化し、その上に1次抗体を固定化してもよい。各種反応性基を利用して抗体やポリマーを結合させる際には、スクシンイミジル化を経たアミド化縮合反応や、マレイミド化を経た付加反応等が一般的である。 In the analyte detection method using such a surface plasmon enhanced fluorescence measuring apparatus 10, a SAM film (Self-Assembled Monolayer: a primary antibody is bound on the surface of the metal thin film 102 on the side in contact with the reaction unit 104. (Also referred to as “self-assembled monolayer”) or a polymer material film. The primary antibody is bound to one surface of the SAM film or the polymer material film, and the other surface of the SAM film or the polymer material film is directly or indirectly fixed to the surface of the metal thin film 102. Examples of the SAM film include a film formed of a substituted aliphatic thiol such as HOOC- (CH 2 ) 11 —SH, and examples of the polymer material include polyethylene glycol (hereinafter referred to as “PEG”) and MPC polymer. Is mentioned. This may be prepared at the time of use, or a substrate on which these are bonded in advance may be used. Alternatively, a polymer having a reactive group for the primary antibody (or a functional group that can be converted into a reactive group) may be directly immobilized on the substrate, and the primary antibody may be immobilized thereon. When an antibody or a polymer is bound using various reactive groups, an amidation condensation reaction through succinimidylation, an addition reaction through maleimidation, or the like is common.

このようにして構成した反応部104に標的物質としてのアナライトの抗原を含む溶液(以下、検体液ともいう)と、二次抗体を含む試薬液の送液を行う。固定化した一次抗体によって抗原を捕捉することが可能である。これに対しさらに蛍光物質で標識した二次抗体を含む試薬液を作用させることで捕捉された抗原を標識している。なお予め抗原と二次抗体とを反応させておいてから一次抗体を作用させてもよい。   A solution containing an analyte antigen as a target substance (hereinafter also referred to as a specimen solution) and a reagent solution containing a secondary antibody are sent to the reaction section 104 configured as described above. The antigen can be captured by the immobilized primary antibody. In contrast, the captured antigen is labeled by the action of a reagent solution containing a secondary antibody labeled with a fluorescent substance. The primary antibody may be allowed to act after the antigen and the secondary antibody have been reacted in advance.

蛍光物質で標識されたアナライトの検出を行うには、アナライトが捕捉された反応部104に光源112より誘電体部材106に励起光b1を照射し、この励起光b1が金属薄膜102に対して特定の入射角度(共鳴角θ1)で金属薄膜102に入射することで、金属薄膜102上に粗密波(表面プラズモン)を生ずるようになる。   In order to detect the analyte labeled with the fluorescent substance, the reaction member 104 where the analyte is captured is irradiated with the excitation light b1 from the light source 112 to the dielectric member 106, and the excitation light b1 is applied to the metal thin film 102. By entering the metal thin film 102 at a specific incident angle (resonance angle θ1), a dense wave (surface plasmon) is generated on the metal thin film 102.

なお、金属薄膜102上に粗密波(表面プラズモン)が生ずる際には、励起光b1と金属薄膜102中の電子振動とがカップリングし、金属薄膜全反射光b2のシグナルが変化(光量が減少)することとなるため、受光手段116で受光される金属薄膜全反射光b2のシグナルが変化(光量が減少)する地点を見つければ良い。   Note that when a close-packed wave (surface plasmon) is generated on the metal thin film 102, the excitation light b1 and the electronic vibration in the metal thin film 102 are coupled, and the signal of the metal thin film total reflection light b2 changes (the amount of light decreases). Therefore, it is only necessary to find a point where the signal of the metal thin film total reflection light b2 received by the light receiving means 116 changes (the amount of light decreases).

そして、この粗密波(表面プラズモン)により、金属薄膜102上の反応部104で生じた蛍光物質が効率良く励起され、これにより蛍光物質が発する蛍光b3の光量が増大し、この蛍光b3を集光部材122およびフィルタ124を介して光検出手段120で受光することで、極微量および/または極低濃度のアナライトを検出することができる。   Then, due to this dense wave (surface plasmon), the fluorescent material generated in the reaction portion 104 on the metal thin film 102 is efficiently excited, thereby increasing the amount of fluorescent b3 emitted from the fluorescent material, and condensing this fluorescent b3. By receiving light by the light detection means 120 through the member 122 and the filter 124, an extremely small amount and / or extremely low concentration of the analyte can be detected.

なお、金属薄膜102の材質としては、好ましくは金、銀、アルミニウム、銅、および白金からなる群から選ばれる少なくとも1種の金属からなり、より好ましくは金からなり、さらにこれら金属の合金から成ることである。   The metal thin film 102 is preferably made of at least one metal selected from the group consisting of gold, silver, aluminum, copper, and platinum, more preferably gold, and an alloy of these metals. That is.

このような金属は、酸化に対して安定であり、かつ粗密波(表面プラズモン)による電場増強が大きくなることから金属薄膜102に好適である。   Such a metal is suitable for the metal thin film 102 because it is stable against oxidation and the electric field enhancement due to dense waves (surface plasmons) increases.

また、金属薄膜102の形成方法としては、例えばスパッタリング法、蒸着法(抵抗加熱蒸着法、電子線蒸着法など)、電解メッキ、無電解メッキ法などが挙げられる。中でもスパッタリング法、蒸着法は、薄膜形成条件の調整が容易であるため好ましい。   Examples of a method for forming the metal thin film 102 include sputtering, vapor deposition (resistance heating vapor deposition, electron beam vapor deposition, etc.), electrolytic plating, electroless plating, and the like. Of these, the sputtering method and the vapor deposition method are preferable because the thin film formation conditions can be easily adjusted.

さらに金属薄膜102の厚さとしては、金:5〜500nm、銀:5〜500nm、アルミニウム:5〜500nm、銅:5〜500nm、白金:5〜500nm、およびそれらの合金:5〜500nmの範囲内であることが好ましい。   Further, the thickness of the metal thin film 102 is in the range of gold: 5-500 nm, silver: 5-500 nm, aluminum: 5-500 nm, copper: 5-500 nm, platinum: 5-500 nm, and alloys thereof: 5-500 nm. It is preferable to be within.

電場増強効果の観点からは、金:20〜70nm、銀:20〜70nm、アルミニウム:10〜50nm、銅:20〜70nm、白金:20〜70nm、およびそれらの合金:10〜70nmの範囲内であることがより好ましい。   From the viewpoint of the electric field enhancement effect, within the range of gold: 20-70 nm, silver: 20-70 nm, aluminum: 10-50 nm, copper: 20-70 nm, platinum: 20-70 nm, and alloys thereof: 10-70 nm More preferably.

金属薄膜102の厚さが上記範囲内であれば、粗密波(表面プラズモン)が発生し易く好適である。また、このような厚さを有する金属薄膜102であれば、大きさ(縦×横)は特に限定されないものである。   If the thickness of the metal thin film 102 is within the above range, it is easy to generate close-packed waves (surface plasmons). Moreover, as long as the metal thin film 102 has such a thickness, the size (length × width) is not particularly limited.

また、誘電体部材106としては、例えば高屈折率の60度プリズムを用いることができる。材料としては光学的に透明な各種の無機物、天然ポリマー、合成ポリマーを用いることができ、化学的安定性、製造安定性および光学的透明性の観点から、二酸化ケイ素(SiO)または二酸化チタン(TiO)を含むことが好ましい。 In addition, as the dielectric member 106, for example, a high refractive index 60 degree prism can be used. As the material, various optically transparent inorganic substances, natural polymers, and synthetic polymers can be used. From the viewpoint of chemical stability, production stability, and optical transparency, silicon dioxide (SiO 2 ) or titanium dioxide ( TiO 2 ) is preferably included.

さらに、このような表面プラズモン増強蛍光測定装置10は、光源112から金属薄膜102に照射される励起光b1による表面プラズモン共鳴の最適角(共鳴角θ1)を調整するため、角度可変部(図示せず)を有している。   Furthermore, such a surface plasmon enhanced fluorescence measurement apparatus 10 adjusts the optimum angle (resonance angle θ1) of surface plasmon resonance by the excitation light b1 irradiated from the light source 112 to the metal thin film 102, so that an angle variable unit (not shown). Z).

ここで、角度可変部(図示せず)は制御部13により制御され、「共鳴角スキャン工程」においては角度可変部のサーボモータで全反射減衰(ATR)条件を求めるために受光手段116と光源112とを同期して、照射領域を中心として回動し、45〜85°の範囲で角度変更を可能としている。また分解能は0.01°以上であることが好ましい。   Here, the angle variable unit (not shown) is controlled by the control unit 13, and in the “resonance angle scanning process”, the light receiving means 116 and the light source 116 are used to determine the total reflection attenuation (ATR) condition by the servo motor of the angle variable unit. 112 is synchronized with the irradiation region, and the angle can be changed within a range of 45 to 85 °. The resolution is preferably 0.01 ° or more.

図2(a)は、マイクロチップ14周辺の断面図であり、図2(b)はその一部の上面図である。流路143の経路中には、反応部104が設けられている。流路143の一方の端部には開口144aが、他方の端部には開口144bがそれぞれ設けられている。また開口144a側には接続部145が設けられている。   2A is a cross-sectional view around the microchip 14, and FIG. 2B is a top view of a part thereof. A reaction unit 104 is provided in the flow path 143. An opening 144a is provided at one end of the flow path 143, and an opening 144b is provided at the other end. A connection portion 145 is provided on the opening 144a side.

接続部145へは、ピペット150が接続可能である。接続部145は弾性体材料で構成されており、ピペット150を装填する際にはシール部材として機能する。他方の端部側の開口144bの先には、液溜部151が設けられている。なお液溜部151の上部には不図示の微細な空気孔が設けられている。   The pipette 150 can be connected to the connection unit 145. The connection portion 145 is made of an elastic material and functions as a seal member when the pipette 150 is loaded. A liquid reservoir 151 is provided at the tip of the opening 144b on the other end side. A fine air hole (not shown) is provided in the upper part of the liquid reservoir 151.

基体142の空洞溝h1が設けられている付近の厚み(Z方向長さ)は好ましくは2〜5mmであるがこれよりも厚くてもよい。流路143の幅(Y方向長さ)は1mm〜3mm、高さ(Z方向)は50μm〜500μm、反応部104の幅は流路143の幅と同等であり、長さ(X方向)は1mm〜3mmであるが、必ずしも限定されるものではなくそれよりも長く流路143の全域に渡っていても良い。また流路143の両端の開口144a、144bの大きさは流路143の幅と同等のφ1mm〜φ3mmである。ピペット150の先端は開口144aとほぼ同等の形状であり、根元部分はこれよりも太い軸径の円柱形状である。液溜部151は流路方向で開口144bよりも大きな断面形状であり、例えば断面が2〜4mm角の角柱形状としている。   The thickness (the length in the Z direction) in the vicinity of the base 142 where the hollow groove h1 is provided is preferably 2 to 5 mm, but may be thicker than this. The width (Y direction length) of the flow path 143 is 1 mm to 3 mm, the height (Z direction) is 50 μm to 500 μm, the width of the reaction unit 104 is equal to the width of the flow path 143, and the length (X direction) is Although it is 1 mm-3 mm, it is not necessarily limited and may extend over the whole region of the flow path 143 longer than it. The sizes of the openings 144 a and 144 b at both ends of the flow path 143 are φ1 mm to φ3 mm, which is equivalent to the width of the flow path 143. The tip of the pipette 150 has substantially the same shape as the opening 144a, and the root portion has a cylindrical shape with a shaft diameter larger than this. The liquid reservoir 151 has a cross-sectional shape larger than that of the opening 144b in the flow path direction. For example, the liquid reservoir 151 has a rectangular column shape with a cross section of 2 to 4 mm square.

図2(a)においては、ピペット150を装填した状態を示している。なお、液溜部151はマイクロチップ14に固定した例を示しているが、ピペット150と同様に取り外し可能な構成としてもよい。なおピペット150はポンプ130の駆動による内圧の変化に対して変形せずに容積の変化がほとんど生じない程度の剛性を備えていればよい。本実施形態では、材料としてはポリプロピレンを用いている。また接続部145を介して容易に脱着が可能であり、供給した検体液とともにピペット150の廃棄を容易に行うことができる。   FIG. 2A shows a state where the pipette 150 is loaded. In addition, although the liquid reservoir 151 has shown the example fixed to the microchip 14, it is good also as a structure which can be removed similarly to the pipette 150. FIG. Note that the pipette 150 only needs to have a rigidity that does not deform with respect to a change in internal pressure due to driving of the pump 130 and hardly changes in volume. In this embodiment, polypropylene is used as the material. Further, it can be easily detached through the connecting portion 145, and the pipette 150 can be easily discarded together with the supplied specimen liquid.

ポンプ130は例えばシリンジポンプであり、所定量の液体を吐出あるいは吸引することが可能である。ポンプ130により、ピペット150の内部に貯留した検体液等の液体をマイクロチップ14の内部に送液する。このようにして流路143には蛍光物質が標識された二次抗体等が含まれる試薬液や、アナライトが含まれる検体液がポンプ130により送液される。   The pump 130 is a syringe pump, for example, and can discharge or suck a predetermined amount of liquid. A liquid such as a sample liquid stored in the pipette 150 is sent into the microchip 14 by the pump 130. In this way, the reagent solution containing the secondary antibody labeled with the fluorescent substance and the sample solution containing the analyte are sent to the flow path 143 by the pump 130.

検体としては、血液、血清、血漿、尿、鼻孔液、唾液、便、体腔液(髄液、腹水、胸水等)などが挙げられる。検体中に含有されるアナライトは、例えば、核酸(一本鎖であっても二本鎖であってもよいDNA、RNA、ポリヌクレオチド、オリゴヌクレオチド、PNA(ペプチド核酸)等、またはヌクレオシド、ヌクレオチドおよびそれらの修飾分子)、タンパク質(ポリペプチド、オリゴペプチド等)、アミノ酸(修飾アミノ酸も含む。)、糖質(オリゴ糖、多糖類、糖鎖等)、脂質、またはこれらの修飾分子、複合体などが挙げられ、具体的には、AFP(αフェトプロテイン)等のがん胎児性抗原や腫瘍マーカー、シグナル伝達物質、ホルモンなどであってもよく、特に限定されない。   Examples of the specimen include blood, serum, plasma, urine, nasal fluid, saliva, stool, body cavity fluid (eg, cerebrospinal fluid, ascites, pleural effusion). The analyte contained in the sample is, for example, nucleic acid (DNA that may be single-stranded or double-stranded, RNA, polynucleotide, oligonucleotide, PNA (peptide nucleic acid), etc., or nucleoside, nucleotide And modified molecules thereof), proteins (polypeptides, oligopeptides, etc.), amino acids (including modified amino acids), carbohydrates (oligosaccharides, polysaccharides, sugar chains, etc.), lipids, or modified molecules and complexes thereof. Specifically, it may be a carcinoembryonic antigen such as AFP (α-fetoprotein), a tumor marker, a signaling substance, a hormone, or the like, and is not particularly limited.

さらに蛍光物質としては、所定の励起光b1を照射するか、または電界効果を利用することで励起し、蛍光b3を発する物質であれば特に限定されないものである。なお本明細書でいう蛍光b3とは、燐光など各種の発光も含まれるものである。   Furthermore, the fluorescent substance is not particularly limited as long as it is a substance that emits fluorescence b3 by being irradiated with predetermined excitation light b1 or excited by using a field effect. In addition, the fluorescence b3 as used in this specification includes various light emission, such as phosphorescence.

図3は、チップ構造体108の構成を示す模式図であり、図2を一部拡大したものである。図3(a)は上面図、図3(b)はA−A断面図である。これらの図に示すように空洞溝h1は反応部104を中心としてその周囲を囲むように設けられおり、上方に伸びている。より詳しくは、空洞溝h1は反応部104の蛍光物質からの蛍光b3が発光する領域の周囲を囲むように設けられている。蛍光b3が発光する領域とは、蛍光物質が標識された二次抗体が捕捉されている反応部104であって、かつ、励起光b1の照射により電場が増強されている領域である。図3(図4〜図7でも同様)に示す例では、反応部104の領域は、電場が増強される領域よりも狭いので、反応部104の領域と蛍光b3が発光する領域とは一致している。   FIG. 3 is a schematic diagram showing the configuration of the chip structure 108, which is a partially enlarged view of FIG. 3A is a top view, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along the line AA. As shown in these drawings, the hollow groove h1 is provided so as to surround the periphery of the reaction portion 104 and extends upward. More specifically, the hollow groove h1 is provided so as to surround a region where the fluorescent light b3 from the fluorescent material in the reaction unit 104 emits light. The region where the fluorescence b3 emits is a region where the secondary antibody labeled with the fluorescent substance is captured and the electric field is enhanced by irradiation with the excitation light b1. In the example shown in FIG. 3 (the same applies to FIGS. 4 to 7), since the region of the reaction portion 104 is narrower than the region where the electric field is enhanced, the region of the reaction portion 104 and the region where the fluorescence b3 emits coincide with each other. ing.

基体142は、中央部142aと外周部142c、及びこれらを接続する架橋部142bからなる。中央部142aの外周壁a2(空洞溝と基体との境界面)はほぼ垂直になっており、空洞溝h1に囲まれた中央部142aの形状は円柱状である。   The base 142 includes a central portion 142a, an outer peripheral portion 142c, and a bridging portion 142b that connects them. The outer peripheral wall a2 (boundary surface between the hollow groove and the base body) of the central portion 142a is substantially vertical, and the shape of the central portion 142a surrounded by the hollow groove h1 is a columnar shape.

中央部142aを含む基体142の基材は、高屈折率の材料を用いている。空洞溝h1は空間(空気)なのでその屈折率の低い(ほぼ1.0)。反応部104から発光して上方の中央部142aの内部に入射した蛍光b3は、外周壁a2に対して臨界角以上の角度で入射した場合には、全反射することになる。蛍光b3は全反射を繰り返して上面a4から抜けてゆく。このように、基体142の中央部142aは集光部材として機能することが可能であり、これにより反応部104から発光した蛍光b3を効率よく集光することが可能となる。   The base material of the base body 142 including the central portion 142a is made of a material having a high refractive index. Since the hollow groove h1 is a space (air), its refractive index is low (approximately 1.0). The fluorescence b3 emitted from the reaction unit 104 and entering the upper central portion 142a is totally reflected when it enters the outer peripheral wall a2 at an angle greater than the critical angle. The fluorescence b3 repeats total reflection and escapes from the upper surface a4. As described above, the central portion 142a of the base body 142 can function as a light collecting member, whereby the fluorescent light b3 emitted from the reaction portion 104 can be efficiently collected.

また、空洞溝h1の下端部a1は流路143へは貫通しておらず、流路143を構成する上壁面a3はフラットである。このことにより流路143を流れる液体の送液にスムーズに行え、悪影響を及ぼさない。また基体142の外周部142cと中央部142aとは、空洞溝h1に下方にある架橋部142bにより接続されているが、架橋部142bの厚み(Z方向)は強度を許す限り、なるべく薄くして空洞溝h1の下端部a1が反応部104に近い方が効率良く蛍光b3を集光できるので好ましい。また図3に示す構成では空洞溝h1は環状で架橋部142bは下端にのみ設けられていたが、これに限られず空洞溝h1の中に架橋部142bを設け、環状の一部が寸断された構成であってもよい。更に中央部142aは断面が真円の円柱形状であったが、断面が楕円の円柱形状であってもよい。   The lower end a1 of the hollow groove h1 does not penetrate the flow path 143, and the upper wall surface a3 constituting the flow path 143 is flat. As a result, the liquid flowing through the flow path 143 can be smoothly fed without adverse effects. Further, the outer peripheral portion 142c and the central portion 142a of the base body 142 are connected to the hollow groove h1 by a bridging portion 142b below, but the thickness (Z direction) of the bridging portion 142b is made as thin as possible as long as strength is allowed. It is preferable that the lower end part a1 of the hollow groove h1 is closer to the reaction part 104 because the fluorescent light b3 can be efficiently condensed. Further, in the configuration shown in FIG. 3, the hollow groove h1 is annular and the bridging portion 142b is provided only at the lower end. However, the present invention is not limited thereto, and the bridging portion 142b is provided in the hollow groove h1, and a part of the annular shape is cut off. It may be a configuration. Furthermore, although the central portion 142a has a cylindrical shape with a perfect cross section, it may have a cylindrical shape with an elliptical cross section.

更に、励起光b1や可視光による誘電体部材106からの自家蛍光b301がノイズとなりS/N値に影響するが、本実施形態においては、このような自家蛍光b301は外周部142cの内周壁a5(空洞溝外側と基体との境界面)で全反射できるので、その影響を少なくすることができる。また空洞溝h1の外側と内側の壁面(内周壁a5及び外周壁a2)は平行にする必要はなく、外側の内周壁a5で自家蛍光b301をより効率よく全反射するためには、自家蛍光b301の内周壁a5への入射角が臨界角以上となりやすいように角度を決定してもよい。さらに、射出成形により基体142する場合に転写性を高めるために空洞溝h1の外側と内側の壁面に2〜5°の抜きテーパを形成してもよい。   Further, the autofluorescence b301 from the dielectric member 106 by the excitation light b1 or visible light becomes noise and affects the S / N value. In this embodiment, such autofluorescence b301 is the inner peripheral wall a5 of the outer peripheral portion 142c. Since total reflection can be performed at the boundary surface between the outside of the hollow groove and the substrate, the influence can be reduced. Further, the outer wall and the inner wall surface (inner peripheral wall a5 and outer peripheral wall a2) of the hollow groove h1 do not need to be parallel, and in order to more efficiently totally reflect the autofluorescence b301 by the outer inner peripheral wall a5, the autofluorescence b301 The angle may be determined so that the angle of incidence on the inner peripheral wall a5 is more than the critical angle. Further, when the base body 142 is formed by injection molding, a draft taper of 2 to 5 ° may be formed on the outer and inner wall surfaces of the hollow groove h1 in order to improve transferability.

[他の実施形態]
図4〜図7は、それぞれ第2〜第5の実施形態におけるチップ構造体108の構成を示す模式図である。図3に対応するものであり、図3と共通する構成に関しては同符号を付すことにより説明に換える。また図4に示す構成以外は図1〜図2と共通であり説明は省略する。
[Other Embodiments]
4 to 7 are schematic views showing the configuration of the chip structure 108 in the second to fifth embodiments, respectively. This corresponds to FIG. 3, and the description of the configuration common to FIG. The configuration other than that shown in FIG. 4 is the same as that shown in FIGS.

図4に示す第2の実施形態に係るチップ構造体108では、空洞溝h1に囲まれた中央部142aの形状は、上方に広がる円錐台形状である。このような構成とすることにより中央部142aの外周壁a2は反応部104が形成されている面に対してラッパ状に広がった傾斜を持つので、外周壁a2により蛍光b3は、より平行光(反応部104の面に対する法線方向)に近い角度で全反射されるので集光効率が向上する。   In the chip structure 108 according to the second embodiment shown in FIG. 4, the shape of the central portion 142a surrounded by the hollow groove h1 is a truncated cone shape that extends upward. With such a configuration, the outer peripheral wall a2 of the central portion 142a has an inclination that spreads in a trumpet shape with respect to the surface on which the reaction portion 104 is formed. Therefore, the fluorescent light b3 is more parallel ( Since the light is totally reflected at an angle close to the normal direction to the surface of the reaction unit 104, the light collection efficiency is improved.

図5に示す第3の実施形態におけるチップ構造体108では、図3に示した基体142に対して空洞溝h1の部分に部材147を挿入している。部材147は、基体142の基材よりも低屈折率の基材から構成されているので、図3に示した構成と同様に、基体142の中央部142a内部へ照射された蛍光b3は、部材147と中央部142aとの境界で全反射させることができる。そして、部材147を挿入することにより、基体142全体の剛性強度を増すことが可能となる。低屈折率な基材としてはPDMS(ポリジメチルシロキサン)が好ましい。   In the chip structure 108 according to the third embodiment shown in FIG. 5, a member 147 is inserted into the hollow groove h1 with respect to the base body 142 shown in FIG. Since the member 147 is made of a base material having a lower refractive index than the base material of the base body 142, the fluorescent b3 irradiated to the inside of the central portion 142a of the base body 142 is similar to the configuration shown in FIG. Total reflection can be performed at the boundary between 147 and the central portion 142a. Then, by inserting the member 147, the rigidity strength of the entire base body 142 can be increased. PDMS (polydimethylsiloxane) is preferred as the low refractive index substrate.

図6に示す第4の実施形態に係るチップ構造体108では、空洞溝h2に集光ロッド148を挿入し、集光ロッド148を集光部材として用いるものである。集光ロッド148とはガラスあるいは樹脂でできた一体構造物であって、その一方の片面から光を取り込み内部で導光し、他の片面から光を放出する構造物のことである。   In the chip structure 108 according to the fourth embodiment shown in FIG. 6, a condensing rod 148 is inserted into the hollow groove h2, and the condensing rod 148 is used as a condensing member. The condensing rod 148 is an integrated structure made of glass or resin, and is a structure that takes in light from one side and guides it inside, and emits light from the other side.

図6(a)は基体142を示す図であり円柱状の空洞溝h2は、反応部104を覆うように上方に設けられている。図6(b)は、図6(a)に示す基体142を用いて構成されたチップ構造体108を示す図であり、同図においては集光ロッド148を挿入している。同図に示す集光ロッドは円柱状であり高屈折率の基材から構成されているので、図3に示した構成と同様に、反応部104から基体142の中央部142dを透過して集光ロッド148の内部へ照射された蛍光b3は、集光ロッド148とその外側の空間(空洞溝h2)との境界で全反射させることができる。蛍光b3は全反射を繰り返して上面a4から抜けてゆく。このように、集光ロッド148は集光部材として機能することが可能であり、これにより反応部104から発光した蛍光b3を効率よく集光することが可能となる。   FIG. 6A is a diagram showing the base 142, and the cylindrical hollow groove h <b> 2 is provided on the upper side so as to cover the reaction unit 104. FIG. 6B is a view showing the chip structure 108 configured by using the base body 142 shown in FIG. 6A, in which a condensing rod 148 is inserted. The condensing rod shown in the figure is cylindrical and is made of a high refractive index base material, so that it collects from the reaction part 104 through the central part 142d of the base body 142 in the same way as the structure shown in FIG. The fluorescence b3 irradiated to the inside of the optical rod 148 can be totally reflected at the boundary between the condensing rod 148 and the outer space (cavity groove h2). The fluorescence b3 repeats total reflection and escapes from the upper surface a4. As described above, the condensing rod 148 can function as a condensing member, whereby the fluorescent b3 emitted from the reaction unit 104 can be efficiently condensed.

なお集光ロッド148は、円柱状のみならず上方に広がる円錐台形状としてもよい。また集光ロッド148の代わりに、光ファイバを空洞溝h2に挿入してもよい。光ファイバは、ガラスファイバ、若しくは中空光ファイバであり集光ロッドにくらべてフレキシブルに屈曲できる点で好ましい。例えば複雑に込み入った所に配置されたセンサ面まで光ファイバにより検出光を導光することができるので、設計の自由度が向上する。   Note that the condensing rod 148 may have a truncated cone shape that spreads upward as well as a cylindrical shape. Further, instead of the condensing rod 148, an optical fiber may be inserted into the hollow groove h2. The optical fiber is a glass fiber or a hollow optical fiber, and is preferable in that it can be bent flexibly as compared with a condensing rod. For example, since the detection light can be guided by the optical fiber to the sensor surface arranged in a complicated place, the degree of freedom in design is improved.

図7に示す第5の実施形態に係るチップ構造体108では、空洞溝h2に面する基体142の表面は鏡面加工が施されている鏡面a6である。鏡面加工とは光が反射するように、表面に対して研磨処理あるいはスパッタリング法や蒸着法により金属薄膜の形成処理をしてその表面を平滑にすることである。   In the chip structure 108 according to the fifth embodiment shown in FIG. 7, the surface of the base 142 facing the hollow groove h2 is a mirror surface a6 that has been subjected to mirror finishing. Mirror finish is to smooth the surface by polishing the surface or forming a metal thin film by sputtering or vapor deposition so that light is reflected.

図3に示した構成と同様に、反応部104から基体142の中央部142dを透過して上方の空洞溝h2に抜けた蛍光b3は鏡面a6で全反射させることができる。蛍光b3は全反射を繰り返して上方に抜けてゆく。このように、鏡面a6を備えた基体142を集光部材として機能することが可能であり、これにより反応部104から発光した蛍光b3を効率よく集光することが可能となる。   Similarly to the configuration shown in FIG. 3, the fluorescent light b3 that has passed through the central portion 142d of the base body 142 from the reaction portion 104 and passed through the upper hollow groove h2 can be totally reflected by the mirror surface a6. The fluorescence b3 repeats total reflection and escapes upward. As described above, the base body 142 provided with the mirror surface a6 can function as a light collecting member, whereby the fluorescent light b3 emitted from the reaction unit 104 can be efficiently collected.

10 表面プラズモン増強蛍光測定装置
102 金属薄膜
104 反応部
106 誘電体部材
108 チップ構造体
112 光源
116 受光手段
120 光検出手段
122 集光部材
124 フィルタ
142 基体
142a 中央部
142b 架橋部
142c 外周部
142d 中央部
h1、h2 空洞溝
a1 下端部
a2 外周壁
a3 上壁面
a4 上面
a5 内周壁
a6 鏡面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Surface plasmon enhanced fluorescence measuring apparatus 102 Metal thin film 104 Reaction part 106 Dielectric member 108 Chip structure 112 Light source 116 Light receiving means 120 Photodetection means 122 Condensing member 124 Filter 142 Base 142a Central part 142b Bridging part 142c Outer peripheral part 142d Central part h1, h2 hollow groove a1 lower end a2 outer peripheral wall a3 upper wall surface a4 upper surface a5 inner peripheral wall a6 mirror surface

Claims (8)

表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるチップ構造体であって、
一方の面に励起光が照射されることにより電場が増強される金属薄膜と、
前記金属薄膜の他方の面側に形成された反応部であって、増強された前記電場により蛍光物質を励起させる反応部と、
蛍光を透過する基材からなり、流路溝が形成された面を前記金属薄膜の面に接合することにより前記反応部を底面として液体を送液する流路を形成した基体と、を有し、
前記基体には、前記反応部を中心として、その周囲を囲み上方に伸びる空洞溝が設けられており、前記空洞溝と前記基体との境界面で前記蛍光を反射可能であることを特徴とするチップ構造体。
A chip structure used in a surface plasmon enhanced fluorescence measuring device,
A metal thin film whose electric field is enhanced by irradiating one surface with excitation light;
A reaction part formed on the other surface side of the metal thin film, the reaction part exciting the fluorescent substance by the enhanced electric field;
And a substrate on which a flow path for sending liquid is formed with the reaction part as a bottom surface by joining the surface on which the channel groove is formed to the surface of the metal thin film. ,
The substrate is provided with a hollow groove extending around the periphery of the reaction portion and extending upward, and the fluorescence can be reflected at a boundary surface between the hollow groove and the substrate. Chip structure.
前記空洞溝に囲まれた基体の形状は円柱状又は、上方に広がる円錐台形状であることを特徴とする請求項1に記載のチップ構造体。   2. The chip structure according to claim 1, wherein the shape of the substrate surrounded by the hollow groove is a columnar shape or a truncated cone shape extending upward. 前記空洞溝は、前記流路に貫通していないことを特徴とする、請求項1又は2に記載のチップ構造体。   The chip structure according to claim 1, wherein the hollow groove does not penetrate the flow path. 前記空洞溝には、前記基材よりも低屈折率の他の基材からなる部材が挿入されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載のチップ構造体。   The chip structure according to any one of claims 1 to 3, wherein a member made of another base material having a lower refractive index than the base material is inserted into the hollow groove. 前記基材は、透明樹脂であり、前記基体は成形により製造されていることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載のチップ構造体。   The chip structure according to claim 1, wherein the base material is a transparent resin, and the base body is manufactured by molding. 表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるチップ構造体であって、
一方の面に励起光が照射されることにより電場が増強される金属薄膜と、
前記金属薄膜の他方の面側に形成された反応部であって、増強された前記電場により蛍光物質を励起させる反応部と、
蛍光を透過する基材からなり、流路溝が形成された面を前記金属薄膜の面に接合することにより前記反応部を底面として液体を送液する流路を形成した基体と、を有し、
前記基体には、前記反応部を中心として、その上方に空洞溝が設けられており、
前記空洞溝には、円柱状又は円錐台形状の集光ロッドが挿入されており、前記集光ロッドの側壁で前記蛍光を反射可能であることを特徴とするチップ構造体。
A chip structure used in a surface plasmon enhanced fluorescence measuring device,
A metal thin film whose electric field is enhanced by irradiating one surface with excitation light;
A reaction part formed on the other surface side of the metal thin film, the reaction part exciting the fluorescent substance by the enhanced electric field;
And a substrate on which a flow path for sending liquid is formed with the reaction part as a bottom surface by joining the surface on which the channel groove is formed to the surface of the metal thin film. ,
The base body is provided with a hollow groove above the reaction part,
A cylindrical structure or a truncated cone-shaped condensing rod is inserted into the hollow groove, and the chip structure is capable of reflecting the fluorescence by a side wall of the condensing rod.
前記集光ロッドは、光ファイバであることを特徴とする請求項6に記載のチップ構造体。   The chip structure according to claim 6, wherein the condensing rod is an optical fiber. 表面プラズモン増強蛍光測定装置に用いられるチップ構造体であって、
一方の面に励起光が照射されることにより電場が増強される金属薄膜と、
前記金属薄膜の他方の面側に形成された反応部であって、増強された前記電場により蛍光物質を励起させる反応部と、
蛍光を透過する基材からなり、流路溝が形成された面を前記金属薄膜の面に接合することにより前記反応部を底面として液体を送液する流路を形成した基体と、を有し、
前記基体には、前記反応部を中心として、その上方に空洞溝が設けられており、
前記基体の前記空洞溝に面する表面に鏡面加工が施されていることを特徴とするチップ構造体。
A chip structure used in a surface plasmon enhanced fluorescence measuring device,
A metal thin film whose electric field is enhanced by irradiating one surface with excitation light;
A reaction part formed on the other surface side of the metal thin film, the reaction part exciting the fluorescent substance by the enhanced electric field;
And a substrate on which a flow path for sending liquid is formed with the reaction part as a bottom surface by joining the surface on which the channel groove is formed to the surface of the metal thin film. ,
The base body is provided with a hollow groove above the reaction part,
A chip structure, wherein the surface of the substrate facing the hollow groove is mirror-finished.
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