JP2011178155A - Resin mold, molded object, and method for manufacturing molded object - Google Patents

Resin mold, molded object, and method for manufacturing molded object Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin mold which is a mold for imprinting, made of a resin, and easily releasable and of which the surface has good fine shape precision even in a case that the surface is subjected to hydrophilizing processing. <P>SOLUTION: The resin mold comprises a material containing a resin component (a). The resin component (a) is applied to the smooth surface of a base material having the smooth surface and dried to form a resin layer (A) having a smooth surface to thereby obtain the resin mold of which the static contact angle (X1) measured according to JIS R3257 when 3 μL of water is arranged on the smooth surface of the formed resin layer (A) satisfies a condition (1). The resin component (b) in a material constituting a transfer object is applied to the smooth surface of the base material having the smooth surface and dried to form a resin layer 11 having the smooth surface and, after 3 μL of water 13 is arranged on the smooth surface of the formed resin layer 11, the absolute value θ of the difference between the static contact angle (Y1) and static contact angle (X1) of the resin mold measured according to JIS R3257 is 20-60°. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、樹脂型、成形体、及び成形体の製造方法に関し、更に詳しくは、微細構造の成形技術に用いられる樹脂製のナノインプリント用の型であり、転写対象から容易に離型可能であり、その表面が親水化処理された場合にも表面の微細形状の精度が良好な樹脂型、成形体、及び成形体の製造方法に関する。   The present invention relates to a resin mold, a molded body, and a method for manufacturing the molded body. More specifically, the present invention relates to a resin nanoimprint mold used in a microstructure molding technique, and can be easily released from a transfer target. The present invention also relates to a resin mold, a molded body, and a method for manufacturing the molded body, which have a fine surface shape with good accuracy even when the surface is subjected to a hydrophilic treatment.

従来、LSIやメモリなどの半導体製造の分野においては、微細パターンの形成方法としてリソグラフィ技術が用いられている。しかし、リソグラフィ技術は、工程が複雑であり、一度に加工できる面積が小さく、設備コストが非常に高いという問題がある。そこで、最近、リソグラフィ技術と比較して、工程が単純であり、一度に加工できる面積が大きく(即ち、大きな面積を一括して転写でき)、設備コストが低い、ナノインプリント法が注目されている。ナノインプリント法は、具体的には、ナノメートルオーダーの微細な形状が形成された型を、樹脂に押し当てることでナノオーダーの微細加工を達成することが可能な方法である。そして、このようなナノインプリント法によれば、上述したように、簡単な工程、かつ、低コストで微細パターンを複製することができる。なお、型としては、シリコン、石英、金属、樹脂などからなる型が用いられている。   Conventionally, in the field of manufacturing semiconductors such as LSIs and memories, a lithography technique is used as a method for forming a fine pattern. However, the lithography technique has a problem that the process is complicated, the area that can be processed at one time is small, and the equipment cost is very high. Therefore, recently, a nanoimprint method has attracted attention because it has a simple process, a large area that can be processed at one time (that is, a large area can be transferred collectively), and a low equipment cost, as compared with lithography technology. Specifically, the nanoimprint method is a method capable of achieving nano-order microfabrication by pressing a mold on which a nanometer-order fine shape is formed against a resin. And according to such a nanoimprint method, as mentioned above, a fine pattern can be replicated with a simple process and low cost. As the mold, a mold made of silicon, quartz, metal, resin or the like is used.

ナノインプリント法としては、熱ナノインプリント法、光(UV)ナノインプリント法などが報告されており、熱ナノインプリント法は、樹脂製の転写対象のガラス転移温度以上に加熱した型を、転写対象に押圧することによってマイクロメートルまたはナノメートルオーダーの微細な形状を転写対象に転写する方法である(例えば、非特許文献1、特許文献1参照)。また、光ナノインプリント法は、光を透過する石英などの型を、光硬化性樹脂からなる転写対象に押圧した後、押圧した状態で上記型に紫外線などの光を照射して転写対象を硬化させることによってマイクロメートルまたはナノメートルオーダーの微細な形状を転写対象に転写する方法である(例えば、非特許文献2、非特許文献3、及び特許文献2参照)。   As the nanoimprint method, a thermal nanoimprint method, an optical (UV) nanoimprint method, and the like have been reported, and the thermal nanoimprint method is performed by pressing a mold heated above the glass transition temperature of a resin transfer target against the transfer target. This is a method of transferring a micrometer or nanometer-order fine shape to a transfer target (see, for example, Non-Patent Document 1 and Patent Document 1). In the optical nanoimprint method, a mold such as quartz that transmits light is pressed against a transfer target made of a photocurable resin, and then the transfer target is cured by irradiating the mold with light such as ultraviolet rays. This is a method of transferring a micrometer or nanometer order fine shape to a transfer target (see, for example, Non-Patent Document 2, Non-Patent Document 3, and Patent Document 2).

熱ナノインプリント法に用いられる型としては、主に、シリコンやニッケルなどからなる型が用いられ、光ナノインプリント法に用いられる型としては、主に、石英などからなる型が用いられている。   As a mold used in the thermal nanoimprint method, a mold mainly made of silicon or nickel is mainly used, and as a mold used in the optical nanoimprint method, a mold mainly made of quartz or the like is used.

しかし、シリコン、ニッケル、石英からなる型は、高価であり、また、汚染や破損のリスクが高いという問題がある。そのため、最近では、樹脂製の型(樹脂型)が用いられており、具体的には、環状オレフィン共重合体(COC)を含む材料からなる樹脂型(例えば、特許文献3参照)や、脂環式構造を含有する熱可塑性樹脂及び水酸基を含有する脂肪酸エステル化合物を含み、所定のガラス転移温度(Tg)、かつ、所定のメルトフローレート(MFR)を有する樹脂型(例えば、特許文献4参照)が提案されている。   However, molds made of silicon, nickel, and quartz are expensive and have a high risk of contamination and breakage. Therefore, recently, resin molds (resin molds) have been used. Specifically, resin molds made of a material containing a cyclic olefin copolymer (COC) (see, for example, Patent Document 3), oil A resin mold containing a thermoplastic resin containing a cyclic structure and a fatty acid ester compound containing a hydroxyl group, having a predetermined glass transition temperature (Tg) and a predetermined melt flow rate (MFR) (for example, see Patent Document 4) ) Has been proposed.

国際公開第04/062886号パンフレットInternational Publication No. 04/062886 Pamphlet 特開2007−84625号公報JP 2007-84625 A 特開2007−55235号公報JP 2007-55235 A 特開2006−35823号公報JP 2006-35823 A

S.Y.Chou,P.R.Krauss,P.J.Renstrom:Appl.Phys.Lett.,67(1995)p.3114S. Y. Chou, P.A. R. Krauss, P.M. J. et al. Renstrom: Appl. Phys. Lett. 67 (1995) p. 3114 T.Bailey,B.J.Chooi,M.Colburn,M.Meissi、S.Shaya,J.G.Ekerdt,S.V.Screenivasan,C.G.Willson:J.Vac.Sci.Technol.,B18(2000)p.3572T.A. Bailey, B.M. J. et al. Chooi, M .; Colburn, M.M. Meissi, S .; Shaya, J .; G. Ekerdt, S .; V. Screenivasan, C.I. G. Willson: J.M. Vac. Sci. Technol. B18 (2000) p. 3572 A.Kumar,G.M.Whitesides:Appl.Phys.Lett.,63(1993)p.2002A. Kumar, G .; M.M. Whitesides: Appl. Phys. Lett. 63 (1993) p. 2002

しかしながら、特許文献3及び4に記載の樹脂型を構成する樹脂成分は、転写対象を構成する材料中の樹脂成分と性状が類似しているため、樹脂型と転写対象との親和性が非常に高く、樹脂型を転写対象に押し当てた際に樹脂型と転写対象が密着または溶着してしまうという問題があった。このような場合、転写対象から樹脂型を離型できなかったり、離型できたとしても、転写された微細形状が破損してしまったりする不具合があった。また、特許文献4に記載の樹脂型は、添加剤(水酸基含有脂肪酸エステル化合物)を配合することによって転写対象との親和性を低下させているが、添加剤の配合割合が不均一になることがある。そのため、樹脂型の製造ロット毎に表面性状が異なること(具体的には接触角が異なること)に起因して離型性に差が生じるおそれがあった。また、同一の樹脂型であっても場所によって(部分的に)表面性状が異なること(具体的には接触角が異なること)があるため、表面性状が異なることに起因して離型性に差が生じるおそれがあった。そこで、転写対象から容易に離型可能な樹脂型の開発が切望されている。   However, since the resin component constituting the resin mold described in Patent Documents 3 and 4 is similar in properties to the resin component in the material constituting the transfer object, the affinity between the resin mold and the transfer object is very high. There is a problem that when the resin mold is pressed against the transfer target, the resin mold and the transfer target are in close contact with or welded to each other. In such a case, the resin mold cannot be released from the transfer target, or even if it can be released, there is a problem that the transferred fine shape is damaged. Moreover, although the resin type | mold described in patent document 4 has reduced the affinity with the transcription | transfer object by mix | blending an additive (hydroxyl group containing fatty acid ester compound), the compounding ratio of an additive becomes non-uniform | heterogenous. There is. For this reason, there is a possibility that a difference in releasability may occur due to a difference in surface properties (specifically, a difference in contact angle) between resin mold production lots. Also, even in the same resin mold, the surface properties may vary (partially) depending on the location (specifically, the contact angle may be different). There could be a difference. Therefore, development of a resin mold that can be easily released from the transfer object is eagerly desired.

また、樹脂型を構成する樹脂成分と転写対象を構成する樹脂成分の性状が類似している場合、樹脂型の微細形状を有する表面を親水化処理することによって、接触角を小さくし、樹脂型と転写対象との親和性を低くすることができる。しかし、上記親水化処理によって、表面形状が悪くなる(即ち、微細形状が削れてしまう)という問題があった。そのため、親水化処理によっても微細形状が削れ難い(即ち、表面の微細形状の精度が良好である)樹脂型の開発が切望されている。   In addition, when the properties of the resin component constituting the resin mold and the resin component constituting the transfer target are similar, the contact angle is reduced by hydrophilizing the surface having the fine shape of the resin mold, and the resin mold Can be reduced in affinity with the transcription target. However, there has been a problem that the surface shape is deteriorated (that is, the fine shape is scraped) by the hydrophilic treatment. Therefore, the development of a resin mold in which the fine shape is difficult to be cut by the hydrophilization treatment (that is, the accuracy of the fine shape of the surface is good) is eagerly desired.

本発明は、上述のような従来技術の課題を解決するためになされたものであり、転写対象から容易に離型可能であり、その表面が親水化処理された場合にも表面の微細形状の精度が良好な樹脂型、成形体、及び成形体の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in order to solve the above-described problems of the prior art, and can be easily released from a transfer target. Even when the surface is hydrophilized, the surface has a fine shape. It is an object to provide a resin mold, a molded body, and a method for manufacturing the molded body with good accuracy.

本発明者らは上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、樹脂型を構成する材料中の樹脂成分の表面性状と転写対象を構成する材料中の樹脂成分の表面性状との関係に着目し、樹脂型を構成する材料中の樹脂成分の、3μLの水に対する静的接触角と、転写対象を構成する材料中の樹脂成分の、3μLの水に対する静的接触角との差の絶対値が20°〜60°となるようにすることによって、上記課題を達成することが可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the present inventors paid attention to the relationship between the surface property of the resin component in the material constituting the resin mold and the surface property of the resin component in the material constituting the transfer target, The absolute value of the difference between the static contact angle with respect to 3 μL of water of the resin component in the material constituting the resin mold and the static contact angle with respect to 3 μL of water of the resin component in the material constituting the transfer object is 20 It has been found that the above-described problems can be achieved by setting the angle to 60 ° to 60 °, and the present invention has been completed.

本発明により、以下の樹脂型、成形体、及び成形体の製造方法が提供される。   The present invention provides the following resin mold, molded body, and method for producing the molded body.

[1]樹脂成分(a)を含む材料からなり、表面上にパターン形成用の微細形状が形成され、前記微細形状を、樹脂成分(b)を含む材料からなる転写対象に転写するためのナノインプリント用の樹脂型であって、前記樹脂成分(a)を、平滑面を有する基材の前記平滑面上に塗布して、乾燥させるか、または、光を照射することで平滑面を有する樹脂層(A)を形成した後、形成した前記樹脂層(A)の前記平滑面上に3μLの水を配置して、JIS R 3257に準拠して測定される静的接触角(X1)が、下記条件(1)を満たす樹脂型。
条件(1):前記転写対象を構成する材料のうちの前記樹脂成分(b)を、平滑面を有する基材の前記平滑面上に塗布して、乾燥させるか、または、光を照射することで平滑面を有する樹脂層(B)を形成した後、形成した前記樹脂層(B)の前記平滑面上に3μLの水を配置して、JIS R 3257に準拠して測定される静的接触角(Y1)と前記静的接触角(X1)との差の絶対値が20°〜60°である。
[1] A nanoimprint for forming a fine shape for pattern formation on the surface, which is made of a material containing the resin component (a), and transferring the fine shape to a transfer object made of a material containing the resin component (b) A resin layer having a smooth surface by applying the resin component (a) on the smooth surface of a substrate having a smooth surface and drying or irradiating light. After forming (A), 3 μL of water is placed on the smooth surface of the formed resin layer (A), and the static contact angle (X1) measured in accordance with JIS R 3257 is as follows: Resin mold that satisfies condition (1).
Condition (1): Applying the resin component (b) of the material constituting the transfer object onto the smooth surface of a substrate having a smooth surface and drying or irradiating light. After forming a resin layer (B) having a smooth surface with 3 μL of water on the smooth surface of the formed resin layer (B), static contact measured according to JIS R 3257 The absolute value of the difference between the angle (Y1) and the static contact angle (X1) is 20 ° to 60 °.

[2]微細形状が形成されている前記表面が親水化処理されて得られる前記[1]に記載の樹脂型。 [2] The resin mold according to [1], which is obtained by hydrophilizing the surface on which a fine shape is formed.

[3]前記樹脂層(A)を形成した後、形成した前記樹脂層(A)の前記平滑面を親水化処理し、親水化処理した前記平滑面上に3μLの水を配置して、JIS R 3257に準拠して測定される静的接触角(X2)が、下記条件(2)満たす前記[2]に記載の樹脂型。
条件(2):前記静的接触角(Y1)と前記静的接触角(X2)との差((Y1)−(X2))が20°〜60°である。
[3] After forming the resin layer (A), the smooth surface of the formed resin layer (A) is hydrophilized, and 3 μL of water is disposed on the hydrophilized smooth surface, and JIS The resin mold according to [2], wherein the static contact angle (X2) measured in accordance with R 3257 satisfies the following condition (2).
Condition (2): The difference ((Y1) − (X2)) between the static contact angle (Y1) and the static contact angle (X2) is 20 ° to 60 °.

[4]前記親水化処理として、UVオゾン処理を行う前記[2]または[3]に記載の樹脂型。 [4] The resin mold according to [2] or [3], in which UV ozone treatment is performed as the hydrophilic treatment.

[5]前記親水化処理として、コロナ放電処理を行う前記[2]または[3]に記載の樹脂型。 [5] The resin mold according to [2] or [3], wherein a corona discharge treatment is performed as the hydrophilic treatment.

[6]前記親水化処理として、プラズマ放電処理を行う前記[2]または[3]に記載の樹脂型。 [6] The resin mold according to [2] or [3], in which plasma discharge treatment is performed as the hydrophilic treatment.

[7]前記表面が、離型剤処理されて得られる前記[1]〜[6]のいずれかに記載の樹脂型。 [7] The resin mold according to any one of [1] to [6], wherein the surface is obtained by a release agent treatment.

[8]前記樹脂成分(a)は、熱可塑性樹脂を含むものであり、前記表面上の微細形状が熱ナノインプリントによって形成された前記[1]〜[7]のいずれかに記載の樹脂型。 [8] The resin mold according to any one of [1] to [7], wherein the resin component (a) includes a thermoplastic resin, and a fine shape on the surface is formed by thermal nanoimprint.

[9]前記熱可塑性樹脂が、環状オレフィン系樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルエーテル樹脂、及び、ポリスチレン樹脂からなる群より選択される少なくとも1種である前記[8]に記載の樹脂型。 [9] The thermoplastic resin according to [8], wherein the thermoplastic resin is at least one selected from the group consisting of a cyclic olefin resin, a polyolefin resin, an acrylic resin, a polycarbonate resin, a polyvinyl ether resin, and a polystyrene resin. Resin mold.

[10]前記樹脂成分(a)は、光硬化性樹脂を含むものであり、前記表面上の微細形状が光ナノインプリントによって形成された前記[1]〜[7]のいずれかに記載の樹脂型。 [10] The resin mold according to any one of [1] to [7], wherein the resin component (a) includes a photocurable resin, and a fine shape on the surface is formed by optical nanoimprinting. .

[11]前記光硬化性樹脂が、直鎖状ビニルエーテル化合物、脂環ビニルエーテル化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物、及び、アクリル化合物からなる群より選択される少なくとも1種の硬化性化合物に由来する構造単位を含むものである前記[10]に記載の樹脂型。 [11] Structural unit derived from at least one curable compound selected from the group consisting of a linear vinyl ether compound, an alicyclic vinyl ether compound, an epoxy compound, an oxetane compound, and an acrylic compound. The resin mold as described in [10] above, which contains

[12]熱ナノインプリント用である前記[1]〜[11]のいずれかに記載の樹脂型。 [12] The resin mold according to any one of [1] to [11], which is for thermal nanoimprinting.

[13]光ナノインプリント用である前記[1]〜[11]のいずれかに記載の樹脂型。 [13] The resin mold according to any one of [1] to [11], which is for optical nanoimprint.

[14]前記[1]〜[13]のいずれかに記載の樹脂型の表面上に形成された微細形状が転写されて得られる成形体。 [14] A molded product obtained by transferring a fine shape formed on the surface of the resin mold according to any one of [1] to [13].

[15]樹脂成分(a)を含む材料からなり、表面上にパターン形成用の微細形状が形成された樹脂型を用い、前記樹脂型の前記微細形状を、樹脂成分(b)を含む材料からなる転写対象に転写することによって、前記樹脂型の前記微細形状の反転形状がその表面に形成された成形体を得る成形体の製造方法であって、前記樹脂型として、前記樹脂成分(a)を、平滑面を有する基材の前記平滑面上に塗布して、乾燥させるか、または、光を照射することで平滑面を有する樹脂層(A)を形成した後、形成した前記樹脂層(A)の前記平滑面上に3μLの水を配置して、JIS R 3257に準拠して測定される静的接触角(X1)が、下記条件(1)を満たす樹脂型を用いる成形体の製造方法。
条件(1):前記転写対象を構成する材料のうちの前記樹脂成分(b)を、平滑面を有する基材の前記平滑面上に塗布して、乾燥させるか、または、光を照射することで平滑面を有する樹脂層(B)を形成した後、形成した前記樹脂層(B)の前記平滑面上に3μLの水を配置して、JIS R 3257に準拠して測定される静的接触角(Y1)と前記静的接触角(X1)との差の絶対値が20°〜60°である。
[15] Using a resin mold made of a material containing a resin component (a) and having a fine shape for pattern formation formed on the surface, the fine shape of the resin mold is made from a material containing a resin component (b) A method for producing a molded body that obtains a molded body in which the inverted shape of the fine shape of the resin mold is formed on the surface thereof by transferring to a transfer target, wherein the resin component (a) Is applied on the smooth surface of the substrate having a smooth surface and dried, or the resin layer (A) having a smooth surface is formed by irradiating light, and then the resin layer ( Production of a molded body using a resin mold in which 3 μL of water is placed on the smooth surface of A) and the static contact angle (X1) measured in accordance with JIS R 3257 satisfies the following condition (1) Method.
Condition (1): Applying the resin component (b) of the material constituting the transfer object onto the smooth surface of a substrate having a smooth surface and drying or irradiating light. After forming a resin layer (B) having a smooth surface with 3 μL of water on the smooth surface of the formed resin layer (B), static contact measured according to JIS R 3257 The absolute value of the difference between the angle (Y1) and the static contact angle (X1) is 20 ° to 60 °.

[16]前記樹脂型として、微細形状が形成されている前記表面が親水化処理されて得られ、かつ、前記樹脂層(A)を形成した後、形成した前記樹脂層(A)の前記平滑面を親水化処理し、親水化処理した前記平滑面上に3μLの水を配置して、JIS R 3257に準拠して測定される静的接触角(X2)が、下記条件(2)を満たす樹脂型を用いる前記[15]に記載の成形体の製造方法。
条件(2):前記静的接触角(Y1)と前記静的接触角(X2)との差((Y1)−(X2))が20°〜60°である。
[16] As the resin mold, the smooth surface of the formed resin layer (A) is obtained by hydrophilizing the surface on which a fine shape is formed, and after forming the resin layer (A). The surface is hydrophilized, 3 μL of water is placed on the hydrophilized smooth surface, and the static contact angle (X2) measured according to JIS R 3257 satisfies the following condition (2) The method for producing a molded article according to [15], wherein a resin mold is used.
Condition (2): The difference ((Y1) − (X2)) between the static contact angle (Y1) and the static contact angle (X2) is 20 ° to 60 °.

本発明の樹脂型は、微細構造の成形技術に用いられる樹脂製のナノインプリント用の型であり、転写対象から容易に離型可能であり、その表面が親水化処理された場合にも表面の微細形状の精度が良好であるという効果を奏するものである。   The resin mold of the present invention is a resin-made nanoimprint mold used in the molding technology for fine structures, and can be easily released from the transfer target. Even when the surface is hydrophilized, the surface mold is fine. There is an effect that the accuracy of the shape is good.

本発明の成形体は、転写対象から容易に離型可能であり、その表面が親水化処理された場合にも表面の微細形状の精度が良好な樹脂型を用いて形成されるものであるため、良好な微細パターンを有するという効果を奏するものである。   The molded product of the present invention can be easily released from the transfer target, and even when the surface is subjected to a hydrophilic treatment, the molded product is formed using a resin mold with good precision of the surface fine shape. This has the effect of having a good fine pattern.

本発明の成形体の製造方法は、転写対象から容易に離型可能であり、その表面が親水化処理された場合にも表面の微細形状の精度が良好な樹脂型を用いて形成されるものであるため、良好な微細パターンを有する成形体を製造することができるという効果を奏するものである。   The method for producing a molded article according to the present invention can be easily released from a transfer target, and is formed using a resin mold having a fine surface with a good precision even when the surface is hydrophilized. Therefore, there is an effect that a molded body having a good fine pattern can be manufactured.

本発明における接触角の測定状態を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the measurement state of the contact angle in this invention. 本発明の樹脂型の一実施形態の製造工程を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the manufacturing process of one Embodiment of the resin mold | type of this invention. 本発明の樹脂型の一実施形態の製造工程を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the manufacturing process of one Embodiment of the resin mold | type of this invention. 本発明の樹脂型の一実施形態の製造工程を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the manufacturing process of one Embodiment of the resin mold | type of this invention. 本発明の樹脂型の一実施形態を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically one Embodiment of the resin type | mold of this invention. 実施例5で得られたUVオゾン処理後の樹脂型のSEM(走査電子顕微鏡)写真である。6 is a SEM (scanning electron microscope) photograph of a resin mold after UV ozone treatment obtained in Example 5. FIG.

以下、本発明を実施するための形態について説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではない。即ち、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、当業者の通常の知識に基づいて、以下の実施の形態に対し適宜変更、改良等が加えられたものも本発明の範囲に属することが理解されるべきである。   Hereinafter, although the form for implementing this invention is demonstrated, this invention is not limited to the following embodiment. That is, it is understood that modifications and improvements as appropriate to the following embodiments are also within the scope of the present invention based on ordinary knowledge of those skilled in the art without departing from the spirit of the present invention. Should be.

[1]樹脂型:
本発明の樹脂型は、樹脂成分(a)を含む材料からなり、表面上にパターン形成用の微細形状が形成され、前記微細形状を、樹脂成分(b)を含む材料からなる転写対象に転写するためのナノインプリント用のものであり、樹脂成分(a)を、平滑面を有する基材の前記平滑面上に塗布して、乾燥させるか、または、光を照射することで平滑面を有する樹脂層(A)を形成した後、形成した樹脂層(A)の平滑面上に3μLの水を配置して、JIS R 3257に準拠して測定される静的接触角(X1)が、下記条件(1)を満たすものである。
条件(1):転写対象を構成する材料のうちの樹脂成分(b)を、平滑面を有する基材の前記平滑面上に塗布して、乾燥させるか、または、光を照射することで平滑面を有する樹脂層(B)を形成した後、形成した樹脂層(B)の平滑面上に3μLの水を配置して、JIS R 3257に準拠して測定される静的接触角(Y1)と静的接触角(X1)との差の絶対値が20°〜60°である。
[1] Resin mold:
The resin mold of the present invention is made of a material containing a resin component (a), a fine shape for pattern formation is formed on the surface, and the fine shape is transferred to a transfer object made of a material containing the resin component (b). A resin having a smooth surface by applying the resin component (a) on the smooth surface of a substrate having a smooth surface and drying or irradiating light. After forming the layer (A), 3 μL of water is placed on the smooth surface of the formed resin layer (A), and the static contact angle (X1) measured according to JIS R 3257 is as follows: It satisfies (1).
Condition (1): The resin component (b) of the material constituting the transfer object is applied on the smooth surface of the substrate having a smooth surface and dried, or smoothed by light irradiation. After forming the resin layer (B) having a surface, 3 μL of water is disposed on the smooth surface of the formed resin layer (B), and the static contact angle (Y1) measured according to JIS R 3257 And the absolute value of the difference between the static contact angle (X1) is 20 ° to 60 °.

このような樹脂型は、微細構造の成形技術に用いられる樹脂製のナノインプリント用の型であり、転写対象から容易に離型可能であり、その表面が親水化処理された場合にも表面の微細形状の精度が良好である。即ち、上記絶対値が20°〜60°であると、上記のような効果が得られるが、20°未満であると、離型性が悪くなり、一方、60°超であると、離型性は良好であるが、微細形状精度が悪くなる。   Such a resin mold is a resin-made nanoimprint mold used in the molding technology for fine structures, and can be easily released from the transfer target. Even when the surface is hydrophilized, the surface is fine. Good shape accuracy. That is, when the absolute value is 20 ° to 60 °, the above-described effects can be obtained. However, when the absolute value is less than 20 °, the releasability is deteriorated. The accuracy is good, but the fine shape accuracy is poor.

上述したように、上記絶対値は、20°〜60°であることが必要であり、20°〜58°であることが好ましく、20°〜55°であることが更に好ましい。上記絶対値が上記好ましい範囲内であると、転写対象から更に容易に離型可能であり、その表面が親水化処理された場合にも表面の微細形状の精度が優れるという利点がある。   As described above, the absolute value needs to be 20 ° to 60 °, preferably 20 ° to 58 °, and more preferably 20 ° to 55 °. When the absolute value is within the above preferred range, there is an advantage that the mold can be more easily released from the transfer target, and the accuracy of the fine shape of the surface is excellent even when the surface is hydrophilized.

樹脂成分(a)は、熱可塑性樹脂を含むものであることが好ましい。そして、熱可塑性樹脂としては、例えば、環状オレフィン系樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルエーテル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、塩化ビニル樹脂などを挙げることができる。これらの中でも、環状オレフィン系樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルエーテル樹脂、及び、ポリスチレン樹脂からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、環状オレフィン系樹脂であることが更に好ましい。環状オレフィン系樹脂としては、例えば、環状オレフィン開環重合/水素添加体(COP樹脂)、環状オレフィン共重合体(COC樹脂)を挙げることができる。   The resin component (a) preferably contains a thermoplastic resin. Examples of the thermoplastic resin include cyclic olefin resins, polyolefin resins, acrylic resins, polycarbonate resins, polyvinyl ether resins, polystyrene resins, polyethylene terephthalate resins, vinyl chloride resins, and the like. Among these, at least one selected from the group consisting of a cyclic olefin resin, a polyolefin resin, an acrylic resin, a polycarbonate resin, a polyvinyl ether resin, and a polystyrene resin is preferable, and a cyclic olefin resin is preferable. Further preferred. Examples of the cyclic olefin-based resin include cyclic olefin ring-opening polymerization / hydrogenated product (COP resin) and cyclic olefin copolymer (COC resin).

樹脂成分(a)が熱可塑性樹脂を含む場合、樹脂型としては、その表面上の微細形状が熱ナノインプリントによって形成されたものであることが好ましい。熱ナノインプリントによって微細形状を形成することによって、良好な微細形状を効率良く形成することができるためである。   When the resin component (a) contains a thermoplastic resin, it is preferable that the resin mold has a fine shape on the surface formed by thermal nanoimprint. This is because a fine shape can be efficiently formed by forming the fine shape by thermal nanoimprint.

樹脂成分(a)は、光硬化性樹脂を含むものであることが好ましい。この光硬化性樹脂は、硬化性化合物に由来する構造単位を含むものであり、硬化性化合物としては、例えば、直鎖状ビニルエーテル化合物、脂環ビニルエーテル化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物、アクリル化合物、無水マレイン酸などを挙げることができる。これらの中でも、直鎖状ビニルエーテル化合物、脂環ビニルエーテル化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物、アクリル化合物が好ましい。これらの化合物は1種単独または2種以上を用いることができる。即ち、直鎖状ビニルエーテル化合物、脂環ビニルエーテル化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物、及び、アクリル化合物からなる群より選択される少なくとも1種の硬化性化合物に由来する構造単位を含むものであることが好ましい。   The resin component (a) preferably contains a photocurable resin. This photocurable resin contains a structural unit derived from a curable compound. Examples of the curable compound include a linear vinyl ether compound, an alicyclic vinyl ether compound, an epoxy compound, an oxetane compound, an acrylic compound, and an anhydrous compound. And maleic acid. Among these, a linear vinyl ether compound, an alicyclic vinyl ether compound, an epoxy compound, an oxetane compound, and an acrylic compound are preferable. These compounds can be used alone or in combination of two or more. That is, it preferably includes a structural unit derived from at least one curable compound selected from the group consisting of a linear vinyl ether compound, an alicyclic vinyl ether compound, an epoxy compound, an oxetane compound, and an acrylic compound.

樹脂成分(a)が光硬化性樹脂を含む場合、樹脂型としては、その表面上の微細形状が光ナノインプリントによって形成されたものであることが好ましい。光ナノインプリントによって微細形状を形成することによって、良好な微細形状を効率良く形成することができるためである。   When the resin component (a) contains a photocurable resin, it is preferable that the resin mold has a fine shape formed on the surface by optical nanoimprinting. This is because a fine shape can be efficiently formed by forming a fine shape by optical nanoimprint.

樹脂成分(a)としては、上記熱可塑性樹脂または光硬化性樹脂以外に、熱硬化性樹脂を挙げることができる。   Examples of the resin component (a) include thermosetting resins in addition to the thermoplastic resin and the photocurable resin.

本発明の樹脂型は、樹脂成分(a)を含む材料からなるものである限り特に制限はなく、樹脂成分(a)のみからなるものであってもよいし、滑剤、酸化防止剤、帯電防止剤、紫外線安定剤、レベリング剤(表面調整剤)、粘度調整剤、重合開始剤、増感剤などのその他の成分(添加剤)を更に含んでいてもよい。   The resin mold of the present invention is not particularly limited as long as it is made of a material containing the resin component (a), and may be made only of the resin component (a), or may be a lubricant, antioxidant, antistatic agent. It may further contain other components (additives) such as an agent, an ultraviolet stabilizer, a leveling agent (surface adjusting agent), a viscosity adjusting agent, a polymerization initiator, and a sensitizer.

本発明の樹脂型は、微細形状が形成されている表面が親水化処理されていることが好ましい。表面を親水化処理することによって、樹脂層表面の静的接触角を容易に低下させることができ、良好な離型性を有する樹脂型を得ることができる。また、樹脂型を製造した後に親水化処理によって表面の性状を変化させる場合には、樹脂型の製造工程においては、金属などからなる金型との良好な離型性を確保することができるとともに、親水化処理後においては、この親水化処理によって樹脂型と転写対象との親和性を低減させ、転写対象との良好な離型性を有する樹脂型を得ることができる。   In the resin mold of the present invention, the surface on which the fine shape is formed is preferably subjected to a hydrophilic treatment. By hydrophilizing the surface, the static contact angle on the surface of the resin layer can be easily reduced, and a resin mold having good releasability can be obtained. In addition, when the surface properties are changed by hydrophilization treatment after the resin mold is manufactured, in the resin mold manufacturing process, good releasability from a metal mold can be secured. After the hydrophilic treatment, the affinity between the resin mold and the transfer target can be reduced by this hydrophilic treatment, and a resin mold having good releasability from the transfer target can be obtained.

更に、親水化処理する場合には、下記静的接触角(X2)が、下記条件(2)を満たすように処理することが好ましい。静的接触角(X2)は、樹脂成分(a)を、平滑面を有する基材の平滑面上に塗布し、乾燥させるか、または、光を照射することで平滑面を有する樹脂層(A)を形成した後、形成した樹脂層(A)の平滑面を親水化処理し、親水化処理した平滑面上に3μLの水を配置して、JIS R 3257に準拠して測定される値である。
条件(2):静的接触角(Y1)と静的接触角(X2)との差((Y1)−(X2))が20°〜60°である。
Furthermore, when hydrophilizing, it is preferable to process so that the following static contact angle (X2) may satisfy the following conditions (2). The static contact angle (X2) is obtained by applying the resin component (a) on the smooth surface of the substrate having a smooth surface and drying or irradiating light with the resin layer (A ), The smooth surface of the formed resin layer (A) is hydrophilized, 3 μL of water is placed on the hydrophilized smooth surface, and a value measured in accordance with JIS R 3257. is there.
Condition (2): The difference ((Y1) − (X2)) between the static contact angle (Y1) and the static contact angle (X2) is 20 ° to 60 °.

そして、本発明の樹脂型は、上述したように、静的接触角(Y1)と静的接触角(X2)との差が20°〜60°であることが好ましく、20°〜58°であることが更に好ましく、20°〜55°であることが特に好ましい。静的接触角(Y1)と静的接触角(X2)との差が上記範囲内であると、転写対象から特に容易に離型可能であり、その表面が親水化処理された場合にも表面の微細形状の精度が優れた樹脂型を得ることができる。   In the resin mold of the present invention, as described above, the difference between the static contact angle (Y1) and the static contact angle (X2) is preferably 20 ° to 60 °, and 20 ° to 58 °. More preferably, it is particularly preferably 20 ° to 55 °. When the difference between the static contact angle (Y1) and the static contact angle (X2) is within the above range, it is particularly easy to release from the transfer target, and even when the surface is hydrophilized It is possible to obtain a resin mold with excellent accuracy of the fine shape.

親水化処理としては、UVオゾン処理、コロナ放電処理、プラズマ放電処理、金属ナトリウム処理などを挙げることができる。これらの中でも、UVオゾン処理、コロナ放電処理、プラズマ放電処理が好ましい。   Examples of the hydrophilization treatment include UV ozone treatment, corona discharge treatment, plasma discharge treatment, and metal sodium treatment. Among these, UV ozone treatment, corona discharge treatment, and plasma discharge treatment are preferable.

UVオゾン処理によって親水化する場合、大気中で表面処理を行うことができ、かつ、樹脂へのダメージが小さいという利点がある。UVオゾン処理の条件としては、特に制限はなく、従来公知の条件を適宜採用することができるが、具体的には、低圧水銀灯を用い、空気中、照射距離10〜30mmの条件でUV照射する処理を例示することができる。低圧水銀灯以外に、キセノンエキシマランプなどを挙げることができる。   In the case of hydrophilization by UV ozone treatment, there is an advantage that the surface treatment can be performed in the atmosphere and the damage to the resin is small. The conditions for the UV ozone treatment are not particularly limited, and conventionally known conditions can be appropriately employed. Specifically, UV irradiation is performed using a low-pressure mercury lamp in the air at an irradiation distance of 10 to 30 mm. Processing can be exemplified. In addition to the low-pressure mercury lamp, a xenon excimer lamp can be used.

コロナ放電処理によって親水化する場合、UVオゾン処理と同様に、大気中で表面処理を行うことができ、かつ、処理速度が速いという利点がある。コロナ放電処理の条件としては、特に制限はなく、従来公知の条件を適宜採用することができるが、具体的には、空気中、0.5〜20mmの放電空隙で周波数10kHz〜100kHzの高周波、高電圧で印加する処理を例示することができる。   In the case of hydrophilization by corona discharge treatment, there is an advantage that surface treatment can be performed in the atmosphere as in the case of UV ozone treatment and the treatment speed is high. The conditions for the corona discharge treatment are not particularly limited, and conventionally known conditions can be appropriately employed. Specifically, in the air, a discharge gap of 0.5 to 20 mm and a high frequency of 10 kHz to 100 kHz, A process of applying a high voltage can be exemplified.

プラズマ放電処理によって親水化する場合、樹脂型のごく表面のみを改質することができるので、樹脂成分(a)のバルク特性に影響しないという利点がある。プラズマ放電処理の条件としては、特に制限はなく、従来公知の条件を適宜採用することができるが、具体的には、酸素ガス存在下、RIE(反応性イオンエッチング)処理することや、窒素ガス存在下、逆スパッタ処理することを例示することができる。   In the case of hydrophilization by plasma discharge treatment, since only the very surface of the resin mold can be modified, there is an advantage that the bulk characteristics of the resin component (a) are not affected. The conditions for the plasma discharge treatment are not particularly limited, and conventionally known conditions can be appropriately employed. Specifically, RIE (reactive ion etching) treatment in the presence of oxygen gas or nitrogen gas can be used. The reverse sputtering treatment in the presence can be exemplified.

本発明の樹脂型は、その表面が、離型剤処理されて得られるものがことが好ましい。このような離型剤処理を行うことによって離型性が更に良好になるという利点がある。離型剤処理としては、例えば、ディップコート、スピンコート、スプレーコートなどによって離型剤を樹脂型の表面に塗布して行うことができる。離型剤としては、例えば、フッ素系溶剤、シリコン系離型剤などを挙げることができる。なお、離型剤処理は、樹脂型の表面を親水化処理する場合には、親水化処理の前に行ってもよいし、親水化処理の後に行ってもよいが、親水化処理された後に行うことが好ましい。   The resin mold of the present invention is preferably obtained by treating the surface with a release agent. By performing such a release agent treatment, there is an advantage that the releasability is further improved. As the release agent treatment, for example, a release agent can be applied to the surface of the resin mold by dip coating, spin coating, spray coating or the like. Examples of the release agent include a fluorine-based solvent and a silicon-based release agent. The release agent treatment may be performed before the hydrophilic treatment or after the hydrophilic treatment when the surface of the resin mold is subjected to the hydrophilic treatment. Preferably it is done.

[2]樹脂型の製造方法:
本発明の樹脂型は、構成する材料のうちの樹脂成分(a)が熱可塑性樹脂からなるものである場合(即ち、表面上の微細形状が熱ナノインプリントによって形成される場合)には、以下のように製造することができる。まず、所望の凹凸パターンが形成された金型を用意する(図2A参照)。この金型の材料としては、例えば、シリコン、石英、SiC、ニッケル、タンタルなどの金属、グラッシーカーボンなどを挙げることができる。次に、熱可塑性樹脂からなる樹脂フィルムを用意する。熱可塑性樹脂としては、上述した、環状オレフィン系樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルエーテル樹脂、ポリスチレン樹脂などを挙げることができる。図2Aは、凹凸パターン15が形成された金型1を模式的に示す断面図である。
[2] Manufacturing method of resin mold:
When the resin component (a) of the constituent material is made of a thermoplastic resin (that is, when a fine shape on the surface is formed by thermal nanoimprinting), the resin mold of the present invention is as follows. Can be manufactured as follows. First, a mold on which a desired uneven pattern is formed is prepared (see FIG. 2A). Examples of the mold material include metals such as silicon, quartz, SiC, nickel, and tantalum, and glassy carbon. Next, a resin film made of a thermoplastic resin is prepared. Examples of the thermoplastic resin include the above-described cyclic olefin resin, polyolefin resin, acrylic resin, polycarbonate resin, polyvinyl ether resin, polystyrene resin, and the like. FIG. 2A is a cross-sectional view schematically showing the mold 1 on which the uneven pattern 15 is formed.

次に、図2Bに示すように、上記樹脂フィルム3上に、所望の凹凸パターン15が形成された面が上記樹脂フィルム3に接触するように上記金型1を配置する。その後、従来公知のプレス機などを用いて熱を加えながら金型を樹脂フィルムに押し当てる(図2C参照)。その後、樹脂フィルムを金型から離型させて、図2Dに示すような、所望の凹凸パターン17(金型1の凹凸パターン15の反転形状)が形成された樹脂型5を得ることができる。図2Cは、金型1を樹脂フィルム3に押し当てた状態を示す断面図であり、図2Dは、所望の凹凸パターン17が形成された樹脂型5を示す断面図である。   Next, as shown in FIG. 2B, the mold 1 is arranged on the resin film 3 so that the surface on which the desired uneven pattern 15 is formed contacts the resin film 3. Thereafter, the mold is pressed against the resin film while applying heat using a conventionally known press machine or the like (see FIG. 2C). Thereafter, the resin film is released from the mold, and a resin mold 5 on which a desired uneven pattern 17 (inverted shape of the uneven pattern 15 of the mold 1) as shown in FIG. 2D is formed can be obtained. 2C is a cross-sectional view showing a state in which the mold 1 is pressed against the resin film 3, and FIG. 2D is a cross-sectional view showing the resin mold 5 on which a desired uneven pattern 17 is formed.

次に、本発明の樹脂型は、構成する材料のうちの樹脂成分(a)が光硬化性樹脂からなるものである場合には、以下のように製造することができる。まず、所望の凹凸パターンが形成された金型を用意する。この金型の材料としては、例えば、石英などを挙げることができる。次に、光硬化性樹脂を基板上に塗布して基板上に塗膜を形成する。光硬化性樹脂としては、直鎖状ビニルエーテル化合物、脂環ビニルエーテル化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物、アクリル化合物などからなる硬化性化合物に由来する構造単位を含むものを挙げることができる。基板としては、PETフィルム、環状オレフィン樹脂フィルムなどの樹脂フィルムやシリコンウエハなどの半導体基板などを挙げることができる。塗膜の形成方法としては、従来公知の方法を採用することができるが、例えば、バーコーターなどを用いる方法や、スピンコート法などを挙げることができる。   Next, the resin mold of the present invention can be manufactured as follows when the resin component (a) of the constituent materials is made of a photocurable resin. First, a mold on which a desired uneven pattern is formed is prepared. Examples of the mold material include quartz. Next, a photocurable resin is applied onto the substrate to form a coating film on the substrate. Examples of the photocurable resin include those containing a structural unit derived from a curable compound composed of a linear vinyl ether compound, an alicyclic vinyl ether compound, an epoxy compound, an oxetane compound, an acrylic compound, and the like. Examples of the substrate include resin films such as PET films and cyclic olefin resin films, and semiconductor substrates such as silicon wafers. As a method for forming the coating film, a conventionally known method can be adopted, and examples thereof include a method using a bar coater and the like, and a spin coating method.

次に、形成した塗膜上に、所望の凹凸パターンが形成された面が上記塗膜に接触するように金型を配置する。従来公知のプレス機などを用いて金型を塗膜に押し当てる。その後、所定の光を照射して塗膜を硬化させて硬化樹脂フィルムとする。そして、硬化樹脂フィルム及びPETフィルムを、金型から離型して、所望の凹凸パターンが形成された樹脂型を得ることができる。照射する光の波長としては、光硬化性樹脂に応じて適宜選択することができる。   Next, a metal mold | die is arrange | positioned so that the surface in which the desired uneven | corrugated pattern was formed contacts the said coating film on the formed coating film. A mold is pressed against the coating film using a conventionally known press machine or the like. Thereafter, the coating film is cured by irradiating predetermined light to obtain a cured resin film. Then, the cured resin film and the PET film are released from the mold, and a resin mold on which a desired uneven pattern is formed can be obtained. The wavelength of the irradiated light can be appropriately selected according to the photocurable resin.

[3]樹脂型の用途:
本発明の樹脂型は、熱ナノインプリントまたは光ナノインプリントによって、転写対象の表面(樹脂表面)に凹凸形状を有する成形体を得るために用いることができる。この成形体としては、具体的には、光ディスク成形体、光ファイバー、カメラ用レンズ、オーバーヘッドプロジェクター用レンズ、LBP用Fθレンズ、プリズム、液晶表示素子(LCD)、光拡散板、導光板、偏光フィルム、位相差フィルム、輝度向上フィルム、集光フィルム等の光学成形品;液体薬品容器、アンプル、輸液用バッグ、点眼薬容器、半導体用ウエハ格納容器等の各種清浄容器;注射器、医療用輸液チューブ等の医療器材;シリコン、サファイヤなどの基板加工用のレジストマスクなどを挙げることができる。
[3] Application of resin mold:
The resin mold of the present invention can be used to obtain a molded product having an uneven shape on the surface (resin surface) to be transferred by thermal nanoimprint or optical nanoimprint. Specifically, as this molded body, an optical disk molded body, an optical fiber, a camera lens, an overhead projector lens, an LBP Fθ lens, a prism, a liquid crystal display element (LCD), a light diffusion plate, a light guide plate, a polarizing film, Optically molded products such as retardation films, brightness enhancement films, condensing films; various clean containers such as liquid chemical containers, ampoules, infusion bags, eye drops containers, semiconductor wafer storage containers; syringes, medical infusion tubes, etc. Medical equipment; resist masks for substrate processing such as silicon and sapphire.

本発明の樹脂型は、熱ナノインプリント用であってもよいし、光ナノインプリント用であってもよい。即ち、熱ナノインプリント法に用いられてもよいし、光ナノインプリント法に用いられてもよい。   The resin mold of the present invention may be used for thermal nanoimprinting or optical nanoimprinting. That is, it may be used for a thermal nanoimprint method or an optical nanoimprint method.

熱ナノインプリント用である場合、樹脂型は、表面上の微細形状が熱ナノインプリントによって形成されたものであってもよいし、光ナノインプリントによって形成されたものであってもよいが、熱ナノインプリントによって形成されたものであることが好ましい。光ナノインプリントによって形成されたものであると、樹脂型の耐熱性が十分でなく、転写対象に転写する際の熱によって樹脂型が変形してしまうおそれがある。また、光ナノインプリント用である場合、樹脂型は、表面上の微細形状が熱ナノインプリントによって形成されたものであってもよいし、光ナノインプリントによって形成されたものであってもよいが、光ナノインプリントによって形成されたものであることが好ましい。光ナノインプリントによって形成されたものであると、樹脂型の製造時間が短いことに加え、転写対象に対する転写時間も短くて良いため、短時間で成形体を製造することができるという利点がある。   When it is for thermal nanoimprinting, the resin mold may be formed by thermal nanoimprinting, or a fine shape on the surface may be formed by thermal nanoimprinting, but may be formed by thermal nanoimprinting. It is preferable that If it is formed by optical nanoimprinting, the heat resistance of the resin mold is not sufficient, and the resin mold may be deformed by heat when transferred to a transfer target. Moreover, when it is for optical nanoimprinting, the resin mold may be one in which the fine shape on the surface is formed by thermal nanoimprinting, or may be formed by optical nanoimprinting. It is preferable that it is formed. When formed by optical nanoimprinting, in addition to the short manufacturing time of the resin mold, the transfer time for the transfer object may be short, so that there is an advantage that the molded body can be manufactured in a short time.

また、本発明の樹脂型は、光ナノインプリント用であることが好ましい。即ち、転写対象を構成する材料のうちの樹脂成分(b)として光硬化性樹脂を含む場合、光ナノインプリント法によって、樹脂型の微細形状が転写対象に転写されるが、本発明の樹脂型は、上記のような光ナノインプリント法に用いる樹脂型であることが好ましい。このように光ナノインプリント用の樹脂型として用いた場合、光ナノインプリント法の方が、熱ナノインプリント法に比べて短時間で、目的とする成形体を製造することができるという利点がある。   Moreover, it is preferable that the resin mold | type of this invention is an object for optical nanoimprints. That is, when a photocurable resin is included as the resin component (b) of the material constituting the transfer object, the fine shape of the resin mold is transferred to the transfer object by the optical nanoimprint method. The resin mold is preferably used for the optical nanoimprint method as described above. Thus, when used as a resin mold for optical nanoimprinting, the optical nanoimprinting method has the advantage that the desired molded article can be produced in a shorter time than the thermal nanoimprinting method.

[4]成形体:
本発明の成形体は、本発明の樹脂型の表面上に形成された微細形状が転写されて得られるものである。即ち、本発明の樹脂型の表面上に形成された微細形状が転写された転写対象からなるものである。このような成形体は、「転写対象から容易に離型可能であり、その表面が親水化処理された場合にも表面の微細形状の精度が良好な樹脂型」を用いて形成されるものであるため、良好な微細パターンを有するものである。
[4] Molded body:
The molded body of the present invention is obtained by transferring a fine shape formed on the surface of the resin mold of the present invention. That is, it consists of a transfer object onto which a fine shape formed on the surface of the resin mold of the present invention is transferred. Such a molded body is formed using a “resin mold that can be easily released from a transfer target and has a fine surface shape with excellent accuracy even when the surface is hydrophilized”. Therefore, it has a good fine pattern.

成形体としては、具体的には、上述した、光ディスク成形体、光ファイバー、カメラ用レンズ、オーバーヘッドプロジェクター用レンズ、LBP用Fθレンズ、プリズム、液晶表示素子(LCD)、光拡散板、導光板、偏光フィルム、位相差フィルム、輝度向上フィルム、集光フィルム等の光学成形品;液体薬品容器、アンプル、輸液用バッグ、点眼薬容器、半導体用ウエハ格納容器等の各種清浄容器;注射器、医療用輸液チューブ等の医療器材;シリコン、サファイヤなどの基板加工用のレジストマスクなどを挙げることができる。   Specifically, as the molded body, the above-described optical disk molded body, optical fiber, camera lens, overhead projector lens, LBP Fθ lens, prism, liquid crystal display element (LCD), light diffusion plate, light guide plate, polarization Optical molded products such as films, retardation films, brightness enhancement films, and light-collecting films; various clean containers such as liquid chemical containers, ampoules, infusion bags, eye drops containers, semiconductor wafer storage containers; syringes, medical infusion tubes Medical device materials such as: resist masks for substrate processing such as silicon and sapphire.

[5]成形体の製造方法:
本発明の成形体の製造方法は、樹脂成分(a)を含む材料からなり表面上にパターン形成用の微細形状が形成された樹脂型を用い、この樹脂型の微細形状を、樹脂成分(b)を含む材料からなる転写対象に転写することによって、樹脂型の微細形状の反転形状がその表面に形成された成形体を得る成形体の製造方法であって、樹脂型として、樹脂成分(a)を、平滑面を有する基材の平滑面上に塗布して、乾燥させるか、または、光を照射することで平滑面を有する樹脂層(A)を形成した後、形成した樹脂層(A)の平滑面上に3μLの水を配置して、JIS R 3257に準拠して測定される静的接触角(X1)が、下記条件(1)を満たす樹脂型を用いる方法である。
条件(1):転写対象を構成する材料のうちの樹脂成分(b)を、平滑面を有する基材の平滑面上に塗布して、乾燥させるか、または、光を照射することで平滑面を有する樹脂層(B)を形成した後、形成した樹脂層(B)の平滑面上に3μLの水を配置して、JIS R 3257に準拠して測定される静的接触角(Y1)と静的接触角(X1)との差の絶対値が20°〜60°である。
[5] Manufacturing method of molded article:
The method for producing a molded body of the present invention uses a resin mold made of a material containing the resin component (a) and having a fine shape for pattern formation formed on the surface, and the resin mold (b) ) Is transferred to a transfer target made of a material containing a resin mold, and a molded body manufacturing method for obtaining a molded body having a reversal shape of the resin mold formed on the surface thereof. ) Is applied on a smooth surface of a substrate having a smooth surface and dried, or the resin layer (A) having a smooth surface is formed by irradiating light, and then the formed resin layer (A ), 3 μL of water is placed on the smooth surface, and the static contact angle (X1) measured according to JIS R 3257 is a method using a resin mold that satisfies the following condition (1).
Condition (1): The resin component (b) of the material constituting the transfer object is applied on a smooth surface of a substrate having a smooth surface and dried or irradiated with light to obtain a smooth surface. After forming the resin layer (B) having 3 μL of water on the smooth surface of the formed resin layer (B), the static contact angle (Y1) measured according to JIS R 3257 and The absolute value of the difference from the static contact angle (X1) is 20 ° to 60 °.

このような製造方法によれば、「転写対象から容易に離型可能であり、その表面が親水化処理された場合にも表面の微細形状の精度が良好な樹脂型」を用いて成形体が形成されるため、良好な微細パターンを有する成形体を製造することができる。   According to such a manufacturing method, a molded article can be formed using a “resin mold that can be easily released from a transfer target and has a fine surface shape with good accuracy even when the surface is hydrophilized”. Since it is formed, a molded body having a good fine pattern can be produced.

樹脂型を構成する樹脂成分(a)を含む材料としては、上述した樹脂成分(a)を含む材料と同様の材料を用いることができる。また、転写対象を構成する樹脂成分(b)としては、例えば、熱可塑性樹脂、光硬化性樹脂などを挙げることができる。熱可塑性樹脂としては、具体的には、環状オレフィン系樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルエーテル樹脂、ポリスチレン樹脂などを挙げることができる。また、光硬化性樹脂としては、具体的には、直鎖状ビニルエーテル化合物、脂環ビニルエーテル化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物、アクリル化合物などを挙げることができる。   As a material containing the resin component (a) which comprises a resin type | mold, the material similar to the material containing the resin component (a) mentioned above can be used. Examples of the resin component (b) constituting the transfer target include thermoplastic resins and photo-curable resins. Specific examples of the thermoplastic resin include a cyclic olefin resin, a polyolefin resin, an acrylic resin, a polyvinyl ether resin, and a polystyrene resin. Specific examples of the photocurable resin include linear vinyl ether compounds, alicyclic vinyl ether compounds, epoxy compounds, oxetane compounds, acrylic compounds, and the like.

そして、転写対象としては、その用途により異なるが、例えば、厚さが40μm〜3mmのフィルム状または板状のものや、基材上に形成されたナノオーダーからミクロンオーダーの薄膜状のものなどを挙げることができる。樹脂成分のみからなる場合、フィルム状または板状のものであることが多い。また、薄膜の場合、PETフィルム、シリコンウエハなどの平らな基材上に、上記転写対象を構成する樹脂成分を含む材料を塗布し、乾燥させることで得ることができる。なお、熱ナノインプリント法によって樹脂型の微細形状を転写する際には、転写対象を加熱して柔軟な状態にしておくことが好ましい。転写条件としては、従来公知の条件を適宜採用することができる。   The transfer target varies depending on the application, for example, a film or plate having a thickness of 40 μm to 3 mm, or a thin film having a thickness of nano to micron formed on a substrate. Can be mentioned. When it consists only of a resin component, it is often in the form of a film or plate. Moreover, in the case of a thin film, it can obtain by apply | coating and drying the material containing the resin component which comprises the said transcription | transfer object on flat base materials, such as PET film and a silicon wafer. In addition, when transferring the fine shape of the resin mold by the thermal nanoimprint method, it is preferable to heat the transfer target to make it flexible. Conventionally known conditions can be appropriately employed as the transfer conditions.

本発明の成形体の製造方法は、樹脂型として、微細形状が形成されている表面が親水化処理されて得られ、かつ、樹脂層(A)を形成した後、形成した樹脂層(A)の平滑面を親水化処理し、親水化処理した平滑面上に3μLの水を配置して、JIS R 3257に準拠して測定される静的接触角(X2)が、下記条件(2)を満たす樹脂型を用いることが好ましい。
条件(2):静的接触角(Y1)と静的接触角(X2)との差((Y1)−(X2))が20°〜60°である。
The method for producing a molded body of the present invention is obtained by hydrophilizing the surface on which a fine shape is formed as a resin mold, and after forming the resin layer (A), the formed resin layer (A) When the smooth surface is hydrophilized, 3 μL of water is placed on the hydrophilized smooth surface, and the static contact angle (X2) measured according to JIS R 3257 satisfies the following condition (2): It is preferable to use a filling resin mold.
Condition (2): The difference ((Y1) − (X2)) between the static contact angle (Y1) and the static contact angle (X2) is 20 ° to 60 °.

親水化処理としては、既に上述した、UVオゾン処理、コロナ放電処理、プラズマ放電処理、金属ナトリウム処理などを挙げることができる。   Examples of the hydrophilization treatment include the UV ozone treatment, corona discharge treatment, plasma discharge treatment, and metallic sodium treatment already described above.

以下、本発明を実施例及び比較例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例及び比較例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated concretely based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to these Examples and a comparative example.

表1及び表2には、樹脂型の材料として用いた樹脂(樹脂成分(a))、転写対象の材料として用いた樹脂(樹脂成分(b))を示す。なお、表1中、「エチレン−メチルフェニルノルボルネン共重合体」とは、特開2005−239975号公報に記載のエチレン/メチルフェニルノルボルネン共重合体である(以下、「Et−MePhNB」と示す場合がある)。表2中、「TCDVE/1−AdVE=70/30」とは、トリシクロデカンビニルエーテル(TCDVE)/1−アダマンチルビニルエーテル(1−AdVE)を質量比70:30で混合して混合物を得、得られた混合物100質量部に対して、5.0質量部の重合開始剤(和光純薬工業社製の商品名「WPI113」)、1.0質量部のレベリング剤(楠本化成社製の商品名「ディスパロン1761」)、1.5質量部の増感剤(川崎化成社製の商品名「UVS−1221」)、及び1.0質量部の粘度調整剤(エチレン/メチルフェニルノルボルネン共重合体、特開2005−239975号公報に記載)を添加して得られるものである。「PAK相当品」とは、硬化性モノマーとしてトリプロピレングリコールジアクリレートを53.2質量%、トリメチロールプロパントリアクリレートを9.9質量%、N−ビニル−2−ピロリドンを27.0質量%、開始剤として、チバ・ジャパン社製の商品名「IRGACURE651」を9.0質量%、レベリング剤として、楠本化成社製の商品名「ディスパロン1761」を0.9質量%混合したものである。   Tables 1 and 2 show a resin (resin component (a)) used as a resin-type material and a resin (resin component (b)) used as a material to be transferred. In Table 1, “ethylene-methylphenylnorbornene copolymer” is an ethylene / methylphenylnorbornene copolymer described in JP-A-2005-239975 (hereinafter referred to as “Et-MePhNB”). There). In Table 2, “TCDVE / 1-AdVE = 70/30” means that tricyclodecane vinyl ether (TCDVE) / 1-adamantyl vinyl ether (1-AdVE) is mixed at a mass ratio of 70:30 to obtain a mixture. 5.0 parts by weight of a polymerization initiator (trade name “WPI113” manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 1.0 part by weight of a leveling agent (trade name manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.) with respect to 100 parts by weight of the resulting mixture. “Dispalon 1761”), 1.5 parts by mass of a sensitizer (trade name “UVS-1221” manufactured by Kawasaki Kasei Co., Ltd.), and 1.0 part by mass of a viscosity modifier (ethylene / methylphenylnorbornene copolymer, (Described in JP-A-2005-239975). “PAK equivalent” means 53.2% by mass of tripropylene glycol diacrylate, 9.9% by mass of trimethylolpropane triacrylate, 27.0% by mass of N-vinyl-2-pyrrolidone as a curable monomer, As an initiator, 9.0% by mass of a trade name “IRGACURE651” manufactured by Ciba Japan Co., Ltd. and 0.9% by mass of a trade name “Disparon 1761” manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd. as a leveling agent are mixed.

次に、各種物性値の測定方法、及び諸特性の評価方法を以下に示す。   Next, methods for measuring various physical property values and methods for evaluating various properties are shown below.

[静的接触角]:
JIS R 3257「基板ガラス表面のぬれ性試験方法」の中の「静滴法」に準拠して下記の方法で静的接触角を測定した。静的接触角の測定は、協和界面科学社製の「AUTO SLIDING ANGLE SA−30DM」を使用して計測した。まず、熱可塑性樹脂の静的接触角の測定方法を説明する。
[Static contact angle]:
The static contact angle was measured by the following method in accordance with “Static Drop Method” in JIS R 3257 “Test Method for Wetting of Substrate Glass Surface”. The static contact angle was measured using “AUTO SLIDING ANGLE SA-30DM” manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. First, a method for measuring the static contact angle of a thermoplastic resin will be described.

まず、以下に示す、平滑面を有する樹脂層を用意した。そして、この樹脂層の表面(平滑面)上に3μLの水を配置したときの、樹脂層表面と水滴表面の接線との角度θ(図1参照)を計測した。熱可塑性樹脂(1)、(2)は、オプティス社製の商品名「ZF−16」、商品名「ZF−14」(いずれも、縦100mm×横100mm×厚み0.1mmのシート)をそのまま樹脂層として使用した。熱可塑性樹脂(3)、(4)は、溶媒(デカリン)に溶かした後、バーコーターによって、上記溶媒に溶かした上記樹脂を基板(ガラス板)上に平滑に塗布し、その後、真空オーブンで乾燥させて、表面が平滑な(平滑面を有する)樹脂層を得た。熱可塑性樹脂(5)は、四国化工社製の商品名「HC−31」(縦100mm×横100mm×厚み0.1mmのシート)をそのまま樹脂層として使用した。熱可塑性樹脂(6)は、縦100mm×横100mm×厚み1mmのシートに熱成型し、表面が平滑な(平滑面を有する)樹脂を得た。熱可塑性樹脂(7)は、溶媒(ジエチルベンゼン)に溶かした後、バーコーターによって、上記溶媒に溶かした上記樹脂を基板(ガラス板)上に平滑に塗布し、その後、真空オーブンで乾燥させて、表面が平滑な(平滑面を有する)樹脂層を得た。   First, the following resin layer having a smooth surface was prepared. Then, the angle θ (see FIG. 1) between the resin layer surface and the tangent to the water droplet surface when 3 μL of water was disposed on the surface (smooth surface) of the resin layer was measured. For the thermoplastic resins (1) and (2), trade names “ZF-16” and trade names “ZF-14” manufactured by Optis (both are sheets of length 100 mm × width 100 mm × thickness 0.1 mm) are used as they are. Used as a resin layer. After the thermoplastic resins (3) and (4) are dissolved in a solvent (decalin), the resin dissolved in the solvent is smoothly applied onto a substrate (glass plate) by a bar coater, and then, in a vacuum oven By drying, a resin layer having a smooth surface (having a smooth surface) was obtained. As the thermoplastic resin (5), a trade name “HC-31” (sheet of 100 mm length × 100 mm width × 0.1 mm thickness) manufactured by Shikoku Kako Co., Ltd. was used as it was as a resin layer. The thermoplastic resin (6) was thermoformed into a sheet having a length of 100 mm, a width of 100 mm and a thickness of 1 mm to obtain a resin having a smooth surface (having a smooth surface). After the thermoplastic resin (7) is dissolved in a solvent (diethylbenzene), the resin dissolved in the solvent is smoothly applied onto a substrate (glass plate) by a bar coater, and then dried in a vacuum oven. A resin layer having a smooth surface (having a smooth surface) was obtained.

次に、光硬化性樹脂の静的接触角の測定方法を説明する。まず、バーコーターによって光硬化性樹脂を基板の平滑面上に塗布して塗膜を形成し、形成した塗膜に光を照射して、上記塗膜を硬化させることで表面に平滑面を有する樹脂層を得た。そして、得られた樹脂層の表面(平滑面)上に3μLの水を配置したときの、樹脂層表面と水滴表面の接線との角度θ(図1参照)を計測した。計測結果は、表1〜表3中では単に「接触角(°)」と示し、表5,表6中では「接触角X(°)」または「接触角Y(°)」と示す。   Next, a method for measuring the static contact angle of the photocurable resin will be described. First, a photocurable resin is applied onto a smooth surface of a substrate by a bar coater to form a coating film, and the coating film is irradiated with light to cure the coating film so that the surface has a smooth surface. A resin layer was obtained. Then, the angle θ (see FIG. 1) between the resin layer surface and the tangent to the water droplet surface when 3 μL of water was placed on the surface (smooth surface) of the obtained resin layer was measured. The measurement results are simply indicated as “contact angle (°)” in Tables 1 to 3, and indicated as “contact angle X (°)” or “contact angle Y (°)” in Tables 5 and 6.

[親水化処理後の静的接触角]:
親水化処理後の静的接触角は、上記[静的接触角]の評価の方法と同様にして樹脂層を形成した後、この樹脂層の表面(平滑面)を親水化処理し、親水化処理した樹脂層の表面に液滴を配置して角度θを測定(計測)した。表3に、実施例及び比較例で使用した樹脂の、UVオゾン処理またはプラズマ処理後における静的接触角(°)を示す。親水化処理によって静的接触角は小さくなった。
[Static contact angle after hydrophilization]:
The static contact angle after hydrophilization treatment is the same as the evaluation method of [Static contact angle] above, after forming a resin layer, the surface (smooth surface) of this resin layer is hydrophilized to make it hydrophilic. Droplets were placed on the surface of the treated resin layer, and the angle θ was measured (measured). Table 3 shows the static contact angle (°) of the resins used in the examples and comparative examples after UV ozone treatment or plasma treatment. The static contact angle was reduced by the hydrophilization treatment.

親水化処理としては、UVオゾン処理、プラズマ処理を行った。UVオゾン処理は、アイグラフィックス社製のUVオゾン洗浄装置「OC−2506(オゾン分解装置OCA−150L−D付き)」を使用し、低圧水銀灯、照射距離10mmの条件でUV照射した。UVオゾン洗浄装置内の排気時間は2分間とした。UVオゾン処理を行った場合、表3には、処理時間(秒)を示す。   As the hydrophilization treatment, UV ozone treatment and plasma treatment were performed. The UV ozone treatment was performed using a UV ozone cleaning device “OC-2506 (with ozone decomposing device OCA-150L-D)” manufactured by Eye Graphics Co., Ltd., under the conditions of a low-pressure mercury lamp and an irradiation distance of 10 mm. The exhaust time in the UV ozone cleaning apparatus was 2 minutes. When UV ozone treatment is performed, Table 3 shows treatment time (seconds).

プラズマ処理は、第一のプラズマ処理及び第二のプラズマ処理の2種類のプラズマ処理を行った。第一のプラズマ処理としては、神鋼精機社製のプラズマエッチング装置「EXAM」を使用し、酸素ガス(圧力15Pa)、パワー20W、処理時間1分間の条件で行った。第二のプラズマ処理としては、芝浦メカトロニクス社製のスパッタリング装置「CFS−4ES」を使用し、窒素ガス(圧力0.5Pa)、パワー50W、処理時間1分間の条件で逆スパッタを行った。プラズマ処理を行った場合、表3中、「O、15Pa下、20W、1分間RIE」または「N、15Pa下、50W、1分間逆スパッタ」と示す。 As the plasma treatment, two types of plasma treatments, a first plasma treatment and a second plasma treatment, were performed. As the first plasma treatment, a plasma etching apparatus “EXAM” manufactured by Shinko Seiki Co., Ltd. was used, and the conditions were oxygen gas (pressure 15 Pa), power 20 W, and treatment time 1 minute. As the second plasma treatment, reverse sputtering was performed using a sputtering apparatus “CFS-4ES” manufactured by Shibaura Mechatronics Co., Ltd. under the conditions of nitrogen gas (pressure 0.5 Pa), power 50 W, and treatment time 1 minute. When the plasma treatment is performed, in Table 3, “O 2 , under 15 Pa, 20 W, 1 minute RIE” or “N 2 , under 15 Pa, 50 W, 1 minute reverse sputtering” is shown.

以下、角度θの計測方法について具体的に説明する。まず、樹脂層を、その平滑面が上方を向くようにして「AUTO SLIDING ANGLE SA−30DM」の試料台に載せた。この試料台は上下左右に可動するものである。その後、注射筒に蒸留水を吸い取り、この注射筒を上記「AUTO SLIDING ANGLE SA−30DM」に固定した。そして、注射筒の先端に、3μLの液滴状の蒸留水(液滴)を形成し、この液滴が注射筒の先端から落ちないように試料台をゆっくりと移動させて、注射筒の先端の液滴を樹脂層の表面(平滑面)にゆっくり接触させて樹脂層の平滑面上に液滴を配置した(図1参照)。その後、上記「AUTO SLIDING ANGLE SA−30DM」に取り付けられた光学的読み取り装置によって、樹脂層の表面に配置した上記液滴の像を読み取り、図1に示すように樹脂層11の表面と水滴(液滴)13の表面の接線の角度θを計測した。なお、角度θの計測は、「AUTO SLIDING ANGLE SA−30DM」に付属の「FACE測定/解析統合システムFAMAS バージョン2.1.0」で行った。なお、平滑面上に液滴を配置したのは、微細形状による撥水効果の影響を排除するためである。即ち、微細形状を形成した後の樹脂層の上記微細形状部分(微細形状が形成された面上)に液滴を配置した状態における「角度θ」を計測することもできるが、形成された微細形状の違いによって撥水効果が異なるおそれがある。そのため、微細形状の違いに起因する撥水効果の差異を生じさせないため、平滑面上に液滴を配置して「角度θ」を計測した。   Hereinafter, a method for measuring the angle θ will be specifically described. First, the resin layer was placed on a sample table of “AUTO SLIDING ANGLE SA-30DM” with its smooth surface facing upward. This sample stage is movable vertically and horizontally. Thereafter, distilled water was sucked into the syringe barrel, and this syringe barrel was fixed to the “AUTO SLIDING ANGLE SA-30DM”. Then, 3 μL of droplet-shaped distilled water (droplet) is formed at the tip of the syringe barrel, and the sample stage is slowly moved so that the droplet does not fall from the tip of the syringe barrel. Were slowly brought into contact with the surface (smooth surface) of the resin layer to place the droplets on the smooth surface of the resin layer (see FIG. 1). Thereafter, an image of the droplet placed on the surface of the resin layer is read by an optical reader attached to the “AUTO SLIDING ANGLE SA-30DM”, and the surface of the resin layer 11 and water droplets ( The tangent angle θ of the surface of the (droplet) 13 was measured. The angle θ was measured by “FACE measurement / analysis integrated system FAMAS version 2.1.0” attached to “AUTO SLIDING ANGLE SA-30DM”. The reason why the droplets are arranged on the smooth surface is to eliminate the influence of the water repellent effect due to the fine shape. That is, it is possible to measure the “angle θ” in a state where the droplets are arranged on the fine shape portion (on the surface on which the fine shape is formed) of the resin layer after the fine shape is formed. The water-repellent effect may be different depending on the shape. Therefore, in order not to cause a difference in water repellency effect due to a difference in fine shape, droplets were placed on a smooth surface and the “angle θ” was measured.

上記のようにして樹脂型の材料として用いた樹脂と転写対象の材料として用いた樹脂の静的接触角をそれぞれ測定し、測定した静的接触角から「静的接触角の差」を算出した。具体的には、式:(転写対象の材料として用いた樹脂の静的接触角)−(樹脂型の材料として用いた樹脂の静的接触角)から、「静的接触角の差」を算出した。表5,表6中、「静的接触角の差(Z=Y−X)」に示す。   As described above, the static contact angles of the resin used as the resin mold material and the resin used as the material to be transferred were respectively measured, and the “difference in static contact angle” was calculated from the measured static contact angles. . Specifically, the “difference in static contact angle” is calculated from the formula: (static contact angle of the resin used as the material to be transferred) − (static contact angle of the resin used as the resin mold material). did. In Tables 5 and 6, the difference is indicated by “difference in static contact angle (Z = Y−X)”.

[ガラス転移温度(Tg)または軟化温度(Tm)]:
ガラス転移温度(Tg)は、セイコー電子工業社製の示差走査熱量分析計(型式「EXSTAR6000」と「DSC6200」)を用いて室温から200℃まで昇温するときの吸熱ピークから求めた。軟化温度(Tm)は、セイコー電子工業社製の応力歪測定機能付熱的機械分析計(型式「EXSTAR6000」と「TMA/SS6000」)を用い、樹脂に石英プローブ先端を一定荷重で押し付けた状態で上記型式「TMA/SS6000」の加熱炉内に入れ、上記石英プローブ及び樹脂を昇温し、上記樹脂が軟化して石英プローブ先端がめり込む挙動を観測して求めた。なお、熱可塑性樹脂の場合は、ガラス転移温度(Tg)または軟化温度(Tm)を測定した。光硬化性樹脂の場合は、硬化させた後の樹脂におけるガラス転移温度(Tg)を測定した。
[Glass transition temperature (Tg) or softening temperature (Tm)]:
The glass transition temperature (Tg) was determined from an endothermic peak when the temperature was raised from room temperature to 200 ° C. using a differential scanning calorimeter (models “EXSTAR6000” and “DSC6200”) manufactured by Seiko Denshi Kogyo. The softening temperature (Tm) is a state in which the tip of the quartz probe is pressed against the resin with a constant load using a thermal mechanical analyzer with a stress strain measurement function (models “EXSTAR6000” and “TMA / SS6000”) manufactured by Seiko Denshi Kogyo. In the heating furnace of the model “TMA / SS6000”, the temperature of the quartz probe and the resin was increased, and the behavior of the resin softening and the quartz probe tip was observed was obtained. In the case of a thermoplastic resin, the glass transition temperature (Tg) or softening temperature (Tm) was measured. In the case of a photocurable resin, the glass transition temperature (Tg) in the resin after curing was measured.

[離型性]:
実施例、比較例のようにして、表面に微細形状が形成されている樹脂型と転写対象とをそれぞれ用意した。次に、転写対象と樹脂型の表面(微細形状面)が接触するように重ね合わせ、その後、樹脂型を転写対象に押し付けた後、樹脂型を転写対象から引き離した。このようにしてインプリントを行った。樹脂型を転写対象から引き離したときの剥離性を評価した。評価基準は、樹脂型を転写対象から剥がすことができない場合、または、剥がせたとしても転写対象の微細形状が破損している場合を不良「B」とし、樹脂型を転写対象から離型可能で、かつ、転写対象の微細形状に破損が認められない場合を良好「G」とした。表4には、実施例及び比較例で使用した樹脂毎のインプリント条件を示す。なお、転写対象の樹脂が光硬化樹脂(表5、表6参照)である場合には、光硬化させる前の塗膜の状態の転写対象に樹脂型を押し付けた後、上記塗膜に対して表4に示す条件で光を照射して硬化させ、その後、樹脂型を転写対象から引き離した。また、転写対象の樹脂が熱可塑性樹脂(表5、表6参照)である場合には、塗膜を真空乾燥させた後の膜である転写対象に対して、表4に示す条件で加熱、加圧、圧力保持、冷却する工程を経ることによって、樹脂型を押し付けた後、樹脂型を転写対象から引き離した。なお、表5中、UVオゾン処理を行った場合には処理時間(秒)を示す。プラズマ処理を行った場合には「O、15Pa下、20W、1分間」または「N、15Pa下、50W、1分間逆スパッタ」と示す。
[Releasability]:
As in the examples and comparative examples, a resin mold having a fine shape formed on the surface and a transfer object were prepared. Next, the transfer object and the surface (finely shaped surface) of the resin mold were brought into contact with each other, and then the resin mold was pressed against the transfer object, and then the resin mold was separated from the transfer object. Imprinting was performed in this way. The peelability when the resin mold was separated from the transfer object was evaluated. The evaluation standard is “B” when the resin mold cannot be removed from the transfer target or when the fine shape of the transfer target is damaged even if it is peeled off, and the resin mold can be released from the transfer target. In addition, the case where no damage was observed in the fine shape of the transfer object was determined as good “G”. Table 4 shows the imprint conditions for each resin used in the examples and comparative examples. When the resin to be transferred is a photo-curing resin (see Tables 5 and 6), the resin mold is pressed against the transfer object in the state of the coating before photocuring, and then the above-mentioned coating is applied. The resin was cured by irradiation with light under the conditions shown in Table 4, and then the resin mold was separated from the transfer target. In addition, when the resin to be transferred is a thermoplastic resin (see Tables 5 and 6), the transfer target that is a film after the coating film is vacuum dried is heated under the conditions shown in Table 4. The resin mold was pressed away from the object to be transferred by pressing the resin mold through the steps of pressurization, pressure holding, and cooling. In Table 5, when UV ozone treatment is performed, the treatment time (seconds) is shown. When the plasma treatment is performed, “O 2 , 15 Pa, 20 W, 1 minute” or “N 2 , 15 Pa, 50 W, 1 minute, reverse sputtering” is indicated.

[微細形状精度]:
樹脂型の微細形状の精度の評価は、親水化処理前後の樹脂型の微細形状の高さ(深さ)を、日本電子社製の電界放射型走査型電子顕微鏡(FE−SEM)(型式「JSM−6700F」)を使用して、観察倍率10万倍の画像を得、得られた画像における微細形状の高さ(深さ)を計測して行った。具体的には、親水化処理前における微細形状の高さに対する、「親水化処理前における微細形状の高さと親水化処理後における微細形状の高さの差」の割合(%)が20%超の場合を不良「B」、20%以下の場合を良好「G」とした。以下、この割合を「微細形状変化率」と記す場合がある。なお、表5、表6中、親水化処理を行っていない場合には「−」と示す。本評価は、表5、表6中、「樹脂型微細形状精度」と示す。
[Fine shape accuracy]:
The accuracy of the resin mold fine shape was evaluated by measuring the height (depth) of the resin mold fine shape before and after the hydrophilization treatment by using a field emission scanning electron microscope (FE-SEM) (model “ JSM-6700F ”) was used to obtain an image with an observation magnification of 100,000 times, and the height (depth) of the fine shape in the obtained image was measured. Specifically, the ratio (%) of the “difference between the height of the fine shape before the hydrophilic treatment and the height of the fine shape after the hydrophilic treatment” to the height of the fine shape before the hydrophilic treatment exceeds 20%. The case of “B” was judged as “B”, and the case of 20% or less was judged as “G”. Hereinafter, this ratio may be referred to as “fine shape change rate”. In Tables 5 and 6, “−” is shown when the hydrophilic treatment is not performed. This evaluation is shown as “resin mold fine shape accuracy” in Tables 5 and 6.

図3は、実施例5で得られたUVオゾン処理後の樹脂型の表面のSEM写真である。微細形状の高さ(深さ)を符号「D」で示す。   FIG. 3 is a SEM photograph of the surface of the resin mold after UV ozone treatment obtained in Example 5. The height (depth) of the fine shape is indicated by “D”.

(実施例1)
直径220nm(精度±10%)、深さ200nm(精度±5%)のホール状パターンが形成されたシリコン製の金型を用い、熱ナノインプリント法によって環状オレフィン系樹脂(シクロオレフィンポリマー(COP);オプティス社製の商品名「ZF−16」)フィルムに上記パターンを転写した。具体的には、まず、図2Aに示すようにシリコン製の金型1を用意した。次に、図2Bに示すように、樹脂フィルム3上に、ホール状パターンが形成された面が上記樹脂フィルム3に接触するようにシリコン製の金型1を配置した。その後、SCIVAX社製の熱ナノインプリント装置「VX−2000」のプレスステージにセットした。その後、プレス板温度195℃、プレスステージ温度195℃、圧力1.5MPa、圧力保持時間60秒、冷却温度100℃の条件で、上記樹脂フィルム(熱可塑性樹脂(1)(ZF−16))にインプリントを行った(上記樹脂フィルムに上記金型を押し付けた)。その後脱圧して、プレスステージから取り出し(図2C参照)、上記樹脂フィルム3(樹脂型5)を上記金型1から離型した。このようにして、上記金型のホール状パターンが転写されたフィルム(直径215nm、深さ204nmのホール状パターンが形成された樹脂型5)を得た(図2D参照)。その後、得られた樹脂型の微細形状面(表面)にダイキン社製の離型剤「オプツールDSX」を滴下してその全面に塗布した。その後、風乾させ、100℃のホットプレート上で10分間ベークした。ベーク後、フッ素系溶剤「デムナムソルベント(ダイキン社製)」で余分な離型剤を洗浄して(洗い落として)樹脂型を得た。一方、転写対象として、縦100mm×横100mm×厚み1mmのポリメタクリル酸メチル樹脂(PMMA)からなるシート(熱可塑性樹脂(6))を使用した。そして、これら(樹脂型、シート)を用いて上記評価を行った。
Example 1
Cyclic olefin resin (cycloolefin polymer (COP)) by a thermal nanoimprint method using a silicon mold in which a hole-shaped pattern having a diameter of 220 nm (accuracy ± 10%) and a depth of 200 nm (accuracy ± 5%) is formed. The above pattern was transferred to a film “ZF-16” manufactured by Optitis. Specifically, first, a silicon mold 1 was prepared as shown in FIG. 2A. Next, as shown in FIG. 2B, the silicon mold 1 was arranged on the resin film 3 so that the surface on which the hole-shaped pattern was formed was in contact with the resin film 3. Then, it set to the press stage of thermal nanoimprint apparatus "VX-2000" made from SCIVAX. Thereafter, on the resin film (thermoplastic resin (1) (ZF-16)) under the conditions of a press plate temperature of 195 ° C., a press stage temperature of 195 ° C., a pressure of 1.5 MPa, a pressure holding time of 60 seconds, and a cooling temperature of 100 ° C. Imprinting was performed (the mold was pressed against the resin film). Thereafter, the pressure was released, the sheet was taken out from the press stage (see FIG. 2C), and the resin film 3 (resin mold 5) was released from the mold 1. Thus, a film (resin mold 5 having a hole-shaped pattern with a diameter of 215 nm and a depth of 204 nm) on which the hole-shaped pattern of the mold was transferred was obtained (see FIG. 2D). Thereafter, a release agent “OPTOOL DSX” manufactured by Daikin Co., Ltd. was dropped onto the finely shaped surface (surface) of the obtained resin mold and applied to the entire surface. Then, it was air-dried and baked for 10 minutes on a 100 degreeC hotplate. After baking, the excess mold release agent was washed (washed off) with a fluorine-based solvent “DEMNUM Solvent (Daikin)” to obtain a resin mold. On the other hand, as a transfer object, a sheet (thermoplastic resin (6)) made of polymethyl methacrylate resin (PMMA) having a length of 100 mm, a width of 100 mm, and a thickness of 1 mm was used. And the said evaluation was performed using these (resin type | mold, sheet | seat).

(実施例2)
親水化処理を行ったこと以外は、実施例1と同様にして樹脂型を得た。親水化処理はUVオゾン処理を行った。具体的には、UVオゾン処理は、アイグラフィックス社製のUVオゾン洗浄装置「OC−2506(オゾン分解装置OCA−150L−D付き)」を使用し、低圧水銀灯を用い、オゾン存在下、照射距離10mm、UVオゾン処理時間60秒の条件で樹脂型にUV照射を行った。なお、UVオゾン洗浄装置内の排気時間は2分間とした。親水化処理後、樹脂型の表面である微細形状面(UV照射面)にダイキン社製の離型剤「オプツールDSX」を滴下してその全面に塗布した。その後、風乾させ、100℃のホットプレート上で10分間ベークした。ベーク後、フッ素系溶剤「デムナムソルベント(ダイキン社製)」で余分な離型剤を洗浄して(洗い落として)樹脂型を得た。
(Example 2)
A resin mold was obtained in the same manner as in Example 1 except that the hydrophilic treatment was performed. The hydrophilic treatment was UV ozone treatment. Specifically, UV ozone treatment is performed by using a UV ozone cleaning device “OC-2506 (with ozone decomposing device OCA-150L-D)” manufactured by Eye Graphics Co., Ltd., using a low-pressure mercury lamp in the presence of ozone. The resin mold was irradiated with UV under the conditions of a distance of 10 mm and a UV ozone treatment time of 60 seconds. The exhaust time in the UV ozone cleaning apparatus was 2 minutes. After the hydrophilization treatment, a mold release agent “OPTOOL DSX” manufactured by Daikin Co., Ltd. was dropped onto the finely shaped surface (UV irradiated surface) which is the surface of the resin mold and applied to the entire surface. Then, it was air-dried and baked for 10 minutes on a 100 degreeC hotplate. After baking, the excess mold release agent was washed (washed off) with a fluorine-based solvent “DEMNUM Solvent (Daikin)” to obtain a resin mold.

一方、転写対象として、以下のようにして得られたシートを用意した。まず、縦100mm×横100mm×厚み0.1mmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム上に、表5に示す樹脂(Et−MePhNB)をデカリンに溶解した溶解液をバーコーターにより塗工して塗膜を形成した。その後、形成した塗膜について真空乾燥を行うことで、上記PETの表面に樹脂(Et−MePhNB)の膜が形成されたシートを用意した。そして、これら(樹脂型、シート)を用いて上記評価を行った。   On the other hand, a sheet obtained as follows was prepared as a transfer target. First, on a polyethylene terephthalate (PET) film having a length of 100 mm × width of 100 mm × thickness of 0.1 mm, a solution obtained by dissolving the resin (Et-MePhNB) shown in Table 5 in decalin is applied by a bar coater to form a coating film. Formed. Thereafter, the formed coating film was vacuum-dried to prepare a sheet having a resin (Et-MePhNB) film formed on the surface of the PET. And the said evaluation was performed using these (resin type | mold, sheet | seat).

(実施例3、5)
表5に示す樹脂を用いたこと、及び、表5に示す処理時間でUVオゾン処理を行ったこと以外は、実施例2と同様にして各樹脂型及び転写対象としての各シートを得た。そして、これら(樹脂型、シート)を用いて上記評価を行った。
(Examples 3 and 5)
Each resin mold and each sheet as a transfer object were obtained in the same manner as in Example 2 except that the resin shown in Table 5 was used and the UV ozone treatment was performed for the treatment time shown in Table 5. And the said evaluation was performed using these (resin type | mold, sheet | seat).

(実施例4)
表5に示す樹脂を用いたこと、表5に示す処理時間でUVオゾン処理を行ったこと、及び、転写対象として四国化工社製の商品名「HC−31」(縦100mm×横100mm×厚み0.1mmのシート)を使用したこと以外は、実施例2と同様にして樹脂型及び転写対象としてのシートを得た。そして、これら(樹脂型、シート)を用いて上記評価を行った。
Example 4
The resin shown in Table 5 was used, the UV ozone treatment was performed for the treatment time shown in Table 5, and the product name “HC-31” (length 100 mm × width 100 mm × thickness) manufactured by Shikoku Kako Co., Ltd. as a transfer target. A resin mold and a sheet as a transfer target were obtained in the same manner as in Example 2 except that a 0.1 mm sheet) was used. And the said evaluation was performed using these (resin type | mold, sheet | seat).

(実施例6)
直径220nm(精度±10%)、深さ200nm(精度±5%)のホール状パターンが形成された石英製の金型を用い、UVナノインプリント法によって光硬化樹脂にホール状パターンを転写して樹脂型を得た。
(Example 6)
Using a quartz mold with a hole-shaped pattern with a diameter of 220 nm (accuracy ± 10%) and depth 200 nm (accuracy ± 5%), the hole-shaped pattern is transferred to a photo-curing resin by UV nanoimprinting. Got the mold.

具体的には、まず、PET製のフィルム上に光硬化樹脂(TCDVE/1−AdVE=70/30)をバーコーターで塗布して塗膜を形成した。この塗膜上に、石英製の金型のホール状パターンが形成された面が上記塗膜に接触するように上記金型を配置した後、熱プレス機「AH−1T」(アズワン社製)のプレスステージにセットした。次に、プレス板温度常温、プレスステージ温度常温、圧力1.0MPa、圧力保持時間10秒の条件(表4参照)で、光硬化性樹脂(1)(UNP−β)にインプリントを行った(上記塗膜に上記金型を押し付けた)。その後脱圧して、これらをプレスステージから取り出した。その後、LED光源(HOYA社製の「EXECURE−H−1VC」、波長365nm)を用いて、UV照射量20mW/cm、UV照射時間38秒の条件で上記塗膜をUV照射することによって上記塗膜を硬化させて硬化樹脂フィルムとした。そして、硬化樹脂フィルム及びPETフィルムを、上記金型から離型した。このようにして、表面に微細なホール状パターンが転写された(形成された)親水化処理前樹脂型(直径210nm、深さ201nmのホール状パターンが形成された樹脂型)を得た。 Specifically, first, a photocurable resin (TCDVE / 1-AdVE = 70/30) was applied on a PET film with a bar coater to form a coating film. On the coating film, the mold was placed so that the surface on which the hole-shaped pattern of the quartz mold was formed was in contact with the coating film, and then a hot press “AH-1T” (manufactured by ASONE) Set on the press stage. Next, imprinting was performed on the photocurable resin (1) (UNP-β) under the conditions of the press plate temperature normal temperature, the press stage temperature normal temperature, the pressure 1.0 MPa, and the pressure holding time 10 seconds (see Table 4). (The mold was pressed against the coating film). Thereafter, the pressure was released, and these were taken out of the press stage. Then, the above-mentioned coating film was irradiated with UV under the conditions of a UV irradiation amount of 20 mW / cm 2 and a UV irradiation time of 38 seconds using an LED light source (“EXECURE-H-1VC” manufactured by HOYA, wavelength 365 nm). The coating film was cured to obtain a cured resin film. Then, the cured resin film and the PET film were released from the mold. In this manner, a pre-hydrophilic resin mold (resin mold on which a hole-shaped pattern having a diameter of 210 nm and a depth of 201 nm was formed) having a fine hole-shaped pattern transferred (formed) on the surface was obtained.

次に、得られた親水化処理前樹脂型についてUVオゾン処理(親水化処理)を行った。UVオゾン処理は、アイグラフィックス社製のUVオゾン洗浄装置「OC−2506(オゾン分解装置OCA−150L−D付き)」を使用し、低圧水銀灯を用い、オゾン存在下、照射距離10mmの条件で親水化処理前樹脂型にUV照射を行った。なお、UVオゾン洗浄装置内の排気時間は2分間とした。親水化処理後、上記樹脂型の表面である微細形状面(UV照射面)にダイキン社製の離型剤「オプツールDSX」を滴下してその全面に塗布した。その後、風乾させ、100℃のホットプレート上で10分間ベークした。ベーク後、フッ素系溶剤「デムナムソルベント(ダイキン社製)」で余分な離型剤を洗浄して(洗い落として)樹脂型を得た。   Next, UV ozone treatment (hydrophilization treatment) was performed on the obtained resin mold before hydrophilization treatment. The UV ozone treatment uses a UV ozone cleaning device “OC-2506 (with ozone decomposing device OCA-150L-D)” manufactured by Eye Graphics Co., Ltd., using a low-pressure mercury lamp, under the condition of an irradiation distance of 10 mm in the presence of ozone. The resin mold before hydrophilization treatment was irradiated with UV. The exhaust time in the UV ozone cleaning apparatus was 2 minutes. After the hydrophilization treatment, a release agent “OPTOOL DSX” manufactured by Daikin Co., Ltd. was dropped onto the finely shaped surface (UV-irradiated surface) which is the surface of the resin mold, and applied to the entire surface. Then, it was air-dried and baked for 10 minutes on a 100 degreeC hotplate. After baking, the excess mold release agent was washed (washed off) with a fluorine-based solvent “DEMNUM Solvent (Daikin)” to obtain a resin mold.

一方、転写対象として、以下のようにして得られたシートを用意した。まず、縦100mm×横100mm×厚み0.1mmのPETフィルム上に、熱可塑性樹脂(4)(Topas8007)をデカリンに溶解した溶解液をバーコーターにより塗工して塗膜を形成した。その後、形成した塗膜について真空乾燥を行うことで、上記PETの表面に樹脂(Topas8007)の膜が形成されたシートを用意した。そして、これら(樹脂型、シート)を用いて上記評価を行った。   On the other hand, a sheet obtained as follows was prepared as a transfer target. First, on a PET film having a length of 100 mm, a width of 100 mm, and a thickness of 0.1 mm, a solution obtained by dissolving the thermoplastic resin (4) (Topas 8007) in decalin was applied by a bar coater to form a coating film. Thereafter, the formed coating film was vacuum-dried to prepare a sheet having a resin (Topas 8007) film formed on the surface of the PET. And the said evaluation was performed using these (resin type | mold, sheet | seat).

(実施例7、8、11)
表5に示す樹脂を用いたこと、表5に示す処理時間でUVオゾン処理を行ったこと、及び、転写対象として、縦100mm×横100mm×厚み0.1mmのPETフィルム上に、光硬化樹脂(1)をバーコーターにより塗工して塗膜を形成したシート(上記塗膜を光硬化させる前のシート)を使用したこと以外は、実施例2と同様にして各樹脂型及び転写対象としての各シートを得た。そして、これら(樹脂型、シート)を用いて上記評価を行った。
(Examples 7, 8, and 11)
Photoresin is used on a PET film having a length of 100 mm, a width of 100 mm, and a thickness of 0.1 mm as a transfer object, using the resin shown in Table 5 and performing the UV ozone treatment for the treatment time shown in Table 5. Each resin mold and transfer object was the same as in Example 2 except that a sheet (sheet before photocuring the above-mentioned coating film) in which (1) was applied by a bar coater to form a coating film was used. Each sheet was obtained. And the said evaluation was performed using these (resin type | mold, sheet | seat).

(実施例9、10)
表5に示す樹脂を用いたこと、及び、転写対象として、縦100mm×横100mm×厚み0.1mmのPETフィルム上に、表5に示す光硬化樹脂をバーコーターにより塗工して塗膜を形成したシート(上記塗膜を光硬化させる前のシート)を使用したこと以外は実施例1と同様にして樹脂型を得た。そして、これら(樹脂型、シート)を用いて上記評価を行った。
(Examples 9 and 10)
Using the resin shown in Table 5 and, as a transfer target, a photocoating resin shown in Table 5 was coated on a PET film having a length of 100 mm × width of 100 mm × thickness of 0.1 mm by a bar coater. A resin mold was obtained in the same manner as in Example 1 except that the formed sheet (sheet before photocuring the coating film) was used. And the said evaluation was performed using these (resin type | mold, sheet | seat).

(実施例12、13)
表5に示す樹脂を用いたこと以外は、実施例6と同様にして樹脂型を得た。また、実施例7と同様にして転写対象としてのシートを得た。そして、これら(樹脂型、シート)を用いて上記評価を行った。
(Examples 12 and 13)
A resin mold was obtained in the same manner as in Example 6 except that the resin shown in Table 5 was used. Further, a sheet as a transfer target was obtained in the same manner as in Example 7. And the said evaluation was performed using these (resin type | mold, sheet | seat).

(実施例14、15)
プラズマ処理(親水化処理)を行ったこと以外は、実施例2と同様にして樹脂型を得た。プラズマ処理は、神鋼精機社製のプラズマエッチング装置「EXAM」を使用し、酸素ガス(圧力15Pa)、パワー20W、処理時間1分間の条件でRIE処理することにより行った。本条件を、表5中、「O、15Pa下、20W、1分間」と示す。
(Examples 14 and 15)
A resin mold was obtained in the same manner as in Example 2 except that plasma treatment (hydrophilization treatment) was performed. The plasma treatment was performed by using a plasma etching apparatus “EXAM” manufactured by Shinko Seiki Co., Ltd. and performing RIE treatment under the conditions of oxygen gas (pressure 15 Pa), power 20 W, and treatment time 1 minute. This condition is shown in Table 5 as “O 2 , under 15 Pa, 20 W, 1 minute”.

一方、転写対象については、実施例14では実施例5と同様にして転写対象としてのシートを得た。また、実施例15では実施例7と同様にして転写対象としてのシートを得た。そして、これら(樹脂型、シート)を用いて上記評価を行った。   On the other hand, for the transfer object, in Example 14, a sheet as the transfer object was obtained in the same manner as in Example 5. In Example 15, a sheet as a transfer target was obtained in the same manner as Example 7. And the said evaluation was performed using these (resin type | mold, sheet | seat).

(実施例16、17)
芝浦メカトロニクス社製のスパッタリング装置「CFS−4ES」を使用し、窒素ガス(圧力0.5Pa)、パワー50W、処理時間1分間の条件で逆スパッタ処理によりプラズマ処理を行ったこと以外は、実施例2と同様にして樹脂型を得た。本条件を、表5中、「N、0.5Pa下、50W、1分間逆スパッタ」と示す。
(Examples 16 and 17)
Except for using a sputtering apparatus “CFS-4ES” manufactured by Shibaura Mechatronics Co., Ltd., except that plasma treatment was performed by reverse sputtering under conditions of nitrogen gas (pressure 0.5 Pa), power 50 W, and treatment time 1 minute. In the same manner as in No. 2, a resin mold was obtained. This condition is shown as “N 2 , 0.5 Pa, 50 W, 1 minute reverse sputtering” in Table 5.

一方、転写対象については、実施例16では実施例5と同様にして転写対象としてのシートを得た。また、実施例17では実施例7と同様にして転写対象としてのシートを得た。そして、これら(樹脂型、シート)を用いて上記評価を行った。   On the other hand, for the transfer object, in Example 16, a sheet as the transfer object was obtained in the same manner as in Example 5. In Example 17, a sheet as a transfer target was obtained in the same manner as Example 7. And the said evaluation was performed using these (resin type | mold, sheet | seat).

(比較例1、6、7、10、11、15、16)
表6に示す樹脂を用いたこと以外は、実施例1と同様にして樹脂型を得た。一方、転写対象については、比較例1では実施例2と同様にして転写対象としてのシートを得た。比較例6では実施例4と同様にして転写対象としてのシートを得た。比較例7では実施例6と同様にして転写対象としてのシートを得た。比較例10、11、15、16では実施例7と同様にして転写対象としてのシートを得た。そして、これら(樹脂型、シート)を用いて上記評価を行った。
(Comparative Examples 1, 6, 7, 10, 11, 15, 16)
A resin mold was obtained in the same manner as in Example 1 except that the resins shown in Table 6 were used. On the other hand, regarding the transfer target, in Comparative Example 1, a sheet as a transfer target was obtained in the same manner as in Example 2. In Comparative Example 6, a sheet as a transfer target was obtained in the same manner as in Example 4. In Comparative Example 7, a sheet as a transfer target was obtained in the same manner as in Example 6. In Comparative Examples 10, 11, 15, and 16, sheets as transfer targets were obtained in the same manner as in Example 7. And the said evaluation was performed using these (resin type | mold, sheet | seat).

(比較例2〜5、12、13)
UVオゾン処理時間を表6に示す時間に変えたこと、及び、表6に示す樹脂を用いたこと以外は、実施例2と同様にして樹脂型を得た。一方、転写対象については、比較例2〜5では実施例2と同様にして転写対象としてのシートを得た。比較例12、13では、表6に示す樹脂を用いたこと以外は、実施例7と同様にして転写対象としてのシートを得た。そして、これら(樹脂型、シート)を用いて上記評価を行った。
(Comparative Examples 2-5, 12, 13)
A resin mold was obtained in the same manner as in Example 2 except that the UV ozone treatment time was changed to the time shown in Table 6 and the resin shown in Table 6 was used. On the other hand, regarding the transfer target, in Comparative Examples 2 to 5, a sheet as the transfer target was obtained in the same manner as in Example 2. In Comparative Examples 12 and 13, sheets as transfer targets were obtained in the same manner as in Example 7 except that the resins shown in Table 6 were used. And the said evaluation was performed using these (resin type | mold, sheet | seat).

(比較例8)
直径220nm(精度±10%)、深さ200nm(精度±5%)のホール状パターンが形成された石英製の金型を用い、UVナノインプリント法によって光硬化樹脂にホール状パターンを転写して樹脂型を得た。
(Comparative Example 8)
Using a quartz mold with a hole-shaped pattern with a diameter of 220 nm (accuracy ± 10%) and depth 200 nm (accuracy ± 5%), the hole-shaped pattern is transferred to a photo-curing resin by UV nanoimprinting. Got the mold.

具体的には、まず、PET製のフィルム上に光硬化樹脂(TCDVE/1−AdVE=70/30)をバーコーターで塗布して塗膜を形成した。この塗膜上に、石英製の金型のホール状パターンが形成された面が上記塗膜に接触するように上記金型を配置した後、熱プレス機「AH−1T」のプレスステージにセットした。   Specifically, first, a photocurable resin (TCDVE / 1-AdVE = 70/30) was applied on a PET film with a bar coater to form a coating film. On the coating film, the mold is placed so that the surface on which the hole pattern of the quartz mold is formed is in contact with the coating film, and then set on the press stage of the hot press “AH-1T”. did.

次に、プレス板温度常温、プレスステージ温度常温、圧力1.0MPa、圧力保持時間10秒の条件(表4参照)で、光硬化性樹脂(1)(UNP−β)についてインプリントを行った(上記塗膜に上記金型を押し付けた)。その後脱圧して、これらをプレスステージから取り出した。その後、LED光源(HOYA社製の「EXECURE−H−1VC」、波長365nm)を用いて、UV照射量20mW/cm、UV照射時間38秒の条件で上記塗膜をUV照射することによって上記塗膜を硬化させて硬化樹脂フィルムとした。そして、硬化樹脂フィルム及びPETフィルムを、上記金型から離型した。このようにして、ホール状のパターンが転写された樹脂型(直径206nm、深さ197nmのホール状パターンが形成された樹脂型)を得た。得られた樹脂型の表面である微細形状面にダイキン社製の離型剤「オプツールDSX」を滴下してその全面に塗布した。その後、風乾させ、100℃のホットプレート上で10分間ベークした。ベーク後、フッ素系溶剤「デムナムソルベント(ダイキン社製)」で余分な離型剤を洗浄して(洗い落として)樹脂型を得た。一方、転写対象については、実施例6と同様にして転写対象としてのシートを得た。そして、これら(樹脂型、シート)を用いて上記評価を行った。 Next, imprinting was performed on the photocurable resin (1) (UNP-β) under the conditions of the press plate temperature normal temperature, the press stage temperature normal temperature, the pressure 1.0 MPa, and the pressure holding time 10 seconds (see Table 4). (The mold was pressed against the coating film). Thereafter, the pressure was released, and these were taken out of the press stage. Then, the above-mentioned coating film was irradiated with UV under the conditions of a UV irradiation amount of 20 mW / cm 2 and a UV irradiation time of 38 seconds using an LED light source (“EXECURE-H-1VC” manufactured by HOYA, wavelength 365 nm). The coating film was cured to obtain a cured resin film. Then, the cured resin film and the PET film were released from the mold. Thus, a resin mold (a resin mold on which a hole-shaped pattern having a diameter of 206 nm and a depth of 197 nm was formed) onto which a hole-shaped pattern was transferred was obtained. A release agent “OPTOOL DSX” manufactured by Daikin Co., Ltd. was dropped onto the finely shaped surface, which is the surface of the obtained resin mold, and applied to the entire surface. Then, it was air-dried and baked for 10 minutes on a 100 degreeC hotplate. After baking, the excess mold release agent was washed (washed off) with a fluorine-based solvent “DEMNUM Solvent (Daikin)” to obtain a resin mold. On the other hand, as a transfer target, a sheet as a transfer target was obtained in the same manner as in Example 6. And the said evaluation was performed using these (resin type | mold, sheet | seat).

(比較例9)
比較例8と同様にして樹脂型を得た。一方、転写対象については、実施例7と同様にして転写対象としてのシートを得た。そして、これら(樹脂型、シート)を用いて上記評価を行った。
(Comparative Example 9)
A resin mold was obtained in the same manner as in Comparative Example 8. On the other hand, as a transfer target, a sheet as a transfer target was obtained in the same manner as in Example 7. And the said evaluation was performed using these (resin type | mold, sheet | seat).

(比較例14)
表6に示す樹脂を用いたこと以外は比較例8と同様にして樹脂型を得た。一方、転写対象については、実施例7と同様にして転写対象としてのシートを得た。そして、これら(樹脂型、シート)を用いて上記評価を行った。
(Comparative Example 14)
A resin mold was obtained in the same manner as in Comparative Example 8 except that the resins shown in Table 6 were used. On the other hand, as a transfer target, a sheet as a transfer target was obtained in the same manner as in Example 7. And the said evaluation was performed using these (resin type | mold, sheet | seat).

表5及び表6から明らかなように、実施例1〜17の樹脂型は、比較例1〜16の樹脂型と比べて、転写対象から容易に離型可能であり(離型性が良好であり)、その表面が親水化処理された場合にも表面の微細形状の精度が良好であることが確認できた。   As is clear from Tables 5 and 6, the resin molds of Examples 1 to 17 can be easily released from the transfer target as compared with the resin molds of Comparative Examples 1 to 16 (the mold release property is good). It was confirmed that the precision of the fine shape of the surface was good even when the surface was hydrophilized.

比較例4、5の樹脂型の場合、離型性は良好であるが、樹脂型の微細形状の精度が不良であった。具体的には、比較例4においては、微細形状変化率が21%、比較例5においては微細形状変化率が64%であった。   In the case of the resin molds of Comparative Examples 4 and 5, the releasability was good, but the precision of the fine shape of the resin mold was poor. Specifically, in Comparative Example 4, the fine shape change rate was 21%, and in Comparative Example 5, the fine shape change rate was 64%.

本発明の樹脂型は、ナノインプリント用の樹脂型として好適に用いることができる。本発明の成形型は、集光フィルム等の光学成形品として好適に用いることができる。本発明の成形型の製造方法は、集光フィルム等の光学成形品として用いることが可能な成形型を製造することができる。   The resin mold of the present invention can be suitably used as a resin mold for nanoimprinting. The shaping | molding die of this invention can be used suitably as optical shaping | molding articles, such as a condensing film. The manufacturing method of the shaping | molding die of this invention can manufacture the shaping | molding die which can be used as optical shaping | molding articles, such as a condensing film.

1:金型、3:樹脂フィルム、5:樹脂型、11:樹脂層、13:水滴、15,17:凹凸パターン。 1: Mold, 3: Resin film, 5: Resin mold, 11: Resin layer, 13: Water droplets, 15, 17: Concave and convex pattern.

Claims (16)

樹脂成分(a)を含む材料からなり、表面上にパターン形成用の微細形状が形成され、前記微細形状を、樹脂成分(b)を含む材料からなる転写対象に転写するためのナノインプリント用の樹脂型であって、前記樹脂成分(a)を、平滑面を有する基材の前記平滑面上に塗布して、乾燥させるか、または、光を照射することで平滑面を有する樹脂層(A)を形成した後、形成した前記樹脂層(A)の前記平滑面上に3μLの水を配置して、JIS R 3257に準拠して測定される静的接触角(X1)が、下記条件(1)を満たす樹脂型。
条件(1):前記転写対象を構成する材料のうちの前記樹脂成分(b)を、平滑面を有する基材の前記平滑面上に塗布して、乾燥させるか、または、光を照射することで平滑面を有する樹脂層(B)を形成した後、形成した前記樹脂層(B)の前記平滑面上に3μLの水を配置して、JIS R 3257に準拠して測定される静的接触角(Y1)と前記静的接触角(X1)との差の絶対値が20°〜60°である。
A resin for nanoimprint, which is made of a material containing a resin component (a), has a fine shape for pattern formation formed on the surface, and transfers the fine shape to a transfer object made of a material containing a resin component (b) Resin layer (A) having a smooth surface by applying the resin component (a) on the smooth surface of a substrate having a smooth surface and drying or irradiating light. After forming 3 μL of water on the smooth surface of the formed resin layer (A), the static contact angle (X1) measured in accordance with JIS R 3257 is the following condition (1 Resin mold that satisfies).
Condition (1): Applying the resin component (b) of the material constituting the transfer object onto the smooth surface of a substrate having a smooth surface and drying or irradiating light. After forming a resin layer (B) having a smooth surface with 3 μL of water on the smooth surface of the formed resin layer (B), static contact measured according to JIS R 3257 The absolute value of the difference between the angle (Y1) and the static contact angle (X1) is 20 ° to 60 °.
微細形状が形成されている前記表面が親水化処理されて得られる請求項1に記載の樹脂型。   The resin mold according to claim 1, wherein the surface on which the fine shape is formed is obtained by hydrophilization treatment. 前記樹脂層(A)を形成した後、形成した前記樹脂層(A)の前記平滑面を親水化処理し、親水化処理した前記平滑面上に3μLの水を配置して、JIS R 3257に準拠して測定される静的接触角(X2)が、下記条件(2)を満たす請求項2に記載の樹脂型。
条件(2):前記静的接触角(Y1)と前記静的接触角(X2)との差((Y1)−(X2))が20°〜60°である。
After the resin layer (A) is formed, the smooth surface of the formed resin layer (A) is hydrophilized, and 3 μL of water is disposed on the hydrophilized smooth surface to JIS R 3257. The resin mold according to claim 2, wherein the static contact angle (X2) measured in accordance with the condition satisfies the following condition (2).
Condition (2): The difference ((Y1) − (X2)) between the static contact angle (Y1) and the static contact angle (X2) is 20 ° to 60 °.
前記親水化処理として、UVオゾン処理を行う請求項2または3に記載の樹脂型。   The resin mold according to claim 2, wherein UV ozone treatment is performed as the hydrophilic treatment. 前記親水化処理として、コロナ放電処理を行う請求項2または3に記載の樹脂型。   The resin mold according to claim 2 or 3, wherein a corona discharge treatment is performed as the hydrophilic treatment. 前記親水化処理として、プラズマ放電処理を行う請求項2または3に記載の樹脂型。   The resin mold according to claim 2 or 3, wherein a plasma discharge treatment is performed as the hydrophilization treatment. 前記表面が、離型剤処理されて得られる請求項1〜6のいずれか一項に記載の樹脂型。   The resin mold according to claim 1, wherein the surface is obtained by a release agent treatment. 前記樹脂成分(a)は、熱可塑性樹脂を含むものであり、
前記表面上の微細形状が熱ナノインプリントによって形成された請求項1〜7のいずれか一項に記載の樹脂型。
The resin component (a) contains a thermoplastic resin,
The resin mold according to any one of claims 1 to 7, wherein a fine shape on the surface is formed by thermal nanoimprint.
前記熱可塑性樹脂が、環状オレフィン系樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルエーテル樹脂、及び、ポリスチレン樹脂からなる群より選択される少なくとも1種である請求項8に記載の樹脂型。   The resin mold according to claim 8, wherein the thermoplastic resin is at least one selected from the group consisting of a cyclic olefin resin, a polyolefin resin, an acrylic resin, a polycarbonate resin, a polyvinyl ether resin, and a polystyrene resin. 前記樹脂成分(a)は、光硬化性樹脂を含むものであり、
前記表面上の微細形状が光ナノインプリントによって形成された請求項1〜7のいずれか一項に記載の樹脂型。
The resin component (a) contains a photocurable resin,
The resin mold according to any one of claims 1 to 7, wherein a fine shape on the surface is formed by optical nanoimprint.
前記光硬化性樹脂が、直鎖状ビニルエーテル化合物、脂環ビニルエーテル化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物、及び、アクリル化合物からなる群より選択される少なくとも1種の硬化性化合物に由来する構造単位を含むものである請求項10に記載の樹脂型。   The photo-curable resin includes a structural unit derived from at least one curable compound selected from the group consisting of a linear vinyl ether compound, an alicyclic vinyl ether compound, an epoxy compound, an oxetane compound, and an acrylic compound. The resin mold according to claim 10. 熱ナノインプリント用である請求項1〜11のいずれか一項に記載の樹脂型。   The resin mold according to any one of claims 1 to 11, which is for thermal nanoimprinting. 光ナノインプリント用である請求項1〜11のいずれか一項に記載の樹脂型。   The resin mold according to any one of claims 1 to 11, which is for optical nanoimprint. 請求項1〜13のいずれか一項に記載の樹脂型の表面上に形成された微細形状が転写されて得られる成形体。   The molded object obtained by transferring the fine shape formed on the surface of the resin mold as described in any one of Claims 1-13. 樹脂成分(a)を含む材料からなり、表面上にパターン形成用の微細形状が形成された樹脂型を用い、前記樹脂型の前記微細形状を、樹脂成分(b)を含む材料からなる転写対象に転写することによって、前記樹脂型の前記微細形状の反転形状がその表面に形成された成形体を得る成形体の製造方法であって、
前記樹脂型として、前記樹脂成分(a)を、平滑面を有する基材の前記平滑面上に塗布して、乾燥させるか、または、光を照射することで平滑面を有する樹脂層(A)を形成した後、形成した前記樹脂層(A)の前記平滑面上に3μLの水を配置して、JIS R 3257に準拠して測定される静的接触角(X1)が、下記条件(1)を満たす樹脂型を用いる成形体の製造方法。
条件(1):前記転写対象を構成する材料のうちの前記樹脂成分(b)を、平滑面を有する基材の前記平滑面上に塗布して、乾燥させるか、または、光を照射することで平滑面を有する樹脂層(B)を形成した後、形成した前記樹脂層(B)の前記平滑面上に3μLの水を配置して、JIS R 3257に準拠して測定される静的接触角(Y1)と前記静的接触角(X1)との差の絶対値が20°〜60°である。
Using a resin mold made of a material containing the resin component (a) and having a fine pattern forming pattern formed on the surface, the fine shape of the resin mold is made of a material containing the resin component (b) Is a method of manufacturing a molded body to obtain a molded body in which the inverted shape of the fine shape of the resin mold is formed on the surface thereof,
As the resin mold, the resin component (a) is applied on the smooth surface of a substrate having a smooth surface and dried or irradiated with light to form a resin layer (A) having a smooth surface. After forming 3 μL of water on the smooth surface of the formed resin layer (A), the static contact angle (X1) measured in accordance with JIS R 3257 is the following condition (1 The manufacturing method of the molded object using the resin type | mold which satisfy | fills.
Condition (1): Applying the resin component (b) of the material constituting the transfer object onto the smooth surface of a substrate having a smooth surface and drying or irradiating light. After forming a resin layer (B) having a smooth surface with 3 μL of water on the smooth surface of the formed resin layer (B), static contact measured according to JIS R 3257 The absolute value of the difference between the angle (Y1) and the static contact angle (X1) is 20 ° to 60 °.
前記樹脂型として、微細形状が形成されている前記表面が親水化処理されて得られ、かつ、前記樹脂層(A)を形成した後、形成した前記樹脂層(A)の前記平滑面を親水化処理し、親水化処理した前記平滑面上に3μLの水を配置して、JIS R 3257に準拠して測定される静的接触角(X2)が、下記条件(2)を満たす樹脂型を用いる請求項15に記載の成形体の製造方法。
条件(2):前記静的接触角(Y1)と前記静的接触角(X2)との差((Y1)−(X2))が20°〜60°である。
As the resin mold, the surface on which the fine shape is formed is obtained by hydrophilic treatment, and after the resin layer (A) is formed, the smooth surface of the formed resin layer (A) is made hydrophilic. A resin mold in which 3 μL of water is disposed on the smooth surface that has been subjected to a hydrophilization treatment and the static contact angle (X2) measured in accordance with JIS R 3257 satisfies the following condition (2): The manufacturing method of the molded object of Claim 15 used.
Condition (2): The difference ((Y1) − (X2)) between the static contact angle (Y1) and the static contact angle (X2) is 20 ° to 60 °.
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