JP2011176128A - 半導体製造装置及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の一態様に係る熱処理装置1は、処理ガスを内部に導入するガス導入口7bを有する処理容器2と、処理容器2内に収容され、半導体ウエハWが配置されるステージ3と、ステージ3の周囲に配置され、ステージ3上の半導体ウエハWが配置される領域に熱線を放射を放射する複数のランプ4と、複数のランプ4の出力を選択的に制御する制御部5とを備える。
【選択図】図1
Description
処理容器2は、内部に成膜処理用の処理空間2aが形成されるように、上方に開口する円筒状の容器本体6と、容器本体6の上方開口部を閉塞する円板状の蓋体7とを有して構成されている。また、処理容器2は、全体が例えばアルミニウム等の金属材料によって形成されている。
ステージ3は、処理容器2の底板10上に配置され、かつ処理空間2aに収容され、表面に配置された半導体ウエハWを加熱する抵抗発熱体からなるヒータ14を内蔵している。また、ステージ3は、全体が例えば窒化アルミニウム等からなる平面円形状のブロック部材によって形成されている。ステージ3の外径は、半導体ウエハWの外径よりも大きい寸法に設定されている。
図2は、図1のA−A線断面図、図3は、図1に示す内側筒状部材を内側から見た複数のランプの配列状態の要部を示す展開図である。
図4は、図1〜図3に示す熱処理装置の制御系を示す図である。
次に、熱処理装置1の動作を、図面を参照して説明する。
まず、蓋体7及びシャワー板13を上昇させることにより搬入・搬出口6aを開放した後、搬入・搬出口6aから処理容器2の処理空間2aに半導体ウエハWを搬入してステージ3上に配置し、蓋体7及びシャワー板13を下降させることにより搬入・搬出口6aを閉塞して処理容器2を密閉する。
蓋体7及びシャワー板13を上昇させることにより搬入・搬出口6aを開放した後、搬入・搬出口6aから処理容器2の処理空間2aに半導体ウエハWを搬入してステージ3上に配置し、蓋体7及びシャワー板13を下降させることにより搬入・搬出口6aを閉塞して処理容器2を密閉する。
ヒータ14を駆動するとともに、制御部5によりランプ4を点灯制御することにより、処理容器2内を加熱維持する。
本実施の形態の効果を、図面を参照して説明する。
Claims (5)
- 処理ガスを内部に導入するガス導入口を有する処理容器と、
前記処理容器内に収容され、半導体基板が配置されるステージと、
前記ステージの周囲に配置され、前記ステージ上の前記半導体基板が配置される領域に熱線を放射する複数のランプと、
前記複数のランプの出力を選択的に制御する駆動制御部とを備えた半導体製造装置。 - 前記処理ガスは、成膜ガスであり、
前記駆動制御部は、前記成膜ガスが前記半導体基板表面に供給されながら前記複数のランプの出力を選択的に制御することによって前記半導体基板上に成膜を行うことを特徴とする請求項1に記載の半導体製造装置。 - 前記駆動制御部は、膜厚測定部と接続され、前記膜厚測定部で測定された膜厚分布に基づいて前記複数のランプの制御条件を決定することを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体製造装置。
- 半導体基板が配置されるステージ、及び前記ステージの周囲に配置された複数のランプを内部に有する処理容器を有する装置を用いた半導体装置の製造方法であって、
前記ステージに前記半導体基板を配置し、
前記複数のランプを選択的に点灯させて前記半導体基板の面内の温度分布を制御し、
前記処理容器内に処理ガスを導入して前記半導体基板に処理を施す半導体装置の製造方法。 - 前記処理は、成膜処理であり、
前記半導体基板の面内の温度分布の制御は、予め取得された膜厚分布情報に基づいて前記複数のランプを選択的に制御することを特徴とする請求項4に記載の半導体装置の製造方法。
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