JP2011176013A - Printed circuit board and metal foil plating lamination plate - Google Patents

Printed circuit board and metal foil plating lamination plate Download PDF

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JP2011176013A JP2010037366A JP2010037366A JP2011176013A JP 2011176013 A JP2011176013 A JP 2011176013A JP 2010037366 A JP2010037366 A JP 2010037366A JP 2010037366 A JP2010037366 A JP 2010037366A JP 2011176013 A JP2011176013 A JP 2011176013A
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Akiko Kawaguchi
亜季子 川口
Makoto Yanagida
真 柳田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printed circuit board with superior folding endurance. <P>SOLUTION: The printed circuit board 100 includes: a core substrate 30 where a fiber base material is embedded in a first resin; a pair of second resin layers 10 arranged to hold the core substrate 30 between them; and a conductor 7 arranged on at least one of a surface 100a opposed to the core substrate 30 in the resin layer 10 or the interface of the resin layer and the core substrate. In the printed circuit board 100, the thickness of the fiber base material is ≤40 μm, and a tension elastic modulus in the cured object of the first resin at a temperature of 25°C is larger than that in the second resin layers 10 at a temperature of 25°C and also ≤3.0 GPa. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、プリント配線板及び金属箔張積層板に関する。   The present invention relates to a printed wiring board and a metal foil-clad laminate.

情報端末電子機器の普及に伴って、電子機器の小型化・薄型化が進んでいる。このような状況の中、電子機器の中に搭載されるプリント配線板に対し、高密度化・薄型化への要求が高くなりつつある。さらに、携帯電話に代表されるように、電子機器の高機能化により、カメラ等をはじめとする様々な高性能モジュールと高密度実装されるプリント配線板の接続は、高い信頼性を有することが求められている。   With the spread of information terminal electronic devices, electronic devices are becoming smaller and thinner. Under such circumstances, there is an increasing demand for higher density and thinner printed wiring boards mounted in electronic devices. In addition, as represented by mobile phones, the high-functionality of electronic devices has led to high reliability in the connection of various high-performance modules such as cameras and printed wiring boards mounted at high density. It has been demanded.

一方、電子部品の実装点数も急激に増加しており、限られたスペースに多数の電子部品を実装するため、従来の剛直なプリント配線板のみならず自由に折り曲げ可能な柔らかいプリント配線板が用いられている。このような折り曲げ可能なプリント配線板の材料として、ポリイミドを中心とした熱可塑性樹脂フィルムが採用されている。   On the other hand, the mounting number of electronic components has also increased rapidly, and in order to mount many electronic components in a limited space, not only conventional rigid printed wiring boards but also soft printed wiring boards that can be bent freely are used. It has been. As a material for such a foldable printed wiring board, a thermoplastic resin film centered on polyimide is employed.

ところが、ポリイミドなどの熱可塑性樹脂フィルムは、導体形成用の金属箔との接着性が低いため、当該熱可塑性樹脂フィルムに、ポリイミドとは物性値の異なる樹脂層を積層する必要がある。このため、製造コストが上昇してしまうという問題がある。また、形状安定性や寸法安定性が十分ではないという問題がある。   However, since a thermoplastic resin film such as polyimide has low adhesion to a metal foil for forming a conductor, it is necessary to laminate a resin layer having a physical property value different from that of polyimide on the thermoplastic resin film. For this reason, there exists a problem that manufacturing cost will rise. There is also a problem that shape stability and dimensional stability are not sufficient.

このような問題点を解消するため、様々な手法が提案されている。例えば、樹脂フィルムの寸法安定性を向上させるために、樹脂にガラス短繊維を配合すること(例えば、特許文献1参照)、反りやねじれの低減を目的に、熱膨張率の異なる樹脂層を形成すること(例えば、特許文献2及び3参照)、低熱膨張率化を目的に金属箔近傍に低熱膨張率の樹脂層を形成すること(例えば、特許文献4参照)などが提案されている。特に任意に折り曲げ可能で寸法安定性に優れるプリント配線板用材料が提案されている(特許文献5参照)。   In order to solve such problems, various methods have been proposed. For example, in order to improve the dimensional stability of a resin film, resin short fibers are blended into the resin (see, for example, Patent Document 1), and resin layers having different thermal expansion coefficients are formed for the purpose of reducing warpage and twisting. (For example, refer to Patent Documents 2 and 3), forming a resin layer having a low coefficient of thermal expansion near the metal foil for the purpose of reducing the coefficient of thermal expansion (for example, refer to Patent Document 4), and the like. In particular, a printed wiring board material that can be arbitrarily bent and has excellent dimensional stability has been proposed (see Patent Document 5).

特開昭49−25499号公報JP 49-25499 A 特開平1−245586号公報JP-A-1-245586 特開平8−250860号公報JP-A-8-250860 特開平5−347461号公報JP-A-5-347461 特開2006−66894号公報JP 2006-66894 A

ところが、特許文献1のようにガラス短繊維を配合するプリント配線板の場合、樹脂単独のプリント配線板に比べて寸法の変化量は小さくできるものの、局所的に寸法変化のばらつきが大きくなるため、微細な配線を設ける場合に十分な接続安定性を得ることができない。また、特許文献2〜4のような、フレキシブルプリント基板は、いずれも樹脂層単独で構成されており、十分に吸湿性や熱膨張率を低減することができないため、ガラス布やガラス不織布を含むプリント配線板に比べて、金属箔をエッチングする際や回路加工後の寸法安定性が十分ではない。特許文献5は、繊維基材を含有する絶縁樹脂層からなる基板の25℃における引張り弾性率を0.5GPa以上、10GPa以下とすることによって、寸法安定性に優れ、任意に折り曲げ可能な印刷回路板を達成している。   However, in the case of a printed wiring board in which short glass fibers are blended as in Patent Document 1, although the amount of dimensional change can be reduced compared to a resin-only printed wiring board, the variation in dimensional change locally increases. When providing fine wiring, sufficient connection stability cannot be obtained. Moreover, since the flexible printed circuit boards like patent documents 2-4 are all comprised only with the resin layer and cannot fully reduce hygroscopicity and a coefficient of thermal expansion, they contain glass cloth and glass nonwoven fabric. Compared to a printed wiring board, the dimensional stability after etching a metal foil or after circuit processing is not sufficient. Patent Document 5 discloses a printed circuit that has excellent dimensional stability and can be arbitrarily bent by setting the tensile elastic modulus at 25 ° C. of a substrate made of an insulating resin layer containing a fiber base material to 0.5 GPa or more and 10 GPa or less. Achieve the board.

しかしながら、実装密度の高密度化の要求が厳しくなり、特許文献5で達成されたレベルよりもさらに上のレベルの折り曲げ性が要求されるようになった。   However, the demand for higher mounting density has become stricter, and a higher level of bendability than the level achieved in Patent Document 5 has been required.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、より優れた耐折性を備えるプリント配線板、及び当該プリント配線板を形成できる金属箔張積層板を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of the said situation, and aims at providing the metal foil tension laminated board which can form the printed wiring board provided with the more excellent folding resistance, and the said printed wiring board.

上記目的を達成するため、本発明の第一発明では、繊維基材が第1の樹脂に埋設されてなるコア基板と、前記コア基板を挟むように設けられる一対の第2の樹脂層と、前記樹脂層の前記コア基板側とは反対側の面上または前記樹脂層と前記コア基板の界面の少なくとも一方に設けられる導体と、を備えるプリント配線板であって、
前記繊維基材の厚みは40μm以下であり、
前記第1の樹脂の硬化物の25℃における引張り弾性率が、前記第2の樹脂層の25℃における引張り弾性率よりも大きく且つ3.0GPa以下であるプリント配線板を提供する。
In order to achieve the above object, in the first invention of the present invention, a core substrate in which a fiber base material is embedded in a first resin, and a pair of second resin layers provided so as to sandwich the core substrate, A printed wiring board comprising a conductor provided on a surface opposite to the core substrate side of the resin layer or on at least one of an interface between the resin layer and the core substrate,
The fiber base has a thickness of 40 μm or less,
Provided is a printed wiring board in which the cured elastic product of the first resin has a tensile elastic modulus at 25 ° C. which is larger than the tensile elastic modulus at 25 ° C. of the second resin layer and is 3.0 GPa or less.

このようなプリント配線板では、コア基板に含まれる第1の樹脂の硬化物の引張り弾性率は25℃において3.0GPa以下であり、このコア基板を挟むように設けられる樹脂層の引張り弾性率よりも大きくなっている。このように、引張り弾性率が大きい樹脂硬化物を繊維基材近傍に配置させ、折り曲げ時に最も大きい引張り応力が生じる外側(表面に近い部位)に引張り弾性率が小さい樹脂層を配置させることで、クラックの発生が抑制され、柔軟性及び耐折性を向上させることができる。また、本発明のプリント配線板は、繊維基材を有しているため寸法安定性に優れており、繊維基材として厚み40μm以下のものを使用しているため、柔軟性にも十分に優れている。このようなプリント配線板は、筐体に折り曲げて搭載できるので、高密度に収納することが可能である。なお、本発明における金属箔張積層板及びプリント配線板におけるコア基板及び第2の樹脂層は硬化した状態(部分的に硬化した状態を含む)である。   In such a printed wiring board, the tensile elastic modulus of the cured product of the first resin contained in the core substrate is 3.0 GPa or less at 25 ° C., and the tensile elastic modulus of the resin layer provided so as to sandwich the core substrate. Is bigger than. In this way, by placing a resin cured product having a large tensile elastic modulus in the vicinity of the fiber base material and arranging a resin layer having a small tensile elastic modulus on the outer side (site close to the surface) where the largest tensile stress is generated during bending, Generation | occurrence | production of a crack is suppressed and a softness | flexibility and bending resistance can be improved. Moreover, since the printed wiring board of the present invention has a fiber base material, it has excellent dimensional stability, and since a fiber base material having a thickness of 40 μm or less is used, it is sufficiently excellent in flexibility. ing. Since such a printed wiring board can be bent and mounted in a housing, it can be stored at a high density. The core substrate and the second resin layer in the metal foil-clad laminate and the printed wiring board according to the present invention are in a cured state (including a partially cured state).

本発明のプリント配線板において、コア基板は、樹脂層と接する面側に第1の樹脂からなる内部樹脂層(第1の樹脂層)を有することが好ましい。これによって、一層柔軟性に優れるプリント配線板とすることができる。   In the printed wiring board of the present invention, it is preferable that the core substrate has an internal resin layer (first resin layer) made of the first resin on the side in contact with the resin layer. Thereby, it can be set as the printed wiring board which is further excellent in a softness | flexibility.

本発明のプリント配線板は、コア基板及び第2の樹脂層の少なくとも一方が、グリシジル基を有する樹脂を含有することが好ましい。これによって、耐熱性を向上させることができる。   In the printed wiring board of the present invention, it is preferable that at least one of the core substrate and the second resin layer contains a resin having a glycidyl group. Thereby, heat resistance can be improved.

また、本発明のプリント配線板は、コア基板及び第2の樹脂層の少なくとも一方が、アミド基を有する樹脂を含有することが好ましい。これによって、耐熱性を向上させることができる。   In the printed wiring board of the present invention, it is preferable that at least one of the core substrate and the second resin layer contains a resin having an amide group. Thereby, heat resistance can be improved.

また、本発明のプリント配線板は、コア基板及び第2の樹脂層の少なくとも一方が、アクリル樹脂及びポリアミドイミド樹脂の一方又は双方を含有することが好ましい。これによって、可とう性や耐熱性を向上させることができる。   In the printed wiring board of the present invention, it is preferable that at least one of the core substrate and the second resin layer contains one or both of an acrylic resin and a polyamideimide resin. Thereby, flexibility and heat resistance can be improved.

また、本発明のプリント配線板は、コア基板及び第2の樹脂層の少なくとも一方が、シロキサン結合を含むポリアミドイミド樹脂を含有することが好ましい。これによって、可とう性や耐熱性を一層向上させることができる。   In the printed wiring board of the present invention, it is preferable that at least one of the core substrate and the second resin layer contains a polyamideimide resin containing a siloxane bond. Thereby, flexibility and heat resistance can be further improved.

また、本発明のプリント配線板は、導体の厚みが0.01〜30μmであることが好ましい。これによって、優れた接続信頼性を有するとともに、折り曲げ時に導体の剥離が抑制され、耐折性を一層向上させることができる。   The printed wiring board of the present invention preferably has a conductor thickness of 0.01 to 30 μm. Thereby, while having the outstanding connection reliability, peeling of a conductor is suppressed at the time of bending, and folding resistance can be improved further.

また、本発明の第二発明は、繊維基材が第1の樹脂に埋設されてなるコア基板と、コア基板を挟むように設けられる一対の第2の樹脂層と、前記樹脂層の前記コア基板側とは反対側の面上または前記樹脂層と前記コア基板の界面の少なくとも一方に設けられる金属箔と、を備える金属箔張積層板であって、前記繊維基材の厚みは40μm以下であり、前記第1の樹脂の硬化物の25℃における引張り弾性率は、前記第2の樹脂層の25℃における引張り弾性率よりも大きく且つ3.0GPa以下である金属箔張積層板を提供する。   The second invention of the present invention is a core substrate in which a fiber base material is embedded in a first resin, a pair of second resin layers provided so as to sandwich the core substrate, and the core of the resin layer A metal foil-clad laminate comprising a metal foil provided on a surface opposite to the substrate side or on at least one of the interface between the resin layer and the core substrate, and the thickness of the fiber substrate is 40 μm or less And providing a metal foil-clad laminate having a tensile elastic modulus at 25 ° C. of the cured product of the first resin that is larger than the tensile elastic modulus at 25 ° C. of the second resin layer and 3.0 GPa or less. .

このような金属箔張積層板では、コア基板に含まれる第1の樹脂の硬化物の引張り弾性率は25℃において3.0GPa以下であり、このコア基板を挟むように設けられる第2の樹脂層の引張り弾性率よりも大きくなっている。このように、引張り弾性率が大きい樹脂を繊維基材近傍に配置させ、折り曲げ時に最も大きい引張り応力が生じる外側に引張り弾性率が相対的に小さい樹脂層を設けることで、クラックの発生が抑制され、柔軟性及び耐折性を向上させることができる。また、本発明の金属箔張積層板は、繊維基材を有しているため寸法安定性に優れており、繊維基材として厚み40μm以下のものを使用しているため、柔軟性に十分に優れている。このような金属箔張積層板を用いれば、筐体に高密度に収納できるプリント配線板を容易に作製することができる。   In such a metal foil-clad laminate, the tensile elastic modulus of the cured product of the first resin contained in the core substrate is 3.0 GPa or less at 25 ° C., and the second resin is provided so as to sandwich the core substrate. It is greater than the tensile modulus of the layer. As described above, by arranging a resin having a large tensile elastic modulus in the vicinity of the fiber base material and providing a resin layer having a relatively small tensile elastic modulus on the outside where the largest tensile stress is generated during bending, the generation of cracks is suppressed. , Flexibility and folding resistance can be improved. In addition, the metal foil-clad laminate of the present invention has a fiber base material and is excellent in dimensional stability, and since a fiber base material having a thickness of 40 μm or less is used, it is sufficiently flexible. Are better. If such a metal foil-clad laminate is used, a printed wiring board that can be stored in the housing at a high density can be easily produced.

本発明の金属箔張積層板において、コア基板は、第2の樹脂層と接する面側に第1の樹脂からなる内部樹脂層(第1の樹脂層)を有することが好ましい。これによって、一層柔軟性に優れるプリント配線板を容易に作製することができる。   In the metal foil-clad laminate of the present invention, the core substrate preferably has an internal resin layer (first resin layer) made of the first resin on the side in contact with the second resin layer. This makes it possible to easily produce a printed wiring board with further flexibility.

本発明の金属箔張積層板は、コア基板及び第2の樹脂層の少なくとも一方が、グリシジル基を有する樹脂を含有することが好ましい。これによって、耐熱性を向上させることができる。   In the metal foil-clad laminate of the present invention, it is preferable that at least one of the core substrate and the second resin layer contains a resin having a glycidyl group. Thereby, heat resistance can be improved.

また、本発明の金属箔張積層板は、コア基板及び第2の樹脂層の少なくとも一方が、アミド基を有する樹脂を含有することが好ましい。これによって、耐熱性を向上させることができる。   In the metal foil-clad laminate of the present invention, it is preferable that at least one of the core substrate and the second resin layer contains a resin having an amide group. Thereby, heat resistance can be improved.

また、本発明の金属箔張積層板は、コア基板及び第2の樹脂層の少なくとも一方が、アクリル樹脂及びポリアミドイミド樹脂の一方又は双方を含有することが好ましい。これによって、可とう性や耐熱性を向上させることができる。   In the metal foil-clad laminate of the present invention, it is preferable that at least one of the core substrate and the second resin layer contains one or both of an acrylic resin and a polyamideimide resin. Thereby, flexibility and heat resistance can be improved.

また、本発明の金属箔張積層板は、コア基板及び第2の樹脂層の少なくとも一方が、シロキサン結合を含むポリアミドイミド樹脂を含有することが好ましい。これによって、可とう性や耐熱性を一層向上させることができる。   In the metal foil-clad laminate of the present invention, it is preferable that at least one of the core substrate and the second resin layer contains a polyamideimide resin containing a siloxane bond. Thereby, flexibility and heat resistance can be further improved.

また、本発明の金属箔張積層板は、金属層の厚みが0.01〜30μmであることが好ましい。このような金属層から配線パターンが形成されたプリント配線板を折り曲げた場合、配線パターンが剥離し難いことから、耐折性を一層向上させることができる。また、十分な接続信頼性を有するプリント配線板とすることができる。   Moreover, it is preferable that the thickness of a metal layer is 0.01-30 micrometers in the metal foil tension laminated board of this invention. When a printed wiring board in which a wiring pattern is formed from such a metal layer is bent, the wiring pattern is difficult to peel off, so that the folding resistance can be further improved. Moreover, it can be set as the printed wiring board which has sufficient connection reliability.

本発明によれば、より優れた耐折性を備えるプリント配線板、及び当該プリント配線板を容易に形成できる金属箔張積層板を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the metal foil tension laminated board which can form the printed wiring board provided with the more excellent folding resistance and the said printed wiring board easily can be provided.

本発明の好適な一実施形態に係るプリント配線板の部分断面図である。It is a fragmentary sectional view of the printed wiring board concerning one suitable embodiment of the present invention. 本発明の好適な別の実施形態に係るプリント配線板の部分断面図である。It is a fragmentary sectional view of the printed wiring board concerning another suitable embodiment of the present invention. 本発明の好適な一実施形態に係る金属箔張積層板の部分断面図である。1 is a partial cross-sectional view of a metal foil-clad laminate according to a preferred embodiment of the present invention.

以下、図面を参照して、本発明の好適な実施形態について説明する。なお、図面の説明において、同一又は同等の要素には同一符号を用い、重複する説明を省略する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the description of the drawings, the same reference numerals are used for the same or equivalent elements, and duplicate descriptions are omitted.

図1は、本発明の好適な一実施形態に係るプリント配線板の部分断面図である。図1に示されるプリント配線板100は、多層構造を有する多層プリント配線板であり、繊維基材と第1の樹脂硬化物とを含有するコア基板30と、コア基板30を挟むようにしてコア基板30の面上にそれぞれ設けられる、第2の樹脂硬化物からなる一対の樹脂層10と、樹脂層10のコア基板30側とは反対側の面上に設けられる導体7とを備える。 FIG. 1 is a partial cross-sectional view of a printed wiring board according to a preferred embodiment of the present invention. A printed wiring board 100 shown in FIG. 1 is a multilayer printed wiring board having a multilayer structure, and includes a core substrate 30 containing a fiber base material and a first cured resin, and the core substrate 30 sandwiching the core substrate 30 therebetween. A pair of resin layers 10 each made of a second cured resin and a conductor 7 provided on the surface of the resin layer 10 opposite to the core substrate 30 side.

コア基板30は、繊維基材と樹脂硬化物とを含有する繊維基材層3と、繊維基材層3を挟むようにして繊維基材層3の対向する面上にそれぞれ設けられる、一対の内部樹脂層5とを備える。繊維基材層3及び内部樹脂層5がそれぞれ含有する樹脂硬化物は同一であることが好ましい。すなわち、内部樹脂層5は、第1の樹脂硬化物からなることが好ましい。   The core substrate 30 is a pair of internal resins provided on the fiber substrate layer 3 containing the fiber substrate and the cured resin, and on the opposing surfaces of the fiber substrate layer 3 with the fiber substrate layer 3 interposed therebetween. Layer 5. It is preferable that the resin cured products contained in the fiber base layer 3 and the internal resin layer 5 are the same. That is, the internal resin layer 5 is preferably made of a first cured resin.

樹脂基材層3に含有される繊維基材としては、金属箔張積層板や多層プリント配線板を製造する際に用いられるものであれば特に制限されず、例えば織布や不織布等を用いることができる。繊維基材の材質としては、ガラス、アルミナ、ボロン、シリカアルミナガラス、シリカガラス、チラノ、炭化ケイ素、窒化ケイ素、ジルコニア等の無機繊維、及びアラミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルサルフォン、カーボン、セルロース等の有機繊維、並びにこれらの混抄系が挙げられる。これらのうち、優れた寸法安定性と耐折性とを一層高水準で両立させる観点から、ガラス不織布及びガラス繊維の織布が好ましく、ガラス繊維の織布がより好ましい。   The fiber base material contained in the resin base material layer 3 is not particularly limited as long as it is used when producing a metal foil-clad laminate or a multilayer printed wiring board. For example, a woven fabric or a non-woven fabric is used. Can do. Examples of the fiber base material include glass, alumina, boron, silica alumina glass, silica glass, tyrano, silicon carbide, silicon nitride, zirconia, and other inorganic fibers, and aramid, polyether ketone, polyether imide, polyether sulfone. And organic fibers such as carbon and cellulose, and mixed papers thereof. Among these, a glass nonwoven fabric and a glass fiber woven fabric are preferable, and a glass fiber woven fabric is more preferable from the viewpoint of achieving both excellent dimensional stability and folding resistance at a higher level.

なお、通常、繊維基材は表面に凹凸を有しているが、本実施形態における繊維基材(繊維基材層3)の厚みBは、例えば電子顕微鏡や金属顕微鏡で金属箔張積層板の断面を観察することによって測定できる。金属箔張積層板を作製する前であれば、マイクロメータで複合樹脂層の厚みを確認することもできる。プリント配線板又は金属箔張積層板における最大厚みをいう。本実施形態において、樹脂基材の厚みBは40μm以下である。なお、プリント配線板100の優れた耐折性と寸法安定性とを一層高水準で両立させる観点から、厚みBは1〜30μmであることが好ましく、10〜20μmであることがより好ましい。なお、金属箔張積層板やプリント配線板100の各層の厚みは、プリント配線板100の断面を光学顕微鏡で観測することによって測定することができる。   In addition, although the fiber base material has an unevenness | corrugation on the surface normally, thickness B of the fiber base material (fiber base material layer 3) in this embodiment is a metal foil tension laminated board, for example with an electron microscope or a metal microscope. It can be measured by observing the cross section. If it is before producing a metal foil-clad laminate, the thickness of the composite resin layer can also be confirmed with a micrometer. The maximum thickness in a printed wiring board or metal foil-clad laminate. In this embodiment, the thickness B of the resin base material is 40 μm or less. The thickness B is preferably 1 to 30 μm, and more preferably 10 to 20 μm, from the viewpoint of achieving both the excellent folding resistance and dimensional stability of the printed wiring board 100 at a higher level. The thickness of each layer of the metal foil-clad laminate or the printed wiring board 100 can be measured by observing the cross section of the printed wiring board 100 with an optical microscope.

繊維基材層3及び内部樹脂層(第1の樹脂層)5に含まれる樹脂硬化物(第1の樹脂硬化物)としては、熱硬化性樹脂の樹脂硬化物が好ましく、例えばエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、トリアジン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、シアネートエステル樹脂、これら樹脂の変性系等が挙げられる。また、これらの樹脂は1種を単独で、または2種以上を組み合わせてもよい。   The resin cured product (first resin cured product) contained in the fiber base layer 3 and the internal resin layer (first resin layer) 5 is preferably a thermosetting resin cured product, such as an epoxy resin or a polyimide. Examples thereof include resins, polyamideimide resins, triazine resins, phenol resins, melamine resins, polyester resins, cyanate ester resins, and modified systems of these resins. These resins may be used alone or in combination of two or more.

繊維基材層3及び内部樹脂層(第1の樹脂層)5に含まれるエポキシ樹脂としては、ビスフェノールA、ノボラック型フェノール樹脂、オルトクレゾールノボラック型フェノール樹脂等の多価フェノール又は1,4−ブタンジオール等の多価アルコールとエピクロルヒドリンを反応させて得られるポリグリシジルエーテル、フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸等の多塩基酸とエピクロルヒドリンを反応させて得られるポリグリシジルエステル、アミン、アミド又は複素環式窒素塩基を有する化合物のN−グリシジル誘導体、脂環式エポキシ樹脂などが挙げられる。   Examples of the epoxy resin contained in the fiber base layer 3 and the inner resin layer (first resin layer) 5 include polyhydric phenols such as bisphenol A, novolac type phenol resins, and orthocresol novolac type phenol resins, or 1,4-butane. Polyglycidyl ester, amine, amide or heterocyclic nitrogen obtained by reacting polyglycidyl ether, phthalic acid, hexahydrophthalic acid or other polybasic acid such as diol with epichlorohydrin and epichlorohydrin Examples thereof include N-glycidyl derivatives of base-containing compounds and alicyclic epoxy resins.

上述の樹脂硬化物は、グリシジル基を有する樹脂を含有することがより好ましい。また、繊維基材層3及び内部樹脂層(第1の樹脂層)5に含まれる樹脂硬化物は、可とう性や耐熱性向上の観点から、ポリアミドイミド樹脂やアクリル樹脂を含有することがより好ましい。このポリアミドイミド樹脂は、シロキサン結合を有することがさらに好ましい。これによって、可とう性や耐熱性を一層向上させることができる。   As for the above-mentioned resin cured material, it is more preferable to contain resin which has a glycidyl group. Moreover, the resin cured product contained in the fiber base material layer 3 and the internal resin layer (first resin layer) 5 more preferably contains a polyamideimide resin or an acrylic resin from the viewpoint of improving flexibility and heat resistance. preferable. More preferably, the polyamideimide resin has a siloxane bond. Thereby, flexibility and heat resistance can be further improved.

繊維基材層3に含まれる樹脂硬化物及び内部樹脂層(第1の樹脂層)5の引張り弾性率(以下、「引張り弾性率E1」という。)は、3.0GPa以下であり、0.01〜3.0GPaであることが好ましく、0.01〜2.0GPaであることがより好ましい。引張り弾性率E1が3.0GPaを超える場合、耐折性に優れるプリント配線板とすることができない。一方、引張り弾性率E1が0.01GPa未満の場合、プリント配線板の取り扱い性や作業性が損なわれる傾向がある。   The tensile elastic modulus (hereinafter referred to as “tensile elastic modulus E1”) of the cured resin and the internal resin layer (first resin layer) 5 included in the fiber base layer 3 is 3.0 GPa or less, and It is preferably 01 to 3.0 GPa, more preferably 0.01 to 2.0 GPa. When the tensile elastic modulus E1 exceeds 3.0 GPa, it cannot be a printed wiring board having excellent folding resistance. On the other hand, when the tensile modulus E1 is less than 0.01 GPa, the handleability and workability of the printed wiring board tend to be impaired.

なお、本明細書における引張り弾性率は、社団法人日本プリント回路工業会のビルドアップ配線板規格にある機械的特性規格(JPCA−BU01−1998の4.2)に準拠して、市販の測定装置を用いて測定することができる。   In addition, the tensile elastic modulus in this specification is based on the mechanical property standard (4.2 of JPCA-BU01-1998) in the build-up wiring board standard of the Japan Printed Circuit Industry Association. Can be measured.

プリント配線板100には、繊維基材層3と樹脂層10との間に、樹脂層10よりも大きい引張り弾性率を有する樹脂硬化物からなる内部樹脂層(第1の樹脂層)5が形成されている。すなわち、内部樹脂層(第1の樹脂層)5の引張り弾性率は樹脂層10の引張り弾性率よりも高い。かかる構造を有することによって、折り曲げ時に発生する引張り応力が樹脂層10、内部樹脂層(第1の樹脂層)5及び繊維基材層3に分散されるため、一層耐折性を向上させることができる。   On the printed wiring board 100, an internal resin layer (first resin layer) 5 made of a cured resin having a tensile elastic modulus larger than that of the resin layer 10 is formed between the fiber base layer 3 and the resin layer 10. Has been. That is, the tensile elastic modulus of the internal resin layer (first resin layer) 5 is higher than the tensile elastic modulus of the resin layer 10. By having such a structure, the tensile stress generated at the time of bending is dispersed in the resin layer 10, the internal resin layer (first resin layer) 5 and the fiber base layer 3, so that the folding resistance can be further improved. it can.

内部樹脂層(第1の樹脂層)5の厚みは、0.1〜20μmであることが好ましく、1〜10μmであることがより好ましい。当該厚みが1〜10μmである内部樹脂層(第1の樹脂層)5を備えるプリント配線板は、一層優れた耐折性を有する。内部樹脂層(第1の樹脂層)5の厚みが10μmを超えると、プリント回路板が折り曲げ難くなる傾向にある。なお、プリント配線板100の耐折性及び柔軟性を一層向上させる観点から、繊維基材層3を挟んで設けられる一対の内部樹脂層(第1の樹脂層)5の厚みは、同一であることが好ましい。内部樹脂層(第1の樹脂層)5は、例えば、ガラスクロスなどの繊維基材に硬化性樹脂組成物を含浸させた際に、繊維基材から硬化性樹脂組成物をはみ出させることによって形成することができる。   The thickness of the internal resin layer (first resin layer) 5 is preferably 0.1 to 20 μm, and more preferably 1 to 10 μm. A printed wiring board provided with an internal resin layer (first resin layer) 5 having a thickness of 1 to 10 μm has more excellent folding resistance. If the thickness of the internal resin layer (first resin layer) 5 exceeds 10 μm, the printed circuit board tends to be difficult to bend. In addition, from the viewpoint of further improving the folding resistance and flexibility of the printed wiring board 100, the thickness of the pair of internal resin layers (first resin layers) 5 provided with the fiber base layer 3 interposed therebetween is the same. It is preferable. The internal resin layer (first resin layer) 5 is formed, for example, by allowing the curable resin composition to protrude from the fiber base material when the fiber base material such as glass cloth is impregnated with the curable resin composition. can do.

樹脂層10は、樹脂硬化物からなることが好ましい。樹脂層10に含まれる樹脂硬化物としては、上述した繊維基材層3及び内部樹脂層(第1の樹脂層)5に含まれる樹脂硬化物と同様のものが挙げられる。   The resin layer 10 is preferably made of a cured resin. Examples of the cured resin contained in the resin layer 10 include those similar to the cured resin contained in the fiber base layer 3 and the internal resin layer (first resin layer) 5 described above.

樹脂層10の引張り弾性率(以下、「引張り弾性率E2」という。)は、引張り弾性率E1より小さく、0.1〜2.5GPaであることが好ましく、0.2〜1.5GPaであることがより好ましい。引張り弾性率E2が2.5GPaを超える場合、十分に優れた柔軟性が損なわれる傾向がある。一方、引張り弾性率E2が0.1GPa未満である場合、形状安定性が損なわれる傾向がある。なお、引張り弾性率E1及び引張り弾性率E2は、樹脂硬化物の成分や樹脂の重量平均分子量を変えることによって調整することができる。   The tensile elastic modulus (hereinafter referred to as “tensile elastic modulus E2”) of the resin layer 10 is smaller than the tensile elastic modulus E1, preferably 0.1 to 2.5 GPa, and preferably 0.2 to 1.5 GPa. It is more preferable. When the tensile modulus E2 exceeds 2.5 GPa, sufficiently excellent flexibility tends to be impaired. On the other hand, when the tensile elastic modulus E2 is less than 0.1 GPa, the shape stability tends to be impaired. The tensile elastic modulus E1 and the tensile elastic modulus E2 can be adjusted by changing the components of the resin cured product and the weight average molecular weight of the resin.

なお、引張り弾性率E1及び引張り弾性率E2は、下記式(1)を満たすことが好ましい。下記式(1)の関係を満足するコア基板30及び樹脂層10を有するプリント配線板は、耐折性と寸法安定性とを一層高水準で両立させることができる。   In addition, it is preferable that the tensile elasticity modulus E1 and the tensile elasticity modulus E2 satisfy | fill following formula (1). The printed wiring board having the core substrate 30 and the resin layer 10 satisfying the relationship of the following formula (1) can achieve both folding resistance and dimensional stability at a higher level.

0.1≦E1−E2≦1.5 (1)   0.1 ≦ E1-E2 ≦ 1.5 (1)

樹脂層10の厚みd10は、5〜30μmであることが好ましく、10〜20μmであることがより好ましい。当該厚みd10が5〜30μmである樹脂層10を備えるプリント配線板は一層優れた耐折性を有する。樹脂層10の厚みd10が30μmを超えると、プリント配線板が折り曲げ難くなる傾向にある。
樹脂層の厚みは、例えば電子顕微鏡や金属顕微鏡でプリント配線板の断面を観察することによって測定する。
The thickness d 10 of the resin layer 10 is preferably 5 to 30 [mu] m, and more preferably 10 to 20 [mu] m. Printed circuit board to which the thickness d 10 is provided with the resin layer 10 is 5~30μm has more excellent folding endurance. When the thickness d 10 of the resin layer 10 is more than 30 [mu] m, there is a tendency that the printed wiring board is hardly bent.
The thickness of the resin layer is measured, for example, by observing a cross section of the printed wiring board with an electron microscope or a metal microscope.

プリント配線板100の耐折性及び柔軟性を一層向上させる観点から、コア基板30を挟んで設けられる一対の樹脂層10の厚みd10は、同一であることが好ましい。また、コア基板30と一対の樹脂層10との合計の厚み(C+2d10)は120μm以下であることが好ましい。当該厚みが120μmを超える場合、十分優れた柔軟性が損なわれる傾向がある。なお、プリント配線板100を構成するそれぞれの材料の厚みは特に限定されない。 From the viewpoint of improving the folding endurance and flexibility of the printed circuit board 100 further, the thickness d 10 of the pair of the resin layer 10 provided to sandwich the core substrate 30 are preferably the same. The total thickness (C + 2d 10 ) of the core substrate 30 and the pair of resin layers 10 is preferably 120 μm or less. When the thickness exceeds 120 μm, sufficiently excellent flexibility tends to be impaired. In addition, the thickness of each material which comprises the printed wiring board 100 is not specifically limited.

導体7は、配線パターンであり、例えば銅箔をエッチングして得られるものである。導体7の厚みAは、0.01〜30μmであることが好ましく、0.01〜20μmであることがより好ましい。導体7の厚みAが30μmを超えると、折り曲げ時に導体7が剥離し易くなる傾向がある。一方、導体7の厚みAが0.01μm未満であると、得られるプリント配線板の電気的な接続安定性が損なわれる傾向がある。   The conductor 7 is a wiring pattern, for example, obtained by etching a copper foil. The thickness A of the conductor 7 is preferably 0.01 to 30 μm, and more preferably 0.01 to 20 μm. If the thickness A of the conductor 7 exceeds 30 μm, the conductor 7 tends to be peeled off when bent. On the other hand, when the thickness A of the conductor 7 is less than 0.01 μm, the electrical connection stability of the obtained printed wiring board tends to be impaired.

図2は、本発明の好適な別の実施形態に係るプリント配線板の部分断面図である。プリント配線板200は、コア基板30を挟むようにして設けられる一対の第2の樹脂層10と、第2の樹脂層10のコア基板30側とは反対側の面上に設けられる導体9とを備える。また、第2の樹脂層10とコア基板の内部樹脂層(第1の樹脂層)5との間には、導体7が設けられている。   FIG. 2 is a partial cross-sectional view of a printed wiring board according to another preferred embodiment of the present invention. The printed wiring board 200 includes a pair of second resin layers 10 provided so as to sandwich the core substrate 30, and a conductor 9 provided on a surface of the second resin layer 10 opposite to the core substrate 30 side. . A conductor 7 is provided between the second resin layer 10 and the inner resin layer (first resin layer) 5 of the core substrate.

このような多層プリント配線板であるプリント配線板200は、所定の厚みの繊維基材層3及び引張り弾性率E1を有する樹脂硬化物を含むコア基板30と、該コア基板30を挟むようにして、引張り弾性率E1より小さい引張り弾性率E2を有する樹脂硬化物で構成される樹脂層10とが積層された積層構造を有する。このため、十分優れた耐折性と十分優れた寸法安定性とを兼ね備えている。また、厚み方向において、互いに異なる位置に配置される導体7及び導体9を有するため、より高密度で配線を設けることが可能となる。   A printed wiring board 200 which is such a multilayer printed wiring board is formed by pulling a core substrate 30 including a fiber base material layer 3 having a predetermined thickness and a cured resin having a tensile elastic modulus E1 and sandwiching the core substrate 30 therebetween. It has a laminated structure in which a resin layer 10 made of a cured resin having a tensile modulus of elasticity E2 smaller than the modulus of elasticity E1 is laminated. For this reason, it has both sufficiently excellent folding resistance and sufficiently excellent dimensional stability. Further, since the conductor 7 and the conductor 9 are arranged at different positions in the thickness direction, it is possible to provide wiring with higher density.

図3は、本発明の好適な一実施形態に係る金属箔張積層板の部分断面図である。本実施形態の金属箔張積層板300は、繊維基材層3と前記繊維基材層を挟むようにして備える一対の内部樹脂層(第1の樹脂層)5とからなるコア基板30と、前記コア基板30をさらに挟むようにして一対の第2の樹脂層10とを備え、前記第2の樹脂層10の前記コア基板30側とは反対側の面100a、100b上に設けられる一対の金属層12をさらに備える。   FIG. 3 is a partial cross-sectional view of a metal foil-clad laminate according to a preferred embodiment of the present invention. The metal foil-clad laminate 300 of this embodiment includes a core substrate 30 including a fiber base layer 3 and a pair of internal resin layers (first resin layers) 5 provided so as to sandwich the fiber base layer, and the core A pair of second resin layers 10 is provided so as to further sandwich the substrate 30, and a pair of metal layers 12 provided on the surfaces 100 a and 100 b on the opposite side of the second resin layer 10 from the core substrate 30 side are provided. Further prepare.

金属箔張積層板300の最外層を構成する金属層12に対して、フォトリソグラフィなどの公知の方法を施すことにより、配線パターンを形成することができる。これによって、耐折性と寸法安定性に十分優れる多層プリント配線板を作製することができる。金属層12としては、銅箔やアルミニウム箔などの金属箔を用いることができ、このうち銅箔が好ましい。   A wiring pattern can be formed by applying a known method such as photolithography to the metal layer 12 constituting the outermost layer of the metal foil-clad laminate 300. This makes it possible to produce a multilayer printed wiring board that is sufficiently excellent in folding resistance and dimensional stability. As the metal layer 12, metal foils, such as copper foil and aluminum foil, can be used, and copper foil is preferable among these.

金属層12の厚みDは、0.01〜30μmであることが好ましく、0.01〜20μmであることがより好ましい。金属層12の厚みDが30μmを超えると、折り曲げ時に金属層12から形成される配線パターンが剥離し易くなる傾向がある。一方、金属層12の厚みDが0.01μm未満であると、得られるプリント配線板の電気的な接続安定性が損なわれる傾向がある。   The thickness D of the metal layer 12 is preferably 0.01 to 30 μm, and more preferably 0.01 to 20 μm. When the thickness D of the metal layer 12 exceeds 30 μm, the wiring pattern formed from the metal layer 12 tends to peel off when bent. On the other hand, when the thickness D of the metal layer 12 is less than 0.01 μm, the electrical connection stability of the obtained printed wiring board tends to be impaired.

次に、本発明の好適な実施形態に係るプリント配線板100、200及び金属箔張積層板300の製造方法について、図1〜図3を適宜参照しながら、以下に説明する。まず、繊維基材と硬化性樹脂組成物を準備する。繊維基材としては市販のガラス繊維を用いることができる。   Next, a method for manufacturing the printed wiring boards 100 and 200 and the metal foil-clad laminate 300 according to a preferred embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. First, a fiber base material and a curable resin composition are prepared. Commercially available glass fibers can be used as the fiber base material.

硬化性樹脂組成物としては、樹脂成分を溶剤と混合した樹脂組成物ワニスを好適に用いることができる。樹脂成分としては、エポキシ樹脂系、ポリイミド樹脂系、ポリアミドイミド樹脂系、トリアジン樹脂系、フェノール樹脂系、メラミン樹脂系、ポリエステル樹脂系、シアネートエステル樹脂系、これら樹脂の変性系等を用いることができる。ポリアミドイミド樹脂を用いる場合には、シロキサン結合を含むポリアミドイミド樹脂を用いると、折り曲げ性の観点でなお良い。これらの樹脂は1種を単独で用いても、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。但し、2種以上を組み合わせる場合、共通の樹脂系を用いることにより、樹脂層同士の密着を良好にすることができる。   As the curable resin composition, a resin composition varnish obtained by mixing a resin component with a solvent can be suitably used. As the resin component, epoxy resin, polyimide resin, polyamideimide resin, triazine resin, phenol resin, melamine resin, polyester resin, cyanate ester resin, modified resins of these resins, and the like can be used. . When a polyamideimide resin is used, it is better from the viewpoint of bendability to use a polyamideimide resin containing a siloxane bond. These resins may be used alone or in combination of two or more. However, when combining 2 or more types, adhesion of resin layers can be made favorable by using a common resin system.

溶剤としては、アルコール系、エーテル系、ケトン系、アミド系、芳香族炭化水素系、エステル系、ニトリル系等を用いることができる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせた混合溶剤として用いてもよい。   As the solvent, alcohols, ethers, ketones, amides, aromatic hydrocarbons, esters, nitriles, and the like can be used. These may be used individually by 1 type, and may be used as a mixed solvent which combined 2 or more types.

樹脂成分としては、アクリル樹脂を含有していてもよい。アクリル樹脂としては、アクリル酸モノマ、メタクリル酸モノマ、アクリロニトリル、グリシジル基を有するアクリルモノマなどを単独で、またはこれらを複数共重合させた共重合物を使用することが可能である。アクリル樹脂の分子量は特に限定されるものではないが、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量で30万〜100万、好ましくは40万〜80万のものを用いることができる。   As the resin component, an acrylic resin may be contained. As the acrylic resin, it is possible to use an acrylic acid monomer, a methacrylic acid monomer, acrylonitrile, an acrylic monomer having a glycidyl group alone, or a copolymer obtained by copolymerizing a plurality thereof. The molecular weight of the acrylic resin is not particularly limited, but those having a weight average molecular weight in terms of standard polystyrene of 300,000 to 1,000,000, preferably 400,000 to 800,000 can be used.

硬化性樹脂組成物は、硬化剤、促進剤、難燃剤、流動調整剤、カップリング剤などを含んでいてもよい。硬化剤は、公知のものを使用することができる。例えば、エポキシ樹脂を用いる場合には、ジシアンジアミド、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォン、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、フェノールノボラックやクレゾールノボラック等の多官能性フェノール等を用いることができる。   The curable resin composition may contain a curing agent, an accelerator, a flame retardant, a flow regulator, a coupling agent, and the like. A well-known thing can be used for a hardening | curing agent. For example, when using an epoxy resin, dicyandiamide, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, phthalic anhydride, pyromellitic anhydride, polyfunctional phenols such as phenol novolac and cresol novolac, and the like can be used.

促進剤は、樹脂と硬化剤との反応等を促進させる目的で用いられるものであり、種類や配合量は特に限定されるものではない。促進剤としては、例えば、イミダゾール系化合物、有機リン系化合物、第3級アミン、第4級アンモニウム塩等を用いることができる。硬化剤及び促進剤は、それぞれ1種を単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The accelerator is used for the purpose of accelerating the reaction between the resin and the curing agent, and the type and blending amount are not particularly limited. As the accelerator, for example, an imidazole compound, an organic phosphorus compound, a tertiary amine, a quaternary ammonium salt, or the like can be used. A hardening | curing agent and a promoter may be used individually by 1 type, respectively, or may be used in combination of 2 or more type.

次に、繊維基材に硬化性樹脂組成物(樹脂組成物ワニス)を塗布して樹脂含浸基材を作製する。塗布条件に特に制限はなく、例えば市販の塗工装置を用いて塗布することができる。なお、必要に応じて、複数回重ね塗りを行うことによって、コア基板30の厚み(内部樹脂層5の厚み)を調整することができる。   Next, a curable resin composition (resin composition varnish) is applied to the fiber substrate to prepare a resin-impregnated substrate. There is no restriction | limiting in particular in application | coating conditions, For example, it can apply | coat using a commercially available coating apparatus. In addition, the thickness of the core substrate 30 (the thickness of the internal resin layer 5) can be adjusted by performing multiple coatings as necessary.

塗布後、成形する前に、溶剤が揮発可能な温度以上で加熱乾燥を行うことが好ましい。この場合、樹脂組成物ワニスの作製に用いた溶剤が揮発可能な温度以上に加熱して、樹脂組成物ワニスに使用した溶剤全量に対して、その80質量%以上を揮発させることが好ましい。かかる観点から、乾燥時の温度は80〜180℃とすることが好ましい。また、繊維基材に対する樹脂組成物ワニスの含浸量は、樹脂固形分と繊維基材の総量に対して、樹脂固形分が30〜80質量%であることが好ましい。   It is preferable to perform drying by heating at a temperature above which the solvent can be volatilized after application and before molding. In this case, it is preferable that 80% by mass or more is volatilized with respect to the total amount of the solvent used in the resin composition varnish by heating to a temperature at which the solvent used for preparing the resin composition varnish can be volatilized. From this point of view, the temperature during drying is preferably 80 to 180 ° C. Moreover, it is preferable that the resin composition varnish impregnation amount with respect to a fiber base material is 30-80 mass% of resin solid content with respect to the resin solid content and the total amount of a fiber base material.

加熱乾燥後、樹脂含浸基材を加熱及び加圧することによって、プリプレグを得ることができる。樹脂含浸基材の加熱及び加圧の条件は、成形温度80〜250℃、成形圧力0.5.0〜8.0MPaとすることが好ましく、成形温度130〜230℃、成形圧力1.5〜5.0MPaとすることがより好ましい。この加熱及び加圧によって、繊維基材に含浸された硬化性樹脂組成物を半硬化(Bステージ)状態にすることができる。   A prepreg can be obtained by heating and pressurizing the resin-impregnated substrate after heat drying. The conditions for heating and pressurizing the resin-impregnated substrate are preferably a molding temperature of 80 to 250 ° C., a molding pressure of 0.5 to 8.0 MPa, a molding temperature of 130 to 230 ° C., and a molding pressure of 1.5 to More preferably, it is 5.0 MPa. By this heating and pressurization, the curable resin composition impregnated in the fiber substrate can be brought into a semi-cured (B stage) state.

プリプレグの厚みは、繊維基材の厚みよりも、0.1〜10μm程度厚いことが好ましい。すなわち、繊維基材層の両主面上に、合計で0.1〜10μmの厚みを有する内部樹脂層5を形成することが好ましい。   The thickness of the prepreg is preferably about 0.1 to 10 μm thicker than the thickness of the fiber base material. That is, it is preferable to form the internal resin layer 5 having a total thickness of 0.1 to 10 μm on both main surfaces of the fiber base layer.

プリプレグの硬化物の引張り弾性率は、4.7GPa以下であることが好ましい。これによって、耐折性に優れるプリント配線板とすることができる。   The tensile modulus of the cured prepreg is preferably 4.7 GPa or less. Thereby, a printed wiring board having excellent folding resistance can be obtained.

このプリプレグとは別に、金属箔の表面上に樹脂組成物層が形成された樹脂付き金属箔を作製する。金属箔としては、例えば、市販の銅箔を用いることができる。銅箔の種類は特に制限されず、例えば、0.01〜30μmの厚みを有するものを用いることができる。   Apart from this prepreg, a resin-attached metal foil in which a resin composition layer is formed on the surface of the metal foil is produced. For example, a commercially available copper foil can be used as the metal foil. The kind in particular of copper foil is not restrict | limited, For example, what has a thickness of 0.01-30 micrometers can be used.

この銅箔の上に、硬化性樹脂組成物と溶剤とを含有する樹脂組成物ワニスを塗布し、溶剤が揮発可能な温度以上で乾燥することにより、樹脂付き金属箔を形成することができる。即ち、樹脂付き金属箔における樹脂層はBステージ状態である。なお、この際に用いる樹脂組成物ワニスは、上述の繊維基材に塗布するものと同様のものを用いることができる。ただし、ここで用いる樹脂組成物ワニスは、硬化して後述する樹脂層10を形成するものであるため、硬化後の引張り弾性率が、コア基板30に含まれる樹脂硬化物よりも小さい必要がある。   A resin-coated metal foil can be formed by applying a resin composition varnish containing a curable resin composition and a solvent on the copper foil and drying at a temperature at which the solvent can be volatilized. That is, the resin layer in the metal foil with resin is in a B stage state. In addition, the thing similar to what is apply | coated to the above-mentioned fiber base material can be used for the resin composition varnish used in this case. However, since the resin composition varnish used here is cured to form the resin layer 10 to be described later, the tensile elastic modulus after curing needs to be smaller than the cured resin contained in the core substrate 30. .

樹脂付き金属箔の樹脂層の厚みは5〜100μmであることが好ましく、10〜80μmであることがより好ましい。   The thickness of the resin layer of the metal foil with resin is preferably 5 to 100 μm, and more preferably 10 to 80 μm.

次に、プリプレグを挟むようにして、樹脂付き金属箔の樹脂組成物層側をプリプレグに向けて、樹脂付き金属箔をプリプレグの両面上に樹脂付き金属箔をそれぞれ重ね、加熱及び加圧することにより、図3に示す金属箔張積層板300を得ることができる。このときの加熱及び加圧の条件は特に限定されないが、温度150〜280℃、圧力0.5〜20MPaであることが好ましく、温度170〜250℃、圧力1〜8MPaであることがより好ましい。   Next, with the prepreg sandwiched between them, the resin composition layer side of the metal foil with resin is directed to the prepreg, the metal foil with resin is laminated on both surfaces of the prepreg, respectively, and heated and pressed, 3 can be obtained. The conditions for heating and pressurization at this time are not particularly limited, but are preferably 150 to 280 ° C. and 0.5 to 20 MPa, more preferably 170 to 250 ° C. and 1 to 8 MPa.

次に、金属箔張積層板300を用いて、図1に示すような100a、100b上に配線パターン(導体7)が形成されたプリント配線板100を作製する。配線パターンの形成は、フォトリソグラフィ法等の通常の方法によって行うことができる。   Next, a printed wiring board 100 in which a wiring pattern (conductor 7) is formed on 100a and 100b as shown in FIG. The wiring pattern can be formed by a normal method such as a photolithography method.

また、プリント配線板100とは別に、プリプレグの両面上に金属箔を重ね、加熱及び加圧した後、フォトリソグラフィ法等の通常の方法によって配線パターン7を形成し、別に用意した樹脂付き金属箔の樹脂組成物層側を、前記配線パターン7を形成した面に向けて重ねて加熱及び加圧し、さらに最外層の金属箔をフォトリソグラフィ法等の通常の方法によって配線パターン9を形成することによって、図2に示すようなプリント配線板200を得ることができる。   Separately from the printed wiring board 100, metal foils are stacked on both sides of the prepreg, heated and pressed, and then a wiring pattern 7 is formed by a normal method such as a photolithography method. By heating and pressurizing the resin composition layer side toward the surface on which the wiring pattern 7 is formed, and forming the wiring pattern 9 on the outermost metal foil by a normal method such as photolithography. A printed wiring board 200 as shown in FIG. 2 can be obtained.

この際のプレスの条件としては、温度150〜280℃、圧力0.5〜20MPaであることが好ましく、温度170〜250℃、圧力1〜8MPaであることがより好ましい。   The pressing conditions at this time are preferably a temperature of 150 to 280 ° C. and a pressure of 0.5 to 20 MPa, and more preferably a temperature of 170 to 250 ° C. and a pressure of 1 to 8 MPa.

なお、導体7、9間は、例えば、樹脂層10に貫通孔を設け、そこにめっき等によって導電体を形成することによって、電気的に導通させることができる。   The conductors 7 and 9 can be electrically connected, for example, by providing a through hole in the resin layer 10 and forming a conductor therewith by plating or the like.

上述のプリント配線板100、200は、耐折性及び寸法安定性に十分優れており、所定の回路部品(図示せず)を実装して、筐体などの所定のスペースに折り曲げて収納することができる。これによって、高密度の実装が可能となる。   The printed wiring boards 100 and 200 described above are sufficiently excellent in folding resistance and dimensional stability, and are mounted with a predetermined circuit component (not shown) and folded and stored in a predetermined space such as a housing. Can do. This enables high-density mounting.

なお、プリント配線板200を挟むようにして、さらに両面上に、一対の樹脂付き銅箔を、樹脂組成物層側をプリント配線板200に向けてそれぞれ積層し、例えば温度150〜280℃、圧力0.5〜20MPaでプレスすることによって、さらに樹脂層及び金属箔を積層し、金属箔張積層板を形成した後、フォトリソグラフィなどの公知の方法によって、導体形成を行うことも可能である。   In addition, a pair of copper foils with resin are laminated on both sides so that the printed wiring board 200 is sandwiched with the resin composition layer side facing the printed wiring board 200, for example, a temperature of 150 to 280 ° C., a pressure of 0. By pressing at 5 to 20 MPa, a resin layer and a metal foil are further laminated to form a metal foil-clad laminate, and then a conductor can be formed by a known method such as photolithography.

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に何ら限定されるものではない。また、内部樹脂層5と樹脂層10との間に、内部樹脂層5の引張り弾性率と樹脂層10の引張り弾性率の間の引張り弾性率を有する樹脂層を複数有していてもよい。その場合には、内部樹脂層5から外側に向かって徐々に引張り弾性率が小さくなるように樹脂層が配列されることが好ましい。   The preferred embodiment of the present invention has been described above, but the present invention is not limited to the above embodiment. Further, a plurality of resin layers having a tensile elastic modulus between the tensile elastic modulus of the internal resin layer 5 and the tensile elastic modulus of the resin layer 10 may be provided between the internal resin layer 5 and the resin layer 10. In that case, it is preferable that the resin layers are arranged so that the tensile elastic modulus gradually decreases from the inner resin layer 5 toward the outside.

以下、実施例及び比較例に基づき本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to a following example at all.

まず、以下に説明する配合例1〜7によって、熱硬化性樹脂ワニス1〜7を調製した。   First, thermosetting resin varnishes 1 to 7 were prepared according to formulation examples 1 to 7 described below.

(配合例1)
ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬株式会社製、商品名:NC−3000H)44質量部と、アミノトリアジンノボラックエポキシ樹脂(大日本インキ化学工業株式会社製、商品名:LA−3018)11質量部と、2−フェニルイミダゾール(JSR株式会社製、商品名:G−8009L)0.2質量部と、アクリルゴム(ナガセケムテックス株式会社製、商品名:HM6−IM50)30質量部とを、メチルイソブチルケトンに溶解して、樹脂成分が均一になるまで約3時間撹拌した後、脱泡のため24時間室温で静置して、樹脂固形分30質量%の熱硬化性樹脂ワニス1を調製した。
(Formulation example 1)
44 parts by mass of biphenyl novolac type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: NC-3000H) and 11 parts by mass of aminotriazine novolac epoxy resin (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., trade name: LA-3018) And 0.2 parts by mass of 2-phenylimidazole (manufactured by JSR Corporation, trade name: G-809L) and 30 parts by weight of acrylic rubber (manufactured by Nagase ChemteX Corporation, trade name: HM6-IM50) After dissolving in isobutyl ketone and stirring for about 3 hours until the resin component became uniform, it was allowed to stand at room temperature for 24 hours for defoaming to prepare a thermosetting resin varnish 1 having a resin solid content of 30% by mass. .

(配合例2)
ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬株式会社製、商品名:NC−3000H)37質量部と、アミノトリアジンノボラックエポキシ樹脂(大日本インキ化学工業株式会社製、商品名:LA−3018)9質量部と、2−フェニルイミダゾール(JSR株式会社製、商品名:G−8009L)0.2質量部と、アクリルゴム(ナガセケムテックス株式会社製、商品名:HM6−IM50)40質量部とを、メチルイソブチルケトンに溶解して、樹脂成分が均一になるまで約3時間撹拌した後、脱泡のため24時間室温で静置して、樹脂固形分30質量%の熱硬化性樹脂ワニス2を調製した。
(Formulation example 2)
37 parts by mass of biphenyl novolac type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: NC-3000H) and 9 parts by mass of aminotriazine novolac epoxy resin (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., trade name: LA-3018) And 0.2 parts by mass of 2-phenylimidazole (manufactured by JSR Corporation, trade name: G-809L) and 40 parts by weight of acrylic rubber (manufactured by Nagase ChemteX Corporation, trade name: HM6-IM50) After dissolving in isobutyl ketone and stirring for about 3 hours until the resin component became uniform, it was allowed to stand at room temperature for 24 hours for defoaming to prepare a thermosetting resin varnish 2 having a resin solid content of 30% by mass. .

(配合例3)
ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬株式会社製、商品名:NC−3000H)33質量部と、アミノトリアジンノボラックエポキシ樹脂(大日本インキ化学工業株式会社製、商品名:LA−3018)8質量部と、2−フェニルイミダゾール(JSR株式会社製、商品名:G−8009L)0.2質量部と、アクリルゴム(ナガセケムテックス株式会社製、商品名:HM6−IM50)45質量部とを、メチルイソブチルケトンに溶解して、樹脂成分が均一になるまで約3時間撹拌した後、脱泡のため24時間室温で静置して、樹脂固形分30質量%の熱硬化性樹脂ワニス3を調製した。
(Formulation example 3)
33 parts by mass of biphenyl novolac type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: NC-3000H) and 8 parts by mass of aminotriazine novolac epoxy resin (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., trade name: LA-3018) And 0.2 parts by mass of 2-phenylimidazole (manufactured by JSR Corporation, trade name: G-809L) and 45 parts by weight of acrylic rubber (manufactured by Nagase ChemteX Corporation, trade name: HM6-IM50) After dissolving in isobutyl ketone and stirring for about 3 hours until the resin component became uniform, it was allowed to stand at room temperature for 24 hours for defoaming to prepare a thermosetting resin varnish 3 having a resin solid content of 30% by mass. .

(配合例4)
ポリアミドイミド樹脂(日立化成コーテットサンド株式会社製、商品名:CSD40)24.87kg(樹脂固形分:28.1質量%)と、エポキシ樹脂(日本化薬株式会社製、商品名:EPPN502H)2.0kgのメチルエチルケトン溶液(樹脂固形分:50質量%)と、HP4032D(日本化薬株式会社製、商品名)3.0kgと、NC3000H(日本化薬株式会社製、商品名)1.0kgのメチルエチルケトン溶液(樹脂固形分:50質量%)と、1−シアノエチル−2−エチル−1−メチルイミダゾール8.0gとを配合し、さらにOP930(クラリアント社製、商品名)1.0kgと、HP360(昭和電工株式会社製、商品名)1.5kgとを加え、樹脂成分が均一になるまで約3時間撹拌した後、脱泡のため24時間室温で静置して樹脂固形分30質量%の樹脂組成物ワニス4を調製した。
(Formulation example 4)
Polyamideimide resin (manufactured by Hitachi Chemical Coated Sand Co., Ltd., trade name: CSD40) 24.87 kg (resin solid content: 28.1% by mass) and epoxy resin (trade name: EPPN502H, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 2 0.0 kg of methyl ethyl ketone solution (resin solid content: 50% by mass), 3.0 kg of HP4032D (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and 1.0 kg of methyl ethyl ketone of NC 3000H (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) A solution (solid content of resin: 50% by mass) and 8.0 g of 1-cyanoethyl-2-ethyl-1-methylimidazole were combined, and 1.0 kg of OP930 (manufactured by Clariant, trade name) and HP360 (Showa) Denko Co., Ltd., trade name) 1.5 kg was added, and after stirring for about 3 hours until the resin component became uniform, it was 24:00 for defoaming The resin solid content of 30% by weight of the resin composition varnish 4 was prepared to stand at room temperature.

(配合例5)
ポリアミドイミド樹脂(日立化成工業株式会社製、商品名:KS9003)23.18kg(樹脂固形分:30.2質量%)と、エポキシ樹脂(日本化薬株式会社製、商品名:EPPN502H)2.0kgのメチルエチルケトン溶液(樹脂固形分:50質量%)と、HP4032D(日本化薬株式会社製、商品名)3.0kgと、NC3000(日本化薬株式会社製、商品名)1.0kgのメチルエチルケトン溶液(樹脂固形分:50質量%)と、1−シアノエチル−2−エチル−1−メチルイミダゾール8.0gとを配合し、さらにOP930(クラリアント社製、商品名)1.0kgと、HP360(昭和電工株式会社製、商品名)1.5kgとを加えて樹脂成分が均一になるまで約3時間撹拌した後、脱泡のため24時間室温で静置して樹脂固形分40質量%の樹脂組成物ワニス5を調製した。
(Formulation example 5)
Polyamideimide resin (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name: KS9003) 23.18 kg (resin solid content: 30.2 mass%) and epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: EPPN502H) 2.0 kg Of methyl ethyl ketone solution (resin solid content: 50% by mass), 3.0 kg of HP4032D (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and 1.0 kg of methyl ethyl ketone solution (trade name: manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name) Resin solid content: 50% by mass) and 1-cyanoethyl-2-ethyl-1-methylimidazole 8.0 g, OP930 (manufactured by Clariant, trade name) 1.0 kg, HP360 (Showa Denko Co., Ltd.) (Product name, product name) 1.5 kg was added and stirred for about 3 hours until the resin component became uniform, then left at room temperature for 24 hours for defoaming The resin composition varnish 5 of the resin solid content of 40 mass% was prepared Te.

(配合例6)
ポリアミドイミド樹脂(日立化成工業株式会社製、商品名:KS9900B)22.44kg(樹脂固形分:31.2質量%)と、エポキシ樹脂(日本化薬株式会社製、商品名:EPPN502H)2.0kgのメチルエチルケトン溶液(樹脂固形分:50質量%)と、HP4032D(日本化薬株式会社製、商品名)3.0kgと、NC3000(日本化薬株式会社製、商品名)1.0kgのメチルエチルケトン溶液(樹脂固形分50質量%)と、1−シアノエチル−2−エチル−1−メチルイミダゾール8.0gとを配合し、さらにOP930(クラリアント社製、商品名)1.0kgと、HP360(昭和電工株式会社製、商品名)1.5kgとを加えて樹脂成分が均一になるまで約3時間撹拌した後、脱泡のため24時間室温で静置して樹脂固形分40質量%の樹脂組成物ワニス6を調製した。
(Formulation example 6)
Polyamideimide resin (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name: KS9900B) 22.44 kg (resin solid content: 31.2% by mass) and epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: EPPN502H) 2.0 kg Of methyl ethyl ketone solution (resin solid content: 50% by mass), 3.0 kg of HP4032D (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and 1.0 kg of methyl ethyl ketone solution (trade name: manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name) Resin solid content 50 mass%) and 1-cyanoethyl-2-ethyl-1-methylimidazole 8.0 g, OP930 (manufactured by Clariant, trade name) 1.0 kg, HP360 (Showa Denko KK) (Product name) 1.5 kg was added and stirred for about 3 hours until the resin component became uniform, then left at room temperature for 24 hours for defoaming Resin solid content of 40 wt% of the resin composition varnish 6 was prepared Te.

(配合例7)
臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(JER(株)製、商品名:エピコート5046、エポキシ当量:475)100質量部と、ジシアンジアミド4質量部と、イミダゾール(四国化成(株)製、商品名:2E4MZ)0.5質量部とを、プロピレングリコールモノメチルエーテルに溶解して、樹脂成分が均一になるまで約3時間撹拌した後、脱泡のため24時間室温で静置して樹脂固形分70質量%の熱硬化性樹脂ワニス7を調製した。
(Formulation example 7)
Brominated bisphenol A type epoxy resin (manufactured by JER Co., Ltd., trade name: Epicoat 5046, epoxy equivalent: 475), 100 parts by mass, dicyandiamide 4 parts by mass, and imidazole (manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd., trade name: 2E4MZ) 0.5 parts by mass was dissolved in propylene glycol monomethyl ether and stirred for about 3 hours until the resin component became uniform, and then allowed to stand at room temperature for 24 hours for defoaming to have a resin solid content of 70% by mass. A thermosetting resin varnish 7 was prepared.

[引張り弾性率の測定]
熱硬化性樹脂ワニス1〜7の硬化物の引張り弾性率を、社団法人日本プリント回路工業会のビルドアップ配線板規格にある機械的特性規格(JPCA−BU01−1998の4.2)に準拠して以下の手順で測定した。まず、熱硬化性樹脂ワニス1〜7を、それぞれ厚みが18μmの銅箔の上に乾燥後の樹脂組成物層の厚みが50μmになるように横型塗工機で塗布し、100〜140℃の乾燥炉内に5分間滞留させて乾燥し、樹脂付き銅箔を作製した。各樹脂付き銅箔の樹脂組成物層上に、粗化面を有する銅箔(日本電解株式会社製、HLA18、厚み18μm)を、該粗化面が樹脂組成物層に接触するようにそれぞれ重ねて、170℃、90分間、4.0MPaのプレス条件でプレスして、両面銅張積層板を作製した。各両面銅張積層板の外側の銅箔を両面エッチングして完全に除去した。その後、80mm×10mmのサイズに切断して、引張り弾性率測定用の試験片を得た。
[Measurement of tensile modulus]
The tensile elastic modulus of the cured product of the thermosetting resin varnishes 1 to 7 is based on the mechanical property standard (JPCA-BU01-1998 4.2) in the build-up wiring board standard of the Japan Printed Circuit Industry Association. The measurement was performed according to the following procedure. First, the thermosetting resin varnishes 1 to 7 are applied on a copper foil having a thickness of 18 μm by a horizontal coating machine so that the thickness of the resin composition layer after drying becomes 50 μm, and the temperature is 100 to 140 ° C. Resin was dried by staying in a drying furnace for 5 minutes to produce a resin-coated copper foil. On the resin composition layer of each copper foil with resin, a copper foil having a roughened surface (manufactured by Nippon Electrolytic Co., Ltd., HLA18, thickness 18 μm) is overlaid so that the roughened surface is in contact with the resin composition layer. Then, pressing was performed at 170 ° C. for 90 minutes under 4.0 MPa pressing conditions to produce a double-sided copper-clad laminate. The copper foil on the outer side of each double-sided copper clad laminate was completely removed by double-side etching. Then, it cut | disconnected to the size of 80 mm x 10 mm, and obtained the test piece for a tensile elasticity modulus measurement.

オートグラフ(島津製作所製、型番:AG−100C)を用いて、上記の通り作製した各試験片の引張り弾性率を測定した。測定は、25℃、測定長さ60mm、引張り速度5mm/minの条件で行い、測定結果を基に応力−ひずみ曲線を作成し、その測定初期の傾きから引張り弾性率を求めた。測定結果は、表1〜3に示すとおりであった。   Using an autograph (manufactured by Shimadzu Corporation, model number: AG-100C), the tensile elastic modulus of each test piece prepared as described above was measured. The measurement was performed at 25 ° C., a measurement length of 60 mm, and a tensile speed of 5 mm / min. A stress-strain curve was created based on the measurement results, and the tensile elastic modulus was determined from the initial inclination of the measurement. The measurement results were as shown in Tables 1 to 3.

(実施例1)
<プリプレグの作製>
ガラスクロスWEX−1027(旭シュエーベル株式会社製、商品名、厚み19μm)に、プリプレグの厚みが20μmになるように、熱硬化性樹脂ワニス1を縦型塗工機で塗布し、120〜150℃で20分間加熱乾燥して、プリプレグを作製した。
Example 1
<Preparation of prepreg>
The thermosetting resin varnish 1 is applied to a glass cloth WEX-1027 (manufactured by Asahi Schavel Co., Ltd., trade name, thickness 19 μm) with a vertical coating machine so that the thickness of the prepreg is 20 μm, and 120 to 150 ° C. And baked for 20 minutes to prepare a prepreg.

<樹脂付き銅箔の作製>
厚みが18μmの銅箔(日本電解株式会社製、商品名:HLA18)の上に、熱硬化性樹脂ワニス2を横型塗工機で塗布し、100〜140℃の乾燥炉中、滞留時間5分間で加熱、乾燥して、樹脂組成物層の厚みがそれぞれ15μm及び50μmである樹脂付き銅箔を作製した。
<Preparation of copper foil with resin>
A thermosetting resin varnish 2 is applied with a horizontal coating machine on a copper foil having a thickness of 18 μm (trade name: HLA18, manufactured by Nippon Electrolytic Co., Ltd.), and the residence time is 5 minutes in a drying furnace at 100 to 140 ° C. Then, the resin-coated copper foil having a thickness of 15 μm and 50 μm was prepared.

<評価基板の作製>
プリプレグを挟むようにして、プリプレグの両面上に、樹脂厚み15μmの樹脂付き銅箔を、樹脂組成物層側がプリプレグに接触するように貼り合わせて、170℃、90分間、4.0MPaのプレス条件でプレスして両面銅箔張積層板を作製した。
<Production of evaluation substrate>
A copper foil with a resin having a resin thickness of 15 μm was bonded to both sides of the prepreg so that the prepreg was sandwiched, and the resin composition layer side was in contact with the prepreg, and pressed at 170 ° C. for 90 minutes at a pressure of 4.0 MPa. Thus, a double-sided copper foil-clad laminate was produced.

次に両面銅箔張積層板の一方面(主面)の銅箔をエッチングして、ライン幅75μm、ライン間スペース75μmの導通パターン回路を作製した。また、他方面の銅箔は全面エッチングを行って完全に除去した。このようにして得られた積層板に、樹脂厚みが50μmである一対の樹脂付き銅箔を、樹脂組成物層側が該積層板に接触するように貼り合わせて、170℃、90分間、4.0MPaのプレス条件でプレスし、外層銅箔をエッチングにより全面除去して評価基板を得た。評価基板の厚み及び各層の厚みを光学顕微鏡で観察したところ、表1に示すとおりであった。   Next, the copper foil on one side (main surface) of the double-sided copper foil-clad laminate was etched to produce a conductive pattern circuit having a line width of 75 μm and a space between lines of 75 μm. The copper foil on the other side was completely removed by etching the entire surface. 3. A pair of resin-attached copper foils having a resin thickness of 50 μm are bonded to the laminate thus obtained so that the resin composition layer side is in contact with the laminate, and 170 ° C. for 90 minutes. Pressing was performed under 0 MPa pressing conditions, and the outer layer copper foil was entirely removed by etching to obtain an evaluation substrate. When the thickness of the evaluation substrate and the thickness of each layer were observed with an optical microscope, they were as shown in Table 1.

(実施例2)
樹脂付き銅箔を作製する際の熱硬化性樹脂ワニスとして、熱硬化性樹脂ワニス2の代わりに熱硬化性樹脂ワニス3を用いたこと以外は、実施例1と同様にして評価基板を作製した。
(Example 2)
An evaluation substrate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the thermosetting resin varnish 3 was used in place of the thermosetting resin varnish 2 as the thermosetting resin varnish for producing the resin-coated copper foil. .

(実施例3及び4)
プリプレグの作製において、プリプレグの厚みがそれぞれ30μm及び40μmになるように熱硬化性樹脂ワニス1を縦型塗工機で塗布したこと以外は、実施例2と同様にして評価基板を作製した。
(Examples 3 and 4)
In the preparation of the prepreg, an evaluation substrate was prepared in the same manner as in Example 2 except that the thermosetting resin varnish 1 was applied with a vertical coater so that the thickness of the prepreg was 30 μm and 40 μm, respectively.

(実施例5〜8)
プリプレグを作製する際の熱硬化性樹脂ワニスとして、熱硬化性樹脂ワニス1の代わりに表1に示す熱硬化性樹脂ワニスを、樹脂付き銅箔を作製する際の熱硬化性樹脂ワニスとして、熱硬化性樹脂ワニス2の代わりに表1に示す熱硬化性樹脂ワニスを用いたこと以外は、実施例1と同様にして評価基板を作製した。
(Examples 5 to 8)
As a thermosetting resin varnish shown in Table 1 instead of the thermosetting resin varnish 1 as a thermosetting resin varnish for producing a prepreg, as a thermosetting resin varnish for producing a copper foil with resin, An evaluation substrate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the thermosetting resin varnish shown in Table 1 was used instead of the curable resin varnish 2.

(比較例1)
<プリプレグの作製>
ガラスクロス(旭シュエーベル(株)製、商品名:WEX−1027、厚み19μm)に、プリプレグの厚みが50μmになるように、熱硬化性樹脂ワニス1を縦型塗工機で塗布し、120〜150℃で20分間加熱乾燥して、プリプレグを作製した。
(Comparative Example 1)
<Preparation of prepreg>
The thermosetting resin varnish 1 is applied to a glass cloth (manufactured by Asahi Schwer, Co., Ltd., trade name: WEX-1027, thickness 19 μm) with a vertical coating machine so that the thickness of the prepreg is 50 μm. A prepreg was prepared by heating and drying at 150 ° C. for 20 minutes.

<樹脂付き銅箔の作製>
厚みが18μmの銅箔(日本電解株式会社製、商品名:HLA18)の上に、熱硬化性樹脂ワニス1を横型塗工機で塗布し、100〜140℃の乾燥炉中、滞留時間5分間で加熱、乾燥して、樹脂組成物層の厚みが50μmである樹脂付き銅箔を作製した。
<Preparation of copper foil with resin>
The thermosetting resin varnish 1 is applied on a copper foil having a thickness of 18 μm (trade name: HLA18, manufactured by Nippon Electrolytic Co., Ltd.) with a horizontal coating machine, and the residence time is 5 minutes in a drying furnace at 100 to 140 ° C. Was heated and dried to produce a resin-coated copper foil having a resin composition layer thickness of 50 μm.

<評価基板の作製>
プリプレグを挟むようにして、プリプレグの両面上に、厚みが18μmの銅箔(日本電解株式会社製、商品名:HLA18)をそれぞれ重ね、170℃、90分間、4.0MPaのプレス条件でプレスして両面銅箔張積層板を作製した。
<Production of evaluation substrate>
A copper foil having a thickness of 18 μm (trade name: HLA18, manufactured by Nippon Electrolytic Co., Ltd.) was stacked on both sides of the prepreg so as to sandwich the prepreg, and both sides were pressed at 170 ° C. for 90 minutes under 4.0 MPa pressing conditions. A copper foil-clad laminate was produced.

次に、両面銅箔張積層板の一方面の銅箔をエッチングして、ライン幅75μm、ライン間スペース75μmの導通パターン回路を作製した。また、他方面の銅箔は全面エッチングを行って完全に除去した。このようにして得られた積層板に、上記の通り作製した樹脂厚みが50μmである一対の樹脂付き銅箔を、樹脂組成物層側が該積層板に接触するように貼り合わせて、170℃、90分間、4.0MPaのプレス条件でプレスし、外層銅箔をエッチングにより全面除去して評価基板を得た。評価基板の厚み及び各層の厚みを光学顕微鏡で観察したところ、表2に示すとおりであった。   Next, the copper foil on one side of the double-sided copper foil-clad laminate was etched to produce a conductive pattern circuit with a line width of 75 μm and a space between lines of 75 μm. The copper foil on the other side was completely removed by etching the entire surface. The laminated plate thus obtained was bonded with a pair of resin-coated copper foils having a resin thickness of 50 μm prepared as described above so that the resin composition layer side was in contact with the laminated plate, 170 ° C., The substrate was pressed for 90 minutes under a 4.0 MPa pressing condition, and the outer layer copper foil was entirely removed by etching to obtain an evaluation substrate. When the thickness of the evaluation substrate and the thickness of each layer were observed with an optical microscope, they were as shown in Table 2.

(比較例2及び3)
プリプレグを作製する際の熱硬化性樹脂ワニスとして、熱硬化性樹脂ワニス1の代わりに表2に示す熱硬化性樹脂ワニスを、樹脂付き銅箔を作製する際の熱硬化性樹脂ワニスとして、熱硬化性樹脂ワニス1の代わりに表2に示す熱硬化性樹脂ワニスを用いたこと以外は、比較例1と同様にして評価基板を作製した。
(Comparative Examples 2 and 3)
As a thermosetting resin varnish shown in Table 2 instead of the thermosetting resin varnish 1 as a thermosetting resin varnish for producing a prepreg, as a thermosetting resin varnish for producing a copper foil with resin, An evaluation substrate was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that the thermosetting resin varnish shown in Table 2 was used instead of the curable resin varnish 1.

(比較例4)
プリプレグを作製する際の熱硬化性樹脂ワニスとして、熱硬化性樹脂ワニス1の代わりに表2に示す熱硬化性樹脂ワニスを、樹脂付き銅箔を作製する際の熱硬化性樹脂ワニスとして、熱硬化性樹脂ワニス2の代わりに表2に示す熱硬化性樹脂ワニスを用いたこと以外は、実施例1と同様にして評価基板を作製した。
(Comparative Example 4)
As a thermosetting resin varnish shown in Table 2 instead of the thermosetting resin varnish 1 as a thermosetting resin varnish for producing a prepreg, as a thermosetting resin varnish for producing a copper foil with resin, An evaluation substrate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the thermosetting resin varnish shown in Table 2 was used instead of the curable resin varnish 2.

(比較例5及び6)
プリプレグを作製する際の熱硬化性樹脂ワニスとして、熱硬化性樹脂ワニス1の代わりに表2又は表3に示す熱硬化性樹脂ワニスを、樹脂付き銅箔を作製する際の熱硬化性樹脂ワニスとして、熱硬化性樹脂ワニス1の代わりに表2又は表3に示す熱硬化性樹脂ワニスを用いたこと以外は、比較例1と同様にして評価基板を作製した。
(Comparative Examples 5 and 6)
As the thermosetting resin varnish for producing the prepreg, the thermosetting resin varnish shown in Table 2 or 3 is used instead of the thermosetting resin varnish 1, and the thermosetting resin varnish for producing the resin-coated copper foil. As described above, an evaluation substrate was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that the thermosetting resin varnish shown in Table 2 or 3 was used instead of the thermosetting resin varnish 1.

(比較例7〜9)
プリプレグを作製する際の熱硬化性樹脂ワニスとして、熱硬化性樹脂ワニス1の代わりに表3に示す熱硬化性樹脂ワニスを、樹脂付き銅箔を作製する際の熱硬化性樹脂ワニスとして、熱硬化性樹脂ワニス2の代わりに表3に示す熱硬化性樹脂ワニスを用いたこと以外は、実施例1と同様にして評価基板を作製した。
(Comparative Examples 7-9)
As the thermosetting resin varnish shown in Table 3 instead of the thermosetting resin varnish 1 as the thermosetting resin varnish for producing the prepreg, as the thermosetting resin varnish for producing the copper foil with resin, An evaluation substrate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the thermosetting resin varnish shown in Table 3 was used instead of the curable resin varnish 2.

(比較例10)
評価基板の作製において、厚みが18μmの銅箔(日本電解株式会社製、商品名:HLA18)の代わりに、厚みが35μmの銅箔(日本電解株式会社製、商品名:HLA35)をプリプレグの両面上に重ねたこと以外は、比較例1と同様にして評価基板を作製した。
(Comparative Example 10)
In the production of the evaluation substrate, instead of a copper foil having a thickness of 18 μm (trade name: HLA18, manufactured by Nippon Electrolytic Co., Ltd.), a copper foil having a thickness of 35 μm (product name: HLA35, manufactured by Nippon Electrolytic Co., Ltd.) An evaluation substrate was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that it was overlaid.

(比較例11)
<プリプレグの作製>
ガラスクロスWEX−1080(旭シュエーベル株式会社製、商品名、厚み45μm)に、プリプレグの厚みが45μmとなるように、熱硬化性樹脂ワニス2を縦型塗工機で塗布し、120〜150℃で20分間加熱乾燥させて、プリプレグを作製した。
(Comparative Example 11)
<Preparation of prepreg>
The thermosetting resin varnish 2 is applied to a glass cloth WEX-1080 (manufactured by Asahi Schavel Co., Ltd., trade name, thickness 45 μm) with a vertical coating machine so that the thickness of the prepreg is 45 μm, and 120 to 150 ° C. For 20 minutes to prepare a prepreg.

<樹脂付き銅箔及び評価基板の作製>
上記プリプレグを用いたこと以外は、実施例2と同様にして樹脂付き銅箔及び評価基板を作製した。
<Production of copper foil with resin and evaluation substrate>
A resin-coated copper foil and an evaluation board were produced in the same manner as in Example 2 except that the prepreg was used.

[プリプレグの硬化物の引張り弾性率の評価]
各実施例及び比較例において作製したプリプレグの硬化物の引張り弾性率(25℃)を、上述した熱硬化性樹脂ワニス1〜7の硬化物の引っ張り弾性率測定方法と同様にして測定した。測定結果は、表1〜3に示すとおりであった。
[Evaluation of tensile modulus of cured prepreg]
The tensile modulus (25 ° C.) of the cured prepreg produced in each Example and Comparative Example was measured in the same manner as the method for measuring the tensile modulus of the cured product of the thermosetting resin varnishes 1 to 7 described above. The measurement results were as shown in Tables 1 to 3.

[耐折性の評価]
実施例1〜8及び比較例1〜11で作製した評価基板の耐折性を、フレキシブルプリント配線板用銅張積層板試験方法(JIS C6471(1995))に準拠して、MIT耐折疲労試験機(東洋精機製作所製、商品名:2121011−00)を使用して評価した。試験は、曲げの半径0.38mmに対して加重500g,折り曲げ角度135度,速度175cpm(cycles per minutes)の条件で行い、導線回路パターンが断線するまでの折り曲げ回数を測定した(測定回数:5回)。全ての測定において20回以上折り曲げ可能なものを良好とした。測定結果は表1〜3に示すとおりであった。
[Evaluation of folding resistance]
The folding resistance of the evaluation boards prepared in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 11 was tested in accordance with the copper-clad laminate testing method for flexible printed wiring boards (JIS C6471 (1995)). Evaluation was performed using a machine (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho, trade name: 2121011-00). The test was performed under the conditions of a weight of 500 g, a bending angle of 135 degrees, and a speed of 175 cpm (cycles per minutes) with respect to a bending radius of 0.38 mm, and the number of bendings until the conductor circuit pattern was disconnected was measured (measurement number: 5). Times). In all measurements, those that could be bent 20 times or more were considered good. The measurement results were as shown in Tables 1-3.

Figure 2011176013
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Figure 2011176013
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表1〜3に示すとおり、ガラス布の厚みが40μm以下であり、繊維基材層に含まれる樹脂硬化物の引張り弾性率が3.0GPa以下で、外側に配置される樹脂層の引張り弾性率よりも高い実施例1〜8は、耐折性に優れ、最低でも20回以上折り曲げ可能であることが確認された。比較例2、8及び比較例11においても折り曲げ回数30回を達成できることがあるが、10回程度で断線することがあり、ばらつきが大きく耐折性に優れるとは判定できなかった。   As shown in Tables 1 to 3, the thickness of the glass cloth is 40 μm or less, the tensile elastic modulus of the cured resin contained in the fiber base layer is 3.0 GPa or less, and the tensile elastic modulus of the resin layer disposed outside. It was confirmed that Examples 1-8 higher than that were excellent in folding resistance and could be bent at least 20 times. In Comparative Examples 2 and 8 and Comparative Example 11, the number of folding times of 30 may be achieved, but the wire may be disconnected after about 10 times, and it cannot be determined that the variation is large and the bending resistance is excellent.

3…繊維基材層、5…内部樹脂層(第1の樹脂層)、7,9…導体、10…樹脂層(第2の樹脂層)、12…金属層、30…コア基板、30a,30b,100a,100b…面(主面)、100,200…プリント配線板、300…金属箔張積層板。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 3 ... Fiber base material layer, 5 ... Internal resin layer (1st resin layer), 7, 9 ... Conductor, 10 ... Resin layer (2nd resin layer), 12 ... Metal layer, 30 ... Core substrate, 30a, 30b, 100a, 100b ... surface (main surface), 100, 200 ... printed wiring board, 300 ... metal foil-clad laminate.

Claims (14)

繊維基材が第1の樹脂に埋設されてなるコア基板と、前記コア基板を挟むように設けられる一対の第2の樹脂層と、前記樹脂層の前記コア基板側とは反対側の面上または前記樹脂層と前記コア基板の界面の少なくとも一方に設けられる導体と、を備えるプリント配線板であって、
前記繊維基材の厚みは40μm以下であり、
前記第1の樹脂の硬化物の25℃における引張り弾性率が、前記第2の樹脂層の25℃における引張り弾性率よりも大きく且つ3.0GPa以下であるプリント配線板。
A core substrate in which a fiber base material is embedded in a first resin, a pair of second resin layers provided so as to sandwich the core substrate, and a surface of the resin layer opposite to the core substrate side Or a printed wiring board comprising a conductor provided on at least one of the interface between the resin layer and the core substrate,
The fiber base has a thickness of 40 μm or less,
A printed wiring board in which a tensile elastic modulus at 25 ° C. of the cured product of the first resin is larger than a tensile elastic modulus at 25 ° C. of the second resin layer and is 3.0 GPa or less.
前記コア基板は、前記第2の樹脂層と接する面側に前記第1の樹脂からなる内部樹脂層(第1の樹脂層)を有する請求項1に記載のプリント配線板。   The printed wiring board according to claim 1, wherein the core substrate has an internal resin layer (first resin layer) made of the first resin on a surface side in contact with the second resin layer. 前記コア基板及び前記第2の樹脂層の少なくとも一方が、グリシジル基を有する樹脂を含有する請求項1又は2に記載のプリント配線板。   The printed wiring board according to claim 1, wherein at least one of the core substrate and the second resin layer contains a resin having a glycidyl group. 前記コア基板及び前記第2の樹脂層の少なくとも一方が、アミド基を有する樹脂を含有する請求項1〜3の何れか一項に記載のプリント配線板。   The printed wiring board according to any one of claims 1 to 3, wherein at least one of the core substrate and the second resin layer contains a resin having an amide group. 前記コア基板及び前記第2の樹脂層の少なくとも一方が、アクリル樹脂及びポリアミドイミド樹脂の一方又は双方を含有する請求項1〜4の何れか一項に記載のプリント配線板。   The printed wiring board according to any one of claims 1 to 4, wherein at least one of the core substrate and the second resin layer contains one or both of an acrylic resin and a polyamideimide resin. 前記コア基板及び前記第2の樹脂層の少なくとも一方が、シロキサン結合を含むポリアミドイミド樹脂を含有する請求項1〜5の何れか一項に記載のプリント配線板。   The printed wiring board according to any one of claims 1 to 5, wherein at least one of the core substrate and the second resin layer contains a polyamideimide resin containing a siloxane bond. 前記導体の厚みが0.01〜30μmである請求項1〜6の何れか一項に記載のプリント配線板。   The printed wiring board according to claim 1, wherein the conductor has a thickness of 0.01 to 30 μm. 繊維基材が第1の樹脂に埋設されてなるコア基板と、前記コア基板を挟むように設けられる一対の第2の樹脂層と、前記樹脂層の前記コア基板側とは反対側の面上または前記樹脂層と前記コア基板の界面の少なくとも一方に設けられる金属箔と、を備える金属箔張積層板であって、
前記繊維基材の厚みは40μm以下であり、
前記第1の樹脂の硬化物の25℃における引張り弾性率は、前記第2の樹脂層の25℃における引張り弾性率よりも大きく且つ3.0GPa以下である金属箔張積層板。
A core substrate in which a fiber base material is embedded in a first resin, a pair of second resin layers provided so as to sandwich the core substrate, and a surface of the resin layer opposite to the core substrate side Or a metal foil-clad laminate comprising a metal foil provided on at least one of the interface between the resin layer and the core substrate,
The fiber base has a thickness of 40 μm or less,
A metal foil-clad laminate in which the cured product of the first resin has a tensile elastic modulus at 25 ° C. that is greater than the tensile elastic modulus at 25 ° C. of the second resin layer and is 3.0 GPa or less.
前記コア基板は、前記第2の樹脂層と接する面側に前記第1の樹脂からなる内部樹脂層(第1の樹脂層)を有する請求項8に記載の金属箔張積層板。   The metal foil-clad laminate according to claim 8, wherein the core substrate has an internal resin layer (first resin layer) made of the first resin on a surface side in contact with the second resin layer. 前記コア基板及び前記第2の樹脂層の少なくとも一方が、グリシジル基を有する樹脂、アミド基を有する樹脂及びアクリル樹脂から選択される樹脂を含有する請求項8又は9に記載の金属箔張積層板。   The metal foil-clad laminate according to claim 8 or 9, wherein at least one of the core substrate and the second resin layer contains a resin selected from a resin having a glycidyl group, a resin having an amide group, and an acrylic resin. . 前記コア基板及び前記第2の樹脂層の少なくとも一方が、アミド基を有する樹脂を含有する請求項8〜10の何れか一項に記載の金属箔張積層板。   The metal foil-clad laminate according to any one of claims 8 to 10, wherein at least one of the core substrate and the second resin layer contains a resin having an amide group. 前記コア基板及び前記第2の樹脂層の少なくとも一方が、アクリル樹脂及びポリアミドイミド樹脂の一方又は双方を含有する請求項8〜11の何れか一項に記載の金属箔張積層板。   The metal foil-clad laminate according to any one of claims 8 to 11, wherein at least one of the core substrate and the second resin layer contains one or both of an acrylic resin and a polyamideimide resin. 前記コア基板及び前記第2の樹脂層の少なくとも一方が、シロキサン結合を含むポリアミドイミド樹脂を含有する請求項8〜12の何れか一項に記載の金属箔張積層板。   The metal foil-clad laminate according to any one of claims 8 to 12, wherein at least one of the core substrate and the second resin layer contains a polyamide-imide resin containing a siloxane bond. 前記金属箔の厚みが0.01〜30μmである請求項8〜13の何れか一項に記載の金属箔張積層板。   The metal foil-clad laminate according to any one of claims 8 to 13, wherein the metal foil has a thickness of 0.01 to 30 µm.
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