JP2011174813A - Apparatus for manufacturing optical film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光学フィルムの製造装置に関し、特に、塵埃測定装置(パーティクルカウンタ)を設けてウエブ上の塵埃を測定する光学フィルムの製造装置に関する。 The present invention relates to an optical film manufacturing apparatus, and more particularly, to an optical film manufacturing apparatus for measuring dust on a web by providing a dust measuring device (particle counter).
ウエブ表面に薄膜を形成して各種機能を発現させる機能性フィルム(光学フィルム)は、微小な塵埃が欠陥を引き起こすため、製造工程の塵埃管理が重要とされている。 In a functional film (optical film) that forms various functions by forming a thin film on the web surface, minute dust causes defects, and therefore, dust management in the manufacturing process is important.
近年、問題となる塵埃のサイズ、量ともに、要求レベルは益々高くなっており、これまで以上に精度の高い測定・管理が必要とされている。 In recent years, both the size and amount of dust in question have become increasingly demanding, and there is a need for more accurate measurement and management than ever before.
浮遊塵埃の測定・管理には、1本の吸引チューブで導入された単位流量エアの中の塵埃を光散乱方式パーティクルカウンタで計測する方式が一般的であるが、この方法では局所的な塵埃量を知ることはできるものの、時々刻々と変化する塵埃の空間的な分布を捉えることはできない。客先の要求に応じて製造される光学フィルム幅は多様であるとともに益々拡大傾向にあり、上記のようなピンポイントの測定で充分な品質管理を行うことは不可能となっている。製造中に発生した塵埃起因故障の原因(発生箇所)特定のためには、製品全幅に亘っての塵埃常時監視が有効である。 A common method for measuring and managing airborne dust is to measure dust in a unit flow rate air introduced with a single suction tube using a light scattering particle counter. It is possible to know the spatial distribution of dust that changes every moment. The widths of optical films produced according to customer requirements are diversified and tend to increase, and it is impossible to perform sufficient quality control by pinpoint measurement as described above. In order to identify the cause (occurrence location) of the dust-induced failure that occurred during production, it is effective to constantly monitor the dust over the entire width of the product.
平面的な塵埃分布を知る方法としては、シリコンウエハを所定場所に一定時間放置し、ウエハに付着した塵埃を専用検査装置で計測する方式も一般に用いられているが、高価なシリコンウエハを使用するというコスト上の問題や、ウエハに各塵埃が付着する時刻が詳細にわからないという解析上の問題が指摘されており、パーティクルカウンタを用いた方法も種々提案されている。 As a method for knowing the planar dust distribution, a method is generally used in which a silicon wafer is left in a predetermined place for a certain period of time, and dust attached to the wafer is measured by a dedicated inspection apparatus. However, an expensive silicon wafer is used. The problem of cost and the problem of analysis that the time when each dust adheres to the wafer is not known in detail are pointed out, and various methods using a particle counter have been proposed.
特許文献1や特許文献2では、1台のパーティクルカウンタに対して複数のサンプリング管を接続し、サンプリング管の切り替え器で測定箇所を選択する方法がとられている。
いずれも、広い領域内の所定位置で塵埃量を測定することは可能であるが、複数箇所を同時測定することができないため、前述した光学フィルム製造工程管理で求められるフィルム幅方向全域の塵埃常時監視には不適である。
In Patent Document 1 and
In either case, it is possible to measure the amount of dust at a predetermined position in a wide area, but it is not possible to measure multiple locations at the same time. Not suitable for monitoring.
そこで、引用文献3には上記の問題点を解決すべく、所定面積に連続的に配置した吸引口の各々にサンプリング管とパーティクルカウンタを接続し、連続的に塵埃分布を監視することを可能にしている。 Therefore, in order to solve the above-mentioned problem, Cited Document 3 makes it possible to connect a sampling tube and a particle counter to each of the suction ports continuously arranged in a predetermined area and continuously monitor the dust distribution. ing.
しかしながら、引用文献3の実施例にあるように、測定対象がφ300mmウエハのような小サイズ品であれば問題ないが、前述した光学フィルムは幅が数m、製造ライン長が数百mに達する大規模なものであり、これら工程を管理するにはコスト面で現実的でないという問題がある。 However, there is no problem if the measurement object is a small size product such as a φ300 mm wafer as in the example of Cited Document 3, but the optical film described above has a width of several meters and a production line length of several hundred meters. There is a problem that it is large-scale and it is not practical in cost to manage these processes.
本発明はこのような問題に対して成されたものであり、フィルム(ウエブ)幅方向全域に亘る連続的な塵埃量管理を低コストで実現することのできる光学フィルムの製造装置を提供することを目的としている。 The present invention has been made for such a problem, and provides an apparatus for manufacturing an optical film capable of realizing continuous dust amount management over the entire width direction of the film (web) at a low cost. It is an object.
本発明は、前記目的を達成するために、ウエブを原反ロールから巻き出す巻出部と、連続走行する帯状のウエブに塗布液を塗布する塗布部と、塗布層が設けられたウエブを巻取りロールとして巻き取る巻取部と、からなる光学フィルムの製造装置において、前記巻出部と前記巻取部との間に、少なくとも1台のウエブ幅に対応した扁平形状の吸引口のサンプリングノズルを有する塵埃測定装置を備えることを特徴とする光学フィルムの製造装置を提供する。 In order to achieve the above object, the present invention winds a web provided with an unwinding section for unwinding a web from a roll, a coating section for coating a coating liquid on a continuously running belt-shaped web, and a coating layer. In an optical film manufacturing apparatus comprising a winding unit that winds as a winding roll, a sampling nozzle having a flat suction port corresponding to at least one web width between the unwinding unit and the winding unit An apparatus for producing an optical film is provided, comprising a dust measuring device having
光学フィルムの製造装置において、ウエブ幅に対応した扁平形状の吸引口のサンプリングノズルを有する塵埃測定装置を少なくとも1台備えることで、ウエブ幅方向全域に亘る連続的な塵埃量管理を低コストで実現することができる。 Optical film manufacturing equipment is equipped with at least one dust measuring device that has a sampling nozzle with a flat suction port corresponding to the web width, enabling continuous management of the amount of dust across the entire width of the web at a low cost. can do.
本発明において、前記サンプリングノズルの吸引口の幅は、ウエブ幅に対応して変化させることが好ましい。 In the present invention, the width of the suction port of the sampling nozzle is preferably changed corresponding to the web width.
光学フィルムの幅は、客先の要求が多様であるので、サンプリングノズルの吸引口の幅はウエブ幅に対応して変化させられることが好ましい。 Since the width of the optical film has various customer requirements, it is preferable that the width of the suction port of the sampling nozzle is changed in accordance with the web width.
さらに、本発明において、前記サンプリングノズルの吸引口の面積は、ウエブ幅が変更された際も、一定になるものを備えていることが好ましい。 In the present invention, it is preferable that an area of the suction port of the sampling nozzle is constant even when the web width is changed.
サンプリングノズルの吸引口の幅が変わっても吸引面積を一定にすることにより、吸引風速を常に所定値に保持することができる。 Even if the width of the suction port of the sampling nozzle changes, the suction air speed can always be kept at a predetermined value by making the suction area constant.
さらに、本発明において、ウエブ幅に対応した吸入口の幅の異なる複数のサンプリングノズルを隣接配置し、ウエブ幅の変化に応じて該複数のサンプリングノズルのうちから何れか1つを選択使用することが好ましい。 Further, in the present invention, a plurality of sampling nozzles having different suction port widths corresponding to the web width are arranged adjacent to each other, and any one of the plurality of sampling nozzles is selectively used according to a change in the web width. Is preferred.
ウエブ幅に対応した吸入口の幅の異なる複数のサンプリングノズルを隣接配置し、ウエブ幅の変化に応じて該複数のサンプリングノズルのうちから最適な1つを選択使用することで、ウエブ幅の異なる複数のウエブに対して、ウエブ幅方向全域に亘る連続的な塵埃量管理を実現することができる。 A plurality of sampling nozzles having different suction port widths corresponding to the web width are arranged adjacent to each other, and an optimum one of the plurality of sampling nozzles is selected and used according to a change in the web width, so that the web widths are different. For a plurality of webs, continuous dust amount management over the entire web width direction can be realized.
本発明において、前記サンプリングノズルは、サンプリングしたガスの風速が幅方向で均一化される形状であることが好ましい。 In the present invention, the sampling nozzle preferably has a shape in which the wind speed of the sampled gas is made uniform in the width direction.
サンプリングしたガスの風速が幅方向で均一化される形状のサンプリングノズルであることで、ウエブ幅方向の位置に依存することなく、全位置を均等の比重でガスをサンプリングすることができる。 Since the sampling nozzle has a shape in which the wind speed of the sampled gas is made uniform in the width direction, the gas can be sampled at an equal specific gravity at all positions without depending on the position in the web width direction.
本発明の光学フィルムの製造装置において、面検機を備えることが好ましい。 In the optical film manufacturing apparatus of the present invention, it is preferable to include an inspection machine.
面検機では10μm弱以上の異物しか検出ができないが、光学フィルムでは、0.1μmの異物が付着すると、光学性能に影響が出る商品もある。本発明では、塵埃測定装置を製造装置の各部に設置し、常時同時計測を行うことにより、0.1μmオーダーの塵埃状態を製造装置の各部位ごとに把握できるようになるが、塵埃測定装置の測定範囲は0.1μmオーダーから10μm位までである。したがって、本発明では、さらに面検機を備えることで、ウエブに生じた全ての塵埃による品質不良位置を特定することができる。 The surface detector can detect only foreign matter of 10 μm or less, but there are some products that affect the optical performance when 0.1 μm foreign matter is attached to the optical film. In the present invention, the dust measuring apparatus is installed in each part of the manufacturing apparatus and always performs simultaneous measurement, so that the dust state of the order of 0.1 μm can be grasped for each part of the manufacturing apparatus. The measurement range is from the order of 0.1 μm to about 10 μm. Therefore, in the present invention, a quality defect position due to all dust generated on the web can be specified by further providing an inspection machine.
また、本発明では、複数の塵埃測定装置と、面検機と、を備え、該複数の塵埃測定装置と該面検機とによって同時にウエブ上の塵埃を測定することが好ましい。 In the present invention, it is preferable that a plurality of dust measuring devices and an inspection machine are provided, and the dust on the web is simultaneously measured by the plurality of dust measuring devices and the inspection machine.
同時にウエブ上の塵埃を測定することで、ウエブに生じた塵埃による品質不良位置を全て正確に特定することができる。 At the same time, by measuring the dust on the web, it is possible to accurately identify all the defective positions due to the dust generated on the web.
本発明では、少なくとも1台の塵埃測定装置が、爆発性ガス環境下に設置されても良い。この場合、前記爆発性ガス環境下には、ガス濃度検知器を設置し、前記塵埃測定装置には、塵埃測定のためにサンプリングしたガスに不活性ガスを混合する手段を有することが好ましい。 In the present invention, at least one dust measuring device may be installed in an explosive gas environment. In this case, it is preferable that a gas concentration detector is installed in the explosive gas environment, and the dust measuring device has means for mixing an inert gas with the gas sampled for dust measurement.
爆発性ガス環境下のガスをサンプリングすると、爆発性ガスにより塵埃測定装置は爆発してしまう恐れがあるが、一般的にガス濃度検出器はガス検知のタイムラグが数十秒ある。よって、サンプリングされたガスをガス濃度検出器で検知するのでは、爆発は防げない。したがって、爆発性ガス環境下にガス濃度検知器を設置し、爆発性ガス環境下のガス濃度検出器の検知結果に基づいて塵埃測定のためにサンプリングしたガスに不活性ガスを混合することで、数十秒あるタイムラグによる塵埃測定装置の爆発を防ぐことができる。また、爆発性ガス環境下のガス濃度検出器の検知結果に基づいて塵埃測定のためにサンプリングしたガスに不活性ガスを混合するので、不活性ガスのランニングコストを最小限に抑えることができる。 When a gas in an explosive gas environment is sampled, the dust measuring device may explode due to the explosive gas. Generally, a gas concentration detector has a gas detection time lag of several tens of seconds. Therefore, if the sampled gas is detected by the gas concentration detector, explosion cannot be prevented. Therefore, by installing a gas concentration detector in an explosive gas environment and mixing an inert gas with the gas sampled for dust measurement based on the detection result of the gas concentration detector in the explosive gas environment, The explosion of the dust measuring device due to a time lag of several tens of seconds can be prevented. Further, since the inert gas is mixed with the gas sampled for dust measurement based on the detection result of the gas concentration detector in the explosive gas environment, the running cost of the inert gas can be minimized.
以上説明したように、本発明の光学フィルムの製造装置によれば、ウエブ幅方向全域に亘る連続的な塵埃量管理を低コストで実現することのできる光学フィルムの製造装置を提供することができる。そして、本発明により、ウエブに生じた塵埃による品質不良位置を正確に特定できるようになり、塵埃付着懸念箇所の廃棄を大幅に削減でき、製品の得率向上が図れる。 As described above, according to the optical film manufacturing apparatus of the present invention, it is possible to provide an optical film manufacturing apparatus capable of realizing continuous dust amount management over the entire web width direction at a low cost. . Further, according to the present invention, it becomes possible to accurately identify the position of poor quality due to dust generated on the web, and it is possible to drastically reduce the disposal of the places where there is a concern about dust adhesion, thereby improving the product yield.
以下添付図面に従って本発明に係る光学フィルムの製造装置の好ましい実施の形態について詳説する。 Hereinafter, preferred embodiments of an optical film manufacturing apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
まず、本発明に係る光学フィルムの製造装置の構成の一例を説明する。図1は、原反ロール12から巻き出されたフィルム14をローラ16、16・・・に巻きかけながら連続搬送し、フィルム14上に塗布部18で塗布液を塗布し、塗布した塗布液層を乾燥部20で乾燥し、巻取りロール22として巻き取られる光学フィルムの製造装置10を示している。なお、塗布液が紫外線硬化樹脂を用いたものである場合には、乾燥部20の下流に紫外線照射部(不図示)が設けられる。
First, an example of a configuration of an optical film manufacturing apparatus according to the present invention will be described. FIG. 1 shows a
フィルム14は、例えば 液晶、光学、偏光板用等に使用されるフィルム状素材であって、TAC(トリアセチレンセルロース)、PET(ポリエチレンテレフタレート)等により形成されている。
The
塗布部18としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、スライドコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法等も用いることができる。塗布部18は、クリーンルーム等の清浄な雰囲気にするとよい。その際、清浄度はクラス1000以下が好ましく、クラス100以下がより好ましく、クラス10以下が更に好ましい。
As the
塗布部18の下流には、乾燥部20が設けられている。乾燥部20では、形成された塗布膜の溶媒を蒸発させて乾燥させる。
A
また、光学フィルムの製造装置10には、装置全体を制御する制御盤24が備えられており、駆動ローラの駆動や停止、塗布部の動作、乾燥部の温度調整等を制御する。
In addition, the optical
そして、本発明では、図1と図2に示すように、少なくとも1台のフィルム幅に対応した扁平形状の吸引口のサンプリングノズルを有する塵埃測定装置26を備えている。図1と図2では、サンプリングノズルを3個備えたものを示している。なお、ここで、図2は、サンプリングノズルを上面から見た図であり、フィルムとの位置関係を示している。
And in this invention, as shown in FIG. 1 and FIG. 2, the
サンプリングノズル28a、28b、28cはそれぞれ配管32a、32b、32cを介して切替弁30に接続されており、切替弁30は配管34を介し塵埃測定装置26に接続される。
The
ここで、図1、図2のように、製造フィルム幅が多種ある場合は、フィルム14幅に対応した吸入口の幅の異なる複数のサンプリングノズル28a、28b、28cを隣接配置するようにし、フィルム幅の変化に応じて複数のサンプリングノズル28a、28b、28cのうちから最適な1つのサンプリングノズル28aを選択するように制御盤24から切替弁30で切り替えを行う。このように、フィルム幅に対応した吸入口の幅の異なる複数のサンプリングノズルを隣接配置することで、フィルム幅の異なる複数のフィルムに対して、フィルム幅方向全域に亘る連続的な塵埃量管理を実現することができる。
Here, as shown in FIGS. 1 and 2, when there are various production film widths, a plurality of
また、図2に示したように、サンプリングノズル28a、28b、28cの吸引口の面積は、フィルム幅が変更された際も、一定になるものを備えていることが好ましい。サンプリングノズルの吸引口の幅が変わっても吸引面積を一定にすることにより、吸引風速を常に所定値に保持することができる。したがって、フィルム幅に影響されずに、フィルムに生じた塵埃による品質不良位置を、規格化された数値の大きさで確認することができる。
Further, as shown in FIG. 2, it is preferable that the suction ports of the
また、サンプリングノズル28a、28b、28cは、サンプリングしたガスの風速が幅方向で均一化される形状であることが好ましい。図3は、サンプリングノズルの一例を示したものであり、吸引口29の幅方向の位置により吸引するガスの割合が変わらないようにするために、仕切板31、31・・・を複数設けたものである。
The
サンプリングしたガスの風速が幅方向で均一化される形状のサンプリングノズルであることで、ウエブ幅方向の位置に依存することなく、全位置を均等の量だけガスをサンプリングすることができるので、フィルムに生じた塵埃による品質不良位置(不良が生じた長さ方向の位置)を正確に把握することができる。 Since the sampling nozzle has a shape in which the wind speed of the sampled gas is made uniform in the width direction, the gas can be sampled by an equal amount at all positions without depending on the position in the web width direction. It is possible to accurately grasp the quality defect position (position in the length direction where the defect has occurred) due to the dust generated in.
そして、本発明の光学フィルムの製造装置10において、上記の塵埃測定装置26とともに、面検機40を備えることが好ましい(図1参照)。
And in the optical
なお、面検機は、フィルム・樹脂シート・紙・塗工品(コーティング)・不織布・金属シートなどウエブシートのキズ、コンタミ等、欠点検出を行う装置である。面検機は、CCDラインセンサーカメラと専用画像処理装置との組合せ(不図示)により、超高速取込と高速データ処理の両立を実現したものであって、高感度・広帯域CCDカメラの出力信号は欠陥として認識されコンピューターで処理される。ここで、面検機は、例えば、タカノ社製、三鈴エリー社製、東芝社製のものを好ましく用いることができる。 The surface inspection machine is a device for detecting defects such as scratches and contamination on web sheets such as films, resin sheets, paper, coated products (coating), nonwoven fabrics, and metal sheets. The surface inspection machine is a combination of a CCD line sensor camera and a dedicated image processing device (not shown) that achieves both high-speed capture and high-speed data processing. Is recognized as a defect and processed by a computer. Here, as the surface inspection machine, for example, those manufactured by Takano Co., Ltd., Misuzu Erie Co., Ltd., or Toshiba Corp. can be preferably used.
面検機では10μm弱以上の異物しか検出ができないが、光学フィルムでは、0.1μmの異物が付着すると、光学性能に影響がある。本発明に係る塵埃測定装置26を製造装置10の何れかの位置に設けて計測を行うことにより、0.1μmオーダーの塵埃状態を製造装置の各部位ごとに把握できるようになるが、塵埃測定装置の測定範囲は0.1μmオーダーから10μm位までである。したがって、本発明では、さらに面検機40を備えることで、フィルムに生じた全てのサイズの塵埃による品質不良位置を特定することができる。
The surface detector can detect only foreign matter of a little less than 10 μm, but in the case of an optical film, if a 0.1 μm foreign matter adheres, the optical performance is affected. By providing the
また、本発明では、上記の塵埃測定装置26を複数個所の部位に備え、複数の塵埃測定装置と面検機とによって同時にウエブ上の塵埃を測定することも好ましい。
In the present invention, it is also preferable that the
図1においては、例えば、塗布部18や乾燥部20にも本発明に係る塵埃測定装置26をさらに設けることが考えられる。本発明では、塵埃測定装置を製造装置の各部に設置し、常時同時計測を行うことにより、フィルムに生じた塵埃による品質不良位置を全て正確に特定することができる。
In FIG. 1, for example, it is conceivable that a
即ち、塵埃測定装置26は光学フィルム製造中のフィルム近傍の塵埃量を制御盤24に出力し、制御盤24は塵埃データと面検機40での欠陥検出データとの突合せを行って、塵埃付着場所を特定する。
That is, the
なお、本発明に係るフィルム幅に対応した扁平形状の吸引口のサンプリングノズルを有する塵埃測定装置26は、図1では、フィルム14が原反ロール12が巻き出された後に設置したものを示したが、塗布部18や乾燥部20に設けるのも有効である。また、本発明に係るフィルム幅に対応した扁平形状の吸引口のサンプリングノズルを有する塵埃測定装置26は1台に限られず、光学フィルムの製造装置10内で複数台設けることが好ましい。
In addition, in FIG. 1, the
なお、ここで、本発明に係る塵埃測定装置26を塗布部18や乾燥部20に設ける場合には、塗布液に有機溶剤を含んでいるとサンプリングされるガスは爆発性があり危険である。特に、爆発性ガスがそのまま塵埃測定装置26に到達すると、爆発性ガスにより塵埃測定装置は爆発してしまう恐れがある。
Here, when the
ところで、一般的に、ガス濃度検出器はガス検知のタイムラグが数十秒ある。よって、サンプリングされたガスをガス濃度検出器で検知するのでは、爆発は防げない。 Incidentally, in general, a gas concentration detector has a gas detection time lag of several tens of seconds. Therefore, if the sampled gas is detected by the gas concentration detector, explosion cannot be prevented.
したがって、本発明では、図4に示すように、サンプリングされたガスをガス濃度検知器50bとは別に爆発性ガス雰囲気下にガス濃度検知器50aを設置し、塵埃測定のためにサンプリングした爆発性ガスに、爆発性ガス環境下のガス濃度検知器50aの検知結果に基づいて、配管34に繋がる配管52から不活性ガスを混合することで、数十秒あるタイムラグによる塵埃測定装置26の爆発を防ぐことが好ましい。
Therefore, in the present invention, as shown in FIG. 4, the
塵埃測定装置26により爆発性ガス雰囲気中の塵埃を測定するには、具体的には、ガス濃度検知器50aのガス濃度が所定値Aを超えたときのみ不活性ガスで希釈する。所定値を超えたときには、ガス流量計と自動開閉弁(不図示)を用いて不活性ガス流量を制御する。そして、サンプリングガスと不活性ガスの合流部には乱流を形成することで両ガスを混合し、サンプリングガスと不活性ガスの流量比より、サンプリングガス中の塵埃量を自動換算する。もし、ガス濃度検知器50bのガス濃度が所定値Bを超えたときには塵埃測定を停止する。その際には、塵埃測定装置26のレーザ発光を停止し、サンプリングガスの吸引を停止する。なお、ガス濃度検知器50aは、爆発性ガス雰囲気中でもっともガス濃度が高くなる場所で計測することが好ましい。
In order to measure dust in the explosive gas atmosphere with the
このようにすることで、塵埃測定装置26の爆発を防ぐことができるとともに、爆発性ガス雰囲気下のガス濃度検出器の検知結果に基づいて塵埃測定のためにサンプリングしたガスに不活性ガスを混合することで、不活性ガスのランニングコストを最小限に抑えることができる。
In this way, explosion of the
以上説明したように、本発明の光学フィルムの製造装置によれば、製造フィルム幅に対応した扁平形状の吸引口を有するサンプリングノズルを用いて塵埃測定を行うことにより、フィルム幅方向全域に亘る連続的な塵埃量管理を低コストで実現でき、また、吸入口面積が一定で幅の異なる複数のサンプリングノズルを製造フィルム幅に応じて選択使用することにより、吸入空気の風速を常に所定値に保持でき、安定した塵埃測定が行える。よって、フィルム幅全域に亘って正確な浮遊塵埃分布を連続的に把握できるため、塵埃起因故障と工程内塵埃との紐付けを精度よく行え、故障発生原因箇所の特定が迅速に行えるととともに、実績データをもとにした故障の早期検出が可能となる。 As described above, according to the optical film manufacturing apparatus of the present invention, by measuring dust using a sampling nozzle having a flat suction port corresponding to the manufacturing film width, continuous over the entire film width direction. The dust volume can be managed at low cost, and by using multiple sampling nozzles with a constant inlet area and different widths according to the width of the production film, the air velocity of the intake air is always maintained at a predetermined value. And stable dust measurement. Therefore, it is possible to continuously grasp the exact floating dust distribution over the entire width of the film, so it is possible to accurately link the dust-caused failure and the dust in the process, and quickly identify the cause of the failure, It is possible to detect failures early based on actual data.
なお、本発明に係る光学フィルムの製造装置は、極めて厳しい外観品質(点欠陥、ムラ、汚れ等がないこと)が要求されている反射防止フィルムや光学補償フィルムの製造に好ましく用いることができる。 The optical film manufacturing apparatus according to the present invention can be preferably used for manufacturing an antireflection film and an optical compensation film that are required to have extremely strict appearance quality (no point defects, unevenness, dirt, etc.).
以上、本発明の光学フィルムの製造装置について詳細に説明したが、本発明は、上記実施形態に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行なってもよいのは、もちろんである。 As mentioned above, although the manufacturing apparatus of the optical film of this invention was demonstrated in detail, this invention is not limited to the said embodiment, You may perform various improvement and a change in the range which does not deviate from the summary of this invention. Of course.
10…光学フィルムの製造装置、12…原反ロール(巻出部)、14…フィルム(ウエブ),16…ローラ、18…塗布部、20…乾燥部、22…巻取りロール(巻取部)、24…制御盤、26…塵埃測定装置、28a,28b,28c…サンプリングノズル、29…吸引口、30…切替弁、31…仕切板、32a,32b,32c…配管、34…配管、40…面検機、50a,50b…ガス濃度検知器、52…配管
DESCRIPTION OF
Claims (9)
前記巻出部と前記巻取部との間に、少なくとも1台のウエブ幅に対応した扁平形状の吸引口のサンプリングノズルを有する塵埃測定装置を備えることを特徴とする光学フィルムの製造装置。 An unwinding section for unwinding the web from the raw roll, an application section for applying the coating liquid to the continuously running belt-like web, and a winding section for winding the web provided with the coating layer as a winding roll. In an optical film manufacturing apparatus,
An optical film manufacturing apparatus comprising: a dust measuring device having a flat suction port sampling nozzle corresponding to at least one web width between the unwinding portion and the winding portion.
ウエブ幅の変化に応じて該複数のサンプリングノズルのうちから何れか1つを選択使用することを特徴とする請求項3に記載の光学フィルムの製造装置。 A plurality of sampling nozzles with different inlet widths corresponding to the web width are arranged adjacently,
The apparatus for producing an optical film according to claim 3, wherein any one of the plurality of sampling nozzles is selectively used in accordance with a change in web width.
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KR200487108Y1 (en) * | 2018-01-30 | 2018-08-03 | 정의석 | A Rolling Vinyl Packing Manufacturing Unit |
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