JP2011172686A - Chemical application device and chemical application method - Google Patents

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Ryuichi Hayama
竜一 半山
Hiroaki Kamon
宏章 加門
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a chemical application device and a chemical application method, capable of improving the using efficiency of a chemical, reducing the production cost of a plaster and improving an yield. <P>SOLUTION: The chemical application device includes: a discharge part 10 which discharges the chemical containing a medicine as droplets toward a base material 72 moving in a (+X) direction and has a plurality of nozzles arrayed along a Y direction; and a gas supply part 30 which supplies a gas toward the chemical discharged by the discharge part 10 and stuck to the surface of the base material 72, and makes the chemical flow in the direction along the surface of the base material 72. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、塗布対象とする媒体への薬液塗布技術に関する。   The present invention relates to a technique for applying a chemical solution to a medium to be applied.

皮膚に貼着して使用される貼付剤には種々の形態が存在するものの、一般には樹脂シートなどの媒体(基材)上に薬剤を含む薬液を塗布したものである。従来より、このような貼付剤は、基材の面上に薬液を展延塗布(いわゆるベタ塗り)して製造され、その塗布工程にはバーコーターやダイコーターなどが用いられている(例えば、特許文献1参照)。より具体的には、帯状の基材に薬剤を展延塗布し、そこから必要な部分を打ち抜くとともに、不要な部分を除去して個々の貼付剤が製造される(例えば、特許文献2,3参照)。   Although various forms exist for patches used by being attached to the skin, generally, a drug solution containing a drug is applied on a medium (base material) such as a resin sheet. Conventionally, such a patch is produced by spreading and applying a chemical on the surface of a base material (so-called solid coating), and a bar coater, a die coater or the like is used for the coating process (for example, Patent Document 1). More specifically, each patch is manufactured by spreading and applying a drug on a belt-shaped base material, punching out a necessary portion therefrom, and removing unnecessary portions (for example, Patent Documents 2 and 3). reference).

しかしながら、このような貼付剤の製造技術では、不要部分に塗布されていた高価な薬液も除去されることになるため、薬液の使用効率が悪く、貼付剤の製造コストを低減させることができない、という問題が発生する。   However, in such a manufacturing technique of the patch, since the expensive chemical solution applied to the unnecessary portion is also removed, the use efficiency of the chemical solution is bad, and the manufacturing cost of the patch cannot be reduced. The problem occurs.

特開2009−108006号公報JP 2009-108006 A 特開2006−223611号公報JP 2006-223611 A 特開平3−85160号公報JP-A-3-85160

そこで、基材への塗布手段として、例えば液滴ジェット方式のように、必要部分に対して塗布液を効率的に塗布可能な手法を採用することができれば、薬剤を効率的に塗布することができ、薬剤の製造コストの低減を図ることが可能になる。   Therefore, as a means for applying to the base material, for example, a method capable of efficiently applying a coating liquid to a necessary portion, such as a droplet jet method, can be applied efficiently. It is possible to reduce the manufacturing cost of the medicine.

しかしながら、上記液滴ジェット方式では、吐出ヘッドにおいて塗布液の液滴を吐出するノズルが多数設けられているが、これらのノズルの一部が目詰まり等によって不吐出となる可能性がある。このようにノズルの一部に不吐出が発生した吐出ヘッド(吐出部)によって、薬液を基材上に塗布すると、基材上の必要部分内において薬液が塗布されない塗布欠陥が発生する。   However, in the above-described droplet jet method, a large number of nozzles that eject droplets of the coating liquid are provided in the ejection head, but some of these nozzles may become non-ejected due to clogging or the like. When the chemical liquid is applied onto the base material by the discharge head (discharge portion) in which non-discharge occurs in a part of the nozzle in this way, a coating defect is generated in which the chemical liquid is not applied within a necessary portion on the base material.

上述のような塗布欠陥が発生している貼付剤は、美観が損なわれているなどの理由によって不良品となり、歩留まりが低下するという問題が発生する。   The patch having the coating defect as described above becomes a defective product due to the reason that the aesthetic appearance is impaired, and there arises a problem that the yield is lowered.

本発明の目的は、上述のような点に鑑み、薬液の使用効率を向上させ、貼付剤の製造コストを低減させることができるとともに、歩留まりを向上させることができる薬液塗布装置および薬液塗布方法を提供することにある。   In view of the above points, an object of the present invention is to provide a chemical solution application apparatus and a chemical solution application method capable of improving the use efficiency of a chemical solution, reducing the manufacturing cost of the patch, and improving the yield. It is to provide.

請求項1に係る発明(薬液塗布装置)は、第1方向に相対移動する基材に向けて薬剤を含む薬液を液滴として吐出するとともに、第1方向と交差する第2方向に沿って配列された複数のノズルを有する吐出部と、吐出部によって吐出され基材の表面に付着した薬液に向けて気体を供給して、当該薬液を基材の表面に沿った方向に流動させる気体供給手段と、を備えることを特徴とする。   The invention according to claim 1 (medical solution applying apparatus) discharges a chemical solution containing a drug as a droplet toward a base material relatively moving in the first direction, and is arranged along a second direction intersecting the first direction. A discharge unit having a plurality of nozzles, and gas supply means for supplying a gas toward the chemical solution discharged by the discharge unit and adhering to the surface of the substrate, and causing the chemical solution to flow in a direction along the surface of the substrate And.

請求項2に係る発明は、請求項1に係る薬液塗布装置において、吐出部によって吐出され基材の表面に付着した薬液の塗布状態を検出する状態検出手段と、状態検出手段による検出結果に基づいて、気体供給手段から気体を供給するか否かを制御する制御手段と、をさらに備えることを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, in the chemical liquid coating apparatus according to the first aspect, the state detection means for detecting the application state of the chemical liquid discharged by the discharge portion and attached to the surface of the substrate, and the detection result by the state detection means. And control means for controlling whether or not gas is supplied from the gas supply means.

請求項3に係る発明(薬液塗布方法)は、第1方向に相対移動する基材に向けて、第1方向と交差する第2方向に沿って配列された複数のノズルを有する吐出部から薬剤を含む薬液を吐出する薬液吐出工程と、吐出部によって吐出され基材の表面に付着した薬液に向けて気体を供給して、当該薬液を基材の表面に沿った方向に流動させる気体供給工程と、を含むことを特徴とする。   The invention according to claim 3 (chemical solution coating method) is directed to a medicine from a discharge part having a plurality of nozzles arranged along a second direction intersecting the first direction toward a base material relatively moving in the first direction. And a gas supply step of supplying a gas toward the chemical liquid discharged by the discharge unit and adhering to the surface of the base material, and causing the chemical liquid to flow in a direction along the surface of the base material. It is characterized by including these.

請求項4に係る発明は、請求項3に係る薬液塗布方法において、薬液吐出工程後、気体吐出工程に先立って、吐出部によって吐出され基材の表面に付着した薬液の塗布状態を検出する状態検出工程をさらに含み、状態検出工程による検出結果に基づいて、気体供給工程を実行するか否かを判断することを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, in the chemical liquid application method according to the third aspect, after the chemical liquid discharge step, prior to the gas discharge step, the state of detecting the application state of the chemical liquid discharged by the discharge portion and attached to the surface of the substrate A detection step is further included, and it is determined whether or not to execute the gas supply step based on the detection result of the state detection step.

請求項1から請求項4のいずれかに係る発明によれば、薬液の使用効率を向上させ、貼付剤の製造コストを低減させることができるとともに、歩留まりを向上させることができる。   According to the invention according to any one of claims 1 to 4, the use efficiency of the chemical solution can be improved, the manufacturing cost of the patch can be reduced, and the yield can be improved.

第1実施形態に係る薬液塗布装置1aの要部構成の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of a principal part structure of the chemical | medical solution coating device 1a which concerns on 1st Embodiment. 吐出部10の側断面図(a)および底面図(b)である。It is the sectional side view (a) and bottom view (b) of the discharge part 10. 第1実施形態の動作の流れを示すフロー図である。It is a flowchart which shows the flow of operation | movement of 1st Embodiment. 各動作の様子を示す上面図(a)および正面図(b)である。It is the top view (a) and front view (b) which show the mode of each operation | movement. 第2実施形態に係る薬液塗布装置1bの要部構成の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of the principal part structure of the chemical | medical solution coating device 1b which concerns on 2nd Embodiment. 第2実施形態の動作の流れを示すフロー図である。It is a flowchart which shows the flow of operation | movement of 2nd Embodiment.

以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について詳細に説明する。
<1. 第1実施形態>
図1は、本発明に係る薬液塗布装置1aの要部構成の概略を示す図である。薬液塗布装置1aは、貼付剤とすべき帯状の基材の片面に薬液を塗布する装置である。図1において二点鎖線に囲まれた範囲が薬液塗布装置1aを示し、薬液塗布装置1aは予め粘着剤が塗られた帯状の基材72に薬剤を含む薬液を塗布する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
<1. First Embodiment>
FIG. 1 is a diagram showing an outline of a main configuration of a chemical liquid coating apparatus 1a according to the present invention. The chemical solution applying apparatus 1a is an apparatus that applies a chemical solution to one side of a belt-like base material to be used as a patch. In FIG. 1, a range surrounded by a two-dot chain line indicates a chemical solution applying apparatus 1 a, and the chemical solution applying apparatus 1 a applies a chemical solution containing a drug to a strip-like base material 72 that has been previously coated with an adhesive.

薬液塗布装置1aは、基材ロール70から巻き出され、水平方向(+X方向)に沿って搬送される帯状の基材72に向けて、薬剤を含む薬液を液滴として吐出する複数のノズル12(図2)を有する吐出部10を備える。また、薬液塗布装置1aは、吐出部10によって吐出され基材72の表面に付着した薬液に向けて気体を供給して、当該薬液を基材72の表面に沿った方向に流動させる気体供給部30を備える。さらに、薬液塗布装置1aは、装置に設けられた各要素を制御する制御部40を備える。なお、薬液塗布装置1aの下流側(+X側)には、薬液塗布装置1aにより基材72に塗布された薬液を乾燥させる乾燥ユニット60が設けられている。   The chemical liquid coating apparatus 1a is a plurality of nozzles 12 that discharge a chemical liquid containing a drug as droplets toward a strip-shaped base material 72 that is unwound from the base material roll 70 and conveyed along the horizontal direction (+ X direction). The discharge part 10 which has (FIG. 2) is provided. Further, the chemical solution applying apparatus 1a supplies a gas toward the chemical solution discharged by the discharge unit 10 and attached to the surface of the base material 72, and causes the chemical solution to flow in a direction along the surface of the base material 72. 30. Furthermore, the chemical solution applying apparatus 1a includes a control unit 40 that controls each element provided in the apparatus. A drying unit 60 is provided on the downstream side (+ X side) of the chemical solution applying apparatus 1a to dry the chemical solution applied to the base material 72 by the chemical solution applying apparatus 1a.

薬液を担持する基材72は、薬液に対する不透過性を有する樹脂材料にて形成されており、PET(ポリエチレンテレフタレート)にて形成されている。なお、基材72はPP(ポリプロピレン)またはPE(ポリエチレン)にて形成されていても良い。   The base material 72 carrying the chemical liquid is formed of a resin material that is impermeable to the chemical liquid, and is formed of PET (polyethylene terephthalate). The base material 72 may be formed of PP (polypropylene) or PE (polyethylene).

吐出部10は薬剤を含む薬液を微滴化して微小液滴を生成し、その液滴を(+X)方向に搬送される基材72の上面に吹き付ける。吐出部10は、液滴ジェット方式によって薬液を噴出する液滴ジェットヘッドであり、本実施形態では駆動方式が積層ピエゾドロップオンデマンド方式のインクジェットヘッド(例えば、リコープリンティングシステムズ株式会社製の製品型名「GEN3E2」)を用いている。なお、液滴ジェット方式(液滴吐出方式)は、他の方式を採用しても良い。   The discharge unit 10 atomizes a chemical solution containing a medicine to generate a fine droplet, and sprays the droplet onto the upper surface of the base material 72 conveyed in the (+ X) direction. The discharge unit 10 is a droplet jet head that ejects a chemical solution by a droplet jet method. In this embodiment, the drive method is a multilayer piezo drop on demand method inkjet head (for example, product type name manufactured by Ricoh Printing Systems Co., Ltd.). "GEN3E2") is used. Note that other methods may be adopted as the droplet jet method (droplet discharge method).

吐出部10の内部構造は、例えば特開2009−23334号公報に開示される構造と同様のものである。図2(a)は吐出部10の内部構成を示す側断面図であり、図2(b)は吐出部10の底面図である。   The internal structure of the discharge unit 10 is the same as the structure disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-23334. FIG. 2A is a side sectional view showing the internal configuration of the discharge unit 10, and FIG. 2B is a bottom view of the discharge unit 10.

図2(a)に示すように、吐出部10は、共通液室84を形成したフレーム81と、加圧液室85および連通口88を形成した流路板86と、ノズル12を形成するノズル板87と、ダイヤフラム部83aを有する振動板83と、振動板83のダイヤフラム部83aに接合された積層圧電素子82と、積層圧電素子82を固定するベース80と、を備えている。   As shown in FIG. 2A, the discharge unit 10 includes a frame 81 in which a common liquid chamber 84 is formed, a flow path plate 86 in which a pressurized liquid chamber 85 and a communication port 88 are formed, and a nozzle in which the nozzle 12 is formed. A plate 87, a diaphragm 83 having a diaphragm portion 83a, a laminated piezoelectric element 82 joined to the diaphragm portion 83a of the diaphragm 83, and a base 80 for fixing the laminated piezoelectric element 82 are provided.

ベース80は、吐出部10に固定設置されており、積層圧電素子82が装着される。積層圧電素子82は、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)の圧電素子(ピエゾ素子)を複数積層したものである。振動板83は、ダイヤフラム部83aを有しており、そのダイヤフラム部83aが島状凸部を介して積層圧電素子82と接合されている。   The base 80 is fixedly installed on the discharge unit 10 and a laminated piezoelectric element 82 is attached thereto. The laminated piezoelectric element 82 is formed by laminating a plurality of lead zirconate titanate (PZT) piezoelectric elements (piezo elements). The diaphragm 83 has a diaphragm portion 83a, and the diaphragm portion 83a is joined to the laminated piezoelectric element 82 via an island-shaped convex portion.

フレーム81は、樹脂材料にて形成されており、共通液室84を有する。共通液室84には、配管22(図1)と連通接続される図示省略の薬液供給口が形設されている。流路板86は、加圧液室85および連通口88を有する。加圧液室85は、振動板83の開口部を介して共通液室84と連通されている。加圧液室85には振動板83のダイヤフラム部83aが面している。また、連通口88は、加圧液室85とノズル12とを連通接続する。   The frame 81 is made of a resin material and has a common liquid chamber 84. The common liquid chamber 84 is formed with a chemical liquid supply port (not shown) that is connected to the pipe 22 (FIG. 1). The flow path plate 86 has a pressurized liquid chamber 85 and a communication port 88. The pressurized liquid chamber 85 communicates with the common liquid chamber 84 through the opening of the vibration plate 83. A diaphragm portion 83 a of the diaphragm 83 faces the pressurized liquid chamber 85. The communication port 88 connects the pressurized liquid chamber 85 and the nozzle 12 in communication.

ノズル板87には、薬液の液滴を吐出するための微細な吐出口であるノズル12が穿設されている。ノズル12の内部形状はホーン形状とされている。図2(b)では数を少なく図示しているが、吐出部10は多数(例えば128個)のノズル12を所定ピッチで一列に配列して備えている。   The nozzle plate 87 is provided with a nozzle 12 that is a fine discharge port for discharging a droplet of a chemical solution. The internal shape of the nozzle 12 is a horn shape. Although the number is small in FIG. 2B, the discharge unit 10 includes a large number (for example, 128) of nozzles 12 arranged in a line at a predetermined pitch.

図2のような構成を備える吐出部10において、共通液室84から加圧液室85に薬液を充填しつつ、積層圧電素子82のピエゾ素子に所定の波形の電圧を印加して積層方向の変位を生じさせることにより、ダイヤフラム部83aを介して加圧液室85内の薬液が加圧されて液圧が上昇し、その結果ノズル12から薬液の液滴が吐出される。積層圧電素子82のピエゾ素子への電圧を印加するタイミングおよび印加電圧値は制御部40によって制御されている。すなわち、制御部40は、吐出部10からの薬液の吹き付けを制御する。なお、1つのノズル12から吐出される1つの液滴の量は例えば25plであり、ノズル配列ピッチは50μmである。   In the discharge unit 10 having the configuration as shown in FIG. 2, a voltage having a predetermined waveform is applied to the piezoelectric element of the laminated piezoelectric element 82 while filling the pressurized liquid chamber 85 with the chemical liquid from the common liquid chamber 84. By causing the displacement, the chemical liquid in the pressurized liquid chamber 85 is pressurized through the diaphragm portion 83a and the liquid pressure is increased. As a result, a liquid droplet of the chemical liquid is discharged from the nozzle 12. The timing of applying a voltage to the piezoelectric element of the laminated piezoelectric element 82 and the applied voltage value are controlled by the control unit 40. That is, the control unit 40 controls the spraying of the chemical solution from the discharge unit 10. The amount of one droplet discharged from one nozzle 12 is, for example, 25 pl, and the nozzle arrangement pitch is 50 μm.

図1に戻り、吐出部10には配管22を介して薬液タンク20が連通接続されている。配管22の経路途中にはフィルタ24および脱気部26が介挿されている。薬液タンク20は、常に一定量の薬液を貯留しており、調合タンク50から適宜薬液タンク20に薬液が配管52を介して補充される。   Returning to FIG. 1, a chemical tank 20 is connected to the discharge unit 10 via a pipe 22. A filter 24 and a deaeration unit 26 are interposed in the course of the pipe 22. The chemical liquid tank 20 always stores a certain amount of chemical liquid, and the chemical liquid is appropriately replenished from the preparation tank 50 to the chemical liquid tank 20 via the pipe 52.

ここで、薬液とは薬剤を含む液体である。本発明による貼付剤に用いられる薬剤は、特に限定されるものではないが、皮膚を通して投与し得るもの、すなわち経皮吸収可能な薬剤が好ましい。そのような薬剤として、より具体的には、インドメタシン、ケトプロフェン、フルルビプロフェン、イブプロフェン、ビロキシカム、サリチル酸メチル、サリチル酸グリコール、l‐メントール、dl‐カンフル、ノニル酸ワリニリルアシド、カプサイシンなどの鎮痛消炎剤があげられる。また、ニトログリセリン、ニフェジピン、イソソルバイドナイトレートなどの冠血管拡張剤、または、プロカテロール、ツロブテロールなどの喘息薬を薬剤として使用しても良い。さらに、上記の他にも薬剤としては、全身性麻酔薬、催眠・鎮静薬、抗てんかん薬、鎮暈薬、精神神経用薬、骨格筋弛緩薬、自律神経用薬、鎮痙薬、抗パーキンソン薬、抗ヒスタミン薬、強心薬、不整脈用薬、利尿薬、血圧降下薬、血管収縮薬、末梢血管拡張薬、動脈硬化用薬、循環器用薬、呼吸促進薬、鎮咳去痰薬、ホルモン薬、化膿性疾患用外用薬、鎮痛・鎮痒・収斂・消炎用薬、寄生性皮膚疾患用薬、止血用薬、痛風治療用薬、糖尿病用薬、抗悪性腫瘍用薬、抗生物質、化学療法薬、麻薬、抗うつ用薬、禁煙補助薬(ニコチン)などを使用することができる。   Here, the chemical solution is a liquid containing a drug. The drug used in the patch according to the present invention is not particularly limited, but a drug that can be administered through the skin, that is, a drug that can be absorbed through the skin is preferable. More specifically, such drugs include analgesic / anti-inflammatory agents such as indomethacin, ketoprofen, flurbiprofen, ibuprofen, viloxicam, methyl salicylate, glycol salicylate, l-menthol, dl-camphor, valinyl acid nonylate, capsaicin. can give. In addition, coronary vasodilators such as nitroglycerin, nifedipine, isosorbide nitrate, or asthma drugs such as procaterol and tulobuterol may be used as the drug. In addition to the above, the drugs include general anesthetics, hypnotics / sedatives, antiepileptics, antipruritics, psychiatric drugs, skeletal muscle relaxants, autonomic drugs, antispasmodics, antiparkinson drugs, Antihistamine, cardiotonic, arrhythmic, diuretic, antihypertensive, vasoconstrictor, peripheral vasodilator, arteriosclerosis, cardiovascular, respiratory stimulant, antitussive expectorant, hormone, purulent disease Topical medicine, analgesic / antipruritic / astringent / anti-inflammatory medicine, parasitic skin disease medicine, hemostatic medicine, gout treatment medicine, diabetes medicine, anti-malignant tumor medicine, antibiotics, chemotherapeutic medicine, narcotic, anti Depressants, smoking cessation aids (nicotine), etc. can be used.

このような薬剤が溶媒中に溶解されて薬液とされている。溶媒としては、薬剤の性質に応じて、水、または、アルコールを用いることができる。なお、薬液には、基材72への密着性を高めるバインダー、および/または、添加剤がさらに含まれていても良い。   Such a drug is dissolved in a solvent to form a drug solution. As the solvent, water or alcohol can be used depending on the properties of the drug. In addition, the chemical | medical solution may further contain the binder and / or additive which improve the adhesiveness to the base material 72. FIG.

薬剤が溶媒中に溶解された所定濃度の薬液が調合タンク50にて調合され、その薬液が調合タンク50から供給されて薬液タンク20に貯留される。薬液タンク20に貯留されている薬液は、吐出部10が薬液を噴出したときにノズル内に生じる毛管現象によって各ノズル12に送給される。薬液の送給過程において、配管22を流れる薬液から異物がフィルタ24によって除去され、気泡が脱気部によって除去される。   A chemical solution having a predetermined concentration in which a medicine is dissolved in a solvent is prepared in the preparation tank 50, and the chemical liquid is supplied from the preparation tank 50 and stored in the chemical liquid tank 20. The chemical liquid stored in the chemical liquid tank 20 is supplied to each nozzle 12 by capillary action generated in the nozzle when the discharge unit 10 ejects the chemical liquid. In the process of supplying the chemical liquid, foreign substances are removed from the chemical liquid flowing through the pipe 22 by the filter 24, and bubbles are removed by the deaeration unit.

薬液タンク20には、負圧ポンプ28が配管29を介して連通接続されている。負圧ポンプ28は、薬液タンク20から配管22を介して吐出部10に負圧を付与する。負圧ポンプ28は、吐出部10において積層圧電素子82が加圧液室85内の薬液を加圧する前に、ノズル12の先端付近に薬液のメニスカスを形成しておくためのものである。すなわち、連通口88からノズル12に供給された薬液は、そのままでは自重でノズル12の先端付近に液滴ジェット方式に適したメニスカスを形成できないため、負圧ポンプ28によって吐出方向とは逆向きの負圧を薬液に与えて薬液を若干ノズル12内に引き戻して適正なメニスカスを形成する。   A negative pressure pump 28 is connected to the chemical tank 20 through a pipe 29. The negative pressure pump 28 applies a negative pressure from the chemical liquid tank 20 to the discharge unit 10 via the pipe 22. The negative pressure pump 28 is for forming a meniscus of a chemical solution near the tip of the nozzle 12 before the laminated piezoelectric element 82 pressurizes the chemical solution in the pressurized liquid chamber 85 in the discharge unit 10. That is, the chemical liquid supplied from the communication port 88 to the nozzle 12 cannot be formed as a meniscus suitable for the droplet jet method near the tip of the nozzle 12 by its own weight, so that the negative pressure pump 28 reverses the discharge direction. A negative pressure is applied to the chemical solution, and the chemical solution is slightly pulled back into the nozzle 12 to form an appropriate meniscus.

気体供給部30は吐出部10よりも基材72の搬送方向下流側(+X側)に設けられている。気体供給部30は、吐出部10によって吐出され基材72の表面に付着した薬液に向けて円形の吐出口から気体を供給して、当該薬液を基材72の表面に沿った方向に流動させる。気体供給部30は後述する塗布領域90(図4)に対応するようにY方向に並ぶ2箇所に設けられる。各気体供給部30は配管32を介して気体供給源33に連通接続されている。なお、気体供給部30を設ける箇所は2箇所に限定されず、例えば塗布領域90の数に応じて設ければ良い。   The gas supply unit 30 is provided on the downstream side in the transport direction of the base material 72 (+ X side) with respect to the discharge unit 10. The gas supply unit 30 supplies gas from the circular discharge port toward the chemical solution discharged by the discharge unit 10 and attached to the surface of the base material 72, and causes the chemical solution to flow in a direction along the surface of the base material 72. . The gas supply units 30 are provided at two locations aligned in the Y direction so as to correspond to an application region 90 (FIG. 4) described later. Each gas supply unit 30 is connected to a gas supply source 33 through a pipe 32. Note that the number of places where the gas supply unit 30 is provided is not limited to two, and may be provided according to the number of application regions 90, for example.

制御部40は、薬液塗布装置1aに設けられた上記の種々の動作機構を制御する。制御部40のハードウェアとしての構成は一般的なコンピュータと同様である。すなわち、制御部40は、各種演算処理を行うCPU、基本プログラムを記憶する読み出し専用のメモリであるROM、各種情報を記憶する読み書き自在のメモリであるRAMおよび処理プログラムやデータなどを記憶しておく固定ディスクをバスラインに接続して構成されている。RAMには、後述する塗布パターンが記憶されている。   The control unit 40 controls the various operation mechanisms provided in the chemical solution applying apparatus 1a. The configuration of the control unit 40 as hardware is the same as that of a general computer. That is, the control unit 40 stores a CPU that performs various arithmetic processes, a ROM that is a read-only memory that stores basic programs, a RAM that is a readable and writable memory that stores various information, a processing program, data, and the like. A fixed disk is connected to the bus line. The RAM stores application patterns to be described later.

乾燥ユニット60は、薬液塗布装置1aの気体供給部30よりも基材72の搬送方向下流側(+X側)に設けられている。乾燥ユニット60は、その内側を通過する基材72に塗布されている薬液を乾燥させる。乾燥ユニット60としては、基材72の表面に常温のドライエアーまたは加熱したドライエアー(温風)を送風するものなど公知の種々の乾燥装置を用いることができる。また、乾燥ユニット60としては、単なる熱風(特段の除湿を行っていない)を供給する熱風乾燥炉や遠赤外線ヒータを用いた乾燥炉を用いるようにしても良い。   The drying unit 60 is provided on the downstream side (+ X side) of the base material 72 in the transport direction with respect to the gas supply unit 30 of the chemical liquid coating apparatus 1a. The drying unit 60 dries the chemical applied to the base material 72 that passes through the inside of the drying unit 60. As the drying unit 60, various known drying devices such as those that blow normal temperature dry air or heated dry air (warm air) onto the surface of the base material 72 can be used. Further, as the drying unit 60, a hot air drying furnace for supplying simple hot air (not performing special dehumidification) or a drying furnace using a far infrared heater may be used.

次に第1実施形態の処理動作について、図3に示すフロー図を参照して説明する。   Next, the processing operation of the first embodiment will be described with reference to the flowchart shown in FIG.

基材ロール70から繰り出され、吐出部10の下方において(+X)方向に搬送される基材72に向けて、吐出部10に設けられた例えば128個のノズル12から薬液の微小液滴がそれぞれ吐出される(ステップS10、薬液吐出工程)。   Fine liquid droplets of a chemical solution are supplied from, for example, 128 nozzles 12 provided in the discharge unit 10 toward the base material 72 that is fed out from the base material roll 70 and conveyed in the (+ X) direction below the discharge unit 10. Discharge (step S10, chemical solution discharge step).

ステップ10において、制御部40は、RAMに記憶されている塗布パターンに従って吐出部10からの液滴吹き付けを制御する。具体的には、塗布パターンには基材72上に薬液を吹き付ける領域のパターンが記述されている。制御部40は、そのパターンを読み取って全てのノズル12についてオン/オフのタイミングを制御する。すなわち、ある領域に薬液を吹き付けるときには、その領域に対応するノズル12の積層圧電素子82に電圧を印加して当該ノズル12から薬液を噴出させる。   In step 10, the control unit 40 controls droplet spraying from the discharge unit 10 according to the application pattern stored in the RAM. Specifically, the application pattern describes a pattern of a region where the chemical solution is sprayed onto the base material 72. The controller 40 reads the pattern and controls the on / off timing for all the nozzles 12. That is, when a chemical solution is sprayed on a certain region, a voltage is applied to the laminated piezoelectric element 82 of the nozzle 12 corresponding to that region, and the chemical solution is ejected from the nozzle 12.

例えば、ステップS10において、制御部40は、図4(a)に示すように、X方向に搬送される基材72上の塗布領域90に、Y方向に並んだ2個の円形パターン(塗布パターン)92を、X方向に間隔を空けて形成するように吐出部10を制御する。   For example, in step S10, as shown in FIG. 4A, the control unit 40 has two circular patterns (application patterns) arranged in the Y direction on the application region 90 on the substrate 72 conveyed in the X direction. ) 92 is formed so as to be formed at intervals in the X direction.

なお、塗布パターンは、演算により生成してRAMに記憶させるようにしても良いし、記録媒体から読み出してRAMに記憶させるようにしても良い。塗布パターンを演算により生成する際には、基材の大きさ、形状、吐出部10の解像度(ノズル配列ピッチ)、パターン形状を、いわゆるレシピデータとして入力装置(図示せず)から入力する。そして、このレシピデータに基づいてCPUが演算を行って塗布パターンを算出し、その演算結果をRAMに記憶させるようにすれば良い。   The application pattern may be generated by calculation and stored in the RAM, or may be read from the recording medium and stored in the RAM. When the application pattern is generated by calculation, the size and shape of the base material, the resolution (nozzle arrangement pitch) of the ejection unit 10 and the pattern shape are input as so-called recipe data from an input device (not shown). Then, the CPU performs a calculation based on the recipe data to calculate a coating pattern, and the calculation result may be stored in the RAM.

ここで、128個のノズル12の一部が目詰まり等によって不吐出となった場合、図4に示すように、不吐出となったノズル12に対応する箇所に薬液が塗布されずX方向に筋状に延びる塗布欠陥94が塗布パターン92内に発生する。   Here, when some of the 128 nozzles 12 are not ejected due to clogging or the like, as shown in FIG. 4, the chemical solution is not applied to the portion corresponding to the nozzle 12 that has failed to eject in the X direction. A coating defect 94 extending in a line shape occurs in the coating pattern 92.

次にステップS30において、基材72上に付着した薬液によって形成された塗布パターン92に向けて気体供給部30が気体を供給する。気体供給部30から吐出された気体は、図4(b)に示すように基材72に向かいながら基材72の上面(表面)に沿った方向に広がる気流96を形成する。この気流96によって、基材72の上面に付着した薬液が基材72の表面に沿った方向に押されて若干、流動する。流動した薬液は塗布欠陥94を越えて、塗布欠陥94を挟んで対向する薬液と接液し、互いに一体となる。この結果、塗布欠陥94は薬液によって埋められて、塗布欠陥のない一様な塗布パターン92が形成される。   Next, in step S <b> 30, the gas supply unit 30 supplies gas toward the coating pattern 92 formed by the chemical solution attached on the base material 72. The gas discharged from the gas supply unit 30 forms an air flow 96 that spreads in the direction along the upper surface (front surface) of the base material 72 while facing the base material 72 as shown in FIG. By this air flow 96, the chemical solution attached to the upper surface of the base material 72 is pushed in a direction along the surface of the base material 72 and slightly flows. The flowing chemical solution passes over the coating defect 94 and comes into contact with the chemical solution facing the coating defect 94 so as to be integrated with each other. As a result, the coating defect 94 is filled with the chemical solution, and a uniform coating pattern 92 having no coating defect is formed.

薬液が塗布された基材72は、乾燥ユニット60に搬送されて薬液の乾燥処理が行われる。さらにその後、基材72に対して塗布パターン92を挟んで剥離ライナーが貼り合わされ、基材72および剥離ライナーが塗布パターン92より若干、大きいサイズに裁断されて貼付剤とされる。   The base material 72 to which the chemical solution is applied is transported to the drying unit 60 where the chemical solution is dried. Thereafter, the release liner is bonded to the base material 72 with the application pattern 92 interposed therebetween, and the base material 72 and the release liner are cut to a size slightly larger than the application pattern 92 to obtain a patch.

第1実施形態においては、液滴ジェット方式の薬液塗布装置1aによって薬剤を含む薬液を微滴化して液滴を生成し、その液滴を基材72の一部領域のみに吹き付けている。液滴ジェット方式の薬液塗布装置1aであれば、塗布パターンに従って薬液吹き付けのオン/オフを切り替えることが可能であり、容易に基材72の一部領域のみに薬液を塗布することができる。基材72の一部領域のみに薬液を塗布することができれば、後工程において不要部分に塗布されていたために無駄に除去される薬液を無くすことができ、薬液の使用効率を向上させることができる。   In the first embodiment, a chemical liquid containing a medicine is made into fine droplets by the liquid jet jet type chemical liquid coating apparatus 1 a to generate liquid droplets, and the liquid droplets are sprayed only on a partial region of the substrate 72. In the case of the droplet jet type chemical application device 1a, it is possible to switch on / off the chemical spraying according to the application pattern, and it is possible to easily apply the chemical to only a partial region of the substrate 72. If the chemical solution can be applied only to a partial region of the base material 72, the chemical solution that has been removed unnecessarily because it was applied to an unnecessary portion in the subsequent process can be eliminated, and the use efficiency of the chemical solution can be improved. .

また、液滴ジェット方式の薬液塗布装置1aであれば、薬液塗布の定量精度にも優れているため、医療用の貼付剤の製造に好適である。また、塗布パターンの設定を変更することによって自在にパターニングが可能である。さらには、塗布パターンの大きさを変更することによって塗布領域の大きさをも自在に調整することが可能である。また、薬液塗布装置1aは非接触にて薬剤を含む薬液を塗布するため、従来の展延塗布方式に比較して薬液塗布装置1aからのコンタミネーションを確実に防止することができる。   In addition, since the droplet jet type chemical solution coating apparatus 1a is excellent in quantitative accuracy of chemical solution coating, it is suitable for manufacturing a medical patch. Further, patterning can be freely performed by changing the setting of the coating pattern. Furthermore, it is possible to freely adjust the size of the application region by changing the size of the application pattern. Further, since the chemical solution applying apparatus 1a applies a chemical solution containing a drug in a non-contact manner, contamination from the chemical solution applying apparatus 1a can be reliably prevented as compared with the conventional spread application method.

第1実施形態の薬液塗布装置1aにより塗布処理が行われた貼付剤は、塗布欠陥のない一様な塗布パターン92からなる薬剤層を有するので、美観に優れており製品不良とはならない。この結果、貼付剤の製造における歩留まりを向上させることができる。   Since the patch that has been applied by the chemical solution applying apparatus 1a of the first embodiment has a drug layer composed of a uniform application pattern 92 without application defects, it is excellent in aesthetics and does not cause a product defect. As a result, the yield in the manufacture of the patch can be improved.

<2.第2実施形態>
次に、本発明の第2実施形態について説明する。図5は、第2実施形態の貼付剤製造装置1bの要部構成の概略を示す図である。同図において、第1実施形態と同一の要素については同じ符号を付している。第2実施形態の薬液塗布装置1bが第1実施形態と相違するのは、カメラ54およびバルブ56を備え、制御部40がカメラ54により取得された画像データに基づいてバルブ56を制御する点である。その他の要素については第1実施形態と同一の符号が示すものは第1実施形態と同様の機能を有するので、その詳細な説明を省略する。
<2. Second Embodiment>
Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 5 is a diagram illustrating an outline of a main configuration of the patch manufacturing apparatus 1b according to the second embodiment. In the figure, the same elements as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals. The chemical liquid coating apparatus 1b of the second embodiment is different from the first embodiment in that it includes a camera 54 and a valve 56, and the control unit 40 controls the valve 56 based on image data acquired by the camera 54. is there. The other elements denoted by the same reference numerals as those in the first embodiment have the same functions as those in the first embodiment, and thus detailed description thereof is omitted.

カメラ54は、X方向における吐出部10と気体供給部30との間であって、基材72の上方に配置されている。バルブ56は、配管32に介装され、制御部40からの指示に従って配管32の流路を開閉する。なお、カメラ54および制御部40が本発明の状態検出手段に相当する。   The camera 54 is disposed between the ejection unit 10 and the gas supply unit 30 in the X direction and above the base material 72. The valve 56 is interposed in the pipe 32 and opens and closes the flow path of the pipe 32 according to an instruction from the control unit 40. The camera 54 and the control unit 40 correspond to the state detection unit of the present invention.

次に第2実施形態の処理動作について、図6に示すフロー図を参照して説明する。   Next, the processing operation of the second embodiment will be described with reference to the flowchart shown in FIG.

まず、第1実施形態と同様に、基材ロール70から繰り出され、吐出部10の下方において(+X)方向に搬送される基材72に向けて吐出部10に設けられた128個のノズル12から薬液の液滴をそれぞれ吐出して塗布パターン92を形成する(ステップS10、薬剤吐出工程)。なお、このときバルブ56は閉状態であり、気体供給部30から気体は供給されていない。   First, as in the first embodiment, 128 nozzles 12 provided in the discharge unit 10 toward the substrate 72 that is fed out from the base roll 70 and conveyed in the (+ X) direction below the discharge unit 10. Each of the liquid droplets of the chemical solution is ejected from the substrate to form a coating pattern 92 (step S10, drug ejection step). At this time, the valve 56 is in a closed state, and no gas is supplied from the gas supply unit 30.

次のステップS20では、ステップS10によって基材72上に形成された塗布パターン92(図4)を撮影して画像データを取得する。カメラ54は取得した画像データを制御部40に送信する。制御部40は、カメラ54から送信された画像データを処理して塗布パターン92の塗布状態、すなわち、塗布パターン92に塗布欠陥94が存在するか否かを検出する(状態検出工程)。ステップS20にて、塗布欠陥94が存在すると判定された場合(YESの場合)、ステップS30に移行する。ステップS20にて、塗布欠陥94が存在しないと判定された場合(NOの場合)、塗布処理を完了する。   In the next step S20, the application pattern 92 (FIG. 4) formed on the substrate 72 in step S10 is photographed to obtain image data. The camera 54 transmits the acquired image data to the control unit 40. The control unit 40 processes the image data transmitted from the camera 54 to detect the application state of the application pattern 92, that is, whether or not the application defect 94 exists in the application pattern 92 (state detection step). If it is determined in step S20 that the coating defect 94 exists (in the case of YES), the process proceeds to step S30. If it is determined in step S20 that the coating defect 94 does not exist (NO), the coating process is completed.

ステップS30において、制御部40がバルブ56を開けて、ステップS20によって塗布欠陥94が存在すると判定された塗布パターン92に向けて、気体供給部30が気体を供給する。第1実施形態と同様に、気体供給部30から供給された気体により、塗布欠陥94は薬液によって埋められて、塗布欠陥のない一様な塗布パターン92が形成される。   In step S30, the control unit 40 opens the valve 56, and the gas supply unit 30 supplies gas toward the coating pattern 92 determined to have the coating defect 94 in step S20. Similar to the first embodiment, the coating defect 94 is filled with a chemical solution by the gas supplied from the gas supply unit 30, and a uniform coating pattern 92 without a coating defect is formed.

第2実施形態によれば、塗布欠陥94が存在する塗布パターン92に対してのみ気体供給部30から気体が供給されるので、気体の使用量を削減することができて製造コストを低減させることができる。   According to the second embodiment, since the gas is supplied from the gas supply unit 30 only to the coating pattern 92 in which the coating defect 94 exists, the amount of gas used can be reduced and the manufacturing cost can be reduced. Can do.

上記状態検出工程(ステップS20)において、その後の気体供給工程(ステップS30)によっても埋めることができないほど大きな塗布欠陥94が存在することを検出しても良い。この場合、制御部40は吐出部10等の異常であると判断して、操作者に異常を報知する。   In the state detection step (step S20), it may be detected that there is a coating defect 94 that is too large to be filled by the subsequent gas supply step (step S30). In this case, the control unit 40 determines that the discharge unit 10 or the like is abnormal, and notifies the operator of the abnormality.

なお、上述の各実施形態を以下のように変形実施しても良い。
気体供給部30により気体を供給する方式は、上述のように円形の吐出口から気体を吐出するノズル方式に限定されず、例えばスリットノズル方式、整流板方式または拡散方式などの各種ノズル方式を用いても良い。また、1つの塗布パターン92に対して複数のノズル(気体供給部)を配置しても良い。気体を供給する方向も塗布パターン92の真上からに限定されず、例えば塗布パターン92を挟んで斜め上方に配置された2つのノズルからそれぞれ気体を供給する構成でも良い。
The above-described embodiments may be modified as follows.
The method of supplying gas by the gas supply unit 30 is not limited to the nozzle method of discharging gas from the circular discharge port as described above, and for example, various nozzle methods such as a slit nozzle method, a rectifying plate method, or a diffusion method are used. May be. A plurality of nozzles (gas supply units) may be arranged for one coating pattern 92. The direction in which the gas is supplied is not limited to the position directly above the application pattern 92. For example, the gas may be supplied from two nozzles disposed obliquely above the application pattern 92.

形成すべき塗布パターンに応じて、吐出部10をY方向やX方向に複数、配置しても良い。また、Y方向におけるノズル12の配列ピッチを小さくするために、水平面内において吐出部10は斜めに配置しても良い。   Depending on the application pattern to be formed, a plurality of ejection portions 10 may be arranged in the Y direction or the X direction. Further, in order to reduce the arrangement pitch of the nozzles 12 in the Y direction, the discharge unit 10 may be arranged obliquely in the horizontal plane.

予め円形等に整形された基材をベルトコンベア等で水平搬送しつつ、当該基材に向けて吐出部10から薬液の微小液滴を吐出して、基材上に塗布パターンを形成しても良い。   Even if a substrate shaped in advance in a circle or the like is horizontally conveyed by a belt conveyor or the like, a fine droplet of a chemical solution is ejected from the ejection unit 10 toward the substrate to form a coating pattern on the substrate. good.

固定配置された基材に対して、ノズルの配列方向と交差する方向に吐出部を移動させつつ、基材に向けて吐出部から薬液の微小液滴を吐出して、基材上に塗布パターンを形成しても良い。   While moving the ejection part in a direction intersecting the nozzle arrangement direction with respect to the fixedly arranged base material, fine droplets of the chemical solution are ejected from the ejection part toward the base material, and the coating pattern is applied onto the base material May be formed.

1a,1b 薬液塗布装置
10 吐出部
12 ノズル
30 気体供給部
40 制御部
54 カメラ
72 基材
92 塗布パターン
94 塗布欠陥
96 気流
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1a, 1b Chemical solution coating apparatus 10 Discharge part 12 Nozzle 30 Gas supply part 40 Control part 54 Camera 72 Base material 92 Application pattern 94 Application | coating defect 96 Airflow

Claims (4)

第1方向に相対移動する基材に向けて薬剤を含む薬液を液滴として吐出するとともに、第1方向と交差する第2方向に沿って配列された複数のノズルを有する吐出部と、
吐出部によって吐出され基材の表面に付着した薬液に向けて気体を供給して、当該薬液を基材の表面に沿った方向に流動させる気体供給手段と、
を備えることを特徴とする薬液塗布装置。
A discharge part having a plurality of nozzles arranged along a second direction intersecting the first direction, while discharging a chemical solution containing a medicine as a droplet toward the base material relatively moving in the first direction;
A gas supply means for supplying a gas toward the chemical solution discharged by the discharge unit and adhering to the surface of the substrate, and causing the chemical solution to flow in a direction along the surface of the substrate;
A chemical solution coating apparatus comprising:
請求項1に記載される薬液塗布装置において、
吐出部によって吐出され基材の表面に付着した薬液の塗布状態を検出する状態検出手段と、
状態検出手段による検出結果に基づいて、気体供給手段から気体を供給するか否かを制御する制御手段と、
をさらに備えることを特徴とする薬液塗布装置。
In the chemical | medical solution coating device described in Claim 1,
State detection means for detecting the application state of the chemical solution discharged by the discharge unit and adhered to the surface of the substrate;
Control means for controlling whether or not to supply gas from the gas supply means based on the detection result by the state detection means;
The chemical | medical solution coating device characterized by further providing.
第1方向に相対移動する基材に向けて、第1方向と交差する第2方向に沿って配列された複数のノズルを有する吐出部から薬剤を含む薬液を吐出する薬液吐出工程と、
吐出部によって吐出され基材の表面に付着した薬液に向けて気体を供給して、当該薬液を基材の表面に沿った方向に流動させる気体供給工程と、
を含むことを特徴とする薬液塗布方法。
A chemical solution discharging step of discharging a chemical solution containing a drug from a discharge unit having a plurality of nozzles arranged along a second direction intersecting the first direction toward the base material relatively moving in the first direction;
A gas supply step of supplying a gas toward the chemical solution discharged by the discharge unit and adhering to the surface of the substrate, and flowing the chemical solution in a direction along the surface of the substrate;
The chemical | medical solution coating method characterized by including.
請求項3に記載される薬液塗布方法において、
薬液吐出工程後、気体吐出工程に先立って、吐出部によって吐出され基材の表面に付着した薬液の塗布状態を検出する状態検出工程をさらに含み、
状態検出工程による検出結果に基づいて、気体供給工程を実行するか否かを判断することを特徴とする薬液塗布方法。
In the chemical | medical solution coating method described in Claim 3,
After the chemical solution discharge step, prior to the gas discharge step, further includes a state detection step of detecting the application state of the chemical solution discharged by the discharge unit and attached to the surface of the base material,
It is judged whether the gas supply process is executed based on the detection result of the state detection process.
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