JP2011171541A - Cvd装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】チャンバと、チャンバ内に設けられ、基板が載置されるとともに、載置された基板の温度を上昇させる基板ヒータ部を有するアノード電極と、アノード電極に対向する位置に配置され、チャンバ内に原料ガスを供給するガス供給口が形成されたカソード電極を有するカソードユニットと、を備え、カソードユニットには、アノード電極側に流路制御板が設けられており、この流路制御板は、ガス供給口から吐出された原料ガスのアノード電極側への流れを抑える遮蔽部と、カソード電極側とアノード電極側とに連通して開口するガス流通孔とを有する。
【選択図】図1
Description
また、ガス排気孔21bは、チャンバ1内の排ガスを排気する孔であり、筒状に形成されている。このガス排気孔21bはガス供給口21aと隣り合う位置に形成されており、一方端はアノード電極3側に開口して形成されており、他方端は上述のガス排気部23の配管23aに連通されている。これにより、真空ポンプ23bを作動させると、すべてのガス排気孔21bからチャンバ1内のガスがガス排気部23を通じて排気されるようになっている。
2 カソードユニット
3 アノード電極
5 基板
20 カソード電極
40 流路制御板
41 遮蔽部
42 ガス流通孔
43 一時滞留部
43a 流路溝
Claims (6)
- チャンバと、
前記チャンバ内に設けられ、基板が載置されるとともに、載置された基板の温度を上昇させる基板ヒータ部を有するアノード電極と、
前記アノード電極に対向する位置に配置され、前記チャンバ内に原料ガスを供給するガス供給口が形成されたカソード電極を有するカソードユニットと、
を備え、
前記カソードユニットには、前記アノード電極側に流路制御板が設けられており、この流路制御板は、前記ガス供給口から吐出された原料ガスのアノード電極側への流れを抑える遮蔽部と、前記カソード電極側と前記アノード電極側とに連通して開口するガス流通孔とを有することを特徴とするCVD装置。 - 前記遮蔽部は、前記ガス供給口から離間した位置に配置され、かつ、少なくとも前記ガス供給口の開口領域を覆うことを特徴とする請求項1に記載のCVD装置。
- 前記ガス供給口と前記ガス流通孔とは、カソード電極及びアノード電極の電極配置方向から見て、それぞれ互いに異なる位置に設けられていることを特徴とする請求項1又は2に記載のCVD装置。
- 前記カソード電極と前記流路制御板とによって、前記ガス供給口から供給された原料ガスが一時的に滞留する一時滞留部が形成されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のCVD装置。
- 前記一時滞留部は、前記流路制御板に形成される流路溝であって、この流路溝は、前記ガス供給口と前記ガス流路孔とに連通して接続されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のCVD装置。
- 前記カソードユニットには、原料ガスの温度を上昇させるヒータ部を有していることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のCVD装置。
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