JP2011170726A - 入力装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 特に、粘着層の構成を改善した入力装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 透光性基材の表面に透明導電膜が形成された下部基板及び上部基板21と、前記上部基板21の上面側に設けられた透光性の表面部材60と、前記表面部材60の下面の一部に設けられた加飾部61と、前記表面部材60及び前記加飾部61と前記上部基板21との間に介在する透光性の粘着層62と、を有し、前記粘着層62は、前記加飾部61と前記表面部材60との間の段差68を埋める第1の粘着層66と、前記第1の粘着層66の下面側に形成される第2の粘着層67とを有し、前記第1の粘着層66の硬度は、前記第2の粘着層67の硬度より低いことを特徴とする。
【選択図】図3

Description

本発明は、対向配置された下部基板及び上部基板を有する入力装置に係り、特に、粘着層の構造に関する。
下記特許文献にはタッチパネルに関する発明が開示されている。例えば、特許文献1に記載されているように、表面にITO膜を備える下部基板と上部基板とが相対向して配置され、上部基板の上面側には表面部材(特許文献1には上側透光性基板31と記載されている)が設けられる。表面部材の下面には加飾部が形成される。加飾部は入力領域以外の非入力領域に形成される。そして表面部材及び加飾部と上部基板との間が粘着層を介して接合されている。
特開2005−173970号公報 特開2004−213187号公報 特開平11−66996号公報 国際公開第2009/025269号
図6は従来の問題点を説明するための入力装置の部分拡大縦断面図である。符号1が上部基板、符号2が表面部材、符号3が加飾部、符号4が粘着層である。
図6(a)に示す粘着層4は硬度が低い材料で形成されている。このため、図6(a)に示すように、入力領域5をタッチペンや指等の操作体6で強く押圧・摺動・連打等すると、図6(a)に示すように入力領域5が大きく凹んで下部基板(図示しない)と上部基板1とが激しく衝突し、下部基板及び上部基板1に形成されているITO等の透明導電膜に損傷を与える問題があった。また表面部材2の入力領域5が、凹んだまま元に戻りにくくなる不具合等もあった。
一方、図6(b)に示す粘着層4は硬度が高い材料で形成される。このため、表面部材2と加飾部3との間に形成される段差を適切に粘着層4で埋めることができず、気泡7(微小な隙間)が形成されやすかった。このような気泡7が形成されると、見た目が悪く、また環境変化により気泡7の大きさが変動して入力感度が変化してしまう等の不具合があった。
そこで、本発明は上記従来の課題を解決するためのものであり、特に、粘着層の構成を改善した入力装置を提供することを目的とする。
本発明における入力装置は、
透光性基材の表面に透明導電膜が形成された下部基板及び上部基板と、前記上部基板の上面側に設けられた透光性の表面部材と、前記表面部材の下面の一部に設けられた加飾部と、前記表面部材及び前記加飾部と前記上部基板との間に介在する透光性の粘着層と、を有し、
前記粘着層は、前記加飾部と前記表面部材との間の段差を埋める第1の粘着層と、前記第1の粘着層の下面側に形成される第2の粘着層とを有し、
前記第1の粘着層の硬度は、前記第2の粘着層の硬度より低いことを特徴とするものである。
これにより、加飾部と表面部材間の段差を適切に埋めることが出来るとともに、耐衝撃性や耐環境性に優れた入力装置に出来る。
本発明では、前記上部粘着層と前記下部粘着層との間にセパレート部材を設けることができる。
本発明によれば、加飾部と表面部材間の段差を適切に埋めることが出来るとともに、耐衝撃性や耐環境性に優れた入力装置に出来る。
本実施形態における入力装置(タッチパネル)の分解斜視図、 本実施形態の入力装置の部分縦断面図、 本実施形態における入力装置の特徴的部分を示す部分拡大縦断面図、 入力装置の検知動作を示す説明図、 第1の粘着層(硬度が低い粘着層)及び第2の粘着層(硬度が高い粘着層)の夫々に対して、押し込み荷重試験を行った実験結果、 従来の入力装置における問題点を説明するための部分拡大縦断面図。
図1は本実施形態における入力装置(タッチパネル)の分解斜視図、図2は本実施形態の入力装置の部分縦断面図であり、図1の組立後の入力装置をA−A線(図1のA−A線は上部基板に対する位置に図示)から切断し矢印方向から見た図、図3(a)(b)は、本実施形態における入力装置の特徴的部分を示す部分拡大縦断面図、である。
本実施形態における入力装置20は、図1に示すように、上部基板21と、下部基板22と、接合層23と、出力用電極部25を備えたフレキシブル基板24とを有して構成される。なお図1では、上部基板21の表面に加飾部を有する表面層26が重ねられた状態を示している。
図1,図2に示すように、上部基板21と下部基板22とは接合層23を介して接合されている。
下部基板22は、透光性基材30と、透光性基材30の上面(上部基板21と対向する内面)に形成された透明導電膜31と、透明導電膜31の表面に形成された下部電極32,32を有して構成される。下部電極32,32は入力領域33の外周に位置する非入力領域34に配置される。
また、図1,図2に示すように、下部基板22と高さ方向にて所定間隔を空けて対向する上部基板21は、透光性基材35と、透光性基材35の下面(下部基板22と対向する内面)に形成された透明導電膜36と、透明導電膜36の表面に形成された一対の上部電極37,37とを有して構成される。上部電極37,37は入力領域33の外周に位置する非入力領域34に配置される。
下側の透光性基材30はポリカーボネート樹脂(PC樹脂)やポリエチレンテレフタレート樹脂(PET樹脂)、ポリエチレンナフタレート樹脂(PEN樹脂)、環状ポリオレフィン(COP樹脂)、ポリメタクリル酸メチル樹脂(アクリル)(PMMA)等の透明基材で形成され、厚みが50μm〜300μm程度で形成される。下側の透光性基材30は上側の透光性基材35より厚くまた剛性が高いことが好適である。例えば下側の透光性基材30は、ポリエチレンナフタレート樹脂(PEN樹脂)等で形成されることが好適である。
また上側の透光性基材35は、ポリカーボネート樹脂(PC樹脂)やポリエチレンテレフタレート樹脂(PET樹脂)、ポリエチレンナフタレート樹脂(PEN樹脂)、環状ポリオレフィン(COP樹脂)、ポリメタクリル酸メチル樹脂(アクリル)(PMMA)等の透明基材であり、厚みが50μm〜300μm程度で形成される。
透明導電膜31,36は、ITO(Indium Tin Oxide)、SiO2,ZnO等の無機透明導電材料を、スパッタや蒸着等で成膜して形成される。又は、これらの無機透明導電材料の微粉末を固着したものでもよい。あるいは、有機透明導電材料として、カーボンナノチューブやポリチオフィン、ポリピロール等の有機導電性ポリマーをコーティングしたものでもよい。各透明導電膜31,36の厚さは、0.005μm〜2μm程度である。
ここで本実施形態では、透光性及び透明性とは可視光線透過率が90%以上の状態を指す。更にヘイズ値が3以下であることが好適である。
また、下部電極32及び上部電極37は例えばAg塗膜を印刷形成したものである。下部電極32及び上部電極37には透明導電膜31,36よりも抵抗値の低い導電材料が使用される。
なお図2では、各基材30,35の表面(内面)は平坦面であるが、干渉縞等の発生を抑制すべく、液晶ディスプレイ81と対向する部分の前記基材30,35の表面が例えばプリズム形状とされていてもよい。
図1,図2に示す入力装置20は抵抗式タッチパネルの構造であり、入力操作可能な入力領域33が設けられる。またこの実施形態では、前記入力領域33の外周に非入力領域34が形成されている。なお、前記入力領域33とは別の入力領域を設けることも可能である。図1では、入力領域33とは別に入力領域33とは異なる機能を備えるセンサ領域64,65が形成されている。また図2に示すように入力領域33には液晶ディスプレイ81が対向配置されている。
図2に示すように、下部基板22と上部基板21との間には空気層44が設けられている。また図示しないが空気層44内には多数のドットスペーサが設けられている。
図1,図2に示すように下部基板22と上部基板21の間であって前記非入力領域34の全部あるいは一部に電気的絶縁性の接合層23が設けられ、これにより前記下部基板22と上部基板21間が非入力領域34で固定される。接合層23は、図1に示すように例えば枠形状である。接合層23は、例えばアクリル樹脂系粘着テープであるが材質等を限定するものでない。接合層23の厚さは、5μm〜200μm程度である。
操作者が指やペンで入力領域33を下方向へ押圧すると、上部基板21が下方向へ撓み、透明導電膜31,36が当接する。このとき、図4のP点で透明導電膜31,36同士が接触すると、下側の透明導電膜31をY方向に分割した抵抗値に対応する電圧が上部電極37,37から得られ、上側の透明導電膜36をX方向に分割した抵抗値に対応する電圧が下部電極32,32から得られる。そして得られた各電圧をA/D変換することにより、P点のX−Y座標上の位置を検知できる。
本実施形態では図2に示すように、上部基板21の上面21a側には、操作面(入力領域33の表面)を備える透光性の表面部材60と、表面部材60の下面に設けられた加飾部61とを有して構成される表面層26が設けられる。そして表面層26と上部基板21との間が透光性の粘着層62を介して接合されている。
図1,図2に示すように加飾部61は、入力領域33やセンサ領域64,65には形成されず空間となっている。そしてこの空間内が粘着層62で埋められている。
図2に示す実施形態では、下部基板22の下面には粘着層70を介して支持部材71が接合されている。粘着層70には、例えば、アクリル樹脂系粘着テープを用いることが出来る。
支持部材71は、透明な樹脂板であり、アクリル系のプラスチック基材で形成されることが好適である。支持部材71は、下部基材22に比べて厚い厚さ寸法で形成され、具体的には0.6mm〜1mm程度の厚さで形成される。
図3(a)に示すように、本実施形態では、表面層26と上部基板21との間に介在する粘着層62は、上側に位置する第1の粘着層66と下側に位置する第2の粘着層67との積層構造で形成される。
図3(a)に示すように表面部材60の下面に形成された加飾部61は例えば印刷形成されたものであり、加飾部61と表面部材60との間に段差68が形成される。
本実施形態では、第1の粘着層66は硬度が、第2の粘着層67の硬度よりも低い透光性の材料で形成されている。第1の粘着層66及び第2の粘着層67の材質は特に限定されない。例えばアクリル系の透明粘着剤が使用される。また、表面層26と上部基板21との間を第1の粘着層66及び第2の粘着層67により接合する方法についても特に限定されるものでない。例えば、第1の粘着層66が支持シートに付着した粘着シートを表面層26側に押圧しながら貼着し、第2の粘着層67が支持シートに付着した粘着シートを上部基板21側に押圧しながら貼着し、続いて、前記支持シートを除去して、第1の粘着層66及び第2の粘着層67の間を貼り合わせることができる。また最初から支持シートがない形態の粘着層であってもよい。あるいは、第1の粘着層66及び第2の粘着層67を積層した粘着層62を形成し、その後、前記粘着層62を、表面層26と上部基板21との間に挟んで押圧しながら表面層26と上部基板21間を接合することも出来る。
図5は、第1の粘着層66及び第2の粘着層67に対して、押し込み荷重試験を行った実験結果である。
実験では、プラスチック基板に、25μm厚の第1の粘着層(硬度が低い粘着層)66を16枚重ねて総厚を400μmとし、更に最上層として30μm厚のPETシートを貼着したサンプル1を用意した。
また、プラスチック基板に、25μm厚の第2の粘着層(硬度が高い粘着層)67を16枚重ねて総厚を400μmとし、更に最上層として30μm厚のPETシートを貼着したサンプル2を用意した。
実験では、上記サンプル1及びサンプル2の表面に、夫々、等ストローク量(押し込み量)で押し子を押し込み、時間と、試験力(押圧力)との関係を測定した。なおストローク量を、83μm/secとした。
図5に示すように、第1の粘着層66は硬度が低いため、第2の粘着層67より弱い力で押し込まれることがわかった。
このため本実施形態では、第1の粘着層66により、加飾部61と表面部材60との間の段差68を適切に埋めることができる。このように本実施形態では、表面層26と上部基板21との間を第1の粘着層62により隙間無く埋め、気泡が内在した状態でないため見た目も良く、また環境変化があっても気泡の大きさの変化等に基づく入力感度の変化や膜剥がれ、亀裂等の不具合を抑制できる。これにより図6(a)に示した従来の問題点を解決できる。
本実施形態では、硬度が低い第1の粘着層66のみで粘着層62を構成せずに、従来に比べて第1の粘着層66を薄く形成し、第1の粘着層66の下面に、第1の粘着層66よりも硬度が高い第2の粘着層67を重ねている。本実施形態では、各粘着層66,67の膜厚を夫々薄く形成し、粘着層62の総厚を従来とほぼ同等にすることが出来る。各粘着層66,67の膜厚は夫々、5〜45μm程度であり、粘着層62の総厚は、10〜90μm程度である。
本実施形態では、硬度の低い第1の粘着層66の下面側に硬度が高い第2の粘着層67を重ねたことで、入力領域33を指やペン等で強く押圧・摺動・連打等しても、表面部材60の凹みを抑制でき、激しく透明導電膜31,36同士が接触するのを抑制できる。また表面部材60の表面に凹み等が残るのを抑制することが出来る。これにより図6(b)に示した従来の問題点を解決できる。
以上により、表面部材60と加飾部61との間の段差68を適切に埋めることができるとともに、耐衝撃性及び耐環境性に優れた入力装置20に出来る。
図3(b)に示す別の実施形態では、第1の粘着層66と第2の粘着層67との間に、透光性のセパレート部材69が設けられる。セパレート部材69は例えばPETフィルムである。セパレート部材69の膜厚は10〜15μm程度である。
セパレート部材69を挿入することで、第1の粘着層66と第2の粘着層67とを適切且つ容易に積層することが出来る。例えば第1の粘着層66の下面にセパレート部材69が貼着した状態で、上部基板21の表面に設けられた第2の粘着層67をセパレート部材69の下面に適切且つ容易に貼り合わせることができる。
またセパレート部材69を部分的に設けることもできる。例えばセパレート部材69の挿入により光学特性の低下が問題となるような場合には、セパレート部材69を、非入力領域34にのみ設けることも出来る。
粘着層62は、3層以上の粘着層が積層された構成とすることも出来る。具体的には、下から硬度が低い粘着層、硬度が高い粘着層、硬度が低い粘着層の順で積層された構成、あるいは、下から硬度が高い粘着層、硬度が中間の粘着層、硬度が低い粘着層の順で積層された構成等にすることも可能である。
本実施形態における入力装置は、携帯電話機、デジタルカメラ、PDA、ゲーム機、カーナビゲーション等に使用される。
20 入力装置
21 上部基板
22 下部基板
23 接合層
24 フレキシブル基板
26 表面層
30、35 透光性基材
31、36 透明導電膜
32、37 電極
33 入力領域
34 非入力領域
44 空気層
60 表面部材
61 加飾部
62、70 粘着層
64、65 センサ領域
66 第1の粘着層
67 第2の粘着層
68 段差
69 セパレート部材
71 支持部材
81 液晶ディスプレイ

Claims (2)

  1. 透光性基材の表面に透明導電膜が形成された下部基板及び上部基板と、前記上部基板の上面側に設けられた透光性の表面部材と、前記表面部材の下面の一部に設けられた加飾部と、前記表面部材及び前記加飾部と前記上部基板との間に介在する透光性の粘着層と、を有し、
    前記粘着層は、前記加飾部と前記表面部材との間の段差を埋める第1の粘着層と、前記第1の粘着層の下面側に形成される第2の粘着層とを有し、
    前記第1の粘着層の硬度は、前記第2の粘着層の硬度より低いことを特徴とする入力装置。
  2. 前記上部粘着層と前記下部粘着層との間にセパレート部材が設けられる請求項1記載の入力装置。
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