JP2011168433A - 光ファイバ製造方法及び光ファイバ製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光ファイバ製造装置301は、孔空け処理が施された光ファイバ母材101から空孔を有する光ファイバ121を線引きする線引器30と、線引器30で線引される光ファイバ121の空孔をガスで加圧して該空孔の径を調整する空孔加圧器31と、線引器30で線引される光ファイバ121の側面を超音波で加振する超音波加振器32と、線引器30で線引される光ファイバ121内を伝搬した超音波を検出して伝搬速度を測定する超音波検出器33と、超音波検出器33で測定した超音波の伝搬速度が所定値となるように空孔加圧器31のガス加圧力を制御する加圧制御回路34と、を備える。
【選択図】図1
Description
図1は本実施形態の光ファイバ製造装置301の構成図である。光ファイバ製造装置301は、孔空け処理が施された光ファイバ母材101から空孔を有する光ファイバ121を線引きする線引器30と、線引器30で線引される光ファイバ121の空孔をガスで加圧して該空孔のサイズを調整する空孔加圧器31と、線引器30で線引される光ファイバ121の側面を超音波で加振する超音波加振器32と、線引器30で線引される光ファイバ121内を伝搬した超音波を検出して伝搬速度を測定する超音波検出器33と、超音波検出器33で測定した超音波の伝搬速度が所定値となるように空孔加圧器31のガス加圧力を制御する加圧制御回路34と、を備える。
空孔型光ファイバ母材101:6つの孔あけ処理をした石英ガラス、大きさ30mmφ×500mm、
クラッド外径:125μm、
UV被覆径(被覆硬化器にUV照射器を使用):250μm、
光ファイバ121の空孔の数:円形6個(図12参照。)。
図14は、本実施形態の光ファイバ製造装置302の構成図である。光ファイバ製造装置302と図1の光ファイバ製造装置301との違いは、超音波加振器32及び超音波検出器33の位置である。光ファイバ製造装置301では、超音波加振器32及び超音波検出器33の位置が被覆塗布器13より加熱炉11側であったが、光ファイバ製造装置302では、超音波加振器32及び超音波検出器33の位置が被覆硬化器14の張力測定器15側へ設置している。
空孔型光ファイバ母材101:8つの孔あけ処理をした石英ガラス、大きさ50mmφ×1000mm、
クラッド外径:125μm、
UV被覆径(被覆硬化器にUV照射器を使用):250μm、
光ファイバ121の空孔の数:円形8個(図15参照。)。
図17は、本実施形態の光ファイバ製造装置303の構成図である。光ファイバ製造装置303と図1の光ファイバ製造装置301との違いは、線引速度検出器35で検出した線引速度に応じて超音波の伝搬速度を補正する点である。
(補正式)
測定伝搬速度=加振器検出器間距離/初動波到達時間
伝搬速度=√(測定伝搬速度2+線引速度2)
測定伝搬速度を3000m/sと測定した場合、線引速度と真の伝搬速度との関係は、図20のようになる。
空孔型光ファイバ母材101:16個の孔あけ処理をした石英ガラス、大きさ50mmφ×1000mm、
クラッド外径:80μm、
UV被覆径(被覆硬化器にUV照射器を使用):200μm、
光ファイバ121の空孔の数:円形16個(図22参照。)。
図24は、本実施形態の光ファイバ製造装置304の構成図である。光ファイバ製造装置304と図1の光ファイバ製造装置301との違いは、複数箇所で超音波の伝搬速度を測定している点である。
空孔型光ファイバ母材101:8つの孔あけ処理をした石英ガラス、大きさ40mmφ×1000mm、
クラッド外径:125μm、
UV被覆径(被覆硬化器にUV照射器を使用):250μm、
光ファイバ121の空孔の数:円形8個(図25参照。)。
図27は、本実施形態の光ファイバ製造装置305の構成図である。光ファイバ製造装置305と図24の光ファイバ製造装置304との違いは、超音波加振器32を1台、超音波検出器33を3台として、複数箇所で超音波の伝搬速度を測定している点である。
空孔型光ファイバ母材101:8つの孔あけ処理をした石英ガラス、大きさ50mmφ×1000mm、
クラッド外径:125μm、
UV被覆径(被覆硬化器にUV照射器を使用):250μm、
光ファイバ121の空孔の数:円形8個(図28参照。)。
図30は、本実施形態の光ファイバ製造装置306の構成図である。光ファイバ製造装置306と図1の光ファイバ製造装置301との違いは、超音波加振器32及び超音波検出器33を2組用意し、光ファイバ121断面の2方向で測定している点である。
空孔型光ファイバ母材101:8つの孔あけ処理をした石英ガラス、大きさ30mmφ×1000mm、
クラッド外径:125μm、
UV被覆径(被覆硬化器にUV照射器を使用):250μm、
光ファイバ121の空孔の数:円形8個。
図33は、本実施形態の光ファイバ製造装置307の構成図である。光ファイバ製造装置307は、図1の光ファイバ製造装置301を構成と同じであるが、空孔型光ファイバ母材102を線引する。空孔型光ファイバ母材102は、円形でない扇形形状の6孔の孔あけ処理がされた母材である。空孔型光ファイバ母材102を光ファイバ製造装置307で線引すると、断面が図34のような扇形形状の空孔を持つ光ファイバ122を製造することができる。
空孔型光ファイバ母材102:扇形形状の6つの孔あけ処理をした石英ガラス、大きさ50mmφ×1000mm、
クラッド外径:125μm、
UV被覆径(被覆硬化器にUV照射器を使用):250μm、
光ファイバ122の空孔の数:扇形形状6個(図34参照。)。
12:外径測定器
13:被覆塗布器
14:被覆硬化器
15:張力測定器
16:キャプスタン
17:スクリーニング
18:ボビン
30:線引器
31:空孔加圧器
32:超音波加振器
33:超音波検出器
34:加圧制御回路
35:線引速度検出器
71:空孔
101、102:光ファイバ母材
121、122:光ファイバ
301〜307:光ファイバ製造装置
Claims (8)
- 線引中に空孔を有する光ファイバの側面を超音波で加振し、前記光ファイバ内を伝搬する前記超音波の伝搬速度を測定する測定手順と、
前記測定手順で測定した前記超音波の伝搬速度が所定値となるように、線引中の前記光ファイバの空孔への加圧圧力を制御する制御手順と、
を備える光ファイバ製造方法。 - 前記測定手順で、前記光ファイバの線引速度に応じて前記超音波の伝搬速度を補正することを特徴とする請求項1に記載の光ファイバ製造方法。
- 前記測定手順で、前記光ファイバの線引速度に応じて前記超音波を検出する位置を調整することを特徴とする請求項1に記載の光ファイバ製造方法。
- 前記測定手順で、前記超音波を複数箇所で検出することを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の光ファイバ製造方法。
- 孔空け処理が施された光ファイバ母材から空孔を有する光ファイバを線引きする線引器と、
前記線引器で線引される前記光ファイバの空孔をガスで加圧して該空孔のサイズを調整する空孔加圧器と、
前記線引器で線引される前記光ファイバの側面を超音波で加振する超音波加振器と、
前記線引器で線引される前記光ファイバ内を伝搬した前記超音波を検出して伝搬速度を測定する超音波検出器と、
前記超音波検出器で測定した前記超音波の伝搬速度が所定値となるように前記空孔加圧器のガス加圧力を制御する加圧制御回路と、
を備える光ファイバ製造装置。 - 前記超音波検出器は、前記光ファイバの線引速度に応じて前記超音波の伝搬速度を補正することを特徴とする請求項5に記載の光ファイバ製造装置。
- 前記超音波検出器は、前記光ファイバの線引速度に応じ、線引速度が0のときに前記超音波を検出する位置から線引方向へずれた位置にあることを特徴とする請求項5に記載の光ファイバ製造装置。
- 前記超音波検出器は、複数であり、複数箇所で前記超音波を検出することを特徴とする請求項5から7のいずれかに記載の光ファイバ製造装置。
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WO2022219739A1 (ja) * | 2021-04-14 | 2022-10-20 | 日本電信電話株式会社 | ケーブル試験システム、解析装置、ケーブル試験方法、及びプログラム |
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