JP2011159672A - 半導体発光装置および画像表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
複数の半導体薄膜発光素子が、実装基板101上に反射メタル層103を介して集積された第1半導体薄膜発光素子102と、第1半導体薄膜発光素子から放射される第1発光波長の光に対し透明な材料から構成され、かつ、第1半導体薄膜発光素子の素子構造を平坦とし、さらに電気的に絶縁性を有する第1透明絶縁平坦化膜113と、第1透明絶縁平坦化膜上に第1半導体薄膜発光素子から放射される第1発光波長の光に対し透明な材料から構成され、かつ、電気的に絶縁性を有する第1誘電体多層膜反射層116を介して集積された第2半導体薄膜発光素子114とを備え、第1誘電体多層膜反射層は、第1の発光波長の光を透過し、第2半導体薄膜発光素子から発光される第2発光波長の光のみを反射し、第2半導体薄膜発光素子は、第1発光波長の光に対し透明な材料から構成されている。
【選択図】図1
Description
本発明の実施形態について、図1乃至図4を参照して説明する。なお、各図で同じ構成要素には同一の符号を付している。以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
本発明の第1の実施形態について図1乃至図3を参照して説明する。
まず、図1および図2を参照して、第1の実施形態の半導体発光装置150の構成及び動作を説明する。図1は半導体発光装置150の断面図であり、図2におけるX−X線による断面を示す断面図である。また、図2は半導体発光装置150の平面図である。そして、図3は、第1の実施形態の画像表示装置1000の平面図である。なお、これらの図は本実施形態の特徴を模式的に示しており、各図における各部位の寸法関係等を限定するものではない。
図1乃至図3を参照して、本実施形態の半導体発光装置150および画像表示装置1000の構成を説明する。
半導体発光装置150は、図1に示すように、3つの半導体薄膜発光素子をそれぞれの半導体薄膜発光素子の発光面に対し、垂直方向に三次元集積した半導体発光装置である。そして、画像表示装置1000は、図3に示すように、半導体発光装置150を二次元マトリクス状に配置した画像表示装置である。
これらの半導体層は、例えば、AlaGabIn1-a-bAsxPyNzSb1-x-y-z、0≦a≦1、0≦b≦1、0≦x≦1、0≦y≦1、0≦z≦1からなる構成とすることができる。
なお、この接着剤は、ポリイミド樹脂、ノボラック系樹脂、SOG、フッ素樹脂、エポキシ樹脂等とすることができる。
各々の半導体薄膜発光素子102、114、115におけるP型コンタクト層108a、108b、108cおよびN電極111a、111b、111cと、各々の半導体薄膜発光素子102、114、115用に形成されるアノード共通配線119およびカソード共通配線120とは、図2に示すように、P電極接続配線110(110a、110b、110c)およびN電極接続配線112(112a、112b、112c)を介してそれぞれ接続されている。そして、各々の半導体薄膜発光素子102、114、115からの光は、P電極接続配線110の周囲の矩形状領域の最上層の第3半導体薄膜発光素子115の表面から放射される。
つぎに、本実施形態の半導体発光装置150および画像形成装置1000の動作について説明する。
本発明の第2の実施形態について図4を参照して説明する。
本実施形態は、第1の実施形態の半導体発光装置150を半導体発光装置200とした形態である。
さらに、広帯域誘電体多層膜206の各誘電体層は、第1半導体薄膜発光素子102から放射される波長λ1の光を効果的に透過させなければならない。そこで、波長λ1の光が広帯域誘電体多隔膜206を構成する誘電体層Aから誘電体層D内を伝搬する際の伝搬波長λA1〜λD1に対して、各伝搬波長の値を2で除した値の整数倍となるように、各誘電体層の膜厚が制御されている構造を有する。
本実施形態の構成により、第2半導体薄膜発光素子209から実装基板101方向に放射される波長λ2の光と第3半導体薄膜発光素子210から実装基板101方向に放射される波長λ3の光とを、第2半導体薄膜発光素子209の直下に設けた広帯域誘電体多層膜反射層206により一括反射させることが可能となる。そのため、波長λ2の光と波長λ3の光との帯域が接近している場合に、前記第1の実施形態において波長λ2の光が素子表面へ透過する際に弊害となり得る第2誘電体多層膜反射層118を第2半導体薄膜発光素子114の上層から取り除くことができる。そのため、波長λ2の光をより効果的に素子表面に取り出すことが可能となる。
102 第1半導体薄膜発光素子
103 反射メタル層
104a、104b、104c N型コンタクト層
105a、105b、105c N型クラッド層
106a、106b、106c 活性層
107a、107b、107c P型クラッド層
108a、108b、108c P型コンタクト層
109a、109b、109c 層間絶縁膜
110、110a、110b、110c P電極接続配線
111a、111b、111c N電極
112、112a、112b、112c N電極接続配線
113 第1透明絶縁平坦化膜
114、209 第2半導体薄膜発光素子
115、210 第3半導体薄膜発光素子
116、207 第1誘電体多層膜反射層
117 第2透明絶縁平坦化膜
118、208 第2誘電体多層膜反射層
119 アノード共通配線
120 カソード共通配線
121 共通配線層間絶縁膜
131 第1半導体薄膜発光素子アノード共通配線接続パッド
132 第2半導体薄膜発光素子アノード共通配線接続パッド
133 第3半導体薄膜発光素子アノード共通配線接続パッド
134 カソード共通配線接続パッド
150、200 半導体発光装置
206 広帯域誘電体多層膜反射層
1000 画像表示装置
Claims (9)
- 複数の半導体薄膜発光素子が、前記半導体薄膜発光素子の発光面に対して垂直な方向に集積される半導体発光装置において、
前記複数の半導体薄膜発光素子は、
実装基板上に反射メタル層を介して集積された第1半導体薄膜発光素子と、
前記第1半導体薄膜発光素子から放射される第1発光波長の光に対し透明な材料から構成され、かつ、前記第1半導体薄膜発光素子の素子構造を平坦とし、さらに電気的に絶縁性を有する第1透明絶縁平坦化膜と、
前記第1透明絶縁平坦化膜上に前記第1半導体薄膜発光素子から放射される第1発光波長の光に対し透明な材料から構成され、かつ、電気的に絶縁性を有する第1誘電体多層膜反射層を介して集積された第2半導体薄膜発光素子とを備え、
前記第1誘電体多層膜反射層は、前記第1の発光波長の光を透過し、前記第2半導体薄膜発光素子から発光される第2発光波長の光のみを反射し、
前記第2半導体薄膜発光素子は、前記第1発光波長の光に対し透明な材料から構成されている
ことを特徴とする半導体発光装置。 - 前記第1発光波長および前記第2発光波長の光に対し透明な材料から構成され、かつ、前記第2半導体薄膜発光素子の素子構造を平坦とし、さらに電気的に絶縁性を有する第2透明絶縁平坦化膜と、
前記第2透明絶縁平坦化膜上に前記第1発光波長および前記第2発光波長の光に対し透明な材料から構成され、かつ、電気的に絶縁性を有する第2誘電体多層膜反射層を介して集積された第3半導体薄膜発光素子とを備え、
前記第2誘電体多層膜反射層は、前記第1発光波長および前記第2発光波長の光を透過し、前記第3半導体薄膜発光素子から発光される第3発光波長の光のみを反射し、
前記第3半導体薄膜発光素子は、前記第1発光波長および前記第2発光波長の光に対し透明な材料から構成されている
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体発光装置。 - 前記実装基板側から入射する光に対し透明な材料から構成され、かつ、前記実装基板側に隣接する隣接半導体薄膜発光素子の素子構造を平坦とし、さらに電気的に絶縁性を有する透明絶縁平坦化膜と、
前記透明絶縁平坦化膜の前記実装基板に対して反対側表面に前記実装基板側から入射する光に対し透明な材料から構成され、かつ、電気的に絶縁性を有する誘電体多層膜反射層を介して前記隣接半導体薄膜発光素子上に集積された他の半導体薄膜発光素子とを備え、
前記誘電体多層膜反射層は、前記実装基板側から入射する光を透過し、前記他の半導体薄膜発光素子から発光される発光波長の光のみを反射し、
前記第他の半導体薄膜発光素子は、前記入射する光に対し透明な材料から構成されており、
前記他の半導体薄膜発光素子が多層構造になって構成されている
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体発光装置。 - 前記半導体薄膜発光素子は、半導体薄膜からなることを特徴とする請求項1乃至請求項3の何れか一項に記載の半導体発光装置。
- 前記第1半導体薄膜発光素子は、前記実装基板側の表面にコンタクト層が形成され、
前記第1半導体薄膜発光素子の前記コンタクト層を前記反射メタル層の表面に集積する際、分子間力接合、共晶接合、あるいは、前記第1発光波長の光に対して透明な材料から成る接着剤を用いる
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体発光装置。 - 前記第2半導体薄膜発光素子は、第1半導体多層膜反射層の前記実装基板側の表面にコンタクト層が形成され、
前記コンタクト層と前記第1誘電体多層膜反射層とは、分子間力接合され、または、接合界面よりも下層に集積される半導体薄膜発光素子から発光される光に対して透明な材料から成る接着剤を用いて接合されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体発光装置。 - 他の半導体薄膜発光素子は、前記他の半導体多層膜反射層の前記実装基板側の表面にコンタクト層が形成され、
前記コンタクト層と前記誘電体多層膜反射層とは、分子間力接合され、または、接合界面よりも下層に集積される半導体薄膜発光素子から発光される光に対して透明な材料から成る接着剤を用いて接合されていることを特徴とする請求項3に記載の半導体発光装置。 - 前記第1誘電体多層膜反射層は、前記第2発光波長の光および前記他の半導体薄膜発光素子が集積されて形成された複数の半導体薄膜発光素子から発光される発光波長の光を反射し、かつ、前記第1発光波長の光を透過する
ことを特徴とする請求項7に記載の半導体発光装置。 - 請求項1乃至請求項8の何れか一項に記載の半導体発光装置がマトリクス状に前記実装基板上に配設されていることを特徴とする画像表示装置。
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