JP2011153277A - Method for producing aryl-substituted tetraazaporphyrin compound, compound obtained by the production method, and filter for display containing the same - Google Patents

Method for producing aryl-substituted tetraazaporphyrin compound, compound obtained by the production method, and filter for display containing the same Download PDF

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JP2011153277A JP2010017491A JP2010017491A JP2011153277A JP 2011153277 A JP2011153277 A JP 2011153277A JP 2010017491 A JP2010017491 A JP 2010017491A JP 2010017491 A JP2010017491 A JP 2010017491A JP 2011153277 A JP2011153277 A JP 2011153277A
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正勝 中塚
Toshihiro Masaoka
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing an aryl-substituted tetraazaporphyrin compound; to provide an aryl-substituted tetraazaporphyrin compound produced by the production method; and to provide a filter for display containing the aryl-substituted tetraazaporphyrin compound. <P>SOLUTION: The method for producing an aryl-substituted tetraazaporphyrin compound comprises reacting the tetraazaporphyrin compound with an aryl compound having a leaving group in the presence of a base and a transition-metal compound. The tetraazaporphyrin compound is preferably a compound represented by formula (A), and the aryl compound having the leaving group is preferably a compound represented by formula (B): Ar-X (wherein, Ar represents an aryl group; and X represents a leaving group). In the formula, R represents a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a straight chain, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, an aralkyl group, an aralkyloxy group, a halogenoalkyl group, a halogenoalkoxy group, a substituted amino group, an alkoxyalkyl group, an alkoxyalkoxyalkyl group, an aryloxyalkyl group, an aralkyloxyalkyl group, a halogenoalkoxyalkyl group, or the like; m represents an integer of 0-8; and M represents two hydrogen atoms, two monovalent metal atoms, divalent metal atoms, trivalent substituted metal atoms, tetravalent substituted metal atoms, or metal oxide atoms. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明はアリール置換テトラアザポルフィリン化合物の製造方法に関する。さらに詳しくは、各種の機能性材料用途(例えば、ディスプレイ用フィルタ用途、光記録媒体用途、インク用途、熱転写用途)に有用なアリール置換テトラアザポルフィリン化合物の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing an aryl-substituted tetraazaporphyrin compound. More specifically, the present invention relates to a method for producing an aryl-substituted tetraazaporphyrin compound useful for various functional material applications (for example, display filter applications, optical recording medium applications, ink applications, thermal transfer applications).

近年、社会の高度情報化に伴って、光エレクトロニクス関連用途をはじめ、各種の機能性材料用途(例えば、ディスプレイ用フィルタ用途、光記録媒体用途、インク用途、熱転写用途)に向け、優れた機能を有する有機化合物の開発が盛んに行われている。このような有機化合物として、優れた光学特性を有するテトラアザポルフィリン化合物などが知られている。例えば、光記録媒体用の有機化合物として、種々のテトラアザポルフィリン化合物が提案されている(特許文献1〜3)。また、光学フィルタ用、またはディスプレイ用フィルタ用の有機化合物として、種々のテトラアザポルフィリン化合物が提案されている(特許文献4〜8)。これらのテトラアザポルフィリン化合物の中で、アリール基を置換基として有するテトラアザポルフィリン化合物は、例えば、アリール基を置換として有するマレオニトリル化合物を、環化する方法により製造されている(特許文献9〜10)。特許文献9および10に記載されている方法によれば、アリール基を置換基として有するテトラアザポルフィリン化合物を製造することはできるものの、該化合物は、複数の異性体から成る混合物として製造される。
なお、複数の異性体の生成割合は、環化の際の温度などの反応条件、マレオニトリル化合物中の置換基の種類などにより、大きく異なるものと推察される。この複数の異性体の生成割合によるものかどうかは定かではないが、特許文献9および10に記載されている方法により製造されるアリール置換基されたテトラアザポルフィリン化合物の光学特性(例えば、吸光係数)は、それほど大きくはないことが判明した。
大型のディスプレイとして、注目されているプラズマディスプレイは、その構造、動作原理から表示画面から、強度の不要な光(電磁波)が発生しており、その光を遮蔽することが必要となっている。このような点を改良する目的で、例えば、不要な光を選択的、且つ効率的に吸収する化合物(例えば、波長570〜605nmの範囲の光を効率よく吸収する化合物)が望まれている。現在では、安定的に効率良く、光学特性(例えば、吸光係数)に優れたアリール置換されたテトラアザポルフィリン化合物を製造する方法が求められている。
In recent years, with the advancement of sophistication in society, excellent functions are being developed for various functional material applications (for example, display filter applications, optical recording medium applications, ink applications, thermal transfer applications), including optoelectronic applications. The development of organic compounds has been actively conducted. As such an organic compound, a tetraazaporphyrin compound having excellent optical properties is known. For example, various tetraazaporphyrin compounds have been proposed as organic compounds for optical recording media (Patent Documents 1 to 3). Moreover, various tetraazaporphyrin compounds have been proposed as organic compounds for optical filters or display filters (Patent Documents 4 to 8). Among these tetraazaporphyrin compounds, a tetraazaporphyrin compound having an aryl group as a substituent is produced, for example, by a method of cyclizing a maleonitrile compound having an aryl group as a substituent (Patent Documents 9 to 10). ). According to the methods described in Patent Documents 9 and 10, although a tetraazaporphyrin compound having an aryl group as a substituent can be produced, the compound is produced as a mixture composed of a plurality of isomers.
In addition, it is guessed that the production | generation ratio of several isomers changes with reaction conditions, such as the temperature in the case of cyclization, the kind of substituent in a maleonitrile compound, etc. Although it is not certain whether this is due to the generation ratio of the plurality of isomers, the optical properties (for example, extinction coefficient) of the aryl-substituted tetraazaporphyrin compound produced by the methods described in Patent Documents 9 and 10 ) Turned out to be not so big.
As a large display, a plasma display attracting attention generates light (electromagnetic waves) with unnecessary intensity from the display screen due to its structure and operation principle, and it is necessary to shield the light. In order to improve such a point, for example, a compound that selectively and efficiently absorbs unnecessary light (for example, a compound that efficiently absorbs light in the wavelength range of 570 to 605 nm) is desired. Currently, there is a need for a method for producing an aryl-substituted tetraazaporphyrin compound that is stable and efficient and has excellent optical properties (eg, extinction coefficient).

特開平7−268227号公報JP 7-268227 A 特開平9−309268号公報JP 9-309268 A 特開平11−11015号公報JP 11-11015 A 特開2000−275432号公報JP 2000-275432 A 特開2002−40233号公報JP 2002-40233 A 特開2002−251144号公報JP 2002-251144 A 特開2004−361551号公報JP 2004-361551 A 特開2008−268331号公報JP 2008-268331 A 特開平11−43619号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-43619 特開平11−100520号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-100500

本発明の課題は、アリール置換テトラアザポルフィリン化合物の新規な製造方法を提供することである。さらには、該製造法により製造されるアリール置換テトラアザポルフィリン化合物を含有して成る優れた光学特性を有するディスプレイ用フィルタを提供することである。   An object of the present invention is to provide a novel method for producing an aryl-substituted tetraazaporphyrin compound. Furthermore, it is providing the filter for a display which has the outstanding optical characteristic containing the aryl substituted tetraazaporphyrin compound manufactured by this manufacturing method.

本発明者等は、アリール置換されたテトラアザポルフィリン化合物の製造方法に関し、鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、
(i)テトラアザポルフィリン化合物と脱離基を有するアリール化合物を、塩基、および遷移金属化合物の存在下で反応させて成るアリール置換テトラアザポルフィリン化合物の製造方法であり、
(ii)前記テトラアザポルフィリン化合物が、一般式(A)で表される化合物である(i)記載の製造方法に関するものであり、
As a result of intensive studies on the method for producing aryl-substituted tetraazaporphyrin compounds, the present inventors have completed the present invention. That is, the present invention
(I) A method for producing an aryl-substituted tetraazaporphyrin compound obtained by reacting a tetraazaporphyrin compound with an aryl compound having a leaving group in the presence of a base and a transition metal compound,
(Ii) The tetraazaporphyrin compound relates to the production method according to (i), which is a compound represented by the general formula (A),

Figure 2011153277
〔式中、Rは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、置換または未置換のアリール基、置換または未置換のアリールオキシ基、置換または未置換のアラルキル基、置換または未置換のアラルキルオキシ基、直鎖、分岐または環状のハロゲノアルキル基、直鎖、分岐または環状のハロゲノアルコキシ基、置換アミノ基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルコキシアルキル基、置換または未置換のアリールオキシアルキル基、置換または未置換のアラルキルオキシアルキル基、あるいは直鎖、分岐または環状のハロゲノアルコキシアルキル基を表し、さらに、隣接するR基は互いに結合して、置換している炭素原子と共に、置換または未置換の炭素環式脂肪族環を形成していてもよいを表し、mは0〜8の整数を表し(但し、mが8を表す場合、少なくとも1つのRは水素原子を表す)、Mは2個の水素原子、2個の1価の金属原子、2価の金属原子、3価の置換金属原子、4価の置換金属原子、または酸化金属原子を表す〕
Figure 2011153277
[Wherein, R represents a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a linear, branched or cyclic alkyl group, a linear, branched or cyclic alkoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aryl group. Oxy group, substituted or unsubstituted aralkyl group, substituted or unsubstituted aralkyloxy group, linear, branched or cyclic halogenoalkyl group, linear, branched or cyclic halogenoalkoxy group, substituted amino group, linear, branched Or a cyclic alkoxyalkyl group, a linear, branched or cyclic alkoxyalkoxyalkyl group, a substituted or unsubstituted aryloxyalkyl group, a substituted or unsubstituted aralkyloxyalkyl group, or a linear, branched or cyclic halogenoalkoxyalkyl group And adjacent R groups are bonded to each other to share a substituted carbon atom. Represents an optionally substituted carbocyclic aliphatic ring, and m represents an integer of 0 to 8 (provided that when m represents 8, at least one R represents a hydrogen atom). And M represents two hydrogen atoms, two monovalent metal atoms, a divalent metal atom, a trivalent substituted metal atom, a tetravalent substituted metal atom, or a metal oxide atom]

(iii)前記、脱離基を有するアリール化合物が、一般式(B)で表される化合物である(i)または(ii)記載の製造方法に関するものであり、

Figure 2011153277
(式中、Arはアリール基を表し、Xは脱離基を表す)
(iv)またArが置換基を有していてもよい炭素数3〜40のアリール基である(iii)記載の製造方法であり、
(v)Arが、フッ素原子、塩素原子、直鎖、分岐、または環状のアルキル基、直鎖、分岐、または環状のアルコキシ基、置換または未置換のアリール基、N,N−ジ置換アミノ基で置換されていてもよいアリール基である(iv)記載の製造方法であり、
(vi)Xがハロゲン原子または−OSO−R(Rは置換または未置換のアリール基、あるいはハロゲン原子で置換されていてもよい直鎖、分岐または環状のアルキル基を表す)である(iii)記載の製造方法であり、
(vii)前記−OSO−Rにおいて、Rが炭素数6〜10の置換または未置換のアリール基、あるいは炭素数1〜10のハロゲン原子で置換されていてもよい直鎖、分岐または環状のアルキル基である(vi)記載の製造方法に関する。
(viii)前記(i)〜(vii)のいずれかに記載の製造方法により製造されるアリール置換テトラアザポルフィリン化合物に関するものである。さらには、
(ix)前記(viii)に記載のアリール置換テトラアザポルフィリン化合物を少なくとも1種含有して成るディスプレイ用フィルタに関するものである。 (iii) The aryl compound having a leaving group relates to the production method according to (i) or (ii), which is a compound represented by the general formula (B),
Figure 2011153277
(In the formula, Ar represents an aryl group, and X represents a leaving group)
(iv) The production method according to (iii), wherein Ar is an aryl group having 3 to 40 carbon atoms which may have a substituent,
(v) Ar is a fluorine atom, a chlorine atom, a linear, branched, or cyclic alkyl group, a linear, branched, or cyclic alkoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, or an N, N-disubstituted amino group The production method according to (iv), which is an aryl group optionally substituted with
(vi) X is a halogen atom or —OSO 2 —R 0 (R 0 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a linear, branched or cyclic alkyl group which may be substituted with a halogen atom). (iii) is the production method described,
(vii) In the -OSO 2 -R 0 , R 0 is a linear, branched, or substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or a halogen atom having 1 to 10 carbon atoms The production method according to (vi), which is a cyclic alkyl group.
(viii) An aryl-substituted tetraazaporphyrin compound produced by the production method according to any one of (i) to (vii). Moreover,
(ix) The present invention relates to a display filter comprising at least one aryl-substituted tetraazaporphyrin compound described in (viii) above.

本発明により、各種の機能性材料用途(例えば、ディスプレイ用フィルタ用途、光記録媒体用途、インク用途、熱転写用途)に有用なアリール置換テトラアザポルフィリン化合物の新規な製造方法を提供することが可能になった。さらに該製造方法によって製造されるアリール置換テトラアザポルフィリン化合物を含有して成る光学特性に優れたディスプレイ用フィルタを提供することが可能になった。   The present invention makes it possible to provide a novel method for producing an aryl-substituted tetraazaporphyrin compound useful for various functional material applications (for example, display filter applications, optical recording medium applications, ink applications, thermal transfer applications). became. Furthermore, it has become possible to provide a display filter having excellent optical properties, which comprises an aryl-substituted tetraazaporphyrin compound produced by the production method.

本発明のディスプレイ用フィルタの模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the filter for displays of this invention. 本発明のディスプレイ用フィルタの模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the filter for displays of this invention. 本発明のディスプレイ用フィルタの模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the filter for displays of this invention. 本発明のディスプレイ用フィルタの模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the filter for displays of this invention. 本発明のディスプレイ用フィルタの模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the filter for displays of this invention. 本発明のディスプレイ用フィルタの模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the filter for displays of this invention. 本発明のディスプレイ用フィルタの模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the filter for displays of this invention.

以下、本発明に関し詳細に説明する。
本発明は、テトラアザポルフィリン化合物と脱離基を有するアリール化合物を、塩基、および遷移金属化合物の存在下で反応させて成るアリール置換テトラアザポルフィリン化合物の製造方法に関するものである。
本発明に使用するテトラアザポルフィリン化合物は、テトラアザポルフィリン骨格に少なくとも一つのアリール基を導入可能な化合物であればよく、その骨格には、種々の置換基を有していてもよく、好ましくは、例えば、下記一般式(A)で表される化合物である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The present invention relates to a method for producing an aryl-substituted tetraazaporphyrin compound obtained by reacting a tetraazaporphyrin compound with an aryl compound having a leaving group in the presence of a base and a transition metal compound.
The tetraazaporphyrin compound used in the present invention may be any compound that can introduce at least one aryl group into the tetraazaporphyrin skeleton, and the skeleton may have various substituents, preferably For example, it is a compound represented by the following general formula (A).

Figure 2011153277
〔式中、Rは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、置換または未置換のアリール基、置換または未置換のアリールオキシ基、置換または未置換のアラルキル基、置換または未置換のアラルキルオキシ基、直鎖、分岐または環状のハロゲノアルキル基、直鎖、分岐または環状のハロゲノアルコキシ基、置換アミノ基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルコキシアルキル基、置換または未置換のアリールオキシアルキル基、置換または未置換のアラルキルオキシアルキル基、あるいは直鎖、分岐または環状のハロゲノアルコキシアルキル基を表し、さらに、隣接するR基は互いに結合して、置換している炭素原子と共に、置換または未置換の炭素環式脂肪族環を形成していてもよいを表し、mは0〜8の整数を表し(但し、mが8を表す場合、少なくとも1つのRは水素原子を表す)、Mは2個の水素原子、2個の1価の金属原子、2価の金属原子、3価の置換金属原子、4価の置換金属原子、または酸化金属原子を表す〕
Figure 2011153277
[Wherein, R represents a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a linear, branched or cyclic alkyl group, a linear, branched or cyclic alkoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aryl group. Oxy group, substituted or unsubstituted aralkyl group, substituted or unsubstituted aralkyloxy group, linear, branched or cyclic halogenoalkyl group, linear, branched or cyclic halogenoalkoxy group, substituted amino group, linear, branched Or a cyclic alkoxyalkyl group, a linear, branched or cyclic alkoxyalkoxyalkyl group, a substituted or unsubstituted aryloxyalkyl group, a substituted or unsubstituted aralkyloxyalkyl group, or a linear, branched or cyclic halogenoalkoxyalkyl group And adjacent R groups are bonded to each other to share a substituted carbon atom. Represents an optionally substituted carbocyclic aliphatic ring, and m represents an integer of 0 to 8 (provided that when m represents 8, at least one R represents a hydrogen atom). And M represents two hydrogen atoms, two monovalent metal atoms, a divalent metal atom, a trivalent substituted metal atom, a tetravalent substituted metal atom, or a metal oxide atom]

なお、本明細書において、アリール基とは、例えば、フェニル基、ナフチル基などの炭素環式芳香族基、例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基などの複素環式芳香族基を表し、好ましくは、炭素環式芳香族基を表す。
一般式(A)で表される化合物においてRは、好ましくは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜24の直鎖、分岐または環状のアルキル基、炭素数1〜24の直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、炭素数4〜30の置換または未置換のアリール基、炭素数4〜30の置換または未置換のアリールオキシ基、炭素数5〜30の置換または未置換のアラルキル基、炭素数5〜30の置換または未置換のアラルキルオキシ基、炭素数1〜24の直鎖、分岐または環状のハロゲノアルキル基、炭素数1〜24の直鎖、分岐または環状のハロゲノアルコキシ基、炭素数2〜30のN,N−ジ置換アミノ基、炭素数2〜24の直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、炭素数3〜24の直鎖、分岐または環状のアルコキシアルコキシアルキル基、炭素数5〜30の置換または未置換のアリールオキシアルキル基、炭素数6〜30の置換または未置換のアラルキルオキシアルキル基、あるいは炭素数2〜24の直鎖、分岐または環状のハロゲノアルコキシアルキル基を表す。
In the present specification, the aryl group represents, for example, a carbocyclic aromatic group such as phenyl group or naphthyl group, for example, a heterocyclic aromatic group such as furyl group, thienyl group or pyridyl group, and preferably Represents a carbocyclic aromatic group.
In the compound represented by the general formula (A), R is preferably a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, or a linear chain having 1 to 24 carbon atoms. Branched or cyclic alkoxy group, substituted or unsubstituted aryl group having 4 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted aryloxy group having 4 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted aralkyl group having 5 to 30 carbon atoms A substituted or unsubstituted aralkyloxy group having 5 to 30 carbon atoms, a linear, branched or cyclic halogenoalkyl group having 1 to 24 carbon atoms, a linear, branched or cyclic halogenoalkoxy group having 1 to 24 carbon atoms, N, N-disubstituted amino group having 2 to 30 carbon atoms, linear, branched or cyclic alkoxyalkyl group having 2 to 24 carbon atoms, linear, branched or cyclic alkoxyalkoxyalkyl having 3 to 24 carbon atoms Group, a substituted or unsubstituted aryloxyalkyl group having 5 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aralkyloxyalkyl group having 6 to 30 carbon atoms, or a linear, branched or cyclic halogeno group having 2 to 24 carbon atoms Represents an alkoxyalkyl group.

なお、一般式(A)で表される式においてRは、テトラアザポルフィリン骨格内のピロール環のβ位の炭素原子に置換していることを表している。
一般式(A)におけるRの具体例としては、例えば、水素原子、シアノ基、ニトロ基、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、1,2−ジメチルプロピル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、n−ヘキシル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、4−メチルペンチル基、4−メチル−2−ペンチル基、1,2−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、3,3−ジメチルブチル基、1−エチルブチル基、2−エチルブチル基、n−ヘプチル基、1−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、5−メチルヘキシル基、2,4−ジメチルペンチル基、シクロヘキシルメチル基、n−オクチル基、tert−オクチル基、1−メチルヘプチル基、2−エチルヘキシル基、2−プロピルペンチル基、2,5−ジメチルヘキシル基、2,5,5−トリメチルヘキシル基、n−ノニル基、2,2−ジメチルヘプチル基、2,6−ジメチル−4−ヘプチル基、3,5,5−トリメチルヘキシル基、n−デシル基、4−エチルオクチル基、n−ウンデシル基、1−メチルデシル基、n−ドデシル基、1,3,5,7−テトラメチルオクチル基、n−トリデシル基、1−ヘキシルヘプチル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−エイコシル基、n−トリコシル基、n−テトラコシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、4−メチルシクロヘキシル基、4−tert−ブチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などの直鎖、分岐または環状のアルキル基、
In the formula represented by the general formula (A), R represents a substitution with a carbon atom at the β-position of the pyrrole ring in the tetraazaporphyrin skeleton.
Specific examples of R in the general formula (A) include, for example, a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, sec- Butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylbutyl group, n-hexyl group, 1-methyl Pentyl group, 2-methylpentyl group, 4-methylpentyl group, 4-methyl-2-pentyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 1- Ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, n-heptyl group, 1-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 2,4-dimethyl Pentyl group, cyclohexylmethyl group, n-octyl group, tert-octyl group, 1-methylheptyl group, 2-ethylhexyl group, 2-propylpentyl group, 2,5-dimethylhexyl group, 2,5,5-trimethylhexyl Group, n-nonyl group, 2,2-dimethylheptyl group, 2,6-dimethyl-4-heptyl group, 3,5,5-trimethylhexyl group, n-decyl group, 4-ethyloctyl group, n-undecyl Group, 1-methyldecyl group, n-dodecyl group, 1,3,5,7-tetramethyloctyl group, n-tridecyl group, 1-hexylheptyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group N-heptadecyl group, n-octadecyl group, n-eicosyl group, n-tricosyl group, n-tetracosyl group, cyclopentyl group, cycl Hexyl group, 4-methylcyclohexyl group, 4-tert-butylcyclohexyl group, cycloheptyl group, straight chain, branched or cyclic alkyl groups such as cyclooctyl group,

例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、3,3−ジメチルブチルオキシ基、2−エチルブチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、n−ノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、n−ウンデシルオキシ基、n−ドデシルオキシ基、n−トリデシルオキシ基、n−テトラデシルオキシ基、n−ペンタデシルオキシ基、n−ヘキサデシルオキシ基、n−ヘプタデシルオキシ基、n−オクタデシルオキシ基、n−エイコシルオキシ基、n−トリコシルオキシ基、n−テトラコシルオキシ基などの直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、   For example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group, n-pentyloxy group, neopentyloxy group, cyclopentyloxy group, n-hexyloxy group 3,3-dimethylbutyloxy group, 2-ethylbutyloxy group, cyclohexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, n-nonyloxy group, n-decyloxy group, n -Undecyloxy group, n-dodecyloxy group, n-tridecyloxy group, n-tetradecyloxy group, n-pentadecyloxy group, n-hexadecyloxy group, n-heptadecyloxy group, n-octadecyl group Oxy group, n-eicosyloxy group, n-tricosyloxy group, n-tetrakoshi Linear, branched or cyclic alkoxy groups such as oxy group,

例えば、フェニル基、2−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、3−エチルフェニル基、4−エチルフェニル基、4−n−プロピルフェニル基、4−イソプロピルフェニル基、4−n−ブチルフェニル基、4−イソブチルフェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、4−n−ペンチルフェニル基、4−イソペンチルフェニル基、4−tert−ペンチルフェニル基、4−n−ヘキシルフェニル基、4−シクロヘキシルフェニル基、4−n−ヘプチルフェニル基、4−n−オクチルフェニル基、4−n−ノニルフェニル基、4−n−デシルフェニル基、4−n−ウンデシルフェニル基、4−n−ドデシルフェニル基、4−n−テトラデシルフェニル基、4−n−ヘキサデシルフェニル基、4−n−オクタデシルフェニル基、2,3−ジメチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、2,6−ジメチルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、3,4,5−トリメチルフェニル基、2,3,5,6−テトラメチルフェニル基、5−インダニル基、1,2,3,4−テトラヒドロ−5−ナフチル基、1,2,3,4−テトラヒドロ−6−ナフチル基、2−メトキシフェニル基、3−メトキシフェニル基、4−メトキシフェニル基、3−エトキシフェニル基、4−エトキシフェニル基、4−n−プロポキシフェニル基、4−イソプロポキシフェニル基、4−n−ブトキシフェニル基、4−イソブトキシフェニル基、4−n−ペンチルオキシフェニル基、4−n−ヘキシルオキシフェニル基、4−シクロヘキシルオキシフェニル基、4−n−ヘプチルオキシフェニル基、4−n−オクチルオキシフェニル基、4−n−ノニルオキシフェニル基、4−n−デシルオキシフェニル基、4−n−ウンデシルオキシフェニル基、4−n−ドデシルオキシフェニル基、4−n−テトラデシルオキシフェニル基、4−n−ヘキサデシルオキシフェニル基、4−n−オクタデシルオキシフェニル基、2,3−ジメトキシフェニル基、2,4−ジメトキシフェニル基、2,5−ジメトキシフェニル基、3,4−ジメトキシフェニル基、3,5−ジメトキシフェニル基、3,5−ジエトキシフェニル基、2−メトキシ−4−メチルフェニル基、2−メトキシ−5−メチルフェニル基、3−メトキシ−4−メチルフェニル基、2−メチル−4−メトキシフェニル基、3−メチル−4−メトキシフェニル基、3−メチル−5−メトキシフェニル基、2−フルオロフェニル基、3−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル基、2−クロロフェニル基、3−クロロフェニル基、4−クロロフェニル基、4−ブロモフェニル基、4−トリフルオロメチルフェニル基、3−トリフルオロメチルフェニル基、2,4−ジフルオロフェニル基、3,5−ジフルオロフェニル基、2,4−ジクロロフェニル基、3,4−ジクロロフェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、2−メチル−4−クロロフェニル基、2−クロロ−4−メチルフェニル基、3−クロロ−4−メチルフェニル基、2−クロロ−4−メトキシフェニル基、3−メトキシ−4−フルオロフェニル基、3−メトキシ−4−クロロフェニル基、3−フルオロ−4−メトキシフェニル基、4−フェニルフェニル基、3−フェニルフェニル基、2−フェニルフェニル基、4−(4’−メチルフェニル)フェニル基、4−(4’−メトキシフェニル)フェニル基、3,5−ジフェニルフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、4−メチル−1−ナフチル基、4−エトキシ−1−ナフチル基、6−n−ブチル−2−ナフチル基、6−メトキシ−2−ナフチル基、7−エトキシ−2−ナフチル基、2−フリル基、2−チエニル基、3−チエニル基、2−ピリジル基、3−ピリジル基、4−ピリジル基、4−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル基、3−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル基、2−(N,N−ジメチルアミノ)フェニル基、4−(N,N−ジエチルアミノ)フェニル基、2−(N,N−ジエチルアミノ)フェニル基、4−(N,N−ジ−n−ブチルアミノ)フェニル基、4−(N,N−ジ−n−ヘキシルアミノ)フェニル基、4−(N−シクロヘキシル−N−メチルアミノ)フェニル基、4−(N,N−ジエチルアミノ)−1−ナフチル基、4−ピロリジノフェニル基、4−ピペリジノフェニル基、4−モルフォリノフェニル基、4−ピロリジノ−1−ナフチル基、4−(N−ベンジル−N−メチルアミノ)フェニル基、4−(N−ベンジル−N−フェニルアミノ)フェニル基、4−(N−メチル−N−フェニルアミノ)フェニル基、4−(N−エチル−N−フェニルアミノ)フェニル基、4−(N−n−ブチル−N−フェニルアミノ)フェニル基、4−(N,N−ジフェニルアミノ)フェニル基、2−(N,N−ジフェニルアミノ)フェニル基、4−〔N,N−ジ(4’−メチルフェニル)アミノ〕フェニル基、4−〔N,N−ジ(3’−メチルフェニル)アミノ〕フェニル基、4−〔N,N−ジ(4’−エチルフェニル)アミノ〕フェニル基、4−〔N,N−ジ(4’−tert−ブチルフェニル)アミノ〕フェニル基、4−〔N,N−ジ(4’−n−ヘキシルフェニル)アミノ〕フェニル基、4−〔N,N−ジ(4’−メトキシフェニル)アミノ〕フェニル基、4−〔N,N−ジ(4’−エトキシフェニル)アミノ〕フェニル基、4−〔N,N−ジ(4’−n−ブトキシフェニル)アミノ〕フェニル基、4−〔N,N−ジ(4’−n−ヘキシルオキシフェニル)アミノ〕フェニル基、4−〔N,N−ジ(1’−ナフチル)アミノ〕フェニル基、4−〔N,N−ジ(2’−ナフチル)アミノ〕フェニル基、4−〔N−フェニル−N−(3’−メチルフェニル)アミノ〕フェニル基、4−〔N−フェニル−N−(4’−メチルフェニル)アミノ〕フェニル基、4−〔N−フェニル−N−(4’−オクチルフェニル)アミノ〕フェニル基、4−〔N−フェニル−N−(4’−メトキシフェニル)アミノ〕フェニル基、4−〔N−フェニル−N−(4’−エトキシフェニル)アミノ〕フェニル基、4−〔N−フェニル−N−(4’−n−ヘキシルオキシフェニル)アミノ〕フェニル基、4−〔N−フェニル−N−(4’−フルオロフェニル)アミノ〕フェニル基、4−〔N−フェニル−N−(1’−ナフチル)アミノ〕フェニル基、4−〔N−フェニル−N−(2’−ナフチル)アミノ〕フェニル基、4−〔N−フェニル−N−(4’−フェニルフェニル)アミノ〕フェニル基、4−(N,N−ジフェニルアミノ)−1−ナフチル基、6−(N,N−ジフェニルアミノ)−2−ナフチル基、4−(N−カルバゾリイル)フェニル基、4−(N−フェノキサジイル)フェニル基などの置換または未置換のアリール基、   For example, phenyl group, 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 3-ethylphenyl group, 4-ethylphenyl group, 4-n-propylphenyl group, 4-isopropylphenyl group, 4 -N-butylphenyl group, 4-isobutylphenyl group, 4-tert-butylphenyl group, 4-n-pentylphenyl group, 4-isopentylphenyl group, 4-tert-pentylphenyl group, 4-n-hexylphenyl Group, 4-cyclohexylphenyl group, 4-n-heptylphenyl group, 4-n-octylphenyl group, 4-n-nonylphenyl group, 4-n-decylphenyl group, 4-n-undecylphenyl group, 4 -N-dodecylphenyl group, 4-n-tetradecylphenyl group, 4-n-hexadecylphenyl group, 4-n-octadecyl Phenyl group, 2,3-dimethylphenyl group, 2,4-dimethylphenyl group, 2,5-dimethylphenyl group, 2,6-dimethylphenyl group, 3,4-dimethylphenyl group, 3,5-dimethylphenyl group 3,4,5-trimethylphenyl group, 2,3,5,6-tetramethylphenyl group, 5-indanyl group, 1,2,3,4-tetrahydro-5-naphthyl group, 1,2,3, 4-tetrahydro-6-naphthyl group, 2-methoxyphenyl group, 3-methoxyphenyl group, 4-methoxyphenyl group, 3-ethoxyphenyl group, 4-ethoxyphenyl group, 4-n-propoxyphenyl group, 4-iso Propoxyphenyl group, 4-n-butoxyphenyl group, 4-isobutoxyphenyl group, 4-n-pentyloxyphenyl group, 4-n-hexyloxyphenyl 4-cyclohexyloxyphenyl group, 4-n-heptyloxyphenyl group, 4-n-octyloxyphenyl group, 4-n-nonyloxyphenyl group, 4-n-decyloxyphenyl group, 4-n-undecyl Oxyphenyl group, 4-n-dodecyloxyphenyl group, 4-n-tetradecyloxyphenyl group, 4-n-hexadecyloxyphenyl group, 4-n-octadecyloxyphenyl group, 2,3-dimethoxyphenyl group, 2,4-dimethoxyphenyl group, 2,5-dimethoxyphenyl group, 3,4-dimethoxyphenyl group, 3,5-dimethoxyphenyl group, 3,5-diethoxyphenyl group, 2-methoxy-4-methylphenyl group 2-methoxy-5-methylphenyl group, 3-methoxy-4-methylphenyl group, 2-methyl-4-methoxy Phenyl group, 3-methyl-4-methoxyphenyl group, 3-methyl-5-methoxyphenyl group, 2-fluorophenyl group, 3-fluorophenyl group, 4-fluorophenyl group, 2-chlorophenyl group, 3-chlorophenyl group 4-chlorophenyl group, 4-bromophenyl group, 4-trifluoromethylphenyl group, 3-trifluoromethylphenyl group, 2,4-difluorophenyl group, 3,5-difluorophenyl group, 2,4-dichlorophenyl group 3,4-dichlorophenyl group, 3,5-dichlorophenyl group, 2-methyl-4-chlorophenyl group, 2-chloro-4-methylphenyl group, 3-chloro-4-methylphenyl group, 2-chloro-4- Methoxyphenyl group, 3-methoxy-4-fluorophenyl group, 3-methoxy-4-chlorophenyl group 3-fluoro-4-methoxyphenyl group, 4-phenylphenyl group, 3-phenylphenyl group, 2-phenylphenyl group, 4- (4′-methylphenyl) phenyl group, 4- (4′-methoxyphenyl) phenyl Group, 3,5-diphenylphenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 4-methyl-1-naphthyl group, 4-ethoxy-1-naphthyl group, 6-n-butyl-2-naphthyl group, 6 -Methoxy-2-naphthyl group, 7-ethoxy-2-naphthyl group, 2-furyl group, 2-thienyl group, 3-thienyl group, 2-pyridyl group, 3-pyridyl group, 4-pyridyl group, 4- ( N, N-dimethylamino) phenyl group, 3- (N, N-dimethylamino) phenyl group, 2- (N, N-dimethylamino) phenyl group, 4- (N, N-diethylamino) phenyl group 2- (N, N-diethylamino) phenyl group, 4- (N, N-di-n-butylamino) phenyl group, 4- (N, N-di-n-hexylamino) phenyl group, 4- (N -Cyclohexyl-N-methylamino) phenyl group, 4- (N, N-diethylamino) -1-naphthyl group, 4-pyrrolidinophenyl group, 4-piperidinophenyl group, 4-morpholinophenyl group, 4- Pyrrolidino-1-naphthyl group, 4- (N-benzyl-N-methylamino) phenyl group, 4- (N-benzyl-N-phenylamino) phenyl group, 4- (N-methyl-N-phenylamino) phenyl Group, 4- (N-ethyl-N-phenylamino) phenyl group, 4- (Nn-butyl-N-phenylamino) phenyl group, 4- (N, N-diphenylamino) phenyl group, 2- ( N, N-diphenylamino) phenyl group, 4- [N, N-di (4′-methylphenyl) amino] phenyl group, 4- [N, N-di (3′-methylphenyl) amino] phenyl group, 4- [N, N-di (4′-ethylphenyl) amino] phenyl group, 4- [N, N-di (4′-tert-butylphenyl) amino] phenyl group, 4- [N, N-di (4 '-N-hexylphenyl) amino] phenyl group, 4- [N, N-di (4'-methoxyphenyl) amino] phenyl group, 4- [N, N-di (4'-ethoxyphenyl) amino] phenyl 4- [N, N-di (4′-n-butoxyphenyl) amino] phenyl group, 4- [N, N-di (4′-n-hexyloxyphenyl) amino] phenyl group, 4- [N, N-di (4′-n-hexyloxyphenyl) amino] phenyl group, N, N-di (1′-naphthyl) amino] phenyl group, -[N, N-di (2'-naphthyl) amino] phenyl group, 4- [N-phenyl-N- (3'-methylphenyl) amino] phenyl group, 4- [N-phenyl-N- (4 '-Methylphenyl) amino] phenyl group, 4- [N-phenyl-N- (4'-octylphenyl) amino] phenyl group, 4- [N-phenyl-N- (4'-methoxyphenyl) amino] phenyl 4- [N-phenyl-N- (4′-ethoxyphenyl) amino] phenyl group, 4- [N-phenyl-N- (4′-n-hexyloxyphenyl) amino] phenyl group, 4- [N-phenyl-N- (4′-n-hexyloxyphenyl) amino] phenyl group, N-phenyl-N- (4′-fluorophenyl) amino] phenyl group, 4- [N-phenyl-N- (1′-naphthyl) amino] phenyl group, 4- [N-phenyl-N- (2 ′ -Naphthyl) amino] fe 4- [N-phenyl-N- (4′-phenylphenyl) amino] phenyl group, 4- (N, N-diphenylamino) -1-naphthyl group, 6- (N, N-diphenylamino) A substituted or unsubstituted aryl group such as a 2-naphthyl group, 4- (N-carbazolyl) phenyl group, 4- (N-phenoxadiyl) phenyl group,

例えば、フェニルオキシ基、2−メチルフェニルオキシ基、3−メチルフェニルオキシ基、4−メチルフェニルオキシ基、3−エチルフェニルオキシ基、4−エチルフェニルオキシ基、4−n−プロピルフェニルオキシ基、4−イソプロピルフェニルオキシ基、4−n−ブチルフェニルオキシ基、4−イソブチルフェニルオキシ基、4−tert−ブチルフェニルオキシ基、4−n−ペンチルフェニルオキシ基、4−イソペンチルフェニルオキシ基、4−tert−ペンチルフェニルオキシ基、4−n−ヘキシルフェニルオキシ基、4−シクロヘキシルフェニルオキシ基、4−n−ヘプチルフェニルオキシ基、4−n−オクチルフェニルオキシ基、4−n−ノニルフェニルオキシ基、4−n−デシルフェニルオキシ基、4−n−ウンデシルフェニルオキシ基、4−n−ドデシルフェニルオキシ基、4−n−テトラデシルフェニルオキシ基、4−n−ヘキサデシルフェニルオキシ基、4−n−オクタデシルフェニルオキシ基、2,3−ジメチルフェニルオキシ基、2,4−ジメチルフェニルオキシ基、2,5−ジメチルフェニルオキシ基、2,6−ジメチルフェニルオキシ基、3,4−ジメチルフェニルオキシ基、3,5−ジメチルフェニルオキシ基、3,4,5−トリメチルフェニルオキシ基、2,3,5,6−テトラメチルフェニルオキシ基、5−インダニルオキシ基、1,2,3,4−テトラヒドロ−5−ナフチルオキシ基、1,2,3,4−テトラヒドロ−6−ナフチルオキシ基、2−メトキシフェニルオキシ基、3−メトキシフェニルオキシ基、4−メトキシフェニルオキシ基、3−エトキシフェニルオキシ基、4−エトキシフェニルオキシ基、4−n−プロポキシフェニルオキシ基、4−イソプロポキシフェニルオキシ基、4−n−ブトキシフェニルオキシ基、4−イソブトキシフェニルオキシ基、4−n−ペンチルオキシフェニルオキシ基、4−n−ヘキシルオキシフェニルオキシ基、4−シクロヘキシルオキシフェニルオキシ基、4−n−ヘプチルオキシフェニルオキシ基、4−n−オクチルオキシフェニルオキシ基、4−n−ノニルオキシフェニルオキシ基、4−n−デシルオキシフェニルオキシ基、4−n−ウンデシルオキシフェニルオキシ基、4−n−ドデシルオキシフェニルオキシ基、4−n−テトラデシルオキシフェニルオキシ基、4−n−ヘキサデシルオキシフェニルオキシ基、4−n−オクタデシルオキシフェニルオキシ基、2,3−ジメトキシフェニルオキシ基、2,4−ジメトキシフェニルオキシ基、2,5−ジメトキシフェニルオキシ基、3,4−ジメトキシフェニルオキシ基、3,5−ジメトキシフェニルオキシ基、3,5−ジエトキシフェニルオキシ基、2−メトキシ−4−メチルフェニルオキシ基、2−メトキシ−5−メチルフェニルオキシ基、3−メトキシ−4−メチルフェニルオキシ基、2−メチル−4−メトキシフェニルオキシ基、3−メチル−4−メトキシフェニルオキシ基、3−メチル−5−メトキシフェニルオキシ基、2−フルオロフェニルオキシ基、3−フルオロフェニルオキシ基、4−フルオロフェニルオキシ基、2−クロロフェニルオキシ基、3−クロロフェニルオキシ基、4−クロロフェニルオキシ基、4−ブロモフェニルオキシ基、4−トリフルオロメチルフェニルオキシ基、3−トリフルオロメチルフェニルオキシ基、2,4−ジフルオロフェニルオキシ基、3,5−ジフルオロフェニルオキシ基、2,4−ジクロロフェニルオキシ基、3,4−ジクロロフェニルオキシ基、3,5−ジクロロフェニルオキシ基、2−メチル−4−クロロフェニルオキシ基、2−クロロ−4−メチルフェニルオキシ基、3−クロロ−4−メチルフェニルオキシ基、2−クロロ−4−メトキシフェニルオキシ基、3−メトキシ−4−フルオロフェニルオキシ基、3−メトキシ−4−クロロフェニルオキシ基、3−フルオロ−4−メトキシフェニルオキシ基、4−フェニルフェニルオキシ基、3−フェニルフェニルオキシ基、2−フェニルフェニルオキシ基、4−(4’−メチルフェニル)フェニルオキシ基、4−(4’−メトキシフェニル)フェニルオキシ基、3,5−ジフェニルフェニルオキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メチル−1−ナフチルオキシ基、4−エトキシ−1−ナフチルオキシ基、6−n−ブチル−2−ナフチルオキシ基、6−メトキシ−2−ナフチルオキシ基、7−エトキシ−2−ナフチルオキシ基、2−フリルオキシ基、2−チエニルオキシ基、3−チエニルオキシ基、2−ピリジルオキシ基、3−ピリジルオキシ基、4−ピリジルオキシ基などの置換または未置換のアリールオキシ基、   For example, phenyloxy group, 2-methylphenyloxy group, 3-methylphenyloxy group, 4-methylphenyloxy group, 3-ethylphenyloxy group, 4-ethylphenyloxy group, 4-n-propylphenyloxy group, 4-isopropylphenyloxy group, 4-n-butylphenyloxy group, 4-isobutylphenyloxy group, 4-tert-butylphenyloxy group, 4-n-pentylphenyloxy group, 4-isopentylphenyloxy group, 4 -Tert-pentylphenyloxy group, 4-n-hexylphenyloxy group, 4-cyclohexylphenyloxy group, 4-n-heptylphenyloxy group, 4-n-octylphenyloxy group, 4-n-nonylphenyloxy group 4-n-decylphenyloxy group, 4-n-undecyl Nyloxy group, 4-n-dodecylphenyloxy group, 4-n-tetradecylphenyloxy group, 4-n-hexadecylphenyloxy group, 4-n-octadecylphenyloxy group, 2,3-dimethylphenyloxy group, 2,4-dimethylphenyloxy group, 2,5-dimethylphenyloxy group, 2,6-dimethylphenyloxy group, 3,4-dimethylphenyloxy group, 3,5-dimethylphenyloxy group, 3,4,5 -Trimethylphenyloxy group, 2,3,5,6-tetramethylphenyloxy group, 5-indanyloxy group, 1,2,3,4-tetrahydro-5-naphthyloxy group, 1,2,3,4 -Tetrahydro-6-naphthyloxy group, 2-methoxyphenyloxy group, 3-methoxyphenyloxy group, 4-methoxyphenyloxy Group, 3-ethoxyphenyloxy group, 4-ethoxyphenyloxy group, 4-n-propoxyphenyloxy group, 4-isopropoxyphenyloxy group, 4-n-butoxyphenyloxy group, 4-isobutoxyphenyloxy group, 4-n-pentyloxyphenyloxy group, 4-n-hexyloxyphenyloxy group, 4-cyclohexyloxyphenyloxy group, 4-n-heptyloxyphenyloxy group, 4-n-octyloxyphenyloxy group, 4- n-nonyloxyphenyloxy group, 4-n-decyloxyphenyloxy group, 4-n-undecyloxyphenyloxy group, 4-n-dodecyloxyphenyloxy group, 4-n-tetradecyloxyphenyloxy group, 4-n-hexadecyloxyphenyloxy group, 4-n-octa Decyloxyphenyloxy group, 2,3-dimethoxyphenyloxy group, 2,4-dimethoxyphenyloxy group, 2,5-dimethoxyphenyloxy group, 3,4-dimethoxyphenyloxy group, 3,5-dimethoxyphenyloxy group 3,5-diethoxyphenyloxy group, 2-methoxy-4-methylphenyloxy group, 2-methoxy-5-methylphenyloxy group, 3-methoxy-4-methylphenyloxy group, 2-methyl-4- Methoxyphenyloxy group, 3-methyl-4-methoxyphenyloxy group, 3-methyl-5-methoxyphenyloxy group, 2-fluorophenyloxy group, 3-fluorophenyloxy group, 4-fluorophenyloxy group, 2- Chlorophenyloxy group, 3-chlorophenyloxy group, 4-chlorophenyloxy group Group, 4-bromophenyloxy group, 4-trifluoromethylphenyloxy group, 3-trifluoromethylphenyloxy group, 2,4-difluorophenyloxy group, 3,5-difluorophenyloxy group, 2,4-dichlorophenyl Oxy group, 3,4-dichlorophenyloxy group, 3,5-dichlorophenyloxy group, 2-methyl-4-chlorophenyloxy group, 2-chloro-4-methylphenyloxy group, 3-chloro-4-methylphenyloxy group 2-chloro-4-methoxyphenyloxy group, 3-methoxy-4-fluorophenyloxy group, 3-methoxy-4-chlorophenyloxy group, 3-fluoro-4-methoxyphenyloxy group, 4-phenylphenyloxy group , 3-phenylphenyloxy group, 2-phenylphenyloxy 4- (4′-methylphenyl) phenyloxy group, 4- (4′-methoxyphenyl) phenyloxy group, 3,5-diphenylphenyloxy group, 1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group, 4- Methyl-1-naphthyloxy group, 4-ethoxy-1-naphthyloxy group, 6-n-butyl-2-naphthyloxy group, 6-methoxy-2-naphthyloxy group, 7-ethoxy-2-naphthyloxy group, A substituted or unsubstituted aryloxy group such as 2-furyloxy group, 2-thienyloxy group, 3-thienyloxy group, 2-pyridyloxy group, 3-pyridyloxy group, 4-pyridyloxy group,

例えば、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α−エチルベンジル基、α,α−ジメチルベンジル基、α−フェニルベンジル基、α,α−ジフェニルベンジル基、フェネチル基、α−メチルフェネチル基、β−メチルフェネチル基、α,α−ジメチルフェネチル基、4−メチルフェネチル基、4−メチルベンジル基、3−メチルベンジル基、2−メチルベンジル基、4−エチルベンジル基、2−エチルベンジル基、4−イソプロピルベンジル基、4−tert−ブチルベンジル基、2−tert−ブチルベンジル基、4−tert−ペンチルベンジル基、4−シクロヘキシルベンジル基、4−n−オクチルベンジル基、4−tert−オクチルベンジル基、4−フェニルベンジル基、4−(4’−メチルフェニル)ベンジル基、4−(4’−tert−ブチルフェニル)ベンジル基、4−(4’−メトキシフェニル)ベンジル基、4−メトキシベンジル基、3−メトキシベンジル基、2−エトキシベンジル基、4−n−ブトキシベンジル基、4−n−ヘプチルオキシベンジル基、3,4−ジメトキシベンジル基、4−フルオロベンジル基、2−フルオロベンジル基、4−クロロベンジル基、3−クロロベンジル基、2−クロロベンジル基、3,4−ジクロロベンジル基、2−フルフリル基、1−ナフチルメチル基、2−ナフチルメチル基などの置換または未置換のアラルキル基、   For example, benzyl group, α-methylbenzyl group, α-ethylbenzyl group, α, α-dimethylbenzyl group, α-phenylbenzyl group, α, α-diphenylbenzyl group, phenethyl group, α-methylphenethyl group, β- Methylphenethyl group, α, α-dimethylphenethyl group, 4-methylphenethyl group, 4-methylbenzyl group, 3-methylbenzyl group, 2-methylbenzyl group, 4-ethylbenzyl group, 2-ethylbenzyl group, 4- Isopropylbenzyl group, 4-tert-butylbenzyl group, 2-tert-butylbenzyl group, 4-tert-pentylbenzyl group, 4-cyclohexylbenzyl group, 4-n-octylbenzyl group, 4-tert-octylbenzyl group, 4-phenylbenzyl group, 4- (4′-methylphenyl) benzyl group, 4- (4′-tert) -Butylphenyl) benzyl group, 4- (4'-methoxyphenyl) benzyl group, 4-methoxybenzyl group, 3-methoxybenzyl group, 2-ethoxybenzyl group, 4-n-butoxybenzyl group, 4-n-heptyl Oxybenzyl group, 3,4-dimethoxybenzyl group, 4-fluorobenzyl group, 2-fluorobenzyl group, 4-chlorobenzyl group, 3-chlorobenzyl group, 2-chlorobenzyl group, 3,4-dichlorobenzyl group, A substituted or unsubstituted aralkyl group such as a 2-furfuryl group, a 1-naphthylmethyl group, and a 2-naphthylmethyl group,

例えば、ベンジルオキシ基、α−メチルベンジルオキシ基、α−エチルベンジルオキシ基、α,α−ジメチルベンジルオキシ基、α−フェニルベンジルオキシ基、α,α−ジフェニルベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、α−メチルフェネチルオキシ基、β−メチルフェネチルオキシ基、α,α−ジメチルフェネチルオキシ基、4−メチルフェネチルオキシ基、4−メチルベンジルオキシ基、3−メチルベンジルオキシ基、2−メチルベンジルオキシ基、4−エチルベンジルオキシ基、2−エチルベンジルオキシ基、4−イソプロピルベンジルオキシ基、4−tert−ブチルベンジルオキシ基、2−tert−ブチルベンジルオキシ基、4−tert−ペンチルベンジルオキシ基、4−シクロヘキシルベンジルオキシ基、4−n−オクチルベンジルオキシ基、4−tert−オクチルベンジルオキシ基、4−フェニルベンジルオキシ基、4−(4’−メチルフェニル)ベンジルオキシ基、4−(4’−tert−ブチルフェニル)ベンジルオキシ基、4−(4’−メトキシフェニル)ベンジルオキシ基、4−メトキシベンジルオキシ基、3−メトキシベンジルオキシ基、2−エトキシベンジルオキシ基、4−n−ブトキシベンジルオキシ基、4−n−ヘプチルオキシベンジルオキシ基、3,4−ジメトキシベンジルオキシ基、4−フルオロベンジルオキシ基、2−フルオロベンジルオキシ基、4−クロロベンジルオキシ基、3−クロロベンジルオキシ基、2−クロロベンジルオキシ基、3,4−ジクロロベンジルオキシ基、2−フルフリルオキシ基、1−ナフチルメチルオキシ基、2−ナフチルメチルオキシ基などの置換または未置換のアラルキルオキシ基、   For example, benzyloxy group, α-methylbenzyloxy group, α-ethylbenzyloxy group, α, α-dimethylbenzyloxy group, α-phenylbenzyloxy group, α, α-diphenylbenzyloxy group, phenethyloxy group, α -Methylphenethyloxy group, β-methylphenethyloxy group, α, α-dimethylphenethyloxy group, 4-methylphenethyloxy group, 4-methylbenzyloxy group, 3-methylbenzyloxy group, 2-methylbenzyloxy group, 4-ethylbenzyloxy group, 2-ethylbenzyloxy group, 4-isopropylbenzyloxy group, 4-tert-butylbenzyloxy group, 2-tert-butylbenzyloxy group, 4-tert-pentylbenzyloxy group, 4- Cyclohexylbenzyloxy group, 4-n-octylben Zyloxy group, 4-tert-octylbenzyloxy group, 4-phenylbenzyloxy group, 4- (4′-methylphenyl) benzyloxy group, 4- (4′-tert-butylphenyl) benzyloxy group, 4- ( 4′-methoxyphenyl) benzyloxy group, 4-methoxybenzyloxy group, 3-methoxybenzyloxy group, 2-ethoxybenzyloxy group, 4-n-butoxybenzyloxy group, 4-n-heptyloxybenzyloxy group, 3,4-dimethoxybenzyloxy group, 4-fluorobenzyloxy group, 2-fluorobenzyloxy group, 4-chlorobenzyloxy group, 3-chlorobenzyloxy group, 2-chlorobenzyloxy group, 3,4-dichlorobenzyl Oxy group, 2-furfuryloxy group, 1-naphthylmethyloxy group, 2 A substituted or unsubstituted aralkyl group such as naphthylmethyl group,

例えば、フルオロメチル基、3−フルオロプロピル基、6−フルオロヘキシル基、8−フルオロオクチル基、トリフルオロメチル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロエチル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−プロピル基、1,1,3−トリヒドロ−パーフルオロ−n−プロピル基、2−ヒドロ−パーフルオロ−2−プロピル基、
1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−ブチル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−ペンチル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−ヘキシル基、6−フルオロヘキシル基、4−フルオロシクロヘキシル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−オクチル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−デシル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−ドデシル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−テトラデシル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−ヘキサデシル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロ−n−プロピル基、パーフルオロ−n−ペンチル基、パーフルオロ−n−ヘキシル基、2,2−ビス(トリフルオロメチル)プロピル基、
ジクロロメチル基、2−クロロエチル基、3−クロロプロピル基、4−クロロシクロヘキシル基、7−クロロヘプチル基、8−クロロオクチル基、2,2,2−トリクロロエチル基などの直鎖、分岐または環状のハロゲノアルキル基、
For example, fluoromethyl group, 3-fluoropropyl group, 6-fluorohexyl group, 8-fluorooctyl group, trifluoromethyl group, 1,1-dihydro-perfluoroethyl group, 1,1-dihydro-perfluoro-n -Propyl group, 1,1,3-trihydro-perfluoro-n-propyl group, 2-hydro-perfluoro-2-propyl group,
1,1-dihydro-perfluoro-n-butyl group, 1,1-dihydro-perfluoro-n-pentyl group, 1,1-dihydro-perfluoro-n-hexyl group, 6-fluorohexyl group, 4- Fluorocyclohexyl group, 1,1-dihydro-perfluoro-n-octyl group, 1,1-dihydro-perfluoro-n-decyl group, 1,1-dihydro-perfluoro-n-dodecyl group, 1,1- Dihydro-perfluoro-n-tetradecyl group, 1,1-dihydro-perfluoro-n-hexadecyl group, perfluoroethyl group, perfluoro-n-propyl group, perfluoro-n-pentyl group, perfluoro-n- Hexyl group, 2,2-bis (trifluoromethyl) propyl group,
Linear, branched or cyclic such as dichloromethyl group, 2-chloroethyl group, 3-chloropropyl group, 4-chlorocyclohexyl group, 7-chloroheptyl group, 8-chlorooctyl group, 2,2,2-trichloroethyl group A halogenoalkyl group of

例えば、フルオロメチルオキシ基、3−フルオロプロピルオキシ基、6−フルオロヘキシルオキシ基、8−フルオロオクチルオキシ基、トリフルオロメチルオキシ基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロエチルオキシ基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−プロピルオキシ基、1,1,3−トリヒドロ−パーフルオロ−n−プロピルオキシ基、2−ヒドロ−パーフルオロ−2−プロピルオキシ基、
1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−ブチルオキシ基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−ペンチルオキシ基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−ヘキシルオキシ基、6−フルオロヘキシルオキシ基、4−フルオロシクロヘキシルオキシ基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−オクチルオキシ基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−デシルオキシ基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−ドデシルオキシ基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−テトラデシルオキシ基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−ヘキサデシルオキシ基、パーフルオロエチルオキシ基、パーフルオロ−n−プロピルオキシ基、パーフルオロ−n−ペンチルオキシ基、パーフルオロ−n−ヘキシルオキシ基、2,2−ビス(トリフルオロメチル)プロピルオキシ基、ジクロロメチルオキシ基、2−クロロエチルオキシ基、3−クロロプロピルオキシ基、4−クロロシクロヘキシルオキシ基、7−クロロヘプチルオキシ基、8−クロロオクチルオキシ基、2,2,2−トリクロロエチルオキシ基などの直鎖、分岐または環状のハロゲノアルコキシ基、
For example, fluoromethyloxy group, 3-fluoropropyloxy group, 6-fluorohexyloxy group, 8-fluorooctyloxy group, trifluoromethyloxy group, 1,1-dihydro-perfluoroethyloxy group, 1,1- Dihydro-perfluoro-n-propyloxy group, 1,1,3-trihydro-perfluoro-n-propyloxy group, 2-hydro-perfluoro-2-propyloxy group,
1,1-dihydro-perfluoro-n-butyloxy group, 1,1-dihydro-perfluoro-n-pentyloxy group, 1,1-dihydro-perfluoro-n-hexyloxy group, 6-fluorohexyloxy group 4-fluorocyclohexyloxy group, 1,1-dihydro-perfluoro-n-octyloxy group, 1,1-dihydro-perfluoro-n-decyloxy group, 1,1-dihydro-perfluoro-n-dodecyloxy group 1,1-dihydro-perfluoro-n-tetradecyloxy group, 1,1-dihydro-perfluoro-n-hexadecyloxy group, perfluoroethyloxy group, perfluoro-n-propyloxy group, Fluoro-n-pentyloxy group, perfluoro-n-hexyloxy group, 2,2-bis (trifluoromethyl Propyl group, dichloromethyloxy group, 2-chloroethyloxy group, 3-chloropropyloxy group, 4-chlorocyclohexyloxy group, 7-chloroheptyloxy group, 8-chlorooctyloxy group, 2,2, A linear, branched or cyclic halogenoalkoxy group such as a 2-trichloroethyloxy group,

例えば、N,N−ジメチルアミノ基、N,N−ジエチルアミノ基、N,N−ジ−n−ブチルアミノ基、N,N−ジ−n−ヘキシルアミノ基、N,N−ジ−n−オクチルアミノ基、N,N−ジ−n−デシルアミノ基、N,N−ジ−n−ドデシルアミノ基、N−メチル−N−エチルアミノ基、N−エチル−N−n−ブチルアミノ基、N−メチル−N−フェニルアミノ基、N−エチル−N−フェニルアミノ基、N−n−ブチル−N−フェニルアミノ基、N−ベンジル−N−フェニルアミノ基、N,N−ジフェニルアミノ基、N,N−ジ(3−メチルフェニル)アミノ基、N,N−ジ(4−メチルフェニル)アミノ基、N,N−ジ(4−エチルフェニル)アミノ基、N,N−ジ(4−tert−ブチルフェニル)アミノ基、N,N−ジ(4−n−ヘキシルフェニル)アミノ基、N,N−ジ(4−メトキシフェニル)アミノ基、N,N−ジ(4−エトキシフェニル)アミノ基、N,N−ジ(4−n−ブトキシフェニル)アミノ基、N,N−ジ(4−n−ヘキシルオキシフェニル)アミノ基、N,N−ジ(1−ナフチル)アミノ基、N,N−ジ(2−ナフチル)アミノ基、N−フェニル−N−(3−メチルフェニル)アミノ基、N−フェニル−N−(4−メチルフェニル)アミノ基、N−フェニル−N−(4−オクチルフェニル)アミノ基、N−フェニル−N−(4−メトキシフェニル)アミノ基、N−フェニル−N−(4−エトキシフェニル)アミノ基、N−フェニル−N−(4−n−ヘキシルオキシフェニル)アミノ基、N−フェニル−N−(4−フルオロフェニル)アミノ基、N−フェニル−N−(1−ナフチル)アミノ基、N−フェニル−N−(2−ナフチル)アミノ基、N−フェニル−N−(3−フェニルフェニル)アミノ基、N−フェニル−N−(4−フェニルフェニル)アミノ基、N−カルバゾリイル基、N−フェノキサジイル基、N−フェノチアジイル基などの置換アミノ基、   For example, N, N-dimethylamino group, N, N-diethylamino group, N, N-di-n-butylamino group, N, N-di-n-hexylamino group, N, N-di-n-octyl Amino group, N, N-di-n-decylamino group, N, N-di-n-dodecylamino group, N-methyl-N-ethylamino group, N-ethyl-Nn-butylamino group, N- Methyl-N-phenylamino group, N-ethyl-N-phenylamino group, Nn-butyl-N-phenylamino group, N-benzyl-N-phenylamino group, N, N-diphenylamino group, N, N-di (3-methylphenyl) amino group, N, N-di (4-methylphenyl) amino group, N, N-di (4-ethylphenyl) amino group, N, N-di (4-tert- Butylphenyl) amino group, N, N-di (4-n-hex) Ruphenyl) amino group, N, N-di (4-methoxyphenyl) amino group, N, N-di (4-ethoxyphenyl) amino group, N, N-di (4-n-butoxyphenyl) amino group, N , N-di (4-n-hexyloxyphenyl) amino group, N, N-di (1-naphthyl) amino group, N, N-di (2-naphthyl) amino group, N-phenyl-N- (3 -Methylphenyl) amino group, N-phenyl-N- (4-methylphenyl) amino group, N-phenyl-N- (4-octylphenyl) amino group, N-phenyl-N- (4-methoxyphenyl) amino Group, N-phenyl-N- (4-ethoxyphenyl) amino group, N-phenyl-N- (4-n-hexyloxyphenyl) amino group, N-phenyl-N- (4-fluorophenyl) amino group, N-feni -N- (1-naphthyl) amino group, N-phenyl-N- (2-naphthyl) amino group, N-phenyl-N- (3-phenylphenyl) amino group, N-phenyl-N- (4-phenyl) Phenyl) amino group, N-carbazolyl group, N-phenoxadiyl group, substituted amino group such as N-phenothiadiyl group,

例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、n−ブトキシメチル基、n−ペンチルオキシメチル基、n−ヘキシルオキシメチル基、(2−エチルブチルオキシ)メチル基、n−ヘプチルオキシメチル基、n−オクチルオキシメチル基、n−デシルオキシメチル基、n−ドデシルオキシメチル基、2−メトキシエチル基、2−エトキシエチル基、2−n−プロポキシエチル基、2−イソプロポキシエチル基、2−n−ブトキシエチル基、2−n−ペンチルオキシエチル基、2−n−ヘキシルオキシエチル基、2−(2’−エチルブチルオキシ)エチル基、2−n−ヘプチルオキシエチル基、2−n−オクチルオキシエチル基、2−(2’−エチルヘキシルオキシ)エチル基、2−n−デシルオキシエチル基、2−n−ドデシルオキシエチル基、2−n−テトラデシルオキシエチル基、2−シクロヘキシルオキシエチル基、2−メトキシプロピル基、3−メトキシプロピル基、3−エトキシプロピル基、3−n−プロポキシプロピル基、3−イソプロポキシプロピル基、3−n−ブトキシプロピル基、3−n−ペンチルオキシプロピル基、3−n−ヘキシルオキシプロピル基、3−(2’−エチルブトキシ)プロピル基、3−n−オクチルオキシプロピル基、3−(2’−エチルヘキシルオキシ)プロピル基、3−n−デシルオキシプロピル基、3−n−ドデシルオキシプロピル基、3−n−テトラデシルオキシプロピル基、3−シクロヘキシルオキシプロピル基、4−メトキシブチル基、4−エトキシブチル基、4−n−プロポキシブチル基、4−イソプロポキシブチル基、4−n−ブトキシブチル基、4−n−ヘキシルオキシブチル基、4−n−オクチルオキシブチル基、4−n−デシルオキシブチル基、4−n−ドデシルオキシブチル基、5−メトキシペンチル基、5−エトキシペンチル基、5−n−プロポキシペンチル基、5−n−ペンチルオキシペンチル基、6−メトキシヘキシル基、6−エトキシヘキシル基、6−イソプロポキシヘキシル基、6−n−ブトキシヘキシル基、6−n−ヘキシルオキシヘキシル基、6−n−デシルオキシヘキシル基、4−メトキシシクロヘキシル基、7−メトキシヘプチル基、7−エトキシヘプチル基、7−イソプロポキシヘプチル基、8−メトキシオクチル基、8−エトキシオクチル基、9−メトキシノニル基、9−エトキシノニル基、10−メトキシデシル基、10−エトキシデシル基、10−n−ブトキシデシル基、11−メトキシウンデシル基、11−エトキシウンデシル基、12−メトキシドデシル基、12−エトキシドデシル基、12−イソプロポキシドデシル基、14−メトキシテトラデシル基、テトラヒドロフルフリル基などの直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基   For example, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, n-butoxymethyl group, n-pentyloxymethyl group, n-hexyloxymethyl group, (2-ethylbutyloxy) methyl group, n-heptyloxymethyl group, n-octyl Oxymethyl group, n-decyloxymethyl group, n-dodecyloxymethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-n-propoxyethyl group, 2-isopropoxyethyl group, 2-n-butoxy Ethyl group, 2-n-pentyloxyethyl group, 2-n-hexyloxyethyl group, 2- (2′-ethylbutyloxy) ethyl group, 2-n-heptyloxyethyl group, 2-n-octyloxyethyl group Group, 2- (2′-ethylhexyloxy) ethyl group, 2-n-decyloxyethyl group, 2-n-dodecyloxyethyl 2-n-tetradecyloxyethyl group, 2-cyclohexyloxyethyl group, 2-methoxypropyl group, 3-methoxypropyl group, 3-ethoxypropyl group, 3-n-propoxypropyl group, 3-isopropoxypropyl group 3-n-butoxypropyl group, 3-n-pentyloxypropyl group, 3-n-hexyloxypropyl group, 3- (2′-ethylbutoxy) propyl group, 3-n-octyloxypropyl group, 3- (2′-ethylhexyloxy) propyl group, 3-n-decyloxypropyl group, 3-n-dodecyloxypropyl group, 3-n-tetradecyloxypropyl group, 3-cyclohexyloxypropyl group, 4-methoxybutyl group 4-ethoxybutyl group, 4-n-propoxybutyl group, 4-isopropoxybutyl group, 4- -Butoxybutyl group, 4-n-hexyloxybutyl group, 4-n-octyloxybutyl group, 4-n-decyloxybutyl group, 4-n-dodecyloxybutyl group, 5-methoxypentyl group, 5-ethoxy Pentyl group, 5-n-propoxypentyl group, 5-n-pentyloxypentyl group, 6-methoxyhexyl group, 6-ethoxyhexyl group, 6-isopropoxyhexyl group, 6-n-butoxyhexyl group, 6-n -Hexyloxyhexyl group, 6-n-decyloxyhexyl group, 4-methoxycyclohexyl group, 7-methoxyheptyl group, 7-ethoxyheptyl group, 7-isopropoxyheptyl group, 8-methoxyoctyl group, 8-ethoxyoctyl group Group, 9-methoxynonyl group, 9-ethoxynonyl group, 10-methoxydecyl group, 10-ethoxy group Sidecyl group, 10-n-butoxydecyl group, 11-methoxyundecyl group, 11-ethoxyundecyl group, 12-methoxydodecyl group, 12-ethoxydodecyl group, 12-isopropoxide decyl group, 14-methoxytetradecyl group , Linear, branched or cyclic alkoxyalkyl groups such as tetrahydrofurfuryl group

例えば、(2−メトキシエトキシ)メチル基、(2−エトキシエトキシ)メチル基、(2−n−ブチルオキシエトキシ)メチル基、(2−n−ヘキシルオキシエトキシ)メチル基、(3−メトキシプロピルオキシ)メチル基、(3−エトキシプロピルオキシ)メチル基、(3−n−ブチルオキシプロピルオキシ)メチル基、(3−n−ペンチルオキシプロピルオキシ)メチル基、(4−メトキシブチルオキシ)メチル基、(6−メトキシヘキシルオキシ)メチル基、(10−エトキシデシルオキシ)メチル基、2−(2’−メトキシエトキシ)エチル基、2−(2’−エトキシエトキシ)エチル基、2−(2’−n−ブトキシエトキシ)エチル基、3−(2’−エトキシエトキシ)プロピル基、
3−(2’−メトキシプロピルオキシ)プロピル基、3−(2’−イソプロピルオキシプロピルオキシ)プロピル基、3−(3’−メトキシプロピルオキシ)プロピル基、3−(3’−エトキシプロピルオキシ)プロピル基などの直鎖、分岐または環状のアルコキシアルコキシアルキル基、
For example, (2-methoxyethoxy) methyl group, (2-ethoxyethoxy) methyl group, (2-n-butyloxyethoxy) methyl group, (2-n-hexyloxyethoxy) methyl group, (3-methoxypropyloxy) ) Methyl group, (3-ethoxypropyloxy) methyl group, (3-n-butyloxypropyloxy) methyl group, (3-n-pentyloxypropyloxy) methyl group, (4-methoxybutyloxy) methyl group, (6-methoxyhexyloxy) methyl group, (10-ethoxydecyloxy) methyl group, 2- (2′-methoxyethoxy) ethyl group, 2- (2′-ethoxyethoxy) ethyl group, 2- (2′-) n-butoxyethoxy) ethyl group, 3- (2′-ethoxyethoxy) propyl group,
3- (2′-methoxypropyloxy) propyl group, 3- (2′-isopropyloxypropyloxy) propyl group, 3- (3′-methoxypropyloxy) propyl group, 3- (3′-ethoxypropyloxy) A linear, branched or cyclic alkoxyalkoxyalkyl group such as a propyl group,

例えば、フェニルオキシメチル基、4−メチルフェニルオキシメチル基、3−メチルフェニルオキシメチル基、2−メチルフェニルオキシメチル基、4−エチルフェニルオキシメチル基、4−n−プロピルフェニルオキシメチル基、4−n−ブチルフェニルオキシメチル基、4−tert−ブチルフェニルオキシメチル基、4−n−ヘキシルフェニルオキシメチル基、4−n−オクチルフェニルオキシメチル基、4−n−デシルフェニルオキシメチル基、4−メトキシフェニルオキシメチル基、4−エトキシフェニルオキシメチル基、4−ブトキシフェニルオキシメチル基、4−n−ペンチルオキシフェニルオキシメチル基、4−フルオロフェニルオキシメチル基、3−フルオロフェニルオキシメチル基、2−フルオロフェニルオキシメチル基、3,4−ジフルオロフェニルオキシメチル基、4−クロロフェニルオキシメチル基、2−クロロフェニルオキシメチル基、4−フェニルフェニルオキシメチル基、1−ナフチルオキシメチル基、2−ナフチルオキシメチル基、2−フリルオキシメチル基、1−フェニルオキシエチル基、2−フェニルオキシエチル基、2−(4’−メチルフェニルオキシ)エチル基、2−(4’−エチルフェニルオキシ)エチル基、2−(4’−n−ヘキシルフェニルオキシ)エチル基、2−(4’−メトキシフェニルオキシ)エチル基、2−(4’−n−ブトキシフェニルオキシ)エチル基、2−(4’−フルオロフェニルオキシ)エチル基、2−(4’−クロロフェニルオキシ)エチル基、2−(4’−ブロモフェニルオキシ)エチル基、2−(1’−ナフチルオキシ)エチル基、2−(2’−ナフチルオキシ)エチル基、2−フェニルオキシプロピル基、3−フェニルオキシプロピル基、3−(4’−メチルフェニルオキシ)プロピル基、3−(2’−ナフチルオキシ)プロピル基、4−フェニルオキシブチル基、4−(2’−エチルフェニルオキシ)ブチル基、4−フェニルオキシペンチル基、5−フェニルオキシペンチル基、5−(4’−tert−ブチルフェニルオキシ)ペンチル基、6−フェニルオキシヘキシル基、6−(2’−クロロフェニルオキシ)ヘキシル基、8−フェニルオキシオクチル基、10−フェニルオキシデシル基、10−(3’−メチルフェニルオキシ)デシル基などの置換または未置換のアリールオキシアルキル基、   For example, phenyloxymethyl group, 4-methylphenyloxymethyl group, 3-methylphenyloxymethyl group, 2-methylphenyloxymethyl group, 4-ethylphenyloxymethyl group, 4-n-propylphenyloxymethyl group, 4 -N-butylphenyloxymethyl group, 4-tert-butylphenyloxymethyl group, 4-n-hexylphenyloxymethyl group, 4-n-octylphenyloxymethyl group, 4-n-decylphenyloxymethyl group, 4 -Methoxyphenyloxymethyl group, 4-ethoxyphenyloxymethyl group, 4-butoxyphenyloxymethyl group, 4-n-pentyloxyphenyloxymethyl group, 4-fluorophenyloxymethyl group, 3-fluorophenyloxymethyl group, 2-Fluorophenyloxymethyl 3,4-difluorophenyloxymethyl group, 4-chlorophenyloxymethyl group, 2-chlorophenyloxymethyl group, 4-phenylphenyloxymethyl group, 1-naphthyloxymethyl group, 2-naphthyloxymethyl group, 2-furyl Oxymethyl group, 1-phenyloxyethyl group, 2-phenyloxyethyl group, 2- (4′-methylphenyloxy) ethyl group, 2- (4′-ethylphenyloxy) ethyl group, 2- (4′- n-hexylphenyloxy) ethyl group, 2- (4′-methoxyphenyloxy) ethyl group, 2- (4′-n-butoxyphenyloxy) ethyl group, 2- (4′-fluorophenyloxy) ethyl group, 2- (4′-chlorophenyloxy) ethyl group, 2- (4′-bromophenyloxy) ethyl group, 2- (1 ′ Naphthyloxy) ethyl group, 2- (2′-naphthyloxy) ethyl group, 2-phenyloxypropyl group, 3-phenyloxypropyl group, 3- (4′-methylphenyloxy) propyl group, 3- (2 ′ -Naphthyloxy) propyl group, 4-phenyloxybutyl group, 4- (2'-ethylphenyloxy) butyl group, 4-phenyloxypentyl group, 5-phenyloxypentyl group, 5- (4'-tert-butyl) Phenyloxy) pentyl group, 6-phenyloxyhexyl group, 6- (2′-chlorophenyloxy) hexyl group, 8-phenyloxyoctyl group, 10-phenyloxydecyl group, 10- (3′-methylphenyloxy) decyl Substituted or unsubstituted aryloxyalkyl groups such as groups,

例えば、ベンジルオキシメチル基、フェネチルオキシメチル基、4−メチルベンジルオキシメチル基、3−メチルベンジルオキシメチル基、4−n−プロピルベンジルオキシメチル基、4−n−オクチルベンジルオキシメチル基、4−メトキシベンジルオキシメチル基、4−エトキシベンジルオキシメチル基、4−n−ブトキシベンジルオキシメチル基、4−フルオロベンジルオキシメチル基、3−フルオロベンジルオキシメチル基、2−フルオロベンジルオキシメチル基、4−クロロベンジルオキシメチル基、4−フェニルベンジルオキシメチル基、2−ベンジルオキシエチル基、2−フェネチルオキシエチル基、2−(4’−メチルベンジルオキシ)エチル基、2−(2’−メチルベンジルオキシ)エチル基、2−(4’−フルオロベンジルオキシ)エチル基、2−(4’−クロロベンジルオキシ)エチル基、3−ベンジルオキシプロピル基、3−(4’−メトキシベンジルオキシ)プロピル基、4−ベンジルオキシブチル基、4−(4’―フェニルベンジルオキシ)ブチル基、5−(4’―メチルベンジルオキシ)ペンチル基、6−ベンジルオキシヘキシル基、8−ベンジルオキシオクチル基などの置換または未置換のアラルキルオキシアルキル基、   For example, benzyloxymethyl group, phenethyloxymethyl group, 4-methylbenzyloxymethyl group, 3-methylbenzyloxymethyl group, 4-n-propylbenzyloxymethyl group, 4-n-octylbenzyloxymethyl group, 4- Methoxybenzyloxymethyl group, 4-ethoxybenzyloxymethyl group, 4-n-butoxybenzyloxymethyl group, 4-fluorobenzyloxymethyl group, 3-fluorobenzyloxymethyl group, 2-fluorobenzyloxymethyl group, 4- Chlorobenzyloxymethyl group, 4-phenylbenzyloxymethyl group, 2-benzyloxyethyl group, 2-phenethyloxyethyl group, 2- (4′-methylbenzyloxy) ethyl group, 2- (2′-methylbenzyloxy) ) Ethyl group, 2- (4′-fluoroben) Ruoxy) ethyl group, 2- (4′-chlorobenzyloxy) ethyl group, 3-benzyloxypropyl group, 3- (4′-methoxybenzyloxy) propyl group, 4-benzyloxybutyl group, 4- (4 ′ A substituted or unsubstituted aralkyloxyalkyl group such as -phenylbenzyloxy) butyl group, 5- (4'-methylbenzyloxy) pentyl group, 6-benzyloxyhexyl group, and 8-benzyloxyoctyl group;

例えば、フルオロメチルオキシメチル基、3−フルオロ−n−プロピルオキシメチル基、6−フルオロ−n−ヘキシルオキシメチル基、トリフルオロメチルオキシメチル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロエチルオキシメチル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−プロピルオキシメチル基、2−ヒドロ−パーフルオロ−2−プロピルオキシメチル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−ブチルオキシメチル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−ペンチルオキシメチル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−ヘキシルオキシメチル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−オクチルオキシメチル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−デシルオキシメチル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−テトラデシルオキシメチル基、2,2−ビス(トリフルオロメチル)プロピルオキシメチル基、3−クロロ−n−プロピルオキシメチル基、2−(8−フルオロ−n−オクチルオキシ)エチル基、2−(1,1−ジヒドロ−パーフルオロエチルオキシ)エチル基、2−(1,1,3−トリヒドロ−パーフルオロ−n−プロピルオキシ)エチル基、2−(1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−ペンチルオキシ)エチル基、2−(6−フルオロ−n−ヘキシルオキシ)エチル基、2−(1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−オクチルオキシ)エチル基、3−(4−フルオロシクロヘキシルオキシ)プロピル基、3−(1,1−ジヒドロ−パーフルオロエチルオキシ)プロピル基、3−(1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−ドデシルオキシ)プロピル基、4−(パーフルオロ−n−ヘキシルオキシ)ブチル基、4−(1,1−ジヒドロ−パーフルオロエチルオキシ)ブチル基、6−(2−クロロエチルオキシ)ヘキシル基、6−(1,1−ジヒドロ−パーフルオロエチルオキシ)ヘキシル基などの直鎖、分岐または環状のハロゲノアルコキシアルキル基を挙げることができる。   For example, fluoromethyloxymethyl group, 3-fluoro-n-propyloxymethyl group, 6-fluoro-n-hexyloxymethyl group, trifluoromethyloxymethyl group, 1,1-dihydro-perfluoroethyloxymethyl group, 1,1-dihydro-perfluoro-n-propyloxymethyl group, 2-hydro-perfluoro-2-propyloxymethyl group, 1,1-dihydro-perfluoro-n-butyloxymethyl group, 1,1- Dihydro-perfluoro-n-pentyloxymethyl group, 1,1-dihydro-perfluoro-n-hexyloxymethyl group, 1,1-dihydro-perfluoro-n-octyloxymethyl group, 1,1-dihydro- Perfluoro-n-decyloxymethyl group, 1,1-dihydro-perfluoro-n-tetradecyl Xymethyl group, 2,2-bis (trifluoromethyl) propyloxymethyl group, 3-chloro-n-propyloxymethyl group, 2- (8-fluoro-n-octyloxy) ethyl group, 2- (1,1 -Dihydro-perfluoroethyloxy) ethyl group, 2- (1,1,3-trihydro-perfluoro-n-propyloxy) ethyl group, 2- (1,1-dihydro-perfluoro-n-pentyloxy) Ethyl group, 2- (6-fluoro-n-hexyloxy) ethyl group, 2- (1,1-dihydro-perfluoro-n-octyloxy) ethyl group, 3- (4-fluorocyclohexyloxy) propyl group, 3- (1,1-dihydro-perfluoroethyloxy) propyl group, 3- (1,1-dihydro-perfluoro-n-dodecyloxy) propyl group 4- (perfluoro-n-hexyloxy) butyl group, 4- (1,1-dihydro-perfluoroethyloxy) butyl group, 6- (2-chloroethyloxy) hexyl group, 6- (1,1- Mention may be made of linear, branched or cyclic halogenoalkoxyalkyl groups such as (dihydro-perfluoroethyloxy) hexyl group.

一般式(A)で表される化合物においてRは、より好ましくは、水素原子、炭素数1〜16の直鎖、分岐または環状のアルキル基、炭素数1〜16の直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、炭素数4〜24の置換または未置換のアリール基、炭素数4〜24の置換または未置換のアリールオキシ基、炭素数5〜24の置換または未置換のアラルキル基、炭素数5〜24の置換または未置換のアラルキルオキシ基、炭素数1〜16の直鎖、分岐または環状のハロゲノアルキル基、炭素数1〜16の直鎖、分岐または環状のハロゲノアルコキシ基、炭素数2〜16の直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、炭素数3〜16の直鎖、分岐または環状のアルコキシアルコキシアルキル基、炭素数5〜24の置換または未置換のアリールオキシアルキル基、炭素数6〜24の置換または未置換のアラルキルオキシアルキル基、あるいは炭素数2〜16の直鎖、分岐または環状のハロゲノアルコキシアルキル基を表す。
一般式(A)で表される化合物においてRは、さらに好ましくは、水素原子、炭素数1〜12の直鎖、分岐または環状のアルキル基、あるいは炭素数6〜16の置換または未置換のアリール基を表し、特に好ましくは、水素原子、炭素数1〜10の直鎖、分岐または環状のアルキル基、あるいは炭素数6〜12の置換または未置換のアリール基を表す。さらに、隣接するR基は互いに結合して、置換している炭素原子と共に、置換または未置換の炭素環式脂肪族環を形成していてもよく、好ましくは、総炭素数4〜20の置換または未置換の炭素環式脂肪族環を形成していてもよく、より好ましくは、総炭素数6〜10の置換または未置換の炭素環式脂肪族環を形成していてもよく、さらに好ましくは、シクロペンタン環またはシクロヘキサン環を形成していてもよい。
In the compound represented by the general formula (A), R is more preferably a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, a linear, branched or cyclic group having 1 to 16 carbon atoms. An alkoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group having 4 to 24 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryloxy group having 4 to 24 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 5 to 24 carbon atoms, a carbon number of 5 to 5 24 substituted or unsubstituted aralkyloxy groups, linear, branched or cyclic halogenoalkyl groups having 1 to 16 carbon atoms, linear, branched or cyclic halogenoalkoxy groups having 1 to 16 carbon atoms, and 2 to 16 carbon atoms A linear, branched or cyclic alkoxyalkyl group, a linear, branched or cyclic alkoxyalkoxyalkyl group having 3 to 16 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryloxy group having 5 to 24 carbon atoms It represents an alkyl group, a substituted or unsubstituted aralkyloxy group having 6 to 24 carbon atoms or straight-chain having 2 to 16 carbon atoms, branched or cyclic halogenoalkoxy group.
In the compound represented by the general formula (A), R is more preferably a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 16 carbon atoms. Particularly preferably a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Further, adjacent R groups may be bonded to each other to form a substituted or unsubstituted carbocyclic aliphatic ring together with a substituted carbon atom, and preferably a substituted group having 4 to 20 carbon atoms in total. Alternatively, an unsubstituted carbocyclic aliphatic ring may be formed, more preferably a substituted or unsubstituted carbocyclic aliphatic ring having 6 to 10 carbon atoms may be formed, and further preferably. May form a cyclopentane ring or a cyclohexane ring.

一般式(A)において、mは0〜8の整数を表し、mが8を表す場合、少なくとも1つのRは水素原子を表す。なお、mが0を表す場合、テトラアザポルフィリン骨格内のピロール環のβ位の全ての炭素原子は、水素原子で置換されていることを表す。mは、より好ましくは、0〜4の整数を表し、さらに好ましくは、4を表す。なお、mが2以上の整数を表す場合、Rは同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。
一般式(A)において、Mは、2個の水素原子、2個の1価の金属原子、2価の金属原子、3価の置換金属原子、4価の置換金属原子、または酸化金属原子を表し、より好ましくは、2個の水素原子、2価の金属原子、または酸化金属原子であり、さらに好ましくは、2価の金属原子、または酸化金属原子である。Mで表される1価の金属原子としては、例えば、Na、K、Liなどを挙げることができる。Mで表される2価の金属原子としては、例えば、Cu、Zn、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Pt、Mn、Mg、Ti、Be、Ca、Ba、Cd、Hg、Pb、Snなどを挙げることができる。Mで表される3価の置換金属原子としては、例えば、Al−F、Al−Cl、Al−Br、Al−I、Ga−F、Ga−Cl、Ga−Br、Ga−I、In−F、In−Cl、In−Br、In−I、Tl−F、Tl−Cl、Tl−Br、Tl−I、Al−C、Al−C(CH)、In−C、In−C(CH)、Mn(OH)、Mn(OC
、Mn[OSi(CH]、Fe−Cl、Ru−Cl、Rh−Clなどを挙げることができる。Mで表される4価の置換金属原子としては、例えば、CrCl、SiCl、SiBr、SiF、SiI、ZrCl、ZrI、GeCl、GeBr、GeF、GeI、SnCl、SnF、SnBr、TiCl、TiBr、TiF、Si(OH)、Ge(OH)、Zr(OH)、Mn(OH)、Sn(OH)、Ti(R000、Cr(R000、Si(R000、Sn(R000、Ge(R000〔式中、R000は、アルキル基、フェニル基、ナフチル基、あるいはその誘導体を表す〕、Si(OR111、Sn(OR111、Ge(OR111、Ti(OR111、Cr(OR111〔式中、R111は、アルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキルアルコキシシリル基、あるいはその誘導体を表す〕、
Sn(SR222、Ge(SR222〔式中、R222は、アルキル基、フェニル基、ナフチル基、あるいはその誘導体を表す〕などを挙げることができる。Mで表される酸化金属原子としては、例えば、VO、MnO、TiOなどを挙げることができる。
In the general formula (A), m represents an integer of 0 to 8, and when m represents 8, at least one R represents a hydrogen atom. In addition, when m represents 0, it represents that all the carbon atoms of the β-position of the pyrrole ring in the tetraazaporphyrin skeleton are substituted with hydrogen atoms. More preferably, m represents an integer of 0 to 4, and more preferably 4. When m represents an integer of 2 or more, R may be the same group or different groups.
In the general formula (A), M represents two hydrogen atoms, two monovalent metal atoms, a divalent metal atom, a trivalent substituted metal atom, a tetravalent substituted metal atom, or a metal oxide atom. And more preferably two hydrogen atoms, a divalent metal atom, or a metal oxide atom, and still more preferably a divalent metal atom or a metal oxide atom. Examples of the monovalent metal atom represented by M include Na, K, and Li. Examples of the divalent metal atom represented by M include Cu, Zn, Fe, Co, Ni, Ru, Rh, Pd, Pt, Mn, Mg, Ti, Be, Ca, Ba, Cd, Hg, and Pb. , Sn and the like. Examples of the trivalent substituted metal atom represented by M include Al—F, Al—Cl, Al—Br, Al—I, Ga—F, Ga—Cl, Ga—Br, Ga—I, and In—. F, In-Cl, In- Br, In-I, Tl-F, Tl-Cl, Tl-Br, Tl-I, Al-C 6 H 5, Al-C 6 H 4 (CH 3), In- C 6 H 5, In-C 6 H 4 (CH 3), Mn (OH), Mn (OC 6 H 5)
, Mn [OSi (CH 3 ) 3 ], Fe—Cl, Ru—Cl, Rh—Cl, and the like. The tetravalent substituted metal atom represented by M, for example, CrCl 2, SiCl 2, SiBr 2, SiF 2, SiI 2, ZrCl 2, ZrI 2, GeCl 2, GeBr 2, GeF 2, GeI 2, SnCl 2 , SnF 2 , SnBr 2 , TiCl 2 , TiBr 2 , TiF 2 , Si (OH) 2 , Ge (OH) 2 , Zr (OH) 2 , Mn (OH) 2 , Sn (OH) 2 , Ti (R) 000 ) 2 , Cr (R 000 ) 2 , Si (R 000 ) 2 , Sn (R 000 ) 2 , Ge (R 000 ) 2 [wherein R 000 represents an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group, or Represents a derivative], Si (OR 111 ) 2 , Sn (OR 111 ) 2 , Ge (OR 111 ) 2 , Ti (OR 111 ) 2 , Cr (OR 111 ) 2 [ In the formula, R 111 represents an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group, a trialkylsilyl group, a dialkylalkoxysilyl group, or a derivative thereof.
Sn (SR 222 ) 2 , Ge (SR 222 ) 2 [wherein R 222 represents an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group, or a derivative thereof]. Examples of the metal oxide atom represented by M include VO, MnO, TiO and the like.

一般式(A)において、Mは、より好ましくは、Cu、Zn、Fe、Co、Ni、Pd、Mn、Mg、VO、TiOであり、さらに好ましくは、Cu、Ni、Pd、VOであり、特に好ましくは、Cu、VOである。
本発明の製造方法に使用するテトラアザポルフィリン化合物としては、より好ましくは、下記一般式(1)で表される化合物である。
In the general formula (A), M is more preferably Cu, Zn, Fe, Co, Ni, Pd, Mn, Mg, VO, TiO, and more preferably Cu, Ni, Pd, VO, Particularly preferred are Cu and VO.
The tetraazaporphyrin compound used in the production method of the present invention is more preferably a compound represented by the following general formula (1).

Figure 2011153277
(式中、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子、シアノ基、ニトロ基、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、置換または未置換のアリール基、置換または未置換のアリールオキシ基、置換または未置換のアラルキル基、置換または未置換のアラルキルオキシ基、直鎖、分岐または環状のハロゲノアルキル基、直鎖、分岐または環状のハロゲノアルコキシ基、置換アミノ基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルコキシアルキル基、置換または未置換のアリールオキシアルキル基、置換または未置換のアラルキルオキシアルキル基、あるいは直鎖、分岐または環状のハロゲノアルコキシアルキル基を表し、Mは2個の水素原子、2個の1価の金属原子、2価の金属原子、3価の置換金属原子、4価の置換金属原子、または酸化金属原子を表す)
Figure 2011153277
Wherein R 1 to R 4 are each independently a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a linear, branched or cyclic alkyl group, a linear, branched or cyclic alkoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group Substituted, unsubstituted aryloxy group, substituted or unsubstituted aralkyl group, substituted or unsubstituted aralkyloxy group, linear, branched or cyclic halogenoalkyl group, linear, branched or cyclic halogenoalkoxy group, substituted Amino group, linear, branched or cyclic alkoxyalkyl group, linear, branched or cyclic alkoxyalkoxyalkyl group, substituted or unsubstituted aryloxyalkyl group, substituted or unsubstituted aralkyloxyalkyl group, or linear, Represents a branched or cyclic halogenoalkoxyalkyl group, and M 1 represents two hydrogen atoms, two monovalent metals. An atom, a divalent metal atom, a trivalent substituted metal atom, a tetravalent substituted metal atom, or a metal oxide atom)

一般式(1)で表される化合物において、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子、シアノ基、ニトロ基、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、置換または未置換のアリール基、置換または未置換のアリールオキシ基、置換または未置換のアラルキル基、置換または未置換のアラルキルオキシ基、直鎖、分岐または環状のハロゲノアルキル基、直鎖、分岐または環状のハロゲノアルコキシ基、置換アミノ基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルコキシアルキル基、置換または未置換のアリールオキシアルキル基、置換または未置換のアラルキルオキシアルキル基、あるいは直鎖、分岐または環状のハロゲノアルコキシアルキル基を表し、好ましくは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜24の直鎖、分岐または環状のアルキル基、炭素数1〜24の直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、炭素数4〜30の置換または未置換のアリール基、炭素数4〜30の置換または未置換のアリールオキシ基、炭素数5〜30の置換または未置換のアラルキル基、炭素数5〜30の置換または未置換のアラルキルオキシ基、炭素数1〜24の直鎖、分岐または環状のハロゲノアルキル基、炭素数1〜24の直鎖、分岐または環状のハロゲノアルコキシ基、炭素数2〜30のN,N−ジ置換アミノ基、炭素数2〜24の直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、炭素数3〜24の直鎖、分岐または環状のアルコキシアルコキシアルキル基、炭素数5〜30の置換または未置換のアリールオキシアルキル基、炭素数6〜30の置換または未置換のアラルキルオキシアルキル基、あるいは炭素数2〜24の直鎖、分岐または環状のハロゲノアルコキシアルキル基を表す。 In the compound represented by the general formula (1), R 1 to R 4 are each independently a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a linear, branched or cyclic alkyl group, a linear, branched or cyclic alkoxy group. Substituted, unsubstituted aryl group, substituted or unsubstituted aryloxy group, substituted or unsubstituted aralkyl group, substituted or unsubstituted aralkyloxy group, linear, branched or cyclic halogenoalkyl group, linear, branched Or a cyclic halogenoalkoxy group, a substituted amino group, a linear, branched or cyclic alkoxyalkyl group, a linear, branched or cyclic alkoxyalkoxyalkyl group, a substituted or unsubstituted aryloxyalkyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl Represents an oxyalkyl group or a linear, branched or cyclic halogenoalkoxyalkyl group, preferably , A hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkoxy group having 1 to 24 carbon atoms, a substitution having 4 to 30 carbon atoms, or An unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group having 4 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 5 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aralkyloxy group having 5 to 30 carbon atoms, C1-C24 linear, branched or cyclic halogenoalkyl group, C1-C24 linear, branched or cyclic halogenoalkoxy group, C2-C30 N, N-disubstituted amino group, carbon A linear, branched or cyclic alkoxyalkyl group having 2 to 24 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkoxyalkoxyalkyl group having 3 to 24 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted aryl having 5 to 30 carbon atoms Kishiarukiru group represents a linear, branched or cyclic halogenoalkoxy group of substituted or unsubstituted aralkyloxy group having 6 to 30 carbon atoms or 2 to 24 carbon atoms.

一般式(1)で表される化合物において、より好ましくは、R〜Rは、水素原子、炭素数1〜16の直鎖、分岐または環状のアルキル基、炭素数1〜16の直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、炭素数4〜24の置換または未置換のアリール基、炭素数4〜24の置換または未置換のアリールオキシ基、炭素数5〜24の置換または未置換のアラルキル基、炭素数5〜24の置換または未置換のアラルキルオキシ基、炭素数1〜16の直鎖、分岐または環状のハロゲノアルキル基、炭素数1〜16の直鎖、分岐または環状のハロゲノアルコキシ基、炭素数2〜16の直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、炭素数3〜16の直鎖、分岐または環状のアルコキシアルコキシアルキル基、炭素数5〜24の置換または未置換のアリールオキシアルキル基、炭素数6〜24の置換または未置換のアラルキルオキシアルキル基、あるいは炭素数2〜16の直鎖、分岐または環状のハロゲノアルコキシアルキル基を表す。 In the compound represented by the general formula (1), more preferably, R 1 to R 4 are a hydrogen atom, a straight chain having 1 to 16 carbon atoms, a branched or cyclic alkyl group, or a straight chain having 1 to 16 carbon atoms. Branched or cyclic alkoxy group, substituted or unsubstituted aryl group having 4 to 24 carbon atoms, substituted or unsubstituted aryloxy group having 4 to 24 carbon atoms, substituted or unsubstituted aralkyl group having 5 to 24 carbon atoms A substituted or unsubstituted aralkyloxy group having 5 to 24 carbon atoms, a linear, branched or cyclic halogenoalkyl group having 1 to 16 carbon atoms, a linear, branched or cyclic halogenoalkoxy group having 1 to 16 carbon atoms, A linear, branched or cyclic alkoxyalkyl group having 2 to 16 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkoxyalkoxyalkyl group having 3 to 16 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 5 to 24 carbon atoms. Lumpur oxyalkyl group represents a linear, branched or cyclic halogenoalkoxy group of substituted or unsubstituted aralkyloxy group having 6 to 24 carbon atoms or 2 to 16 carbon atoms.

一般式(1)で表される化合物において、さらに好ましくは、R〜Rは、炭素数1〜12の直鎖、分岐または環状のアルキル基、あるいは炭素数6〜16の置換または未置換のアリール基を表し、特に好ましくは、炭素数1〜10の直鎖、分岐または環状のアルキル基、あるいは炭素数6〜12の置換または未置換のアリール基を表す。R〜Rで表される直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、置換または未置換のアリール基、置換または未置換のアリールオキシ基、置換または未置換のアラルキル基、置換または未置換のアラルキルオキシ基、直鎖、分岐または環状のハロゲノアルキル基、直鎖、分岐または環状のハロゲノアルコキシ基、置換アミノ基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルコキシアルキル基、置換または未置換のアリールオキシアルキル基、置換または未置換のアラルキルオキシアルキル基、あるいは直鎖、分岐または環状のハロゲノアルコキシアルキル基の具体例としては、
例えば、一般式(A)のRで挙げた直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、置換または未置換のアリール基、置換または未置換のアリールオキシ基、置換または未置換のアラルキル基、置換または未置換のアラルキルオキシ基、直鎖、分岐または環状のハロゲノアルキル基、直鎖、分岐または環状のハロゲノアルコキシ基、置換アミノ基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルコキシアルキル基、置換または未置換のアリールオキシアルキル基、置換または未置換のアラルキルオキシアルキル基、あるいは直鎖、分岐または環状のハロゲノアルコキシアルキル基を挙げることができる。
In the compound represented by the general formula (1), R 1 to R 4 are more preferably a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted group having 6 to 16 carbon atoms. And particularly preferably a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms. A linear, branched or cyclic alkyl group represented by R 1 to R 4 , a linear, branched or cyclic alkoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, substituted or unsubstituted An aralkyl group, a substituted or unsubstituted aralkyloxy group, a linear, branched or cyclic halogenoalkyl group, a linear, branched or cyclic halogenoalkoxy group, a substituted amino group, a linear, branched or cyclic alkoxyalkyl group, Specific examples of the linear, branched or cyclic alkoxyalkoxyalkyl group, the substituted or unsubstituted aryloxyalkyl group, the substituted or unsubstituted aralkyloxyalkyl group, or the linear, branched or cyclic halogenoalkoxyalkyl group include
For example, a linear, branched or cyclic alkyl group, a linear, branched or cyclic alkoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, substituted Or an unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted aralkyloxy group, a linear, branched or cyclic halogenoalkyl group, a linear, branched or cyclic halogenoalkoxy group, a substituted amino group, a linear, branched or cyclic alkoxy List alkyl groups, linear, branched or cyclic alkoxyalkoxyalkyl groups, substituted or unsubstituted aryloxyalkyl groups, substituted or unsubstituted aralkyloxyalkyl groups, or linear, branched or cyclic halogenoalkoxyalkyl groups. Can do.

一般式(1)において、Mは、2個の水素原子、2個の1価の金属原子、2価の金属原子、3価の置換金属原子、4価の置換金属原子、または酸化金属原子を表し、より好ましくは、2個の水素原子、2価の金属原子、または酸化金属原子であり、さらに好ましくは、CuまたはVOである。Mで表される2個の1価の金属原子、2価の金属原子、3価の置換金属原子、4価の置換金属原子、または酸化金属原子の具体例としては、例えば、一般式(A)のMで挙げた2個の1価の金属原子、2価の金属原子、3価の置換金属原子、4価の置換金属原子、または酸化金属原子を挙げることができる。
なお、本発明の製造方法においては、使用するテトラアザポルフィリン化合物は、1種を単独で使用してもよく、あるいは複数を併用してもよい。
また、本明細書においては、一般式(1)で表される化合物は、実際には、下記一般式(1−A)〜一般式(1−D)で表される化合物から選ばれる1種の化合物、または2種以上の異性体から成る混合物を表している〔例えば、Chem.Heterocycl.Comp.,24、1043(1988)、特開平11−43619号公報〕。このような複数の異性体から成る混合物の構造の記載に際しても、本明細書においては、便宜上、例えば、一般式(1)で表される一つの構造式を記載しているものである。
In the general formula (1), M 1 represents two hydrogen atoms, two monovalent metal atoms, a divalent metal atom, a trivalent substituted metal atom, a tetravalent substituted metal atom, or a metal oxide atom. More preferably, they are two hydrogen atoms, a bivalent metal atom, or a metal oxide atom, More preferably, they are Cu or VO. Specific examples of the two monovalent metal atoms, divalent metal atoms, trivalent substituted metal atoms, tetravalent substituted metal atoms, or oxidized metal atoms represented by M 1 include, for example, the general formula ( The two monovalent metal atoms, the bivalent metal atom, the trivalent substituted metal atom, the tetravalent substituted metal atom, or the metal oxide atom mentioned in M of A) can be exemplified.
In addition, in the manufacturing method of this invention, the tetraaza porphyrin compound to be used may be used individually by 1 type, or may use multiple together.
Moreover, in this specification, the compound represented by General formula (1) is actually 1 type chosen from the compound represented by the following general formula (1-A)-general formula (1-D). Or a mixture of two or more isomers [see, for example, Chem. Heterocycl. Comp. , 24, 1043 (1988), JP-A-11-43619]. In describing the structure of such a mixture of a plurality of isomers, in this specification, for example, one structural formula represented by the general formula (1) is described for convenience.

Figure 2011153277

Figure 2011153277

Figure 2011153277
〔式中、R〜R、およびMは、一般式(1)の場合と同じ意味を表す〕
Figure 2011153277

Figure 2011153277

Figure 2011153277
[Wherein R 1 to R 4 and M 1 represent the same meaning as in the general formula (1)]

本発明の製造方法において使用するテトラアザポルフィリン化合物は、例えば、一般式(1−A)〜一般式(1−D)で表される化合物から選ばれる1種の化合物、または2種以上の異性体から成る混合物を使用することができる。なお、本発明の製造方法において使用するテトラアザポルフィリン化合物は、それ自体公知の方法を参考にして製造することができる。すなわち、例えば、米国特許2850505号、英国特許689387号、J.Gen.Chem.USSR,47,1954(1977)、特開2006−321925号公報に記載の方法に従って製造することができる。
本発明の製造方法において使用する脱離基を有するアリール化合物としては、特に限定されるものではないが、好ましくは、一般式(B)で表される化合物である。
The tetraazaporphyrin compound used in the production method of the present invention is, for example, one compound selected from compounds represented by general formula (1-A) to general formula (1-D), or two or more isomers. Mixtures of the body can be used. The tetraazaporphyrin compound used in the production method of the present invention can be produced by referring to a method known per se. That is, for example, US Pat. No. 2,850,505, British Patent No. 689387, J. Pat. Gen. Chem. USSR, 47, 1954 (1977) and JP-A 2006-321925 can be used for the production.
Although it does not specifically limit as an aryl compound which has a leaving group used in the manufacturing method of this invention, Preferably, it is a compound represented by general formula (B).

Figure 2011153277
(式中、Arはアリール基を表し、Xは脱離基を表す)

一般式(B)で表わされる化合物において、Arはアリール基を表し、好ましくは、置換基を有していてもよい炭素数3〜40のアリール基を表し、より好ましくは、置換基を有していてもよい炭素数4〜35のアリール基を表す。Arは置換基を有していてもよく、例えば、フッ素原子、塩素原子、直鎖、分岐、または環状のアルキル基、直鎖、分岐、または環状のアルコキシ基、置換または未置換のアリール基、N,N−ジ置換アミノ基などで置換されていてもよいアリール基を表す。
Arの具体例としては、例えば、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、2−アントラセニル基、9−アントラセニル基、9−メチル−10−アントラセニル基、9−フェニル−10−アントラセニル基、1−フェナントレニル基、2−フェナントレニル基、3−フェナントレニル基、4−フェナントレニル基、9−フェナントレニル基、9−メチル−10−フェナントレニル基、9−フェニル−10−フェナントレニル基、1−メチル−9−フェナントレニル基、1−フェニル−9−フェナントレニル基、2−メチル−9−フェナントレニル基、2−フェニル−9−フェナントレニル基、1,8−ジメチル−9−フェナントレニル基、1,8−ジフェニル−9−フェナントレニル基、2,7−ジメチル−9−フェナントレニル基、2,7−ジフェニル−9−フェナントレニル基、2,7,9−トリメチル−10−フェナントレニル基、2,7,9−トリフェニル−10−フェナントレニル基、4−キノリニル基、1−ピレニル基、4−ピリジニル基、3−ピリジニル基、2−ピリジニル基、3−フラニル基、2−フラニル基、3−チエニル基、2−チエニル基、2−オキサゾリル基、2−チアゾリル基、2−ベンゾオキサゾリル基、2−ベンゾチアゾリル基、2−ベンゾイミダゾリル基、4−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、2−メチルフェニル基、4−エチルフェニル基、3−エチルフェニル基、2−エチルフェニル基、4−n−プロピルフェニル基、4−イソプロピルフェニル基、2−イソプロピルフェニル基、4−n−ブチルフェニル基、4−イソブチルフェニル基、4−sec−ブチルフェニル基、2−sec−ブチルフェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、3−tert−ブチルフェニル基、2−tert−ブチルフェニル基、4−n−ペンチルフェニル基、4−イソペンチルフェニル基、2−ネオペンチルフェニル基、4−tert−ペンチルフェニル基、4−n−ヘキシルフェニル基、4−(2’−エチルブチル)フェニル基、4−n−ヘプチルフェニル基、4−n−オクチルフェニル基、4−(2’−エチルヘキシル)フェニル基、4−tert−オクチルフェニル基、4−n−デシルフェニル基、4−n−ドデシルフェニル基、4−n−テトラデシルフェニル基、4−シクロペンチルフェニル基、4−シクロヘキシルフェニル基、4−(4’−メチルシクロヘキシル)フェニル基、4−(4’−tert−ブチルシクロヘキシル)フェニル基、3−シクロヘキシルフェニル基、2−シクロヘキシルフェニル基、4−エチル−1−ナフチル基、6−n−ブチル−2−ナフチル基、2,4−ジメチルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、2,6−ジメチルフェニル基、2,4−ジエチルフェニル基、2,3,5−トリメチルフェニル基、2,3,6−トリメチルフェニル基、3,4,5−トリメチルフェニル基、2,6−ジエチルフェニル基、2,5−ジイソプロピルフェニル基、2,6−ジイソブチルフェニル基、2,4−ジ−tert−ブチルフェニル基、2,5−ジ−tert−ブチルフェニル基、4,6−ジ−tert−ブチル−2−メチルフェニル基、5−tert−ブチル−2−メチルフェニル基、4−tert−ブチル−2,6−ジメチルフェニル基、4−メトキシフェニル基、3−メトキシフェニル基、2−メトキシフェニル基、4−エトキシフェニル基、3−エトキシフェニル基、2−エトキシフェニル基、4−n−プロポキシフェニル基、3−n−プロポキシフェニル基、4−イソプロポキシフェニル基、3−イソプロポキシフェニル基、2−イソプロポキシフェニル基、4−n−ブトキシフェニル基、4−イソブトキシフェニル基、2−sec−ブトキシフェニル基、4−n−ペンチルオキシフェニル基、4−イソペンチルオキシフェニル基、2−イソペンチルオキシフェニル基、4−ネオペンチルオキシフェニル基、2−ネペンチルオキシフェニル基、4−n−ヘキシルオキシフェニル基、2−(2’−エチルブチルオキシ)フェニル基、4−n−オクチルオキシフェニル基、4−n−デシルオキシフェニル基、4−n−ドデシルオキシフェニル基、4−n−テトラデシルオキシフェニル基、4−シクロヘキシルオキシフェニル基、2−シクロヘキシルオキシフェニル基、2−メトキシ−1−ナフチル基、4−メトキシ−1−ナフチル基、4−n−ブトキシ−1−ナフチル基、5−エトキシ−1−ナフチル基、6−メトキシ−2−ナフチル基、6−エトキシ−2−ナフチル基、6−n−ブトキシ−2−ナフチル基、6−n−ヘキシルオキシ−2−ナフチル基、7−メトキシ−2−ナフチル基、7−n−ブトキシ−2−ナフチル基、2−メチル−4−メトキシフェニル基、2−メチル−5−メトキシフェニル基、3−メチル−5−メトキシフェニル基、3−エチル−5−メトキシフェニル基、2−メトキシ−4−メチルフェニル基、3−メトキシ−4−メチルフェニル基、2,4−ジメトキシフェニル基、2,5−ジメトキシフェニル基、2,6−ジメトキシフェニル基、3,4−ジメトキシフェニル基、3,5−ジメトキシフェニル基、3,5−ジエトキシフェニル基、3,5−ジ−n−ブトキシフェニル基、2−メトキシ−4−エトキシフェニル基、2−メトキシ−6−エトキシフェニル基、3,4,5−トリメトキシフェニル基、4−フェニルフェニル基、3−フェニルフェニル基、2−フェニルフェニル基、4−(4’−メチルフェニル)フェニル基、4−(3’−メチルフェニル)フェニル基、4−(4’−メトキシフェニル)フェニル基、4−(4’−n−ブトキシフェニル)フェニル基、2−(2’−メトキシフェニル)フェニル基、3−メチル−4−フェニルフェニル基、3−メトキシ−4−フェニルフェニル基、4−フルオロフェニル基、3−フルオロフェニル基、2−フルオロフェニル基、3,4−ジフルオロフェニル基、2,4−ジフルオロフェニル基、2,6−ジフルオロフェニル基、2−フルオロ−4−メチルフェニル基、2−メチル−4−フルオロフェニル基、2−クロロフェニル基、4−N,N−ジメチルアミノフェニル基、4−N,N−ジエチルアミノフェニル基、4−N,N−ジフェニルアミノフェニル基、4−N−フェニル−N−(1’−ナフチル)アミノフェニル基、4−(4’−N,N−ジメチルアミノフェニル)フェニル基、4−〔4’−N−フェニル−N−(1”−ナフチル)アミノフェニル〕フェニル基、4−〔4’−N,N−ジ(1”−ナフチル)−アミノフェニル〕フェニル基、ジベンゾチオフェン−3−イル基、3−(N,N−ジフェニルアミノ)ジベンゾチオフェン−6−イル基、3−〔N−フェニル−N−(1’−ナフチル)アミノ〕ジベンゾチオフェン−6−イル基、3−〔N,N−ジ(1’−ナフチル)アミノ〕ジベンゾチオフェン−6−イル基、9H−フルオレン−2−イル基、9,9−ジメチル−9H−フルオレン−2−イル基、9,9−ジ−n−ヘキシル−9H−フルオレン−2−イル基、9,9−ジ−n−オクチル−9H−フルオレン−2−イル基などのアリール基を挙げることができる。
Figure 2011153277
(In the formula, Ar represents an aryl group, and X represents a leaving group)

In the compound represented by the general formula (B), Ar represents an aryl group, preferably an optionally substituted aryl group having 3 to 40 carbon atoms, more preferably a substituent. Represents an optionally substituted aryl group having 4 to 35 carbon atoms. Ar may have a substituent, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a linear, branched, or cyclic alkyl group, a linear, branched, or cyclic alkoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, An aryl group which may be substituted with an N, N-disubstituted amino group or the like is represented.
Specific examples of Ar include, for example, phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 2-anthracenyl group, 9-anthracenyl group, 9-methyl-10-anthracenyl group, 9-phenyl-10-anthracenyl group, 1-phenanthrenyl group, 2-phenanthrenyl group, 3-phenanthrenyl group, 4-phenanthrenyl group, 9-phenanthrenyl group, 9-methyl-10-phenanthrenyl group, 9-phenyl-10-phenanthrenyl group, 1-methyl-9-phenanthrenyl Group, 1-phenyl-9-phenanthrenyl group, 2-methyl-9-phenanthrenyl group, 2-phenyl-9-phenanthrenyl group, 1,8-dimethyl-9-phenanthrenyl group, 1,8-diphenyl-9-phenanthrenyl group 2,7-dimethyl-9-phenanthrenyl group, , 7-diphenyl-9-phenanthrenyl group, 2,7,9-trimethyl-10-phenanthrenyl group, 2,7,9-triphenyl-10-phenanthrenyl group, 4-quinolinyl group, 1-pyrenyl group, 4-pyridinyl group Group, 3-pyridinyl group, 2-pyridinyl group, 3-furanyl group, 2-furanyl group, 3-thienyl group, 2-thienyl group, 2-oxazolyl group, 2-thiazolyl group, 2-benzoxazolyl group, 2-benzothiazolyl group, 2-benzimidazolyl group, 4-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 2-methylphenyl group, 4-ethylphenyl group, 3-ethylphenyl group, 2-ethylphenyl group, 4-n- Propylphenyl group, 4-isopropylphenyl group, 2-isopropylphenyl group, 4-n-butylphenyl group, 4-isobuty Phenyl group, 4-sec-butylphenyl group, 2-sec-butylphenyl group, 4-tert-butylphenyl group, 3-tert-butylphenyl group, 2-tert-butylphenyl group, 4-n-pentylphenyl group 4-isopentylphenyl group, 2-neopentylphenyl group, 4-tert-pentylphenyl group, 4-n-hexylphenyl group, 4- (2′-ethylbutyl) phenyl group, 4-n-heptylphenyl group, 4-n-octylphenyl group, 4- (2′-ethylhexyl) phenyl group, 4-tert-octylphenyl group, 4-n-decylphenyl group, 4-n-dodecylphenyl group, 4-n-tetradecylphenyl Group, 4-cyclopentylphenyl group, 4-cyclohexylphenyl group, 4- (4'-methylcyclohexyl) phenyl Group, 4- (4′-tert-butylcyclohexyl) phenyl group, 3-cyclohexylphenyl group, 2-cyclohexylphenyl group, 4-ethyl-1-naphthyl group, 6-n-butyl-2-naphthyl group, 2, 4-dimethylphenyl group, 3,5-dimethylphenyl group, 2,6-dimethylphenyl group, 2,4-diethylphenyl group, 2,3,5-trimethylphenyl group, 2,3,6-trimethylphenyl group, 3,4,5-trimethylphenyl group, 2,6-diethylphenyl group, 2,5-diisopropylphenyl group, 2,6-diisobutylphenyl group, 2,4-di-tert-butylphenyl group, 2,5- Di-tert-butylphenyl group, 4,6-di-tert-butyl-2-methylphenyl group, 5-tert-butyl-2-methylphenyl group, 4- tert-butyl-2,6-dimethylphenyl group, 4-methoxyphenyl group, 3-methoxyphenyl group, 2-methoxyphenyl group, 4-ethoxyphenyl group, 3-ethoxyphenyl group, 2-ethoxyphenyl group, 4- n-propoxyphenyl group, 3-n-propoxyphenyl group, 4-isopropoxyphenyl group, 3-isopropoxyphenyl group, 2-isopropoxyphenyl group, 4-n-butoxyphenyl group, 4-isobutoxyphenyl group, 2-sec-butoxyphenyl group, 4-n-pentyloxyphenyl group, 4-isopentyloxyphenyl group, 2-isopentyloxyphenyl group, 4-neopentyloxyphenyl group, 2-nepentyloxyphenyl group, 4 -N-hexyloxyphenyl group, 2- (2'-ethylbutyloxy) pheny Group, 4-n-octyloxyphenyl group, 4-n-decyloxyphenyl group, 4-n-dodecyloxyphenyl group, 4-n-tetradecyloxyphenyl group, 4-cyclohexyloxyphenyl group, 2-cyclohexyl Oxyphenyl group, 2-methoxy-1-naphthyl group, 4-methoxy-1-naphthyl group, 4-n-butoxy-1-naphthyl group, 5-ethoxy-1-naphthyl group, 6-methoxy-2-naphthyl group 6-ethoxy-2-naphthyl group, 6-n-butoxy-2-naphthyl group, 6-n-hexyloxy-2-naphthyl group, 7-methoxy-2-naphthyl group, 7-n-butoxy-2- Naphthyl group, 2-methyl-4-methoxyphenyl group, 2-methyl-5-methoxyphenyl group, 3-methyl-5-methoxyphenyl group, 3-ethyl-5-metho Siphenyl group, 2-methoxy-4-methylphenyl group, 3-methoxy-4-methylphenyl group, 2,4-dimethoxyphenyl group, 2,5-dimethoxyphenyl group, 2,6-dimethoxyphenyl group, 3,4 -Dimethoxyphenyl group, 3,5-dimethoxyphenyl group, 3,5-diethoxyphenyl group, 3,5-di-n-butoxyphenyl group, 2-methoxy-4-ethoxyphenyl group, 2-methoxy-6- Ethoxyphenyl group, 3,4,5-trimethoxyphenyl group, 4-phenylphenyl group, 3-phenylphenyl group, 2-phenylphenyl group, 4- (4′-methylphenyl) phenyl group, 4- (3 ′ -Methylphenyl) phenyl group, 4- (4'-methoxyphenyl) phenyl group, 4- (4'-n-butoxyphenyl) phenyl group, 2- (2'-methoxy) Ciphenyl) phenyl group, 3-methyl-4-phenylphenyl group, 3-methoxy-4-phenylphenyl group, 4-fluorophenyl group, 3-fluorophenyl group, 2-fluorophenyl group, 3,4-difluorophenyl group 2,4-difluorophenyl group, 2,6-difluorophenyl group, 2-fluoro-4-methylphenyl group, 2-methyl-4-fluorophenyl group, 2-chlorophenyl group, 4-N, N-dimethylamino Phenyl group, 4-N, N-diethylaminophenyl group, 4-N, N-diphenylaminophenyl group, 4-N-phenyl-N- (1′-naphthyl) aminophenyl group, 4- (4′-N, N-dimethylaminophenyl) phenyl group, 4- [4′-N-phenyl-N- (1 ″ -naphthyl) aminophenyl] phenyl group, 4- [4′- N, N-di (1 ″ -naphthyl) -aminophenyl] phenyl group, dibenzothiophen-3-yl group, 3- (N, N-diphenylamino) dibenzothiophen-6-yl group, 3- [N-phenyl] -N- (1'-naphthyl) amino] dibenzothiophen-6-yl group, 3- [N, N-di (1'-naphthyl) amino] dibenzothiophen-6-yl group, 9H-fluoren-2-yl Group, 9,9-dimethyl-9H-fluoren-2-yl group, 9,9-di-n-hexyl-9H-fluoren-2-yl group, 9,9-di-n-octyl-9H-fluorene- An aryl group such as a 2-yl group can be mentioned.

一般式(B)で表される化合物において、Xは脱離基を表し、好ましくは、ハロゲン原子または−OSO−Rを表す。Xで表される好ましい脱離基であるハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子を表し、より好ましくは、臭素原子、またはヨウ素原子である。Xで表される好ましい脱離基である−OSO−Rにおいて、Rは置換または未置換のアリール基、あるいはハロゲン原子で置換されていてもよい直鎖、分岐または環状のアルキル基を表し、より好ましくは、炭素数6〜10の置換または未置換のアリール基、あるいは炭素数1〜10のハロゲン原子で置換されていてもよい直鎖、分岐または環状のアルキル基を表し、さらに好ましくは、炭素数1〜8のハロゲン原子で置換されていてもよい直鎖、分岐または環状のアルキル基を表す。Rで表される置換または未置換のアリール基の具体例としては、例えば、一般式(B)のArの具体例として挙げたアリール基を挙げることができる。
で表されるハロゲン原子で置換されていてもよい直鎖、分岐または環状のアルキル基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基などのアルキル基、トリフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ジクロロフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、n−ノナフルオロブチル基などのハロゲン原子で置換されたアルキル基を挙げることができる。Xで表される好ましい脱離基である−OSO−Rとしては、より好ましくは、ベンゼンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基である。
In the compound represented by the general formula (B), X represents a leaving group, and preferably represents a halogen atom or —OSO 2 —R 0 . The halogen atom which is a preferable leaving group represented by X represents a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, and more preferably a bromine atom or an iodine atom. In —OSO 2 —R 0 which is a preferred leaving group represented by X, R 0 represents a substituted or unsubstituted aryl group, or a linear, branched or cyclic alkyl group which may be substituted with a halogen atom. More preferably, it represents a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or a linear, branched or cyclic alkyl group which may be substituted with a halogen atom having 1 to 10 carbon atoms, and more preferably Represents a linear, branched or cyclic alkyl group which may be substituted with a halogen atom having 1 to 8 carbon atoms. Specific examples of the substituted or unsubstituted aryl group represented by R 0 include the aryl groups listed as specific examples of Ar in the general formula (B).
Specific examples of the linear, branched or cyclic alkyl group which may be substituted with a halogen atom represented by R 0 include, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, and an n-butyl group. , Isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, n-octyl group, n-decyl group and other alkyl groups, trifluoromethyl group, chlorodifluoromethyl group, dichlorofluoromethyl group, penta Examples thereof include alkyl groups substituted with halogen atoms such as a fluoroethyl group and an n-nonafluorobutyl group. The -OSO 2 -R 0 is the preferred leaving group represented by X, more preferably, a benzene sulfonyloxy group, p- toluenesulfonyloxy group, methanesulfonyloxy group, a trifluoromethanesulfonyloxy group.

脱離基を有するアリール化合物の使用量は特に制限されるものではなく、原料のテトラアザポルフィリン化合物に対して、所望の割合でアリール置換されたテトラアザポルフィリン化合物を製造するに必要な量を使用することができる。例えば、テトラアザポルフィリン化合物に対して、4つのアリール基を導入する場合には、脱離基を有するアリール化合物の使用量は、テトラアザポルフィリン化合物1モルに対して、一般に、2.0〜7.0モル程度使用することが好ましく、3.0〜6.0モル程度使用することがより好ましい。また、テトラアザポルフィリン化合物として、例えば、一般式(A)において、Rが水素原子以外の置換基、例えば、アルキル基、またはアリール基であり、mが4である化合物に対して、4つのアリール基を導入する場合には、脱離基を有するアリール化合物は、大過剰量使用してもよく、例えば、テトラアザポルフィリン化合物1モルに対して、7.0モルを超す量を使用することもできる。   The amount of the aryl compound having a leaving group is not particularly limited, and the amount necessary to produce an aryl-substituted tetraazaporphyrin compound at a desired ratio with respect to the raw material tetraazaporphyrin compound is used. can do. For example, when four aryl groups are introduced into a tetraazaporphyrin compound, the amount of the aryl compound having a leaving group is generally 2.0 to 7 with respect to 1 mol of the tetraazaporphyrin compound. It is preferable to use about 0.0 mol, and more preferably about 3.0 to 6.0 mol. Further, as the tetraazaporphyrin compound, for example, in the general formula (A), R is a substituent other than a hydrogen atom, for example, an alkyl group or an aryl group, and m is 4, When a group is introduced, the aryl compound having a leaving group may be used in a large excess amount. For example, an amount exceeding 7.0 mol may be used per 1 mol of the tetraazaporphyrin compound. it can.

本発明の製造方法において使用する塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどの無機塩基、例えば、ナトリウム−tert−ブトキシド、カリウム−tert−ブトキシド、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、ナトリウム(2,4,6−トリ−tert−ブチルフェノラート)、カリウム(2,4,6−トリ−tert−ブチルフェノラート)、カリウム(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノラート)などの金属アルコキシド、例えば、酢酸カリウム、酢酸ナトリウム、トリエチルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、テトラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン(DBN)、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミンなどの有機塩基などを挙げることができる。   Examples of the base used in the production method of the present invention include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium phosphate, sodium bicarbonate, and potassium bicarbonate, such as sodium. -Tert-butoxide, potassium-tert-butoxide, sodium methoxide, potassium methoxide, sodium ethoxide, potassium ethoxide, sodium (2,4,6-tri-tert-butylphenolate), potassium (2,4,4) Metal alkoxides such as potassium (2,6-di-tert-butyl-4-methylphenolate), potassium acetate, sodium acetate, triethylamine, triisopropylamine, tri- n-Butyl A , Tetra-n-butylammonium bromide, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (DBU), 1,5-diazabicyclo [4.3.0] -5-nonene (DBN), Examples thereof include organic bases such as N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine.

係る塩基は、1種を単独で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。塩基の使用量は特に制限されるものではないが、脱離基を有するアリール化合物1モルに対して、一般に、0.5〜3.0モルであり、好ましくは、0.8〜2.5モル使用する。
本発明の製造方法において使用する遷移金属化合物とは、特に限定されるものではないが、好ましくは、7族〜11族から選択される金属原子を含有する化合物であり、より好ましくは、10族から選択される金属原子を含有する化合物である。10族から選択される金属原子を含有する化合物としては、好ましくは、パラジウム原子を含有する化合物(以下、パラジウム化合物と略記する)、あるいはニッケル原子を含有する化合物(以下、ニッケル化合物と略記する)であり、より好ましくは、パラジウム化合物である。本発明の製造方法において使用する遷移金属化合物としては、特に限定されるものではないが、例えば、パラジウム化合物としては、例えば、塩化パラジウム、臭化パラジウム、ヨウ化パラジウム、酢酸パラジウム、ビス(2,4−ペンタジオナート)パラジウム、KPdCl、KPdCl、KPd(NO、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、ジクロロビス(エチレン)パラジウム、Pd(π−Cなどの無機、有機配位子錯体、例えば、ビス(エチレンジアミン)パラジウムジクロライド、PdCl(NH、PdCl[N(C、Pd(NO(NHなどのN−配位錯体、
例えば、Pd[P(CH、Pd[P(C、Pd[P(n−C、Pd[P(iso−C、Pd[P(n−C、Pd[P(tert−C、Pd[P(Cyc−C11、Pd[P(C、Pd[P(o−CH−C、PdCO[P(C、Pd(C)[P(C、PdCl[P(C、PdCl[P(n−C、PdCl[P(tert−C、PdBr[P(C、PdBr[P(n−C、PdBr[P(tert−C、PdCl[P(OCH、PdBr[P(OCH、PdI[P(OCH、PdCl(C)[P(Cなどの三価のホスフィン配位錯体、さらにはPd/炭素などのパラジウム化合物などを挙げることができる。
Such bases may be used alone or in combination. The amount of the base used is not particularly limited, but is generally 0.5 to 3.0 mol, preferably 0.8 to 2.5, per 1 mol of the aryl compound having a leaving group. Use mol.
The transition metal compound used in the production method of the present invention is not particularly limited, but is preferably a compound containing a metal atom selected from Group 7 to Group 11, more preferably Group 10 It is a compound containing the metal atom selected from these. The compound containing a metal atom selected from Group 10 is preferably a compound containing a palladium atom (hereinafter abbreviated as a palladium compound) or a compound containing a nickel atom (hereinafter abbreviated as a nickel compound). More preferably, it is a palladium compound. The transition metal compound used in the production method of the present invention is not particularly limited. For example, examples of the palladium compound include palladium chloride, palladium bromide, palladium iodide, palladium acetate, bis (2, 4-pentadionate) palladium, K 2 PdCl 4 , K 2 PdCl 6 , K 2 Pd (NO 3 ) 4 , tris (dibenzylideneacetone) dipalladium, dichlorobis (ethylene) palladium, Pd (π-C 5 H 5 ) Inorganic and organic ligand complexes such as 2 , for example, bis (ethylenediamine) palladium dichloride, PdCl 2 (NH 3 ) 2 , PdCl 2 [N (C 2 H 5 ) 3 ] 2 , Pd (NO 3 ) 2 ( NH 3), such as 6 N-coordination complexes,
For example, Pd [P (CH 3 ) 3 ] 4 , Pd [P (C 2 H 5 ) 3 ] 4 , Pd [P (n-C 3 H 7 ) 3 ] 4 , Pd [P (iso-C 3 H) 7) 3] 4, Pd [ P (n-C 4 H 9) 3] 4, Pd [P (tert-C 4 H 9) 3] 4, Pd [P (Cyc-C 6 H 11) 3] 4 , Pd [P (C 6 H 5) 3] 4, Pd [P (o-CH 3 -C 6 H 4) 3] 4, PdCO 2 [P (C 6 H 5) 3] 4, Pd (C 2 H 4) [P (C 6 H 5) 3] 2, PdCl 2 [P (C 6 H 5) 3] 2, PdCl 2 [P (n-C 4 H 9) 3] 2, PdCl 2 [P ( tert-C 4 H 9) 3 ] 2, PdBr 2 [P (C 6 H 5) 3] 2, PdBr 2 [P (n-C 4 H 9) 3] 2, P Br 2 [P (tert-C 4 H 9) 3] 2, PdCl 2 [P (OCH 3) 3] 2, PdBr 2 [P (OCH 3) 3] 2, PdI 2 [P (OCH 3) 3] 2 , trivalent phosphine coordination complexes such as PdCl (C 6 H 5 ) [P (C 6 H 5 ) 3 ] 2, and palladium compounds such as Pd / carbon.

また、ニッケル化合物としては、例えば、塩化ニッケル、臭化ニッケル、ビス(2,4−ペンタジオナート)ニッケルなどの無機、有機配位子錯体、例えば、Ni[P(C、NiCl[P(Cなどの三価のホスフィン配位錯体などのニッケル化合物などを挙げることができる。係る遷移金属化合物は、1種を単独で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。遷移金属化合物の使用量は特に制限されるものではないが、いわゆる触媒量使用すればよく、脱離基を有するアリール化合物1モルに対して、一般に、30モル%以下であり、好ましくは、20モル%以下であり、より好ましくは、0.0001〜15モル%使用する。
本発明の製造方法においては、テトラアザポルフィリン化合物、脱離基を有するアリール化合物、塩基、および遷移金属化合物を使用して、アリール置換テトラアザポルフィリン化合物を製造する方法であるが、反応促進などの目的で、さらにリン配位子を存在させて実施することは好ましいことである。リン配位子としては、特に限定するものではないが、例えば、一般式(C)または一般式(D)で表される化合物を挙げることができる。
Examples of the nickel compound include inorganic and organic ligand complexes such as nickel chloride, nickel bromide, and bis (2,4-pentadionate) nickel, such as Ni [P (C 6 H 5 ) 3 ]. 4 , nickel compounds such as trivalent phosphine coordination complexes such as NiCl 2 [P (C 6 H 5 ) 3 ] 2 . Such transition metal compounds may be used alone or in combination. The amount of the transition metal compound used is not particularly limited, but a so-called catalytic amount may be used, and is generally 30 mol% or less, preferably 20 mol per mol of the aryl compound having a leaving group. It is less than mol%, and more preferably 0.0001-15 mol% is used.
The production method of the present invention is a method for producing an aryl-substituted tetraazaporphyrin compound using a tetraazaporphyrin compound, an aryl compound having a leaving group, a base, and a transition metal compound. For the purpose, it is preferable to carry out the reaction in the presence of a phosphorus ligand. Although it does not specifically limit as a phosphorus ligand, For example, the compound represented by general formula (C) or general formula (D) can be mentioned.

Figure 2011153277
(式中、R11〜R13はそれぞれ独立に、直鎖、分岐または環状のアルキル基、置換または未置換のアリール基、あるいは置換または未置換のアラルキル基を表す)
Figure 2011153277
(Wherein R 11 to R 13 each independently represents a linear, branched or cyclic alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted aralkyl group)

Figure 2011153277
(式中、R14〜R17はそれぞれ独立に、直鎖、分岐または環状のアルキル基、置換または未置換のアリール基、あるいは置換または未置換のアラルキル基を表し、Zは連結基を表す)
一般式(C)および一般式(D)において、R11〜R17はそれぞれ独立に、直鎖、分岐または環状のアルキル基、置換または未置換のアリール基、あるいは置換または未置換のアラルキル基を表し、より好ましくは、直鎖、分岐または環状のアルキル基、あるいは置換または未置換のアリール基である。一般式(C)および一般式(D)において、R11〜R17で表される直鎖、分岐または環状のアルキル基としては、好ましくは、炭素数1〜24の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。R11〜R17で表される直鎖、分岐または環状のアルキル基の具体例としては、例えば、一般式(A)のRで例示した直鎖、分岐または環状のアルキル基を挙げることができる。R11〜R17で表される直鎖、分岐または環状のアルキル基としては、より好ましくは、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などの炭素数1〜10の直鎖、分岐または環状のアルキル基を挙げることができる。
Figure 2011153277
(Wherein R 14 to R 17 each independently represents a linear, branched or cyclic alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted aralkyl group, and Z represents a linking group)
In General Formula (C) and General Formula (D), R 11 to R 17 are each independently a linear, branched or cyclic alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted aralkyl group. And more preferably a linear, branched or cyclic alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. In the general formula (C) and the general formula (D), the linear, branched or cyclic alkyl group represented by R 11 to R 17 is preferably a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 24 carbon atoms. It is an alkyl group. Specific examples of the linear, branched or cyclic alkyl group represented by R 11 to R 17 include, for example, the linear, branched or cyclic alkyl group exemplified for R in the general formula (A). . The linear, branched or cyclic alkyl group represented by R 11 to R 17 is more preferably, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, or a tert-butyl group. , N-hexyl group, n-octyl group, n-decyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like, and straight-chain, branched or cyclic alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms.

一般式(C)および一般式(D)において、R11〜R17で表される置換または未置換のアリール基としては、好ましくは、炭素数4〜30の置換または未置換のアリール基である。 R11〜R17で表される置換または未置換のアリール基の具体例としては、例えば、一般式(A)のRで例示した置換または未置換のアリール基を挙げることができる。R11〜R17で表される置換または未置換のアリール基としては、より好ましくは、例えば、フェニル基、4−メチルフェニル基、2−メトキシフェニル基、1−ナフチル基などの炭素数6〜10の置換または未置換のアリール基を挙げることができる。
一般式(C)および一般式(D)において、R11〜R17で表される置換または未置換のアラルキル基としては、好ましくは、炭素数5〜30の置換または未置換のアラルキル基である。R11〜R17で表される置換または未置換のアラルキル基の具体例としては、例えば、一般式(A)のRで例示した置換または未置換のアラルキル基を挙げることができる。R11〜R17で表される置換または未置換のアラルキル基としては、より好ましくは、例えば、ベンジル基、4−メチルベンジル基などの炭素数7〜10の置換または未置換のアラルキル基を挙げることができる。
In general formula (C) and general formula (D), the substituted or unsubstituted aryl group represented by R 11 to R 17 is preferably a substituted or unsubstituted aryl group having 4 to 30 carbon atoms. . Specific examples of the substituted or unsubstituted aryl group represented by R 11 to R 17 include the substituted or unsubstituted aryl group exemplified for R in the general formula (A). More preferably, the substituted or unsubstituted aryl group represented by R 11 to R 17 has, for example, 6 to 6 carbon atoms such as a phenyl group, a 4-methylphenyl group, a 2-methoxyphenyl group, and a 1-naphthyl group. There may be mentioned 10 substituted or unsubstituted aryl groups.
In general formula (C) and general formula (D), the substituted or unsubstituted aralkyl group represented by R 11 to R 17 is preferably a substituted or unsubstituted aralkyl group having 5 to 30 carbon atoms. . Specific examples of the substituted or unsubstituted aralkyl group represented by R 11 to R 17 include a substituted or unsubstituted aralkyl group exemplified for R in the general formula (A). More preferably, the substituted or unsubstituted aralkyl group represented by R 11 to R 17 includes, for example, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms such as a benzyl group and a 4-methylbenzyl group. be able to.

一般式(D)において、Zは連結基を表し、好ましくは、直鎖、分岐、または環状のアルキレン基、芳香族環を含有するアルキレン基、あるいは置換または未置換のアリーレン基を表し、より好ましくは、炭素数1〜10の直鎖、分岐または環状のアルキレン基、炭素数8〜10の芳香族環を含有するアルキレン基、あるいは炭素数6〜30の置換または未置換のアリーレン基を表し、さらに好ましくは、炭素数2〜8の直鎖、分岐または環状のアルキレン基、炭素数8〜10の芳香族環を含有するアルキレン基、あるいは炭素数6〜20の置換または未置換のアリーレン基を表す。Zで表される好ましい連結基である直鎖、分岐、または環状のアルキレン基の具体例としては、例えば、メチレン基、1,2−エチレン基、1,3−プロピレン基、1,4−ブチレン基、1,5−ペンチレン基、1,6−ヘキシレン基、1,7−ヘプチレン基、1,8−オクチレン基、1,9−ノニレン基、1,10−デシレン基、1,2−プロピレン基、2,3−ブチレン基、2,5−ヘキシレン基、1,4−シクロヘキシレン基などを挙げることができる。Zで表される好ましい連結基である芳香族環を含有するアルキレン基の具体例としては、例えば、1,4−キシリレン基、1,3−キシリレン基、1,2−キシリレン基などを挙げることができ、より好ましくは、1,3−キシリレン基、1,2−キシリレン基である。Zで表される好ましい連結基である置換または未置換のアリーレン基の具体例としては、例えば、1,2−フェニレン基、1,1’−ビナフチル−2,2’−ジイル基、9,9−ジメチル−キサンテン−4,5−ジイル基、ベンゾフェノン−2,2’−ジイル基、ジフェニルエーテル−2,2’−ジイル基、フェロセン−1,1’−ジイル基などを挙げることができる。好ましいリン配位子である一般式(C)で表される化合物としては、例えば、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリ−n−プロピルホスフィン、トリイソプロピルホスフィン、トリ−n−ブチルホスフィン、トリイソブチルホスフィン、トリ−tert−ブチルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリシクロペンチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、ジ−tert−ブチルメチルホスフィン、tert−ブチルジシクロヘキシルホスフィン、tert−ブチルジイソプロピルホスフィン、ジ−tert−ブチルネオペンチルホスフィン、トリベンジルホスフィン、トリス(4−メチルベンジル)ホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリ(1−ナフチル)ホスフィン、トリス(2−フリル)ホスフィン、ジフェニル−2−ピリジルホスフィン、トリ(4−メチルフェニル)ホスフィン、トリ(3−メチルフェニル)ホスフィン、トリ(2−メチルフェニル)ホスフィン、トリ(2,4,6−トリメチルフェニル)ホスフィン、ジフェニル(4−メチルフェニル)ホスフィン、ジフェニル(2−メチルフェニル)ホスフィン、トリス(4−メトキシフェニル)ホスフィン、トリス(2,6−ジメトキシフェニル)ホスフィン、トリス(2,4,6−トリメトキシフェニル)ホスフィン、ジフェニル(2−メトキシフェニル)ホスフィン、トリス(4−フルオロフェニル)ホスフィン、トリス(4−クロロフェニル)ホスフィン、トリス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィン、トリス(3,5−ビストリフルオロメチルフェニル)ホスフィン、トリス(ペンタフルオロフェニル)ホスフィン、ジフェニル−2−ピリジルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、エチルジフェニルホスフィン、ジエチルフェニルホスフィン、n−プロピルジフェニルホスフィン、ジ−n−プロピルフェニルホスフィン、イソプロピルジフェニルホスフィン、ジイソプロピルフェニルホスフィン、n−ブチルジフェニルホスフィン、ジ−n−ブチルフェニルホスフィン、tert−ブチルジフェニルホスフィン、ジ−tert−ブチルフェニルホスフィン、n−ヘキシルジフェニルホスフィン、ジ−n−ヘキシルフェニルホスフィン、n−オクチルジフェニルホスフィン、ジ−n−オクチルフェニルホスフィン、シクロヘキシルジフェニルホスフィン、ジシクロヘキシルフェニルホスフィン、ジ−tert−ブチル−(2−フェニルフェニル)ホスフィン、ジ−tert−ブチル−(2−シクロヘキシルフェニル)ホスフィン、ジ−tert−ブチル−〔2−(2’−ジメチルアミノフェニル)フェニル〕ホスフィン、ジシクロヘキシル(2−フェニルフェニル)ホスフィン、ジシクロヘキシル(2−シクロヘキシルフェニル)ホスフィン、ジシクロヘキシル〔2−(2’−ジメチルアミノ)フェニル〕ホスフィン、ジシクロヘキシル〔2−(2’−メチルフェニル)フェニル〕ホスフィン、ジシクロヘキシル〔2−(2’−イソプロピルフェニル)フェニル〕ホスフィン、ベンジルジフェニルホスフィンなどを挙げることができる。   In the general formula (D), Z represents a linking group, and preferably represents a linear, branched, or cyclic alkylene group, an alkylene group containing an aromatic ring, or a substituted or unsubstituted arylene group, more preferably. Represents a linear, branched or cyclic alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, an alkylene group containing an aromatic ring having 8 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 30 carbon atoms, More preferably, a linear, branched or cyclic alkylene group having 2 to 8 carbon atoms, an alkylene group containing an aromatic ring having 8 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 20 carbon atoms. To express. Specific examples of the linear, branched, or cyclic alkylene group that is a preferable linking group represented by Z include, for example, a methylene group, a 1,2-ethylene group, a 1,3-propylene group, and 1,4-butylene. Group, 1,5-pentylene group, 1,6-hexylene group, 1,7-heptylene group, 1,8-octylene group, 1,9-nonylene group, 1,10-decylene group, 1,2-propylene group 2,3-butylene group, 2,5-hexylene group, 1,4-cyclohexylene group and the like. Specific examples of the alkylene group containing an aromatic ring which is a preferred linking group represented by Z include, for example, 1,4-xylylene group, 1,3-xylylene group, 1,2-xylylene group and the like. More preferred are a 1,3-xylylene group and a 1,2-xylylene group. Specific examples of the substituted or unsubstituted arylene group which is a preferable linking group represented by Z include, for example, 1,2-phenylene group, 1,1′-binaphthyl-2,2′-diyl group, 9,9 -Dimethyl-xanthene-4,5-diyl group, benzophenone-2,2'-diyl group, diphenyl ether-2,2'-diyl group, ferrocene-1,1'-diyl group and the like. Examples of the compound represented by the general formula (C) which is a preferable phosphorus ligand include trimethylphosphine, triethylphosphine, tri-n-propylphosphine, triisopropylphosphine, tri-n-butylphosphine, triisobutylphosphine, Tri-tert-butylphosphine, trioctylphosphine, tricyclopentylphosphine, tricyclohexylphosphine, di-tert-butylmethylphosphine, tert-butyldicyclohexylphosphine, tert-butyldiisopropylphosphine, di-tert-butylneopentylphosphine, tribenzyl Phosphine, tris (4-methylbenzyl) phosphine, triphenylphosphine, tri (1-naphthyl) phosphine, tris (2-furyl) phosphine, di Enyl-2-pyridylphosphine, tri (4-methylphenyl) phosphine, tri (3-methylphenyl) phosphine, tri (2-methylphenyl) phosphine, tri (2,4,6-trimethylphenyl) phosphine, diphenyl (4 -Methylphenyl) phosphine, diphenyl (2-methylphenyl) phosphine, tris (4-methoxyphenyl) phosphine, tris (2,6-dimethoxyphenyl) phosphine, tris (2,4,6-trimethoxyphenyl) phosphine, diphenyl (2-methoxyphenyl) phosphine, tris (4-fluorophenyl) phosphine, tris (4-chlorophenyl) phosphine, tris (4-trifluoromethylphenyl) phosphine, tris (3,5-bistrifluoromethylphenyl) phosphi , Tris (pentafluorophenyl) phosphine, diphenyl-2-pyridylphosphine, methyldiphenylphosphine, dimethylphenylphosphine, ethyldiphenylphosphine, diethylphenylphosphine, n-propyldiphenylphosphine, di-n-propylphenylphosphine, isopropyldiphenylphosphine, Diisopropylphenylphosphine, n-butyldiphenylphosphine, di-n-butylphenylphosphine, tert-butyldiphenylphosphine, di-tert-butylphenylphosphine, n-hexyldiphenylphosphine, di-n-hexylphenylphosphine, n-octyldiphenyl Phosphine, di-n-octylphenylphosphine, cyclohexyldiphenylphosphine, dicyclohexyl Ruphenylphosphine, di-tert-butyl- (2-phenylphenyl) phosphine, di-tert-butyl- (2-cyclohexylphenyl) phosphine, di-tert-butyl- [2- (2′-dimethylaminophenyl) phenyl ] Phosphine, dicyclohexyl (2-phenylphenyl) phosphine, dicyclohexyl (2-cyclohexylphenyl) phosphine, dicyclohexyl [2- (2′-dimethylamino) phenyl] phosphine, dicyclohexyl [2- (2′-methylphenyl) phenyl] phosphine , Dicyclohexyl [2- (2′-isopropylphenyl) phenyl] phosphine, benzyldiphenylphosphine, and the like.

好ましいリン配位子である一般式(D)で表される化合物としては、例えば、ビス(ジメチルホスフィノ)メタン、1,2−ビス(ジメチルホスフィノ)エタン、1,2−ビス(ジエチルホスフィノ)エタン、1,3−ビス(ジメチルホスフィノ)プロパン、1,3−ビス(ジエチルホスフィノ)プロパン、1,4−ビス(ジメチルホスフィノ)ブタン、1,2−ビス(ジ−tert−ブチルホスフィノ)エタン、1,3−ビス(ジ−tert−ブチルホスフィノ)プロパン、1,4−ビス(ジ−tert−ブチルホスフィノ)ブタン、ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)メタン、1,2−ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)エタン、1,3−ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)プロパン、1,4−ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)ブタン、(2R,3R)−ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)ブタン、(2S,3S)−ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)ブタン、ビス(ジフェニルホスフィノ)メタン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、1,5−ビス(ジフェニルホスフィノ)ペンタン、1,6−ビス(ジフェニルホスフィノ)ヘキサン、1,2−ビス(ジ−tert−ブチルホスフィノメチル)ベンゼン、1,2−ビス(ジシクロヘキシルホスフィノメチル)ベンゼン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノメチル)ベンゼン、1,3−ビス(ジ−tert−ブチルホスフィノメチル)ベンゼン、1,3−ビス(ジシクロペンチルホスフィノメチル)ベンゼン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)ベンゼン、1,3−ビス(ジ−tert−ブチルホスフィノ)ベンゼン、2,2’−ビス(ジ−tert−ブチルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル、2,2’−ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル、2,2’−ビス(4”−メチルフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル、9,9−ジメチル−4,5−ビス(ジ−tert−ブチルホスフィノ)キサンテン、9,9−ジメチル−4,5−ビス(ジフェニルホスフィノ)キサンテン、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)ベンゾフェノン、2,2’−ビス(ジ−tert−ブチルホスフィノ)ジフェニルエーテル、2,2’−ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)ジフェニルエーテル、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)ジフェニルエーテル、1,1’−ビス(ジ−tert−ブチルホスフィノ)フェロセン、1,1’−ビス(ジイソプロピルホスフィノ)フェロセン、1,1’−ビス(ジメチルホスフィノ)フェロセンなどを挙げることができる。   Examples of the compound represented by the general formula (D) which is a preferable phosphorus ligand include bis (dimethylphosphino) methane, 1,2-bis (dimethylphosphino) ethane, and 1,2-bis (diethylphosphine). Fino) ethane, 1,3-bis (dimethylphosphino) propane, 1,3-bis (diethylphosphino) propane, 1,4-bis (dimethylphosphino) butane, 1,2-bis (di-tert-) Butylphosphino) ethane, 1,3-bis (di-tert-butylphosphino) propane, 1,4-bis (di-tert-butylphosphino) butane, bis (dicyclohexylphosphino) methane, 1,2- Bis (dicyclohexylphosphino) ethane, 1,3-bis (dicyclohexylphosphino) propane, 1,4-bis (dicyclohexylphosphino) Tan, (2R, 3R) -bis (dicyclohexylphosphino) butane, (2S, 3S) -bis (dicyclohexylphosphino) butane, bis (diphenylphosphino) methane, 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane, 1,3-bis (diphenylphosphino) propane, 1,4-bis (diphenylphosphino) butane, 1,5-bis (diphenylphosphino) pentane, 1,6-bis (diphenylphosphino) hexane, 1, 2-bis (di-tert-butylphosphinomethyl) benzene, 1,2-bis (dicyclohexylphosphinomethyl) benzene, 1,2-bis (diphenylphosphinomethyl) benzene, 1,3-bis (di-tert) -Butylphosphinomethyl) benzene, 1,3-bis (dicyclopentylphosphinomethyl) benzene, 1,2-bis ( Diphenylphosphino) benzene, 1,3-bis (di-tert-butylphosphino) benzene, 2,2′-bis (di-tert-butylphosphino) -1,1′-binaphthyl, 2,2′- Bis (dicyclohexylphosphino) -1,1′-binaphthyl, 2,2′-bis (diphenylphosphino) -1,1′-binaphthyl, 2,2′-bis (4 ″ -methylphenylphosphino) -1 , 1′-binaphthyl, 9,9-dimethyl-4,5-bis (di-tert-butylphosphino) xanthene, 9,9-dimethyl-4,5-bis (diphenylphosphino) xanthene, 2,2 ′ -Bis (diphenylphosphino) benzophenone, 2,2'-bis (di-tert-butylphosphino) diphenyl ether, 2,2'-bis (dicyclohexylphosphite) ) Diphenyl ether, 2,2′-bis (diphenylphosphino) diphenyl ether, 1,1′-bis (di-tert-butylphosphino) ferrocene, 1,1′-bis (diisopropylphosphino) ferrocene, 1,1 ′ -Bis (dimethylphosphino) ferrocene etc. can be mentioned.

本発明の製造方法において、リン配位子として一般式(C)および一般式(D)で表される化合物は、1種を単独で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。なお、リン配位子の使用量に関しては、特に制限するものではないが、一般には、遷移金属化合物とリン配位子の比率は、遷移金属化合物がパラジウム化合物である場合には、パラジウム原子とリン原子の比に換算して、1:0.001〜1:20程度、好ましくは、1:0.01〜1:4程度である。また、リン配位子は、一部は市販の試薬として入手可能であり、また、例えば、J.Org.Chem.,65、1158(2000)、J.Amer.Chem.Soc.,120、7369(1998)、J.Amer.Chem.Soc.,121、4369(1999)などに記載の方法により製造することができる。
本発明の製造方法は、有機溶媒の非存在下で実施することも可能であるが、所望により有機溶媒の存在下で実施することができる。係る有機溶媒としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、オクタン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素溶媒、ベンゼン、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン、混合キシレン、メシチレン、クメン、プソイドクメン、テトラリンなどの芳香族炭化水素溶媒、例えば、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジイソブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、アニソール、ジフェニルエーテルなどのエーテル系溶媒、例えば、ジメチルスルフォキサイド、スルフォラン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、アセトニトリル、プロピオニトリルなどの非プロトン性極性溶媒などの有機溶媒を挙げることができ、より好ましくは、非プロトン性極性溶媒である。これらの有機溶媒は、1種を単独で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。
In the production method of the present invention, as the phosphorus ligand, the compounds represented by the general formula (C) and the general formula (D) may be used singly or in combination. The amount of phosphorus ligand used is not particularly limited, but in general, the ratio of the transition metal compound to the phosphorus ligand is the same as the palladium atom when the transition metal compound is a palladium compound. In terms of the ratio of phosphorus atoms, it is about 1: 0.001 to 1:20, preferably about 1: 0.01 to 1: 4. Some of the phosphorus ligands are available as commercially available reagents. Org. Chem. , 65, 1158 (2000), J. Am. Amer. Chem. Soc. , 120, 7369 (1998), J. Am. Amer. Chem. Soc. 121, 4369 (1999) and the like.
The production method of the present invention can be carried out in the absence of an organic solvent, but can be carried out in the presence of an organic solvent if desired. Examples of the organic solvent include aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, octane, and cyclohexane, benzene, toluene, o-xylene, m-xylene, p-xylene, mixed xylene, mesitylene, cumene, pseudocumene, tetralin, and the like. Aromatic hydrocarbon solvents such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diisopropyl ether, diisobutyl ether, cyclopentyl methyl ether, anisole, diphenyl ether and the like, for example, Dimethyl sulfoxide, sulfolane, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolide , 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, it may be mentioned acetonitrile, an organic solvent such as an aprotic polar solvent such as propionitrile, more preferably an aprotic polar solvent. These organic solvents may be used alone or in combination.

本発明の製造方法において、所望により使用する有機溶媒の使用量は、特に制限されるものではないが、脱離基を有する芳香族化合物の濃度が、一般には、0.1M〜5Mとなる量、より好ましくは、0.25M〜2Mとなる量に調製する。本発明の製造方法を実施する場合、テトラアザポルフィリン化合物、脱離基を有するアリール化合物、塩基、および遷移金属化合物、さらに所望により使用するリン配位子の供給方法に関しては、特に制限されるものではないが、例えば、(1)テトラアザポルフィリン化合物、塩基、および遷移金属化合物、所望により使用するリン配位子の混合物を、所望により、有機溶媒存在下、撹拌、混合し、その後、脱離基を有するアリール化合物を供給する方法、
(2)テトラアザポルフィリン化合物、塩基、および遷移金属化合物、脱離基を有するアリール化合物の混合物を、所望により、有機溶媒存在下、撹拌、混合し、その後、所望により使用するリン配位子を供給する方法、
(3)テトラアザポルフィリン化合物、脱離基を有するアリール化合物、塩基、および遷移金属化合物、所望により使用するリン配位子を一括で挿入し、所望により、有機溶媒存在下、撹拌、混合して反応を実施する方法、などを適用することができる。
In the production method of the present invention, the amount of the organic solvent used as desired is not particularly limited, but the amount of the aromatic compound having a leaving group is generally 0.1M to 5M. More preferably, the amount is adjusted to 0.25M to 2M. When the production method of the present invention is carried out, the tetraazaporphyrin compound, the aryl compound having a leaving group, the base, and the transition metal compound, and the method for supplying the phosphorus ligand to be used as desired are particularly limited. However, for example, (1) a mixture of a tetraazaporphyrin compound, a base, and a transition metal compound, and a phosphorus ligand to be used, if necessary, is stirred and mixed in the presence of an organic solvent, and then eliminated. A method for supplying an aryl compound having a group,
(2) A mixture of a tetraazaporphyrin compound, a base, a transition metal compound, and an aryl compound having a leaving group is stirred and mixed in the presence of an organic solvent, if desired, and then a phosphorus ligand to be used is optionally added. Supply method,
(3) A tetraazaporphyrin compound, an aryl compound having a leaving group, a base, and a transition metal compound, and a phosphorus ligand to be used as required are inserted all together, and if desired, stirred and mixed in the presence of an organic solvent. Methods for carrying out the reaction, etc. can be applied.

本発明の製造方法は、大気雰囲気下で実施することができるが、一般には、不活性ガス(例えば、窒素、アルゴン、ヘリウム)存在下で実施することが好ましい。また、反応温度は、好ましくは、室温〜200℃程度、より好ましくは、50〜180℃程度で実施する。また、反応は、常圧で実施してもよく、また、必要に応じ、減圧または加圧条件下で実施することも可能である。好ましくは、常圧で実施する。本発明の製造方法を実施するに際して、使用する反応装置の種類、形態に関しては特に限定するものではないが、一般には、槽型、管型、塔型の反応装置を用いることができる。また、製造工程を、回分式(バッチ式)で実施することができ、さらには、連続的に実施することも可能である。また、製造に使用する反応装置は、様々な撹拌装置を備えることができる。係る撹拌装置としては、例えば、パドル型撹拌機、プロペラ型撹拌機、タービン型撹拌機、ホモジナイザー、ホモミキサー、ラインミキサー、ラインホモミキサーなどの高速撹拌機、さらにはスタティックミキサー、コロイドミル、オリフィスミキサー、フロージェットミキサーなどを挙げることができる。なお、反応の進行は、薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィーなどの方法で追跡することができる。本発明の方法により製造されるアリール置換テトラアザポルフィリン化合物は、反応終了後、例えば、必要に応じ、有機溶媒を留去した後、生成物はクロマトグラフィー法、再結晶法などの一般に公知の方法により単離精製することができる。また、生成物の構造は、元素分析、MS(FD−MS)分析、IR分析、H−NMR、13C−NMRなどの各種分析方法により同定することができる。 The production method of the present invention can be carried out in an air atmosphere, but in general, it is preferably carried out in the presence of an inert gas (for example, nitrogen, argon, helium). The reaction temperature is preferably about room temperature to about 200 ° C, more preferably about 50 to 180 ° C. In addition, the reaction may be carried out at normal pressure, and, if necessary, can be carried out under reduced pressure or pressurized conditions. Preferably, it is carried out at normal pressure. In carrying out the production method of the present invention, the type and form of the reaction apparatus to be used are not particularly limited, but generally tank-type, tube-type and tower-type reaction apparatuses can be used. Moreover, a manufacturing process can be implemented by a batch type (batch type), and also can be implemented continuously. Moreover, the reaction apparatus used for manufacture can be equipped with various stirring apparatuses. Such stirrers include, for example, paddle type stirrers, propeller type stirrers, turbine type stirrers, homogenizers, homomixers, line mixers, line homomixers, and other high speed stirrers, as well as static mixers, colloid mills, and orifice mixers. And a flow jet mixer. The progress of the reaction can be followed by methods such as thin layer chromatography, high performance liquid chromatography, gas chromatography and the like. After completion of the reaction, the aryl-substituted tetraazaporphyrin compound produced by the method of the present invention, for example, after distilling off the organic solvent, if necessary, the product is a generally known method such as a chromatography method or a recrystallization method. Can be isolated and purified. The structure of the product can be identified by various analysis methods such as elemental analysis, MS (FD-MS) analysis, IR analysis, 1 H-NMR, 13 C-NMR.

本発明の製造方法において、原料のテトラアザポルフィリン化合物として、例えば、一般式(A)で表される化合物を使用し、脱離基を有するアリール化合物として、例えば、一般式(B)で表される化合物を使用した場合、製造されるアリール置換テトラアザポルフィリン化合物は、一般式(E)で表される化合物である。   In the production method of the present invention, for example, a compound represented by the general formula (A) is used as the starting tetraazaporphyrin compound, and an aryl compound having a leaving group is represented by, for example, the general formula (B). When the compound is used, the produced aryl-substituted tetraazaporphyrin compound is a compound represented by the general formula (E).

Figure 2011153277
〔式中、R、mおよびMは、一般式(A)の場合と同じ意味を表し、Arは一般式(B)の場合と同じ意味を表し、nは1〜8の整数を表す(但し、m+nは1〜8の整数を表す)〕
一般式(E)において、nは1〜8の整数を表し、より好ましくは、1〜4の整数を表し、さらに好ましくは、2〜4の整数を表し、特に好ましくは4を表す。但し、m+nは1〜8の整数を表す。
本発明の製造方法において、テトラアザポルフィリン化合物として、例えば、一般式(1)で表される化合物を使用し、脱離基を有するアリール化合物として、例えば、一般式(B)で表される化合物を使用した場合、製造されるアリール置換テトラアザポルフィリン化合物は、一般式(2)で表される化合物である。
Figure 2011153277
[Wherein, R, m and M represent the same meaning as in formula (A), Ar represents the same meaning as in formula (B), and n represents an integer of 1 to 8 (provided that M + n represents an integer of 1 to 8)]
In general formula (E), n represents the integer of 1-8, More preferably, the integer of 1-4 is represented, More preferably, the integer of 2-4 is represented, Most preferably, 4 is represented. However, m + n represents the integer of 1-8.
In the production method of the present invention, as the tetraazaporphyrin compound, for example, a compound represented by the general formula (1) is used, and as an aryl compound having a leaving group, for example, a compound represented by the general formula (B) Is used, the produced aryl-substituted tetraazaporphyrin compound is a compound represented by the general formula (2).

Figure 2011153277
〔式中、R〜RおよびMは、一般式(1)の場合と同じ意味を表し、Arは一般式(B)の場合と同じ意味を表し、nは一般式(E)の場合と同じ意味を表す〕
なお、一般式(E)および一般式(2)で表される式において、Arは、テトラアザポルフィリン骨格内のピロール環のβ位の炭素原子に置換していることを表している。例えば、テトラアザポルフィリン化合物として、例えば、一般式(1−A)〜一般式(1−D)で表される化合物から選ばれる1種の化合物、または2種以上の異性体から成る混合物を使用し、脱離基を有するアリール化合物として、例えば、一般式(B)で表される化合物を使用し、4つのアリール基が置換されたアリール置換テトラアザポルフィリン化合物が製造される場合は、その生成物は、一般式(2−A)〜一般式(2−D)で表される化合物から選ばれる1種の化合物、または2種以上の異性体から成る混合物である。
Figure 2011153277
[Wherein R 1 to R 4 and M 1 represent the same meaning as in the general formula (1), Ar represents the same meaning as in the general formula (B), and n represents the general formula (E). (Same meaning as in the case)
In the formulas represented by the general formula (E) and the general formula (2), Ar represents substitution with a carbon atom at the β-position of the pyrrole ring in the tetraazaporphyrin skeleton. For example, as the tetraazaporphyrin compound, for example, one compound selected from the compounds represented by the general formula (1-A) to the general formula (1-D) or a mixture composed of two or more isomers is used. When an aryl-substituted tetraazaporphyrin compound in which four aryl groups are substituted is produced using, for example, a compound represented by the general formula (B) as an aryl compound having a leaving group, formation thereof The product is one compound selected from the compounds represented by the general formula (2-A) to the general formula (2-D), or a mixture composed of two or more isomers.

Figure 2011153277
〔式中、R〜RおよびMは、一般式(1)の場合と同じ意味を表し、Arは一般式(B)の場合と同じ意味を表す〕
Figure 2011153277
[Wherein R 1 to R 4 and M 1 represent the same meaning as in the general formula (1), and Ar represents the same meaning as in the general formula (B)].

なお、一般式(2−A)〜一般式(2−D)において、Arで表されるアリール基は、同一の基であってもよく、あるいは異なる基であってもよい。このような本発明の製造方法によれば、光学特性に優れたアリール置換テトラアザポルフィリン化合物を製造することができる。なお、本発明の方法により製造されるアリール置換テトラアザポルフィリン化合物とは、結晶は勿論であるが、無定型(アモルファス体)をも包含するものである。また本発明の方法により製造されるアリール置換テトラアザポルフィリン化合物の吸光係数は、公知の方法により製造されるアリール置換テトラアザポルフィリン化合物の吸光係数に比較して、大きいという優れた光学特性を有している。なお、本発明の方法により製造されるアリール置換テトラアザポルフィリン化合物を、以下、本発明に係る化合物Aと略記する。   In general formulas (2-A) to (2-D), the aryl groups represented by Ar may be the same group or different groups. According to such a production method of the present invention, an aryl-substituted tetraazaporphyrin compound having excellent optical properties can be produced. The aryl-substituted tetraazaporphyrin compound produced by the method of the present invention includes not only crystals but also amorphous (amorphous). Further, the extinction coefficient of the aryl-substituted tetraazaporphyrin compound produced by the method of the present invention has an excellent optical characteristic that it is larger than the extinction coefficient of the aryl-substituted tetraazaporphyrin compound produced by a known method. ing. The aryl-substituted tetraazaporphyrin compound produced by the method of the present invention is hereinafter abbreviated as “compound A” according to the present invention.

本発明に係る化合物Aは、各種の機能性材料(例えば、ディスプレイ用フィルタ用途、光記録媒体用途、インク用途、熱転写用途)に使用することができ、本発明に係る化合物Aは、1種を単独で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。機能性材料として、例えば、ディスプレイ用フィルタに使用する場合にも、本発明に係る化合物Aは、1種を単独で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。勿論、ディスプレイ用フィルタには、複数の異性体から成る混合物である本発明に係る化合物Aを使用することができる。また、所望により、該混合物から各異性体を分離し、異性体の内の1種の化合物を用いることができ、さらには、任意の割合から成る複数の異性体を併用することができる。ディスプレイ用フィルタに、本発明に係る化合物Aを使用する場合、要求されるディスプレイ用フィルタの特性を考慮し、本発明に係る化合物Aの中で、570〜605nmに吸収極大を有する化合物が好ましい。より好ましくは、一般式(E)で表される化合物の中で、570〜605nmに吸収極大を有する化合物、さらに好ましくは、一般式(2)で表される化合物の中で、570〜605nmに吸収極大を有する化合物が、ディスプレイ用フィルタに好適に使用することができる。   The compound A according to the present invention can be used for various functional materials (for example, display filter applications, optical recording medium applications, ink applications, thermal transfer applications), and the compound A according to the present invention includes one kind. They may be used alone or in combination. As a functional material, for example, when used for a filter for a display, the compound A according to the present invention may be used alone or in combination. Of course, the compound A according to the present invention, which is a mixture of a plurality of isomers, can be used for the display filter. Further, if desired, each isomer can be separated from the mixture, and one of the isomers can be used, and a plurality of isomers having an arbitrary ratio can be used in combination. When the compound A according to the present invention is used for the display filter, the compound having the absorption maximum at 570 to 605 nm is preferable among the compounds A according to the present invention in consideration of the required characteristics of the display filter. More preferably, among the compounds represented by the general formula (E), compounds having an absorption maximum at 570 to 605 nm, and more preferably among the compounds represented by the general formula (2), from 570 to 605 nm. A compound having an absorption maximum can be suitably used for a display filter.

本発明のディスプレイ用フィルタは、例えば、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機電界発光ディスプレイ、FED(Field Emission Display)、CRT(Cathode Ray Tube)などの各種ディスプレイ用に適用可能なフィルタであり、各種ディスプレイに装着して使用される。なお、液晶ディスプレイにおいては、例えば、透過型、反射型などの各種の態様に適用可能である。本発明のディスプレイ用フィルタは、本発明に係る化合物Aを少なくとも1種含有することによって、ディスプレイ画面の可視光スペクトルを補正する特性を有する調光フィルムとして機能する。また、本発明のディスプレイ用フィルタは、さらに、面抵抗0.01〜30Ω/□の透明導電層を備えることによって、ディスプレイ画面からの電磁波を遮断する特性を有する電磁波シールド体として機能する。また、本発明のディスプレイ用フィルタは、さらに、波長800〜1100nm程度に吸収極大を有する近赤外線吸収化合物を含有することによって、ディスプレイ画面からの近赤外線を遮断する特性を有する近赤外線カットフィルタとして機能する。本発明のディスプレイ用フィルタを、例えば、プラズマディスプレイ用フィルタに適用する場合、その構成は、特に限定するものではないが、一般には、機能性透明層(A)、基体(B)および透明粘着層(C)から成るフィルタである。プラズマディスプレイ用フィルタは、機能性透明層、基体および透明粘着層を構成する少なくとも1つの層、あるいは部材に、本発明に係る化合物Aを少なくとも1種含有して成るものである。プラズマディスプレイ用フィルタは、プラズマディスプレイ画面に設けられ、一般には、外気側に設けられた機能性透明層(A)と、ディスプレイ側に設けられ、画面に接着するための透明粘着層(C)と、機能性透明層(A)と透明粘着層(C)との間に基体(B)を備えている(図1)。また、プラズマディスプレイから発生する電磁波を遮蔽する目的で、プラズマディスプレイ用フィルタには、さらに、透明導電層(D)が設けられていることは好ましい。この場合、透明導電層(D)は、機能性透明層(A)と基体(B)との間に設けられる(図2)。また、透明導電層(D)は、基体(B)と透明粘着層(C)との間に設けられていてもよい(図3)。   The display filter according to the present invention is a filter applicable to various displays such as a plasma display, a liquid crystal display, an organic electroluminescence display, a field emission display (FED), and a cathode ray tube (CRT). Used by wearing. In addition, in a liquid crystal display, it can apply to various aspects, such as a transmission type and a reflection type, for example. The display filter of the present invention functions as a light control film having a characteristic of correcting the visible light spectrum of the display screen by containing at least one compound A according to the present invention. Further, the display filter of the present invention further functions as an electromagnetic wave shield having a characteristic of blocking electromagnetic waves from the display screen by providing a transparent conductive layer having a surface resistance of 0.01 to 30Ω / □. The display filter of the present invention further functions as a near-infrared cut filter having a characteristic of blocking near-infrared rays from the display screen by containing a near-infrared absorbing compound having an absorption maximum at a wavelength of about 800 to 1100 nm. To do. When the display filter of the present invention is applied to, for example, a plasma display filter, the configuration is not particularly limited, but in general, the functional transparent layer (A), the substrate (B), and the transparent adhesive layer It is a filter consisting of (C). The filter for plasma display comprises at least one compound A according to the present invention in at least one layer or member constituting the functional transparent layer, the substrate and the transparent adhesive layer. The plasma display filter is provided on the plasma display screen, and generally has a functional transparent layer (A) provided on the outside air side, and a transparent adhesive layer (C) provided on the display side and adhered to the screen. The substrate (B) is provided between the functional transparent layer (A) and the transparent adhesive layer (C) (FIG. 1). Further, for the purpose of shielding electromagnetic waves generated from the plasma display, it is preferable that the plasma display filter is further provided with a transparent conductive layer (D). In this case, the transparent conductive layer (D) is provided between the functional transparent layer (A) and the substrate (B) (FIG. 2). The transparent conductive layer (D) may be provided between the base (B) and the transparent adhesive layer (C) (FIG. 3).

勿論、プラズマディスプレイ用フィルタを構成する場合、所望の要求特性を考慮し、その他種々の構成とすることができる。例えば、プラズマディスプレイ用フィルタには、所望に応じて、ハードコート層、さらなる透明粘着層を設けることができる。また、複数の機能性透明層を設けて成るプラズマディスプレイ用フィルタとすることもできる。これらの層にも本発明に係る化合物Aが含有されていてもよい。
本発明のディスプレイ用フィルタを、例えば、液晶ディスプレイ用フィルタに適用する場合、その構成は、一般には、
(1)基体(B)から成るフィルタ(図4)
(2)透明粘着層(C)から成るフィルタ(図5)
(3)基体(B)と透明粘着層(C)から成るフィルタ(図6)
(4)基体(B)と機能性透明層(A)から成るフィルタ(図7)などがある。
液晶ディスプレイ用フィルタは、機能性透明層、基体および透明粘着層を構成する少なくとも1つの層、あるいは部材に、本発明に係る化合物Aを少なくとも1種含有して成るものである。なお、液晶ディスプレイ用フィルタは、ディスプレイ内の光源から視認部最表面に至る任意の経路中に設けられる。例えば、透過型の液晶ディスプレイの場合は、液晶ディスプレイ用フィルタは、液晶ディスプレイ画面上は勿論であるが、例えば、導光板、バックライト、偏光板、カラーフィルタなどに、例えば、透明粘着層を介して設けられる。
Of course, when configuring the plasma display filter, various other configurations can be made in consideration of desired required characteristics. For example, the filter for plasma displays can be provided with a hard coat layer and a further transparent adhesive layer as desired. Moreover, it can also be set as the filter for plasma displays which provides a some functional transparent layer. These layers may also contain the compound A according to the present invention.
When the display filter of the present invention is applied to, for example, a liquid crystal display filter, the configuration is generally
(1) Filter comprising the substrate (B) (FIG. 4)
(2) Filter comprising a transparent adhesive layer (C) (FIG. 5)
(3) Filter comprising the substrate (B) and the transparent adhesive layer (C) (FIG. 6)
(4) There is a filter (FIG. 7) composed of a substrate (B) and a functional transparent layer (A).
The filter for liquid crystal displays comprises at least one compound A according to the present invention in at least one layer or member constituting the functional transparent layer, the substrate and the transparent adhesive layer. The liquid crystal display filter is provided in an arbitrary path from the light source in the display to the outermost surface of the visual recognition unit. For example, in the case of a transmissive liquid crystal display, the liquid crystal display filter is not only on the liquid crystal display screen, but for example, a light guide plate, a backlight, a polarizing plate, a color filter, etc., with a transparent adhesive layer interposed, for example. Provided.

以下、機能性透明層(A)に関して説明する。
本発明のディスプレイ用フィルタには、ディスプレイに対する設置方法や要求される機能に応じて、反射防止機能、防眩機能、反射防止防眩機能、ハードコート機能(耐摩擦機能)、帯電防止機能、防汚機能、ガスバリア機能、紫外線カット機能のいずれか一つ以上の機能を有し、且つ、可視光線を透過する機能性透明層が設けられる。機能性透明層は、上記の各機能を一つ以上有する機能膜そのもの、あるいは機能膜を塗布法、印刷法、あるいは従来公知の各種成膜法により形成された支持体、さらには各機能を有する支持体を使用することができる。支持体は、透明な支持体が好ましく、一般には、透明ガラス、透明高分子フィルムである。なお、透明高分子フィルムとしては、例えば、後述する基体(B)で例示する透明高分子フィルムを挙げることができる。
支持体の厚さに関しては特に制限するものではない。また、例えば、透明高分子フィルムから成る支持体に本発明に係る化合物Aを含有させることもできる。
機能性透明層が機能膜そのものの場合にも、その膜中に本発明に係る化合物Aを含有させることができる。
Hereinafter, the functional transparent layer (A) will be described.
The display filter of the present invention has an antireflection function, an antiglare function, an antireflection antiglare function, a hard coat function (friction resistance function), an antistatic function, an antistatic function, depending on the installation method for the display and the required functions. A functional transparent layer having at least one of a soiling function, a gas barrier function, and an ultraviolet ray cutting function and transmitting visible light is provided. The functional transparent layer is a functional film itself having one or more of the above functions, or a support formed by applying a functional film to the coating method, printing method, or various conventionally known film forming methods, and further having each function. Supports can be used. The support is preferably a transparent support, and is generally a transparent glass or a transparent polymer film. In addition, as a transparent polymer film, the transparent polymer film illustrated by the base | substrate (B) mentioned later can be mentioned, for example.
The thickness of the support is not particularly limited. In addition, for example, a compound A according to the present invention can be contained in a support made of a transparent polymer film.
Even when the functional transparent layer is the functional film itself, the compound A according to the present invention can be contained in the film.

機能性透明層は、外光反射を抑制するための反射防止(AR:アンチリフレクション)機能、防眩(AG:アンチグレア)機能、あるいはその両機能を備えた反射防止防眩(ARAG)機能のいずれかの機能を有していることは好ましい。反射防止機能を有する機能性透明層は、反射防止膜を形成する支持体の光学特性を考慮し、光学設計により、反射防止膜の構成部材および各構成部材の膜厚を決定することができる。反射防止機能を有する機能性透明層としては、例えば、可視光域において屈折率が1.5以下のフッ素系透明高分子樹脂、フッ化マグネシウム、シリコン系樹脂、酸化珪素などの薄膜を、例えば、1/4波長の光学膜厚で単層形成したもの、あるいは屈折率の異なる金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物などから成る無機化合物薄膜、あるいはシリコン系樹脂やアクリル樹脂、フッ素系樹脂などから成る有機化合物薄膜を支持体から見て、高屈折率層、低屈折率層の順に2層以上積層したものがある。なお、無機化合物薄膜の成膜法は、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、湿式塗工法などの公知の方法を適用することができる。有機化合物薄膜の成膜法は、例えば、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法、コンマコート法などの公知の方法を適用することができる。反射防止性を有する機能性透明層の表面の可視光線反射率は、一般に、2%以下、好ましくは、1.3%以下、より好ましくは、0.8%以下であるように調製する。   The functional transparent layer has either an anti-reflection (AR: anti-reflection) function for suppressing external light reflection, an anti-glare (AG: anti-glare) function, or an anti-reflection / anti-glare (ARAG) function having both functions. It is preferable to have such a function. The functional transparent layer having the antireflection function can determine the constituent members of the antireflection film and the film thickness of each constituent member by optical design in consideration of the optical characteristics of the support that forms the antireflection film. As the functional transparent layer having an antireflection function, for example, a thin film such as fluorine-based transparent polymer resin having a refractive index of 1.5 or less in the visible light region, magnesium fluoride, silicon-based resin, silicon oxide, Single layer formed with optical wavelength of ¼ wavelength, inorganic compound thin film made of metal oxide, fluoride, silicide, boride, carbide, nitride, sulfide, etc. with different refractive index, or silicon-based Some organic compound thin films made of a resin, an acrylic resin, a fluorine-based resin, and the like are laminated in the order of a high refractive index layer and a low refractive index layer when viewed from the support. As a method for forming the inorganic compound thin film, for example, a known method such as a sputtering method, an ion plating method, a vacuum deposition method, or a wet coating method can be applied. As a method for forming the organic compound thin film, for example, a known method such as a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, a die coating method, a roll coating method, or a comma coating method can be applied. The visible light reflectance of the surface of the functional transparent layer having antireflection properties is generally adjusted to 2% or less, preferably 1.3% or less, and more preferably 0.8% or less.

防眩機能を有する機能性透明層は、一般に、0.1μm〜10μm程度の微少な凹凸の表面状態を有する可視光域に対して透明な層のことである。防眩機能を有する機能性透明層は、例えば、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂などの熱硬化型樹脂、または光硬化型樹脂に、シリカ、有機ケイ素化合物などの無機化合物粒子、あるいはメラミン、アクリルなどの有機化合物粒子を分散させてインク化したものを、例えば、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法、コンマコート法などの方法によって支持体上に塗布、硬化させて形成することができる。係る無機化合物粒子、および有機化合物粒子の平均粒径は、一般に、1〜40μmである。
また、防眩機能を有する機能性透明層は、例えば、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂などの熱硬化型樹脂、あるいは光硬化型樹脂を支持体上に塗布した後、所望のヘイズまたは表面状態を有する型を押しつけて、表面を凹凸に硬化させることにより形成することができる。防眩機能の指標となるヘイズ値は、一般に、0.5〜20%である。反射防止防眩機能を有する機能性透明層は、防眩機能を有する膜、あるいは防眩機能を有する支持体上に、反射防止膜を形成することにより調製することができる。反射防止防眩機能を有する機能性透明層の表面の可視光線反射率は、一般に、1.5%以下、好ましくは、1.0%以下であるように調製する。
The functional transparent layer having an antiglare function is generally a transparent layer with respect to a visible light region having a minute uneven surface state of about 0.1 μm to 10 μm. The functional transparent layer having an antiglare function is, for example, an acrylic resin, a silicon resin, a melamine resin, a urethane resin, an alkyd resin, a fluorine resin, or a thermosetting resin, or a photocurable resin. Inorganic particles such as silica and organic silicon compounds, or inks formed by dispersing organic compound particles such as melamine and acrylic, for example, bar coating method, reverse coating method, gravure coating method, die coating method, roll coating method It can be formed by coating and curing on a support by a method such as a comma coating method. The average particle diameter of the inorganic compound particles and the organic compound particles is generally 1 to 40 μm.
The functional transparent layer having an antiglare function is, for example, a thermosetting resin such as an acrylic resin, a silicon resin, a melamine resin, a urethane resin, an alkyd resin, a fluorine resin, or a photocurable resin. Can be formed by pressing a mold having a desired haze or surface state and curing the surface to irregularities. The haze value that serves as an index of the antiglare function is generally 0.5 to 20%. The functional transparent layer having an antireflection antiglare function can be prepared by forming an antireflection film on a film having an antiglare function or a support having an antiglare function. The visible light reflectance of the surface of the functional transparent layer having an antireflection antiglare function is generally adjusted to 1.5% or less, preferably 1.0% or less.

本発明のディスプレイ用フィルタに耐擦傷性能を付加する目的で、機能性透明層がハードコート機能(耐摩擦機能)を有していることは好適である。ハードコート機能を有する機能性透明層は、ハードコート機能を有する膜、あるいは支持体上にハードコート膜を形成することによって調製することができる。ハードコート膜としては、例えば、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂などの熱硬化型樹脂、あるいは光硬化型樹脂などが挙げられる。ハードコート膜の厚さは、一般に、1〜100μm程度である。ハードコート膜は、反射防止機能を有する透明機能層の高屈折率層、あるいは低屈折率層に用いることもできる。また、ハードコート膜上に反射防止膜が形成されて、機能性透明層が反射防止機能とハードコート機能の両機能を兼ね備えていてもよい。同様に、機能性透明層が防眩機能とハードコート機能の両機能を備えていてもよい。防眩機能とハードコート機能の両機能を備える機能性透明層は、例えば、粒子の分散などにより凹凸を有するハードコート膜の上に、反射防止膜を形成することにより調製することができる。ハードコート機能を有する機能性透明層の表面硬度は、JISK5600に従った鉛筆硬度が、少なくともH以上、好ましくは、2H以上である。一般に、ディスプレイ用フィルタは、静電気が帯電しやすく、ホコリの付着防止、人体への悪影響防止などを考慮し、帯電防止機能が必要とされる場合がある。この場合、帯電防止機能を付与するために、機能性透明層が一定の導電性を有していてもよい。なお、導電性は、一般に、面抵抗で1011Ω/□程度以下であればよい。係る導電性材料としては、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)などの公知の透明導電膜、ITO超微粒子、酸化スズ超微粒子などの導電性超微粒子を分散させた導電性膜が挙げられる。また、反射防止機能、防眩機能、反射防止防眩機能、ハードコート機能のいずれか一つ以上の機能を有した機能性透明層を構成する層が導電性を有していることは好ましい。機能性透明膜が、例えば、環境中の物質、あるいは水分に対して、ガスバリア機能を有することは好ましいことである。なお、必要とされるガスバリア機能は、一般に、透湿度で10g/m
・day以下である。ガスバリア機能を有する膜としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、酸化イットリウム、酸化マグネシウムなど、またはこれらの混合物、またはこれらに他の元素を添加した金属酸化物薄膜、あるいはポリ塩化ビニリデン、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、フッ素系樹脂などの各種樹脂から成る膜を挙げることができる。ガスバリア機能を有する膜の厚さは、金属酸化物薄膜の場合、一般に、10〜200nmであり、樹脂の場合、一般に、1〜100μmである。なお、ガスバリア機能を有する膜は、単層構造でもよく、あるいは多層構造であってもよい。また、水分に対してガスバリア機能を有する膜としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデンと塩化ビニル、塩化ビニリデンとアクリロニトリルの共重合物、フッ素系樹脂などの各種樹脂から成る膜を挙げることができる。また、反射防止機能、防眩機能、反射防止防眩機能、帯電防止機能、ハードコート機能のいずれか一つ以上の機能を有した機能性透明層を構成する層が、さらにガスバリア機能を兼ねる層とすることができる。さらに、指紋などの汚れ防止、あるいは汚れ除去が容易になるように、機能性透明層の表面に防汚機能を付与することができる。防汚機能を有するものとしては、水および/または油脂に対して非濡性を有する化合物であり、例えば、フッ素化合物やケイ素化合物などが挙げられる。また、機能性透明層に、例えば、紫外線を吸収する無機薄膜単層、あるいは無機薄膜多層から成る反射防止膜、または紫外線吸収化合物を含有する透明膜を形成することにより、機能性透明層に、さらに、紫外線カット機能を付与することができる。機能性透明層が、機能膜そのものの場合、例えば、透明導電層の主面に塗布法、印刷法などの各種成膜法により形成されていてもよい。
機能性透明層が、機能膜を形成した透明な基体、各機能を有する透明な基体の場合は、粘着材を介して、例えば、透明導電層の主面に形成されていてもよい。
For the purpose of adding scratch resistance performance to the display filter of the present invention, it is preferable that the functional transparent layer has a hard coat function (friction resistance function). The functional transparent layer having a hard coat function can be prepared by forming a film having a hard coat function or a hard coat film on a support. Examples of the hard coat film include thermosetting resins such as acrylic resins, silicon resins, melamine resins, urethane resins, alkyd resins, and fluorine resins, or photocurable resins. The thickness of the hard coat film is generally about 1 to 100 μm. The hard coat film can also be used for a high refractive index layer or a low refractive index layer of a transparent functional layer having an antireflection function. Further, an antireflection film may be formed on the hard coat film, and the functional transparent layer may have both an antireflection function and a hard coat function. Similarly, the functional transparent layer may have both functions of an antiglare function and a hard coat function. A functional transparent layer having both an antiglare function and a hard coat function can be prepared, for example, by forming an antireflection film on a hard coat film having irregularities by dispersing particles or the like. As for the surface hardness of the functional transparent layer having a hard coat function, the pencil hardness according to JISK5600 is at least H or more, preferably 2H or more. Generally, a display filter is easily charged with static electricity, and an antistatic function may be required in consideration of prevention of dust adhesion and prevention of adverse effects on the human body. In this case, in order to provide an antistatic function, the functional transparent layer may have a certain conductivity. In general, the conductivity may be about 10 11 Ω / □ or less in terms of surface resistance. Examples of the conductive material include a known transparent conductive film such as ITO (Indium Tin Oxide), and a conductive film in which conductive ultrafine particles such as ITO ultrafine particles and tin oxide ultrafine particles are dispersed. Moreover, it is preferable that the layer which comprises the functional transparent layer which has any one or more functions of an antireflection function, an anti-glare function, an anti-glare function, and a hard-coat function has electroconductivity. It is preferable that the functional transparent film has a gas barrier function with respect to, for example, environmental substances or moisture. The required gas barrier function is generally 10 g / m 2 in terms of moisture permeability.
-Day or less. Examples of the film having a gas barrier function include silicon oxide, aluminum oxide, tin oxide, indium oxide, yttrium oxide, magnesium oxide, or a mixture thereof, or a metal oxide thin film obtained by adding other elements to these, Examples thereof include films made of various resins such as vinylidene chloride, acrylic resin, silicon resin, melamine resin, urethane resin, and fluorine resin. The thickness of the film having a gas barrier function is generally 10 to 200 nm in the case of a metal oxide thin film, and is generally 1 to 100 μm in the case of a resin. Note that the film having a gas barrier function may have a single-layer structure or a multilayer structure. Examples of the film having a gas barrier function against moisture include, for example, polyethylene, polypropylene, nylon, polyvinylidene chloride, vinylidene chloride and vinyl chloride, vinylidene chloride and acrylonitrile copolymers, and various resins such as fluorine resins. Mention may be made of membranes. Further, the layer constituting the functional transparent layer having any one or more of the antireflection function, the antiglare function, the antireflection antiglare function, the antistatic function, and the hard coat function further serves as a gas barrier function. It can be. Furthermore, an antifouling function can be imparted to the surface of the functional transparent layer so that fingerprints and the like can be easily prevented or removed. Those having an antifouling function are compounds having non-wetting properties with respect to water and / or fats and oils, and examples thereof include fluorine compounds and silicon compounds. In addition, by forming, for example, an inorganic thin film single layer that absorbs ultraviolet rays, or an antireflection film composed of an inorganic thin film multilayer, or a transparent film containing an ultraviolet absorbing compound, on the functional transparent layer, Furthermore, an ultraviolet cut function can be imparted. When the functional transparent layer is the functional film itself, for example, it may be formed on the main surface of the transparent conductive layer by various film forming methods such as a coating method and a printing method.
In the case where the functional transparent layer is a transparent substrate on which a functional film is formed or a transparent substrate having each function, the functional transparent layer may be formed, for example, on the main surface of the transparent conductive layer via an adhesive.

以下、基体(B)に関して説明する。
基体は、フィルタの支持体として機能し、一般に、可視光域において、透明ガラス、透明高分子フィルムが用いられる。透明高分子フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン6などのポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル化合物、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニリデン化合物、フッ化ビニリデン/トリフルオロエチレン共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重体などのビニル化合物、またはフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシドなどのポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラールなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。基体は、一般に、厚さが、10〜250μmであり、好ましくは、50〜250μmである。基体は、製造効率の点から、好ましくは、可撓性の透明高分子フィルムであり、さらに、ディスプレイ表面に、直接貼合された透明高分子フィルムを基体とするフィルタは、ディスプレイの基板ガラスが破損した場合、ガラスの飛散防止ができるという利点がある。本発明においては、基体の表面は、スパッタリング処理、コロナ処理、火炎処理、紫外線照射、電子線照射などのエッチング処理、あるいは下塗り処理が施されていてもよい。基体の少なくとも一方の主面にハードコート層が形成されていてもよい。ハードコート層となるハードコート膜としては、例えば、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂などの熱硬化型樹脂、あるいは光硬化型樹脂などが挙げられる。ハードコート層の厚さは、1〜100μm程度である。また、ハードコート層には、本発明に係る化合物Aが1種以上含有されていてもよい。本発明のディスプレイ用フィルタ、特にプラズマディスプレイ用フィルタが、ディスプレイ画面からの電磁波を遮蔽する特性を有する電磁波シールド体として機能することは好ましく、プラズマディスプレイ用フィルタには、機能性透明層、基体、透明粘着層の他に、さらに透明導電層(D)を備えていることが好ましい。
Hereinafter, the substrate (B) will be described.
The substrate functions as a filter support, and generally transparent glass or transparent polymer film is used in the visible light region. Examples of the transparent polymer film include polyethylene terephthalate, polyether sulfone, polystyrene, polyethylene naphthalate, polyarylate, polyether ether ketone, polycarbonate, polyethylene, polypropylene, nylon 6 and other celluloses, polyimide, triacetyl cellulose and the like. Resins, polyurethane resins, fluorine resins such as polytetrafluoroethylene, vinyl compounds such as polyvinyl chloride, polyacrylic acid, polyacrylic acid esters, polyacrylonitrile, addition polymers of vinyl compounds, polymethacrylic acid, polymethacrylic acid esters , Vinylidene compounds such as polyvinylidene chloride, vinyl compounds such as vinylidene fluoride / trifluoroethylene copolymer, ethylene / vinyl acetate copolymer Or copolymers of fluorine-based compound, polyether such as polyethylene oxide, epoxy resins, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, but is not limited thereto. The substrate generally has a thickness of 10 to 250 μm, preferably 50 to 250 μm. From the viewpoint of production efficiency, the substrate is preferably a flexible transparent polymer film, and the filter using the transparent polymer film directly bonded to the display surface as a substrate is made of the substrate glass of the display. When broken, there is an advantage that the glass can be prevented from scattering. In the present invention, the surface of the substrate may be subjected to etching treatment such as sputtering treatment, corona treatment, flame treatment, ultraviolet ray irradiation and electron beam irradiation, or undercoating treatment. A hard coat layer may be formed on at least one main surface of the substrate. Examples of the hard coat film that becomes the hard coat layer include thermosetting resins such as acrylic resins, silicon resins, melamine resins, urethane resins, alkyd resins, and fluorine resins, or photocurable resins. Can be mentioned. The thickness of the hard coat layer is about 1 to 100 μm. Further, the hard coat layer may contain one or more compounds A according to the present invention. The display filter of the present invention, particularly the plasma display filter, preferably functions as an electromagnetic wave shielding body having a property of shielding electromagnetic waves from the display screen. The plasma display filter includes a functional transparent layer, a substrate, a transparent In addition to the adhesive layer, a transparent conductive layer (D) is preferably provided.

以下、透明導電層(D)に関して説明する。
ディスプレイ用フィルタが、電磁波シールド体の形態の場合、基体の一方の主面上に透明導電層が形成される。本発明における透明導電層とは、単層または多層薄膜から成る透明導電層である。なお、電磁波シールド体においては、透明導電層と外部との電気的接続が必要あり、例えば、機能性透明層、透明粘着層などは、透明導電層の周縁部を残して、導通部を確保することが必要となる。単層の透明導電層としては、金属メッシュ、導電性格子状パターン膜などの導電性メッシュ、さらには金属薄膜や酸化物半導体薄膜などの透明導電性薄膜がある。多層薄膜から成る透明導電層としては、金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜がある。金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜は、銀などの金属の持つ導電性、およびその自由電子による近赤外線反射特性、および特定波長領域における金属による反射を高屈折率透明薄膜により防止できることから、導電性、近赤外線カット機能、可視光線透過率に関して好ましい特性を有している。電磁波シールド機能、近赤外線カット機能を有するディスプレイ用フィルタを得るためには、電磁波吸収のための高い導電性と電磁波反射のための反射界面を多く有する金属薄膜と、高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜から成る透明導電層は好ましい。高い可視光線透過率と低い可視光線反射率に加え、プラズマディスプレイに必要な電磁波シールド機能を有するには、透明導電層が、面抵抗が、一般に、0.01〜30Ω/□、より好ましくは、0.1〜15Ω/□、さらに好ましくは、0.1〜5Ω/□であることが望ましい。また、透明導電層自体に、近赤外線カット機能を持たせることもでき、近赤外線波長領域、例えば、800〜1100nmにおける光線透過率極小を、20%以下にすることができる。本発明において好ましい透明導電層は、基体の一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層(Dt)、金属薄膜層(Dm)の順に、(Dt)/(Dm)を繰り返し単位として、2〜4回繰り返し積層され、さらにその上に少なくとも高屈折率透明薄膜層を積層して形成され、該透明導電層の面抵抗が、0.1〜5Ω/□である。金属薄膜層の材料として、好ましくは、銀、金、白金、パラジウム、銅、インジウム、スズ、さらには銀と金、白金、パラジウム、銅、インジウムまたはスズとの合金である。銀を含む合金中の銀の含有率は、特に限定されるものではないが、一般に、50質量%以上、100質量%未満である。なお、複数層から成る金属薄膜の場合は、少なくとも1つの層は銀を合金にしないで用いることや、基体から見て、最初の層および/または最外層にある金属薄膜層のみを銀の合金とすることができる。金属薄膜層は、導電性などの点から薄膜は不連続な島状構造ではなく、連続状態であることが必要であり、またその厚さは、4〜30nmが好ましい。複数層から成る金属薄膜の場合は、各層が全て同じ厚さである必要はなく、さらに、各層全てが銀、あるいは同じ組成の銀の合金でなくてもよい。金属薄膜層の形成方法としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、メッキ法などの公知の方法を挙げることができる。高屈折率透明薄膜層を形成する透明薄膜としては、可視光領域において透明性を有し、金属薄膜層の可視光領域における光線反射を防止する効果を有するものであれば特に限定されるものではなく、一般に、可視光線に対する屈折率が、1.6以上、好ましくは、1.8以上の材料が用いられる。このような透明薄膜を形成する材料としては、例えば、インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジウム、ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウムなどの酸化物、または、これら酸化物の混合物や、硫化亜鉛などを挙げることができ、より好ましくは、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウム、酸化インジウムと酸化スズの混合物(ITO)である。高屈折率透明薄膜層の厚さは、特に限定されるものではないが、一般に、5〜200nmである。高屈折率透明薄膜層の形成方法としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法、真空蒸着法、湿式塗工法などの公知の方法を挙げることができる。透明導電層の耐環境性などの向上を目的に、透明導電層の表面に、導電性、光学特性などの諸特性を著しく損なわない程度に、有機物あるいは無機物から成る保護層を設けることができる。また、金属薄膜層の耐環境性、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との密着性などを向上させるため、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層の間に、導電性、光学特性などの諸特性を損なわない程度に、無機物層を設けることができる。なお、無機物層を形成する材料としては、例えば、銅、ニッケル、クロム、金、白金、亜鉛、ジルコニウム、チタン、タングステン、スズ、パラジウムなど、あるいはこれらの材料の2種類以上からなる合金が挙げられる。無機物層の厚さは、好ましくは、0.2〜2nm程度である。透明導電層の形成方法としては、透明導電性薄膜を用いる方法の他に、導電性メッシュを用いる方法がある。導電性メッシュの一例として、単層の金属メッシュについて説明する。単層の金属メッシュとしては、例えば、基体上に銅メッシュ層を形成したものがあり、一般には、基体上に銅箔を貼合わせた後、メッシュ状に加工して形成される。銅箔としては、圧延銅、電解銅が用いられ、好ましくは、孔径0.5〜5μmの多孔性の銅箔である。銅箔のポロシティーとしては、0.01〜20%が好ましく、より好ましくは、0.02〜5%である。なお、ポロシティーとは、体積をRとし、孔容積をPとした場合に、P/Rで定義される値である。銅箔は、各種表面処理(例えば、クロメート処理、粗面化処理、酸洗、ジンク・クロメート処理)を施されていてもよい。銅箔の厚さは、一般に、3〜30μmである。金属メッシュの光透過部分の開口率は、一般に、60〜95%である。開口部の形状は、特に限定されるものではないが、正三角形、正四角形、正六角形、円形、長方形、菱形などに形がそろっており、面内に並んでいることが好ましい。光透過部分の開口部の大きさは、一般に、1辺あるいは直径が、5〜200μmであることが好ましい。また、開口部を形成しない部分の金属の幅は、5〜50μmが好ましい。光透過部分を有する金属層の実質的な面抵抗は、好ましくは、0.01〜0.5Ω/□である。なお、透明導電層と表示装置のアース部(グランド導体)とを電気的に接続させるため、導電性粘着層を設ける。導電性粘着層に用いる導電性接着剤、導電性粘着材としては、例えば、アクリル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接着剤(PVB)、エチレン−酢酸ビニル系接着剤(EVA)、ポリビニルエーテル、飽和ポリエステル、メラミン樹脂などをベース材料に、導電性粒子として、例えば、カーボン、Cu、Ni、Ag、Feなどの金属粒子を分散させたものがある。なお、導電性接着剤、導電性粘着材の体積固有抵抗は、一般に、1×10−4〜1×10Ω・cmである。導電性接着剤、導電性粘着材としては、シート状、液体状のものがある。導電性粘着材としては、シート状の感圧型粘着材が好適に使用できる。シート状粘着材を貼付けた後、または接着剤の塗布後にラミネートして貼合わせる。液体状の導電性接着剤は、塗布、貼合わせ後に、室温または高温下で処理することにより、あるいは紫外線照射することにより硬化させることができる。液体状の導電性接着剤の塗布方法としては、例えば、スクリーン印刷法、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法、コンマコート法などの公知の方法を挙げることができる。なお、導電性粘着層の厚さは、体積固有抵抗と必要な導電性を考慮して設定され、一般には、0.5〜50μm、好ましくは、1〜30μmである。また、両面共に導電性を有する両面接着タイプの導電性テープも使用できる。
Hereinafter, the transparent conductive layer (D) will be described.
When the display filter is in the form of an electromagnetic wave shield, a transparent conductive layer is formed on one main surface of the substrate. The transparent conductive layer in the present invention is a transparent conductive layer composed of a single layer or a multilayer thin film. In the electromagnetic wave shield, electrical connection between the transparent conductive layer and the outside is necessary. For example, the functional transparent layer, the transparent adhesive layer, and the like secure the conducting portion while leaving the peripheral portion of the transparent conductive layer. It will be necessary. As a single transparent conductive layer, there are a conductive mesh such as a metal mesh and a conductive grid pattern film, and a transparent conductive thin film such as a metal thin film and an oxide semiconductor thin film. As the transparent conductive layer composed of a multilayer thin film, there is a multilayer thin film in which a metal thin film and a high refractive index transparent thin film are laminated. Multi-layer thin film composed of metal thin film and high refractive index transparent thin film prevents the reflection of metal in the specific wavelength region by the high-refractive index transparent thin film, the conductivity of silver and other metals and the near-infrared reflection characteristics due to free electrons. Since it can be performed, it has preferable characteristics with respect to conductivity, near-infrared cut function, and visible light transmittance. In order to obtain a display filter having an electromagnetic wave shielding function and a near-infrared cut function, a metal thin film having a high conductivity for electromagnetic wave absorption and a reflective interface for electromagnetic wave reflection and a high refractive index transparent thin film were laminated. A transparent conductive layer comprising a multilayer thin film is preferred. In order to have an electromagnetic wave shielding function necessary for a plasma display in addition to a high visible light transmittance and a low visible light reflectance, the transparent conductive layer generally has a surface resistance of 0.01 to 30Ω / □, more preferably It is desirable to be 0.1 to 15Ω / □, more preferably 0.1 to 5Ω / □. Also, the transparent conductive layer itself can have a near-infrared cut function, and the light transmittance minimum in the near-infrared wavelength region, for example, 800 to 1100 nm, can be 20% or less. In the present invention, a preferred transparent conductive layer is 2 on the one main surface of the substrate, in the order of the high refractive index transparent thin film layer (Dt) and the metal thin film layer (Dm), with (Dt) / (Dm) as repeating units. The film is repeatedly laminated 4 times, and further formed thereon by laminating at least a high refractive index transparent thin film layer, and the surface resistance of the transparent conductive layer is 0.1 to 5Ω / □. The material for the metal thin film layer is preferably silver, gold, platinum, palladium, copper, indium, tin, or an alloy of silver and gold, platinum, palladium, copper, indium or tin. Although the content rate of the silver in the alloy containing silver is not specifically limited, Generally, it is 50 to less than 100 mass%. In the case of a metal thin film composed of a plurality of layers, at least one layer should be used without alloying silver, or only the metal thin film layer in the first layer and / or the outermost layer as viewed from the substrate is an alloy of silver. It can be. The metal thin film layer is required to be in a continuous state rather than a discontinuous island structure from the viewpoint of conductivity, and the thickness is preferably 4 to 30 nm. In the case of a metal thin film composed of a plurality of layers, it is not necessary that all the layers have the same thickness, and further, all the layers may not be silver or a silver alloy having the same composition. Examples of the method for forming the metal thin film layer include known methods such as sputtering, ion plating, vacuum deposition, and plating. The transparent thin film forming the high refractive index transparent thin film layer is not particularly limited as long as it has transparency in the visible light region and has an effect of preventing light reflection in the visible light region of the metal thin film layer. In general, a material having a refractive index with respect to visible light of 1.6 or more, preferably 1.8 or more is used. Examples of the material for forming such a transparent thin film include oxides such as indium, titanium, zirconium, bismuth, tin, zinc, antimony, tantalum, cerium, neodymium, lanthanum, thorium, magnesium, gallium, and the like. And zinc sulfide, and more preferably zinc oxide, titanium oxide, indium oxide, and a mixture of indium oxide and tin oxide (ITO). The thickness of the high refractive index transparent thin film layer is not particularly limited, but is generally 5 to 200 nm. Examples of the method for forming the high refractive index transparent thin film layer include known methods such as sputtering, ion plating, ion beam assist, vacuum deposition, and wet coating. For the purpose of improving the environmental resistance of the transparent conductive layer, a protective layer made of an organic or inorganic material can be provided on the surface of the transparent conductive layer to such an extent that various properties such as conductivity and optical properties are not significantly impaired. In addition, in order to improve the environmental resistance of the metal thin film layer and the adhesion between the metal thin film layer and the high refractive index transparent thin film layer, conductivity, optical characteristics, etc. are provided between the metal thin film layer and the high refractive index transparent thin film layer. An inorganic layer can be provided to such an extent that these properties are not impaired. In addition, as a material which forms an inorganic substance layer, copper, nickel, chromium, gold | metal | money, platinum, zinc, zirconium, titanium, tungsten, tin, palladium etc. or the alloy which consists of 2 or more types of these materials is mentioned, for example. . The thickness of the inorganic layer is preferably about 0.2 to 2 nm. As a method for forming the transparent conductive layer, there is a method using a conductive mesh in addition to a method using a transparent conductive thin film. A single-layer metal mesh will be described as an example of the conductive mesh. As a single-layer metal mesh, for example, there is one in which a copper mesh layer is formed on a base. Generally, a single layer of metal mesh is formed by bonding a copper foil on a base and then processing it into a mesh. As the copper foil, rolled copper or electrolytic copper is used, and a porous copper foil having a pore diameter of 0.5 to 5 μm is preferable. The porosity of the copper foil is preferably 0.01 to 20%, more preferably 0.02 to 5%. The porosity is a value defined by P / R where R is the volume and P is the pore volume. The copper foil may be subjected to various surface treatments (for example, chromate treatment, roughening treatment, pickling, zinc / chromate treatment). The thickness of the copper foil is generally 3 to 30 μm. The aperture ratio of the light transmission portion of the metal mesh is generally 60 to 95%. The shape of the opening is not particularly limited, but it is preferably in the form of a regular triangle, a regular square, a regular hexagon, a circle, a rectangle, a rhombus, and the like, and is arranged in the plane. In general, it is preferable that one side or diameter of the opening of the light transmitting portion is 5 to 200 μm. Further, the width of the metal in the portion where the opening is not formed is preferably 5 to 50 μm. The substantial sheet resistance of the metal layer having the light transmitting portion is preferably 0.01 to 0.5Ω / □. In order to electrically connect the transparent conductive layer and the ground portion (ground conductor) of the display device, a conductive adhesive layer is provided. Examples of the conductive adhesive and conductive adhesive used for the conductive adhesive layer include acrylic adhesives, silicon adhesives, urethane adhesives, polyvinyl butyral adhesives (PVB), and ethylene-vinyl acetate adhesives. There are materials in which metal particles such as carbon, Cu, Ni, Ag, and Fe are dispersed as conductive particles based on (EVA), polyvinyl ether, saturated polyester, melamine resin, and the like. The volume specific resistance of the conductive adhesive and the conductive adhesive is generally 1 × 10 −4 to 1 × 10 3 Ω · cm. Examples of the conductive adhesive and the conductive pressure-sensitive adhesive include a sheet form and a liquid form. As the conductive adhesive material, a sheet-like pressure sensitive adhesive material can be suitably used. After pasting the sheet-like adhesive material, or after applying the adhesive, it is laminated and pasted. The liquid conductive adhesive can be cured by treatment at room temperature or high temperature after application and bonding, or by irradiation with ultraviolet rays. Examples of the method for applying the liquid conductive adhesive include known methods such as a screen printing method, a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, a die coating method, a roll coating method, and a comma coating method. it can. In addition, the thickness of the conductive adhesive layer is set in consideration of the volume resistivity and necessary conductivity, and is generally 0.5 to 50 μm, preferably 1 to 30 μm. A double-sided adhesive type conductive tape having conductivity on both sides can also be used.

以下、透明粘着層(C)に関して説明する。
本発明において、透明粘着層は、任意の透明な粘着材(接着剤、粘着剤)から成る層である。透明粘着層は、例えば、アクリル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接着剤(PVB)、エチレン−酢酸ビニル系接着剤(EVA)など、ポリビニルエーテル、飽和ポリエステル、メラミン樹脂などから形成される。なお、粘着材としては、シート状、または液体状のものが使用できる。粘着材として、例えば、シート状の感圧型粘着材を使用する場合は、シート状粘着材を貼付け後、または接着剤の塗布後に、ラミネートして貼り合わせる。粘着材として、例えば、液体状の接着剤を使用する場合は、塗布、貼合わせ後に、室温または高温下で処理することにより、あるいは紫外線照射することにより硬化させて貼り合わせる。その塗布方法としては、例えば、スクリーン印刷法、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法、コンマコート法などの公知の方法を挙げることができる。透明粘着層の厚さは、特に限定されるものではないが、一般に、0.5〜50μmである。透明粘着層が形成される面、および貼合わされる面は、予め易接着コートまたはコロナ放電処理などの易接着処理されていることは好ましい。さらに、透明粘着層を介して貼合わせた後、貼合わせ時に部材間に混入した空気を、脱泡、または粘着材に固溶させて、さらには部材間の密着力を向上させる目的で、加圧、加温条件下で処理を施すことは好ましい。透明粘着層の少なくとも1つの層に、本発明に係る化合物Aを含有させることができる。本発明のディスプレイ用フィルタには、本発明に係る化合物Aを少なくとも1種含有してなるものである。なお、本明細書において、含有とは、各種部材または膜などから成る各層、あるいは透明粘着材の内部に含有されることは勿論、部材または各層の表面に、塗布された状態を包含するものである。本発明に係る化合物Aを、ディスプレイ用フィルタに含有させる方法としては、例えば、以下の(1)〜(4)の方法がある。
(1)透明粘着材に添加して、透明粘着層に含有させる方法、
(2)高分子樹脂に混練して含有させる方法、
(3)高分子樹脂または樹脂モノマーを含む有機溶媒に、本発明に係る化合物Aを、分散または溶解させ、各種部材、各層上に、例えば、キャスティングする方法、
(4)バインダー樹脂を含む有機溶媒に、本発明に係る化合物Aを加え、塗料として各種部材、各層上にコーティングする方法、がある。
上記(1)の方法においては、本発明に係る化合物Aの含有量は、特に限定するものではないが、一般に、透明粘着材に対して、10ppm〜30質量%、好ましくは、10ppm〜20質量%である。また、(2)および(3)の方法においては、本発明に係る化合物Aの含有量は、特に限定するものではないが、一般に、高分子樹脂または樹脂モノマーに対して、10ppm〜30質量%、好ましくは、10ppm〜20質量%である。また、(4)の方法においては、本発明に係る化合物Aの含有量は、特に限定するものではないが、一般に、バインダー樹脂に対して、10ppm〜30質量%、好ましくは、10ppm〜20質量%である。また、バインダー樹脂濃度は、塗料全体に対して、一般に、1〜50質量%である。本発明のディスプレイ用フィルタには、本発明に係る化合物A以外に、本発明の所望の効果を損なわない範囲で、光吸収化合物を1種以上併用することができる。係る光吸収化合物としては、特に限定するものではないが、例えば、可視光域に所望の吸収を有する化合物を挙げることができ、例えば、アントラキノン化合物、フタロシアニン化合物、メチン化合物、アゾメチン化合物、オキサジン化合物、アゾ化合物、スチリル化合物、クマリン化合物、ポルフィリン化合物、ジベンゾフラノン化合物、ジケトピロロピロール化合物、ローダミン化合物、キサンテン化合物、ピロメテン化合物などを挙げることができる。さらに、本発明のディスプレイ用フィルタが、近赤外線カットフィルタの形態の場合には、さらに近赤外線吸収化合物を1種類以上含有されていてもよい。なお、近赤外線吸収化合物としては、好ましくは、800〜1100nm程度に吸収極大を有する化合物である。係る近赤外線吸収化合物としては、特に限定するものではないが、例えば、フタロシアニン化合物(例えば、金属フタロシアニン錯体)、ナフタロシアニン化合物(例えば、金属ナフタロシアニン錯体)、アントラキノン化合物、ジチオール化合物(例えば、ニッケルジチオール錯体)、ジイミニウム塩化合物などを挙げることができる。これら光吸収化合物、近赤外線吸収化合物の濃度は、該化合物の吸収波長、吸光係数、さらには、所望のディスプレイ用フィルタの光学特性(例えば、色純度、透過特性)を考慮し任意に設定することができる。本発明のディスプレイ用フィルタは、例えば、プラズマディスプレイの輝度、視認性を著しく損なうことなく、優れた透過特性などを有し、プラズマディスプレイの光学特性(例えば、色純度およびコントラスト)を向上させることができる。また、本発明のディスプレイ用フィルタは、例えば、液晶ディスプレイの光学特性(例えば、色純度)を向上させることができる。
Hereinafter, the transparent adhesive layer (C) will be described.
In the present invention, the transparent adhesive layer is a layer made of any transparent adhesive material (adhesive, adhesive). The transparent adhesive layer is, for example, an acrylic adhesive, a silicon adhesive, a urethane adhesive, a polyvinyl butyral adhesive (PVB), an ethylene-vinyl acetate adhesive (EVA), a polyvinyl ether, a saturated polyester, a melamine resin. Formed from. In addition, as an adhesive material, a sheet form or a liquid form can be used. For example, when using a sheet-like pressure-sensitive adhesive material as the adhesive material, the sheet-like adhesive material is laminated or laminated after the adhesive is applied. For example, when a liquid adhesive is used as the adhesive, it is cured and bonded by treatment at room temperature or high temperature after application and bonding, or by ultraviolet irradiation. Examples of the coating method include known methods such as a screen printing method, a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, a die coating method, a roll coating method, and a comma coating method. Although the thickness of a transparent adhesion layer is not specifically limited, Generally, it is 0.5-50 micrometers. The surface on which the transparent adhesive layer is formed and the surface to be bonded are preferably subjected to an easy adhesion treatment such as an easy adhesion coat or a corona discharge treatment in advance. Furthermore, after bonding through the transparent adhesive layer, the air mixed between the members at the time of bonding is defoamed or dissolved in the adhesive material to further improve the adhesion between the members. It is preferable to perform the treatment under pressure and heating conditions. The compound A according to the present invention can be contained in at least one layer of the transparent adhesive layer. The display filter of the present invention contains at least one compound A according to the present invention. In addition, in this specification, the content includes not only those contained in each layer consisting of various members or films, or the inside of the transparent adhesive material, but also the state of being applied to the surface of the member or each layer. is there. Examples of the method for incorporating the compound A according to the present invention into a display filter include the following methods (1) to (4).
(1) A method of adding to a transparent adhesive material and including it in a transparent adhesive layer,
(2) A method of kneading and containing the polymer resin,
(3) A method in which the compound A according to the present invention is dispersed or dissolved in an organic solvent containing a polymer resin or a resin monomer, and various members are cast on each layer, for example,
(4) There is a method in which the compound A according to the present invention is added to an organic solvent containing a binder resin, and various members are coated as paints and coated on each layer.
In the above method (1), the content of the compound A according to the present invention is not particularly limited. %. In the methods (2) and (3), the content of the compound A according to the present invention is not particularly limited, but is generally 10 ppm to 30% by mass with respect to the polymer resin or resin monomer. Preferably, it is 10 ppm to 20% by mass. In the method (4), the content of the compound A according to the present invention is not particularly limited. %. Moreover, generally binder resin density | concentration is 1-50 mass% with respect to the whole coating material. In the display filter of the present invention, in addition to the compound A according to the present invention, one or more light absorbing compounds can be used in combination as long as the desired effects of the present invention are not impaired. Examples of such a light absorbing compound include, but are not limited to, compounds having desired absorption in the visible light region, such as anthraquinone compounds, phthalocyanine compounds, methine compounds, azomethine compounds, oxazine compounds, Examples include azo compounds, styryl compounds, coumarin compounds, porphyrin compounds, dibenzofuranone compounds, diketopyrrolopyrrole compounds, rhodamine compounds, xanthene compounds, and pyromethene compounds. Furthermore, when the display filter of the present invention is in the form of a near-infrared cut filter, it may further contain one or more near-infrared absorbing compounds. In addition, as a near-infrared absorption compound, Preferably, it is a compound which has an absorption maximum in about 800-1100 nm. The near-infrared absorbing compound is not particularly limited. For example, phthalocyanine compounds (for example, metal phthalocyanine complexes), naphthalocyanine compounds (for example, metal naphthalocyanine complexes), anthraquinone compounds, dithiol compounds (for example, nickel dithiol) Complex) and diiminium salt compounds. The concentration of these light-absorbing compounds and near-infrared-absorbing compounds should be set arbitrarily in consideration of the absorption wavelength and extinction coefficient of the compound, and the desired optical characteristics (for example, color purity and transmission characteristics) of the display filter. Can do. The display filter of the present invention has, for example, excellent transmission characteristics without significantly impairing the brightness and visibility of the plasma display, and can improve the optical characteristics (for example, color purity and contrast) of the plasma display. it can. The display filter of the present invention can improve, for example, the optical characteristics (for example, color purity) of a liquid crystal display.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these.

(実施例1)
式(a−1)〜式(a−4)で表される化合物から成る混合物6.0g、酢酸パラジウム0.28g、酢酸カリウム6.0g、ブロモベンゼン7.8gおよびN,N−ジメチルアセトアミド50mlよりなる混合物に、窒素雰囲気下、トリフェニルホスフィン0.35gを加え、その後、120℃で8時間撹拌した。その後、N,N−ジメチルアセトアミドを減圧下で留去し、残渣に、メタノール水200ml(1:1体積比)を加え、析出した固体を濾別した。この固体をトルエンに溶解した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー〔展開液:トルエン/n−ヘキサン(体積比:2/1)〕にて精製し、式(b−1)〜式(b−4)で表される化合物から成る混合物4.2gを青色の固体として得た。この混合物は、トルエン中、モル吸光係数142000で、604nmに吸収極大を示した。
Example 1
A mixture of the compounds represented by formulas (a-1) to (a-4) 6.0 g, palladium acetate 0.28 g, potassium acetate 6.0 g, bromobenzene 7.8 g and N, N-dimethylacetamide 50 ml To the mixture, 0.35 g of triphenylphosphine was added under a nitrogen atmosphere, and then the mixture was stirred at 120 ° C. for 8 hours. Thereafter, N, N-dimethylacetamide was distilled off under reduced pressure, 200 ml of methanol water (1: 1 volume ratio) was added to the residue, and the precipitated solid was separated by filtration. After this solid was dissolved in toluene, it was purified by silica gel column chromatography [developing solution: toluene / n-hexane (volume ratio: 2/1)] and expressed by the formulas (b-1) to (b-4). 4.2 g of a mixture consisting of the compounds represented was obtained as a blue solid. This mixture had an absorption maximum at 604 nm in toluene with a molar extinction coefficient of 142000.

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(実施例2)
実施例1において、ブロモベンゼンを使用する代わりに、2−フルオロブロモベンゼン8.8gを使用した以外は、実施例1に記載の操作に従い、式(c−1)〜式(c−4)で表される化合物から成る混合物3.6gを青色の固体として得た。この混合物は、トルエン中、モル吸光係数156000で、594nmに吸収極大を示した。
(Example 2)
In Example 1, instead of using bromobenzene, according to the procedure described in Example 1, except that 8.8 g of 2-fluorobromobenzene was used, the formulas (c-1) to (c-4) 3.6 g of a mixture consisting of the compounds represented was obtained as a blue solid. This mixture had an absorption maximum at 594 nm with a molar extinction coefficient of 156000 in toluene.

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(実施例3)
実施例1において、ブロモベンゼンを使用する代わりに、1−ブロモナフタレン12.4gを使用した以外は、実施例1に記載の操作に従い、式(d−1)〜式(d−4)で表される化合物から成る混合物5.3gを青色の固体として得た。この混合物は、トルエン中、モル吸光係数154000で、598nmに吸収極大を示した。
(Example 3)
In Example 1, except that 12.4 g of 1-bromonaphthalene was used instead of using bromobenzene, the compounds represented by formula (d-1) to formula (d-4) were prepared according to the procedure described in Example 1. 5.3 g of a mixture consisting of the compounds obtained was obtained as a blue solid. This mixture had an absorption maximum at 598 nm with a molar extinction coefficient of 154000 in toluene.

Figure 2011153277
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(実施例4)
実施例1において、式(a−1)〜式(a−4)で表される化合物から成る混合物を使用する代わりに、式(e−1)〜式(e−4)で表される化合物から成る混合物8.2gを使用した以外は、実施例1に記載の操作に従い、式(f−1)〜式(f−4)で表される化合物から成る混合物6.7gを青色の固体として得た。この混合物は、トルエン中、モル吸光係数88300で、618nmに吸収極大を示した。
Example 4
In Example 1, instead of using a mixture of compounds represented by formula (a-1) to formula (a-4), a compound represented by formula (e-1) to formula (e-4) Except that 8.2 g of the mixture consisting of was used, 6.7 g of the mixture consisting of the compounds represented by formula (f-1) to formula (f-4) was converted as a blue solid according to the procedure described in Example 1. Obtained. This mixture had an absorption maximum at 618 nm with a molar extinction coefficient of 88300 in toluene.

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(実施例5)
実施例1において、式(a−1)〜式(a−4)で表される化合物から成る混合物を使用する代わりに、式(g−1)〜式(g−4)で表される化合物から成る混合物9.0gを使用し、ブロモベンゼンの代わりに、4−tert−ブチルブロモベンゼン4.3gを使用した以外は、実施例1に記載の操作に従い、式(h−1)〜式(h−5)で表される化合物から成る混合物5.8gを青色の固体として得た。この混合物は、トルエン中、モル吸光係数122000で、614nmに吸収極大を示した。
(Example 5)
In Example 1, instead of using a mixture consisting of compounds represented by formula (a-1) to formula (a-4), compounds represented by formula (g-1) to formula (g-4) In accordance with the procedure described in Example 1, except that 9.0 g of a mixture consisting of 4 and 4-tert-butylbromobenzene was used instead of bromobenzene, 5.8 g of a mixture consisting of the compound represented by h-5) was obtained as a blue solid. This mixture had an absorption maximum at 614 nm in toluene with a molar extinction coefficient of 122000.

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(実施例6)
実施例1に記載の式(a−1)〜式(a−4)で表される化合物から成る混合物6.0g、PdCl[P(Cを0.60g、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)9.2g、トリフルオロメタンスルフォニルオキシベンゼン11.5gおよびN,N−ジメチルホルムアミド50mlよりなる混合物に、窒素雰囲気下、1,2−ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)エタン0.56gを加え、その後、140℃で12時間撹拌した。その後、N,N−ジメチルホルムアミドを減圧下で留去し、残渣に、メタノール水200ml(1:1体積比)を加え、析出した固体を濾別した。この固体をトルエンに溶解した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー〔展開液:トルエン/n−ヘキサン(体積比:2/1)〕にて精製し、
実施例1に記載の式(b−1)〜式(b−4)で表される化合物から成る混合物4.5gを青色の固体として得た。この混合物は、トルエン中、モル吸光係数140500で、604nmに吸収極大を示した。
(Example 6)
6.0 g of a mixture composed of the compounds represented by formula (a-1) to formula (a-4) described in Example 1, 0.60 g of PdCl 2 [P (C 6 H 5 ) 3 ] 2 , 1 , 8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (DBU) 9.2 g, 11.5 g of trifluoromethanesulfonyloxybenzene and 50 ml of N, N-dimethylformamide under nitrogen atmosphere. -0.56 g of bis (dicyclohexylphosphino) ethane was added, and then the mixture was stirred at 140 ° C for 12 hours. Then, N, N-dimethylformamide was distilled off under reduced pressure, 200 ml of methanol water (1: 1 volume ratio) was added to the residue, and the precipitated solid was separated by filtration. After this solid was dissolved in toluene, it was purified by silica gel column chromatography [developing solution: toluene / n-hexane (volume ratio: 2/1)],
4.5 g of a mixture consisting of the compounds represented by formula (b-1) to formula (b-4) described in Example 1 was obtained as a blue solid. This mixture had an absorption maximum at 604 nm in toluene with a molar extinction coefficient of 140500.

(比較例1)
窒素雰囲気下、2−tert−ブチル−3−(2’−フルオロフェニル)マレオニトリル2.28gとn−ペンタノール30mlおよび塩化第一銅0.33gの混合物を、90℃加熱後、混合物に1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)1.52gを30分かけて滴下した。滴下後、混合物を125℃で8時間撹拌した。反応混合物を室温にまで冷却後、メタノール100mlを加えた後、さらに水50mlを滴下した。析出した固体を濾別した。この固体をトルエンに溶解した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー〔展開液:トルエン/n−ヘキサン(体積比:2/1)〕にて精製し、実施例2に記載の式(c−1)〜式(c−4)で表される化合物から成る混合物1.4gを青色の固体として得た。この混合物は、トルエン中、モル吸光係数129000で、594nmに吸収極大を示した。この混合物のモル吸光係数は、実施例2に記載の方法により製造される混合物のモル吸光係数よりも小さいことが判明した。
(Comparative Example 1)
Under a nitrogen atmosphere, a mixture of 2.28 g of 2-tert-butyl-3- (2′-fluorophenyl) maleonitrile, 30 ml of n-pentanol and 0.33 g of cuprous chloride was heated at 90 ° C. 1.52 g of 8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (DBU) was added dropwise over 30 minutes. After the addition, the mixture was stirred at 125 ° C. for 8 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature, 100 ml of methanol was added, and 50 ml of water was further added dropwise. The precipitated solid was filtered off. This solid was dissolved in toluene, and then purified by silica gel column chromatography [developing solution: toluene / n-hexane (volume ratio: 2/1)], and the formula (c-1) to formula described in Example 2 were used. 1.4 g of a mixture consisting of the compound represented by (c-4) was obtained as a blue solid. This mixture exhibited an absorption maximum at 594 nm with a molar extinction coefficient of 129000 in toluene. The molar extinction coefficient of this mixture was found to be smaller than the molar extinction coefficient of the mixture produced by the method described in Example 2.

(比較例2)
窒素雰囲気下、2−n−オクチル−3−フェニルマレオニトリル1.5gとエチレングリコール20mlの混合物を、70℃に加熱後、混合物に1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)0.52g、およびビス(2,4−ペンタンジオナート)バナジウムオキサイド500mgを加えた。その後、混合物を6時間、環流下で撹拌した。反応混合物を室温にまで冷却後、エーテル200mlを加え目的物を抽出後、エーテル層を水100mlで洗浄した。エーテル層を分離した後、エーテルを減圧下で留去した。残渣をトルエンに溶解した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー〔展開液:トルエン/n−ヘキサン(体積比:2/1)〕にて精製し、実施例4に記載の式(f−1)〜式(f−4)で表される化合物から成る混合物110mgを青色の固体として得た。この混合物は、トルエン中、モル吸光係数76700で、618nmに吸収極大を示した。この混合物のモル吸光係数は、実施例4に記載の方法により製造される混合物のモル吸光係数よりも小さいことが判明した。
(Comparative Example 2)
In a nitrogen atmosphere, a mixture of 1.5 g of 2-n-octyl-3-phenylmaleonitrile and 20 ml of ethylene glycol was heated to 70 ° C., and then 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene was added to the mixture. (DBU) 0.52 g and bis (2,4-pentanedionate) vanadium oxide 500 mg were added. The mixture was then stirred at reflux for 6 hours. After cooling the reaction mixture to room temperature, 200 ml of ether was added to extract the desired product, and the ether layer was washed with 100 ml of water. After separating the ether layer, the ether was distilled off under reduced pressure. After the residue was dissolved in toluene, the residue was purified by silica gel column chromatography [developing solution: toluene / n-hexane (volume ratio: 2/1)], and the formula (f-1) to formula ( 110 mg of a mixture consisting of the compound represented by f-4) was obtained as a blue solid. This mixture had an absorption maximum at 618 nm in toluene with a molar extinction coefficient of 76700. The molar extinction coefficient of this mixture was found to be smaller than the molar extinction coefficient of the mixture produced by the method described in Example 4.

(実施例7) 本発明のディスプレイ用フィルタの作製
トリアセチルセルロース(TAC)フィルム(厚さ:80μm)を基体とし、その一方の面に、機能性透明層として、次の機能性透明膜をロール・ツー・ロールで連続的に形成した。すなわち、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を加え、さらにITO微粒子(平均粒径:10nm)を分散させた塗工液をグラビアコーターにて塗工し、紫外線硬化させて、導電性ハードコート膜(膜厚:3μm)を形成した。その上に含フッ素有機化合物溶液をマイクログラビアコーターにて塗工し、90℃で乾燥、熱硬化させて、屈折率1.4の反射防止膜(膜厚:100nm)を形成し、ハードコート機能(鉛筆硬度:2H)、反射防止機能(表面の可視光線反射率:0.9%)、帯電防止機能(面抵抗:7×10Ω/□)、防汚性を有する機能性透明膜を形成した。
一方、酢酸エチル/トルエン(50:50質量%)溶媒に、実施例2で製造した式(c−1)〜式(c−4)で表される化合物から成る混合物を溶解させて希釈液とした。アクリル系粘着剤(80質量%)と、この式(c−1)〜式(c−4)で表される化合物から成る混合物を含む希釈液(20質量%)を混合し、機能性透明膜/TACフィルムのTAC面上に、コンマコーターにより乾燥膜厚25μmに塗工し、乾燥させて、透明粘着層を形成した。透明粘着層面に離型フィルムをラミネートしてロール状に巻き取り、離型フィルムを有するディスプレイ用フィルタを作製した。なお、式(c−1)〜式(c−4)で表される化合物から成る混合物は、乾燥した粘着材の中で1500(質量)ppm含有するように、希釈液を調製した。さらに、該ディスプレイ用フィルタをシート状に裁断し、離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面(表示部920mm×520mm)に、枚葉式ラミネーターを用いて貼合わせた。この際、表示部全体に透明粘着層部を貼合わせるようにシート裁断、貼り位置合わせを行なった。貼合わせた後、60℃、2×10Paの条件下でオートクレーブ処理し、ディスプレイ用フィルタを装着した表示装置を得た。
(Example 7) Production of display filter of the present invention A triacetylcellulose (TAC) film (thickness: 80 μm) is used as a base, and the following functional transparent film is rolled as a functional transparent layer on one surface thereof. -Continuously formed by two rolls. That is, a photopolymerization initiator is added to a polyfunctional methacrylate resin, and a coating liquid in which ITO fine particles (average particle size: 10 nm) are further dispersed is applied with a gravure coater and UV cured to form a conductive hard coat film. (Film thickness: 3 μm) was formed. A fluorine-containing organic compound solution is coated on the microgravure coater, dried at 90 ° C and thermally cured to form an antireflective film (film thickness: 100 nm) with a refractive index of 1.4. Hard coat function (Pencil hardness: 2H), antireflection function (surface visible light reflectance: 0.9%), antistatic function (surface resistance: 7 × 10 9 Ω / □), functional transparent film having antifouling property Formed.
On the other hand, a mixture of the compounds represented by the formulas (c-1) to (c-4) produced in Example 2 was dissolved in an ethyl acetate / toluene (50: 50% by mass) solvent to prepare a diluent. did. A functional transparent film is prepared by mixing an acrylic pressure-sensitive adhesive (80% by mass) and a diluent (20% by mass) containing a mixture of the compounds represented by formulas (c-1) to (c-4). / The TAC surface of the TAC film was coated with a comma coater to a dry film thickness of 25 μm and dried to form a transparent adhesive layer. A release film was laminated on the surface of the transparent adhesive layer and wound into a roll to produce a display filter having a release film. In addition, the dilution liquid was prepared so that the mixture which consists of a compound represented by Formula (c-1)-Formula (c-4) might contain 1500 (mass) ppm in the dry adhesive material. Furthermore, the display filter was cut into a sheet shape, the release film was peeled off, and was bonded to the front surface of the plasma display panel (display portion 920 mm × 520 mm) using a single wafer laminator. At this time, sheet cutting and bonding position alignment were performed so that the transparent adhesive layer portion was bonded to the entire display portion. After pasting, it was autoclaved at 60 ° C. and 2 × 10 5 Pa to obtain a display device equipped with a display filter.

(比較例3) 比較用のディスプレイ用フィルタの作製
実施例7において、粘着層の形成に際し、製造例2で製造した式(c−1)〜式(c−4)で表される化合物から成る混合物を使用する代わりに、比較例1で製造した式(c−1)〜式(c−4)で表される化合物から成る混合物を使用した以外は、実施例7に記載の方法により、ディスプレイ用フィルタを作製し、該ディスプレイ用フィルタを装着した表示装置を得た。
(Comparative Example 3) Preparation of display filter for comparison In Example 7, the adhesive layer was formed by the compounds represented by formula (c-1) to formula (c-4) produced in Production Example 2. Instead of using the mixture, a display comprising the compounds represented by formula (c-1) to formula (c-4) produced in Comparative Example 1 was used, and the display according to the method described in Example 7 was performed. A filter for display was produced, and a display device equipped with the display filter was obtained.

〔実施例7および比較例3で作製したディスプレイ用フィルタの特性評価〕
実施例7および比較例3で作製したディスプレイ用フィルタに関して、ディスプレイ用フィルタの装着前と比較し、以下の特性に関して測定、評価した。その結果を第1表に示した。
(1)プラズマディスプレイの明所コントラスト比(最高輝度/最低輝度比)
ディスプレイ用フィルタを装着後のプラズマディスプレイで評価した。周囲明るさ100lxの明時において、プラズマディスプレイの白色表示時の最高輝度(cd/m)と黒色表示時の最低輝度(cd/m)を、ミノルタ(株)製の輝度計(LS−110)を用いて測定し、コントラスト比(最高輝度/最低輝度比)を求めた。なお、ディスプレイ用フィルタ装着前のコントラスト比は、20であった。その結果は、第1表に示した。
(2)ディスプレイ用フィルタの595nmの610nmの透過率に対する比率
ディスプレイ用フィルタの小片を、(株)日立製作所製の分光光度計(U−300)を用いて測定し、595nmの透過率の610nmの透過率に対する比率(%)(595nmの透過率/610nmの透過率×100)を求めた。透過率の値が小さいほど、プラズマディスプレイから発せられる不要な電磁波を効率よく吸収することを示している。その結果は、第1表に示した。
[Characteristic Evaluation of Display Filters Produced in Example 7 and Comparative Example 3]
The display filters produced in Example 7 and Comparative Example 3 were measured and evaluated for the following characteristics as compared to before the display filter was mounted. The results are shown in Table 1.
(1) Brightness contrast ratio of plasma display (maximum luminance / minimum luminance ratio)
The plasma display after mounting the display filter was evaluated. When the ambient brightness is 100 lx, the maximum luminance (cd / m 2 ) at the time of white display on the plasma display and the minimum luminance (cd / m 2 ) at the time of black display are measured with a luminance meter (LS-) manufactured by Minolta Co., Ltd. 110), and the contrast ratio (maximum luminance / minimum luminance ratio) was determined. The contrast ratio before the display filter was mounted was 20. The results are shown in Table 1.
(2) Ratio of 595 nm to 610 nm transmittance of display filter
A small piece of a filter for display was measured using a spectrophotometer (U-300) manufactured by Hitachi, Ltd., and the ratio (%) of the transmission at 595 nm to the transmission at 610 nm (transmission at 595 nm / 610 nm Transmittance × 100) was determined. It shows that the smaller the value of transmittance, the more efficiently absorbing unnecessary electromagnetic waves emitted from the plasma display. The results are shown in Table 1.

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第1表から、本発明の方法により製造したアリール置換テトラアザポルフィリン化合物を含有してなるディスプレイ用フィルタは、従来の方法により製造したアリール置換テトラアザポルフィリン化合物を含有してなるディスプレイ用フィルタに比べ、595nmの610nmに対する透過率が小さいことが判る。このことより、本発明のディスプレイ用フィルタは、プラズマディスプレイから発せられる不要な電磁波を効率よく吸収し、ディスプレイ用フィルタとしての性能が優れていることが判る。
Figure 2011153277
From Table 1, the display filter containing the aryl-substituted tetraazaporphyrin compound produced by the method of the present invention is compared with the display filter containing the aryl-substituted tetraazaporphyrin compound produced by the conventional method. It turns out that the transmittance | permeability with respect to 610 nm of 595 nm is small. From this, it can be seen that the display filter of the present invention efficiently absorbs unnecessary electromagnetic waves emitted from the plasma display and is excellent in performance as a display filter.

(実施例8) 本発明のディスプレイ用フィルタの作製
酢酸エチル/トルエン(50:50質量%)溶媒に、実施例2で製造した式(c−1)〜式(c−4)で表される化合物から成る混合物を溶解させて希釈液とした。アクリル系粘着剤(80質量%)と、この式(c−1)〜式(c−4)で表される化合物から成る混合物を含む希釈液(20質量%)を混合し、ポリエチレンテレフタレートフィルム(75μm)の面上に、ダイコーターにより乾燥膜厚20μmに塗工、乾燥させて、ディスプレイ用フィルタを製造した。なお、式(c−1)〜式(c−4)で表される化合物から成る混合物は、乾燥した粘着材の中で1200(質量)ppm含有するように、希釈液を調製した。このディスプレイ用フィルタは、波長610nmの透過率に対する595nmの透過率は19%であった。赤色の色度(x、y)が、(0.612、0.335)である透過型液晶ディスプレイ画面(カラーフィルタ付き)に、このディスプレイ用フィルタを装着すると、赤色の色度が、(0.617、0.332)となった。すなわち、本発明のディスプレイ用フィルタを装着すると、赤色の色度が、NTSC方式で定められた赤色の色度(0.670、0.330)に近づいた。
(Example 8) Preparation of filter for display of the present invention It is represented by formula (c-1) to formula (c-4) produced in Example 2 in an ethyl acetate / toluene (50:50 mass%) solvent. A mixture of the compounds was dissolved to obtain a diluted solution. An acrylic pressure-sensitive adhesive (80% by mass) and a diluent (20% by mass) containing a mixture composed of the compounds represented by formulas (c-1) to (c-4) are mixed, and a polyethylene terephthalate film ( A filter for display was manufactured by coating and drying on a surface of 75 μm) to a dry film thickness of 20 μm using a die coater. In addition, the dilution liquid was prepared so that the mixture which consists of a compound represented by Formula (c-1)-Formula (c-4) might contain 1200 (mass) ppm in the dry adhesive material. In this display filter, the transmittance at 595 nm was 19% with respect to the transmittance at a wavelength of 610 nm. When this display filter is attached to a transmissive liquid crystal display screen (with a color filter) whose red chromaticity (x, y) is (0.612, 0.335), the red chromaticity is (0 .617, 0.332). That is, when the display filter of the present invention is mounted, the red chromaticity approaches the red chromaticity (0.670, 0.330) determined by the NTSC system.

本発明により安定的に、効率よく、光学特性に優れたアリール置換テトラアザポルフィリン化合物の製造方法を提供することが可能になった。本発明の方法により製造されるアリール置換テトラアザポルフィリン化合物は、優れた光学特性を有しており、各種の機能性材料用途(例えば、ディスプレイ用フィルタ用途、光記録媒体用途、インク用途、熱転写用途)に使用することができる。また、本発明の方法により製造されるアリール置換テトラアザポルフィリン化合物を含有してなるディスプレイ用フィルタは、光学特性に優れており、各種のディスプレイ用フィルタとして使用することができる。   The present invention makes it possible to provide a method for producing an aryl-substituted tetraazaporphyrin compound that is stable, efficient, and excellent in optical properties. The aryl-substituted tetraazaporphyrin compound produced by the method of the present invention has excellent optical properties, and is used for various functional materials (for example, display filter use, optical recording medium use, ink use, thermal transfer use). ) Can be used. In addition, the display filter containing the aryl-substituted tetraazaporphyrin compound produced by the method of the present invention is excellent in optical properties and can be used as various display filters.

11:機能性透明層(A)
12:基体(B)
13:透明粘着層(C)

21:機能性透明層(A)
22:基体(B)
23:透明粘着層(C)
24:透明導電層(D)

31:機能性透明層(A)
32:基体(B)
33:透明粘着層(C)
34:透明導電層(D)

42:基体(B)

53:透明粘着層(C)

62:基体(B)
63:透明粘着層(C)

71:機能性透明層(A)
72:基体(B)
11: Functional transparent layer (A)
12: Substrate (B)
13: Transparent adhesive layer (C)

21: Functional transparent layer (A)
22: Substrate (B)
23: Transparent adhesive layer (C)
24: Transparent conductive layer (D)

31: Functional transparent layer (A)
32: Substrate (B)
33: Transparent adhesive layer (C)
34: Transparent conductive layer (D)

42: Substrate (B)

53: Transparent adhesive layer (C)

62: Substrate (B)
63: Transparent adhesive layer (C)

71: Functional transparent layer (A)
72: Substrate (B)

Claims (9)

テトラアザポルフィリン化合物と脱離基を有するアリール化合物を、塩基、および遷移金属化合物の存在下で反応させて成るアリール置換テトラアザポルフィリン化合物の製造方法。   A process for producing an aryl-substituted tetraazaporphyrin compound comprising reacting a tetraazaporphyrin compound with an aryl compound having a leaving group in the presence of a base and a transition metal compound. テトラアザポルフィリン化合物が、一般式(A)で表される化合物である請求項1の製造方法。
Figure 2011153277
〔式中、Rは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、置換または未置換のアリール基、置換または未置換のアリールオキシ基、置換または未置換のアラルキル基、置換または未置換のアラルキルオキシ基、直鎖、分岐または環状のハロゲノアルキル基、直鎖、分岐または環状のハロゲノアルコキシ基、置換アミノ基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルコキシアルキル基、置換または未置換のアリールオキシアルキル基、置換または未置換のアラルキルオキシアルキル基、あるいは直鎖、分岐または環状のハロゲノアルコキシアルキル基を表し、さらに、隣接するR基は互いに結合して、置換している炭素原子と共に、置換または未置換の炭素環式脂肪族環を形成していてもよいを表し、mは0〜8の整数を表し(但し、mが8を表す場合、少なくとも1つのRは水素原子を表す)、Mは2個の水素原子、2個の1価の金属原子、2価の金属原子、3価の置換金属原子、4価の置換金属原子、または酸化金属原子を表す〕
The process according to claim 1, wherein the tetraazaporphyrin compound is a compound represented by the general formula (A).
Figure 2011153277
[Wherein, R represents a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a linear, branched or cyclic alkyl group, a linear, branched or cyclic alkoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aryl group. Oxy group, substituted or unsubstituted aralkyl group, substituted or unsubstituted aralkyloxy group, linear, branched or cyclic halogenoalkyl group, linear, branched or cyclic halogenoalkoxy group, substituted amino group, linear, branched Or a cyclic alkoxyalkyl group, a linear, branched or cyclic alkoxyalkoxyalkyl group, a substituted or unsubstituted aryloxyalkyl group, a substituted or unsubstituted aralkyloxyalkyl group, or a linear, branched or cyclic halogenoalkoxyalkyl group And adjacent R groups are bonded to each other to share a substituted carbon atom. Represents an optionally substituted carbocyclic aliphatic ring, and m represents an integer of 0 to 8 (provided that when m represents 8, at least one R represents a hydrogen atom). And M represents two hydrogen atoms, two monovalent metal atoms, a divalent metal atom, a trivalent substituted metal atom, a tetravalent substituted metal atom, or a metal oxide atom]
脱離基を有するアリール化合物が、一般式(B)で表される化合物である請求項1または2の製造方法。
Figure 2011153277
(式中、Arはアリール基を表し、Xは脱離基を表す)
The method according to claim 1 or 2, wherein the aryl compound having a leaving group is a compound represented by the general formula (B).
Figure 2011153277
(In the formula, Ar represents an aryl group, and X represents a leaving group)
Arが、置換基を有していてもよい炭素数3〜40のアリール基である請求項3の製造方法。   The process according to claim 3, wherein Ar is an aryl group having 3 to 40 carbon atoms which may have a substituent. Arが、フッ素原子、塩素原子、直鎖、分岐、または環状のアルキル基、直鎖、分岐、または環状のアルコキシ基、置換または未置換のアリール基、N,N−ジ置換アミノ基で置換されていてもよいアリール基である請求項4の製造方法。   Ar is substituted with a fluorine atom, a chlorine atom, a linear, branched, or cyclic alkyl group, a linear, branched, or cyclic alkoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, or an N, N-disubstituted amino group. The method according to claim 4, wherein the aryl group may be an aryl group. Xが、ハロゲン原子または−OSO−R(Rは置換または未置換のアリール基、あるいはハロゲン原子で置換されていてもよい直鎖、分岐または環状のアルキル基を表す)である請求項3の製造方法。 X is a halogen atom or —OSO 2 —R 0 (R 0 represents a substituted or unsubstituted aryl group, or a linear, branched or cyclic alkyl group which may be substituted with a halogen atom). 3. Manufacturing method of 3. 前記−OSO−Rにおいて、Rが炭素数6〜10の置換または未置換のアリール基、あるいは炭素数1〜10のハロゲン原子で置換されていてもよい直鎖、分岐または環状のアルキル基である請求項6の製造方法。 In the -OSO 2 -R 0, R 0 is a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms or optionally straight optionally substituted by a halogen atom having 1 to 10 carbon atoms, alkyl branched or cyclic The manufacturing method of Claim 6 which is group. 請求項1〜7のいずれかに記載の製造方法により製造されるアリール置換テトラアザポルフィリン化合物。   The aryl substituted tetraazaporphyrin compound manufactured by the manufacturing method in any one of Claims 1-7. 請求項8のアリール置換テトラアザポルフィリン化合物を少なくとも1種含有して成るディスプレイ用フィルタ。   A display filter comprising at least one aryl-substituted tetraazaporphyrin compound according to claim 8.
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