JP2011144230A - Polyfunctional epoxy (meth)acrylate compound and photosensitive thermosetting resin composition comprising the compound, and cured product thereof - Google Patents

Polyfunctional epoxy (meth)acrylate compound and photosensitive thermosetting resin composition comprising the compound, and cured product thereof Download PDF

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哲治 諸岩
Yasuhiro Maeda
保博 前田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyfunctional epoxy (meth)acrylate compound that achieves an excellent cured film, and to provide a photosensitive thermosetting resin composition comprising the polyfunctional epoxy (meth)acrylate compound. <P>SOLUTION: The polyfunctional epoxy (meth)acrylate compound (A) is obtained by causing a polybasic acid anhydride (d) to react with a reaction product of a compound (a) containing at least two epoxy groups in one molecule, (meth)acrylic acid anhydride (b) and an unsaturated group-containing monocarboxylic acid (c), and is represented by the general formula (wherein X is a bivalent aromatic group and/or an alkyl group and/or a cyclohexyl group; Y is a bivalent aromatic residue or a dicarboxylic acid residue; at least one of M's is a carboxylic acid residue of reacted (meth)acrylic acid anhydride and at least one of M's is a residue of a polybasic acid anhydride, containing at least one carboxy group, and the balance comprising a hydrogen atom; Q is a (meth)acrylic acid residue formed by a reaction of (meth)acrylic acid anhydride with a hydroxy group or a residue of an unsaturated group-containing monocarboxylic acid; and m is 0-100). <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物及び該化合物を含有する感光性熱硬化性樹脂組成物並びにその硬化物に関する。   The present invention relates to a polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound, a photosensitive thermosetting resin composition containing the compound, and a cured product thereof.

現在のプリント配線板の製造は、配線(回路)パターン形成後、電子部品をプリント配線板へはんだ付けにて実装する際に、不必要な部分にはんだが付着しないように保護する目的で、ソルダーマスクと呼ばれる保護層を被覆することが行われている。   Currently, printed wiring boards are manufactured by soldering for the purpose of protecting solder from adhering to unnecessary parts when electronic components are mounted on a printed wiring board by soldering after forming a wiring (circuit) pattern. A protective layer called a mask is coated.

民生用並びに産業用プリント配線板や封止樹脂を用いたBGAやCSP等のICパッケージ用プリント配線板の製造に用いられるソルダーレジストは、紫外線硬化型、又は熱硬化型もしくは紫外線硬化と熱硬化を併用する液状ソルダーレジストインキをプリント配線板上にスクリーン印刷等の印刷法により塗布するタイプや、ポリエステルフィルムやポリエチレンフィルム等を支持体とする有機溶剤を含まないドライフィルムレジストをプリント配線板に貼り付けて支持体を剥がすことにより皮膜を得るタイプなどがあるが、近年は、高精度及び高密度の観点から紫外線硬化と熱硬化を併用するタイプが主流で、紫外線照射による光硬化(仮硬化)後、希アルカリ水溶液で現像することにより画像を形成し、熱で仕上げ硬化することにより皮膜を得ている。   Solder resist used in the manufacture of printed wiring boards for IC packages such as BGA and CSP using consumer and industrial printed wiring boards and sealing resins is UV curable, thermosetting or UV curable and thermosetting. A liquid solder resist ink to be used together is applied to the printed wiring board by a printing method such as screen printing, or a dry film resist that does not contain an organic solvent, such as a polyester film or polyethylene film, is applied to the printed wiring board. There is a type that obtains a film by peeling off the support, but in recent years, the type that uses both UV curing and heat curing is the mainstream from the viewpoint of high accuracy and high density, and after photocuring by UV irradiation (temporary curing) Develop with a dilute alkaline aqueous solution to form an image and heat to finish and harden the skin. The are obtained.

上記のICパッケージ用プリント配線板に従来市販のアルカリ現像型ソルダーレジストとして一般的なフェノールノボラック型の酸変性エポキシアクリレート化合物とエポキシ化合物を必須成分とするレジストインキ(例えば、特許文献1,2参照)を施した場合、その硬化皮膜はパッケージ実装時の各種めっき塗布時に変色したり、クラックが生じる問題や、また長期信頼性試験のひとつであるPCT試験(加湿試験)時にも同じく硬化皮膜にクラックが生じるという耐クラック性に問題が生じており改善が求められている。このような問題は、上記実装技術の場合のみに限られるものではなく、一般のプリント配線板のソルダーレジストにおいても望ましくない。   Resist ink containing phenolic novolac acid-modified epoxy acrylate compound and epoxy compound as essential components as a commercially available alkali development type solder resist for the above-mentioned printed wiring board for IC package (for example, see Patent Documents 1 and 2) When the coating is applied, the cured film may be discolored or cracked during various plating applications during package mounting, and cracks may also occur in the cured film during the PCT test (humidification test), which is one of the long-term reliability tests. There is a problem with the crack resistance that occurs, and there is a need for improvement. Such a problem is not limited to the case of the above-described mounting technique, and is not desirable in a solder resist of a general printed wiring board.

このような問題に対し、これまで様々な試みが行われている。例えば、ノボラック型エポキシ化合物にフェノール化合物及び/又はナフトール化合物と不飽和基含有モノカルボン酸を反応させ、さらに多塩基酸無水物を反応させた反応生成物と、エポキシ化合物を必須成分とするレジストインキがある(例えば、特許文献3,4参照)。このレジストインキは形成される硬化皮膜に可撓性が付与され耐クラック性は解決しているものの、アルカリ現像性が十分でなく、レジストパターンの鮮明な画像形成が困難になるという問題が生じている。また、ビスフェノールF型エポキシ化合物或いはゴム変性エポキシから選ばれるエポキシ化合物と不飽和基含有モノカルボン酸を反応させ、さらに多塩基酸無水物を反応させた反応生成物と、エポキシ化合物を必須成分とするレジストインキ(例えば、特許文献5参照)や、特定構造を有するビスフェノール型多官能エポキシ化合物と不飽和基含有モノカルボン酸を反応させ、さらに多塩基酸無水物を反応させた反応生成物と、エポキシ化合物を必須成分とするレジストインキがある(例えば、特許文献6参照)。これらのレジストインキは、形成される硬化皮膜に可撓性が付与され耐クラック性は解決しているものの、いずれも紫外線(光)への感度が低いため、形成される画像の解像度が低く、近年さらには次世代で要求される高密度実装には十分に対応できないという問題が懸念されている。   Various attempts have been made to deal with such problems. For example, a reaction product obtained by reacting a novolac type epoxy compound with a phenol compound and / or a naphthol compound and an unsaturated group-containing monocarboxylic acid and further reacting with a polybasic acid anhydride, and a resist ink containing the epoxy compound as an essential component (For example, refer to Patent Documents 3 and 4). Although this resist ink provides flexibility to the cured film to be formed and crack resistance is solved, there is a problem that alkali developability is not sufficient and it becomes difficult to form a clear image of the resist pattern. Yes. Also, an epoxy compound selected from a bisphenol F-type epoxy compound or rubber-modified epoxy and an unsaturated group-containing monocarboxylic acid are reacted, and a reaction product obtained by reacting a polybasic acid anhydride and an epoxy compound are essential components. Resist ink (see, for example, Patent Document 5), a reaction product obtained by reacting a bisphenol polyfunctional epoxy compound having a specific structure with an unsaturated group-containing monocarboxylic acid, and further reacting with a polybasic acid anhydride, and an epoxy There is a resist ink containing a compound as an essential component (see, for example, Patent Document 6). Although these resist inks provide flexibility to the cured film to be formed and crack resistance has been solved, since the sensitivity to ultraviolet rays (light) is low, the resolution of the formed image is low, In recent years, there is a concern that the high-density packaging required in the next generation cannot be sufficiently handled.

さらに、ノボラック型エポキシ化合物及び/又はグリコール系エポキシ化合物と不飽和基含有モノカルボン酸と飽和モノカルボン酸を反応させ、さらに多塩基酸無水物を反応させた反応生成物と、エポキシ化合物を必須成分とするレジストインキ(例えば、特許文献7参照)、エポキシ化合物と1分子中にアルコール性水酸基1個とカルボキシル基及びアミノ基から選ばれる1個の官能基を有する化合物と不飽和基含有モノカルボン酸を反応させ、さらに多塩基酸無水物を反応させた反応生成物がある(例えば、特許文献8参照)。   Furthermore, a reaction product obtained by reacting a novolak-type epoxy compound and / or glycol-based epoxy compound, an unsaturated group-containing monocarboxylic acid and a saturated monocarboxylic acid, and further reacting with a polybasic acid anhydride, and an epoxy compound are essential components. Resist ink (for example, refer to Patent Document 7), epoxy compound, compound having one alcoholic hydroxyl group and one functional group selected from carboxyl group and amino group in one molecule, and unsaturated group-containing monocarboxylic acid There is a reaction product obtained by reacting a polybasic acid anhydride with a polybasic acid anhydride (see, for example, Patent Document 8).

さらには三塩基酸以上の酸無水物と2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応生成物単独又はそれと(メタ)アクリル酸との混合物を、カルボキシル基が未反応で残るようにエポキシ樹脂又はエポキシ(メタ)アクリレートと反応させた反応生成物がある(例えば、特許文献9,10)。   Furthermore, the reaction product of an acid anhydride of tribasic acid or more and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate alone or a mixture of it and (meth) acrylic acid is added to an epoxy resin or epoxy so that the carboxyl group remains unreacted. There is a reaction product reacted with (meth) acrylate (for example, Patent Documents 9 and 10).

特開昭61−243869号公報JP-A 61-243869 特開平3−253093号公報Japanese Patent Laid-Open No. 3-253093 特開平11−288091号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-288091 特開平11−315107号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-315107 特開平11−242331号公報JP-A-11-242331 特開2001−278947号公報JP 2001-278947 A 特開2000−321765号公報JP 2000-321765 A 特開2002−90994号公報JP 2002-90994 A 特開平4−170480号公報JP-A-4-170480 特開平4−170481号公報Japanese Patent Laid-Open No. 4-170481

しかしながら、上記特許文献に記載された発明は、いずれも形成される硬化皮膜に可撓性が付与され耐クラック性は解決しているものの、耐クラック性と同様に長期信頼性試験のひとつであるPCT(プレッシャー・クッカーテスト)耐性が十分でなく、皮膜の溶剤乾燥工程時における現像ライフが著しく短く、プリント配線板における配線パターンを形成することが困難であるなどの問題が生じている。さらに上記特許文献7において可撓性の程度を調整するために反応において飽和モノカルボン酸を多量に配合した場合、皮膜の溶剤乾燥工程後の指触乾燥性が著しく低下するという問題が生じており、また前記特許文献9においては、現像ライフを維持するために高価なマイクロカプセル化された熱硬化触媒を必要とする等の問題が生じている。   However, the inventions described in the above-mentioned patent documents are one of long-term reliability tests as well as crack resistance, although flexibility is imparted to the cured film to be formed and crack resistance is solved. PCT (pressure cooker test) resistance is not sufficient, development life in the solvent drying process of the film is remarkably short, and it is difficult to form a wiring pattern on a printed wiring board. Furthermore, when a large amount of saturated monocarboxylic acid is blended in the reaction in order to adjust the degree of flexibility in Patent Document 7, there is a problem that the dryness to touch after the solvent drying process of the film is remarkably lowered. In Patent Document 9, problems such as the need for an expensive microencapsulated thermosetting catalyst are required to maintain the development life.

このように、耐クラック性を解決するために形成される硬化皮膜に可撓性を付与した場合、一般にアルカリ現像性、もしくはPCT耐性のいずれかが大きく低下し、さらには溶剤乾燥工程における現像ライフや溶剤乾燥工程後の指触乾燥性が低下するなど、半導体パッケージのプリント配線板の製造に用いられるソルダーレジストインキとしての基本性能である皮膜の指触乾燥性、アルカリ現像性、現像ライフ、さらにはPCT耐性、はんだ耐熱性、基材との密着性、めっき性、電気絶縁性等をバランス良く両立させ、実装時及び長期信頼性試験の冷熱サイクル試験において発生する硬化皮膜のクラック問題を完全に解決することは極めて困難であり、これまで十分に満足するものがないのが現状である。   Thus, when flexibility is imparted to a cured film formed to solve crack resistance, generally either alkali developability or PCT resistance is greatly reduced, and further, the development life in the solvent drying step And the dryness of the touch after the solvent drying process is the basic performance as a solder resist ink used in the manufacture of printed wiring boards for semiconductor packages. Balances PCT resistance, solder heat resistance, adhesion to substrates, plating properties, electrical insulation, etc. in a well-balanced manner and completely eliminates the problem of cracks in the cured film that occurs during mounting and thermal cycle testing of long-term reliability tests. It is extremely difficult to solve, and there is nothing that has been fully satisfied so far.

本発明の目的は、優れた硬化皮膜を達成することが可能な多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物及び該多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物を含有する感光性熱硬化性樹脂組成物を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound capable of achieving an excellent cured film and a photosensitive thermosetting resin composition containing the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound. It is in.

本発明者らは、上記のような課題を解決するために鋭意検討を行った結果、上記の目的を達成するのに好適な新しい構造を有するエポキシ(メタ)アクリレート化合物を見出し、該エポキシ(メタ)アクリレート化合物に、エポキシ化合物、光重合開始剤、及び希釈剤を必須成分として配合した感光性熱硬化性樹脂組成物が、上記のような多岐に亘る必要特性に対しバランスの良い特性を示し、かつ形成される硬化皮膜のPCT耐性、めっき耐性が著しく優れた硬化物を与えることを見出し、本発明を完成させた。   As a result of intensive studies to solve the above-described problems, the present inventors have found an epoxy (meth) acrylate compound having a new structure suitable for achieving the above-described object, and the epoxy (meta) ) A photosensitive thermosetting resin composition in which an epoxy compound, a photopolymerization initiator, and a diluent are blended as essential components in an acrylate compound exhibits a well-balanced characteristic with respect to a wide variety of necessary characteristics as described above. And it discovered that the hardened | cured film formed formed the hardened | cured material which was remarkably excellent in PCT tolerance and plating tolerance, and completed this invention.

すなわち、本発明の多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)は、一分子中に少なくとも2個以上のエポキシ基を有する化合物(a)と(メタ)アクリル酸無水物(b)及び不飽和基含有モノカルボン酸(c)の反応物にさらに多塩基酸無水物(d)を反応させた下記一般式[化1]:

Figure 2011144230
に示すことを特徴とする。(式中、Xは二価の芳香族基及び/又はアルキル基及び/又はシクロヘキシル基、Yは二価の芳香族残基、ジカルボン酸残基を表す。Mは少なくとも1つは、(メタ)アクリル酸無水物が反応したカルボン酸残基であり、又少なくとも1つは、カルボキシル基を1個以上含有する多塩基酸無水物の残基であり、残りは水素原子を表す。Qは(メタ)アクリル酸無水物が水酸基と反応して生成する(メタ)アクリル酸の残基、及び不飽和基含有モノカルボン酸の残基を表す。mは、0〜100である。) That is, the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A) of the present invention includes a compound (a) having at least two epoxy groups in one molecule, (meth) acrylic anhydride (b), and an unsaturated group. A polybasic acid anhydride (d) was further reacted with the reaction product of the monocarboxylic acid (c) contained in the following general formula:
Figure 2011144230
It is characterized by the following. (In the formula, X represents a divalent aromatic group and / or an alkyl group and / or a cyclohexyl group, Y represents a divalent aromatic residue, and a dicarboxylic acid residue. M represents at least one of (meth) A carboxylic acid residue reacted with acrylic anhydride, and at least one is a residue of a polybasic acid anhydride containing one or more carboxyl groups, and the remainder represents a hydrogen atom. ) Represents a residue of (meth) acrylic acid produced by reaction of an acrylic anhydride with a hydroxyl group and a residue of an unsaturated group-containing monocarboxylic acid, where m is 0 to 100.)

また、本発明の化合物の好ましい実施態様において、多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)が、酸価60〜110mgKOH/gの範囲であることを特徴とする。   In a preferred embodiment of the compound of the present invention, the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A) has an acid value in the range of 60 to 110 mgKOH / g.

また、本発明の化合物の好ましい実施態様において、前記酸価の95%以上が多塩基酸無水物由来のカルボキシル基由来であることを特徴とする請求項2記載の多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)。   In a preferred embodiment of the compound of the present invention, the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound according to claim 2, wherein 95% or more of the acid value is derived from a carboxyl group derived from a polybasic acid anhydride. (A).

本発明の感光性熱硬化性樹脂組成物は、本発明の多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(B)、光重合開始剤(C)、希釈剤(D)を必須成分として含有することを特徴とする。   The photosensitive thermosetting resin composition of the present invention includes the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A) of the present invention, an epoxy compound (B) having two or more epoxy groups in one molecule, and a photopolymerization initiator. It contains (C) and diluent (D) as essential components.

本発明の硬化物は、本発明の感光性熱硬化性樹脂組成物を硬化させて得られることを特徴とする。   The cured product of the present invention is obtained by curing the photosensitive thermosetting resin composition of the present invention.

また、本発明の多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物は、一般式[化2]:

Figure 2011144230
(式中、Xは二価の芳香族基及び/又はアルキル基及び/又はシクロヘキシル基、Yは二価の芳香族残基、ジカルボン酸残基を表す。Mは少なくとも1つは、(メタ)アクリル酸無水物が反応したカルボン酸残基であり、又少なくとも1つは、カルボキシル基を1個以上含有する多塩基酸無水物の残基であり、残りは水素原子を表す。Qは(メタ)アクリル酸無水物が水酸基と反応して生成する(メタ)アクリル酸の残基、及び不飽和基含有モノカルボン酸の残基を表す。mは、0〜100である。)で表されることを特徴とする。 The polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound of the present invention has the general formula [Chemical Formula 2]:
Figure 2011144230
(In the formula, X represents a divalent aromatic group and / or an alkyl group and / or a cyclohexyl group, Y represents a divalent aromatic residue, and a dicarboxylic acid residue. M represents at least one of (meth) A carboxylic acid residue reacted with acrylic anhydride, and at least one is a residue of a polybasic acid anhydride containing one or more carboxyl groups, and the remainder represents a hydrogen atom. ) Represents a residue of (meth) acrylic acid generated by reaction of an acrylic anhydride with a hydroxyl group and a residue of an unsaturated group-containing monocarboxylic acid, where m is 0 to 100. It is characterized by that.

本発明における多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)は、分子中にラジカル重合し得る感光性の二重結合とカルボキシル基を有しており、紫外線(光)照射下で光重合開始剤によりラジカル重合して硬化物(仮硬化)を形成し、光照射されない部分は希アルカリ溶液により除去されるアルカリ現像性に優れており、さらに硬化物中に存在するカルボキシル基が、熱硬化工程(仕上げ硬化)において共存するエポキシ化合物(B)と反応して強固な結合を形成し優れた硬化皮膜を得ることができるという有利な効果を奏する。   The polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A) in the present invention has a photosensitive double bond and a carboxyl group capable of radical polymerization in the molecule, and is subjected to a photopolymerization initiator under ultraviolet (light) irradiation. Radiation polymerization forms a cured product (temporary curing), and the part not exposed to light is excellent in alkali developability, which is removed with a dilute alkaline solution, and the carboxyl group present in the cured product is a heat curing process (finishing) It has an advantageous effect that an excellent cured film can be obtained by reacting with the epoxy compound (B) coexisting in curing to form a strong bond.

本発明の多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物を含有する感光性熱硬化性樹脂組成物は、指触乾燥性、アルカリ現像性、紫外線に対する感度のバランスに優れ、かつレジスト塗膜として必要な密着性、はんだ耐熱性、PCT耐性に高いレベルで優れた硬化塗膜を与えることができるという有利な効果を奏する。そのためプリント配線板の製造、特にBGA(ボールドグリットアレイ)や、CSP(チップスケールパッケージ)などのICパッケージ製造の材料として最適であるという有利な効果を奏する。   The photosensitive thermosetting resin composition containing the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound of the present invention has an excellent balance of dryness to touch, alkali developability and sensitivity to ultraviolet rays, and adhesion necessary as a resist coating film. In addition, there is an advantageous effect that an excellent cured coating film can be provided at a high level in solder heat resistance and PCT resistance. Therefore, there is an advantageous effect that it is optimal as a material for manufacturing printed wiring boards, particularly IC packages such as BGA (Bold Grit Array) and CSP (Chip Scale Package).

合成例1で得られた多官能エポキシアクリレート化合物の核磁気共鳴スペクトルを示す。The nuclear magnetic resonance spectrum of the polyfunctional epoxy acrylate compound obtained in Synthesis Example 1 is shown. 合成例1で得られた多官能エポキシアクリレート化合物の赤外線吸収スペクトルを示す。The infrared absorption spectrum of the polyfunctional epoxy acrylate compound obtained in Synthesis Example 1 is shown.

本発明の一例について以下に説明する。まず、本明細書中において、(メタ)アクリル酸無水物とは、アクリル酸無水物、メタクリル酸無水物又はこれらの混合物を、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸、メタクリル酸又はこれらの混合物を、エポキシ(メタ)アクリレートとは、エポキシアクリレート、エポキシメタクリレート、又はこれらの混合物を意味する。また、感光性熱硬化性樹脂組成物を単に「硬化性樹脂組成物」ということがある。   An example of the present invention will be described below. First, in this specification, (meth) acrylic anhydride is acrylic anhydride, methacrylic anhydride or a mixture thereof, and (meth) acrylic acid is acrylic acid, methacrylic acid or a mixture thereof. And epoxy (meth) acrylate means epoxy acrylate, epoxy methacrylate, or a mixture thereof. In addition, the photosensitive thermosetting resin composition may be simply referred to as “curable resin composition”.

本発明の多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物は、一般式[化3]:

Figure 2011144230
で表される。 The polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound of the present invention has the general formula [Chemical Formula 3]:
Figure 2011144230
It is represented by

式中、Xは二価の芳香族基及び/又はアルキル基及び/又はシクロヘキシル基、Yは二価の芳香族残基、ジカルボン酸残基を表す。Mは少なくとも1つは、(メタ)アクリル酸無水物が反応したカルボン酸残基であり、又少なくとも1つは、カルボキシル基を1個以上含有する多塩基酸無水物の残基であり、残りは水素原子を表す。また、Qは(メタ)アクリル酸無水物が水酸基と反応して生成する(メタ)アクリル酸の残基、及び不飽和基含有モノカルボン酸の残基を表す。nは0〜100とすることができ、また、mは、0〜100とすることができる。   In the formula, X represents a divalent aromatic group and / or an alkyl group and / or a cyclohexyl group, and Y represents a divalent aromatic residue or a dicarboxylic acid residue. M is at least one carboxylic acid residue reacted with (meth) acrylic anhydride, and at least one is a polybasic acid anhydride residue containing one or more carboxyl groups, and the rest Represents a hydrogen atom. Q represents a residue of (meth) acrylic acid produced by the reaction of (meth) acrylic anhydride with a hydroxyl group and a residue of an unsaturated group-containing monocarboxylic acid. n can be 0 to 100, and m can be 0 to 100.

また、本発明の多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物は、一般式[化4]:

Figure 2011144230
で表される。 The polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound of the present invention has the general formula [Chemical Formula 4]:
Figure 2011144230
It is represented by

式中、Xは二価の芳香族基及び/又はアルキル基及び/又はシクロヘキシル基、Yは二価の芳香族残基、ジカルボン酸残基を表す。Mは少なくとも1つは、(メタ)アクリル酸無水物が反応したカルボン酸残基であり、又少なくとも1つは、カルボキシル基を1個以上含有する多塩基酸無水物の残基であり、残りは水素原子を表す。また、Qは(メタ)アクリル酸無水物が水酸基と反応して生成する(メタ)アクリル酸の残基、及び不飽和基含有モノカルボン酸の残基を表す。nは0〜100とすることでき、mは、0〜100とすることができる。   In the formula, X represents a divalent aromatic group and / or an alkyl group and / or a cyclohexyl group, and Y represents a divalent aromatic residue or a dicarboxylic acid residue. M is at least one carboxylic acid residue reacted with (meth) acrylic anhydride, and at least one is a polybasic acid anhydride residue containing one or more carboxyl groups, and the rest Represents a hydrogen atom. Q represents a residue of (meth) acrylic acid produced by the reaction of (meth) acrylic anhydride with a hydroxyl group and a residue of an unsaturated group-containing monocarboxylic acid. n can be 0-100, and m can be 0-100.

また、本発明は、1分子中に2個以上のエポキシ基を含有するエポキシ化合物(a)と(メタ)アクリル酸無水物(b)及び不飽和基含有モノカルボン酸(c)を反応させて得られる反応生成物に、さらに多塩基酸無水物(d)を反応させて得られる多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物、及び該酸変性エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)と、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(B)、光重合開始剤(C)、希釈剤(D)を必須成分として含有する感光性熱硬化性樹脂組成物、並びに該感光性熱硬化性樹脂組成物を硬化させて得られる優れた硬化皮膜特性を有する硬化物を提供するものである。   In the present invention, an epoxy compound (a) containing two or more epoxy groups in one molecule is reacted with a (meth) acrylic anhydride (b) and an unsaturated group-containing monocarboxylic acid (c). A polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound obtained by further reacting the resulting reaction product with a polybasic acid anhydride (d), and the acid-modified epoxy (meth) acrylate compound (A), in one molecule Photosensitive thermosetting resin composition containing epoxy compound (B) having two or more epoxy groups, photopolymerization initiator (C), diluent (D) as essential components, and the photosensitive thermosetting resin The present invention provides a cured product having excellent cured film characteristics obtained by curing the composition.

まず、本発明における多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)について説明する。本発明の多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)は、一分子中に少なくとも2個以上のエポキシ基を有する化合物(a)と(メタ)アクリル酸無水物(b)及び不飽和基含有モノカルボン酸(c)の反応物にさらに多塩基酸無水物(d)を反応させた下記一般式[化5]:

Figure 2011144230
、又は一般式[化6]:
Figure 2011144230
に示すことを特徴とする。(式中、Xは二価の芳香族基及び/又はアルキル基及び/又はシクロヘキシル基、Yは二価の芳香族残基、ジカルボン酸残基を表す。Mは少なくとも1つは、(メタ)アクリル酸無水物が反応したカルボン酸残基であり、又少なくとも1つは、カルボキシル基を1個以上含有する多塩基酸無水物の残基であり、残りは水素原子を表す。Qは(メタ)アクリル酸無水物が水酸基と反応して生成する(メタ)アクリル酸の残基、及び不飽和基含有モノカルボン酸の残基を表す。nは0〜100、mは、0〜100である。) First, the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A) in this invention is demonstrated. The polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A) of the present invention comprises a compound (a) having at least two epoxy groups in one molecule, a (meth) acrylic anhydride (b), and an unsaturated group-containing mono The reaction product of carboxylic acid (c) is further reacted with polybasic acid anhydride (d):
Figure 2011144230
Or the general formula [Formula 6]:
Figure 2011144230
It is characterized by the following. (In the formula, X represents a divalent aromatic group and / or an alkyl group and / or a cyclohexyl group, Y represents a divalent aromatic residue, and a dicarboxylic acid residue. M represents at least one of (meth) A carboxylic acid residue reacted with acrylic anhydride, and at least one is a residue of a polybasic acid anhydride containing one or more carboxyl groups, and the remainder represents a hydrogen atom. ) Represents a residue of (meth) acrylic acid and an unsaturated group-containing monocarboxylic acid produced by the reaction of an acrylic anhydride with a hydroxyl group, where n is 0 to 100 and m is 0 to 100. .)

上記の多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)は、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(a)と(メタ)アクリル酸無水物(b)及び不飽和基含有モノカルボン酸(c)を、後述の公知の触媒及び重合禁止剤の存在下又は非存在下、不活性ガス気流中又は空気を存在させ、後述の希釈剤の存在下又は非存在下、60〜150℃で反応させて分子中に2級アルコール性水酸基および不飽和基を有する反応生成物を得、更に該反応生成物中に残存するアルコール性水酸基に多塩基酸無水物(d)を30〜150℃で反応させることにより得ることができる。   The polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A) is composed of an epoxy compound (a) having two or more epoxy groups in one molecule, (meth) acrylic anhydride (b), and an unsaturated group-containing monocarboxylic acid. The acid (c) is added in the presence or absence of a known catalyst and a polymerization inhibitor described below, in an inert gas stream or air, and in the presence or absence of a diluent described below, 60 to 150 ° C. To obtain a reaction product having a secondary alcoholic hydroxyl group and an unsaturated group in the molecule, and further adding a polybasic acid anhydride (d) to the alcoholic hydroxyl group remaining in the reaction product at 30 to 150 ° C. It can obtain by making it react.

なお、1分子中に2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(a)と(メタ)アクリル酸無水物(b)及び不飽和基含有モノカルボン酸(c)との反応の追跡は、JIS
K6901に記す酸価(mgKOH/g)の測定により確認した。また、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(a)と(メタ)アクリル酸無水物(b)及び不飽和基含有モノカルボン酸(c)との反応生成物と多塩基酸無水物(d)との反応は、IR測定から酸無水物特有の吸収波長(1780cm-1)の存在の有無及び酸価測定により追跡確認した。
The reaction of the epoxy compound (a) having two epoxy groups in one molecule, the (meth) acrylic anhydride (b), and the unsaturated group-containing monocarboxylic acid (c) can be traced according to JIS.
The acid value (mgKOH / g) described in K6901 was confirmed by measurement. Also, a reaction product of an epoxy compound (a) having two or more epoxy groups in one molecule, (meth) acrylic anhydride (b) and an unsaturated group-containing monocarboxylic acid (c), and a polybasic acid The reaction with the anhydride (d) was traced and confirmed by the presence or absence of an absorption wavelength (1780 cm −1 ) peculiar to the acid anhydride and the acid value measurement from IR measurement.

前記エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)を合成する際に使用する1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(a)としては、特に限定されないが、1分子中に2個以上の活性水素を有するフェノール類、カルボン酸類、グリコール類、又はアミン類を、単独又は2種以上を組み合わせて、公知の方法によりエピクロルヒドリンにてエポキシ化することにより得ることができるエポキシ化合物、1分子中に2個の活性水素を有するフェノール類、カルボン酸類、グリコール類、又はアミン類を、単独又は2種以上を組み合わせて、公知の方法によりエピクロルヒドリンにてエポキシ化し、さらに分子中における2級のアルコール性水酸基を公知の方法によりエピクロルヒドリンにてエポキシ化して得られる1分子中に3個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物、フェノール、クレゾール等のフェノール類をホルムアルデヒドで付加縮合して得られる1分子中に3個以上のフェノール性水酸基を有するフェノールノボラック類を公知の方法によりエピクロルヒドリンにてエポキシ化することにより得られる1分子中に3個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物、1分子中に2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物と2個の活性水素を有するジカルボン酸類、不飽和基含有ジカルボン酸類、フェノール類のいずれかを反応させて得られるエポキシ化合物が挙げられる。   Although it does not specifically limit as an epoxy compound (a) which has two or more epoxy groups in 1 molecule used when synthesize | combining the said epoxy (meth) acrylate compound (A), 2 or more in 1 molecule An epoxy compound that can be obtained by epoxidizing epichlorohydrin by a known method with phenols, carboxylic acids, glycols, or amines having active hydrogen, alone or in combination of two or more, in one molecule Phenols, carboxylic acids, glycols, or amines having two active hydrogens are epoxidized with epichlorohydrin by a known method, alone or in combination of two or more, and secondary alcoholic hydroxyl groups in the molecule In a molecule obtained by epoxidation with epichlorohydrin by a known method. Epoxy compounds having the above epoxy groups, phenol novolaks having 3 or more phenolic hydroxyl groups in one molecule obtained by addition-condensation of phenols such as phenol and cresol with formaldehyde can be epoxyized with epichlorohydrin by a known method. An epoxy compound having three or more epoxy groups in one molecule obtained by the conversion, an epoxy compound having two epoxy groups in one molecule and dicarboxylic acids having two active hydrogens, an unsaturated group-containing dicarboxylic acid Examples include epoxy compounds obtained by reacting either acids or phenols.

1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(a)は、一般的な市販品も使用することができる。市販品としては、例えば、ジャパンエポキシレジン社製の商品名「エピコート828」、「エピコート834」、「エピコート1001」、「エピコート1004」、大日本インキ化学工業社製の商品名「エピクロン840」、「エピクロン850」、「エピクロン1050」、「エピクロン2055」、東都化成社製の商品名「エポトート128」、ダウケミカル社製の商品名「D.E.R.317」、「D.E.R.331」、「D.E.R.661」、「D.E.R.664」、旭化成工業社製の商品名「アラルダイト250」、「アラルダイト260」、「アラルダイト2600」、住友化学工業社製の商品名「スミエポキシESA−011」、「スミエポキシESA−014」、「スミエポキシELA−128」等のビスフェノールA型エポキシ化合物、大日本インキ化学工業社製の商品名「エピクロン830S」、ジャパンエポキシレジン社製の商品名「エピコート807」、東都化成社製の商品名エポトートYDF−170」、「エポトートYDF−175」、「エポトートYDF−2004」、旭化成工業社製の「アラルダイトXPY306」等のビスフェノールF型エポキシ化合物、日本化薬製の商品名「EBPS−200」、旭電化工業社製の商品名「EPX−30」、大日本インキ化学工業社製の商品名「エピクロンEXA1514」等のビスフェノールS型エポキシ化合物、大阪ガス社製の商品名「BPFG」等のビスフェノールフルオレン型エポキシ化合物、ジャパンエポキシレジン社製の商品名「YL−6056」、「YL−6021」、「YX−4000」、「YX−4000H」等のビキシレノール型、或いはビフェニル型エポキシ化合物、又はそれらの混合物、東都化成社製の商品名「エポトートST−2004」、「ST−2007」、「ST−3000」等の水添ビスフェノールA型エポキシ化合物、ジャパンエポキシレジン社製の商品名「エピコート152」、「エピコート154」、ダウケミカル社製の商品名「D.E.N.431」、「D.E.N.438」、大日本インキ化学工業社製の商品名「エピクロンN−690」、「エピクロンN−695」、「エピクロンN−730」、「エピクロンN−770」、「エピクロンN−865」、東都化成社製の商品名「エポトートYDCN−701」、「エポトートYDCN−704」、旭化成工業社製の商品名「アラルダイトECN1235」、「アラルダイトECN1273」、「アラルダイトECN1299」、「アラルダイトXPY307」、日本化薬社製の商品名「EPPN−201」、「EOCN−1025」、「EOCN−1020」、「EOCN−104S」、「RE−306」、住友化学工業社製の商品名「スミエポキシESCN−195X」、「ESCN−220」等のノボラック型エポキシ化合物、ジャパンエポキシレジン社製の商品名「エピコートYL−903」、大日本インキ化学工業社製の商品名「エピクロン152」、「エピクロン165」、東都化成社製の商品名「エポトートYDB−400」、「エポトートYDB−500」、ダウケミカル社製の商品名「D.E.R542」、旭化成工業社製の商品名「アラルダイト8018」、住友化学工業社製の商品名「スミエポキシESB−400」、「スミエポキシESB−700」等の臭素化ビスフェノールA型エポキシ化合物、新日鉄化学社製の商品名「ESN−190」、「ESN−360」、大日本インキ化学工業社製の商品名「HP−4032」、「EXA−4700」、「EXA−4750」等のナフタレン骨格を有するエポキシ化合物、大日本インキ化学工業社製の商品名「HP−7200」、「HP−7200H」等のジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ化合物、ジャパンエポキシレジン社製の商品名「YL−933」、日本化薬社製の商品名「EPPN−501」「EPPN−502」等のトリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ化合物、日産化学社製の商品名「TEPIC」、三菱ガス化学社製の商品名「TGI」等の複素環式エポキシ化合物、ジャパンエポキシレジン社製の商品名「エピコート604」、東都化成社製の商品名「エポトートYH−434」、旭化成工業社製の商品名「アラルダイトMY720」、住友化学工業社製の商品名「スミエポキシELM−120」等のグリシジルアミン型エポキシ化合物、ダイセル化学工業社製の商品名「セロキサイド2011」、旭化成工業社製の商品名「アラルダイトCY175」、「アラルダイトCY179」、新日本理化社製の商品名「HBE−100」等の脂環式エポキシ化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらエポキシ化合物は単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   A general commercial item can also be used for the epoxy compound (a) which has a 2 or more epoxy group in 1 molecule. Examples of commercially available products include “Epicoat 828”, “Epicoat 834”, “Epicoat 1001” and “Epicoat 1004” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., and “Epicron 840” manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. “Epicron 850”, “Epicron 1050”, “Epicron 2055”, trade names “Epototo 128” manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd., trade names “D.E.R. 317”, “D.E.R. .331 ”,“ D.E.R.661 ”,“ D.E.R.664 ”, trade names“ Araldite 250 ”,“ Araldite 260 ”,“ Araldite 2600 ”manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd., Sumitomo Chemical Co., Ltd. Bisphenols such as “Sumiepoxy ESA-011”, “Sumiepoxy ESA-014”, “Sumiepoxy ELA-128” Type A epoxy compound, trade name “Epicron 830S” manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., product name “Epicoat 807” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade names “Epototo YDF-170”, “Epototo YDF-” manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd. 175 ”,“ Epototo YDF-2004 ”,“ Araldite XPY306 ”manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd., Nippon Kayaku product name“ EBPS-200 ”, Asahi Denka Kogyo product name“ EPX ” -30 ", bisphenol S-type epoxy compounds such as Dainippon Ink & Chemicals' brand name" Epicron EXA1514 ", bisphenol fluorene-type epoxy compounds such as Osaka Gas's brand name" BPFG ", Japan Epoxy Resin Product names “YL-6056”, “YL-6021”, “YX-4” 00 ”,“ YX-4000H ”and other bixylenol type or biphenyl type epoxy compounds, or mixtures thereof, trade names“ Epototo ST-2004 ”,“ ST-2007 ”,“ ST-3000 ”manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd. Hydrogenated bisphenol A type epoxy compounds such as “Epicoat 152” and “Epicoat 154” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., and “D.E.N. 431” and “D.E. N.438 ”, trade names“ Epicron N-690 ”,“ Epicron N-695 ”,“ Epicron N-730 ”,“ Epicron N-770 ”,“ Epicron N-865 ”, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Product names “Epototo YDCN-701”, “Epototo YDCN-704” manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., “Araldite” manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd. “ECN1235”, “Araldite ECN1273”, “Araldite ECN1299”, “Araldite XPY307”, trade names “EPPN-201”, “EOCN-1025”, “EOCN-1020”, “EOCN-104S” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. “RE-306”, trade names “Sumiepoxy ESCN-195X” and “ESCN-220” manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name “Epicoat YL-903” manufactured by Japan Epoxy Resin, Dainippon Trade names “Epicron 152” and “Epicron 165” manufactured by Ink Chemical Industries, Ltd., “Epototo YDB-400” and “Epototo YDB-500” manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd., and “D. E. R542 ”, trade name“ Araldite 8018 ”manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd., brominated bisphenol A type epoxy compounds such as“ Sumiepoxy ESB-400 ”and“ Sumiepoxy ESB-700 ”manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd. Epoxy compounds having a naphthalene skeleton such as “ESN-190”, “ESN-360”, and trade names “HP-4032”, “EXA-4700”, “EXA-4750” manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. Epoxy compounds having a dicyclopentadiene skeleton such as trade names “HP-7200” and “HP-7200H” manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., trade names “YL-933” manufactured by Japan Epoxy Resin, Nippon Kayaku Trishydroxyphenylmethane type epoxy such as “EPPN-501” and “EPPN-502” Compound, product name “TEPIC” manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., heterocyclic epoxy compound such as product name “TGI” manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, product name “Epicoat 604” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. Glycidylamine-type epoxy compounds such as “Epototo YH-434”, Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd. “Araldite MY720”, Sumitomo Chemical Co., Ltd. “Sumiepoxy ELM-120”, Daicel Chemical Industries, Ltd. Examples include alicyclic epoxy compounds such as the name “Celoxide 2011”, trade names “Araldite CY175”, “Araldite CY179” manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd., and the product name “HBE-100” manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd. It is not limited to. These epoxy compounds can be used alone or in combination of two or more.

1分子中に2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物を変性する2個の活性水素を有するフェノール類としては、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ナフタレンジオールなどが挙げられ、ジカルボン酸類としては、イソフタル酸、テレフタル酸、ダイマー酸、ナフタレンジカルボン酸などが挙げられ、不飽和基含有ジカルボン酸類としては、無水トリメリット酸と不飽和基含有モノアルコールの反応物、無水ピロメリット酸と不飽和基含有モノアルコールの反応物などが挙げられる。前記の不飽和基含有モノアルコールとは、水酸基含有(メタ)アクリル酸エステルのことであり、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール(トリ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。   Examples of phenols having two active hydrogens that modify an epoxy compound having two epoxy groups in one molecule include bisphenol A, bisphenol F, and naphthalene diol. Dicarboxylic acids include isophthalic acid and terephthalic acid. Acid, dimer acid, naphthalene dicarboxylic acid, etc., and unsaturated group-containing dicarboxylic acids include reaction products of trimellitic anhydride and unsaturated group-containing monoalcohol, reaction of pyromellitic anhydride and unsaturated group-containing monoalcohol Such as things. The unsaturated group-containing monoalcohol is a hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid ester, and includes 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth) acrylate. , Trimethylolpropane di (meth) acrylate, pentaerythritol (tri) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and the like.

前記多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)を合成する際に使用する(メタ)アクリル酸無水物(b)とは、アクリル酸無水物、メタクリル酸無水物、アクリル酸メタクリル酸無水物のことであり、単独又は2種を組み合わせて使用することができる。   The (meth) acrylic anhydride (b) used when synthesizing the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A) refers to acrylic anhydride, methacrylic anhydride, and acrylic acid / methacrylic anhydride. It can be used alone or in combination of two.

前記エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)を合成する際に使用する不飽和基含有モノカルボン酸(c)は、ラジカル重合性を示すモノカルボン酸であり、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、二塩基酸無水物と水酸基含有(メタ)アクリル酸エステルの付加物、(メタ)アクリル酸カプロラクトン付加物と二塩基酸無水物の付加物が挙げられる。二塩基酸無水物としては、無水コハク酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸などが挙げられる。水酸基含有(メタ)アクリル酸エステルとしては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール(トリ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。ここで特に好ましいのはアクリル酸、メタクリル酸である。これら不飽和基含有モノカルボン酸(c)は単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   The unsaturated group-containing monocarboxylic acid (c) used when synthesizing the epoxy (meth) acrylate compound (A) is a monocarboxylic acid exhibiting radical polymerizability, such as acrylic acid, methacrylic acid, dibasic acid. Examples include an adduct of an acid anhydride and a hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid ester, an adduct of a (meth) acrylic acid caprolactone adduct and a dibasic acid anhydride. Examples of the dibasic acid anhydride include succinic anhydride, phthalic anhydride, and tetrahydrophthalic anhydride. Examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid ester include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, pentaerythritol ( And tri) acrylate and dipentaerythritol penta (meth) acrylate. Particularly preferred here are acrylic acid and methacrylic acid. These unsaturated group-containing monocarboxylic acids (c) can be used alone or in combination of two or more.

上記の多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)の合成配合は、1分子中に2個以上のエポキシ化合物(a)のエポキシ基1当量に対し、(メタ)アクリル酸無水物(b)及び不飽和基含有モノカルボン酸(c)のカルボキシル基の合計が0.8〜1.5当量の範囲で、好ましくは1.0〜1.2当量の範囲、さらに好ましくは1.0〜1.05当量の範囲で配合される。カルボキシル基の合計が0.8当量未満の場合は、反応中にゲル化を起こす虞がある。一方、1.5当量を超える場合は、未反応の(メタ)アクリル酸無水物(b)、又は不飽和基含有モノカルボン酸(c)がエポキシ(メタ)アクリレート化合物に残存する虞がある。   The synthesis blend of the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A) is (meth) acrylic anhydride (b) and 1 equivalent of epoxy group of two or more epoxy compounds (a) in one molecule. The total of the carboxyl groups of the unsaturated group-containing monocarboxylic acid (c) is in the range of 0.8 to 1.5 equivalents, preferably in the range of 1.0 to 1.2 equivalents, more preferably 1.0 to 1. It is blended in the range of 05 equivalents. If the total number of carboxyl groups is less than 0.8 equivalent, gelation may occur during the reaction. On the other hand, when it exceeds 1.5 equivalents, unreacted (meth) acrylic anhydride (b) or unsaturated group-containing monocarboxylic acid (c) may remain in the epoxy (meth) acrylate compound.

前記多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)における1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(a)と(メタ)アクリル酸無水物(b)及び不飽和基含有モノカルボン酸(c)との反応は、上記の配合で、さらに後述する公知の重合禁止剤を存在させ、後述する希釈剤の存在下又は非存在下で、反応温度60〜150℃、好ましくは80〜130℃に加熱して、好ましくは空気の存在下、反応時間は0.5〜30時間の範囲内で反応させる。反応温度が60℃より低い場合は、長時間反応が必要となり不経済である一方、150℃より高い場合は、反応中にゲル化を起こす虞がある。反応混合物はエポキシ基とカルボキシル基との反応を進め、上記反応混合物の酸価として10mgKOH/g未満、好ましくは5mgKOH/g、より好ましくは1mgKOH/g以下まで反応させ、上記(メタ)アクリル酸無水物(b)及び不飽和基含有モノカルボン酸(c)由来のカルボキシル基をできるだけ少なくすることが好ましい。酸価が10mgKOH/gよりも大きい場合はインキの安定性、現像性が低下する虞がある。   In the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A), an epoxy compound (a) having two or more epoxy groups in one molecule, a (meth) acrylic anhydride (b), and an unsaturated group-containing monocarboxylic acid ( In the reaction with c), a known polymerization inhibitor described later is further added in the above-mentioned formulation, and the reaction temperature is 60 to 150 ° C., preferably 80 to 130 ° C. in the presence or absence of a diluent described later. The reaction time is preferably in the range of 0.5 to 30 hours in the presence of air. When the reaction temperature is lower than 60 ° C, the reaction is required for a long time, which is uneconomical. On the other hand, when the reaction temperature is higher than 150 ° C, gelation may occur during the reaction. The reaction mixture proceeds with the reaction between the epoxy group and the carboxyl group, and the reaction mixture is reacted to an acid value of less than 10 mgKOH / g, preferably 5 mgKOH / g, more preferably 1 mgKOH / g or less, and the (meth) acrylic anhydride is reacted. It is preferable to reduce the number of carboxyl groups derived from the product (b) and the unsaturated group-containing monocarboxylic acid (c) as much as possible. When the acid value is larger than 10 mgKOH / g, the stability and developability of the ink may be deteriorated.

前記多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)の製造における上記1分子中に少なくとも2個以上のエポキシ基を有する化合物(a)と(メタ)アクリル酸無水物(b)及び不飽和基含有モノカルボン酸(c)反応に際して、反応を円滑に進めるために公知の触媒を用いることが好ましい。このような触媒としては、例えば、トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン等の3級アミン又は4級アンモニウム塩、イミダゾール、2−メチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体、トリフェニルホスフィン等の有機燐化合物、トリフェニルアンチモン等の有機アンチモン化合物を挙げることができる。   Compound (a) having at least two epoxy groups in one molecule in the production of the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A), (meth) acrylic anhydride (b), and unsaturated group-containing mono In the carboxylic acid (c) reaction, it is preferable to use a known catalyst in order to facilitate the reaction. Examples of such catalysts include tertiary amines such as triethylamine and dimethylbenzylamine or quaternary ammonium salts, imidazole derivatives such as imidazole and 2-methylimidazole, organic phosphorus compounds such as triphenylphosphine, and triphenylantimony. Mention may be made of organic antimony compounds.

これらの触媒は、一分子中に少なくとも2個以上のエポキシ基を有する化合物(a)と(メタ)アクリル酸無水物(b)及び不飽和基含有モノカルボン酸(c)の合計100重量部に対して、0.01〜10重量部の範囲、好ましくは0.05〜5重量部の範囲で使用することができる。0.01未満の場合は、反応に長時間を要し不経済である一方、10重量部を超える場合は、反応が早すぎるため、温度コントロールが難しく、発熱が高い場合はゲル化を起こす虞がある。   These catalysts are used in a total of 100 parts by weight of the compound (a) having at least two epoxy groups in one molecule, the (meth) acrylic anhydride (b) and the unsaturated group-containing monocarboxylic acid (c). On the other hand, it can be used in the range of 0.01 to 10 parts by weight, preferably in the range of 0.05 to 5 parts by weight. If it is less than 0.01, it takes a long time for the reaction, which is uneconomical, while if it exceeds 10 parts by weight, the reaction is too early, so that temperature control is difficult, and if the heat generation is high, gelation may occur. There is.

上記多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)の製造における1分子中に少なくとも2個以上のエポキシ基を有する化合物(a)と(メタ)アクリル酸無水物(b)及び不飽和基含有モノカルボン酸(c)反応は、製造中の安定性と反応生成物の貯蔵安定性を確保するため、公知の重合禁止剤を使用してもよい。   Compound (a) having at least two epoxy groups in one molecule, (meth) acrylic anhydride (b) and unsaturated group-containing monocarboxylic acid in the production of the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A) In the acid (c) reaction, a known polymerization inhibitor may be used in order to ensure stability during production and storage stability of the reaction product.

このような重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、モノメチルエーテルハイドロキノン、トルハイドロキノン、ジ−tert−4−メチルフェノール、トリモノメチルエーテルハイドロキノン、フェノチアジン、tert−ブチルカテコール等を挙げることができる。これの使用量は、上記一分子中に少なくとも2個以上のエポキシ基を有する化合物(a)と(メタ)アクリル酸無水物(b)及び不飽和基含有モノカルボン酸(c)の合計100重量部に対して、それぞれ0.0001〜1重量部の範囲、好ましくは0.001〜0.2重量部の範囲で使用することができる。0.0001重量部未満の場合は、重合禁止効果が小さく、反応途中でゲル化を起こし、目的とする化合物が得られない場合や、反応生成物の貯蔵安定性が著しく低下する場合がある。一方、1重量部を超える場合は、前記多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)とエポキシ化合物(B)を含有する硬化性樹脂組成物の硬化反応を阻害し、未硬化物を含有する硬化物が得られ、各特性の要求性能を満足しない虞がある。   Examples of such a polymerization inhibitor include hydroquinone, monomethyl ether hydroquinone, toluhydroquinone, di-tert-4-methylphenol, trimonomethyl ether hydroquinone, phenothiazine, and tert-butylcatechol. The amount used is a total of 100 weights of the compound (a) having at least two epoxy groups in one molecule, the (meth) acrylic anhydride (b) and the unsaturated group-containing monocarboxylic acid (c). Each part can be used in the range of 0.0001 to 1 part by weight, preferably 0.001 to 0.2 part by weight. When the amount is less than 0.0001 part by weight, the polymerization inhibition effect is small, gelation occurs during the reaction, and the target compound may not be obtained, or the storage stability of the reaction product may be significantly reduced. On the other hand, when the amount exceeds 1 part by weight, the curing reaction of the curable resin composition containing the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A) and the epoxy compound (B) is inhibited, and the curing contains an uncured product. Products may be obtained and the required performance of each characteristic may not be satisfied.

本発明の多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)は、上記した1分子中に少なくとも2個以上のエポキシ基を有する化合物(a)と(メタ)アクリル酸無水物(b)及び不飽和基含有モノカルボン酸(c)の反応によって得られる反応生成物中に残存する2級のアルコール性水酸基に、さらに多塩基酸無水物(d)を反応させ、分子中にカルボキシル基を導入したポリカルボン酸エポキシ(メタ)アクリレート化合物である。   The polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A) of the present invention includes the compound (a) having at least two epoxy groups in one molecule, the (meth) acrylic anhydride (b), and the unsaturated group. A polycarboxylic acid in which a secondary alcoholic hydroxyl group remaining in the reaction product obtained by the reaction of the containing monocarboxylic acid (c) is further reacted with a polybasic acid anhydride (d) to introduce a carboxyl group into the molecule. It is an acid epoxy (meth) acrylate compound.

上記多塩基酸無水物(d)としては、例えば、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、オクテニル無水コハク酸、ペンタドデセニル無水コハク酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、3,6−エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、テトラブロモ無水フタル酸等の二塩基酸無水物、無水トリメリット酸等の三塩基酸無水物、無水ピロメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、エチレングリコール−ビス(無水トリメリット酸)エステル、グリセリンα、α−ビス(無水トリメリット酸)エステルβ−モノ酢酸エステル、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物等の四塩基酸無水物が挙げられる。   Examples of the polybasic acid anhydride (d) include maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, octenyl succinic anhydride, pentadodecenyl succinic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, and methyltetrahydrophthalic anhydride. , Hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, nadic anhydride, 3,6-endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, dibasic acid anhydrides such as tetrabromophthalic anhydride, and tribasic acid anhydrides such as trimellitic anhydride , Pyromellitic anhydride, biphenyl tetracarboxylic dianhydride, diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, butane tetracarboxylic dianhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, diphenyl sulfone tetracarboxylic dianhydride, ethylene glycol -Bis (anhydrous Trimellitic acid) ester, glycerol alpha, alpha-bis (trimellitic anhydride) ester β- monoacetate, tetracarboxylic acid anhydrides such as naphthalene tetracarboxylic acid dianhydride.

これらのうちインキの安定性、現像性から無水コハク酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等の脂肪族或いは脂環式構造を有する多塩基酸無水物を選択することが好ましい。また、上記多塩基酸無水物(d)は、単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   Of these, polybasic bases having aliphatic or alicyclic structures such as succinic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, etc. due to ink stability and developability It is preferred to select an acid anhydride. Moreover, the said polybasic acid anhydride (d) can be used individually or in combination of 2 or more types.

本発明の好ましい実施態様において、多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)の酸価は60〜110mgKOH/gの範囲内であればよい。多塩基酸無水物(d)の使用量は、上記(a)、(b)および(c)の配合比、これらの反応生成物中の2級アルコール性水酸基含有量並びに所望する酸価等により、適宜上記の酸価を満足するに足る量が使用される。また、酸価の95%以上が多塩基酸無水物(d)由来のカルボキシル基であることがインキの安定性、現像性の面から望ましい。また、酸価が60mgKOH/g未満の場合は、アルカリ水溶液に対する溶解性が悪くなり、形成した硬化皮膜の現像が困難になる虞があり、また、はんだ耐熱性やPCT耐性などが低下する虞がある。一方、110mgKOH/gを超える場合は、光硬化(仮硬化)における露光の条件によらず露光部の表面まで現像されてしまう虞があり、また、耐湿性の低下を招く虞がある。   In a preferred embodiment of the present invention, the acid value of the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A) may be in the range of 60 to 110 mgKOH / g. The amount of polybasic acid anhydride (d) used depends on the blending ratio of the above (a), (b) and (c), the secondary alcoholic hydroxyl group content in these reaction products, the desired acid value, etc. An amount sufficient to satisfy the above acid value is appropriately used. Further, it is desirable from the viewpoint of ink stability and developability that 95% or more of the acid value is a carboxyl group derived from the polybasic acid anhydride (d). Further, when the acid value is less than 60 mgKOH / g, the solubility in an alkaline aqueous solution is deteriorated, and there is a possibility that development of the formed cured film may be difficult, and solder heat resistance, PCT resistance, etc. may be lowered. is there. On the other hand, if it exceeds 110 mgKOH / g, the surface of the exposed portion may be developed regardless of the exposure conditions in photocuring (temporary curing), and the moisture resistance may be lowered.

本発明の1分子中に少なくとも2個以上のエポキシ基を有する化合物(a)と(メタ)アクリル酸無水物(b)及び不飽和基含有モノカルボン酸(c)の反応によって得られる反応生成物中に残存する2級のアルコール性水酸基と多塩基酸無水物(d)の反応は、後記の希釈剤の存在下又は非存在下で、反応温度30〜150℃、好ましくは70〜130℃に加熱して、好ましくは空気の存在下、反応時間は0.5〜30時間反応させることができる。反応温度が30℃より低い場合は、反応に長時間を要し不経済である一方、150℃より高い場合は、反応中にゲル化を起こす虞がある。また、反応においては、反応を円滑に進める目的や製造中の安定性と反応生成物の貯蔵安定性を確保する目的で、上記の公知の重合禁止剤及び触媒を追加して使用することができる。   Reaction product obtained by reaction of compound (a) having at least two epoxy groups in one molecule of the present invention, (meth) acrylic anhydride (b) and unsaturated group-containing monocarboxylic acid (c) The reaction between the secondary alcoholic hydroxyl group remaining in the polybasic acid anhydride (d) is carried out at a reaction temperature of 30 to 150 ° C., preferably 70 to 130 ° C. in the presence or absence of a diluent described later. The reaction time can be 0.5 to 30 hours by heating, preferably in the presence of air. When the reaction temperature is lower than 30 ° C., the reaction takes a long time and is uneconomical, whereas when it is higher than 150 ° C., gelation may occur during the reaction. Further, in the reaction, the above-mentioned known polymerization inhibitors and catalysts can be additionally used for the purpose of smoothly promoting the reaction and ensuring the stability during production and the storage stability of the reaction product. .

次に、本発明の多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)と、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(B)、光重合開始剤(C)および希釈剤(D)を含有する感光性熱硬化性樹脂組成物について説明する。   Next, the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A) of the present invention, an epoxy compound (B) having two or more epoxy groups in one molecule, a photopolymerization initiator (C), and a diluent (D) The photosensitive thermosetting resin composition containing the bismuth will be described.

多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)については、上述した本発明の多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)の説明を参照することができる。   About the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A), the description of the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A) of the present invention described above can be referred to.

上記感光性熱硬化性樹脂組成物を構成する1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(B)は、特に限定されないが、1分子中に2個以上の活性水素を有するフェノール類、カルボン酸類、グリコール類、又はアミン類を、単独又は2種以上を組み合わせて、公知の方法によりエピクロルヒドリンにてエポキシ化することにより得ることができる。また、1分子中に2個の活性水素を有するフェノール類、カルボン酸類、グリコール類、又はアミン類を、単独又は2種以上を組み合わせて、公知の方法によりエピクロルヒドリンにてエポキシ化し、さらに分子中における2級のアルコール性水酸基を公知の方法によりエピクロルヒドリンにてエポキシ化して得られる1分子中に3個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物も使用することができる。さらには、フェノール、クレゾール等のフェノール類をホルムアルデヒドで付加縮合して得られる1分子中に3個以上のフェノール性水酸基を有するフェノールノボラック類を公知の方法によりエピクロルヒドリンにてエポキシ化することにより得られる1分子中に3個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物も使用することができる。   The epoxy compound (B) having two or more epoxy groups in one molecule constituting the photosensitive thermosetting resin composition is not particularly limited, but phenols having two or more active hydrogens in one molecule. Carboxylic acids, glycols, or amines can be obtained by epoxidizing with epichlorohydrin by a known method, alone or in combination of two or more. Also, phenols, carboxylic acids, glycols, or amines having two active hydrogens in one molecule are epoxidized with epichlorohydrin by a known method, alone or in combination of two or more, and further in the molecule An epoxy compound having three or more epoxy groups in one molecule obtained by epoxidizing a secondary alcoholic hydroxyl group with epichlorohydrin by a known method can also be used. Furthermore, it is obtained by epoxidizing phenol novolaks having 3 or more phenolic hydroxyl groups in one molecule obtained by addition condensation of phenols such as phenol and cresol with formaldehyde by a known method. Epoxy compounds having 3 or more epoxy groups in one molecule can also be used.

上記1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(B)は、一般的な市販品も使用することができる。市販品としては、例えば、ジャパンエポキシレジン社製の商品名「エピコート828」、「エピコート834」、「エピコート1001」、「エピコート1004」、大日本インキ化学工業社製の商品名「エピクロン840」、「エピクロン850」、「エピクロン1050」、「エピクロン2055」、東都化成社製の商品名「エポトート128」、ダウケミカル社製の商品名「D.E.R.317」、「D.E.R.331」、「D.E.R.661」、「D.E.R.664」、旭化成工業社製の商品名「アラルダイト250」、「アラルダイト260」、「アラルダイト2600」、住友化学工業社製の商品名「スミエポキシESA−011」、「スミエポキシESA−014」、「スミエポキシELA−128」等のビスフェノールA型エポキシ化合物、大日本インキ化学工業社製の商品名「エピクロン830S」、ジャパンエポキシレジン社製の商品名「エピコート807」、東都化成社製の商品名エポトートYDF−170」、「エポトートYDF−175」、「エポトートYDF−2004」、旭化成工業社製の「アラルダイトXPY306」等のビスフェノールF型エポキシ化合物、日本化薬製の商品名「EBPS−200」、旭電化工業社製の商品名「EPX−30」、大日本インキ化学工業社製の商品名「エピクロンEXA1514」等のビスフェノールS型エポキシ化合物、大阪ガス社製の商品名「BPFG」等のビスフェノールフルオレン型エポキシ化合物、ジャパンエポキシレジン社製の商品名「YL−6056」、「YL−6021」、「YX−4000」、「YX−4000H」等のビキシレノール型、或いはビフェニル型エポキシ化合物、又はそれらの混合物、東都化成社製の商品名「エポトートST−2004」、「ST−2007」、「ST−3000」等の水添ビスフェノールA型エポキシ化合物、ジャパンエポキシレジン社製の商品名「エピコート152」、「エピコート154」、ダウケミカル社製の商品名「D.E.N.431」、「D.E.N.438」、大日本インキ化学工業社製の商品名「エピクロンN−690」、「エピクロンN−695」、「エピクロンN−730」、「エピクロンN−770」、「エピクロンN−865」、東都化成社製の商品名「エポトートYDCN−701」、「エポトートYDCN−704」、旭化成工業社製の商品名「アラルダイトECN1235」、「アラルダイトECN1273」、「アラルダイトECN1299」、「アラルダイトXPY307」、日本化薬社製の商品名「EPPN−201」、「EOCN−1025」、「EOCN−1020」、「EOCN−104S」、「RE−306」、住友化学工業社製の商品名「スミエポキシESCN−195X」、「ESCN−220」等のノボラック型エポキシ化合物、ジャパンエポキシレジン社製の商品名「エピコートYL−903」、大日本インキ化学工業社製の商品名「エピクロン152」、「エピクロン165」、東都化成社製の商品名「エポトートYDB−400」、「エポトートYDB−500」、ダウケミカル社製の商品名「D.E.R542」、旭化成工業社製の商品名「アラルダイト8018」、住友化学工業社製の商品名「スミエポキシESB−400」、「スミエポキシESB−700」等の臭素化ビスフェノールA型エポキシ化合物、新日鉄化学社製の商品名「ESN−190」、「ESN−360」、大日本インキ化学工業社製の商品名「HP−4032」、「EXA−4700」、「EXA−4750」等のナフタレン骨格を有するエポキシ化合物、大日本インキ化学工業社製の商品名「HP−7200」、「HP−7200H」等のジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ化合物、ジャパンエポキシレジン社製の商品名「YL−933」、日本化薬社製の商品名「EPPN−501」「EPPN−502」等のトリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ化合物、日産化学社製の商品名「TEPIC」、三菱ガス化学社製の商品名「TGI」等の複素環式エポキシ化合物、ジャパンエポキシレジン社製の商品名「エピコート604」、東都化成社製の商品名「エポトートYH−434」、旭化成工業社製の商品名「アラルダイトMY720」、住友化学工業社製の商品名「スミエポキシELM−120」等のグリシジルアミン型エポキシ化合物、ダイセル化学工業社製の商品名「セロキサイド2011」、旭化成工業社製の商品名「アラルダイトCY175」、「アラルダイトCY179」、新日本理化社製の商品名「HBE−100」等の脂環式エポキシ化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらエポキシ化合物は単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   A general commercial item can also be used for the epoxy compound (B) which has a 2 or more epoxy group in the said 1 molecule. Examples of commercially available products include “Epicoat 828”, “Epicoat 834”, “Epicoat 1001” and “Epicoat 1004” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., and “Epicron 840” manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. “Epicron 850”, “Epicron 1050”, “Epicron 2055”, trade names “Epototo 128” manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd., trade names “D.E.R. 317”, “D.E.R. .331 ”,“ D.E.R.661 ”,“ D.E.R.664 ”, trade names“ Araldite 250 ”,“ Araldite 260 ”,“ Araldite 2600 ”manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd., Sumitomo Chemical Co., Ltd. Bisphenols such as “Sumiepoxy ESA-011”, “Sumiepoxy ESA-014”, “Sumiepoxy ELA-128” Type A epoxy compound, trade name “Epicron 830S” manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., product name “Epicoat 807” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade names “Epototo YDF-170”, “Epototo YDF-” manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd. 175 ”,“ Epototo YDF-2004 ”,“ Araldite XPY306 ”manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd., Nippon Kayaku product name“ EBPS-200 ”, Asahi Denka Kogyo product name“ EPX ” -30 ", bisphenol S-type epoxy compounds such as Dainippon Ink & Chemicals' brand name" Epicron EXA1514 ", bisphenol fluorene-type epoxy compounds such as Osaka Gas's brand name" BPFG ", Japan Epoxy Resin Product names “YL-6056”, “YL-6021”, “YX-4” 00 ”,“ YX-4000H ”and other bixylenol type or biphenyl type epoxy compounds, or mixtures thereof, trade names“ Epototo ST-2004 ”,“ ST-2007 ”,“ ST-3000 ”manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd. Hydrogenated bisphenol A type epoxy compounds such as “Epicoat 152” and “Epicoat 154” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., and “D.E.N. 431” and “D.E. N.438 ”, trade names“ Epicron N-690 ”,“ Epicron N-695 ”,“ Epicron N-730 ”,“ Epicron N-770 ”,“ Epicron N-865 ”, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Product names “Epototo YDCN-701”, “Epototo YDCN-704” manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., “Araldite” manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd. “ECN1235”, “Araldite ECN1273”, “Araldite ECN1299”, “Araldite XPY307”, trade names “EPPN-201”, “EOCN-1025”, “EOCN-1020”, “EOCN-104S” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. “RE-306”, trade names “Sumiepoxy ESCN-195X” and “ESCN-220” manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name “Epicoat YL-903” manufactured by Japan Epoxy Resin, Dainippon Trade names “Epicron 152” and “Epicron 165” manufactured by Ink Chemical Industries, Ltd., “Epototo YDB-400” and “Epototo YDB-500” manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd., and “D. E. R542 ”, trade name“ Araldite 8018 ”manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd., brominated bisphenol A type epoxy compounds such as“ Sumiepoxy ESB-400 ”and“ Sumiepoxy ESB-700 ”manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd. Epoxy compounds having a naphthalene skeleton such as “ESN-190”, “ESN-360”, and trade names “HP-4032”, “EXA-4700”, “EXA-4750” manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. Epoxy compounds having a dicyclopentadiene skeleton such as trade names “HP-7200” and “HP-7200H” manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., trade names “YL-933” manufactured by Japan Epoxy Resin, Nippon Kayaku Trishydroxyphenylmethane type epoxy such as “EPPN-501” and “EPPN-502” Compound, product name “TEPIC” manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., heterocyclic epoxy compound such as product name “TGI” manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, product name “Epicoat 604” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. Glycidylamine-type epoxy compounds such as “Epototo YH-434”, Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd. “Araldite MY720”, Sumitomo Chemical Co., Ltd. “Sumiepoxy ELM-120”, Daicel Chemical Industries, Ltd. Examples include alicyclic epoxy compounds such as the name “Celoxide 2011”, trade names “Araldite CY175”, “Araldite CY179” manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd., and the product name “HBE-100” manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd. It is not limited to. These epoxy compounds can be used alone or in combination of two or more.

前記1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(B)は、レジストパターン形成後、熱により仕上げ硬化を行うことにより、多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)のカルボキシル基との間で反応して強固な結合を形成し、ソルダーレジストの硬化皮膜と基材との密着性、耐熱性等の特性を向上させる。その配合量は、多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)の分子中におけるカルボキシル基1当量に対して、エポキシ基が0.1〜1.5当量、好ましくは0.5〜1.3当量の範囲内で配合される。0.1当量未満の場合は、硬化皮膜の吸湿性が高くなり電気絶縁性が低下する虞がある。一方、1.5当量を超える場合は、光硬化性(仮硬化)やアルカリ現像性が低下し、レジストパターンの画像形成が困難になる虞がある。   The epoxy compound (B) having two or more epoxy groups in one molecule is formed with a carboxyl group of the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A) by performing finish curing with heat after forming a resist pattern. It reacts with each other to form a strong bond, and improves the properties such as adhesion between the cured film of the solder resist and the base material, and heat resistance. The compounding amount is 0.1 to 1.5 equivalents, preferably 0.5 to 1.3 equivalents of the epoxy group with respect to 1 equivalent of the carboxyl group in the molecule of the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A). It mix | blends within the range. If the amount is less than 0.1 equivalent, the hygroscopicity of the cured film is increased and the electrical insulation property may be lowered. On the other hand, when it exceeds 1.5 equivalents, photocurability (temporary curing) and alkali developability may be lowered, and image formation of a resist pattern may be difficult.

次に、本発明の硬化性樹脂組成物における光重合開始剤(C)について詳細に説明する。本発明で用いる光重合開始剤(C)は、該硬化性樹脂組成物を光硬化(仮硬化)させる際に紫外線(光)照射によりラジカルを発生し、ラジカル重合により硬化させる作用を有する。   Next, the photopolymerization initiator (C) in the curable resin composition of the present invention will be described in detail. The photopolymerization initiator (C) used in the present invention has a function of generating radicals by irradiation with ultraviolet rays (light) and curing by radical polymerization when the curable resin composition is photocured (temporarily cured).

このような光重合開始剤(C)としては公知のものを使用することができ、好ましい光重合開始剤(E)としては、例えば、ベンゾイン、ベンジル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾイン類及びベンゾインアルキルエーテル類、アセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、N,N−ジメチルアミノアセトフェノン等のアエトフェノン類、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−アミノアントラキノン等のアントラキノン類、2,4−ジメチルチオキサントン等のチオキサントン類、アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール、等のケタール類、ベンゾフェノン、メチルベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、及びキサントン類等が挙げられ、これらは単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。さらに、このような光重合開始剤(C)は、エチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、2−(ジメチルアミノ)エチルベンゾエート等の安息香酸エステル類、或いはトリエチルアミン、トリエタノールアミン等の三級アミン類のような公知の光増感剤を単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   As such a photopolymerization initiator (C), known ones can be used. Preferred photopolymerization initiators (E) include, for example, benzoins such as benzoin, benzyl, benzoin methyl ether, and benzoin isopropyl ether. And benzoin alkyl ethers, acetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2- Atophenones such as morpholino-propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, N, N-dimethylaminoacetophenone, 2-methylanthraquinone, 2- Ethyl anthraquinone, 2-amino Anthraquinones such as anthraquinone, thioxanthones such as 2,4-dimethylthioxanthone, ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal, benzophenone, methylbenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4,4′-bisdiethylamino Examples include benzophenones such as benzophenone and xanthones, and these can be used alone or in combination of two or more. Further, such a photopolymerization initiator (C) is a benzoic acid ester such as ethyl-4-dimethylaminobenzoate or 2- (dimethylamino) ethylbenzoate, or a tertiary amine such as triethylamine or triethanolamine. Such known photosensitizers can be used alone or in combination of two or more.

上記の光重合開始剤(C)の使用量は、多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)100重量部に対して、0.1〜30重量部の範囲で使用することが好ましく、さらに1〜20重量部の範囲で使用することが好ましい。0.1重量部未満の場合は、紫外線(光)照射により重合が進まず、形成される皮膜は未硬化になりアルカリ現像性が低下する虞がある一方、30重量部を超える場合は、硬化皮膜の耐熱性、機械的特性が低下する虞があるためである。   The photopolymerization initiator (C) is preferably used in an amount of 0.1 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A). It is preferably used in the range of ˜20 parts by weight. When the amount is less than 0.1 parts by weight, the polymerization does not proceed due to ultraviolet (light) irradiation, and the formed film may be uncured and the alkali developability may be deteriorated. This is because the heat resistance and mechanical properties of the film may be reduced.

次に、本発明の硬化性樹脂組成物における希釈剤(D)について詳細に説明する。本発明の硬化性樹脂組成物に使用する希釈剤(D)は、有機溶剤および(メタ)アクリル酸エステルが挙げられ、上記多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)を溶解し、ソルダーレジストインキとして適切な作業粘度を確保する作用と、(メタ)アクリル酸エステルのような反応性を有する希釈剤はラジカル重合する際にネットワーク中に取り込まれ、光硬化性、耐熱性、耐クラック性の向上、基板との密着性等を向上させる作用効果を奏する。   Next, the diluent (D) in the curable resin composition of the present invention will be described in detail. Examples of the diluent (D) used in the curable resin composition of the present invention include an organic solvent and a (meth) acrylic ester, dissolve the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A), and a solder resist ink. As a result, a diluent with reactivity such as (meth) acrylic acid ester is incorporated into the network during radical polymerization, improving photocurability, heat resistance, and crack resistance. There is an effect of improving the adhesion to the substrate.

また、希釈剤(D)は、上記多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)の製造において1分子中に少なくとも2個以上のエポキシ基を有する化合物(a)と(メタ)アクリル酸無水物(b)及び不飽和基含有モノカルボン酸(c)の反応、さらにはこの反応生成物と多塩基酸無水物(d)の反応において、ゲル化を起こすことのない安定な反応生成物を得る目的で希釈剤(D)にて適切な粘度に調整することもできる。   In addition, the diluent (D) includes a compound (a) having at least two epoxy groups in one molecule and (meth) acrylic anhydride (in the production of the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A). Purpose of obtaining a stable reaction product which does not cause gelation in the reaction of b) and an unsaturated group-containing monocarboxylic acid (c), and further in the reaction of this reaction product with a polybasic acid anhydride (d). And can be adjusted to an appropriate viscosity with the diluent (D).

このような希釈剤(D)としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート等のエステル類、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類、オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素、石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサ等の石油系溶剤等の有機溶剤を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。これらは単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   Examples of such diluent (D) include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and tetramethylbenzene, methyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl carbitol, butyl carbitol, and propylene. Glycol ethers such as glycol monoethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, ethanol, propanol, ethylene glycol, propylene glycol, etc. Of organic solvents such as alcohols, aliphatic hydrocarbons such as octane and decane, petroleum ethers such as petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha and solvent naphtha. It can be exemplified, but the invention is not limited thereto. These can be used alone or in combination of two or more.

また、希釈剤(D)は、上記有機溶剤の一部又は全量を、光硬化性を有する(メタ)アクリル酸エステル類に置き換えて使用することができる。このような(メタ)アクリル酸エステル類としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルへキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート等のエポキシ基含有(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート等のアミノアルキル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、エチレングリコール、メトキシテトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール等のグリコールのモノ又はジ(メタ)アクリレート類、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド類、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート等のアミノアルキル(メタ)アクリレート類、ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール、トリス−ヒドロキシエチルイソシヌレート等の多価アルコール、又は、これらのエチレンオキサイド、もしくはプロピレンオキサイド付加物の多価(メタ)アクリレート類、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのポリエトキシジ(メタ)アクリレート等のフェノール類のエチレンオキサイド或いはプロピレンオキサイド付加物の(メタ)アクリレート類、グリセリンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート等のグリシジルエーテルの(メタ)アクリレート類、ε−カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート等のε−カプロラクトン変性(メタ)アクリレート類、及びメラミン(メタ)アクリレート等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。これらは単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   In addition, the diluent (D) can be used by replacing part or all of the organic solvent with (meth) acrylic acid esters having photocurability. Examples of such (meth) acrylic acid esters include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, and t-butyl. (Meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, alkyl (meth) acrylate such as stearyl (meth) acrylate, epoxy group-containing (meth) acrylate such as glycidyl (meth) acrylate, ( Aminoalkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropy Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate, mono- or di (meth) acrylates of glycols such as ethylene glycol, methoxytetraethylene glycol, polyethylene glycol, N, N-dimethyl (meth) acrylamides, N, N -Aminoalkyl (meth) acrylates such as dimethylaminoethyl (meth) acrylate, hexanediol, trimethylolpropane, pentaerythritol, ditrimethylolpropane, dipentaerythritol, polyhydric alcohols such as tris-hydroxyethylisosinurate, or , These ethylene oxide or propylene oxide adduct polyvalent (meth) acrylates, phenoxyethyl (meth) acrylate, bisphenol A polyethoxydi ( ) (Meth) acrylates of ethylene oxide or propylene oxide adducts of phenols such as acrylate, glycidyl ether (meth) acrylates such as glycerin diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, triglycidyl isocyanurate, ε -Ε-caprolactone-modified (meth) acrylates such as caprolactone-modified tris (acryloxyethyl) isocyanurate, melamine (meth) acrylate, and the like can be mentioned, but are not limited thereto. These can be used alone or in combination of two or more.

上記希釈剤(D)の使用量は、多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)100重量部に対して1〜300重量部の範囲で配合されることができる。また、上記希釈剤(D)として、(メタ)アクリル酸エステル類を使用する場合は、その使用量は、上記酸変性エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)100重量部に対して、3〜50重量部の範囲で、好ましくは5〜15重量部の範囲で使用することが好ましい。3重量部未満の場合は、光硬化性付与の効果は十分ではない場合があり、50重量部を超える場合は、乾燥皮膜の指触乾燥性が低下する場合があるという観点からである。   The usage-amount of the said diluent (D) can be mix | blended in the range of 1-300 weight part with respect to 100 weight part of polyfunctional epoxy (meth) acrylate compounds (A). Moreover, when using (meth) acrylic acid ester as said diluent (D), the usage-amount is 3-50 with respect to 100 weight part of said acid-modified epoxy (meth) acrylate compounds (A). It is preferable to use in the range of parts by weight, preferably in the range of 5 to 15 parts by weight. If the amount is less than 3 parts by weight, the effect of imparting photocurability may not be sufficient, and if it exceeds 50 parts by weight, the dryness to touch of the dry film may be lowered.

本発明の硬化性樹脂組成物は、必要に応じて熱硬化工程(仕上げ硬化)における前記多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)の分子中におけるカルボキシル基と、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(B)との反応を促進させる目的で、硬化促進剤を添加することができる。硬化促進剤としては、例えば、イミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、4−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体、グアナミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン等のグアナミン類、ジシアンジアミド、ベンジルジメチルアミン、4−(ジメチルアミノ)−N,N−ジメチルベンジルアミン、4−メチル−N,N−ジメチルベンジルアミン、メラミン等のアミン化合物などが挙げられる。これらは単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   The curable resin composition of the present invention includes a carboxyl group in the molecule of the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A) in the thermosetting step (finish curing) and two or more in one molecule as necessary. For the purpose of accelerating the reaction with the epoxy compound (B) having an epoxy group, a curing accelerator can be added. Examples of the curing accelerator include imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 4-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1- Imidazole derivatives such as (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazole, guanamines such as guanamine, acetoguanamine, benzoguanamine, dicyandiamide, benzyldimethylamine, 4- (dimethylamino) -N, N-dimethylbenzylamine And amine compounds such as 4-methyl-N, N-dimethylbenzylamine and melamine. These can be used alone or in combination of two or more.

このような硬化促進剤の使用量は、上記多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)100重量部に対して、0.1〜10重量部の範囲で、好ましくは0.5〜2重量部の範囲で使用することができる。0.1重量部未満の場合は、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(B)の硬化反応を促進する効果が小さくなり、また、10重量部を超える場合は、硬化性樹脂組成物のライフが短くなる虞がある。   The amount of the curing accelerator used is in the range of 0.1 to 10 parts by weight, preferably 0.5 to 2 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A). Can be used in a range of When the amount is less than 0.1 parts by weight, the effect of accelerating the curing reaction of the epoxy compound (B) having two or more epoxy groups in one molecule is reduced. There exists a possibility that the life of a resin composition may become short.

本発明の硬化性樹脂組成物には、必要に応じてプリント配線板との密着性を向上させることを目的に無機充填剤を添加することができる。例えば、タルク、シリカ、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、酸化珪素、酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム等の無機充填剤を配合することができる。これら無機充填剤は、硬化性樹脂組成物100重量部に対して最大150重量部の範囲で添加することができる。150重量部を超えると硬化性に悪影響を及ぼし、硬化皮膜の物性が低下する虞がある。   An inorganic filler can be added to the curable resin composition of the present invention for the purpose of improving the adhesion to the printed wiring board, if necessary. For example, inorganic fillers such as talc, silica, barium sulfate, barium titanate, silicon oxide, aluminum oxide, calcium carbonate, and aluminum hydroxide can be blended. These inorganic fillers can be added in a range of up to 150 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the curable resin composition. If it exceeds 150 parts by weight, the curability may be adversely affected and the physical properties of the cured film may be reduced.

本発明の硬化性樹脂組成物には、以上の成分の他に必要に応じて通常のソルダーレジスト樹脂組成物に添加されている種々の着色剤、レベリング剤及び消泡剤などを添加することができる。   In addition to the above components, the curable resin composition of the present invention may contain various colorants, leveling agents, antifoaming agents, and the like that are added to ordinary solder resist resin compositions as necessary. it can.

本発明の硬化性樹脂組成物は、以上述べた(A)、(B)、(C)及び(D)の配合成分、及び必要に応じて添加される配合成分をロールミル、サンドミル等により均一に混合して得ることができる。また、本発明の硬化性樹脂組成物のプリント配線板上への塗布は、通常スクリーン印刷法、静電塗装法、ロールコーター法、カーテンコーター法等で行われる。塗布後は、60〜90℃の範囲で10〜60分間乾燥し、紫外線等の活性エネルギー線を照射後、0.1〜5重量%の炭酸ナトリウム水溶液などの希アルカリ水溶液で未露光部分を除去し現像することでソルダーパターンの画像を形成する。その後、皮膜を完全に硬化させるために熱風乾燥機又は遠赤外線などを用いて仕上げ硬化として熱処理(100〜180℃で5〜60分間)することにより上記1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(B)の硬化反応に加えて酸変性エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)及び希釈剤(D)として(メタ)アクリル酸エステル類を用いた場合、(メタ)アクリル酸エステル類の重合が促進され、密着性、耐熱性、機械特性の優れた硬化皮膜を得ることができる。さらに、必要に応じて、例えば、140〜180℃の温度に加熱して熱硬化させることにより、また、さらに多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)及び希釈剤(D)の(メタ)アクリル酸エステル類の重合を促進する目的で、再度、紫外線(光)にて露光することにより、優れた特性を有する硬化皮膜とすることもできる。   The curable resin composition of the present invention is obtained by uniformly mixing the above-described blending components (A), (B), (C) and (D), and blending components added as necessary, using a roll mill, a sand mill or the like. Can be obtained by mixing. Moreover, application | coating on the printed wiring board of the curable resin composition of this invention is normally performed by the screen printing method, the electrostatic coating method, the roll coater method, the curtain coater method, etc. After coating, dry at 60 to 90 ° C for 10 to 60 minutes, irradiate with active energy rays such as ultraviolet rays, and then remove unexposed parts with dilute alkaline aqueous solution such as 0.1 to 5 wt% sodium carbonate aqueous solution Then, a solder pattern image is formed by development. After that, in order to completely cure the film, heat treatment (100 to 180 ° C. for 5 to 60 minutes) as a final curing using a hot air dryer or far infrared rays or the like results in two or more epoxy groups in one molecule. When (meth) acrylic acid esters are used as the acid-modified epoxy (meth) acrylate compound (A) and the diluent (D) in addition to the curing reaction of the epoxy compound (B) having (meth) acrylic acid esters Polymerization is promoted, and a cured film having excellent adhesion, heat resistance, and mechanical properties can be obtained. Furthermore, if necessary, for example, by heating to a temperature of 140 to 180 ° C. and thermosetting, further, a polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A) and a diluent (D) (meth) acrylic For the purpose of accelerating the polymerization of acid esters, it is possible to obtain a cured film having excellent characteristics by exposing it again to ultraviolet rays (light).

なお、紫外線(光)硬化させるための照射光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ又はメタルハライドランプ等が使用できる。   As an irradiation light source for ultraviolet (light) curing, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, or the like can be used.

このようにして得られる本発明の多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物及び該多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物を含有する感光性熱硬化性樹脂組成物は、プリント配線板の製造、特にソルダーレジストを施したプリント配線板と封止樹脂を用いたBGA(ボール・グリッド・アレイ)やCSP(チップ・スケール・パッケージ)等のICパッケージの製造に使用される液状ソルダーレジストインキ、ドライフィルムレジストの電子材料分野において、実装時及び長期信頼性試験であるPCT試験(プレッシャークッカーテスト)において形成される硬化皮膜にクラックや剥れを生じることなく、指触乾燥性、感度、アルカリ現像性、現像ライフ、冷熱サイクル試験、さらには、はんだ耐熱性、基材との密着性、めっき性、電気絶縁性に優れた皮膜形成に適するという有利な効果を奏する。   The polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound of the present invention and the photosensitive thermosetting resin composition containing the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound thus obtained are used for the production of printed wiring boards, particularly solder resists. Liquid solder resist ink and dry film resist electronic materials used in the manufacture of IC packages such as BGA (ball grid array) and CSP (chip scale package) using printed wiring board and sealing resin In the field, dryness to the touch, sensitivity, alkali developability, development life, cold heat, without causing cracks or peeling in the cured film formed in the PCT test (pressure cooker test), which is a long-term reliability test during mounting. Cycle test, solder heat resistance, adhesion to substrate, plating property, electrical An advantageous effect that is suitable for excellent film forming the insulation.

以下に、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明は、下記の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

本実施例において「部」は特に断らない限り重量部である。また、本実施例において、多官能エポキシ(メタ)アクリレート樹脂とは、多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物を有機溶剤及び/又は(メタ)アクリル酸エステル類の希釈剤に希釈されていることを意味する。   In this embodiment, “parts” means parts by weight unless otherwise specified. In this example, the polyfunctional epoxy (meth) acrylate resin means that the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound is diluted with an organic solvent and / or a diluent of (meth) acrylic acid esters. To do.

<多官能エポキシアクリレート樹脂の合成例>
合成例1
<反応経路>
<反応1-1)>
無水トリメリット酸と2-ヒドロキシエチルアクリレートを反応させることにより、2-ヒドロキシエチルアクリレート・無水トリメリット酸付加物(ジカルボン酸化合物)が生成する。

Figure 2011144230
<Synthesis example of polyfunctional epoxy acrylate resin>
Synthesis example 1
<Reaction pathway>
<Reaction 1-1)>
By reacting trimellitic anhydride with 2-hydroxyethyl acrylate, a 2-hydroxyethyl acrylate / trimellitic anhydride adduct (dicarboxylic acid compound) is produced.
Figure 2011144230

([化7]:無水トリメリット酸+2-ヒドロキシエチルアクリレート
→ ジカルボン酸化合物[中間物1-1])
([Chemical Formula 7]: trimellitic anhydride + 2-hydroxyethyl acrylate
→ Dicarboxylic acid compound [Intermediate 1-1])

<反応1-2)>
次いでビスフェノールA型エポキシ化合物、アクリル酸、メタクリル酸無水物を仕込み反応させると、次の二つの反応(反応1-2-1, 反応1-2-2)が同時に起こる。
<Reaction 1-2)>
Next, when a bisphenol A type epoxy compound, acrylic acid, and methacrylic anhydride are charged and reacted, the following two reactions (reaction 1-2-1, reaction 1-2-2) occur simultaneously.

まず同時に起こる二つの反応のうち一つ目の反応1-2-1について説明する。
一つ目の反応1-2-1は、上記反応1-1で生成したジカルボン酸化合物[中間物1-1]とビスフェノールA型エポキシ化合物が反応し中間物として[中間物1-2-1a]が生成する。

Figure 2011144230
First, the first reaction 1-2-1 of the two reactions that occur simultaneously will be described.
In the first reaction 1-2-1, the dicarboxylic acid compound [intermediate 1-1] produced in the above reaction 1-1 is reacted with a bisphenol A type epoxy compound as an intermediate [intermediate 1-2-1a ] Is generated.
Figure 2011144230

([化8]:ビスフェノールA型エポキシ化合物+ジカルボン酸化合物[中間物1-1]→[中間物1-2-1a]) ([Chemical Formula 8]: bisphenol A type epoxy compound + dicarboxylic acid compound [intermediate 1-1] → [intermediate 1-2-1a])

ここで、[中間物1-2-1a]のM1は水素原子(−H)である。   Here, M1 of [Intermediate 1-2-1a] is a hydrogen atom (-H).

その後、この[中間物1-2-1a]の分子末端のエポキシ基の一部とアクリル酸が反応し(反応[化9])、[中間物1-2-1b、中間物1-2-1b’]が生成する。

Figure 2011144230
Thereafter, a part of the epoxy group at the molecular end of [Intermediate 1-2-1a] reacts with acrylic acid (Reaction [Chemical 9]), and [Intermediate 1-2-1b, Intermediate 1-2- 1b '] is generated.
Figure 2011144230

[中間物1-2-1b、中間物1-2-1b’]、は、上記分子式のように、左末端にアクリル酸が反応する場合と、右末端にアクリル酸が反応する場合の二通りがある。ここで、Q1はアクリル酸の残基、M1は水素原子である。   [Intermediate 1-2-1b, Intermediate 1-2-1b ′] has two types of cases where acrylic acid reacts at the left end and acrylic acid reacts at the right end as in the molecular formula above. There is. Here, Q1 is a residue of acrylic acid, and M1 is a hydrogen atom.

次いで、この二通りの[中間物1-2-1b、中間物1-2-1b’]とメタクリル酸無水物の反応が起こる(反応[化12])。   Subsequently, the reaction of these two [intermediate 1-2-1b, intermediate 1-2-1b '] and methacrylic anhydride occurs (reaction [Chem. 12]).

メタクリル酸無水物は、[中間物1-2-1b、中間物1-2-1b’]の−OM1(M1: −H)の位置で反応を起こしメタクリル基

Figure 2011144230
が付加されると同時に、メタクリル酸
Figure 2011144230
を遊離する。この遊離したメタクリル酸は[中間物1-2-1b、中間物1-2-1b’]の残りのエポキシ基と反応し、分子末端がQ(Qはアクリル酸の残基、またはメタクリル酸の残基)となり、[中間物1-2-1c]を生成する(反応[化12])。
Figure 2011144230
Methacrylic anhydride reacts at the position of -OM1 (M1: -H) of [Intermediate 1-2-1b, Intermediate 1-2-1b ']
Figure 2011144230
As methacrylic acid is added
Figure 2011144230
Is released. This liberated methacrylic acid reacts with the remaining epoxy groups of [Intermediate 1-2-1b, Intermediate 1-2-1b '], and the molecular end is Q (Q is the residue of acrylic acid or methacrylic acid Residue) to produce [Intermediate 1-2-1c] (reaction [Chemical 12]).
Figure 2011144230

ここで、(反応[化9])と(反応[化12])は、反応の順番が逆の場合、つまり[中間物1-2-1a]が生成後、この[中間物1-2-1a]とメタクリル酸無水物が先に反応し(反応[化12])、後からアクリル酸が反応する(反応[化9])場合も確率的に起こるが、最終生成物は常に[中間物1-2-1c]で同じものとなる。   Here, (Reaction [Chemical 9]) and (Reaction [Chemical 12]) are reversed in the order of reaction, that is, after [Intermediate 1-2-1a] is produced, this [Intermediate 1-2- 1a] and methacrylic anhydride react first (reaction [Chemical 12]), and then acrylic acid reacts (Reaction [Chemical 9]). 1-2-1c] will be the same.

次に二つ目の反応である反応1-2-2について説明すると以下の通りである。
二つ目の反応1-2-2は、上記の反応1-2)で仕込んだビスフェノールA型エポキシ化合物、アクリル酸が反応し(反応[化13)、[中間物1-2-2a]が得られる。次いで、メタクリル酸無水物が反応し(反応[化14])、[中間物1-2-2b]を生成する。具体的には、はじめにビスフェノールA型エポキシ化合物の末端エポキシ基のどちらか一方のエポキシ基とアクリル酸が反応し[中間物1-2-2a]を生成し、同時に水酸基(-OM1, M1:−H)が生じる(反応[化13])。次いでこの水酸基にメタクリル酸無水物が反応しメタクリル基が付加されると同時に、メタクリル酸が遊離され、このメタクリル酸は[中間物1-2-2a]の残りのエポキシ基と反応し、[中間物1-2-2b]を生成する(反応[化14])。

Figure 2011144230
Figure 2011144230
Next, reaction 1-2-2 which is the second reaction will be described as follows.
The second reaction 1-2-2 is the reaction of the bisphenol A type epoxy compound and acrylic acid charged in the above reaction 1-2) (reaction [Chemical 13) and [intermediate 1-2-2a] can get. Next, methacrylic anhydride reacts (reaction [Chem. 14]) to produce [Intermediate 1-2-2b]. Specifically, first, one of the terminal epoxy groups of the bisphenol A type epoxy compound and acrylic acid react to form [Intermediate 1-2-2a], and at the same time, a hydroxyl group (-OM1, M1:- H) occurs (reaction [Chemical 13]). Next, methacrylic anhydride is reacted with this hydroxyl group to add a methacrylic group, and at the same time methacrylic acid is liberated. This methacrylic acid reacts with the remaining epoxy group of [intermediate 1-2-2a], and [intermediate Product 1-2-2b] (reaction [Chem. 14]).
Figure 2011144230
Figure 2011144230

つまり、反応1-2では、[中間物1-2-1c]と[中間物1-2-2b]の二つが生成し混合されて得られる。   That is, in the reaction 1-2, [Intermediate 1-2-1c] and [Intermediate 1-2-2b] are produced and mixed.

その後、この[中間物1-2-1c]と[中間物1-2-2b]の混合物に、テトラヒドロ無水フタル酸を仕込み反応させる。このテトラヒドロ無水フタル酸は、[中間物1-2-1c]と[中間物1-2-2b]の−OM2の位置でM2が水素原子(−H)の場合の水酸基(−OH)の一部に対して反応し(反応1-3-1[化15]、反応1-3-2[化16])、生成物としてそれぞれ[生成物1-3-1]と[生成物1-3-2]が生成する。
(反応1-3-1)

Figure 2011144230
Thereafter, tetrahydrophthalic anhydride is charged into the mixture of [Intermediate 1-2-1c] and [Intermediate 1-2-2b] and reacted. This tetrahydrophthalic anhydride is one of the hydroxyl groups (—OH) when M2 is a hydrogen atom (—H) at the position of —OM2 of [Intermediate 1-2-1c] and [Intermediate 1-2-2b]. (Reaction 1-3-1 [Chemical 15], Reaction 1-3-2 [Chemical 16]) as products, [Product 1-3-1] and [Product 1-3, respectively] -2] is generated.
(Reaction 1-3-1)
Figure 2011144230

この[生成物1-3-1]は、本明細書の[化3]に対応し、[化3]におけるXがビスフェノールAの残基、Yがジカルボン酸(2-ヒドロキシエチルメタクリレートと無水トリメリット酸の付加物)の残基に相当する。
(反応1-3-2)

Figure 2011144230
This [Product 1-3-1] corresponds to [Chemical Formula 3] in the present specification, wherein X is a residue of bisphenol A and Y is a dicarboxylic acid (2-hydroxyethyl methacrylate and anhydrous trihydrate). It corresponds to the residue of an adduct of merit acid).
(Reaction 1-3-2)
Figure 2011144230

この[生成物1-3-2]は、本明細書の[化1]のm=0(すなわち、明細書の[化3]のn=0の場合)に対応し、[化1]又は[化3]におけるXがビスフェノールAの残基に相当する(m=0、又はn=0の場合、Yは存在しない)。
以上、合成例1では、[化1]と[化3](m=0、又はn=0)が同時に合成される例を示した。
This [Product 1-3-2] corresponds to m = 0 of [Chemical Formula 1] in this specification (that is, when n = 0 of [Chemical Formula 3] of the specification), X in [Chemical Formula 3] corresponds to the residue of bisphenol A (if m = 0 or n = 0, Y does not exist).
As described above, in Synthesis Example 1, an example in which [Chemical Formula 1] and [Chemical Formula 3] (m = 0 or n = 0) are synthesized simultaneously has been shown.

具体的には、下記のように合成を行った。   Specifically, the synthesis was performed as follows.

ガス導入管、攪拌装置、冷却管、温度計を備えた反応容器に無水トリメリット酸74.2部と2−ヒドロキシエチルアクリレート54.6部を仕込み、空気を吹き込みながら、撹拌下、加熱して温度を85〜95℃に保持し反応させた。反応はIRにて追跡し、未反応の無水トリメリット酸の吸収(1780cm-1)が消失するまで継続した。反応には4時間を要した。次いで、ビスフェノールA型エポキシ化合物(旭化成工業社製の商品名「AER260」)275.6部、アクリル酸26.4部、メタクリル酸無水物55.4部、トリフェニルホスフィン1.4部、モノメチルエーテルハイドロキノン0.6部を仕込み、攪拌下、加熱して温度を110〜120℃に保持しながら10時間反応させ酸価4mgKOH/gの反応生成物を得た。その後、テトラヒドロ無水フタル酸161.5部を加え、攪拌下、温度を100〜110℃に保持しながら、さらに5時間反応させ、酸価95mgKOH/gの多官能エポキシアクリレート化合物を得た。この酸価の96.8%は、テトラヒドロ無水フタル酸が反応して生成したカルボキシル基由来である。この多官能エポキシアクリレート化合物をカルビトールアセテート433.1部に希釈して不揮発分60%の多官能エポキシアクリレート樹脂(a−1)を得た。図1は、合成例1で得られた多官能エポキシアクリレート化合物の核磁気共鳴スペクトルを示す。また、図2は、合成例1で得られた多官能エポキシアクリレート化合物の赤外線吸収スペクトルを示す。 Charge 74.2 parts of trimellitic anhydride and 54.6 parts of 2-hydroxyethyl acrylate to a reaction vessel equipped with a gas introduction tube, a stirring device, a cooling tube, and a thermometer, and heat with stirring while blowing air. The temperature was kept at 85 to 95 ° C. for reaction. The reaction was followed by IR and continued until the absorption of unreacted trimellitic anhydride (1780 cm −1 ) disappeared. The reaction took 4 hours. Next, bisphenol A type epoxy compound (trade name “AER260” manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.) 275.6 parts, acrylic acid 26.4 parts, methacrylic anhydride 55.4 parts, triphenylphosphine 1.4 parts, monomethyl ether 0.6 part of hydroquinone was added and heated under stirring to react for 10 hours while maintaining the temperature at 110 to 120 ° C. to obtain a reaction product having an acid value of 4 mgKOH / g. Thereafter, 161.5 parts of tetrahydrophthalic anhydride was added, and the mixture was further reacted for 5 hours while maintaining the temperature at 100 to 110 ° C. with stirring to obtain a polyfunctional epoxy acrylate compound having an acid value of 95 mgKOH / g. 96.8% of this acid value is derived from the carboxyl group produced by the reaction of tetrahydrophthalic anhydride. This polyfunctional epoxy acrylate compound was diluted with 433.1 parts of carbitol acetate to obtain a polyfunctional epoxy acrylate resin (a-1) having a nonvolatile content of 60%. FIG. 1 shows a nuclear magnetic resonance spectrum of the polyfunctional epoxy acrylate compound obtained in Synthesis Example 1. FIG. 2 shows an infrared absorption spectrum of the polyfunctional epoxy acrylate compound obtained in Synthesis Example 1.

合成例2
<反応経路>
<反応2-1)>
無水ピロメリット酸と2-ヒドロキシエチルアクリレートを反応させることにより、2-ヒドロキシエチルアクリレート・無水ピロメリット酸付加物(ジカルボン酸化合物)が生成する。

Figure 2011144230
Synthesis example 2
<Reaction pathway>
<Reaction 2-1)>
By reacting pyromellitic anhydride with 2-hydroxyethyl acrylate, a 2-hydroxyethyl acrylate / pyromellitic anhydride adduct (dicarboxylic acid compound) is produced.
Figure 2011144230

([化17]:無水ピロメリット酸+2-ヒドロキシエチルアクリレート
→ジカルボン酸化合物[中間物2-1])
([Chemical Formula 17]: pyromellitic anhydride + 2-hydroxyethyl acrylate → dicarboxylic acid compound [intermediate 2-1])

<反応2-2)>
次いでビスフェノールF型エポキシ化合物、アクリル酸、アクリル酸無水物を仕込み反応させると、次の二つの反応(反応2-2-1, 反応2-2-2)が同時に起こる。
<Reaction 2-2)>
Next, when a bisphenol F type epoxy compound, acrylic acid, and acrylic anhydride are charged and reacted, the following two reactions (reaction 2-2-1 and reaction 2-2-2) occur simultaneously.

まず同時に起こる二つの反応のうち一つ目の反応2-2-1について説明する。
一つ目の反応2-2-1は、反応2-1で生成したジカルボン酸化合物[中間物2-1]とビスフェノールF型エポキシ化合物が反応し中間物として[中間物2-2-1a]が生成する。

Figure 2011144230
First, the first reaction 2-2-1 of the two reactions that occur simultaneously will be described.
In the first reaction 2-2-1, the dicarboxylic acid compound [intermediate 2-1] produced in reaction 2-1 reacts with the bisphenol F-type epoxy compound [intermediate 2-2-1a]. Produces.
Figure 2011144230

ここで[中間物2-2-1a]のM1は水素原子(H)である。その後、この[中間物2-2-1a]の分子末端のエポキシ基の一部とアクリル酸が反応し(反応[化19])、[中間物2-2-1b]が生成する。

Figure 2011144230
Here, M1 of [Intermediate 2-2-1a] is a hydrogen atom (H). Thereafter, a part of the epoxy group at the molecular end of [Intermediate 2-2-1a] reacts with acrylic acid (Reaction [Chemical Formula 19]) to produce [Intermediate 2-2-1b].
Figure 2011144230

[中間物2-2-1b、中間物2-2-1b’]は、上記分子式のように、左末端にアクリル酸が反応する場合と、右末端にアクリル酸が反応する場合の二通りがある。ここで、Qはアクリル酸の残基、M1は水素原子である。   [Intermediate 2-2-1b, Intermediate 2-2-1b ′] has two types of cases where acrylic acid reacts at the left end and acrylic acid reacts at the right end, as in the molecular formula above. is there. Here, Q is a residue of acrylic acid, and M1 is a hydrogen atom.

次いで、この二通りの[中間物2-2-1b、中間物2-2-1b’]とアクリル酸無水物の反応が起こる(反応[化20])。アクリル酸無水物は、[中間物2-2-1b、中間物2-2-1b’]の−OM1(M1: −H)の位置で反応を起こしアクリル基が付加されると同時に、アクリル酸を遊離する。このアクリル酸は、[中間物2-2-1b、中間物2-2-1b’]の残りのエポキシ基と反応し、分子の両末端がQ(アクリル酸の残基)となり、[中間物2-2-1c]を生成する。

Figure 2011144230
Next, the reaction of the two [intermediate 2-2-1b, intermediate 2-2-1b ′] and acrylic anhydride occurs (reaction [Chemical Formula 20]). Acrylic acid anhydride reacts at the position of -OM1 (M1: -H) of [Intermediate 2-2-1b, Intermediate 2-2-1b '], and an acrylic group is added at the same time. Is released. This acrylic acid reacts with the remaining epoxy group of [Intermediate 2-2-1b, Intermediate 2-2-1b '], and both ends of the molecule become Q (residue of acrylic acid). 2-2-1c] is generated.
Figure 2011144230

ここで、(反応[化19])と(反応[化20])は、反応の順番が逆の場合、つまり[中間物2-2-1a]が生成後、この[中間物2-2-1a]とアクリル酸無水物が先に反応し(反応[化20])、後からアクリル酸が反応する(反応[化19])場合も確立的に起こるが、最終生成物は常に[中間物2-2-1c]で同じものとなる。   Here, (reaction [Chem. 19]) and (reaction [Chem. 20]) are reversed in the order of reaction, that is, after [Intermediate 2-2-1a] is produced, 1a] and acrylic acid anhydride react first (reaction [Chemical Formula 20]), and acrylic acid reacts later (Reaction [Chemical Formula 19]). However, the final product is always [intermediate]. 2-2-1c] will be the same.

次に二つ目の反応である反応2-2-2について説明する。
二つ目の反応2-2-2は、上記反応2-2)で仕込んだビスフェノールF型エポキシ化合物、アクリル酸が反応し(反応[化21])、[中間物2-2-2a]が得られる。次いで、アクリル酸無水物が反応し(反応[化22])、[中間物2-2-2b]を生成する。具体的には、はじめにビスフェノールF型エポキシ化合物の末端エポキシ基のどちらか一方のエポキシ基とアクリル酸が反応し[中間物2-2-2a]を生成し、同時に水酸基(−OM1, M1:−H)が生じる(反応[化21])。次いでこの水酸基にアクリル酸無水物が反応しアクリル基が付加させると同時に、アクリル酸が遊離され、このアクリル酸は[中間物2-2-2a]の残りのエポキシ基と反応し、[中間物2-2-2b]を生成する(反応[化22])。

Figure 2011144230
([化21]:ビスフェノールF型エポキシ化合物+アクリル酸→[中間物2-2-2a])
Figure 2011144230
Next, reaction 2-2-2, which is the second reaction, will be described.
In the second reaction 2-2-2, the bisphenol F-type epoxy compound charged in the above reaction 2-2) reacts with acrylic acid (reaction [Chemical Formula 21]), and [intermediate 2-2-2a] becomes can get. Next, acrylic anhydride reacts (reaction [Chemical Formula 22]) to produce [Intermediate 2-2-2b]. Specifically, first, one of the terminal epoxy groups of the bisphenol F-type epoxy compound and acrylic acid react with each other to produce [Intermediate 2-2-2a], and at the same time a hydroxyl group (-OM1, M1:- H) occurs (reaction [Chemical Formula 21]). Next, acrylic acid anhydride reacts with this hydroxyl group to add an acrylic group, and at the same time, acrylic acid is released. This acrylic acid reacts with the remaining epoxy group of [intermediate 2-2-2a], and [intermediate 2-2-2b] (reaction [Chemical Formula 22]).
Figure 2011144230
([Chemical Formula 21]: Bisphenol F-type epoxy compound + acrylic acid → [Intermediate 2-2-2a])
Figure 2011144230

つまり、反応2-2では、[中間物2-2-1c]と[中間物2-2-2b]が生成し混合されて得られる。その後、この[中間物2-2-1c]と[中間物2-2-2b]の−OM2の位置でM2が水素原子(−H)の場合の水酸基(−OH)の一部に対して反応し(反応2-3-1[化23]、反応2-3-2[化24])、生成物としてそれぞれ[生成物2-3-1]と[生成物2-3-2]が生成される。
(反応2-3-1)

Figure 2011144230
(反応2-3-2)
Figure 2011144230
That is, in the reaction 2-2, [intermediate 2-2-1c] and [intermediate 2-2-2b] are produced and mixed. Then, with respect to a part of the hydroxyl group (—OH) when M2 is a hydrogen atom (—H) at the position of −OM2 of [Intermediate 2-2-1c] and [Intermediate 2-2-2b] Reaction (Reaction 2-3-1 [Chemical Formula 23], Reaction 2-3-2 [Chemical Formula 24]), and [Product 2-3-1] and [Product 2-3-2-] are obtained as products, respectively. Generated.
(Reaction 2-3-1)
Figure 2011144230
(Reaction 2-3-2)
Figure 2011144230

このように合成例2では、多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物は上記に示したとおりの2つの構造物が得られる。繰り返すと以下の2つが得られることになる。
(式2-1)

Figure 2011144230
(式2-2)
Figure 2011144230
As described above, in Synthesis Example 2, the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound has two structures as shown above. If it repeats, the following two will be obtained.
(Formula 2-1)
Figure 2011144230
(Formula 2-2)
Figure 2011144230

この構造物のうち、(式2-1)[化25]は、 [化3]、(式2-2)[化26]は [化1]のm=0のものに対応する。また、nは0〜100の範囲の混合物が同時に得られる。
つまりXはビスフェノールFの残基、

Figure 2011144230
Yは無水ピロメリット酸が2-ヒドロキシエチルメタクリレートと反応して得られるジカルボン酸の残基となる。
Figure 2011144230
Among these structures, (Equation 2-1) [Chemical 25] corresponds to [Chemical 3], and (Equation 2-2) [Chemical 26] corresponds to m = 0 of [Chemical 1]. In addition, a mixture in the range of 0 to 100 is obtained at the same time.
X is the residue of bisphenol F,
Figure 2011144230
Y is a residue of dicarboxylic acid obtained by reacting pyromellitic anhydride with 2-hydroxyethyl methacrylate.
Figure 2011144230

また、Qは

Figure 2011144230
アクリル酸が反応したアクリル酸の残基、及びアクリル酸無水物がMの位置に反応して生成するアクリル酸が反応したアクリル酸の残基となり、いずれもアクリル酸の残基である。 Q is
Figure 2011144230
The residue of acrylic acid reacted with acrylic acid and the residue of acrylic acid reacted with acrylic acid generated by the reaction of acrylic acid anhydride at the M position are both residues of acrylic acid.

また、Mは

Figure 2011144230
水素原子、アクリル酸無水物が反応したカルボン酸残基、テトラヒドロ無水フタル酸が反応した残基となる。 M is
Figure 2011144230
A hydrogen atom, a carboxylic acid residue reacted with acrylic anhydride, and a residue reacted with tetrahydrophthalic anhydride.

具体的には、下記のように合成を行った。   Specifically, the synthesis was performed as follows.

合成例1に使用したものと同様の反応容器に無水ピロメリット酸158.9部と2−ヒドロキシエチルアクリレート202.75部を仕込み、空気を吹き込みながら、撹拌下、加熱して温度を85〜95℃に保持し反応させた。反応はIRにて追跡し、未反応の無水トリメリット酸の吸収(1780cm-1)が消失するまで継続した。反応には4時間を要した。次いで、ビスフェノールF型エポキシ化合物(大日本インキ化学工業社製の商品名「エピクロン830S」)247.4部、アクリル酸36.0部、アクリル酸無水物63.0部、トリフェニルホスフィン1.4部、モノメチルエーテルハイドロキノン0.6部を仕込み、攪拌下、加熱して温度を110〜120℃に保持しながら10時間反応させ酸価1mgKOH/gの反応生成物を得た。その後、テトラヒドロ無水フタル酸235.2部を加え、攪拌下、温度を100〜110℃に保持しながら、さらに5時間反応させ、酸価95mgKOH/gの多官能エポキシアクリレート化合物を得た。この酸価の99.1%は、テトラヒドロ無水フタル酸が反応して生成したカルボキシル基由来である。この多官能エポキシアクリレート化合物をカルビトールアセテート628.6部に希釈して不揮発分60%の多官能エポキシアクリレート樹脂(a−2)を得た。 In a reaction vessel similar to that used in Synthesis Example 1, 158.9 parts of pyromellitic anhydride and 202.75 parts of 2-hydroxyethyl acrylate were charged, and heated with stirring while blowing air, so that the temperature was 85 to 95. The reaction was held at 0 ° C. The reaction was followed by IR and continued until the absorption of unreacted trimellitic anhydride (1780 cm −1 ) disappeared. The reaction took 4 hours. Next, bisphenol F type epoxy compound (trade name “Epicron 830S” manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 247.4 parts, acrylic acid 36.0 parts, acrylic acid anhydride 63.0 parts, triphenylphosphine 1.4 Part and 0.6 part of monomethyl ether hydroquinone were heated under stirring and reacted for 10 hours while maintaining the temperature at 110 to 120 ° C. to obtain a reaction product having an acid value of 1 mgKOH / g. Thereafter, 235.2 parts of tetrahydrophthalic anhydride was added, and the mixture was further reacted for 5 hours while maintaining the temperature at 100 to 110 ° C. with stirring to obtain a polyfunctional epoxy acrylate compound having an acid value of 95 mgKOH / g. 99.1% of this acid value is derived from the carboxyl group produced by the reaction of tetrahydrophthalic anhydride. This polyfunctional epoxy acrylate compound was diluted with 628.6 parts of carbitol acetate to obtain a polyfunctional epoxy acrylate resin (a-2) having a nonvolatile content of 60%.

合成例3
<反応経路>
まず、ビスフェノールA型エポキシ化合物、アクリル酸、アクリル酸無水物を仕込み反応させる。ここでは、次の3つの反応(反応3-1, 反応3-2、反応3-3)が起こる。[化1]で示すとX、YともにビスフェノールA残基。
(反応3-1)

Figure 2011144230
上記分子式のようにQはアクリル酸の残基、M1は水素原子である。 Synthesis example 3
<Reaction pathway>
First, a bisphenol A type epoxy compound, acrylic acid, and acrylic anhydride are charged and reacted. Here, the following three reactions (reaction 3-1, reaction 3-2, reaction 3-3) occur. As shown in [Chemical Formula 1], both X and Y are bisphenol A residues.
(Reaction 3-1)
Figure 2011144230
As in the molecular formula above, Q is a residue of acrylic acid, and M1 is a hydrogen atom.

(反応3-2)
上記反応と同時にアクリル酸無水物とエポキシ樹脂中の水酸基の反応が起こる(反応3-2)。アクリル酸無水物はエポキシ樹脂の−OM1(M1: −H)の位置で反応を起こしアクリル基が付加されると同時に、アクリル酸を遊離する。

Figure 2011144230
(Reaction 3-2)
Simultaneously with the above reaction, a reaction between the acrylic anhydride and the hydroxyl group in the epoxy resin occurs (Reaction 3-2). Acrylic anhydride reacts at the position of -OM1 (M1: -H) of the epoxy resin to add acrylic group and release acrylic acid at the same time.
Figure 2011144230

(反応3-3)
生成したばかりの[中間物3-1]へのアクリル酸無水物の付加も起こる。

Figure 2011144230
(Reaction 3-3)
Addition of acrylic acid anhydride to [Intermediate 3-1] just produced also occurs.
Figure 2011144230

反応3-2,3-3で遊離したアクリル酸は[中間物3-1、3-2、3-3]の残りのエポキシ基と反応し、分子の両末端がQ(アクリル酸の残基)となり、この段階で[中間物3-4][化34]を生成する。
[中間物3-4]

Figure 2011144230
Acrylic acid liberated in reactions 3-2 and 3-3 reacts with the remaining epoxy groups in [Intermediate 3-1, 3-2, 3-3], and both ends of the molecule are Q (residue of acrylic acid At this stage, [Intermediate 3-4] and [Chemical 34] are produced.
[Intermediate 3-4]
Figure 2011144230

ついで、中間物3-4[化34]のM2が水素の部分にテトラヒドロ無水フタル酸を反応させる。

Figure 2011144230
Next, M2 in the intermediate 3-4 [Chemical Formula 34] is reacted with tetrahydrophthalic anhydride in the hydrogen part.
Figure 2011144230

この構造物は、(式3-1)は[化1]のものに対応する。また、mは0〜100の範囲の混合物が同時に得られる。つまりXとYは同じビスフェノールAの残基、

Figure 2011144230
In this structure, (Equation 3-1) corresponds to that of [Chemical Formula 1]. In addition, a mixture in the range of 0 to 100 can be obtained simultaneously. So X and Y are the same bisphenol A residues,
Figure 2011144230

アクリル酸が反応したアクリル酸の残基、及びアクリル酸無水物がMの位置に反応して生成するアクリル酸が反応したアクリル酸の残基となり、いずれもアクリル酸の残基となる。   The acrylic acid residue reacted with acrylic acid and the acrylic acid residue produced by the reaction of acrylic acid generated by the reaction of acrylic acid anhydride at the M position are both acrylic acid residues.

また、Mは、

Figure 2011144230
水素原子、アクリル酸無水物が反応したカルボン酸残基、テトラヒドロ無水フタル酸が反応した残基となる。 M is
Figure 2011144230
A hydrogen atom, a carboxylic acid residue reacted with acrylic anhydride, and a residue reacted with tetrahydrophthalic anhydride.

具体的には、下記のように合成を行った。   Specifically, the synthesis was performed as follows.

合成例1に使用したものと同様の反応容器にビスフェノールA型エポキシ化合物(ジャパンエポキシレジン社製「jER#1001」)400.0部仕込み、溶解させた後、攪拌下、アクリル酸43.2部、アクリル酸無水物176.4部、トリフェニルホスフィン1.4部、モノメチルエーテルハイドロキノン0.6部を仕込み、空気を吹き込みながら、加熱して温度を110〜120℃に保持しながら10時間反応させ酸価1mgKOH/gの反応生成物を得た。その後、テトラヒドロ無水フタル酸398.0部を加え、攪拌下、温度を100〜110℃に保持しながら、さらに5時間反応させ、酸価95mgKOH/gの多官能エポキシアクリレート化合物を得た。この酸価の99%は、テトラヒドロ無水フタル酸が反応して生成したカルボキシル基由来である。この多官能エポキシアクリレート化合物をカルビトールアセテート441.9部に希釈して不揮発分60%の多官能エポキシアクリレート樹脂(a−3)を得た。   A reaction vessel similar to that used in Synthesis Example 1 was charged with 400.0 parts of a bisphenol A type epoxy compound (“jER # 1001” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), dissolved, and then stirred with 43.2 parts of acrylic acid. , 176.4 parts of acrylic anhydride, 1.4 parts of triphenylphosphine, and 0.6 parts of monomethyl ether hydroquinone were heated and reacted for 10 hours while maintaining the temperature at 110 to 120 ° C. while blowing air. A reaction product having an acid value of 1 mgKOH / g was obtained. Thereafter, 398.0 parts of tetrahydrophthalic anhydride was added, and the mixture was further reacted for 5 hours while maintaining the temperature at 100 to 110 ° C. with stirring to obtain a polyfunctional epoxy acrylate compound having an acid value of 95 mgKOH / g. 99% of this acid value is derived from the carboxyl group produced by the reaction of tetrahydrophthalic anhydride. This polyfunctional epoxy acrylate compound was diluted with 441.9 parts of carbitol acetate to obtain a polyfunctional epoxy acrylate resin (a-3) having a nonvolatile content of 60%.

合成例4
<反応経路>
合成例4で得られる多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物は、構造的には合成例1で得られる化合物と同じである。異なる点は、反応の最後に付加するテトラヒドロ無水フタル酸が合成例1よりも少なく、最終化合物の酸価40mgKOH/gの化合物となる。つまり、構造中Mを構成するテトラヒドロ無水フタル酸の残基の割合が少なくなり、水素原子の割合が多くなっているものである。したがって、上述の反応式を参照すれば、X, Y, Q, M, n, mは以下の通りである。

Figure 2011144230
Synthesis example 4
<Reaction pathway>
The polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound obtained in Synthesis Example 4 is structurally the same as the compound obtained in Synthesis Example 1. The difference is that the amount of tetrahydrophthalic anhydride added at the end of the reaction is less than in Synthesis Example 1 and the final compound has an acid value of 40 mgKOH / g. That is, the proportion of tetrahydrophthalic anhydride residues constituting M in the structure is reduced, and the proportion of hydrogen atoms is increased. Therefore, referring to the above reaction formula, X, Y, Q, M, n, and m are as follows.
Figure 2011144230

具体的には、下記のように合成を行った。   Specifically, the synthesis was performed as follows.

合成例1に使用したと同様の反応容器に、無水トリメリット酸74.2部と2−ヒドロキシエチルアクリレート54.6部を仕込み、空気を吹き込みながら、撹拌下、加熱して温度を85〜95℃に保持し反応させた。反応はIRにて追跡し、未反応の無水トリメリット酸の吸収(1780cm-1)が消失するまで継続した。反応には4時間を要した。次いで、ビスフェノールA型エポキシ化合物(旭化成工業社製の商品名「AER260」)275.6部、アクリル酸26.4部、メタクリル酸無水物55.4部、トリフェニルホスフィン1.4部、モノメチルエーテルハイドロキノン0.6部を仕込み、攪拌下、加熱して温度を110〜120℃に保持しながら10時間反応させ酸価4mgKOH/gの反応生成物を得た。その後、テトラヒドロ無水フタル酸53.2部を加え、攪拌下、温度を100〜110℃に保持しながら、さらに5時間反応させ、酸価40mgKOH/gの多官能エポキシアクリレート化合物を得た。この酸価の90.7%は、テトラヒドロ無水フタル酸が反応して生成したカルボキシル基由来である。この多官能エポキシアクリレート化合物をカルビトールアセテート360.9部に希釈して不揮発分60%の多官能エポキシアクリレート樹脂(a−4)を得た。 A reaction vessel similar to that used in Synthesis Example 1 was charged with 74.2 parts of trimellitic anhydride and 54.6 parts of 2-hydroxyethyl acrylate, and heated with stirring while blowing air to a temperature of 85 to 95. The reaction was held at 0 ° C. The reaction was followed by IR and continued until the absorption of unreacted trimellitic anhydride (1780 cm −1 ) disappeared. The reaction took 4 hours. Next, bisphenol A type epoxy compound (trade name “AER260” manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.) 275.6 parts, acrylic acid 26.4 parts, methacrylic anhydride 55.4 parts, triphenylphosphine 1.4 parts, monomethyl ether 0.6 part of hydroquinone was added and heated under stirring to react for 10 hours while maintaining the temperature at 110 to 120 ° C. to obtain a reaction product having an acid value of 4 mgKOH / g. Thereafter, 53.2 parts of tetrahydrophthalic anhydride was added, and the mixture was further reacted for 5 hours while maintaining the temperature at 100 to 110 ° C. with stirring to obtain a polyfunctional epoxy acrylate compound having an acid value of 40 mgKOH / g. 90.7% of this acid value is derived from the carboxyl group produced by the reaction of tetrahydrophthalic anhydride. This polyfunctional epoxy acrylate compound was diluted with 360.9 parts of carbitol acetate to obtain a polyfunctional epoxy acrylate resin (a-4) having a nonvolatile content of 60%.

合成例5
<反応経路>
合成例5で得られる多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物も合成例1と同様、構造的には合成例1で得られる化合物と同様である。異なる点は、合成例1と合成例5でアクリル酸とメタアクリル酸無水物の配合比率が異なりアクリル酸の配合量は多く、メタアクリル酸無水物の配合量は少なくなっている点である。つまり、構造中Qを構成するアクリル酸の残基とメタクアクリル酸がMの位置に反応することにより生成するメタクリル酸がQの位置に反応するメタアクリル酸の残基の割合が異なり、アクリル酸の残基の割合が多く、代わりにメタアクリル酸の残基の割合が少なくなっている点である。また、合成例1は酸価100mgKOH/g、合成例5は酸価122mgKOH/gの化合物が得られている。つまり、構造中Mを構成するテトラヒドロ無水フタル酸の残基の割合が多くなり、代わりに水素原子の割合が少なくなっている。したがって、上述の反応式を参照して、合成例5において、X, Y, Q, M, n, mは以下の通りである。

Figure 2011144230
Synthesis example 5
<Reaction pathway>
The polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound obtained in Synthesis Example 5 is structurally similar to the compound obtained in Synthesis Example 1 in the same manner as in Synthesis Example 1. The difference is that the blending ratio of acrylic acid and methacrylic anhydride is different between Synthesis Example 1 and Synthesis Example 5, and the blending amount of acrylic acid is large and the blending amount of methacrylic anhydride is small. In other words, the ratio of acrylic acid residues constituting Q in the structure and methacrylic acid residues produced by the reaction of methacrylic acid at the M position differs from the methacrylic acid residues at the Q position. The ratio of the acid residue is large, and instead the ratio of the methacrylic acid residue is small. In addition, Compound 1 has an acid value of 100 mgKOH / g, and Synthesis Example 5 has an acid value of 122 mgKOH / g. That is, the proportion of tetrahydrophthalic anhydride residues constituting M in the structure is increased, and the proportion of hydrogen atoms is decreased instead. Therefore, with reference to the above reaction formula, in Synthesis Example 5, X, Y, Q, M, n, and m are as follows.
Figure 2011144230

具体的には、下記のように合成を行った。   Specifically, the synthesis was performed as follows.

合成例1に使用したと同様の反応容器に、無水トリメリット酸74.2部と2−ヒドロキシエチルアクリレート54.6部を仕込み、空気を吹き込みながら、撹拌下、加熱して温度を85〜95℃に保持し反応させた。反応はIRにて追跡し、未反応の無水トリメリット酸の吸収(1780cm-1)が消失するまで継続した。反応には4時間を要した。次いで、ビスフェノールA型エポキシ化合物(旭化成工業社製の商品名「AER260」)275.6部、アクリル酸39.4部、メタクリル酸無水物27.7部、トリフェニルホスフィン1.4部、モノメチルエーテルハイドロキノン0.6部を仕込み、攪拌下、加熱して温度を110〜120℃に保持しながら10時間反応させ酸価4mgKOH/gの反応生成物を得た。その後、テトラヒドロ無水フタル酸225.0部を加え、攪拌下、温度を100〜110℃に保持しながら、さらに5時間反応させ、酸価122mgKOH/gの多官能エポキシアクリレート化合物を得た。この酸価の97.4%は、テトラヒドロ無水フタル酸が反応して生成したカルボキシル基由来である。この多官能エポキシアクリレート化合物をカルビトールアセテート465.7部に希釈して不揮発分60%の多官能エポキシアクリレート樹脂(a−5)を得た。 A reaction vessel similar to that used in Synthesis Example 1 was charged with 74.2 parts of trimellitic anhydride and 54.6 parts of 2-hydroxyethyl acrylate, and heated with stirring while blowing air to a temperature of 85 to 95. The reaction was held at 0 ° C. The reaction was followed by IR and continued until the absorption of unreacted trimellitic anhydride (1780 cm −1 ) disappeared. The reaction took 4 hours. Next, bisphenol A type epoxy compound (trade name “AER260” manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.) 275.6 parts, acrylic acid 39.4 parts, methacrylic anhydride 27.7 parts, triphenylphosphine 1.4 parts, monomethyl ether 0.6 part of hydroquinone was added and heated under stirring to react for 10 hours while maintaining the temperature at 110 to 120 ° C. to obtain a reaction product having an acid value of 4 mgKOH / g. Thereafter, 225.0 parts of tetrahydrophthalic anhydride was added, and the mixture was further reacted for 5 hours while maintaining the temperature at 100 to 110 ° C. with stirring to obtain a polyfunctional epoxy acrylate compound having an acid value of 122 mgKOH / g. 97.4% of this acid value is derived from the carboxyl group produced by the reaction of tetrahydrophthalic anhydride. This polyfunctional epoxy acrylate compound was diluted with 465.7 parts of carbitol acetate to obtain a polyfunctional epoxy acrylate resin (a-5) having a nonvolatile content of 60%.

合成例6(比較用)
合成例1に使用したものと同様の反応容器に、クレゾールノボラック型エポキシ化合物(大日本インキ化学工業社製の商品名「エピクロンN―690」)345部、アクリル酸117部、トリフェニルホスフィン1.4部、モノメチルエーテルハイドロキノン0.6部を仕込み、空気を吹き込みながら、攪拌下、加熱して温度を110〜120℃に保持し、10時間反応させ酸価1mgKOH/gの反応生成物を得た。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸137部を加え、攪拌下、温度を100〜110℃に保持し、さらに5時間反応させることにより、酸価85mgKOH/gの多官能エポキシアクリレート化合物を得た。この酸価の99.1%は、テトラヒドロ無水フタル酸が反応したカルボキシル基由来である。この多官能エポキシアクリレート化合物をカルビトールアセテート401部にて希釈して不揮発分60%の多官能エポキシアクリレート樹脂(b−1)を得た。
Synthesis Example 6 (for comparison)
In a reaction vessel similar to that used in Synthesis Example 1, 345 parts of a cresol novolac type epoxy compound (trade name “Epiclon N-690” manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), 117 parts of acrylic acid, triphenylphosphine 4 parts, 0.6 parts of monomethyl ether hydroquinone were charged, and heated with stirring while blowing air. The temperature was maintained at 110 to 120 ° C. and reacted for 10 hours to obtain a reaction product having an acid value of 1 mg KOH / g. . Next, 137 parts of tetrahydrophthalic anhydride was added, the temperature was maintained at 100 to 110 ° C. with stirring, and the mixture was further reacted for 5 hours to obtain a polyfunctional epoxy acrylate compound having an acid value of 85 mgKOH / g. 99.1% of this acid value is derived from the carboxyl group reacted with tetrahydrophthalic anhydride. This polyfunctional epoxy acrylate compound was diluted with 401 parts of carbitol acetate to obtain a polyfunctional epoxy acrylate resin (b-1) having a nonvolatile content of 60%.

合成例7(比較用)
合成例1に使用したものと同様の反応容器に、ビスフェノールA型エポキシ化合物(ジャパンエポキシレジン製商品名「jER#1004」)500部、アクリル酸76.7部、トリフェニルホスフィン1.2部、モノメチルエーテルハイドロキノン0.8部を仕込み、空気を吹き込みながら、攪拌下、加熱して温度を110〜120℃に保持し、10時間反応させ酸価1mgKOH/gの反応生成物を得た。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸186部を加え、攪拌下、温度を100〜110℃に保持し、さらに5時間反応させることにより、酸価90mgKOH/gのエポキシアクリレート化合物を得た。この酸価の99.3%は、テトラヒドロ無水フタル酸が反応して生成したカルボキシル基由来である。このエポキシアクリレート化合物をカルビトールアセテート508.3部にて希釈して不揮発分60%のエポキシアクリレート樹脂(b−2)を得た。
Synthesis Example 7 (for comparison)
In a reaction vessel similar to that used in Synthesis Example 1, 500 parts of a bisphenol A type epoxy compound (trade name “jER # 1004” manufactured by Japan Epoxy Resin), 76.7 parts of acrylic acid, 1.2 parts of triphenylphosphine, 0.8 parts of monomethyl ether hydroquinone was charged and heated with stirring while blowing air, and the temperature was maintained at 110 to 120 ° C. and reacted for 10 hours to obtain a reaction product having an acid value of 1 mg KOH / g. Next, 186 parts of tetrahydrophthalic anhydride was added, the temperature was maintained at 100 to 110 ° C. with stirring, and the mixture was further reacted for 5 hours to obtain an epoxy acrylate compound having an acid value of 90 mgKOH / g. 99.3% of this acid value is derived from the carboxyl group produced by the reaction of tetrahydrophthalic anhydride. This epoxy acrylate compound was diluted with 508.3 parts of carbitol acetate to obtain an epoxy acrylate resin (b-2) having a nonvolatile content of 60%.

<感光性熱硬化性樹脂組成物の調製>
実施例1〜5および比較例6、7
上記の合成例1〜7にて得られた多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)を希釈剤(D)に希釈した多官能エポキシ(メタ)アクリレート樹脂(a−1〜a−3、b−1〜b−5)は、表1の組成で配合し感光性熱硬化性樹脂組成物を調製した。
<Preparation of photosensitive thermosetting resin composition>
Examples 1 to 5 and Comparative Examples 6 and 7
Polyfunctional epoxy (meth) acrylate resin (a-1 to a-3, b) obtained by diluting the multifunctional epoxy (meth) acrylate compound (A) obtained in Synthesis Examples 1 to 7 above in the diluent (D) -1 to b-5) were blended with the compositions shown in Table 1 to prepare photosensitive thermosetting resin compositions.

上記、硬化性樹脂組成物中の1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(B)は、ビスフェノールA型エポキシ化合物(旭化成工業社製の商品名「アラルダイト260」)、光重合開始剤(C)は、チバスペシャリティケミカルズ社製の商品名「イルガキュア907」を使用した。また、その他消泡剤として、ビッグケミー・ジャパン社製の商品名の「BYK−A555」、顔料として、大日精化工業社製の商品名「フタロシアニングリーン」を使用した。 The epoxy compound (B) having two or more epoxy groups in one molecule in the curable resin composition is a bisphenol A type epoxy compound (trade name “Araldite 260” manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.), photopolymerization start As the agent (C), trade name “Irgacure 907” manufactured by Ciba Specialty Chemicals was used. In addition, as a defoaming agent, “BYK-A555”, a trade name of Big Chemie Japan, and a trade name “Phthalocyanine Green”, manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., were used as a pigment.

表1には、感光性熱硬化性樹脂組成物の組成と下記記載の評価の結果を示した。   Table 1 shows the composition of the photosensitive thermosetting resin composition and the results of the evaluation described below.

<評価項目>なお、評価項目は、以下の(1)〜(9)に示す事項である。
(1)指触乾燥性
表1の感光性熱硬化性樹脂組成物を銅箔付き基板上にスクリーン印刷法にて全面塗布し、80℃の熱風乾燥炉にて30分間乾燥させた。その後、基板を乾燥炉より取り出し、室温まで放冷し、塗膜の指触乾燥性を調べた。判定基準は以下の通りである。
○:タックが無い、△:タックは無いが、指紋が薄くつく、×:タックがある
<Evaluation Item> The evaluation items are items shown in the following (1) to (9).
(1) Dryness to touch The photosensitive thermosetting resin composition shown in Table 1 was applied on the entire surface of the substrate with copper foil by screen printing, and dried in a hot air drying oven at 80 ° C. for 30 minutes. Thereafter, the substrate was taken out from the drying furnace, allowed to cool to room temperature, and the touch drying property of the coating film was examined. Judgment criteria are as follows.
○: No tack, △: No tack, but thin fingerprint, x: There is tack

(2)アルカリ現像性
表1記載の樹脂組成物を銅箔付き基板上にスクリーン印刷法にて全面塗布し、80℃の熱風乾燥炉にて20,40,60分間乾燥した。その後、基板を乾燥炉より取り出し、室温まで放冷し、30℃の1重量%炭酸ナトリウム水溶液をスプレー圧0.2MPaの条件で60秒間現像を行い、乾燥塗膜の現像残りの有無を目視で確認した。判定基準は以下の通りである。
○:完全に現像されている、△:一部塗膜が残っている、×:塗膜が完全に残っている
(2) Alkali developability The resin composition described in Table 1 was applied on the entire surface of the substrate with copper foil by screen printing, and dried in a hot air drying oven at 80 ° C. for 20, 40, 60 minutes. Thereafter, the substrate is taken out from the drying furnace, allowed to cool to room temperature, developed with a 1% by weight sodium carbonate aqueous solution at 30 ° C. for 60 seconds under the condition of a spray pressure of 0.2 MPa, and the presence or absence of development residue of the dry coating film is visually observed. confirmed. Judgment criteria are as follows.
○: Completely developed, Δ: Part of the coating film remains, ×: The coating film remains completely

(3)感度
表1記載の樹脂組成物を銅箔付き基板上にスクリーン印刷法にて全面塗布し、80℃の熱風乾燥炉にて30分乾燥した。その後、基板を乾燥炉より取り出し、室温まで放冷し、塗膜上にステップタブレット(コダックNo.2、全21段)をのせ、減圧下、メタルハライドランプ(350nm)を光源として、紫外線積算光量600mJ/cm2の条件で露光し、ステップタブレットを外した後、30℃の1重量%炭酸ナトリウム水溶液をスプレー圧0.2MPa の条件で60秒間現像を行い、残存塗膜の段数を目視で数えることにより紫外線への感度を評価した。大きい段数のもの程、紫外線への感度が高いことを意味する。
(3) Sensitivity The resin composition described in Table 1 was applied on the entire surface of the substrate with copper foil by screen printing, and dried in a hot air drying oven at 80 ° C. for 30 minutes. Thereafter, the substrate is taken out from the drying furnace, allowed to cool to room temperature, and a step tablet (Kodak No. 2, total 21 steps) is placed on the coating film, and a metal halide lamp (350 nm) is used as a light source under reduced pressure, and an integrated UV light amount of 600 mJ. After exposure under the conditions of / cm 2 and removing the step tablet, development is performed with a 1% by weight sodium carbonate aqueous solution at 30 ° C. under a spray pressure of 0.2 MPa for 60 seconds, and the number of steps of the remaining coating film is visually counted. Was used to evaluate the sensitivity to ultraviolet rays. A larger number of steps means higher sensitivity to ultraviolet rays.

(4)密着性
表1記載の樹脂組成物を銅箔付き基板上にスクリーン印刷法にて全面塗布し、80℃の熱風乾燥炉にて30分間乾燥させた。その後、基板を乾燥炉より取り出し、室温まで放冷し、減圧下、メタルハライドランプ(350nm)を光源として、紫外線積算光量600mJ/cm2の条件で露光し、さらに150℃の熱風乾燥炉にて60分間熱硬化させた。その後、基板を乾燥炉より取り出し、室温まで放冷した。得られた硬化塗膜の密着性は、JIS
D0202に従い評価した。判定基準は以下の通りである。
○:碁盤目の数が100個完全に残るもの、△:碁盤目の数が100個未満60個以上残るもの、×:碁盤目の数が60個未満のしか残らなかったもの
(4) Adhesiveness The resin composition described in Table 1 was applied on the entire surface of the substrate with copper foil by screen printing, and dried in a hot air drying oven at 80 ° C. for 30 minutes. Thereafter, the substrate is taken out from the drying furnace, allowed to cool to room temperature, exposed under reduced pressure using a metal halide lamp (350 nm) as a light source under conditions of an integrated UV light quantity of 600 mJ / cm 2 , and further heated in a hot air drying furnace at 150 ° C. Heat cured for minutes. Thereafter, the substrate was taken out from the drying furnace and allowed to cool to room temperature. The adhesion of the obtained cured coating film is determined according to JIS.
Evaluation was made according to D0202. Judgment criteria are as follows.
○: The number of grids remaining completely 100, △: The number of grids remaining less than 100 and 60 or more, ×: The number of grids remaining less than 60

(5)はんだ耐熱性
評価項目(4)と同じ条件で各基板を作製した。得られた硬化塗膜は、260℃のはんだ浴に10秒間浸漬して塗膜状態を評価する試験を1回とし、合計5回の試験を繰り返した。判定基準は以下の通りである。
○:膨れ、剥がれ、変色の無いもの、△:若干膨れ、剥がれ、変色が発生するもの、×:大部分で膨れ、剥がれ、変色が発生するもの
(5) Solder heat resistance Each board | substrate was produced on the same conditions as evaluation item (4). The obtained cured coating film was immersed in a 260 ° C. solder bath for 10 seconds to evaluate the coating film state once, and the test was repeated a total of five times. Judgment criteria are as follows.
○: Swelling, peeling, no discoloration, △: Slight swelling, peeling, discoloration, ×: Swelling, peeling, discoloration in most parts

(6)耐溶剤性
評価項目(4)と同じ条件で作製した各基板を室温(23℃)にて、イソプロピルアルコールに30分漬浸し、外観の観察とピーリング試験(JIS Z1522)を行った。判定基準は以下の通りである。
○:膨れ、剥がれ、変色の無いもの、△:若干膨れ、剥がれ、変色が発生するもの、×:大部分で膨れ、剥がれ、変色が発生するもの
(6) Solvent resistance Each substrate produced under the same conditions as in the evaluation item (4) was immersed in isopropyl alcohol at room temperature (23 ° C.) for 30 minutes, and an appearance was observed and a peeling test (JIS Z1522) was performed. Judgment criteria are as follows.
○: Swelling, peeling, no discoloration, △: Slight swelling, peeling, discoloration, ×: Swelling, peeling, discoloration in most parts

(7)耐酸性
評価項目(4)と同じ条件で作製した各基板を室温(23℃)にて、10%塩酸水溶液に30分漬浸し、外観の観察とピーリング試験(JIS Z1522)を行った。判定基準は以下の通りである。
○:膨れ、剥がれ、変色の無いもの、△:若干膨れ、剥がれ、変色が発生するもの、×:大部分で膨れ、剥がれ、変色が発生するもの
(7) Acid resistance Each substrate produced under the same conditions as in the evaluation item (4) was immersed in a 10% aqueous hydrochloric acid solution at room temperature (23 ° C.) for 30 minutes, and an appearance was observed and a peeling test (JIS Z1522) was performed. . Judgment criteria are as follows.
○: Swelling, peeling, no discoloration, △: Slight swelling, peeling, discoloration, ×: Swelling, peeling, discoloration in most parts

(8)耐湿性(PCT:プレッシャー・クッカーテスト)
評価項目(4)と同じ条件で作製した各基板の耐湿性(PCT耐性)は、121℃、100%RH、2気圧の条件下に塗膜を連続50時間さらした後の塗膜状態を評価した。評価基準は以下の通りである。
○:膨れ、剥がれ、変色の無いもの、△:若干膨れ、剥がれ、変色のあるもの、×:膨れ、剥がれ、変色のあるもの
(8) Moisture resistance (PCT: Pressure cooker test)
The moisture resistance (PCT resistance) of each substrate produced under the same conditions as the evaluation item (4) was evaluated for the coating state after the coating film was continuously exposed for 50 hours under the conditions of 121 ° C., 100% RH and 2 atmospheres. did. The evaluation criteria are as follows.
○: Swelling, peeling, no discoloration, △: Swelling, peeling, discoloration, ×: Swelling, peeling, discoloration

(9)冷熱サイクル試験
評価項目(4)と同じ条件で作製した各基板の冷熱サイクル試験は、得られた硬化塗膜を−65℃の条件下に30分間、次いで125℃の条件下に30分間続けてさらす試験を1サイクルし、合計100サイクルの試験を連続して行い、塗膜へのクラック発生の有無を評価した。
○:クラック発生、剥がれが共に無いもの、×:クラック発生、又は剥がれのいずれか、或いは共にあるもの
(9) Thermal cycle test The thermal cycle test of each substrate produced under the same conditions as the evaluation item (4) was carried out by subjecting the obtained cured coating film to -65 ° C for 30 minutes and then to 125 ° C for 30 minutes. The test that was continuously exposed for 1 minute was performed for one cycle, and the test for a total of 100 cycles was continuously performed to evaluate the occurrence of cracks in the coating film.
○: No cracking or peeling, ×: Cracking or peeling, or both

Figure 2011144230
Figure 2011144230

表1の結果から明らかなように、本発明の多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物を含有する感光性熱硬化性樹脂組成物は、指触乾燥性、アルカリ現像性、感度のバランスがとれ、さらにレジスト塗膜として必要な密着性、はんだ耐熱性、耐溶剤性、耐薬品性、耐湿性(PCT耐性)、冷熱サイクル性に優れた硬化塗膜を与えることができる。これに対し、比較例の樹脂組成物は、各評価をバランスよく満たすことができないものであった。   As is clear from the results in Table 1, the photosensitive thermosetting resin composition containing the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound of the present invention has a good balance of dryness to touch, alkali developability, and sensitivity. A cured coating film excellent in adhesion, solder heat resistance, solvent resistance, chemical resistance, moisture resistance (PCT resistance), and heat cycle characteristics required as a resist coating film can be provided. On the other hand, the resin composition of the comparative example cannot satisfy each evaluation in a well-balanced manner.

民生用並びに産業用プリント配線板の分野、及びソルダーレジストを施したプリント配線板と封止樹脂を用いたBGA(ボール・グリッド・アレイ)やCSP(チップ・スケール・パッケージ)等のICパッケージ用プリント配線板の製造に用いられる希アルカリ現像液にて画像形成が可能な液状ソルダーレジストインキ、ドライフィルム型ソルダーレジストに有用な多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物及び該多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物を含有する感光性熱硬化性樹脂組成物並びにその硬化物に関する。   Printed circuit boards for consumer and industrial printed wiring boards, and IC packages such as BGA (ball grid array) and CSP (chip scale package) using printed wiring boards with solder resist and sealing resin A liquid solder resist ink capable of forming an image with a dilute alkali developer used in the production of a wiring board, a polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound useful for a dry film type solder resist, and the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound The present invention relates to a photosensitive thermosetting resin composition and a cured product thereof.

Claims (6)

一分子中に少なくとも2個以上のエポキシ基を有する化合物(a)と(メタ)アクリル酸無水物(b)及び不飽和基含有モノカルボン酸(c)の反応物にさらに多塩基酸無水物(d)を反応させた下記一般式[化1]:
Figure 2011144230
(式中、Xは二価の芳香族基及び/又はアルキル基及び/又はシクロヘキシル基、Yは二価の芳香族残基、ジカルボン酸残基を表す。Mは少なくとも1つは、(メタ)アクリル酸無水物が反応したカルボン酸残基であり、又少なくとも1つは、カルボキシル基を1個以上含有する多塩基酸無水物の残基であり、残りは水素原子を表す。Qは(メタ)アクリル酸無水物が水酸基と反応して生成する(メタ)アクリル酸の残基、及び不飽和基含有モノカルボン酸の残基を表す。mは、0〜100である。)に示す多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)。
A polybasic acid anhydride (a) is further added to the reaction product of the compound (a) having at least two epoxy groups in one molecule, the (meth) acrylic anhydride (b) and the unsaturated group-containing monocarboxylic acid (c). The following general formula [chemical formula 1] obtained by reacting d):
Figure 2011144230
(In the formula, X represents a divalent aromatic group and / or an alkyl group and / or a cyclohexyl group, Y represents a divalent aromatic residue, and a dicarboxylic acid residue. M represents at least one of (meth) A carboxylic acid residue reacted with acrylic anhydride, and at least one is a residue of a polybasic acid anhydride containing one or more carboxyl groups, and the remainder represents a hydrogen atom. ) Represents a residue of (meth) acrylic acid produced by reaction of an acrylic anhydride with a hydroxyl group and a residue of an unsaturated group-containing monocarboxylic acid, where m is 0 to 100). Epoxy (meth) acrylate compound (A).
多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)が、酸価60〜110mgKOH/gの範囲であることを特徴とする請求項1記載の多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)。   The polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A) according to claim 1, wherein the polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A) has an acid value in the range of 60 to 110 mgKOH / g. 前記酸価の95%以上が多塩基酸無水物由来のカルボキシル基由来であることを特徴とする請求項2記載の多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)。   The polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A) according to claim 2, wherein 95% or more of the acid value is derived from a carboxyl group derived from a polybasic acid anhydride. 請求項1〜3項のいずれか1項に記載の多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(B)、光重合開始剤(C)、希釈剤(D)を必須成分として含有することを特徴とする感光性熱硬化性樹脂組成物。   The polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound (A) according to any one of claims 1 to 3, an epoxy compound (B) having two or more epoxy groups in one molecule, a photopolymerization initiator (C ), A diluent (D) as an essential component, a photosensitive thermosetting resin composition. 請求項4記載の感光性熱硬化性樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物。   A cured product obtained by curing the photosensitive thermosetting resin composition according to claim 4. 一般式[化2]:
Figure 2011144230
(式中、Xは二価の芳香族基及び/又はアルキル基及び/又はシクロヘキシル基、Yは二価の芳香族残基、ジカルボン酸残基を表す。Mは少なくとも1つは、(メタ)アクリル酸無水物が反応したカルボン酸残基であり、又少なくとも1つは、カルボキシル基を1個以上含有する多塩基酸無水物の残基であり、残りは水素原子を表す。Qは(メタ)アクリル酸無水物が水酸基と反応して生成する(メタ)アクリル酸の残基、及び不飽和基含有モノカルボン酸の残基を表す。mは、0〜100である。)で表される多官能エポキシ(メタ)アクリレート化合物。
[Formula 2]:
Figure 2011144230
(In the formula, X represents a divalent aromatic group and / or an alkyl group and / or a cyclohexyl group, Y represents a divalent aromatic residue, and a dicarboxylic acid residue. M represents at least one of (meth) A carboxylic acid residue reacted with acrylic anhydride, and at least one is a residue of a polybasic acid anhydride containing one or more carboxyl groups, and the remainder represents a hydrogen atom. ) Represents a residue of (meth) acrylic acid generated by reaction of an acrylic anhydride with a hydroxyl group and a residue of an unsaturated group-containing monocarboxylic acid, where m is 0 to 100. Polyfunctional epoxy (meth) acrylate compound.
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