JP2011124734A - 電流電圧変換回路、光学機器、及び光学ドライブ装置 - Google Patents

電流電圧変換回路、光学機器、及び光学ドライブ装置 Download PDF

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Abstract

【課題】ゲインを大きくする場合のノイズの増加及び狭帯域化を抑制する。
【解決手段】電流電圧変換回路は、フォトダイオード1から出力される電流信号を増幅する第1の差動増幅回路10と、第1の差動増幅回路10の出力信号を増幅する第2の差動増幅回路20と、第2の差動増幅回路20の出力信号が入力される反転入力端子を有するオペアンプ30と、オペアンプ30の反転入力端子と出力端子の間に接続された帰還抵抗31とを備える。
【選択図】図2

Description

本発明は電流電圧変換回路、光学機器、及び光学ドライブ装置に関し、特にフォトダイオードから出力される電流信号を電圧信号に変換する電流電圧変換回路、光学機器、及び光学ドライブ装置に関する。
従来の光学ドライブ装置(例えば特許文献1を参照。)において、フォトダイオードから出力される電流信号は、初めに電流電圧変換回路によって電圧信号に変換され、次に電圧増幅回路で増幅されて信号処理回路に入力される。
図7は、従来の電流電圧変換回路と電圧増幅回路の例を示している。同図に示すように、電流電圧変換回路100と電圧増幅回路110はそれぞれオペアンプ101,111を有している。オペアンプ101の反転入力端子と出力端子の間には帰還抵抗102(抵抗値:R1)が接続され、反転入力端子はフォトダイオード120に、非反転入力端子は電源Vrefにそれぞれ接続されている。以上の構成により、電流電圧変換回路100から出力される電圧信号Vout1は、Vout1=IPD×R1+Vrefとなる。ただし、IPDはフォトダイオード120の出力電流である。
特開2009−151840号公報
ところで、多層化された光ディスクを用いる場合、光ディスクの反射率が低いため、その分電流電圧変換回路もしくは電圧増幅回路のゲインを上げる必要がある。
このうち、電圧増幅回路のゲインを上げることは好ましくない。出力雑音電圧(以下、出力ノイズという。)が電圧増幅回路のゲインに比例して大きくなるためである。
これに対し、電流電圧変換回路のゲインを上げる場合の出力雑音電圧はゲインの平方根に比例して大きくなる。したがって、電圧増幅回路のゲインを上げることに比べれば、電流電圧変換回路のゲインを上げることの方が好ましい。しかし一方で、電流電圧変換回路のゲインを上げるために帰還抵抗の抵抗値R1を上げると、それに伴って帯域が狭くなるという別の問題が生ずる。
このように、電流電圧変換回路及び電圧増幅回路のいずれのゲインを上げるにしても問題が生じ、結局、従来の光学ドライブ装置ではゲインをあまり大きくできなかった。
そこで、本発明の目的の一つは、ゲインを大きくする場合のノイズの増加及び狭帯域化を抑制できる電流電圧変換回路、光学機器、及び光学ドライブ装置を提供することにある。
上記目的を達成するための本発明による電流電圧変換回路は、フォトダイオードから出力される電流信号を増幅する第1の差動増幅回路と、前記第1の差動増幅回路の出力信号を増幅する第2の差動増幅回路と、前記第2の差動増幅回路の出力信号が入力される反転入力端子を有するオペアンプと、前記オペアンプの前記反転入力端子と出力端子の間に接続された帰還抵抗とを備えることを特徴とする。
本発明によれば、第1及び第2の差動増幅回路それぞれの相互コンダクタンスと、帰還抵抗の抵抗値とを適宜調節することにより、図7に示した従来型の電流電圧変換回路に比べ、ノイズを抑え、かつ大きなゲインを得ることが可能になる。また、差動増幅回路はオペアンプに比べて広帯域であるので、狭帯域化の抑制も可能になる。
上記電流電圧変換回路において、前記第2の差動増幅回路の出力信号は、差動の第1及び第2の出力信号からなり、前記オペアンプの前記反転入力端子には前記第1の出力信号が入力され、前記オペアンプの非反転入力端子には前記第2の出力信号が入力されることとしてもよい。このようにオペアンプの入力を差動入力とすることで、差動入力としない場合に比べ、ノイズを小さくすることが可能になる。
また、上記各電流電圧変換回路において、前記第1の差動増幅回路の入力電流は、前記電流信号にかかる電流と該電流に重畳された直流電流とから構成され、前記直流電流は、該第1の差動増幅回路のテイル電流の1/2の電流値を有することとしてもよい。
また、上記各電流電圧変換回路において、前記第1の差動増幅回路は、差動対を構成する第1及び第2のトランジスタと、テイル電流を生成する第1の定電流源と、前記第1のトランジスタの一方の被制御端子と前記第1の定電流源との間に挿入された第1の抵抗素子と、前記第2のトランジスタの一方の被制御端子と前記第1の定電流源との間に挿入された第2の抵抗素子とを有し、前記第1のトランジスタの他方の被制御端子は前記フォトダイオードの一端に接続され、前記第2のトランジスタの他方の被制御端子と前記フォトダイオードの他端には共通の電源電位が供給されることとしてもよいし、前記第1の差動増幅回路は、差動対を構成する第1及び第2のトランジスタと、テイル電流を生成する第3及び第4の定電流源と、前記第1のトランジスタの一方の被制御端子と前記第2のトランジスタの一方の被制御端子との間に直列に接続された第1及び第2の抵抗素子とを有し、前記第3の定電流源は前記第1のトランジスタの前記一方の被制御端子に接続され、前記第4の定電流源は前記第2のトランジスタの前記一方の被制御端子に接続され、前記第1のトランジスタの他方の被制御端子は前記フォトダイオードの一端に接続され、前記第2のトランジスタの他方の被制御端子と前記フォトダイオードの他端には共通の電源電位が供給されることとしてもよい。これらによれば、第1及び第2の抵抗素子の抵抗値を調節することにより、第1の差動増幅回路の相互コンダクタンスを調整できる。なお、第1及び第2の抵抗素子の抵抗値は、前記第1の差動増幅回路の相互コンダクタンスの逆数が、前記電流電圧変換回路のトータル電流電圧変換ゲインの4倍以上となるよう決定されることが好適である。
また、上記各電流電圧変換回路において、前記第2の差動増幅回路は、差動対を構成する第3及び第4のトランジスタと、テイル電流を生成する第2の定電流源と、前記第3のトランジスタの一方の被制御端子と前記第2の定電流源との間に挿入された第3の抵抗素子と、前記第3の抵抗素子と並列に接続された第1の容量素子と、前記第4のトランジスタの一方の被制御端子と前記第2の定電流源との間に挿入された第4の抵抗素子と、前記第4の抵抗素子と並列に接続された第2の容量素子とを有することとしてもよい。これによれば、周波数帯域をブーストすることが可能になる。
また、本発明による光学機器は、上記各電流電圧変換回路のいずれかと、前記フォトダイオードとを備えることを特徴とする。
また、本発明による光学ドライブ装置は、上記光学機器であることを特徴とする。
本発明によれば、第1及び第2の差動増幅回路それぞれの相互コンダクタンスと、帰還抵抗の抵抗値とを適宜調節することにより、図7に示した従来型の電流電圧変換回路に比べ、ノイズを抑え、かつ大きなゲインを得ることが可能になる。
本発明の実施の形態による、フォトダイオードの出力電流を電圧信号に変換し、さらに増幅するPDIC回路の回路図である。 本発明の第1の実施の形態による電流電圧変換回路の内部回路図である。 第1及び第2の容量素子を設けない場合と設けた場合のそれぞれについて、I−Vアンプから出力される電圧信号Vout1の周波数特性を示す図である。 本発明の第2の実施の形態による電流電圧変換回路の内部回路図である。 本発明の第3の実施の形態による電流電圧変換回路の内部回路図である。 (a)は、本発明の第3の実施の形態による電流電圧変換回路2において、トランジスタ47,47,48,48のみ、第1の実施の形態による電流電圧変換回路で示したトランジスタ47,48に代えた例を用いて電圧増幅回路の出力雑音Voをシミュレートした結果を示す図である。(b)は、(a)と同一のシミュレーションにおいて、計算の途中で得られる、相互コンダクタンスgm1の逆数(1/gm1)と電流電圧変換回路2の出力雑音Vo2の2乗(Vo2)とを、トータル電流電圧変換ゲインGの2倍(G×2)とともにプロットした図である。 本発明の背景技術によるPDIC回路の回路図である。
以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施の形態について詳細に説明する。
図1は、本発明の実施の形態による、フォトダイオード1の出力電流を電圧信号に変換し、さらに増幅するPDIC回路の回路図である。同図に示すように、このPDIC回路は、電流電圧変換回路2と電圧増幅回路3とを備える。なお、このPDIC回路は、光ディスクを再生する光学ドライブ装置の他、フォトダイオードとを備える各種の光学機器に用いることが可能である。
電流電圧変換回路2は電流増幅回路4とI−Vアンプ5とを有する。電流増幅回路4はフォトダイオード1の出力電流IPDを電流増幅する回路であり、差動の出力信号IC2,IC2b(第1及び第2の出力信号)を出力する。I−Vアンプ5は、差動の出力信号IC2,IC2bの差分に応じた電圧値を有する電圧信号Vout1を生成し、電圧増幅回路3に出力する。
電圧増幅回路3は、図7に示した背景技術による電圧増幅回路110と同様の回路である。電圧信号Vout1を増幅することにより電圧信号Voutを生成し、後段の信号処理回路(不図示)に出力する。
図2は、本発明の第1の実施の形態による電流電圧変換回路2の内部回路図である。以下、同図を参照しながら、電流増幅回路4、I−Vアンプ5の順で、それぞれの具体的な構成について説明する。
電流増幅回路4は、図2に示すように、第1及び第2の差動増幅回路10,20、定電流源40,41、Nチャンネル型MOSトランジスタ42〜46、Pチャンネル型MOSトランジスタ47,48、容量49を有する。容量49は、フォトダイオード1の寄生容量を便宜的に回路内に書き加えたものである。
第1の差動増幅回路10は、差動対を構成するnpn型バイポーラトランジスタ11,12(第1及び第2のトランジスタ)と、トランジスタ11のエミッタとトランジスタ44のドレインとの間に挿入された抵抗素子13(第1の抵抗素子)と、トランジスタ12のエミッタとトランジスタ44のドレインとの間に挿入された抵抗素子14(第2の抵抗素子)とを有する。以下では、トランジスタ11のコレクタ電流をIC1、トランジスタ12のコレクタ電流をIC1b、第1の差動増幅回路10のテイル電流(トランジスタ44のドレイン電流)をIとする。また、抵抗素子13,14の各抵抗値はともにRE1である。
トランジスタ12のコレクタとフォトダイオード1のカソードには、共通の電源電位Vccが供給される。また、トランジスタ11のコレクタはフォトダイオード1のアノード及びトランジスタ48のドレインの両方に接続されている。したがって、トランジスタ11のコレクタ電流IC1(第1の差動増幅回路10の入力電流)は、フォトダイオード1の出力電流IPDにトランジスタ48のドレイン電流I/2(後述)を重畳した電流I/2+IPDとなる。また、第1の差動増幅回路10のテイル電流が上述したようにIであるので、トランジスタ12のコレクタ電流IC1bは、I−(I/2+IPD)=I/2−IPDとなる。即ち、第1の差動増幅回路10は、フォトダイオード1から入力される電流信号IPDを、トランジスタ11,12のベース間の差動電圧信号Vinに変換する。
第2の差動増幅回路20は、差動対を構成するnpn型バイポーラトランジスタ21,22(第3及び第4のトランジスタ)と、トランジスタ21のエミッタとトランジスタ45のドレインとの間に挿入された抵抗素子23(第3の抵抗素子)と、抵抗素子23と並列に接続された容量素子25(第1の容量素子)と、トランジスタ22のエミッタとトランジスタ45のドレインとの間に挿入された抵抗素子24(第4の抵抗素子)と、抵抗素子24と並列に接続された容量素子26(第2の容量素子)とを有する。以下、トランジスタ21のコレクタ電流をIC2b、トランジスタ22のコレクタ電流をIC2、第2の差動増幅回路20のテイル電流(トランジスタ45のドレイン電流)をIとする。また、抵抗素子23,24の各抵抗値はともにRE2であり、容量素子25,26の各静電容量はともにC1である。
トランジスタ21のコレクタはI−Vアンプ5内のオペアンプ30(後述)の非反転入力端子に接続され、トランジスタ22のコレクタはオペアンプ30の反転入力端子に接続される。したがって、オペアンプ30の非反転入力端子には電流IC2bが、反転入力端子には電流IC2が、それぞれ流れることになる。即ち、第2の差動増幅回路20は、第1の差動増幅回路10で出力される差動電圧信号Vinを、トランジスタ22,21のコレクタ間の差動電流信号IC2−IC2bに変換する。
定電流源40は、トランジスタ42のドレインと電源電圧Vccが供給される電源配線との間に挿入され、直流電流Iを生成する。トランジスタ42〜45はカレントミラー接続されており、それぞれのソースは接地されている。トランジスタ43〜45のサイズは、それぞれに流れる電流I,I,Iと電流Iとの比に応じて決定される。トランジスタ44は、第1の差動増幅回路10のテイル電流Iを生成する第1の定電流源として機能し、トランジスタ45は、第2の差動増幅回路20のテイル電流Iを生成する第2の定電流源として機能する。テイル電流の電流源として、MOSトランジスタを用いているが、これは電流源にかかるバイアス電圧が低くなるためである。電流源としてバイポーラトランジスタを用いると、トランジスタの飽和が早く起き、コレクタとエミッタ間に所望の電流を流せなくなってくる。バイポーラトランジスタの場合は、コレクタとエミッタ間の電圧が小さくなってくると、所望の電流が流せなくなってくるが、この状態を、トランジスタが飽和すると言う。MOSトランジスタの場合も、ドレインとソース間の電圧がオーバードライブ電圧より小さくなってくると、所望の電流が流せなくなり、飽和してくるが、オーバードライブ電圧を小さくするように設計すると、低いバイアス電圧でも飽和が起こりにくくすることができる。ここで、オーバードライブ電圧は、ゲートとソース間の電圧VGSからしきい値電圧VTHを減算したものである。即ち、後述のように、ノイズ低減の観点からは、RE1を大きくする必要があり、RE1による電圧降下分が大きくなって、電流源にかかるバイアス電圧が低くななってくる場合は、MOSトランジスタを用いたほうがよい。
定電流源41は、トランジスタ47のドレインとグランド配線との間に挿入され、直流電流Iを生成する。トランジスタ47,48はカレントミラー接続されており、トランジスタ47,48のサイズは、トランジスタ48のドレイン電流が第1の差動増幅回路10のテイル電流Iの1/2になるように決定されている。また、トランジスタ47,48のソースには電源電圧Vccが供給されている。以上の構成により、トランジスタ48のドレイン電流はI/2となり、トランジスタ11のコレクタに入力される。
即ち、フォトダイオード1から入力される電流信号IPDが0の時に、トランジスタ11,12のコレクタ電流が等しくなるようにして、トランジスタ11,12のベース間の差動電圧信号が0となってオフセットが生じないようにしている。ただし、電流信号IPDの振幅が大きくなってくると、この入力信号のダイナミックレンジに対応できるように、トランジスタ48のドレイン電流は、I/2より小さい値にするとよい。即ち、電流信号IPDの振幅が大きくなった場合でも、第1の差動増幅回路10のテイル電流Iを大きくすることなく対応でき、ノイズを増加させずにすむ。即ち、テイル電流Iを大きくすると、その分電流源のノイズが増加すると同時に、RE1を大きくすることができなくなることにより、ノイズを低減できなくなる。
また、ノイズの観点からは、電流信号IPDの振幅が大きくない場合でも、極力トランジスタ48のドレイン電流を小さくして、トランジスタ48で発生するノイズを小さくした方がよい。即ち、トランジスタ48で発生するノイズに、トータル電流電圧変換ゲインを乗算したものが電流電圧変換回路2の出力ノイズとして出力されるためである。後述のように、ドレイン電流を小さくすると、トランジスタ48で発生するノイズは小さくできる。この場合、電流信号IPDが0の時に、トランジスタ11,12のベース間にオフセットが生じるようになるが、後段の演算回路でキャンセルするようにすればよい。
トランジスタ46は、ゲートがトランジスタ11のコレクタに、ソースがトランジスタ43のドレイン及びトランジスタ11,22の各ベースにそれぞれ接続され、ドレインには電源電圧Vccが供給される。このように、トランジスタ11のベースに負帰還をかけることにより、コレクタに流れる電流に応じてベースの電圧を決めることができる。なお、トランジスタ46がバイポーラの場合は、ベース電流が生じることになり、電流信号IPDの一部がベース電流として取られるため、ゲインが低下して好ましくない。
トランジスタ12,21の各ベースは、定電圧V1が供給される電源配線に共通に接続される。
以上の構成により、第1及び第2の差動増幅回路10,20の相互コンダクタンスgm1,gm2は、それぞれ次の式(1)及び式(2)のように表される。
Figure 2011124734
次に、I−Vアンプ5は、図2に示すように、オペアンプ30及び抵抗素子31,32を有する。抵抗素子31は、オペアンプ30の反転入力端子と出力端子の間に接続される帰還抵抗である。抵抗素子32は、オペアンプ30の非反転入力端子と定電圧V2が供給される電源配線との間に接続される。抵抗素子31,32の各抵抗値はともにRである。
上述したように、オペアンプ30の非反転入力端子と反転入力端子には、それぞれ電流IC2b及び電流IC2が流れる。したがって、I−Vアンプ5の出力電圧Voutは、次の式(3)で表される。この式(3)は、式(1)及び式(2)を用いて式(4)のように変形できる。式(4)から理解されるように、I−Vアンプ5の出力電圧Voutは、フォトダイオード1の出力電流IPDに比例する値になる。式(4)から、電流電圧変換回路2のゲイン(トータル電流電圧変換ゲイン)Gは、式(5)のように表される。
Figure 2011124734
ここで、相互コンダクタンスgm1,gm2は、厳密にはそれぞれ、gm1=d(IC1−IC1b)/dVin,gm2=d(IC2−IC2b)/dVinで、コレクタ間の差動電流をベース間の差動電圧で微分した形で表されるが、近似的に、抵抗素子13,14の抵抗値RE1、抵抗素子23,24の抵抗値RE2、及び容量素子25,26の静電容量C1を用いて、それぞれ次の式(6)及び式(7)で表すことができる。ただし、Vt=kT/qである。kはボルツマン定数(約1.38×10−23J/K)、qは素電荷(約1.6×10−19C)である。また、式(7)中のインピーダンスZは、式(8)に示すように、RE2とC1の並列インピーダンスの計算によって求められる。
Figure 2011124734
式(5)〜式(7)を用いると、電流電圧変換回路2のトータル電流電圧変換ゲインGは、次の式(9)のように書くことができる。
Figure 2011124734
以下、ノイズの増加及び狭帯域化を抑制しながら、電流電圧変換回路2のゲインGを大きくする方法について説明する。
初めに、ノイズ増加の抑制に関して説明する。
電流電圧変換回路2の出力雑音電圧Vo2/(Δf)0.5は、第1の差動増幅回路10の入力換算雑音電圧Vo1/(Δf)0.5を用い、次の式(10)のように求めることができる。Δfは周波数fにおける微小帯域幅である。
Figure 2011124734
入力換算雑音電圧電圧Vo1/(Δf)0.5は、式(11)で表される。ただし、rb1はトランジスタ11,12のベース抵抗、rb2はトランジスタ21,22のベース抵抗である。式(11)を式(10)に代入すると、電流電圧変換回路2の出力雑音電圧Vo2/(Δf)0.5を表す式は、式(12)のように変形される。
Figure 2011124734
ここで、gm1がgm2に比べて非常に小さい、すなわちgm1<<gm2であるとして、式(12)右辺では1/gm1の項が支配的であるとすると、式(12)を式(13)のように変形することができる。式(13)は、式(5)を用いてさらに式(14)のように変形できる。
Figure 2011124734
式(14)から理解されるように、電流電圧変換回路2では、出力雑音電圧Vo2/(Δf)0.5の大きさは、相互コンダクタンスgm1の平方根とゲインGに比例する。したがって、仮にゲインGを一定値とする場合、相互コンダクタンスgm1を小さくすることで出力雑音電圧Vo2/(Δf)0.5を小さくすることが可能になる。
なお、ゲインGは、相互コンダクタンスgm1を小さくしても、その分相互コンダクタンスgm2と抵抗値Rの積を小さくすることにより、一定値に保つことができる。式(5)に示したように、ゲインGは相互コンダクタンスgm2と抵抗値Rの積に比例し、相互コンダクタンスgm1に反比例するからである。したがって、相互コンダクタンスgm1を小さくし、それによって大きくなるゲインGを相互コンダクタンスgm2及び抵抗値Rの少なくとも一方を小さくすることで補うことで、ゲインG一定の条件の下、出力雑音電圧Vo2/(Δf)0.5を小さくすることが可能になる。
言い換えれば、電流電圧変換回路2では、式(5)と(14)から理解されるように、相互コンダクタンスgm2か抵抗Rを大きくしてゲインを大きくする場合は、出力雑音電圧Vo2/(Δf)0.5は、これらの値に比例して大きくなるが、相互コンダクタンスの逆数1/gm1を大きくしてゲインを大きくすると、出力雑音電圧Vo2/(Δf)0.5は、1/gm1の平方根に比例して大きくなるため、相互コンダクタンスの逆数1/gm1を大きくしてゲインを大きくするほうが、ノイズの増加を抑制することが可能になる。
なお、相互コンダクタンスgm1を小さくすることは、式(6)から理解されるように、抵抗値RE1を大きくすることにより実現できる。大きなゲインGで小さなノイズを実現するには、式(12)から理解されるように、まずはgm1を小さく、即ちRE1を大きくなるようにし、このことにより各トランジスタのバイアス電圧や電流電圧変換回路2の出力の周波数帯域が厳しくなってきたら、次にgm2を大きくなるようにし、同様にバイアス電圧や電流電圧変換回路2の出力の周波数帯域が厳しくなってきたら、最後に抵抗Rを大きくなるように設計すればよい。即ち、式(12)の右辺の2つの項とも抵抗Rが入ってきているため、抵抗Rでゲインを稼ぐことは、ノイズの観点からは一番好ましくなく、なるべく抵抗Rを小さくするように設計するのが好ましい。
また、差動増幅回路20のトランジスタ21のコレクタを電源電圧Vccに接続し、IC2の出力電流のみを用いる構成にした時、I−Vアンプ5は、図7に示される構成と同じにできる。この場合、gm2が半分になるため、抵抗Rを2倍にする必要がある。これは、上述のように、ノイズの観点からは好ましくない。よって、差動増幅回路20の出力はシングルではなく、差動で用いるのが好ましい。
なお、電流電圧変換回路2のS/N比SNRは、次の式(15)で表される。
Figure 2011124734
式(13)から明らかなように、出力雑音電圧Vo2/(Δf)0.5を小さくすることで、電流電圧変換回路2のS/N比SNRも改善される。
次に、狭帯域化の抑制に関して説明する。
まず、電流電圧変換回路2は、上述したように、I−Vアンプ5だけでなく、第1及び第2の差動増幅回路10,20という2つの差動増幅回路も用いて、信号増幅を行っている。通常、差動増幅回路はオペアンプに比べて、負帰還のループがないため、周波数特性が広帯域である。一方、I−Vアンプ5は、図7に示すように、ゲインを稼ぐためには、帰還抵抗R1を大きくする必要があるため、この抵抗R1とその寄生容量、フォトダイオード120の寄生容量などでさらに周波数特性が狭帯域化するが、差動増幅回路でゲインを稼ぎ、抵抗R1を小さくすることにより、I−Vアンプ5の帯域は改善される。よって、オペアンプだけでなく差動増幅回路を組み合わせてフォトダイオード1の出力信号を増幅するようにしたことで、図7に示した従来の回路に比べて周波数特性の狭帯域化の抑制が実現されている。
しかし、図7に示した従来の回路に比べて周波数特性は広帯域であるとは言え、ゲインGを大きくしていく過程で、抵抗RE1を極端に大きくしていくと、トランジスタ11のコレクタに接続されるフォトダイオード1の寄生容量49の影響もあって、電流電圧変換回路2の帯域も狭くなってくる。容量素子25,26はこの抵抗RE1を大きくすることによる周波数特性の狭帯域化を抑制するために設けられており、容量素子25,26により帯域がブーストされ、周波数特性の狭帯域化を抑制することが可能になっている。即ち、差動増幅回路20のゲインG20は、コレクタに接続される抵抗R、エミッタに接続される抵抗RE2、キャパシタC1を用いて、G20=R×{1+(ω×C1×RE2)2}/{RE2×(1-j×ω×C1×RE2)}と表され、極をもつ。この極の周波数fは、f=1/(2×π×C1×RE2)となり、この周波数のところで、ゲインが持ち上がり、帯域がブーストされる。よって、極の周波数fを使用する周波数帯域に合わせるように容量C1を設定すればよい。
図3は、容量素子25,26を設けない場合と設けた場合のそれぞれについて、I−Vアンプ5から出力される電圧信号Vout1の周波数特性を示す図である。図のグラフG1が容量素子25,26を設けない場合、グラフG2が静電容量C1=35pFの容量素子25,26を設けた場合を示している。
図3から明らかなように、グラフG2では、グラフG1に比べて帯域が拡大している。具体的には、Vout1が91.0dB以上となる帯域の上限が、グラフG1では820kHzであるのに対し、グラフG2では111.5MHzとなっている。この結果から、容量素子25,26を設けることにより、電流電圧変換回路2の狭帯域化を抑制することが可能になっていることが理解される。
次に、図4は、本発明の第2の実施の形態による電流電圧変換回路2の内部回路図である。本実施の形態による電流電圧変換回路2は、トランジスタ44が2つのNチャンネル型MOSトランジスタ44a,44b(第3及び第4の定電流源)に分離され、トランジスタ45が2つのNチャンネル型MOSトランジスタ45a,45bに分離されている点で、第1の実施の形態による電流電圧変換回路2と相違する。以下、この相違点を中心に説明する。
図4に示すように、本実施の形態における抵抗素子13,14は、トランジスタ11のエミッタとトランジスタ12のエミッタの間に直列接続される。トランジスタ44aは、トランジスタ11のエミッタと抵抗素子13とを接続する配線とグランド配線との間に挿入される。トランジスタ44bは、トランジスタ12のエミッタと抵抗素子14とを接続する配線とグランド配線との間に挿入される。トランジスタ44a,44bがトランジスタ42に対してカレントミラー接続されている点は第1の実施の形態と同様であるが、トランジスタ44a,44bのサイズは、それぞれのドレイン電流がI/2となるように決定される。したがって、第1の差動増幅回路10のテイル電流はI/2+I/2=Iであり、第1の実施の形態と同じである。
また、本実施の形態における抵抗素子23,24と容量素子25,26とはそれぞれ、トランジスタ21のエミッタとトランジスタ22のエミッタの間に直列接続される。トランジスタ45aは、トランジスタ21のエミッタと抵抗素子23と容量素子25とを接続する配線とグランド配線との間に挿入される。トランジスタ45bは、トランジスタ22のエミッタと抵抗素子24と容量素子26とを接続する配線とグランド配線との間に挿入される。トランジスタ45a,45bがトランジスタ42に対してカレントミラー接続されている点は第1の実施の形態と同様であるが、トランジスタ45a,45bのサイズは、それぞれのドレイン電流がI/2となるように決定される。したがって、第2の差動増幅回路20のテイル電流はI/2+I/2=Iであり、第1の実施の形態と同じである。
以上説明したように、第2の実施の形態による電流電圧変換回路2でも、第1及び第2の差動増幅回路10,20のテイル電流は第1の実施の形態と同じであり、電流電圧変換回路2は第1の実施の形態と同様に動作する。一方、第1の実施の形態による電流電圧変換回路2は、抵抗素子13,14の抵抗値RE1が大きくなると、入力される電流信号IPDが0の場合でも、トランジスタ11,12にそれぞれ流れている電流I/2と抵抗素子13,14の抵抗値RE1が大きくなった分の電圧降下の影響でテイル電流源のドレインにかかるバイアス電圧が低くなるが、本実施の形態による電流電圧変換回路2では、電流信号IPDが0の場合は抵抗素子13,14による電圧降下の影響はなくなり、電流信号IPDが0でない場合でも、電圧降下の影響が少なくなる。このことにより、抵抗値RE1の値をより大きくすることができ、さらにノイズの低減が行える。
図5は、本発明の第3の実施の形態による電流電圧変換回路2の内部回路図である。本実施の形態による電流電圧変換回路2は、トランジスタ42〜45,47,48が、それぞれ縦属接続(カスケード接続)された2つのトランジスタに分離されている点で、第1の実施の形態による電流電圧変換回路2と相違する。以下、この相違点を中心に説明する。
図5に示すように、本実施の形態による電流電圧変換回路2は、トランジスタ42〜45,47,48に代えて、Nチャンネル型MOSトランジスタ42,42,43,43,44,44,45,45と、Pチャンネル型MOSトランジスタ47,47,48,48とを有する。
トランジスタ42,42は縦属接続されており、トランジスタ42に代えて定電流源40とグランド配線の間に挿入される。トランジスタ43,43も縦属接続されており、トランジスタ43に代えてトランジスタ46とグランド配線の間に挿入される。トランジスタ44,44も縦属接続されており、トランジスタ44に代えて抵抗素子13,14の接続点とグランド配線の間に挿入される。トランジスタ45,45も縦属接続されており、トランジスタ45に代えて抵抗素子23,24の接続点とグランド配線の間に挿入される。即ち、トランジスタ42,43,44,45はカレントミラー接続されており、これらの上にトランジスタ42,43,44,45が縦属接続されている。トランジスタ42,42,43,43,44,44,45,45のサイズは、第1の実施の形態と同様に決定される。
また、トランジスタ47,47は縦属接続されており、トランジスタ47に代えて電源電圧Vccが供給される電源配線と定電流源41の間に挿入される。トランジスタ48,48も縦属接続されており、トランジスタ48に代えて電源電圧Vccが供給される電源配線と容量49の間に挿入される。トランジスタ47,47,48,48のサイズは、第1の実施の形態と同様にトランジスタ48,48のドレイン電流が第1の差動増幅回路10のテイル電流Iの1/2になるように決定されている。この電流I/2はトランジスタ48のドレインから取り出され、トランジスタ11のコレクタに入力される。
以上の構成を採用したことにより、本実施の形態による電流電圧変換回路2の基本的な動作は、第1の実施の形態や第2の実施の形態による電流電圧変換回路2と同一となる。しかし、各トランジスタを縦属接続したことにより、トランジスタ43,44,45,48のドレイン電圧が変動しなくなり、電流値を安定させることが可能になっている。
以上、ここまでは、本実施の形態による電流電圧変換回路2では、電流電圧変換回路2の出力雑音電圧Vo2/(Δf)0.5には、電流源で発生するノイズを考慮していなかったが、実際には、電流源で発生するノイズも考慮する必要がある。例えば、トランジスタ48で発生するノイズを考える。このノイズは、トランジスタ48の相互コンダクタンスgm3を用いて{8/3×k×T×gm3}0.5×Gで表される。ここで、gm3は、ドレイン電流Id、移動度μ、単位面積当りのゲート酸化膜容量Cox、ゲート長L、ゲート幅Wを用いて、gm3=(2×μ×Cox×W/L×Id)0.5で表され、ドレイン電流Idを小さくすれば、W/Lも小さくできるようになり、gm3を小さくでき、ノイズを低減できる。なお、トランジスタがPMOSの場合は、移動度μとして、正孔の移動度μpを用い、NMOSの場合は、電子の移動度μnを用いる。また、トランジスタ46も含めた、その他のトランジスタでもノイズが発生し、このノイズをΔとすると、出力雑音電圧Vo2/(Δf)0.5は、式(14)を用いて次の式(16)で表される。
Figure 2011124734
図6は、本実施の形態による電流電圧変換回路2において、トランジスタ47,47,48,48のみ、第1の実施の形態による電流電圧変換回路2で示したトランジスタ47,48に代えた例を用いて、式(16)で、Δがない場合の電流電圧変換回路2の出力雑音電圧Vo/(Δf)0.5のシミュレーションにおいて、計算の途中で得られる、相互コンダクタンスgm1の逆数(1/gm1)とトータル電流電圧変換ゲインGの4倍(G×4)とともにプロットした図である。このシミュレーションでは、I=1.6μA、I=1.6mA、RE2=5kΩ、C1=35pFとし、トータル電流電圧変換ゲインGは50003.4V/Iで不変となるように、RE1とRを変化させており、RE1を0Ωから1MΩまで振った。また、IPDはBD2層光ディスクの1/40程度の値とし、IPDの周波数は1MHzとした。
図6に示されるように、電流電圧変換回路2の出力雑音電圧Vo/(Δf)0.5はRE1が大きくなるほど減少する。そして、RE1=500kΩのときには、電流電圧変換回路2の出力雑音電圧Vo/(Δf)0.5は1.22×10−8(V/Hz0.5)となった。また、IPDの周波数が50MHzの時は、電流電圧変換回路2の出力雑音電圧Vo/(Δf)0.5は1.42×10−8(V/Hz0.5)となった。相互コンダクタンスgm1の逆数(1/gm1)を大きくしていけば、出力雑音電圧Vo/(Δf)0.5は減少してくるが、トータル電流電圧変換ゲインGの4倍以上(図6中の破線Pより右側)に大きくしても、あまり低減の効果がないことが分かる。したがって、抵抗素子13,14の抵抗値RE1は、第1の差動増幅回路10の相互コンダクタンスgm1の逆数1/gm1が、電流電圧変換回路2のトータル電流電圧変換ゲインGの4倍以上となるように決定すると、十分にノイズは低減されることになる。
図7に示した背景技術による回路において、上記の例とゲインGを同一にして同様のシミュレーションを行うと、電流電圧変換回路の出力雑音電圧Vo/(Δf)0.5は、抵抗R1によるノイズ(熱雑音)が支配的であるため、IPDの周波数によらず2.88×10−8(V/Hz0.5)となった。この値と比べると、上記のRE1=500kΩのときの出力雑音電圧Vo/(Δf)0.5の値は半分以下と小さい値となっており、本例によれば、電流電圧変換回路2の出力雑音電圧Vo/(Δf)0.5を小さくすることが実現していると言える。
以上、本発明の好ましい実施の形態について説明したが、本発明はこうした実施の形態に何等限定されるものではなく、本発明が、その要旨を逸脱しない範囲において、種々なる態様で実施され得ることは勿論である。
例えば、図6に示したシミュレーション結果は、第1〜第3の実施の形態による電流電圧変換回路いずれにおいても同様の結果が得られる。したがって、このシミュレーション結果に基づいて得られる知見は、いずれの実施の形態による電流電圧変換回路にも適用できる。
また、図2、図4、図5とも電流源として、MOSトランジスタを用いているが、バイポーラトランジスタを用いてもよいし、差動増幅回路10,20のバイポーラトランジスタ11,12としてMOSトランジスタを用いてもよい。
また、図2において、フォトダイオード1からの電流信号IPDをトランジスタ11のコレクタに流し込んで、トランジスタ48のドレイン電流に加算しているが、電流信号IPDを引っ張って、トランジスタ48のドレイン電流から引く構成にしても同じである。この場合、IC1=I/2−Ipd、IC1b=I/2+IPDとなるため、I−Vアンプ5への差動増幅回路20のコレクタ出力の接続は逆にする必要がある。図4や図5でも同様なことが言える。
1 フォトダイオード
2 電流電圧変換回路
3 電圧増幅回路
4 電流増幅回路
5 I−Vアンプ
10,20 差動増幅回路
11,12,21,22 npn型バイポーラトランジスタ
13,14,23,24,31,32 抵抗素子
25,26 容量素子
30 オペアンプ
40,41 定電流源
42〜46,44a,44b,45a,45b,42,42,43,43,44,44,45,45 Nチャンネル型MOSトランジスタ
47,48,47,47,48,48 Pチャンネル型MOSトランジスタ
49 容量

Claims (9)

  1. フォトダイオードから出力される電流信号を増幅する第1の差動増幅回路と、
    前記第1の差動増幅回路の出力信号を増幅する第2の差動増幅回路と、
    前記第2の差動増幅回路の出力信号が入力される反転入力端子を有するオペアンプと、
    前記オペアンプの前記反転入力端子と出力端子の間に接続された帰還抵抗とを備えることを特徴とする電流電圧変換回路。
  2. 前記第2の差動増幅回路の出力信号は、差動の第1及び第2の出力信号からなり、
    前記オペアンプの前記反転入力端子には前記第1の出力信号が入力され、
    前記オペアンプの非反転入力端子には前記第2の出力信号が入力されることを特徴とする請求項1に記載の電流電圧変換回路。
  3. 前記第1の差動増幅回路の入力電流は、前記電流信号にかかる電流と該電流に重畳された直流電流とから構成され、
    前記直流電流は、該第1の差動増幅回路のテイル電流の1/2の電流値を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の電流電圧変換回路。
  4. 前記第1の差動増幅回路は、
    差動対を構成する第1及び第2のトランジスタと、
    テイル電流を生成する第1の定電流源と、
    前記第1のトランジスタの一方の被制御端子と前記第1の定電流源との間に挿入された第1の抵抗素子と、
    前記第2のトランジスタの一方の被制御端子と前記第1の定電流源との間に挿入された第2の抵抗素子とを有し、
    前記第1のトランジスタの他方の被制御端子は前記フォトダイオードの一端に接続され、
    前記第2のトランジスタの他方の被制御端子と前記フォトダイオードの他端には共通の電源電位が供給される
    ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の電流電圧変換回路。
  5. 前記第1の差動増幅回路は、
    差動対を構成する第1及び第2のトランジスタと、
    テイル電流を生成する第3及び第4の定電流源と、
    前記第1のトランジスタの一方の被制御端子と前記第2のトランジスタの一方の被制御端子との間に直列に接続された第1及び第2の抵抗素子とを有し、
    前記第3の定電流源は前記第1のトランジスタの前記一方の被制御端子に接続され、
    前記第4の定電流源は前記第2のトランジスタの前記一方の被制御端子に接続され、
    前記第1のトランジスタの他方の被制御端子は前記フォトダイオードの一端に接続され、
    前記第2のトランジスタの他方の被制御端子と前記フォトダイオードの他端には共通の電源電位が供給される
    ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の電流電圧変換回路。
  6. 前記第1及び第2の抵抗素子の抵抗値は、前記第1の差動増幅回路の相互コンダクタンスの逆数が、前記電流電圧変換回路のトータル電流電圧変換ゲインの4倍以上となるよう決定される
    ことを特徴とする請求項4又は5に記載の電流電圧変換回路。
  7. 前記第2の差動増幅回路は、
    差動対を構成する第3及び第4のトランジスタと、
    テイル電流を生成する第2の定電流源と、
    前記第3のトランジスタの一方の被制御端子と前記第2の定電流源との間に挿入された第3の抵抗素子と、
    前記第3の抵抗素子と並列に接続された第1の容量素子と、
    前記第4のトランジスタの一方の被制御端子と前記第2の定電流源との間に挿入された第4の抵抗素子と、
    前記第4の抵抗素子と並列に接続された第2の容量素子とを有する
    ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の電流電圧変換回路。
  8. 請求項1乃至7のいずれか一項に記載の電流電圧変換回路と、
    前記フォトダイオードとを備えることを特徴とする光学機器。
  9. 請求項8に記載の光学機器であることを特徴とする光学ドライブ装置。
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