JP2011119590A - Dispensing device and dispensing method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dispensing device capable of being constituted of an inexpensive chamber without using a chamber having high rigidity, and shortening takt time, and a dispensing method. <P>SOLUTION: The dispensing device and the dispensing method are provided, and the device includes an imaging camera capable of imaging a chip on a substrate placed on a movable stage in a chamber; a storage means for storing history of a change in chip position until the pressure in the chamber prospectively imaged by the imaging camera, comes to a set reduced pressure; and an operating means for calculating a movement position of the chip when the pressure in the chamber comes to a set reduced pressure based on the history of a change in chip position stored in the storage means and a pressure in the chamber at the time of imaging, after the imaging camera has imaged a plurality of chips sequentially, on the way for the chamber to be reduced to the set reduced pressure. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、ディスペンス装置およびディスペンス方法に関する。より詳しくは、基板とこの基板に搭載されたチップとの間隙にアンダーフィル剤を減圧下で充填する装置および方法に関する。   The present invention relates to a dispensing apparatus and a dispensing method. More specifically, the present invention relates to an apparatus and method for filling an underfill agent under reduced pressure in a gap between a substrate and a chip mounted on the substrate.

図7は従来のディスペンス装置の一例を示す概略図である。図7に示すように、従来のディスペンス装置400は、チャンバー520、減圧手段460、基板ステージ710、カメラ720、ディスペンサ730及び制御装置90などを備えている。   FIG. 7 is a schematic view showing an example of a conventional dispensing apparatus. As shown in FIG. 7, the conventional dispensing apparatus 400 includes a chamber 520, a decompression unit 460, a substrate stage 710, a camera 720, a dispenser 730, a control device 90, and the like.

ディスペンス装置400の基本的な動作について説明する。基板ステージ710には、チップCを搭載した基板Kが載置保持されているものとする。チャンバー520内は減圧手段460により減圧される。カメラ720は、チャンバー520内が設定圧に達し安定した後に、チップCの外観もしくは基板K上のアラインメントマークを読み取って、その画像データを制御装置90に送る。制御装置90では、読み取った画像データからチップCの位置情報を算出する。そして、制御装置90は、上記位置情報に基づいて、ディスペンサ730が最適の充填位置にアンダーフィル剤を充填できるように、基板ステージ710をX,Y方向に駆動することでチップCとディスペンサ730の位置合わせを行う。位置合わせの後、ディスペンサ730は、Z方向下方に駆動されると共にアンダーフィル剤を吐出する。基板ステージ710をX,Y方向に移動しチップCの周りにアンダーフィル剤を吐出する。ディスペンサ730によりチップの周りに吐出されたアンダーフィル剤は、チップCと基板Kとの間に入り込む。アンダーフィル剤の吐出が終了すると、チャンバー520内を大気開放することで、アンダーフィル剤内部のボイドを消滅させる(下記特許文献1参照)。   A basic operation of the dispensing apparatus 400 will be described. It is assumed that the substrate K on which the chip C is mounted is placed and held on the substrate stage 710. The inside of the chamber 520 is decompressed by the decompression means 460. After the chamber 520 reaches the set pressure and stabilizes, the camera 720 reads the appearance of the chip C or the alignment mark on the substrate K and sends the image data to the control device 90. The control device 90 calculates the position information of the chip C from the read image data. Based on the position information, the control device 90 drives the substrate stage 710 in the X and Y directions so that the dispenser 730 can fill the optimal filling position with the underfill agent. Perform alignment. After alignment, the dispenser 730 is driven downward in the Z direction and discharges an underfill agent. The substrate stage 710 is moved in the X and Y directions, and an underfill agent is discharged around the chip C. The underfill agent discharged around the chip by the dispenser 730 enters between the chip C and the substrate K. When the discharge of the underfill agent is completed, the void inside the underfill agent is eliminated by opening the chamber 520 to the atmosphere (see Patent Document 1 below).

このようなディスペンス装置400では、一般にカメラ720は、チャンバー520の外側に設置し、チャンバー520の外側から例えば透明窓越しに撮像する構成としている。その理由は、チャンバー520内にカメラ720を設置した場合、カメラ720を耐真空とするための様々な手段が必要となり、装置構成が混み入ったものとなると共に高コストとなるからである。また、カメラ720による撮像は、チャンバー520内が設定圧に達し安定した後に行う。その理由は、チャンバー520内の減圧に伴うチャンバー520自体の変形により、基板Kを保持している基板ステージ710の位置がずれてくる弊害を除くためである。もし、大気圧中で撮像したチップCの外観もしくは基板Kのアラインメントマークの画像に基づいて補正量を算出し、この補正量に基づいて設定圧の減圧中で基板ステージ710を位置制御した場合は、減圧したことによるチャンバー520の変形量分のズレがチップCとディスペンサ730の間に生じてしまい、精度の良いディスペンス(充填)ができない。   In such a dispensing apparatus 400, the camera 720 is generally installed outside the chamber 520 and is configured to take an image from the outside of the chamber 520 through, for example, a transparent window. The reason is that when the camera 720 is installed in the chamber 520, various means for making the camera 720 vacuum-proof are necessary, and the apparatus configuration is crowded and the cost is high. In addition, the imaging by the camera 720 is performed after the inside of the chamber 520 reaches the set pressure and stabilizes. The reason is to eliminate the adverse effect that the position of the substrate stage 710 holding the substrate K shifts due to the deformation of the chamber 520 itself accompanying the decompression in the chamber 520. If the correction amount is calculated based on the appearance of the chip C imaged at atmospheric pressure or the alignment mark image of the substrate K, and the position of the substrate stage 710 is controlled while the set pressure is reduced based on the correction amount. The amount of deformation of the chamber 520 due to the reduced pressure is generated between the chip C and the dispenser 730, and accurate dispensing (filling) cannot be performed.

特開2007−141935号公報JP 2007-141935 A

従来のディスペンス装置400では、減圧が十分に安定した後に、基板Kに搭載された複数のチップCをカメラ720で撮像して、その後ディスペンサ730のノズル位置と複数のチップCの位置合わせを行うので、基板Kに実装されたチップCの数の増加にともない撮像と位置合わせの回数が増える。そのため、充填に要するタクトタイムが長くなってしまう。なお、減圧にしたことによるチャンバー520の変形量の影響を少なくするには、剛性の高いチャンバーを用いればよいが、その場合、装置コストが高くなる。   In the conventional dispensing apparatus 400, after the decompression is sufficiently stabilized, the plurality of chips C mounted on the substrate K are imaged by the camera 720, and then the nozzle position of the dispenser 730 and the plurality of chips C are aligned. As the number of chips C mounted on the substrate K increases, the number of times of imaging and alignment increases. Therefore, the tact time required for filling becomes long. In order to reduce the influence of the deformation amount of the chamber 520 due to the reduced pressure, a highly rigid chamber may be used. In that case, the apparatus cost increases.

本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、剛性の高いチャンバーを用いることなく、安価なチャンバーで構成できると共にタクトタイムの短縮を図ることのできるディスペンス装置およびディスペンス方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a problem, and provides a dispensing apparatus and a dispensing method that can be configured with an inexpensive chamber without using a highly rigid chamber and can reduce the tact time. For the purpose.

上記の課題を解決するために、請求項1に記載の発明は、
チップが搭載された基板の周囲雰囲気を、予め設定された減圧条件にするチャンバーと、チャンバー内に設けられたアンダーフィル剤を基板とチップの間隙に充填するディスペンサと、を備えたディスペンス装置であって、
前記チャンバー内の可動ステージに載置された基板上のチップを撮像可能な撮像カメラと、
予め、前記撮像カメラが撮像した、前記チャンバーの圧力が設定減圧になるまでのチップの位置の変化の履歴を記憶する記憶手段と、
前記チャンバーが設定減圧に減圧される途中において、撮像カメラで複数のチップを順次撮像し、撮像時のチャンバー内圧力と前記記憶手段に記憶された位置の変化の履歴から設定減圧に到達した際のチップの移動位置を計算する演算手段と、を備えていることを特徴とするディスペンス装置である。
In order to solve the above problems, the invention described in claim 1
The dispensing apparatus includes a chamber that makes the ambient atmosphere of the substrate on which the chip is mounted a preset decompression condition, and a dispenser that fills a gap between the substrate and the chip with an underfill agent provided in the chamber. And
An imaging camera capable of imaging a chip on a substrate placed on a movable stage in the chamber;
Storage means for storing a history of changes in the position of the chip until the pressure of the chamber reaches a set pressure reduction imaged in advance by the imaging camera;
While the chamber is being depressurized to the set depressurization, a plurality of chips are sequentially picked up by the imaging camera, and when the set depressurization is reached from the history of changes in the pressure in the chamber and the position stored in the storage means at the time of image pickup And a computing device for calculating a moving position of the chip.

請求項2に記載の発明は、
請求項1に記載の発明において、
前記撮像カメラが、前記チャンバーに設けられた透明窓を介して、前記チャンバーの外側から前記チャンバー内の可動ステージに載置された基板上のチップを撮像可能な撮像カメラであるディスペンス装置である。
The invention described in claim 2
In the invention of claim 1,
The imaging apparatus is a dispensing apparatus that is an imaging camera capable of imaging a chip on a substrate placed on a movable stage in the chamber from the outside of the chamber through a transparent window provided in the chamber.

請求項3に記載の発明は、
チャンバー内を設定減圧の状態にした後に、基板とこの基板に搭載されたチップとの間隙にディスペンサを用いてアンダーフィル剤を、充填するディスペンス方法であって、
前記チャンバー内の基板上のチップを撮像するステップと、
前記撮像カメラが撮像した、前記チャンバーの圧力が設定減圧になるまでのチップの位置の変化の履歴を記憶手段に記憶するステップと、
前記記憶手段に記憶されたチップの位置の変化の履歴に基づいて、前記チャンバーが設定値圧に減圧される途中において、設定減圧に到達した際のチップの移動位置を計算するステップと、
設定減圧の到達後、計算されたチップの移動位置に基づいてチップと基板との間隙にディスペンサを用いてアンダーフィル剤を充填するステップと、
を有することを特徴とするディスペンス方法である。
The invention according to claim 3
A dispensing method in which an underfill agent is filled with a dispenser in a gap between a substrate and a chip mounted on the substrate after the chamber is set to a reduced pressure state,
Imaging a chip on a substrate in the chamber;
Storing in the storage means a history of changes in the position of the chip taken by the imaging camera until the pressure in the chamber reaches a set pressure reduction;
Based on the history of the change in the position of the chip stored in the storage means, calculating the movement position of the chip when the set pressure is reached while the chamber is being reduced to the set value pressure;
After reaching the set pressure reduction, filling the gap between the chip and the substrate with the underfill agent using a dispenser based on the calculated chip movement position;
A dispensing method characterized by comprising:

請求項4に記載の発明は、
請求項3に記載の発明において、
チップを撮像するステップが、前記チャンバーに設けられた透明窓を介して、前記チャンバーの外側から前記チャンバー内の基板上のチップを撮像するステップであるディスペンス方法である。
The invention according to claim 4
In the invention of claim 3,
The step of imaging the chip is a dispensing method in which the chip on the substrate in the chamber is imaged from the outside of the chamber through a transparent window provided in the chamber.

請求項1および3に記載の発明によれば、減圧途中に複数のチップの位置を画像認識して、予め記憶していたチップの位置の変化の履歴に基づいてディスペンサのノズル位置を位置合わせするので、チャンバー内が設定減圧に到達して安定するまで待って撮像する場合に比べて、アンダーフィル剤の充填動作を先行して行うことが出来る。従って、装置のタクトタイムの短縮を図ることができる。また、従来どおりの剛性のチャンバーを用いることができるので、装置コストの低減を図ることができる。   According to the first and third aspects of the present invention, the positions of the plurality of chips are image-recognized during decompression, and the nozzle positions of the dispensers are aligned based on the previously stored history of changes in the positions of the chips. Therefore, the underfill agent filling operation can be performed in advance as compared with the case where imaging is performed after the inside of the chamber reaches the set pressure reduction and stabilizes. Therefore, the tact time of the apparatus can be shortened. In addition, since the conventional rigid chamber can be used, the apparatus cost can be reduced.

請求項2および4に記載の発明によれば、撮像カメラが、チャンバーに設けられた透明窓を介して、チャンバーの外側からチャンバー内の可動ステージに載置された基板上のチップを撮像しているので、安価な撮像カメラで装置を構成することが出来る。   According to invention of Claim 2 and 4, an imaging camera images the chip | tip on the board | substrate mounted in the movable stage in a chamber from the outside of a chamber through the transparent window provided in the chamber. Therefore, the apparatus can be configured with an inexpensive imaging camera.

本発明に係るディスペンス装置を備えた実装システムの正面図である。It is a front view of the mounting system provided with the dispensing apparatus which concerns on this invention. 本発明に係るディスペンス装置の正面図である。It is a front view of the dispensing apparatus which concerns on this invention. 実装システムの動作手順の概要を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the outline | summary of the operation | movement procedure of a mounting system. ダミーチップをカメラで撮像した際の移動位置を説明する図である。It is a figure explaining the movement position at the time of imaging a dummy chip with a camera. チップの位置の変化のデータを示すグラフである。It is a graph which shows the data of the change of the position of a chip | tip. 本発明に係るディスペンスノズルとチップの位置合わせの動作手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the operation | movement procedure of position alignment of the dispensing nozzle and chip | tip which concerns on this invention. 従来のディスペンス装置の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the conventional dispensing apparatus.

以下に、本発明の望ましい実施の形態を、添付図面を参照しながら説明する。図1は本発明に係るディスペンス装置を備えた実装システムの正面図、図2は本発明に係るディスペンス装置の正面図、図3は学習データを示す図である。図1〜2において、直交座標系の3軸をX、Y、Zとして、紙面横方向をX方向、紙面に直交する方向をY方向、鉛直方向をZ方向、Z軸回りの回転方向をθ方向とする。   Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a front view of a mounting system equipped with a dispensing apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a front view of the dispensing apparatus according to the present invention, and FIG. 3 is a diagram showing learning data. 1 and 2, the three axes of the orthogonal coordinate system are X, Y, and Z, the horizontal direction of the paper surface is the X direction, the direction orthogonal to the paper surface is the Y direction, the vertical direction is the Z direction, and the rotational direction around the Z axis is θ. The direction.

図1に示すように、実装システム1は、基板ローダー2、チップ搭載装置3、ディスペンス装置4及び基板アンローダー8をこの順に併設した構成とされると共に、制御装置9を備える。基板ローダー2から基板アンローダー8に至るまでには、図示は省略したが、基板Kを移送経路Vに沿い移送するための基板移送手段を備える。この基板移送手段は、基板Kを保持し且つ伸縮自在のアームを備えたロボット、または基板Kを走行可能に構成されたローラ付レール部材などにより構成される。   As shown in FIG. 1, the mounting system 1 includes a substrate loader 2, a chip mounting device 3, a dispensing device 4, and a substrate unloader 8 in this order, and includes a control device 9. Although not shown in the drawings from the substrate loader 2 to the substrate unloader 8, a substrate transfer means for transferring the substrate K along the transfer path V is provided. This substrate transfer means is configured by a robot that holds the substrate K and has an extendable arm, or a rail member with a roller that is configured to be able to run the substrate K.

基板ローダー2は、基板Kをチップ搭載装置3に順次供給する装置であり、複数の基板Kを収容可能な基板マガジン21ごと基板Kを保温可能なオーブン22、及び基板Kを待機させるための待機ステージ23を備える。待機ステージ23の内部には、基板Kを適切な温度に保温するためのヒーターが埋設される。   The substrate loader 2 is a device that sequentially supplies the substrates K to the chip mounting device 3, and includes an oven 22 that can keep the substrates K warm together with the substrate magazine 21 that can store a plurality of substrates K, and a standby for waiting the substrates K. A stage 23 is provided. A heater for keeping the substrate K at an appropriate temperature is embedded in the standby stage 23.

チップ搭載装置3は、基板ローダー2から供給されてきた基板KにチップCを搭載する装置であり、基板Kを所定位置に固定保持すると共にX,Y,θ各方向に駆動可能な可動ステージ31、搭載すべきチップCをそのバンプ形成面を上向きにしてストックするチップストッカー32、真空吸着によりチップストッカー32からチップCを取り出すと共にバンプ形成面が下向きとなるようにチップCを反転させるチップ反転部33、上方に位置するチップCと下方に位置する基板Kとの位置情報を同時に取得可能に構成された2視野カメラ34、並びにチップ反転部33で反転したチップCのバンプ非形成面を真空吸着により保持しながら当該チップCを基板Kに搭載及び加圧するボンディングヘッド35などを備える。可動ステージ31の内部には、基板Kを適切な温度に加熱及び保温するためのヒーターが埋設される。   The chip mounting device 3 is a device that mounts the chip C on the substrate K supplied from the substrate loader 2. The chip mounting device 3 fixes and holds the substrate K in a predetermined position and can be driven in each of the X, Y, and θ directions. A chip stocker 32 for stocking the chip C to be mounted with its bump forming surface facing upward, and a chip reversing section for taking out the chip C from the chip stocker 32 by vacuum suction and inverting the chip C so that the bump forming surface faces downward 33, the two-field camera 34 configured to be able to simultaneously acquire the position information of the upper chip C and the lower substrate K, and the non-bump-formed surface of the chip C reversed by the chip reversing unit 33 And a bonding head 35 for mounting and pressing the chip C on the substrate K while holding. A heater for heating and keeping the substrate K at an appropriate temperature is embedded in the movable stage 31.

ディスペンス装置4は、基板Kとこの基板Kに搭載されたチップCとの間隙にアンダーフィル剤を充填する装置であり、図2に示されるように、チャンバー52、基板ステージ71、カメラ72、圧力センサ75、ディスペンサ73、真空ポンプ46などを備える。   The dispensing device 4 is a device that fills the gap between the substrate K and the chip C mounted on the substrate K with an underfill agent. As shown in FIG. 2, the chamber 52, the substrate stage 71, the camera 72, the pressure A sensor 75, a dispenser 73, a vacuum pump 46, and the like are provided.

チャンバー52は、開閉可能に設けられた第1ゲートバルブ42及び第2ゲートバルブ43を備える。また、配管及び開閉バルブ62を介して真空ポンプ46に接続されるとともに、内部を大気開放するための開放バルブ47を備える。チャンバー52の上面には、カメラ72によるチャンバー52内の撮像を可能とするための透明窓54を備える。   The chamber 52 includes a first gate valve 42 and a second gate valve 43 provided so as to be openable and closable. In addition, an open valve 47 is connected to the vacuum pump 46 via a pipe and an open / close valve 62, and the inside is opened to the atmosphere. A transparent window 54 is provided on the upper surface of the chamber 52 to enable the camera 72 to image the inside of the chamber 52.

基板ステージ71は、アンダーフィル剤の充填対象となる基板K(すなわちチップCが搭載された基板K)を固定保持可能に構成される。保持面71Hには、基板Kを真空吸着保持するための多数の微径孔が穿設され、これらの微径貫通孔は真空ポンプ46に接続される。また、ステージ駆動部74によりにX,Y方向に駆動可能に構成される。基板ステージ71の内部には、固定保持された基板Kを適切な温度に加熱及び保温するためのヒーターが埋設される。   The substrate stage 71 is configured to be able to fix and hold a substrate K to be filled with an underfill agent (that is, the substrate K on which the chip C is mounted). The holding surface 71 </ b> H is provided with a large number of fine holes for holding the substrate K by vacuum suction, and these fine holes are connected to the vacuum pump 46. Further, the stage drive unit 74 is configured to be driven in the X and Y directions. Inside the substrate stage 71, a heater is embedded to heat and keep the substrate K fixed and held at an appropriate temperature.

カメラ72は、撮像により得た画像データを制御装置9に送信可能な構成とされ、チャンバー52の外側から透明窓54越しに、チャンバー52の内圧による変形の影響を受けないように支持され、チャンバー52内における基板K上のチップCを撮像可能となる位置に設置される。圧力センサ75は、チャンバー52内の圧力を測定してその測定値を制御装置9に送信可能な構成とされる。なお、カメラ72は、基板ステージ71との相対位置関係が、チャンバー52の内圧による変形が発生しても一定の関係であれば、チャンバー52の内部に設けられていても良い。   The camera 72 is configured to be able to transmit image data obtained by imaging to the control device 9 and is supported from the outside of the chamber 52 through the transparent window 54 so as not to be affected by deformation due to the internal pressure of the chamber 52. 52, the chip C on the substrate K is installed at a position where it can be imaged. The pressure sensor 75 is configured to measure the pressure in the chamber 52 and transmit the measured value to the control device 9. The camera 72 may be provided inside the chamber 52 as long as the relative positional relationship with the substrate stage 71 is a constant relationship even if deformation due to the internal pressure of the chamber 52 occurs.

ディスペンサ73は、アンダーフィル剤を吐出する吐出ノズル73Nを備え、且つZ方向に駆動可能とされる。ディスペンサ73は、チェックバルブ69、配管68及び三方弁65を介して第1貯留部66及び第2貯留部67に接続される。第1貯留部66及び第2貯留部67は、それぞれ所定量のアンダーフィル剤を貯留可能な例えばシリンジ容器で構成される。また、配管68は、開閉バルブ64を介して真空ポンプ46に接続される。   The dispenser 73 includes a discharge nozzle 73N that discharges an underfill agent, and can be driven in the Z direction. The dispenser 73 is connected to the first storage part 66 and the second storage part 67 via the check valve 69, the pipe 68 and the three-way valve 65. The 1st storage part 66 and the 2nd storage part 67 are comprised by the syringe container which can store a predetermined amount of underfill agents, respectively. The pipe 68 is connected to the vacuum pump 46 via the open / close valve 64.

図1にもどり、基板アンローダー8は、アンダーフィル剤の充填が完了した基板Kをディスペンス装置4から順次取り出す装置であり、基板ローダー2と同様に、複数の基板Kを収容可能な基板マガジン81ごと基板Kを保温可能なオーブン82を備える。   Returning to FIG. 1, the substrate unloader 8 is a device for sequentially taking out the substrates K that have been filled with the underfill agent from the dispensing device 4, and similarly to the substrate loader 2, a substrate magazine 81 that can accommodate a plurality of substrates K. And an oven 82 that can keep the substrate K warm.

制御装置9は、タッチパネル等の入出力装置、メモリチップやマイクロプロセッサなどを主体とした適当なハードウエア、このハードウエアを動作させるためのコンピュータプログラムを組み込んだハードディスク装置、及び各構成部とデータ通信を行う適当なインターフェイス回路などから構成され、実装システム1が一連の動作を行うための指令信号を各構成部に送るように構成される。なお、この一連の動作の一部をPLC(プログラマブルロジックコントローラ)で行うようにしてもよい。   The control device 9 includes an input / output device such as a touch panel, appropriate hardware mainly including a memory chip and a microprocessor, a hard disk device incorporating a computer program for operating the hardware, and data communication with each component. The mounting system 1 is configured to send a command signal for performing a series of operations to each component. A part of the series of operations may be performed by a PLC (programmable logic controller).

制御装置9には記憶手段91と演算手段92が備えられている。記憶手段91には、実装システム1の全体を制御するプログラム、後述するチャンバー52内の圧力と基板ステージ71の歪みデータが記憶されている。演算手段92は、記憶手段91に記憶された歪みデータ、チャンバー52内の圧力に基づいて、チップCの移動位置を計算できる。   The control device 9 includes a storage unit 91 and a calculation unit 92. The storage unit 91 stores a program for controlling the entire mounting system 1, a pressure in a chamber 52 described later, and strain data of the substrate stage 71. The calculation unit 92 can calculate the movement position of the chip C based on the strain data stored in the storage unit 91 and the pressure in the chamber 52.

次に、図3〜6を参照して、以上のように構成された実装システム1の動作について説明する。図3は実装システム1の動作手順の概要を示すフローチャート、図4はダミーチップCのチャンバー52内圧力による移動状態、図5はチップCの位置の変化のデータ、図6は本発明に係るディスペンサ73とチップCの位置合わせの動作手順を示すフローチャートを説明するための図である。   Next, the operation of the mounting system 1 configured as described above will be described with reference to FIGS. 3 is a flowchart showing an outline of the operation procedure of the mounting system 1, FIG. 4 is a movement state of the dummy chip C due to the pressure in the chamber 52, FIG. 5 is data on a change in the position of the chip C, and FIG. 73 is a diagram for explaining a flowchart showing an operation procedure for positioning 73 and chip C; FIG.

図3に示すように、実装システム1の動作は、学習データ収集ステップS0、アンダーフィル剤供給ステップS1、基板搬送ステップS2、チップ搭載ステップS3、ディスペンスステップS4及び基板搬出ステップS5の順に行われる。   As shown in FIG. 3, the operation of the mounting system 1 is performed in the order of a learning data collection step S0, an underfill agent supply step S1, a substrate transfer step S2, a chip mounting step S3, a dispensing step S4, and a substrate unloading step S5.

以下の説明では、ディスペンス装置4の初期状態は次の状態とする。すなわち第1ゲートバルブ42及び第2ゲートバルブ43は共に閉じている。開放バルブ47は閉じている。また、第1貯留部66及び第2貯留部67には充分な量のアンダーフィル剤が貯留され、開閉バルブ64は閉じている。   In the following description, the initial state of the dispensing apparatus 4 is the following state. That is, both the first gate valve 42 and the second gate valve 43 are closed. The release valve 47 is closed. Further, a sufficient amount of underfill agent is stored in the first storage unit 66 and the second storage unit 67, and the on-off valve 64 is closed.

まず、図3の学習データ収集ステップS0について説明する。始めに、ダミーチップCdを搭載したダミー基板Kdを、第1ゲートバルブ42を開きチャンバー52に搬入し、基板ステージ71上に載置保持する。第1ゲートバルブ42を閉じ、真空ポンプ46を作動させ開閉バルブ62を開ける。チャンバー52内の圧力が設定圧PSになるまで減圧される。大気圧状態から設定圧PSになる間、カメラ72を用いてダミー基板Kd上のダミーチップCdの位置を観測する。チャンバー52の基板ステージ71は、減圧にともない歪みを生じる。歪みにより、基板ステージ71に載置保持されているダミー基板Kd上のダミーチップCdが図4に示すように移動する。図4において、(A)はチャンバー52が大気圧状態で、(B)は減圧途中、(C)は設定圧PS、の各状態を示している。図4に示すダミーチップCdの角部D0の移動をX方向、Y方向およびθ方向に分けて表記すると図5に示すようになる。θ方向は、例えばダミーチップCdの角部2点D0とD1を結ぶ直線とX軸との傾きから求める。図5は、横軸をチャンバー52の圧力とし、縦軸をX方向、Y方向およびθ方向の変化の履歴を表記している。設定圧PSに到達した際に、X方向の移動位置はxsとなり、Y方向の移動位置はysとなり、θ方向の移動位置は、θsとなる。これらの、各圧力におけるダミーチップCdのX方向、Y方向およびθ方向の変化の履歴は学習データGとして記憶手段91に記憶する。   First, the learning data collection step S0 in FIG. 3 will be described. First, the dummy substrate Kd on which the dummy chip Cd is mounted is loaded into the chamber 52 by opening the first gate valve 42 and placed on the substrate stage 71. The first gate valve 42 is closed, the vacuum pump 46 is operated, and the open / close valve 62 is opened. The pressure in the chamber 52 is reduced until the set pressure PS is reached. While the atmospheric pressure is changed to the set pressure PS, the position of the dummy chip Cd on the dummy substrate Kd is observed using the camera 72. The substrate stage 71 of the chamber 52 is distorted as the pressure is reduced. Due to the distortion, the dummy chip Cd on the dummy substrate Kd placed and held on the substrate stage 71 moves as shown in FIG. In FIG. 4, (A) shows the respective states of the chamber 52 in the atmospheric pressure state, (B) in the middle of pressure reduction, and (C) in the set pressure PS. FIG. 5 shows the movement of the corner D0 of the dummy chip Cd shown in FIG. 4 divided into the X direction, the Y direction, and the θ direction. The θ direction is obtained, for example, from the inclination of the straight line connecting the two corner points D0 and D1 of the dummy chip Cd and the X axis. In FIG. 5, the horizontal axis represents the pressure of the chamber 52, and the vertical axis represents the history of changes in the X direction, the Y direction, and the θ direction. When the set pressure PS is reached, the movement position in the X direction is xs, the movement position in the Y direction is ys, and the movement position in the θ direction is θs. The history of changes in the X direction, Y direction, and θ direction of the dummy chip Cd at each pressure is stored in the storage unit 91 as learning data G.

チャンバー52を設定圧PSまで減圧すると、真空ポンプ46を停止し開閉バルブ62を閉じ、開閉バルブ47を開けてチャンバー52を大気圧まで戻す。チャンバー52が大気圧まで戻ったら、第2ゲートバルブ43を開けて、基板ステージ71に載置保持されているダミー基板Kdを取り出す。以上で、学習データ収集ステップS0を終了する。   When the chamber 52 is depressurized to the set pressure PS, the vacuum pump 46 is stopped, the open / close valve 62 is closed, the open / close valve 47 is opened, and the chamber 52 is returned to atmospheric pressure. When the chamber 52 returns to atmospheric pressure, the second gate valve 43 is opened, and the dummy substrate Kd placed and held on the substrate stage 71 is taken out. Thus, the learning data collection step S0 is completed.

次に、図3のステップS1のアンダーフィル剤の供給動作を行う。三方弁65を第1貯留部66側もしくは第2貯留部67側に設定し、アンダーフィル剤を配管68を経由してディスペンサ73に供給する。   Next, the underfill agent supply operation in step S1 of FIG. 3 is performed. The three-way valve 65 is set on the first storage part 66 side or the second storage part 67 side, and the underfill agent is supplied to the dispenser 73 via the pipe 68.

次に、図3のステップS2の基板搬送動作を行う。基板マガジン21にストックされた各基板Kは、オーブン22内で所定の一定温度に保たれている。基板移送手段は、基板マガジン21にストックされた各基板Kを待機ステージ23を経て一枚ずつチップ搭載装置3へと供給する。   Next, the substrate transfer operation in step S2 of FIG. 3 is performed. Each substrate K stocked in the substrate magazine 21 is kept at a predetermined constant temperature in the oven 22. The substrate transfer means supplies each substrate K stocked in the substrate magazine 21 to the chip mounting apparatus 3 one by one through the standby stage 23.

次に、図3のステップS3のチップ搭載動作を行う。チップ搭載装置3において、チップ反転部33は、X,Y,Z方向に駆動され、チップストッカー32にストックされたチップCのバンプ形成面を真空吸着することにより取り出す。その後、水平軸J1回りに回動されることにより、バンプ形成面が下向きとなるようにチップCを反転させる。ボンディングヘッド35は、X,Y,Z方向に駆動されることにより、反転したチップCを真空吸着することによりチップ反転部33から受け取る。そして、2視野カメラ34がチップC及び基板Kの位置を読み取り、その位置情報に基づいて、可動ステージ31がX,Y,θ各方向に駆動され、チップCと基板Kとの位置合わせ(アラインメント)を行う。その後、ボンディングヘッド35は、Z方向下側に駆動され、真空吸着により保持したチップCを基板K上の搭載箇所に搭載すると共に加熱及び加圧する。同様のチップ搭載動作を基板Kの全てのチップ搭載箇所にチップCについて繰り返す。   Next, the chip mounting operation in step S3 in FIG. 3 is performed. In the chip mounting device 3, the chip reversing unit 33 is driven in the X, Y, and Z directions, and is taken out by vacuum-sucking the bump forming surface of the chip C stocked in the chip stocker 32. Thereafter, the chip C is reversed so that the bump forming surface faces downward by being rotated around the horizontal axis J1. The bonding head 35 is driven in the X, Y, and Z directions to receive the inverted chip C from the chip reversing unit 33 by vacuum suction. Then, the two-field camera 34 reads the positions of the chip C and the substrate K, and based on the position information, the movable stage 31 is driven in each of the X, Y, and θ directions to align the chip C and the substrate K (alignment). )I do. Thereafter, the bonding head 35 is driven downward in the Z direction, and the chip C held by vacuum suction is mounted on the mounting location on the substrate K and is heated and pressurized. The same chip mounting operation is repeated for the chip C at all chip mounting positions on the substrate K.

次に、図3のステップS4のディスペンス動作を行う。ステップS4の詳細を図6に示し、以下、図6に基づいてディスペンス動作を説明する。ディスペンス装置4において、第1ゲートバルブ42が開き(ステップS41)、チップ搭載装置3でチップCが搭載された基板Kは、基板移送手段によりチャンバー52内に搬入され、基板ステージ71上に載置保持される(ステップS42)。基板Kがチャンバー52に搬入されると、第1ゲートバルブ42を閉じる(ステップS43)。また、開放バルブ47を閉じる。   Next, the dispensing operation in step S4 in FIG. 3 is performed. Details of step S4 are shown in FIG. 6, and the dispensing operation will be described below based on FIG. In the dispensing apparatus 4, the first gate valve 42 is opened (step S 41), and the substrate K on which the chip C is mounted by the chip mounting apparatus 3 is carried into the chamber 52 by the substrate transfer means and placed on the substrate stage 71. It is held (step S42). When the substrate K is carried into the chamber 52, the first gate valve 42 is closed (step S43). Further, the release valve 47 is closed.

開閉バルブ62は、チャンバー52内が設定圧PSになるまで開状態とされる。これにより、チャンバー52内は徐々に減圧される(ステップS44)。   The on-off valve 62 is opened until the inside of the chamber 52 reaches the set pressure PS. Thereby, the pressure in the chamber 52 is gradually reduced (step S44).

以下のディスペンス動作は、基板Kに搭載されている複数のチップCに対して行われるので、図6のフロチャートではチップCの順番を明確にするためCnと表記しnに1,2,3・・を代入することでチップC1,C2,C3・・に対応する様に表す。   The following dispensing operation is performed on a plurality of chips C mounted on the substrate K. Therefore, in the flowchart of FIG. 6, in order to clarify the order of the chips C, Cn is denoted and n is 1, 2, 3 ... Are substituted to represent chips C1, C2, C3,.

まず、チップC1の位置情報を計算するために、nに1を入れる(ステップS45)。次に、ステージ駆動部74を動作させ、透明窓54の下側にチップCnを配置し、カメラ72でチップCnを撮像する(ステップS46)。   First, in order to calculate the position information of the chip C1, 1 is entered in n (step S45). Next, the stage drive unit 74 is operated, the chip Cn is disposed below the transparent window 54, and the chip Cn is imaged by the camera 72 (step S46).

次に、チャンバー52内の圧力を圧力センサ75を用いて測定する(ステップS47)。チップCnの撮像データとチャンバー52の圧力データは、制御装置9に送られる。   Next, the pressure in the chamber 52 is measured using the pressure sensor 75 (step S47). The imaging data of the chip Cn and the pressure data of the chamber 52 are sent to the control device 9.

制御装置9では、送られてきた画像認識データと圧力データと、予め測定している学習データGとから、チャンバー52が設定圧PSに到達した際のチップCnの移動位置を計算する(ステップS47)。   The control device 9 calculates the moving position of the chip Cn when the chamber 52 reaches the set pressure PS from the received image recognition data and pressure data and the learning data G measured in advance (step S47). ).

移動位置の計算は、例えば、チップC1を画像認識した際に、測定圧力がP1の時は、次のように求める。まず、図5の学習データGから、ダミーチップCdが圧力P1の時のX方向の移動位置x1、Y方向の移動位置y1、θ方向に移動位置θ1を求める。ダミーチップCdの場合、この状態の後、減圧が進み設定圧PSに到達すると、X方向の移動位置はxs、Y方向の移動位置はys、θ方向の移動位置はθsとなる。そこで、ダミーチップCdで測定した学習データから測定圧力P1から設定圧力PSになるまでの移動量をX方向、Y方向およびθ方向について求める。X方向の移動量Δx1はxsとx1との差、Y方向の移動量Δy1はysとy1との差、θ方向の移動量はθsとθ1との差として求める。チップC1が測定圧力P1から設定圧PSに到達した場合のX方向の移動量はΔx1、Y方向の移動量はΔy1、θ方向の移動量はΔθ1となる。次に、チップC1を画像認識した座標に、Δx1,Δy1およびΔθ1を加え、設定圧PSに到達した際のチップC1の移動位置を求める。求められたチップC1の移動位置は、記憶手段91に記憶する。   For example, when the chip C1 is image-recognized and the measurement pressure is P1, the movement position is calculated as follows. First, from the learning data G in FIG. 5, when the dummy chip Cd is at the pressure P1, the movement position x1 in the X direction, the movement position y1 in the Y direction, and the movement position θ1 in the θ direction are obtained. In the case of the dummy chip Cd, when the pressure decreases and reaches the set pressure PS after this state, the movement position in the X direction is xs, the movement position in the Y direction is ys, and the movement position in the θ direction is θs. Therefore, the amount of movement from the measured data P1 to the set pressure PS is determined in the X, Y, and θ directions from the learning data measured with the dummy chip Cd. The movement amount Δx1 in the X direction is obtained as a difference between xs and x1, the movement amount Δy1 in the Y direction is obtained as a difference between ys and y1, and the movement amount in the θ direction is obtained as a difference between θs and θ1. When the chip C1 reaches the set pressure PS from the measurement pressure P1, the movement amount in the X direction is Δx1, the movement amount in the Y direction is Δy1, and the movement amount in the θ direction is Δθ1. Next, Δx1, Δy1 and Δθ1 are added to the coordinates where the chip C1 is image-recognized, and the movement position of the chip C1 when the set pressure PS is reached is obtained. The obtained movement position of the chip C1 is stored in the storage unit 91.

次に、ダミーチップCdで発生した位置の変化は、各チップC1、C2、・・においても同様に発生するので、基板Kに搭載されている全てのチップCに対して移動位置の計算が行われたか確認し(ステップS49)、未完の場合は、nを加算(n=n+1)し、ステップS46に戻る(ステップS50)。基板Kには複数のチップCが搭載されている。対象となるチップCnをカメラ72で画像認識するため、ステージ駆動部74を駆動し基板ステージ71を移動させる。その間、チャンバー52内の圧力は減圧が続いている。各圧力に対応する移動位置から設定圧PSに到達した場合の移動量を求る。なお、図5ではチップCnを画像認識した際のチャンバー52内の圧力をPnと表記した。   Next, since the change in the position generated in the dummy chip Cd also occurs in each chip C1, C2,..., The movement position is calculated for all the chips C mounted on the substrate K. If it is not completed, n is added (n = n + 1), and the process returns to step S46 (step S50). A plurality of chips C are mounted on the substrate K. In order to recognize the target chip Cn with the camera 72, the stage drive unit 74 is driven to move the substrate stage 71. Meanwhile, the pressure in the chamber 52 continues to be reduced. The amount of movement when the set pressure PS is reached from the movement position corresponding to each pressure is obtained. In FIG. 5, the pressure in the chamber 52 when the chip Cn is image-recognized is represented as Pn.

チャンバー52内の圧力が設定圧PSに到達後も、基板K上のチップCの画像認識は搭載されている全てのチップCの画像認識が完了するまで続行される。   Even after the pressure in the chamber 52 reaches the set pressure PS, the image recognition of the chip C on the substrate K is continued until the image recognition of all the mounted chips C is completed.

基板Kに搭載されているチップCは、各チップCが正規位置に搭載されているとは限らない。チップ毎に微妙にズレが生じている。しかし、本願発明では、全てのチップCを画像認識し設定圧PS到達時の移動位置を求めているので、これらの全てのチップCにディスペンサ73の吐出ノズル73N位置を正確に位置決めすることが出来るようになる。また、減圧途中からチップCの画像認識を開始し設定圧PSに到達した場合の移動位置を求めているので、設定圧PSになってからチップCの画像認識を開始する従来の方法に比べて、短時間でアンダーフィル剤の充填動作を開始することが出来る。そのため、装置のタクトタイムを短縮することができる。   The chip C mounted on the substrate K is not always mounted at the regular position. There is a slight deviation from chip to chip. However, in the present invention, since all the chips C are image-recognized and the movement position when the set pressure PS is reached is obtained, the position of the discharge nozzle 73N of the dispenser 73 can be accurately positioned on all these chips C. It becomes like this. Further, since the image recognition of the chip C is started in the middle of the pressure reduction and the moving position when the set pressure PS is reached is obtained, compared with the conventional method of starting the image recognition of the chip C after the set pressure PS is reached. The filling operation of the underfill agent can be started in a short time. Therefore, the tact time of the apparatus can be shortened.

全てのチップCに対して移動位置の計算が完了すると、図6のステップS51に移行する。まず、nに1を代入しチップCnより開始する(ステップS51)。次に、ステージ駆動部74を動作させ基板ステージ71を移動させ、ディスペンサ73の下側にチップCnを配置させる。移動に際して、ステップS48で計算した値(学習データGに基づいて設定圧PSに到達した場合の移動位置を計算した値)に基づいて基板ステージ71を移動させる(ステップS52)。   When the calculation of the movement position is completed for all the chips C, the process proceeds to step S51 in FIG. First, 1 is substituted for n and the process starts from the chip Cn (step S51). Next, the stage drive unit 74 is operated to move the substrate stage 71, and the chip Cn is disposed below the dispenser 73. During the movement, the substrate stage 71 is moved based on the value calculated in step S48 (the value obtained by calculating the movement position when the set pressure PS is reached based on the learning data G) (step S52).

次に、ディスペンサ73を下降し、チップCn周りに基板ステージ710をX,Y方向に移動し、吐出ノズル73Nからアンダーフィル剤を吐出しチップCnと基板Kの間隙に充填する(ステップS53)。   Next, the dispenser 73 is lowered, the substrate stage 710 is moved in the X and Y directions around the chip Cn, the underfill agent is discharged from the discharge nozzle 73N, and the gap between the chip Cn and the substrate K is filled (step S53).

次に、全ての搭載チップCに対してアンダーフィル剤を充填したかをチェックし(ステップS54)、未完の場合は、nを加算(n=n+1)し、ステップS52に戻る(ステップS55)。   Next, it is checked whether or not all the mounted chips C are filled with the underfill agent (step S54). If not completed, n is added (n = n + 1), and the process returns to step S52 (step S55).

全ての搭載チップCにアンダーフィル剤の充填が完了すると、開放バルブ47を開けて、チャンバー52を大気開放する(ステップS56)。次に、第2ゲートバルブ43を開けて(ステップS57)、基板Kをチャンバー52から搬出する(ステップS58)。   When filling of all the mounted chips C with the underfill agent is completed, the release valve 47 is opened to open the chamber 52 to the atmosphere (step S56). Next, the second gate valve 43 is opened (step S57), and the substrate K is unloaded from the chamber 52 (step S58).

このように、チャンバー52内が実際に設定圧PSに到達して安定するまで待ってから各チップCの撮像を行わなくても、減圧動作の途中の学習データGを元にチップCの移動位置を計算しているので、減圧完了状態から各チップCにディスペンス作業を行うまでのタクトタイムの大幅な短縮を図ることが出来る。また、従来どおりの剛性のチャンバーを用いることができるので、装置コストの低減を図ることができる。   In this way, the movement position of the chip C can be determined based on the learning data G during the decompression operation without waiting for the inside of the chamber 52 to actually reach the set pressure PS and stabilize and then image each chip C. Therefore, the tact time from the completion of decompression to the dispensing operation for each chip C can be greatly reduced. In addition, since the conventional rigid chamber can be used, the apparatus cost can be reduced.

1 実装システム
2 基板ローダー
3 チップ搭載装置
4 ディスペンス装置
8 基板アンローダー
9 制御装置
21 基板マガジン
22 オーブン
23 待機ステージ
31 可動ステージ
32 チップストッカー
34 2視野カメラ
35 ボンディングヘッド
42 第1ゲートバルブ
43 第2ゲートバルブ
46 真空ポンプ
47 開放バルブ
52 チャンバー
54 透明窓
62 開閉バルブ
64 開閉バルブ
65 三方弁
68 配管
69 チェックバルブ
71 基板ステージ
72 カメラ
73 ディスペンサ
75 圧力センサ
81 基板マガジン
82 オーブン
90 制御装置
91 記憶手段
92 演算手段
J1 水平軸
400 ディスペンス装置
460 減圧手段
520 チャンバー
710 基板ステージ
71H 保持面
720 カメラ
730 ディスペンサ
73N 吐出ノズル
C チップ
Cd ダミーチップ
K 基板
Kd ダミー基板
G 学習データ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Mounting system 2 Substrate loader 3 Chip mounting device 4 Dispensing device 8 Substrate unloader 9 Control device 21 Substrate magazine 22 Oven 23 Standby stage 31 Movable stage 32 Chip stocker 34 Two field of view camera 35 Bonding head 42 First gate valve 43 Second gate Valve 46 Vacuum pump 47 Open valve 52 Chamber 54 Transparent window 62 Open / close valve 64 Open / close valve 65 Three-way valve 68 Pipe 69 Check valve 71 Substrate stage 72 Camera 73 Dispenser 75 Pressure sensor 81 Substrate magazine 82 Oven 90 Controller 91 Storage means 92 Arithmetic means J1 Horizontal axis 400 Dispensing device 460 Pressure reducing means 520 Chamber 710 Substrate stage 71H Holding surface 720 Camera 730 Dispenser 73N Discharge nozzle C chip Cd dummy chip K substrate Kd dummy substrate G Learning data

Claims (4)

チップが搭載された基板の周囲雰囲気を、予め設定された減圧条件にするチャンバーと、チャンバー内に設けられたアンダーフィル剤を基板とチップの間隙に充填するディスペンサと、を備えたディスペンス装置であって、
前記チャンバー内の可動ステージに載置された基板上のチップを撮像可能な撮像カメラと、
予め、前記撮像カメラが撮像した、前記チャンバーの圧力が設定減圧になるまでのチップの位置の変化の履歴を記憶する記憶手段と、
前記チャンバーが設定減圧に減圧される途中において、撮像カメラで複数のチップを順次撮像し、撮像時のチャンバー内圧力と前記記憶手段に記憶された位置の変化の履歴から設定減圧に到達した際のチップの移動位置を計算する演算手段と、を備えていることを特徴とするディスペンス装置。
The dispensing apparatus includes a chamber that sets the ambient atmosphere of the substrate on which the chip is mounted to a preset decompression condition, and a dispenser that fills a gap between the substrate and the chip with an underfill agent provided in the chamber. And
An imaging camera capable of imaging a chip on a substrate placed on a movable stage in the chamber;
Storage means for storing a history of changes in the position of the chip until the pressure of the chamber reaches a set pressure reduction, which is captured in advance by the imaging camera;
While the chamber is being depressurized to the set depressurization, a plurality of chips are sequentially picked up by the imaging camera, and when the set depressurization is reached from the history of changes in the pressure in the chamber and the position stored in the storage means at the time of image pickup A dispensing device comprising: a calculating means for calculating a moving position of the chip.
請求項1に記載の発明において、
前記撮像カメラが、前記チャンバーに設けられた透明窓を介して、前記チャンバーの外側から前記チャンバー内の可動ステージに載置された基板上のチップを撮像可能な撮像カメラであるディスペンス装置。
In the invention of claim 1,
A dispensing apparatus, wherein the imaging camera is an imaging camera capable of imaging a chip on a substrate placed on a movable stage in the chamber from outside the chamber through a transparent window provided in the chamber.
チャンバー内を設定減圧の状態にした後に、基板とこの基板に搭載されたチップとの間隙にディスペンサを用いてアンダーフィル剤を、充填するディスペンス方法であって、
前記チャンバー内の基板上のチップを撮像するステップと、
前記撮像カメラが撮像した、前記チャンバーの圧力が設定減圧になるまでのチップの位置の変化の履歴を記憶手段に記憶するステップと、
前記記憶手段に記憶されたチップの位置の変化の履歴に基づいて、前記チャンバーが設定値圧に減圧される途中において、設定減圧に到達した際のチップの移動位置を計算するステップと、
設定減圧の到達後、計算されたチップの移動位置に基づいてチップと基板との間隙にディスペンサを用いてアンダーフィル剤を充填するステップと、
を有することを特徴とするディスペンス方法。
A dispensing method in which an underfill agent is filled with a dispenser in a gap between a substrate and a chip mounted on the substrate after the chamber is set to a reduced pressure state,
Imaging a chip on a substrate in the chamber;
Storing in the storage means a history of changes in the position of the chip taken by the imaging camera until the pressure in the chamber reaches a set pressure reduction;
Based on the history of the change in the position of the chip stored in the storage means, calculating the movement position of the chip when the set pressure is reached while the chamber is being reduced to the set value pressure;
Filling the underfill agent with a dispenser in the gap between the chip and the substrate based on the calculated chip movement position after reaching the set pressure reduction; and
A dispensing method characterized by comprising:
請求項3に記載の発明において、
チップを撮像するステップが、前記チャンバーに設けられた透明窓を介して、前記チャンバーの外側から前記チャンバー内の基板上のチップを撮像するステップであるディスペンス方法。
In the invention of claim 3,
The dispensing method, wherein the step of imaging a chip is a step of imaging a chip on a substrate in the chamber from outside the chamber through a transparent window provided in the chamber.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20130244346A1 (en) * 2011-09-02 2013-09-19 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Packaging Methods, Material Dispensing Methods and Apparatuses, and Automated Measurement Systems

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0276238A (en) * 1988-09-12 1990-03-15 Toshiba Corp Resin sealing apparatus
JP2007141935A (en) * 2005-11-15 2007-06-07 Toray Eng Co Ltd Dispensing device and mounting system

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0276238A (en) * 1988-09-12 1990-03-15 Toshiba Corp Resin sealing apparatus
JP2007141935A (en) * 2005-11-15 2007-06-07 Toray Eng Co Ltd Dispensing device and mounting system

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20130244346A1 (en) * 2011-09-02 2013-09-19 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Packaging Methods, Material Dispensing Methods and Apparatuses, and Automated Measurement Systems
US9390060B2 (en) * 2011-09-02 2016-07-12 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Packaging methods, material dispensing methods and apparatuses, and automated measurement systems

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