JP2011115772A - Method and apparatus for treating waste liquid - Google Patents

Method and apparatus for treating waste liquid Download PDF

Info

Publication number
JP2011115772A
JP2011115772A JP2010034185A JP2010034185A JP2011115772A JP 2011115772 A JP2011115772 A JP 2011115772A JP 2010034185 A JP2010034185 A JP 2010034185A JP 2010034185 A JP2010034185 A JP 2010034185A JP 2011115772 A JP2011115772 A JP 2011115772A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
waste liquid
halogen compound
halogen
scrubber
tank
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010034185A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5320323B2 (en
Inventor
Masaya Miyamoto
真哉 宮本
Kanae Matsuyama
加苗 松山
Takeo Yamashita
雄生 山下
Yoshiko Haruguchi
佳子 春口
Michitaka Mikura
通孝 三倉
Masaaki Kaneko
昌章 金子
Akihiro Kawabe
晃寛 川辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2010034185A priority Critical patent/JP5320323B2/en
Publication of JP2011115772A publication Critical patent/JP2011115772A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5320323B2 publication Critical patent/JP5320323B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Water Treatment By Sorption (AREA)
  • Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To simply remove halogen from a waste liquid that contains halogen (or a halogenated compound), such as a scrubber treatment waste liquid of an offgas generated from a nuclear facility, to avoid the corrosion of facility equipment. <P>SOLUTION: The waste liquid containing a halogenated compound is fed into an adsorption device, to which an absorbing substance is filled, to contact with the absorbing substance to make the absorbing substance absorb the halogenated compound so that the halogenated compound is removed from the waste liquid. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、原子力施設等において発生する放射性廃液の処理方法及び処理装置に関する。   The present invention relates to a processing method and a processing apparatus for radioactive liquid waste generated in a nuclear facility or the like.

原子力施設等より発生するオフガスは、通常、スクラバー等で処理して環境への放射性核種の漏洩を防止している。スクラバー処理により処理廃液が発生するが、スクラバー処理廃液には放射性核種の他、可燃物・難燃物を焼却したオフガス等に起因してフッ素、塩素、臭素及びヨウ素などのハロゲン（系化合物）なども含有される場合がある。なお、これらハロゲン（系化合物）は、処理廃液中において一般にはイオンとして存在する。   Off-gas generated from nuclear facilities is usually treated with a scrubber or the like to prevent leakage of radionuclides to the environment. Processing waste liquid is generated by scrubber treatment. In addition to radioactive nuclides, scrubber treatment waste liquid is caused by off-gas from incineration of combustibles and flame retardants. Halogens (system compounds) such as fluorine, chlorine, bromine and iodine May also be included. These halogens (system compounds) are generally present as ions in the treatment waste liquid.

一方、処理廃液は一般にはセメント固化に供するために濃縮して減容処理することになるが、上述のようなハロゲンを含む場合は、施設機器の腐食防止の観点から濃縮が困難である。また、環境基準や排出基準の観点からも、ハロゲンを含むような廃液の濃縮は困難となる。   On the other hand, the treatment waste liquid is generally concentrated and reduced in volume to be used for cement solidification. However, when it contains halogen as described above, it is difficult to concentrate from the viewpoint of preventing corrosion of facility equipment. In addition, from the viewpoint of environmental standards and emission standards, it is difficult to concentrate waste liquids containing halogen.

したがって、上述のように放射性廃液がハロゲンを含む場合は、廃液からハロゲンを除去することが必要になる。一方、一般産業においてもハロゲンを含む廃液においては、これら廃液からハロゲンを除去することが必要になる。   Therefore, when the radioactive liquid waste contains halogen as described above, it is necessary to remove the halogen from the liquid waste. On the other hand, in the general industry, in the waste liquid containing halogen, it is necessary to remove the halogen from the waste liquid.

特許文献１には、廃液からの塩素、臭素などハロゲンの除去に関し、廃液を噴霧燃焼させた後に、生成した燃焼ガスを洗浄した洗煙水に対してフェライト化処理を行って除去することが開示されている。しかしながら、この方法は、実験廃液の処理方法であるため廃液ごとの前処理系が必要とされており、大量に発生する廃液を処理しようとすると装置構成が大規模化し、現実的でない。   Patent Document 1 discloses the removal of halogens such as chlorine and bromine from waste liquid, after the waste liquid is spray-combusted, and then the generated combustion gas is subjected to a ferritization treatment to remove it. Has been. However, since this method is a treatment method for experimental waste liquid, a pre-treatment system for each waste liquid is required, and if a large amount of waste liquid is to be processed, the apparatus configuration becomes large and unrealistic.

また、特許文献２には、電気透析によってフッ素含有排水を脱塩するとともに、この脱塩処理液を前記フッ素含有排水の発生源への補給水として再生し、フッ酸濃縮液を利用可能な濃度にまで低減することが開示されている。しかしながら、このような電気透析を用いる方法はコストがかかるために、大量に発生する廃液を処理する場合には、高コスト化してしまうという問題があった。   Patent Document 2 discloses a concentration in which fluorine-containing wastewater is desalted by electrodialysis, and this desalination treatment liquid is regenerated as make-up water to the source of fluorine-containing wastewater, and a hydrofluoric acid concentrate can be used. It has been disclosed to reduce to However, since such a method using electrodialysis is costly, there is a problem that the cost increases when a large amount of waste liquid is processed.

特開２００８−４９２２５号JP 2008-49225 A 特開２００４−１７４４３９号JP 2004-174439 A

本発明は、原子力施設より発生するオフガスのスクラバー処理廃液等の、ハロゲン（系化合物）を含む廃液から簡易にハロゲンを除去し、施設機器の腐食を回避することを目的とする。   An object of the present invention is to easily remove halogen from waste liquid containing halogen (system compound), such as off-gas scrubber treatment waste liquid generated from a nuclear facility, and avoid corrosion of facility equipment.

上記課題を解決すべく、本発明の一態様は、ハロゲン系化合物を含む廃液と吸着物質とを接触させ、前記ハロゲン系化合物を前記吸着物質に吸着させて、前記廃液から前記ハロゲン系化合物を除去する、ハロゲン系化合物除去ステップを具えることを特徴とする、廃液の処理方法に関する。   In order to solve the above problems, according to one embodiment of the present invention, a waste liquid containing a halogen compound is brought into contact with an adsorbing substance, and the halogen compound is adsorbed on the adsorbing substance to remove the halogen compound from the waste liquid. The present invention relates to a method for treating a waste liquid, comprising a halogen compound removing step.

また、本発明の一態様は、ハロゲン系化合物を含む廃液と吸着物質とを接触させ、前記ハロゲン系化合物を前記吸着物質に吸着させて、前記廃液から前記ハロゲン系化合物を除去するための吸着装置を具えることを特徴とする、廃液の処理装置に関する。   One embodiment of the present invention is an adsorption device for contacting a waste liquid containing a halogen compound with an adsorbing substance, adsorbing the halogen compound to the adsorbing substance, and removing the halogen compound from the waste liquid. It is related with the processing apparatus of the waste liquid characterized by comprising.

本発明によれば、廃液中のハロゲン系化合物を所定の吸着物質に吸着させて前記廃液から除去するようにしているので、従来の技術で説明したような、処理系ごとに前処理系を準備する必要もなく、電気透析のような複雑な処理を行うこともない。したがって、極めて簡易かつ安価に廃液からハロゲン系化合物を除去することができる。   According to the present invention, the halogen-based compound in the waste liquid is adsorbed to a predetermined adsorbent and removed from the waste liquid. Therefore, a pretreatment system is prepared for each treatment system as described in the prior art. No complicated processing such as electrodialysis is required. Therefore, it is possible to remove the halogen compound from the waste liquid very easily and inexpensively.

なお、上記ハロゲン系化合物中のハロゲンは、廃液中では一般にイオンとして存在する。したがって、この場合において、上述した“ハロゲン系化合物を含む廃液”とは、ハロゲン系イオンを含む廃液を意味し、“ハロゲン系化合物を吸着物質に吸着させる”とは、ハロゲン系イオンを吸着物質に吸着させることを意味し、“廃液からハロゲン系化合物を除去する”とは、廃液からハロゲン系イオンを除去することを意味する。   The halogen in the halogen compound generally exists as ions in the waste liquid. Therefore, in this case, the above-mentioned “waste liquid containing a halogen compound” means a waste liquid containing a halogen ion, and “adsorbing a halogen compound on an adsorbent” means that the halogen ion is adsorbed on the adsorbent. It means adsorbing, and “removing a halogen compound from a waste liquid” means removing a halogen ion from the waste liquid.

また、“ハロゲン系化合物”とは、ハロゲンを含む任意の化合物を意味し、その具体的な組成は、施設等の種類に依存する。   The “halogen compound” means any compound containing halogen, and its specific composition depends on the type of facility or the like.

上記廃液が特に放射性廃液の場合は、後にセメント固化する必要が生じるので、濃縮槽を設けて、前記ハロゲン系化合物が除去された後の放射性廃液を減容処理することができる。但し、放射性廃液でなくても、減容処理が必要な廃液の場合についても適宜に用いることができる。   In particular, when the waste liquid is a radioactive waste liquid, it is necessary to solidify the cement later. Therefore, a concentration tank can be provided to reduce the volume of the radioactive waste liquid after the halogen compound is removed. However, even if it is not radioactive waste liquid, it can be used appropriately also in the case of waste liquid requiring volume reduction treatment.

上記廃液の処理装置は、スクラバー処理装置を具えることができる。この場合、上記廃液は、オフガスをスクラバー処理装置で洗浄したことによって得られるスクラバー廃液とすることができる。   The waste liquid treatment apparatus may include a scrubber treatment apparatus. In this case, the waste liquid can be a scrubber waste liquid obtained by washing off-gas with a scrubber treatment device.

この場合、スクラバー処理装置と吸着槽との間に循環ラインを設け、吸着装置で吸着物質によってハロゲン系物質が除去された廃液をスクラバー処理装置に戻し、再度洗浄することができるとともに、再度廃液を吸着装置に戻して吸着物質と接触させるような操作を複数回繰り返すことができる。したがって、スクラバー処理装置による洗浄と吸着物質による吸着操作とを複数回実施することができるので、廃液中のハロゲン系物質の濃度を所定の濃度まで十分に低減させた後、濃縮することができるようになる。結果として、減容処理の際に、施設機器等の腐食をより効果的に回避することができる。   In this case, a circulation line is provided between the scrubber treatment device and the adsorption tank, and the waste liquid from which the halogen-based material has been removed by the adsorbent in the adsorption device can be returned to the scrubber treatment device and washed again. The operation of returning to the adsorption device and bringing it into contact with the adsorbent can be repeated a plurality of times. Therefore, since the cleaning by the scrubber treatment device and the adsorption operation by the adsorbing substance can be performed a plurality of times, the concentration of the halogen-based substance in the waste liquid can be reduced to a predetermined concentration and then concentrated. become. As a result, the corrosion of facility equipment or the like can be avoided more effectively during the volume reduction process.

上記吸着物質としては、好ましくはハイドロタルサイト様物質、シュベルトマナイト、エトリンガイト、及びモノサルフェートを挙げることができる。   Preferred examples of the adsorbing substance include hydrotalcite-like substances, schwertmannite, ettringite, and monosulfate.

なお、ハイドロタルサイト様物質とは、物質中の少なくとも一部にハイドロタルサイト構造を含み、吸着物質として機能するようなものを意味する。ハイドロタルサイトは、例えば一般式［Ｍｇ３Ａｌ（ＯＨ）８］１／２ＣＯ３ ２−・２Ｈ２Ｏで表されるものであって、マグネシウムイオンを中心とする八面体（ブルーサイト層）が二次元的に連なり、マグネシウムイオンの一部をアルミニウムイオンで置き換えた層が積層されて層状構造を形成しているものである。 The hydrotalcite-like substance means a substance that contains a hydrotalcite structure in at least a part of the substance and functions as an adsorbing substance. The hydrotalcite is represented by, for example, the general formula [Mg 3 Al (OH) 8 ] 1 / 2CO 3 2 · 2H 2 O, and has an octahedron (brucite layer) centered on magnesium ions. Layers that are two-dimensionally connected and in which some magnesium ions are replaced with aluminum ions are stacked to form a layered structure.

シュペルトマナイトは、（Ｆｅ８Ｏ８（ＯＨ）８−２ｘ（ＳＯ４）ｘ）なる一般式で表され、特にイオン吸着性に優れるものである。エトリンガイドは、３ＣａＯ・Ａｌ２Ｏ３・３ＣａＳＯ４・３２Ｈ２Ｏなる一般式で表され、イオン等の吸着性に優れる。モノサルフェートは、通常は水和物として存在し、３ＣａＯ・Ａｌ２Ｏ３・ＣａＳＯ４・１２Ｈ２Ｏなる一般式で表され、同じくイオン等の吸着性に優れるものである。 Supermanite is represented by the general formula (Fe 8 O 8 (OH) 8-2x (SO 4 ) x ), and is particularly excellent in ion adsorptivity. The ethrin guide is represented by a general formula of 3CaO.Al 2 O 3 .3CaSO 4 .32H 2 O, and has excellent adsorptivity for ions and the like. Monosulfate usually exists as a hydrate, is represented by the general formula 3CaO.Al 2 O 3 .CaSO 4 .12H 2 O, and has excellent adsorptivity for ions and the like.

好ましくは、廃液のｐＨ値を６以上とする。廃液の酸性度合いが強くなりすぎると、吸着物質を劣化させてしまい、ハロゲン系化合物に対する吸着能が劣化してしまうためである。なお、廃液のｐＨ値の上限は１０とする。これを超えると、吸着物質を劣化させてしまう場合がある。   Preferably, the pH value of the waste liquid is 6 or more. This is because if the acidity of the waste liquid becomes too strong, the adsorbing material is deteriorated and the adsorption ability for the halogen-based compound is deteriorated. The upper limit of the pH value of the waste liquid is 10. If this is exceeded, the adsorbed material may be deteriorated.

本発明の一例においては、吸着装置の前段に、炭酸イオンを分離除去するための前処理反応槽及び固液分離装置を設け、上記ハロゲン系化合物除去ステップの前に、廃液中に含有される炭酸イオンを除去する前処理を行うことができる。吸着装置において、廃液中のハロゲン系化合物を吸着物質で吸着する際に炭酸イオンが存在すると、この炭酸イオンの存在により、ハロゲン系化合物、特にハロゲン系イオンの、吸着物質、特にハイドロタルサイト様物質への吸着効率が低下してしまう場合がある。   In an example of the present invention, a pretreatment reaction tank and a solid-liquid separation device for separating and removing carbonate ions are provided in the previous stage of the adsorption device, and the carbonic acid contained in the waste solution is contained before the halogen compound removal step. A pretreatment for removing ions can be performed. In the adsorber, if carbonate ions are present when adsorbing halogen compounds in the waste liquid with adsorbents, the presence of carbonate ions causes the adsorption of halogen compounds, especially halogen ions, especially hydrotalcite-like substances. Adsorption efficiency may decrease.

しかしながら、本例のように、吸着装置の前段に、前処理反応槽及び固液分離装置を設けることにより、ハロゲン系化合物の吸着前に炭酸イオンを予め除去することができるので、上述のように、炭酸イオンの存在によって、ハロゲン系化合物の吸着物質への吸着効率が低下してしまうようなことがない。   However, as in this example, by providing a pretreatment reaction tank and a solid-liquid separation device in the previous stage of the adsorption device, carbonate ions can be removed in advance before adsorption of the halogen-based compound. The presence of carbonate ions does not reduce the efficiency of adsorption of halogenated compounds to adsorbents.

なお、炭酸イオンの除去に際しては、上記前処理反応槽に、反応槽へ薬剤を投入するためのバッファタンク及び投入配管を付随的に設けることにより、上記バッファタンクから所定の薬剤を、上記投入配管を介して上記前処理反応槽内に投入することによって実施することができる。   When removing carbonate ions, the pretreatment reaction tank is additionally provided with a buffer tank and a charging pipe for charging the chemical into the reaction tank, whereby a predetermined chemical is supplied from the buffer tank to the charging pipe. It can implement by throwing in in the said pretreatment reaction tank via.

上述のような炭酸イオンは、例えば大気に含有される二酸化炭素ガスなどに由来して生じるものである。   The carbonate ions as described above are derived from, for example, carbon dioxide gas contained in the atmosphere.

本発明によれば、原子力施設より発生するオフガスのスクラバー処理廃液等の、ハロゲン（系化合物）を含む廃液から簡易にハロゲンを除去し、施設機器の腐食を回避することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, halogen can be easily removed from the waste liquid containing halogen (system compound), such as the off-gas scrubber process waste liquid generated from a nuclear facility, and corrosion of a facility apparatus can be avoided.

第１の実施形態の廃液の処理装置を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the processing apparatus of the waste liquid of 1st Embodiment. 第２の実施形態の廃液の処理装置を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the processing apparatus of the waste liquid of 2nd Embodiment. 第３の実施形態の廃液の処理装置を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the processing apparatus of the waste liquid of 3rd Embodiment. 第４の実施形態の廃液の処理装置を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the processing apparatus of the waste liquid of 4th Embodiment.

以下、本発明の廃液の処理方法及び処理装置の実施形態について図面を参照して説明する。   Embodiments of a waste liquid treatment method and a treatment apparatus according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

（第１の実施形態）
図１は、本実施形態の廃液の処理装置を示す概略構成図である。
図１に示す処理装置１０は、スクラバー処理装置１１、吸着槽１２及び濃縮槽１３が廃液の導入側から下流側に向けて順次に配列されている。また、スクラバー処理装置１１と吸着槽１２との間は配管２４で接続されており、吸着槽１２と濃縮槽１３との間は配管２５で接続されており、いわゆるバッチ式の処理装置を構成している。 (First embodiment)
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a waste liquid treatment apparatus of the present embodiment.
In the processing apparatus 10 shown in FIG. 1, a scrubber processing apparatus 11, an adsorption tank 12, and a concentration tank 13 are sequentially arranged from the waste liquid introduction side to the downstream side. The scrubber processing apparatus 11 and the adsorption tank 12 are connected by a pipe 24, and the adsorption tank 12 and the concentration tank 13 are connected by a pipe 25, constituting a so-called batch type processing apparatus. ing.

スクラバー処理装置１１は、溜水中に排ガスをくぐらせることにより集じんする方法（溜水式）、排ガスの流れに加圧水を噴射する方法（加圧水式）、プラスチック・磁器などの充てん物に噴霧した洗浄液の水膜に排ガスを接触させて集じんする方法（充てん層式）、洗浄液を回転体で分散させて排ガスを接触させる方法（回転式）など、汎用の方式とすることができる。   The scrubber treatment device 11 is a method of collecting dust by passing exhaust gas in the stored water (reservoir type), a method of injecting pressurized water into the flow of exhaust gas (pressurized water type), and a cleaning liquid sprayed on a filling material such as plastic or porcelain. General methods such as a method of collecting exhaust gas in contact with the water film (packed layer type) and a method of contacting the exhaust gas by dispersing the cleaning liquid with a rotating body (rotary type) can be used.

吸着槽１２及び濃縮槽１３はステンレス鋼（ＳＵＳ）やポリテトラフルオロエチレンなどのような耐食性に優れた材料から構成する。吸着槽１２内には、所定の吸着物質、好ましくはハイドロタルサイト様物質、シュベルトマナイト、エトリンガイト、及びモノサルフェートが充填されている。なお、吸着物質は、その作用効果を奏することができるように、吸着槽１２内に密に充填する必要があるが、仕切り板などを設けることによって、吸着槽１２の下方部にのみ密に充填するようにすることもできる。   The adsorption tank 12 and the concentration tank 13 are made of a material having excellent corrosion resistance such as stainless steel (SUS) or polytetrafluoroethylene. The adsorbing tank 12 is filled with a predetermined adsorbing substance, preferably a hydrotalcite-like substance, Schwertmannite, ettringite, and monosulfate. It should be noted that the adsorbed substance needs to be packed densely in the adsorption tank 12 so that the effect can be obtained. However, by providing a partition plate or the like, only the lower part of the adsorption tank 12 is packed densely. You can also do it.

次に、図１に示す処理装置を用いた処理方法について説明する。
最初に、例えば原子力施設等から発生したオフガスを、配管２１を通じてスクラバー処理装置１１内に導入するとともに、洗浄液を、配管２２を通じてスクラバー処理装置１１内に導入して洗浄する。洗浄液には水などの他、水酸化ナトリウム溶液等を用いることができる。処理後のガスは、配管２３を通じて系外を放出される。 Next, a processing method using the processing apparatus shown in FIG. 1 will be described.
First, for example, off-gas generated from a nuclear facility or the like is introduced into the scrubber processing apparatus 11 through the pipe 21, and the cleaning liquid is introduced into the scrubber processing apparatus 11 through the pipe 22 and cleaned. As the cleaning liquid, water or the like, sodium hydroxide solution or the like can be used. The treated gas is discharged out of the system through the pipe 23.

スクラバー処理装置１１内での洗浄を通じて得られた処理廃液中には、揮発性の放射性核種が含まれる可能性がある。また、可燃物・難燃物の焼却に起因して生成した塩素及び臭素などのハロゲン系化合物が含まれる。   The processing waste liquid obtained through the cleaning in the scrubber processing apparatus 11 may contain volatile radionuclides. In addition, halogen compounds such as chlorine and bromine generated due to incineration of combustibles and flame retardants are included.

上述したようなハロゲン系化合物は、廃液中でイオン化して存在し、塩化ナトリウムは塩化物イオンが解離して存在するようになり、ヨウ素はヨウ化物イオンが解離して存在するようになる。また、塩素及び臭素もそれぞれフッ素イオン及び臭素イオンが解離して存在するようになる。   The halogen-based compound as described above is ionized in the waste liquid, sodium chloride is present by dissociating chloride ions, and iodine is present by dissociating iodide ions. Further, chlorine and bromine are also present by dissociating fluorine ions and bromine ions, respectively.

次いで、スクラバー処理装置１１で得た処理廃液を配管２４によって吸着槽１２に移送し、内部に充填された吸着物質と接触させることによって、上述した廃液中のハロゲン系化合物（ハロゲンイオン）を吸着する。   Next, the waste treatment liquid obtained by the scrubber treatment apparatus 11 is transferred to the adsorption tank 12 through the pipe 24 and brought into contact with the adsorbing substance filled therein, thereby adsorbing the halogen compound (halogen ion) in the waste liquid described above. .

次いで、上記廃液を、配管２５を通じて濃縮槽１３内に供給する。この際、吸着槽１２において、前記廃液中に含まれる特にハロゲン系化合物（ハロゲンイオン）は、その大部分が除去されているので、濃縮槽１３に移送される廃液中にはハロゲン系化合物（ハロゲンイオン）はほとんど含まれていない。したがって、濃縮槽１３において前記廃液を濃縮した場合においても、施設機器、具体的には濃縮槽１３の腐食を防止することができる。また、濃縮槽１３内における廃液中にはハロゲン系化合物（ハロゲンイオン）がほとんど含まれないので、環境基準や排出基準の観点からも好ましい。   Next, the waste liquid is supplied into the concentration tank 13 through the pipe 25. At this time, since most of the halogen compounds (halogen ions) contained in the waste liquid are removed in the adsorption tank 12, the halogen compounds (halogen compounds) are transferred to the concentration tank 13. Ion) is hardly included. Therefore, even when the waste liquid is concentrated in the concentration tank 13, it is possible to prevent corrosion of the facility equipment, specifically, the concentration tank 13. Further, the waste liquid in the concentration tank 13 contains almost no halogen-based compound (halogen ion), which is preferable from the viewpoint of environmental standards and emission standards.

濃縮処理後の廃液は、配管２６を通じて廃液処理系へ移送される。濃縮槽１３における濃縮操作は、例えば廃液を加熱し、溶媒等を蒸発させることによって行う。   The waste liquid after the concentration treatment is transferred to the waste liquid treatment system through the pipe 26. The concentration operation in the concentration tank 13 is performed, for example, by heating the waste liquid and evaporating the solvent or the like.

このように、本実施形態によれば、原子力施設等より発生するオフガスのスクラバー処理廃液の、ハロゲン系化合物（ハロゲンイオン）を含む廃液から簡易にハロゲンを除去し、施設機器の腐食を回避することができる。   As described above, according to the present embodiment, the halogen is easily removed from the waste liquid containing the halogen-based compound (halogen ion) in the off-gas scrubber treatment waste liquid generated from the nuclear facility or the like, and the corrosion of the facility equipment is avoided. Can do.

なお、好ましくは、廃液のｐＨ値を６以上とする。廃液の酸性度合いが強くなりすぎると、吸着物質を劣化させてしまい、ハロゲン系化合物に対する吸着能が劣化してしまう場合がある。なお、廃液のｐＨ値の上限は１０とする。これを超えると、廃液のアルカリ性度合いが強くなりすぎ、吸着物質を劣化させてしまう場合がある。   In addition, Preferably, the pH value of a waste liquid shall be 6 or more. If the acidity of the waste liquid becomes too strong, the adsorbed material may be deteriorated, and the adsorption ability for the halogen-based compound may be deteriorated. The upper limit of the pH value of the waste liquid is 10. Beyond this, the alkalinity of the waste liquid becomes too strong, and the adsorbed material may be deteriorated.

本実施形態においては、放射性廃液を処理する場合を想定し、スクラバー処理装置１１及び濃縮槽１３を設けるようにしているが、これらは本発明の必須の構成要件ではなく、処理すべき廃液の種類に応じて適宜省略することができる。   In the present embodiment, it is assumed that the radioactive waste liquid is treated, and the scrubber treatment device 11 and the concentration tank 13 are provided, but these are not essential constituent requirements of the present invention, and the type of the waste liquid to be treated. Can be omitted as appropriate.

なお、図１には特に示していないが、スクラバー処理装置１１から吸着槽１２への廃液の移送、及び吸着槽１２から濃縮槽１３への廃液の移送は図示しない所定のポンプを用いて行う。   Although not specifically shown in FIG. 1, the transfer of the waste liquid from the scrubber processing apparatus 11 to the adsorption tank 12 and the transfer of the waste liquid from the adsorption tank 12 to the concentration tank 13 are performed using a predetermined pump (not shown).

（第２の実施形態）
図２は、本実施形態の廃液の処理装置を示す概略構成図である。なお、図１に示す処理装置と同一あるいは類似の構成要素に関しては、同一の参照数字を用いている。 (Second Embodiment)
FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing the waste liquid treatment apparatus of the present embodiment. Note that the same reference numerals are used for the same or similar components as those in the processing apparatus shown in FIG.

図２に示す処理装置３０は、スクラバー処理装置１１及び濃縮槽１３間に、吸着槽１３の代わりにカラム式の吸着塔３２が設けられるとともに、スクラバー処理装置１１及び吸着塔３２間に循環ライン３５が設けられ、カラム式の処理装置を構成している点で、図１に示す処理装置１０と異なり、その他の構成は図１に示す処理装置１０と同様である。   A processing apparatus 30 shown in FIG. 2 includes a column type adsorption tower 32 instead of the adsorption tank 13 between the scrubber treatment apparatus 11 and the concentration tank 13, and a circulation line 35 between the scrubber treatment apparatus 11 and the adsorption tower 32. Is different from the processing apparatus 10 shown in FIG. 1 in that a column-type processing apparatus is configured, and other configurations are the same as the processing apparatus 10 shown in FIG.

吸着塔３２内には、吸着槽１３の場合と同様に、ハイドロタルサイト様物質、シュベルトマナイト、エトリンガイト、及びモノサルフェートなどの吸着物質を充填する。   As in the case of the adsorption tank 13, the adsorption tower 32 is filled with an adsorbing substance such as a hydrotalcite-like substance, Schwertmannite, ettringite, and monosulfate.

次いで、図２に示す処理装置を用いた処理方法について説明する。
最初に、例えば原子力施設等から発生したオフガスを、配管２１を通じてスクラバー処理装置１１内に導入するとともに、洗浄液を、配管２２を通じてスクラバー処理装置１１内に導入して洗浄する。洗浄液には水などの他、水酸化ナトリウム溶液等を用いることができる。処理後のガスは、配管２３を通じて系外に放出される。 Next, a processing method using the processing apparatus shown in FIG. 2 will be described.
First, for example, off-gas generated from a nuclear facility or the like is introduced into the scrubber processing apparatus 11 through the pipe 21, and the cleaning liquid is introduced into the scrubber processing apparatus 11 through the pipe 22 and cleaned. As the cleaning liquid, water or the like, sodium hydroxide solution or the like can be used. The treated gas is released out of the system through the pipe 23.

スクラバー処理装置１１内での洗浄を通じて得られた処理廃液中には、第１の実施形態で述べたように、ハロゲン系化合物の他に、放射性化合物が含まれる。なお、これら化合物は、廃液中では解離してイオンとして存在することは、第１の実施形態で述べた通りである。   As described in the first embodiment, the processing waste liquid obtained through the cleaning in the scrubber processing apparatus 11 includes a radioactive compound in addition to the halogen-based compound. As described in the first embodiment, these compounds are dissociated and exist as ions in the waste liquid.

次いで、バルブ３３を閉とした状態で、スクラバー処理装置１１で得た処理廃液を配管２４によって吸着塔３２に移送し、内部に充填された吸着物質と接触させることによって、上述した廃液中のハロゲン系化合物（ハロゲン系イオン）を吸着する。次いで、循環ライン３５を通じて、前記廃液を再度スクラバー処理装置１１内に導入して洗浄し、その後配管２４を通じて再度吸着塔３２内に移送し、前記吸着物質と接触させる。このような操作を繰り返すことによって、スクラバー処理装置による洗浄と吸着物質による吸着操作とを複数回実施することになるので、廃液中のハロゲン系物質の濃度を所定の濃度まで十分に低減させた後、濃縮槽１３へ移送して濃縮することができるようになる。   Next, in a state in which the valve 33 is closed, the waste treatment liquid obtained by the scrubber treatment device 11 is transferred to the adsorption tower 32 through the pipe 24 and brought into contact with the adsorbing substance filled therein, whereby the halogen in the waste liquid described above. Adsorbs compound (halogen ion). Next, the waste liquid is again introduced into the scrubber treatment device 11 through the circulation line 35 and cleaned, and then transferred again into the adsorption tower 32 through the pipe 24 and brought into contact with the adsorbed substance. By repeating such an operation, the cleaning by the scrubber treatment device and the adsorption operation by the adsorbed substance are performed a plurality of times. Therefore, after sufficiently reducing the concentration of the halogen-based substance in the waste liquid to a predetermined concentration Then, it can be transferred to the concentration tank 13 and concentrated.

濃縮処理後の廃液は、配管２６を通じて廃液処理系へ移送される。濃縮槽１３では、例えば廃液を加熱し、溶媒等を蒸発させることによって濃縮操作を実施する。   The waste liquid after the concentration treatment is transferred to the waste liquid treatment system through the pipe 26. In the concentration tank 13, for example, the concentration operation is performed by heating the waste liquid and evaporating the solvent and the like.

このように、本実施形態においても、原子力施設等より発生するオフガスのスクラバー処理廃液の、ハロゲン系化合物（ハロゲン系イオン）を含む廃液から簡易にハロゲンを除去し、施設機器の腐食を回避することができる。   As described above, also in this embodiment, halogen is easily removed from waste liquid containing halogen compounds (halogen ions) in off-gas scrubber treatment waste liquid generated from nuclear facilities and the like, and corrosion of facility equipment is avoided. Can do.

なお、第１の実施形態と同様の理由から、廃液のｐＨ値を６以上１０以下とすることが好ましい。   For the same reason as in the first embodiment, the pH value of the waste liquid is preferably 6 or more and 10 or less.

（第３の実施形態）
図３は、本実施形態の廃液の処理装置を示す概略構成図である。なお、図１に示す処理装置と同一あるいは類似の構成要素に関しては、同一の参照数字を用いている。 (Third embodiment)
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing the waste liquid treatment apparatus of the present embodiment. Note that the same reference numerals are used for the same or similar components as those in the processing apparatus shown in FIG.

図３に示す処理装置４０は、スクラバー処理装置１１と吸着槽１２との間の配管２４において、前処理反応槽４１及び固液分離装置４２が、スクラバー処理装置１１から吸着槽１２に向けて順次に配列されてなる。また、前処理反応槽４１の上方には、薬剤投入配管４４を介して薬液用バッファタンク４３が配置されている。   In the processing apparatus 40 shown in FIG. 3, a pretreatment reaction tank 41 and a solid-liquid separation apparatus 42 are sequentially provided from the scrubber processing apparatus 11 toward the adsorption tank 12 in the pipe 24 between the scrubber treatment apparatus 11 and the adsorption tank 12. It is arranged in. Further, a chemical buffer tank 43 is disposed above the pretreatment reaction tank 41 via a chemical injection pipe 44.

前処理反応槽４１、固液分離装置４２、薬液用バッファタンク４３及び薬剤投入配管４４は、以下に説明するように、廃液中のハロゲン系化合物を吸着槽１２において吸着する際に、廃液中の炭酸イオンを除去するために使用されるものである。なお、その他の構成は図１に示す処理装置１０と同様である。   The pretreatment reaction tank 41, the solid-liquid separator 42, the chemical liquid buffer tank 43, and the chemical input pipe 44 are used to adsorb halogen compounds in the waste liquid in the adsorption tank 12, as described below. It is used to remove carbonate ions. Other configurations are the same as those of the processing apparatus 10 shown in FIG.

薬液用バッファタンク４３には、例えば水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化ストロンチウム等のアルカリ土類金属の水酸化物（薬剤）が充填されている。   The chemical buffer tank 43 is filled with a hydroxide (medicine) of an alkaline earth metal such as calcium hydroxide, barium hydroxide, strontium hydroxide or the like.

次いで、図３に示す処理装置を用いた処理方法について説明する。
最初に、例えば原子力施設等から発生したオフガスを、配管２１を通じてスクラバー処理装置１１内に導入するとともに、洗浄液を、配管２２を通じてスクラバー処理装置１１内に導入して洗浄する。洗浄液には水などの他、水酸化ナトリウム溶液等を用いることができる。処理後のガスは、配管２３を通じて系外に放出される。 Next, a processing method using the processing apparatus shown in FIG. 3 will be described.
First, for example, off-gas generated from a nuclear facility or the like is introduced into the scrubber processing apparatus 11 through the pipe 21, and the cleaning liquid is introduced into the scrubber processing apparatus 11 through the pipe 22 and cleaned. As the cleaning liquid, water or the like, sodium hydroxide solution or the like can be used. The treated gas is released out of the system through the pipe 23.

スクラバー処理装置１１内での洗浄を通じて得られた処理廃液中には、第１の実施形態で述べたように、ハロゲン系化合物の他に、放射性化合物及び大気に含有される二酸化炭素ガスに由来する炭酸イオンが含まれる。なお、これら化合物は、廃液中では解離してイオンとして存在することは、第１の実施形態で述べた通りである。   As described in the first embodiment, the processing waste liquid obtained through the cleaning in the scrubber processing apparatus 11 is derived from the radioactive compound and carbon dioxide gas contained in the atmosphere in addition to the halogen-based compound. Carbonate ions are included. As described in the first embodiment, these compounds are dissociated and exist as ions in the waste liquid.

次いで、スクラバー処理装置１１で得た処理廃液を配管２４によって前処理反応槽４１に移送するとともに、薬液用バッファタンク４３から上述したような所定の薬剤を、薬剤投入配管４４を介して前処理反応槽４１内に投入する。この場合、上記薬剤と炭酸イオンとが反応し、得られた反応物は廃液中で沈殿するようになる。したがって、このような沈殿物を含む廃液を固液分離装置４２内に移送し、廃液中から沈殿物を固液分離して除去することにより、炭酸イオンが除去された廃液を得ることができる。   Subsequently, the processing waste liquid obtained by the scrubber processing apparatus 11 is transferred to the pretreatment reaction tank 41 through the pipe 24, and the predetermined chemical as described above is pretreated from the chemical buffer tank 43 through the chemical injection pipe 44. Put into the tank 41. In this case, the chemical | medical agent and carbonate ion react, and the obtained reaction material comes to precipitate in a waste liquid. Therefore, a waste liquid from which carbonate ions have been removed can be obtained by transferring a waste liquid containing such a precipitate into the solid-liquid separator 42 and separating the precipitate from the waste liquid by solid-liquid separation.

次いで、炭酸イオンが除去された廃液は、第１の実施形態と同様に、配管２４を介して吸着槽１２に移送し、内部に充填された吸着物質と接触させることによって廃液中のハロゲン系化合物（ハロゲンイオン）を吸着除去し、次いで、配管２５を通じて濃縮槽１３内に移送することにより、上記廃液を濃縮する。   Next, the waste liquid from which the carbonate ions have been removed is transferred to the adsorption tank 12 through the pipe 24 and brought into contact with the adsorbing substance filled in the interior, as in the first embodiment, so that the halogen-based compound in the waste liquid is obtained. (Halogen ions) are removed by adsorption, and then transferred to the concentration tank 13 through the pipe 25 to concentrate the waste liquid.

本実施形態において、例えば吸着槽１２内にハイドロタルサイト様物質の吸着物質が充填されている場合、ハロゲン系化合物（ハロゲン系イオン）のハイドロタルサイト様物質への吸着は、前記構造式に示される、Ｍｇ、Ａｌ、ＯＨからなる正に帯電した層状構造の層間に、負に帯電しているハロゲン系イオンが取り込まれることによってなされる。ところが、上記廃液中に炭酸イオンが含まれると、ハイドロタルサイト様物質の層間の陰イオン吸着部位に当該炭酸イオンが選択的に吸着し、ハロゲン系イオンの吸着効率を低下させてしまう恐れがある。   In this embodiment, for example, when the adsorption tank 12 is filled with an adsorbing substance of a hydrotalcite-like substance, the adsorption of a halogen-based compound (halogen-based ion) to the hydrotalcite-like substance is shown in the above structural formula. The negatively charged halogen-based ions are taken in between layers of a positively charged layered structure made of Mg, Al, and OH. However, when carbonate ions are contained in the waste liquid, the carbonate ions are selectively adsorbed on the anion adsorption sites between the layers of the hydrotalcite-like substance, which may reduce the adsorption efficiency of the halogen ions. .

したがって、上述したように、廃液を吸着槽１２へ導入する以前に上記炭酸イオンを除去しておけば、例えばハイドロタルサイト様物質によるハロゲン系イオンの吸着効率の低下を抑制することができる。   Therefore, as described above, if the carbonate ions are removed before the waste liquid is introduced into the adsorption tank 12, a decrease in the adsorption efficiency of halogen ions due to, for example, a hydrotalcite-like substance can be suppressed.

なお、炭酸イオンを除去するための投入薬剤として水酸化カルシウムを用いた場合、前処理反応槽４１における反応は、
Ｃａ（ＯＨ）２ → ２Ｃａ２＋ ＋ ２ＯＨ−
Ｃａ２＋ ＋ ＣＯ３ ２− → ＣａＣＯ３↓
のように書き表すことができ、炭酸カルシウムの沈殿物が生成される。したがって、固液分離装置４２では、固液分離によって廃液から炭酸カルシウムの沈殿物が除去される。 In addition, when calcium hydroxide is used as an input agent for removing carbonate ions, the reaction in the pretreatment reaction tank 41 is:
Ca (OH) 2 → 2Ca 2+ + 2OH −
Ca 2+ + CO 3 2− → CaCO 3 ↓
And a precipitate of calcium carbonate is produced. Therefore, the solid-liquid separator 42 removes the calcium carbonate precipitate from the waste liquid by solid-liquid separation.

また、投入薬剤として水酸化バリウムを用いた場合は炭酸バリウムの沈殿物が生成され、水酸化ストロンチウムを用いた場合は炭酸ストロンチウムの沈殿物が生成される。したがって、固液分離装置４２では、これら沈殿物を固液分離によって除去する。   In addition, when barium hydroxide is used as an input agent, a barium carbonate precipitate is generated, and when strontium hydroxide is used, a strontium carbonate precipitate is generated. Therefore, the solid-liquid separation device 42 removes these precipitates by solid-liquid separation.

なお、本実施形態では、廃液中の炭酸イオンを除去するに際し、前処理反応槽４１、固液分離装置４２、薬液用バッファタンク４３及び薬剤投入配管４４を用いて、化学的に行うようにしている。しかしながら、その他、任意の装置を用いることによって、炭酸イオンを物理的に除去するようにしてもよい。   In this embodiment, when removing carbonate ions in the waste liquid, the pretreatment reaction tank 41, the solid-liquid separation device 42, the chemical liquid buffer tank 43, and the chemical injection pipe 44 are used for chemical removal. Yes. However, the carbonate ion may be physically removed by using any other apparatus.

（第４の実施形態）
図４は、本実施形態の廃液の処理装置を示す概略構成図である。なお、図１及び図２に示す処理装置と同一あるいは類似の構成要素に関しては、同一の参照数字を用いている。 (Fourth embodiment)
FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing the waste liquid treatment apparatus of the present embodiment. The same reference numerals are used for the same or similar components as those in the processing apparatus shown in FIGS.

図４に示す処理装置５０は、スクラバー処理装置１１及び吸着塔３２間の配管２４において、前処理反応槽４１及び固液分離装置４２が、スクラバー処理装置１１から吸着塔３２に向けて順次に配列されてなる。また、前処理反応槽４１の上方には、薬剤投入配管４４を介して薬液用バッファタンク４３が配置されている。   In the processing apparatus 50 shown in FIG. 4, the pretreatment reaction tank 41 and the solid-liquid separation apparatus 42 are sequentially arranged from the scrubber processing apparatus 11 toward the adsorption tower 32 in the pipe 24 between the scrubber processing apparatus 11 and the adsorption tower 32. Being done. Further, a chemical buffer tank 43 is disposed above the pretreatment reaction tank 41 via a chemical injection pipe 44.

前処理反応槽４１、固液分離装置４２、薬液用バッファタンク４３及び薬剤投入配管４４は、以下に説明するように、廃液中のハロゲン系化合物を吸着塔３２において吸着する際に、廃液中の炭酸イオンを除去するために使用されるものである。なお、その他の構成は図２に示す処理装置３０と同様である。   The pretreatment reaction tank 41, the solid-liquid separator 42, the chemical liquid buffer tank 43, and the chemical input pipe 44, as described below, are used to adsorb halogen compounds in the waste liquid in the adsorption tower 32. It is used to remove carbonate ions. Other configurations are the same as those of the processing apparatus 30 shown in FIG.

第３の実施形態で述べたように、薬液用バッファタンク４３には、例えば水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化ストロンチウム等のアルカリ土類金属の水酸化物（薬剤）が充填されている。   As described in the third embodiment, the chemical buffer tank 43 is filled with a hydroxide (medicine) of an alkaline earth metal such as calcium hydroxide, barium hydroxide, or strontium hydroxide.

次いで、図４に示す処理装置を用いた処理方法について説明する。
最初に、例えば原子力施設等から発生したオフガスを、配管２１を通じてスクラバー処理装置１１内に導入するとともに、洗浄液を、配管２２を通じてスクラバー処理装置１１内に導入して洗浄する。洗浄液には水などの他、水酸化ナトリウム溶液等を用いることができる。処理後のガスは、配管２３を通じて系外に放出される。 Next, a processing method using the processing apparatus shown in FIG. 4 will be described.
First, for example, off-gas generated from a nuclear facility or the like is introduced into the scrubber processing apparatus 11 through the pipe 21, and the cleaning liquid is introduced into the scrubber processing apparatus 11 through the pipe 22 and cleaned. As the cleaning liquid, water or the like, sodium hydroxide solution or the like can be used. The treated gas is released out of the system through the pipe 23.

スクラバー処理装置１１内での洗浄を通じて得られた処理廃液中には、第１の実施形態で述べたように、ハロゲン系化合物の他に、放射性化合物及び大気に含有される二酸化炭素ガスに由来する炭酸イオンが含まれる。   As described in the first embodiment, the processing waste liquid obtained through the cleaning in the scrubber processing apparatus 11 is derived from the radioactive compound and carbon dioxide gas contained in the atmosphere in addition to the halogen-based compound. Carbonate ions are included.

次いで、スクラバー処理装置１１で得た処理廃液を配管２４によって前処理反応槽４１に移送するとともに、薬液用バッファタンク４３から上述したような所定の薬剤を、薬剤投入配管４４を介して前処理反応槽４１内に投入する。この場合、上記薬剤と炭酸イオンとが反応し、得られた反応物は廃液中で沈殿するようになる。したがって、このような沈殿物を含む廃液を固液分離装置４２内に移送し、廃液中から沈殿物を固液分離して除去することにより、炭酸イオンが除去された廃液を得ることができる。   Subsequently, the processing waste liquid obtained by the scrubber processing apparatus 11 is transferred to the pretreatment reaction tank 41 through the pipe 24, and the predetermined chemical as described above is pretreated from the chemical buffer tank 43 through the chemical injection pipe 44. Put into the tank 41. In this case, the chemical | medical agent and carbonate ion react, and the obtained reaction material comes to precipitate in a waste liquid. Therefore, a waste liquid from which carbonate ions have been removed can be obtained by transferring a waste liquid containing such a precipitate into the solid-liquid separator 42 and separating the precipitate from the waste liquid by solid-liquid separation.

次いで、炭酸イオンが除去された廃液は、第２の実施形態と同様に、配管２４によって吸着塔３２に移送し、内部に充填された吸着物質と接触させることによって、上述した廃液中のハロゲン系化合物（ハロゲン系イオン）を吸着する。次いで、循環ライン３５を通じて、前記廃液を再度スクラバー処理装置１１内に導入して洗浄し、その後配管２４を通じて再度吸着塔３２内に移送し、前記吸着物質と接触させる。このような操作を繰り返すことによって、スクラバー処理装置による洗浄と吸着物質による吸着操作とを複数回実施し、廃液中のハロゲン系物質の濃度を所定の濃度まで十分に低減させた後、濃縮槽１３へ移送して濃縮する。   Next, the waste liquid from which the carbonate ions have been removed is transferred to the adsorption tower 32 through the pipe 24 and brought into contact with the adsorbing substance filled therein, as in the second embodiment, so that the halogen system in the above-described waste liquid is obtained. Adsorb compounds (halogen ions). Next, the waste liquid is again introduced into the scrubber treatment device 11 through the circulation line 35 and cleaned, and then transferred again into the adsorption tower 32 through the pipe 24 and brought into contact with the adsorbed substance. By repeating such an operation, cleaning with the scrubber treatment device and adsorption operation with the adsorbing substance are performed a plurality of times, and the concentration of the halogen-based substance in the waste liquid is sufficiently reduced to a predetermined concentration, and then the concentration tank 13 Transfer to concentrate.

なお、廃液中に炭酸イオンが存在することによる不利益、及び前処理反応槽４１内における投入薬剤と炭酸イオンとの反応については、上記第３の実施形態で述べた通りである。   Note that the disadvantage caused by the presence of carbonate ions in the waste liquid and the reaction between the charged chemical and carbonate ions in the pretreatment reaction tank 41 are as described in the third embodiment.

本実施例では、ハイドロタルサイトが充填された吸着槽内に、５ｍｍｏｌ／Ｌのフッ素イオン、硫酸イオン、ホウ酸イオンを含む溶液（廃液）を通液させ、室温で４週間整置させた後に固液分離し、液相中のフッ素イオン、硫酸イオン、ホウ酸イオンの濃度を測定した。なお、ハイドロタルサイトと溶液との比は、重量比で１：１０とした。   In this example, after a solution (waste liquid) containing 5 mmol / L of fluorine ions, sulfate ions, and borate ions was passed through an adsorption tank filled with hydrotalcite and placed at room temperature for 4 weeks. Solid-liquid separation was performed, and the concentrations of fluorine ions, sulfate ions, and borate ions in the liquid phase were measured. The ratio of hydrotalcite to solution was 1:10 by weight.

その結果、当初の濃度５ｍｍｏｌ／Ｌから、それぞれ０．４５ｍｍｏｌ／Ｌ、０．９５ｍｍｏｌ／Ｌ及び２．３５ｍｍｏｌ／Ｌまで濃度が低減していることが判明した。すなわち、上記ハイドロタルサイトによって、腐食物質であるフッ素イオンの濃度が約０．０８倍にまで減少していることが判明した。   As a result, it was found that the concentration decreased from the initial concentration of 5 mmol / L to 0.45 mmol / L, 0.95 mmol / L, and 2.35 mmol / L, respectively. In other words, it was found that the hydrotalcite reduced the concentration of fluorine ions, which are corrosive substances, to about 0.08 times.

以上、本発明を上記具体例に基づいて詳細に説明したが、本発明は上記具体例に限定されるものではなく、本発明の範疇を逸脱しない限りにおいて、あらゆる変形や変更が可能である。   The present invention has been described in detail based on the above specific examples. However, the present invention is not limited to the above specific examples, and various modifications and changes can be made without departing from the scope of the present invention.

１０、３０、４０、５０ 廃液の処理装置
１１ スクラバー処理装置
１２ 吸着槽
１３ 濃縮槽
２１、２２、２３、２４、２５、２６ 配管
３２ 吸着塔
３３ バルブ
３５ 循環ライン
４１ 前処理反応槽
４２ 固液分離装置
４３ 薬液用バッファタンク
４４ 薬剤投入配管 10, 30, 40, 50 Waste liquid treatment device 11 Scrubber treatment device 12 Adsorption tank 13 Concentration tank 21, 22, 23, 24, 25, 26 Pipe 32 Adsorption tower 33 Valve 35 Circulation line 41 Pretreatment reaction tank 42 Solid-liquid separation Equipment 43 Buffer tank for chemical liquid 44 Chemical injection piping

Claims (18)

ハロゲン系化合物を含む廃液と吸着物質とを接触させ、前記ハロゲン系化合物を前記吸着物質に吸着させて、前記廃液から前記ハロゲン系化合物を除去する、ハロゲン系化合物除去ステップを具えることを特徴とする、廃液の処理方法。   A halogen compound removing step of contacting a waste liquid containing a halogen compound with an adsorbing substance, adsorbing the halogen compound to the adsorbing substance, and removing the halogen compound from the waste liquid. Waste liquid treatment method. 前記ハロゲン系化合物を除去した後の前記廃液を濃縮して減容する、ハロゲン系化合物減容ステップを具えることを特徴とする、請求項１に記載の廃液の処理方法。   The waste liquid treatment method according to claim 1, further comprising a halogen compound volume reduction step of concentrating and reducing the volume of the waste liquid after the halogen compound is removed. 前記廃液は、スクラバー廃液であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の廃液の処理方法。   The waste liquid treatment method according to claim 1, wherein the waste liquid is a scrubber waste liquid. 前記廃液を循環させて、スクラバー洗浄及び前記吸着物質との接触を少なくとも２回以上実施することを特徴とする、請求項３に記載の廃液の処理方法。   The waste liquid treatment method according to claim 3, wherein the waste liquid is circulated to perform scrubber cleaning and contact with the adsorbent at least twice. 前記吸着物質は、ハイドロタルサイト様物質、シュベルトマナイト、エトリンガイト、及びモノサルフェートからなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一に記載の廃液の処理方法。   The waste liquid according to any one of claims 1 to 4, wherein the adsorbing substance is at least one selected from the group consisting of hydrotalcite-like substances, schwertmannite, ettringite, and monosulfate. Processing method. 前記廃液のｐＨ値を６以上とすることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一に記載の廃液の処理方法。   The waste liquid treatment method according to any one of claims 1 to 5, wherein the pH value of the waste liquid is set to 6 or more. 前記ハロゲン系化合物除去ステップの前に、前記廃液中に含有される炭酸イオンを除去する前処理ステップを具えることを特徴とする、請求項1〜６のいずれか一に記載の廃液の処理方法。   The waste liquid treatment method according to any one of claims 1 to 6, further comprising a pretreatment step of removing carbonate ions contained in the waste liquid before the halogen compound removal step. . 前記前処理ステップにおいて、前記炭酸イオンは、前記廃液への所定の薬剤を投入することによって除去することを特徴とする、請求項７に記載の廃液の処理方法。   The waste liquid treatment method according to claim 7, wherein in the pretreatment step, the carbonate ions are removed by introducing a predetermined chemical into the waste liquid. 前記薬剤の種類が、アルカリ土類金属の水酸化物であることを特徴とする、請求項８に記載の廃液の処理方法。   9. The method for treating a waste liquid according to claim 8, wherein the type of the agent is an alkaline earth metal hydroxide. ハロゲン系化合物を含む廃液と吸着物質とを接触させ、前記ハロゲン系化合物を前記吸着物質に吸着させて、前記廃液から前記ハロゲン系化合物を除去するための吸着装置を具えることを特徴とする、廃液の処理装置。   A waste liquid containing a halogen compound is brought into contact with an adsorbing substance, and the adsorbing device is used to adsorb the halogen compound to the adsorbing substance to remove the halogen compound from the waste liquid. Waste liquid treatment equipment. 前記ハロゲン系化合物を除去した後の前記廃液を濃縮して減容するための濃縮槽を具えることを特徴とする、請求項１０に廃液の処理装置。   11. The waste liquid treatment apparatus according to claim 10, further comprising a concentration tank for concentrating and reducing the volume of the waste liquid after the halogen compound is removed. スクラバー処理装置を具え、前記廃液はスクラバー廃液であることを特徴とする、請求項１０又は１１に記載の廃液の処理装置。   The waste liquid treatment apparatus according to claim 10 or 11, further comprising a scrubber treatment apparatus, wherein the waste liquid is a scrubber waste liquid. 前記廃液を、前記スクラバー処理装置と前記濃縮槽との間に循環させるための循環ラインを具えることを特徴とする、請求項１２に記載の廃液の処理装置。   The waste liquid treatment apparatus according to claim 12, further comprising a circulation line for circulating the waste liquid between the scrubber treatment apparatus and the concentration tank. 前記吸着物質は、ハイドロタルサイト様物質、シュベルトマナイト、エトリンガイト、及びモノサルフェートからなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする、請求項１０〜１３のいずれか一に記載の廃液の処理装置。   The waste liquid according to any one of claims 10 to 13, wherein the adsorbing substance is at least one selected from the group consisting of hydrotalcite-like substances, schwertmannite, ettringite, and monosulfate. Processing equipment. 前記処理装置は、バッチ式の処理装置であることを特徴とする、請求項１０〜１４のいずれか一に記載の廃液の処理装置。   15. The waste liquid processing apparatus according to claim 10, wherein the processing apparatus is a batch type processing apparatus. 前記処理装置は、カラム式の処理装置であることを特徴とする、請求項１０〜１４のいずれか一に記載の廃液の処理装置。   15. The waste liquid treatment apparatus according to claim 10, wherein the treatment apparatus is a column type treatment apparatus. 前記吸着装置の前段に、炭酸イオンを分離除去するための前処理反応槽及び固液分離装置を具えることを特徴とする、請求項１０〜１６のいずれか一に記載の廃液の処理装置。   The waste liquid treatment device according to any one of claims 10 to 16, further comprising a pretreatment reaction tank and a solid-liquid separation device for separating and removing carbonate ions in a front stage of the adsorption device. 前記前処理反応槽には、反応槽へ薬剤を投入するためのバッファタンク及び投入配管が設けられていることを特徴とする、請求項１７に記載の廃液の処理装置。   The waste liquid treatment apparatus according to claim 17, wherein the pretreatment reaction tank is provided with a buffer tank and an introduction pipe for introducing a chemical into the reaction tank.
JP2010034185A 2009-10-26 2010-02-19 Waste liquid treatment method and treatment apparatus Active JP5320323B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010034185A JP5320323B2 (en) 2009-10-26 2010-02-19 Waste liquid treatment method and treatment apparatus

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009245187 2009-10-26
JP2009245187 2009-10-26
JP2010034185A JP5320323B2 (en) 2009-10-26 2010-02-19 Waste liquid treatment method and treatment apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011115772A true JP2011115772A (en) 2011-06-16
JP5320323B2 JP5320323B2 (en) 2013-10-23

Family

ID=44281747

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010034185A Active JP5320323B2 (en) 2009-10-26 2010-02-19 Waste liquid treatment method and treatment apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5320323B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017202442A (en) * 2016-05-11 2017-11-16 日立Ｇｅニュークリア・エナジー株式会社 System and method for treating water
JP2018205276A (en) * 2017-06-09 2018-12-27 日立Ｇｅニュークリア・エナジー株式会社 Treatment method and treatment device for radioactive waste liquid

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101619073B1 (en) 2014-09-05 2016-05-10 한국원자력연구원 Double scrubber apparatus for controlling revolatilization of volatility radioactive substance

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59179187A (en) * 1983-03-30 1984-10-11 Nippon Atom Ind Group Co Ltd Chlorine ion remover in radioactive waste liquid
JPS60218098A (en) * 1984-04-13 1985-10-31 株式会社東芝 Method and device for removing chlorine ion in radioactive waste liquor
JPH1157786A (en) * 1997-08-11 1999-03-02 Toshiba Corp Treatment of waste liquor from incinerator scrubber and equipment therefor
JP2005193167A (en) * 2004-01-08 2005-07-21 Sophia Co Ltd Drainage purification method and purification method
JP2006016569A (en) * 2004-07-05 2006-01-19 Tosoh Corp Crosslinked copolymer and fluorine ion adsorbent comprising the same
JP2007209886A (en) * 2006-02-09 2007-08-23 Bokuto Kasei Kogyo Kk Fluorine removing agent, and method and apparatus for treating drain containing fluorine using the agent

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59179187A (en) * 1983-03-30 1984-10-11 Nippon Atom Ind Group Co Ltd Chlorine ion remover in radioactive waste liquid
JPS60218098A (en) * 1984-04-13 1985-10-31 株式会社東芝 Method and device for removing chlorine ion in radioactive waste liquor
JPH1157786A (en) * 1997-08-11 1999-03-02 Toshiba Corp Treatment of waste liquor from incinerator scrubber and equipment therefor
JP2005193167A (en) * 2004-01-08 2005-07-21 Sophia Co Ltd Drainage purification method and purification method
JP2006016569A (en) * 2004-07-05 2006-01-19 Tosoh Corp Crosslinked copolymer and fluorine ion adsorbent comprising the same
JP2007209886A (en) * 2006-02-09 2007-08-23 Bokuto Kasei Kogyo Kk Fluorine removing agent, and method and apparatus for treating drain containing fluorine using the agent

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017202442A (en) * 2016-05-11 2017-11-16 日立Ｇｅニュークリア・エナジー株式会社 System and method for treating water
JP2018205276A (en) * 2017-06-09 2018-12-27 日立Ｇｅニュークリア・エナジー株式会社 Treatment method and treatment device for radioactive waste liquid

Also Published As

Publication number Publication date
JP5320323B2 (en) 2013-10-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5883675B2 (en) Treatment method of radioactive liquid waste
JP5880851B2 (en) Radionuclide decontamination system and radionuclide decontamination method
US20140178282A1 (en) Radionuclide Adsorbent, Method of Producing Radionuclide Adsorbent and Production Apparatus Thereof
Hansen et al. Use of iron oxide-coated sand to remove strontium from simulated Hanford tank wastes
JP5320323B2 (en) Waste liquid treatment method and treatment apparatus
JP2014163843A (en) Cleaning acid recycling method and recycling facility
JP5684102B2 (en) Method and apparatus for treating radioactive cesium-containing material
JP5044178B2 (en) Radionuclide-containing waste liquid treatment method and apparatus
JP2015160888A (en) Treatment method and treatment equipment of used ion exchange resin
JP6587973B2 (en) Apparatus and method for treating radioactive liquid waste
JP2010107450A (en) Method and system for treating used ion exchange resin
JP2012247407A (en) Precipitation removal technology of radioactivity from high-level radiation-contaminated water and purification technology of water
JP2009162646A (en) Method for treating used ion-exchange resin
JP2004045371A (en) Processing method and device for liquid including radionuclide
JP2020008498A (en) Method of decontaminating contaminated water containing radioactive iodine
JP2014001991A (en) Radioactive nuclide removing system and radioactive nuclide removing method
JP2013156130A (en) Radioactive waste liquid treatment method and radioactive waste liquid treatment apparatus
JP6898627B2 (en) Carbonated layered double hydroxide regeneration method and acidic exhaust gas treatment equipment
JP4987900B2 (en) Waste liquid treatment apparatus and method
JP2012093284A (en) Radioactive effluent treatment method and treatment equipment
JP2019070581A (en) Contamination water processing method, contamination water processing system and sodium compound addition device used therefor
JP6074242B2 (en) Radiocesium decontamination method and apparatus
JP7128139B2 (en) Radioactive waste liquid treatment method and radioactive waste liquid treatment system
JP6175354B2 (en) Method and apparatus for treating contaminated water
JP6534752B1 (en) Radioactive waste liquid treatment system

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110812

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120224

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120327

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120509

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130129

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130426

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20130508

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130621

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130712

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5320323

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151