JP2011099653A5 - - Google Patents
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前記目的を達成するために、本発明の塗布フィルムの製造方法は、走行するフィルム上に溶剤と低分子量化合物が含まれる塗布液を塗布し、該塗布液を搬送ローラが備えられた加熱乾燥ゾーンで前記低分子量化合物の融点以上の気流を送り込み加熱乾燥することで、塗布フィルムを製造する塗布フィルムの製造方法であって、前記加熱乾燥ゾーンのフィルム入口又はフィルム出口では、走行するフィルムの下方側に、該加熱乾燥ゾーンのグラウンドレベルと略平行方向に板部材を配設することで、塗布膜から揮発して冷えた溶剤ガス雰囲気を前記搬送ローラの位置に滞留させて該搬送ローラに結露が発生しないようにすることを特徴とする。そして、本発明の塗布フィルムの製造装置は、走行するフィルム上に溶剤と低分子量化合物が含まれる塗布液を塗布する塗布装置と、該塗布液を前記低分子量化合物の融点以上の気流を送り込み加熱乾燥する搬送ローラが備えられた加熱乾燥装置と、を備えた塗布フィルムの製造装置であって、前記加熱乾燥装置のフィルム入口又はフィルム出口であって、走行するフィルムの下方側に、該加熱乾燥装置のグラウンドレベルと略平行方向な板部材を配設することを特徴とする。
前記目的を達成するために、本発明の塗布フィルムの製造方法は、走行するフィルム上に溶剤と低分子量化合物が含まれる塗布液を塗布し、該塗布液を搬送ローラが備えられた加熱乾燥ゾーンで前記低分子量化合物の融点以上の気流を送り込み加熱乾燥することで、塗布フィルムを製造する塗布フィルムの製造方法であって、前記加熱乾燥ゾーンでは、走行するフィルムの下方側に、該加熱乾燥ゾーンのグラウンドレベルと略垂直方向に板部材を配設することで、塗布膜から揮発して冷えた溶剤ガス雰囲気を前記搬送ローラの位置に滞留させて該搬送ローラに結露が発生しないようにすることを特徴とする。そして、本発明の塗布フィルムの製造装置は、走行するフィルム上に溶剤と低分子量化合物が含まれる塗布液を塗布する塗布装置と、該塗布液を前記低分子量化合物の融点以上の気流を送り込み加熱乾燥する搬送ローラが備えられた加熱乾燥装置と、を備えた塗布フィルムの製造装置であって、前記加熱乾燥装置内には、前記走行するフィルムの下方側に、グラウンドレベルに略鉛直方向な板部材を配設することを特徴とする。
Claims (2)
- 走行するフィルム上に溶剤と低分子量化合物が含まれる塗布液を塗布し、該塗布液を搬送ローラが備えられた加熱乾燥ゾーンで前記低分子量化合物の融点以上の気流を送り込み加熱乾燥することで、塗布フィルムを製造する塗布フィルムの製造方法であって、
前記加熱乾燥ゾーンのフィルム入口又はフィルム出口では、走行するフィルムの下方側に、該加熱乾燥ゾーンのグラウンドレベルと略平行方向に板部材を配設することで、塗布膜から揮発して冷えた溶剤ガス雰囲気を前記搬送ローラの位置に滞留させて該搬送ローラに結露が発生しないようにすることを特徴とする塗布フィルムの製造方法。 - 走行するフィルム上に溶剤と低分子量化合物が含まれる塗布液を塗布し、該塗布液を搬送ローラが備えられた加熱乾燥ゾーンで前記低分子量化合物の融点以上の気流を送り込み加熱乾燥することで、塗布フィルムを製造する塗布フィルムの製造方法であって、
前記加熱乾燥ゾーンでは、走行するフィルムの下方側に、該加熱乾燥ゾーンのグラウンドレベルと略垂直方向に板部材を配設することで、塗布膜から揮発して冷えた溶剤ガス雰囲気を前記搬送ローラの位置に滞留させて該搬送ローラに結露が発生しないようにすることを特徴とする塗布フィルムの製造方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009256045A JP5419642B2 (ja) | 2009-11-09 | 2009-11-09 | 塗布フィルムの製造方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2009256045A JP5419642B2 (ja) | 2009-11-09 | 2009-11-09 | 塗布フィルムの製造方法及び装置 |
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JP2008137002A (ja) * | 2006-11-07 | 2008-06-19 | Fujifilm Corp | 塗布膜の乾燥方法及び装置、並びにそれを用いた光学フイルム |
JP2009236355A (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Fujifilm Corp | 乾燥方法及び装置 |
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2009
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