JP2011095771A5 - セルロースアシレートフイルムの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明はセルロースアシレートフイルムの製造方法に関する。
本発明の課題を解決する手段は以下の通りである。
(1)フイルムの厚み方向においてセルロースアシレートの置換度が2.00〜3.00の範囲内で0.05以上変動している透明なセルロースアシレートフイルムを少なくとも一方向に延伸処理することを特徴とするセルロースアシレートフイルムの製造方法。
(2)セルロースアシレートフイルムがさらにレターデーション上昇剤を含むことを特徴とする(1)に記載のセルロースアシレートフイルムの製造方法。
(3)セルロースアシレートフイルムの置換度が低い側に残留溶剤がある状態で延伸処理する(1)に記載のセルロースアシレートフイルムの製造方法。
(1)フイルムの厚み方向においてセルロースアシレートの置換度が2.00〜3.00の範囲内で0.05以上変動している透明なセルロースアシレートフイルムを少なくとも一方向に延伸処理することを特徴とするセルロースアシレートフイルムの製造方法。
(2)セルロースアシレートフイルムがさらにレターデーション上昇剤を含むことを特徴とする(1)に記載のセルロースアシレートフイルムの製造方法。
(3)セルロースアシレートフイルムの置換度が低い側に残留溶剤がある状態で延伸処理する(1)に記載のセルロースアシレートフイルムの製造方法。
(4)製造されたセルロースアシレートフイルムが下記式(I)、(II)および(III)を満足する光学異方性を有することを特徴とする(1)に記載のセルロースアシレートフイルムの製造方法:
(I)0.40<{Re/Rth(450)}/{Re/Rth(550)}<0.95(II)1.05<{Re/Rth(650)}/{Re/Rth(550)}<1.93(III)70nm<Rth(550)<400nm
[式中、Re/Rth(450)は、波長450nmで測定した面内のレターデーション値/波長450nmで測定した厚み方向のレターデーション値の比であり;Re/Rth(550)は、波長550nmで測定した面内のレターデーション値/波長550nmで測定した厚み方向のレターデーション値の比であり;Re/Rth(650)は、波長650nmで測定した面内のレターデーション値/波長650nmで測定した厚み方向のレターデーション値の比であり;そして、Rth(550)は、波長550nmで測定した厚み方向のレターデーション値である]。
(5)二層以上の共流延によりセルロースアシレートフイルムを形成し、これにより一つの層に含まれるセルロースアシレートの置換度と別の層に含まれるセルロースアシレートの置換度との差を0.05以上にすることを特徴とする(1)に記載のセルロースアシレートフイルムの製造方法。
(I)0.40<{Re/Rth(450)}/{Re/Rth(550)}<0.95(II)1.05<{Re/Rth(650)}/{Re/Rth(550)}<1.93(III)70nm<Rth(550)<400nm
[式中、Re/Rth(450)は、波長450nmで測定した面内のレターデーション値/波長450nmで測定した厚み方向のレターデーション値の比であり;Re/Rth(550)は、波長550nmで測定した面内のレターデーション値/波長550nmで測定した厚み方向のレターデーション値の比であり;Re/Rth(650)は、波長650nmで測定した面内のレターデーション値/波長650nmで測定した厚み方向のレターデーション値の比であり;そして、Rth(550)は、波長550nmで測定した厚み方向のレターデーション値である]。
(5)二層以上の共流延によりセルロースアシレートフイルムを形成し、これにより一つの層に含まれるセルロースアシレートの置換度と別の層に含まれるセルロースアシレートの置換度との差を0.05以上にすることを特徴とする(1)に記載のセルロースアシレートフイルムの製造方法。
Claims (5)
- フイルムの厚み方向においてセルロースアシレートの置換度が2.00〜3.00の範囲内で0.05以上変動している透明なセルロースアシレートフイルムを少なくとも一方向に延伸処理することを特徴とするセルロースアシレートフイルムの製造方法。
- セルロースアシレートフイルムがさらにレターデーション上昇剤を含むことを特徴とする請求項1に記載のセルロースアシレートフイルムの製造方法。
- セルロースアシレートフイルムの置換度が低い側に残留溶剤がある状態で延伸処理する請求項1に記載のセルロースアシレートフイルムの製造方法。
- 製造されたセルロースアシレートフイルムが下記式(I)、(II)および(III)を満足する光学異方性を有することを特徴とする請求項1に記載のセルロースアシレートフイルムの製造方法:
(I)0.40<{Re/Rth(450)}/{Re/Rth(550)}<0.95
(II)1.05<{Re/Rth(650)}/{Re/Rth(550)}<1.93
(III)70nm<Rth(550)<400nm
[式中、Re/Rth(450)は、波長450nmで測定した面内のレターデーション値/波長450nmで測定した厚み方向のレターデーション値の比であり;Re/Rth(550)は、波長550nmで測定した面内のレターデーション値/波長550nmで測定した厚み方向のレターデーション値の比であり;Re/Rth(650)は、波長650nmで測定した面内のレターデーション値/波長650nmで測定した厚み方向のレターデーション値の比であり;そして、Rth(550)は、波長550nmで測定した厚み方向のレターデーション値である]。 - 二層以上の共流延によりセルロースアシレートフイルムを形成し、これにより一つの層に含まれるセルロースアシレートの置換度と別の層に含まれるセルロースアシレートの置換度との差を0.05以上にすることを特徴とする請求項1に記載のセルロースアシレートフイルムの製造方法。
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JP2011008042A JP2011095771A (ja) | 2011-01-18 | 2011-01-18 | セルロースアシレートフイルム、光学補償フイルム、偏光板および液晶表示装置 |
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