JP2011086764A - 基板支持部材、搬送装置、露光装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents
基板支持部材、搬送装置、露光装置、及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011086764A JP2011086764A JP2009238413A JP2009238413A JP2011086764A JP 2011086764 A JP2011086764 A JP 2011086764A JP 2009238413 A JP2009238413 A JP 2009238413A JP 2009238413 A JP2009238413 A JP 2009238413A JP 2011086764 A JP2011086764 A JP 2011086764A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- support member
- substrate support
- tray
- space
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
【課題】載置ずれや変形を生じさせることなく基板の受け渡しを行うこと。
【解決手段】基板を保持する基板保持装置9は、基板が載置される複数の保持部31と、複数の保持部31を区画する凹部30と、凹部30と載置部31の背部空間とを連通させる複数の連通孔40と、を備える。
【選択図】図4
【解決手段】基板を保持する基板保持装置9は、基板が載置される複数の保持部31と、複数の保持部31を区画する凹部30と、凹部30と載置部31の背部空間とを連通させる複数の連通孔40と、を備える。
【選択図】図4
Description
本発明は、基板支持部材、搬送装置、露光装置、及びデバイス製造方法に関するものである。
フラットパネルディスプレイ等の電子デバイスの製造工程においては、露光装置や検査装置等の大型基板の処理装置が用いられている。これらの処理装置を用いた露光工程、検査工程では、大型基板(例えばガラス基板)を処理装置に搬送する下記特許文献に開示されるような搬送装置が用いられる。
ところで、上述の大型基板の搬送装置においては、基板支持部材に支持された基板を基板保持部へ受け渡した際に基板と基板保持部との間に空気の層が介在することで、受け渡し後の基板に変形が生じたり、基板保持部上の所望の載置位置に対して基板の載置ずれが生じる場合がある。受け渡し後の基板に載置ずれや変形が生じると、例えば露光装置では、基板上の適正な位置に所定の露光を行うことができなくなる等の露光不良の問題が生じる。基板の載置ずれや変形が生じた場合、それを解消するために例えば基板の受け渡しをやり直すことにより、基板の処理が遅延するという問題が生じる。また、受け渡し後に空気の層を残留させないように、例えば基板の受け渡し速度を低くすると、さらに基板の処理が遅延するという問題が生じてしまう。
本発明の態様は、載置ずれや変形を生じさせることなく基板の受け渡しを行うことができる基板支持部材、搬送装置、露光装置、及びデバイス製造方法を提供することを目的としている。
本発明の第1の態様に従えば、基板を支持する基板支持部材であって、少なくとも1つの開口部を形成し、該少なくとも1つの開口部に対向する前記基板を支持するフレーム部を備え、前記フレーム部は、当該フレーム部が支持する前記基板と前記少なくとも1つの開口部とによって画定される第1の空間と該第1の空間とは異なる第2の空間とを前記基板の表面に沿った方向に連通させる連通路が設けられている基板支持部材が提供される。
本発明の第2の態様に従えば、基板を支持する基板支持部材であって、少なくとも1つの開口部を形成し、該少なくとも1つの開口部に対向する前記基板を支持するフレーム部を備え、前記フレーム部は、前記少なくとも1つの開口部と当該フレーム部が支持する前記基板とによって画定される第1の空間の気体を該第1の空間とは異なる第2の空間へ前記基板の表面に沿った方向に通気させる通気路が設けられている基板支持部材が提供される。
本発明の第3の態様に従えば、所定面に沿って基板を支持する基板支持部材であって、
前記所定面に沿って第1及び第2の開口部を形成し、前記第1及び第2の開口部を前記所定面に沿った方向に互いに連通させる連通路が設けられたフレーム部を備える基板支持部材が提供される。
前記所定面に沿って第1及び第2の開口部を形成し、前記第1及び第2の開口部を前記所定面に沿った方向に互いに連通させる連通路が設けられたフレーム部を備える基板支持部材が提供される。
本発明の第4の態様に従えば、基板を保持する基板保持部に前記基板を搬送する搬送装置において、前記基板を支持した本発明の基板支持部材を保持して前記基板保持部の上面に向けて降下させる降下駆動部を備える搬送装置が提供される。
本発明の第5の態様に従えば、露光光で基板を露光する露光装置であって、前記基板を保持する基板保持部を有し、該基板保持部に保持した前記基板を前記露光光の照射領域に移動させる基板保持装置と、前記基板保持装置に前記基板を搬送する本発明の搬送装置と、を備える露光装置が提供される。
本発明の第6の態様に従えば、本発明の露光装置を用いて、前記基板に前記パターンを転写することと、前記パターンが転写された前記基板を該パターンに基づいて加工することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
本発明の態様によれば、載置ずれや変形を生じさせることなく基板の受け渡しを行うことができる。
本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、本発明はこれに限定されることはない。以下では、本発明に係る搬送装置を備え、感光剤を塗布された基板に対して液晶表示デバイス用パターンを露光する露光処理を行う露光装置について説明するとともに、本発明に係る基板支持部材、及びデバイス製造方法の一実施形態についても説明する。
図1は、本実施形態の露光装置の概略構成を示す断面平面図である。露光装置1は、基板に液晶表示デバイス用パターンを露光する露光装置本体3と、搬送ロボット4と、搬出入部5と、を備えており、これらは高度に清浄化され、且つ所定温度に調整されたチャンバ2内に収められている。本実施形態において、基板は、大型のガラスプレートであり、その一辺のサイズは、例えば500mm以上である。
図2は、露光装置本体3、及びこの露光装置本体3に基板Pを搬送する搬送ロボット4の外観斜視図である。露光装置本体3は、マスクMを露光光ILで照明する不図示の照明系と、液晶表示デバイス用パターンが形成されたマスクMを保持する不図示のマスクステージと、このマスクステージの下方に配置された投影光学系PLと、投影光学系PLの下方に配置されたベース8上を2次元的に移動可能に設けられた基板ホルダとしてのプレートホルダ(基板保持部)9と、プレートホルダ9を保持するとともに該プレートホルダ9を移動させる移動機構33とを備えている。すなわち、露光装置本体3は、プレートホルダ9と移動機構33とを備えたステージ装置が設けられている。
なお、以下の説明においては、ベース8に対するプレートホルダ9の2次元的な移動が水平面内で行われるものとし、この水平面内で互いに直交する方向にX軸およびY軸を設定している。基板Pに対するプレートホルダ9の保持面は、基準の状態(例えば、基板Pの受け渡しを行う時の状態)において水平面に平行とされる。また、X軸およびY軸と直交する方向にZ軸を設定しており、投影光学系PLの光軸はZ軸に平行とされている。なお、X軸、Y軸およびZ軸まわりの各方向を、それぞれθX方向、θY方向およびθZ方向と呼ぶ。
移動機構33は、移動機構本体35と、移動機構本体35上に配置され、プレートホルダ9を保持するプレートテーブル34とを有する。移動機構本体35は、気体軸受によって、ガイド面8a(ベース8の上面)に非接触で支持されており、ガイド面8a上をXY方向に移動可能である。露光装置本体3は、基板Pを保持した状態で、光射出側(投影光学系PLの像面側)において、ガイド面8aの所定領域内を移動可能である。
移動機構本体35は、例えばリニアモータ等のアクチュエータを含む粗動システム(移動機構)の作動により、ガイド面8a上でXY平面内を移動可能である。プレートテーブル34は、例えばボイスコイルモータ等のアクチュエータを含む微動システムの作動により、移動機構本体35に対してZ軸、θX、θY方向に移動可能である。プレートテーブル34は、粗動システム及び微動システムを含む基板ステージ駆動システムの作動により、基板Pを保持した状態で、X軸、Y軸、Z軸、θX、θY、およびθZ方向の6つの方向に移動可能である。
搬送ロボット4は、露光装置本体3および搬出入部5に対して基板Pを搬送するためのものである。搬送ロボット4は、後述のトレイ(基板支持部材)Tを介して支持した基板Pを搬送する。
露光装置1は、上記プレートホルダ9上に長方形の基板Pが載置された状態でステップ・アンド・スキャン方式の露光が行われ、マスクMに形成されたパターンが基板P上の複数、例えば4つの露光領域(パターン転写領域)に順次転写されるようになっている。すなわち、この露光装置1では、照明系からの露光光ILにより、マスクM上のスリット状の照明領域が照明された状態で、不図示のコントローラによって不図示の駆動系を介して、マスクMを保持するマスクステージと基板Pを保持するプレートホルダ9とを同期して所定の走査方向(ここではY軸方向とする)に移動させることにより、基板P上の1つの露光領域にマスクMのパターンが転写される、すなわち走査露光が行われる。なお、本実施形態に係る露光装置1は、投影光学系PLが複数の投影光学モジュールを有し、上記照明系が複数の投影光学モジュールに対応する複数の照明モジュールを含む、所謂マルチレンズ型スキャン露光装置を構成するものである。
この1つの露光領域の走査露光の終了後に、プレートホルダ9を次の露光領域の走査開始位置まで所定量X方向に移動するステッピング動作が行われる。そして、露光装置本体3では、このような走査露光とステッピング動作を繰り返し行うことにより、順次4つの露光領域にマスクMのパターンが転写される。
搬送ロボット4は、例えば水平関節型構造を有するものであり、垂直な関節軸を介して連結された複数部分からなるアーム部(移送装置)10と、このアーム部10の先端に連結される搬送ハンド12と、駆動装置13と、を備えている。アーム部10は、駆動装置(上昇駆動部、降下駆動部)13により例えば上下方向(Z軸方向)に移動可能となっている。駆動装置13は、不図示の制御装置により、その駆動が制御されている。これにより搬送ロボット4は基板Pをプレートホルダ9に受け渡すようになっている。
なお、この搬送ロボット4は、図2には便宜上図示していないが、搬送ハンド12の下方に設けられ、この搬送ハンド12と同様の機構を有し、且つ独立駆動可能な搬送ハンドを備えたダブルアーム構造になっている。また、搬送ロボット4は、水平関節型構造のロボットに限定されるものではなく、公知のロボット(一般には搬送機構)を適宜採用もしくは組み合わせて実現可能なものである。
搬出入部5は、図1に示すように、露光装置1に隣接配置されたコータ・デベロッパ(不図示)において感光剤が塗布された基板Pが搬入されて受け渡しされるとともに、搬入された基板Pの温度を調整する搬入ポートとしてのホルダ17と、このホルダ17の上方に配置され、露光装置1で露光処理が施された基板Pが受け渡される搬出ポートとしてのホルダ15とから概略構成されている(図1ではホルダ15のみが図示されている)。また、これらホルダ15、17は、θZ方向(Z軸周り)に回転可能になっており、搬送ハンド12に対する相対的な回転方向の位置補正をしたり、基板Pを90度回転させることができる。
次に、トレイTの構造について詳述する。図3は、トレイTの平面構造を示す図である。トレイTは、図3に示すように縦横の所定間隔で格子状に張り巡らされた複数本の線状部材19により全体として略矩形形状に形成されたフレーム構造からなる支持部20(図3上で、基板Pの内部に示されている矩形形状のフレーム構造のうち最大のもの)を備えている。また、複数本の線状部材19によって構成される各格子の内部には、いずれもが基板Pよりも小さい四角形の開口部21が複数形成されている。これらの複数本の線状部材19は、ここでは相互に溶接され、あるいは格子状に組み合わされている。なお、トレイTの形状は図3に示す形状に限定されることはなく、例えば開口部21が一つのみ形成された、基板Pの周縁部のみを支持する枠状の単一フレームであってもよい。
支持部20の四辺には、それぞれつば部18が突設されている。この4つのつば部18のうち、対向する2辺のつば部18が搬送ロボット4の搬送ハンド12によって下方から保持される(図2参照)。すなわち、本実施形態における搬送ロボット4は、トレイTを介して基板Pを支持するとともに、基板Pを所定の位置に搬送するようになっている。
トレイTは、支持部20のうち基板Pに対向する端面(本実施形態では、上面20aと称す)に切欠部40が形成されている。トレイTの厚みは、例えば22mmであり、切欠部40の深さは、例えば6〜7mmである。
本実施形態では、開口部21の周囲長Lに対して切欠部40の長さL1の合計が占める割合が、周囲長Lに対して非切欠部の長さL2の合計が占める割合より多くなっている。これにより、各開口部21は、基板Pの表面に沿った方向において隣接する他の第1の空間A1あるいは第2の空間A2と良好に連通した状態となっている。
この切欠部40は、支持部20が支持する基板Pと開口部21とによって画定される第1の空間A1と、この第1の空間A1とは異なる第2の空間A2とを基板Pの表面に沿った方向に連通させる連通路Rを構成するためのものである。ここで、第2の空間A2とは、図3に示される支持部20の基板表面に沿う方向における外側であって外部に開放された空間を意味する。すなわち、第2の空間A2は、つば部18の外側の領域に加え、支持部20とつば部18との間に形成され、一部が基板Pに平面的に覆われている開口部21内の領域を含む。
連通路Rは、互いに交差する少なくとも2方向に沿うように支持部20に形成されている。具体的に本実施形態では、複数の連通路Rが支持部20の縦横に渡って形成されている。これにより、連通路Rは、支持部20の中央の開口部21によって画定される第1の空間A1と第2の空間A2とを通気させた状態としている。すなわち、連通路Rは、第1の空間A1の空気を第2の空間A2へ基板Pの表面に沿った方向に通気させる通気路として機能するものである。
したがって、連通路Rは、基板Pがプレートホルダ9に受け渡される場合において、第1の空間A1の空気を第2の空間A2に排気することで基板Pとプレートホルダ9との間に空気の層が形成されてしまうのを防止するようになっている。
なお、トレイTの形成材料としては、トレイTが基板Pを支持した際に基板Pの自重による撓みを抑制することが可能な材料を用いることが好ましく、例えば各種合成樹脂、あるいは金属を用いることができる。具体的には、ナイロン、ポリプロピレン、AS樹脂、ABS樹脂、ポリカーボネート、繊維強化プラスチック、ステンレス鋼等が挙げられる。繊維強化プラスチックとしては、GFRP(Glass Fiber Reinforced Plastic:ガラス繊維強化熱硬化性プラスチック)やCFRP(Carbon Fiber Reinforced Plastic:炭素繊維強化熱硬化性プラスチック)が挙げられる。また、格子状に張り巡らされる線状部材19は、ワイヤー等の柔軟性に優れた部材を用いて形成してもよい。
一方、プレートホルダ9の上面には、図2に示されるように、トレイTを保持する溝部(凹部)30が形成されている。溝部30は、トレイTのフレーム構造に対応して格子状に設けられている。また、プレートホルダ9の上面には、溝部30が形成されることにより、基板Pの保持部(基板載置部)31が島状に複数設けられている。保持部31は、トレイTの開口部21に対応する大きさを有している。トレイTの厚さは、溝部30の深さよりも小さくなっている。これにより、図4に示すように、トレイTが溝部30内に挿入されて沈み込むことで、開口部21から保持部31が突出された状態となり、トレイT上に載置されている基板Pのみが保持部31に受け渡されるようになっている。
図3に示したように、トレイTのうち支持部20の下面側の四隅には円錐状の凹部41が形成され、溝部30内で各凹部41に対応する位置には、凹部41に係合する球状の突部42が設けられている。支持部20が溝部30に挿入された際、支持部20の凹部41内にプレートホルダ9の突部42が係合することで溝部30に収容されたトレイTにガタツキが生じるのが防止される。
また、保持部31の上面は、基板Pに対するプレートホルダ9の実質的な保持面が良好な平面度を有するように仕上げられている。さらに、保持部31の上面には、基板Pをこの面に倣わせて密着させるための吸引孔Kが複数設けられている(図2参照)。各吸引孔Kは、不図示の真空ポンプに接続されている。
次に、露光装置1の動作について説明する。具体的には搬送ロボット4により基板Pを搬入及び搬出する方法について説明する。図5は搬送ロボット4の動作を説明するための斜視図であり、図6は基板Pをプレートホルダ9上に載置する際に−Y軸方向から視た図であり、図3に示されるA−A線矢視による断面に対応するものである。なお、図5においては搬送ハンド12のみを図示しており、搬送ロボット4の全体構成は省略している。また、図6においては、便宜上、トレイTを支持する搬送ハンド12等の図示を省略している。
ここでは、基板PをトレイTに載置し、このトレイTに載置された基板Pを搬送ロボット4で露光装置本体3に対して搬入、搬出する手順について説明する。なお、トレイTに対する基板Pの受け渡しは、ホルダ17の近傍に設けられた不図示の基板受け渡し装置、例えば支持棒及びその上下動機構のような構成部分を含み、トレイTの上方で一旦基板Pを支持し、下降して基板PをトレイTに移載する受け渡し装置で行われるものとする。
感光剤が塗布された基板Pがコータ・デベロッパからホルダ17に搬送されると、ホルダ17が回転してホルダ17上のトレイTを所定の姿勢に位置させる。
トレイTの位置が決まると、受け渡し装置の支持棒がトレイTの開口部21を通して上昇し、トレイTの上方で基板Pを下方から吸着支持する。
基板Pは上方でトレイTに対して正確に位置合わせされた後、支持棒が基板Pを吸着しながら下降することで、基板Pは位置決めされた状態で支持部20上に支持される。ここで、基板Pは、露光処理が実施される温度に調整される。
基板Pは上方でトレイTに対して正確に位置合わせされた後、支持棒が基板Pを吸着しながら下降することで、基板Pは位置決めされた状態で支持部20上に支持される。ここで、基板Pは、露光処理が実施される温度に調整される。
続いて、搬送ロボット4は、駆動装置13によりアーム部10及び搬送ハンド12を駆動させることでトレイTと一体的に温度調整済みの基板Pを保持する。搬送ハンド12はトレイTの下面側を支持しつつ上昇し、トレイTを介して支持した基板Pとホルダ17の上面とを離間させる。
続いて、搬送ロボット4は、搬送ハンド12の長手方向(基板Pの長辺方向)を露光装置本体3のプレートホルダ9側に向けるように搬送ハンド12の向きを変える。その後、図5に示されるように搬送ロボット4は、搬送ハンド12が保持しているトレイTをプレートホルダ9の上方に搬送する。
そして、図6(a)に示すように支持部20とプレートホルダ9の溝部30とを対向させる。このとき、プレートホルダ9の保持部31は、平面的に視た状態で、トレイTの開口部21内に配置された状態となる。
なお、搬送ハンド12は、基板Pの表面とプレートホルダ9の保持部31とがほぼ平行になるように基板Pを搬送する。ここで、ほぼ平行とは、自重による基板Pの撓みを排除した場合に平行もしくは平行に近い状態であることを意味している。具体的には、搬送ハンド12は、搬送ハンド12による基板Pの被保持部分と保持部31の基板載置面とがほぼ平行となるように基板Pを搬送する。
続いて、搬送ロボット4は、駆動装置13を駆動し、搬送ハンド12を下方(Z軸方向)に移動する。そして、搬送ハンド12はトレイTを溝部30内に収容するとともに、基板Pを保持部31へと受け渡す。
なお、本実施形態では、基板Pを鉛直方向に移動させることでプレートホルダ9に載置する場合について説明するが、本発明はプレートホルダ9の保持部31が水平状態に設置されることに限定されず、表面を鉛直方向に向けて配置されたプレートホルダ9に対し、基板Pを搬送する場合も含む。
ところで、従来基板をプレートホルダに載置する場合、基板の載置ずれ(所定の載置位置からの位置ずれ)や基板の変形が生じる可能性があった。この載置ずれが生じる原因の一つとして、例えば基板の載置直前に基板とプレートホルダとの間に生じる薄い空気層によって基板が浮遊状態となることが考えられる。また、基板の変形を生じさせる原因の一つとして、例えば基板を載置した後に基板とプレートホルダとの間に空気溜りが介在することで基板が膨らんだ状態となることが考えられる。
本実施形態によれば、搬送ハンド12の下降動作に伴って溝部30にトレイTが入り込む、すなわち第1の空間A1を画定するトレイTの開口部21に保持部31が入り込むにつれて、図6(b)に示されるように基板Pとプレートホルダ9との間(第1の空間A1)の空気100が支持部20の上面20aに形成された切欠部40により構成される連通路Rを通って基板Pの表面方向に沿う外部(第2の空間A2)に排気されるようになる。
また、支持部20が溝部30内に入り込むことで、当該溝部30から第1の空間A1に押し出された空気100についても連通路Rを通って第2の空間A2へと排気される。そして、最終的にトレイTが溝部30内に収容されることで、図6(c)に示されるように、基板Pは空気溜りを生じさせることなく保持部31に載置される。また、溝部30の底部に設けられた突部42がトレイTの支持部20の下面側の四隅に設けられた凹部41内に係合することにより、トレイTはガタツキを生じることなく溝部30に収容されたものとなる。
以上のように、基板Pとプレートホルダ9との間の空気は、トレイTの連通路Rを介して排気される。これにより、プレートホルダ9と基板Pとの間に空気溜りや薄い空気層が生じることを抑制できる。よって、その空気溜りや空気層に起因して基板Pが浮遊状態となること、および膨らんだ状態となることを抑制し、基板Pの載置ずれや変形の発生を防止することができる。このため、プレートホルダ9に対する基板Pの受け渡しを円滑に行うことができ、プレートホルダ9上に良好に基板Pを載置することができる。
また、本実施形態では、図3に示したようにトレイTの支持部20と交差するように連通路Rが複数形成されるので、通常、空気溜りが出来易い基板中央部からも空気を効率的に排気することができる。
プレートホルダ9への基板Pの受け渡しが完了すると、搬送ロボット4は搬送ハンド12をプレートホルダ9上から退避させる。
そして、プレートホルダ9に基板Pが載置されたら、マスクMは照明系により露光光ILで照明される。露光光ILで照明されたマスクMのパターンは、プレートホルダ9に載置されている基板Pに投影光学系PLを介して投影露光される。
露光装置1では、上述のようにプレートホルダ9上に良好に基板Pを載置することができるため、基板P上の適正な位置に所定の露光を高精度に行うことができ、信頼性の高い露光処理を実現できる。また、露光装置1では、上述のようにプレートホルダ9に対する基板Pの受け渡しを円滑に行うことができるため、基板Pに対する露光処理を遅延なく行うことができる。
そして、プレートホルダ9に基板Pが載置されたら、マスクMは照明系により露光光ILで照明される。露光光ILで照明されたマスクMのパターンは、プレートホルダ9に載置されている基板Pに投影光学系PLを介して投影露光される。
露光装置1では、上述のようにプレートホルダ9上に良好に基板Pを載置することができるため、基板P上の適正な位置に所定の露光を高精度に行うことができ、信頼性の高い露光処理を実現できる。また、露光装置1では、上述のようにプレートホルダ9に対する基板Pの受け渡しを円滑に行うことができるため、基板Pに対する露光処理を遅延なく行うことができる。
ところで、本実施形態においては、連通路Rの断面積を第2の空間A2に向かって漸次拡大されるようにすることも可能である。具体的には、図7に示すように連通路Rを構成する切欠部40がつば部18側に向かって漸次拡大するテーパー形状を有している。
この構造によれば、連通路Rを介して第1の空間A1内から第2の空間A2へと排気される空気の流速を高めることができ、連通路Rにおける排気効率を向上させることができる。したがって、プレートホルダ9に対する基板Pの受け渡しをより円滑に行うことができる。
次に、露光処理終了後のプレートホルダ9からの基板Pの搬出動作について説明する。なお、以下の説明では搬送ハンド12が基板Pの搬出を行うように説明するが、ダブルハンド構造のうちのもう1つの搬送ハンドが搬出を行うようにしてもよい。
露光処理が終了すると、搬送ロボット4は搬送ハンド12を駆動し、プレートホルダ9上に載置されたトレイTの下方でプレートホルダ9のX軸方向両側に搬送ハンド12を−Y方向側から挿入する。これと同時に、不図示の制御装置により真空ポンプによる吸引が解除され、プレートホルダ9による基板Pの吸着が解除される。
次に、駆動装置13により搬送ハンド12が所定量上方に駆動されると、搬送ハンド12がトレイTのつば部18の下面にそれぞれ当接し、さらに上方に搬送ハンド12が駆動されると、基板Pを支持するトレイTがプレートホルダ9の上方に持ち上げられ、支持部20がプレートホルダ9から離間する。このとき、本実施形態によれば上述のように基板Pの載置ずれや変形が防止されているため、トレイTを上方へ移動したときに基板PをトレイTの支持部20上に円滑に載置することができる。
この支持部20とプレートホルダ9とが離間する位置までトレイTが持ち上げられた時点で、基板Pを保持しているトレイTが搬送ハンド12によってプレートホルダ9上から退避される。このようにして、露光装置本体3に対する基板Pの搬出動作が完了する。
図8及び図9は、本発明の第2の実施形態に係る搬送装置の構成を示す図である。図8は本実施形態におけるトレイTを下面20b側から視た際の平面図であり、図9は基板Pをプレートホルダ9上に載置する際に−Y軸方向から視た図である。なお、図9においては、便宜上、トレイTを支持する搬送ハンド12の図示を省略している。また、本実施形態においては、上記実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。第2の実施形態と第1の実施形態とは、連通路Rを構成する切欠部140がトレイTに形成される位置が異なっている。
本実施形態においては、図8に示すように、トレイTの支持部20のうち基板Pに対向する端面と反対の下面20bに切欠部140が形成されている。トレイTの厚み及び切欠部140の深さは、第1の実施形態の切欠部40と同様である。この切欠部140は、支持部20が支持する基板Pと開口部21とによって画定される第1の空間A1と、この第1の空間A1とは異なる第2の空間A2とを基板Pの表面に沿った方向に連通させる連通路Rを構成するためのものである。本実施形態においても、複数の連通路Rが支持部20の縦横に渡って形成されており、これによって連通路Rは支持部20の中央の開口部21によって画定される第1の空間A1と第2の空間A2とを通気させた状態としている。
以下、本実施形態において、基板Pをプレートホルダ9に受け渡す動作について説明する。搬送ハンド12は、第1の実施形態と同様、トレイTを介して基板Pを支持しつつ、基板Pをプレートホルダ9の上方まで搬送する。
具体的に搬送ロボット4は、基板Pの表面とプレートホルダ9の保持部31の表面とが平行になるように搬送ハンド12によってトレイTを支持し、基板Pをプレートホルダ9の上方に搬送し、図9(a)に示すように支持部20とプレートホルダ9の溝部30とを対向させる。そして、搬送ハンド12の下降動作に伴ってプレートホルダ9の溝部30内にトレイTが配置される。
このとき、図9(b)に示されるように、第1の空間A1を画定するトレイTの開口部21に保持部31が入り込むにつれて基板Pとプレートホルダ9との間(第1の空間A1)の空気100が支持部20の下面20bに形成された切欠部40により構成される連通路Rを通って基板Pの表面方向に沿う外部(第2の空間A2)に排気されるようになる。
そして、最終的にトレイTは溝部30内に収容され、図9(c)に示されるように、空気溜りを生じさせることなく基板Pが保持部31に載置される。このとき、溝部30の底部に設けられた突部42がトレイTの支持部20の下面側の四隅に設けられた凹部41内に係合することにより、トレイTはガタツキを生じることなく溝部30に収容されたものとなる。
以上のように、基板Pとプレートホルダ9との間の空気は、第1の実施形態と同様、トレイTの連通路Rを介して排気される。このように本実施形態によれば、プレートホルダ9と基板Pとの間に空気溜りや薄い空気層が生じることを抑制し、基板Pの載置ずれや変形の発生を防止することができる。このため、プレートホルダ9に対する基板Pの受け渡しを円滑に行うことができ、プレートホルダ9上に良好に基板Pを載置することができる。
図10及び図11は、本発明の第3の実施形態に係る搬送装置の構成を示す図である。図10は本実施形態におけるトレイTの斜視構成を示す図であり、図11は基板Pをプレートホルダ9上に載置する際に−Y軸方向から視た図である。なお、図10においては、便宜上、トレイTを支持する搬送ハンド12の図示を省略している。また、本実施形態においては、上記実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。第3の実施形態と上記実施形態とは、連通路RがトレイTのフレーム構造を基板Pの表面に沿った方向に貫通する貫通孔によって構成される点が異なっている。
本実施形態におけるトレイTは、図10に示すように、支持部20を基板Pの表面に沿った方向に貫通する貫通孔150が形成されている。この貫通孔150は、上述した第1の空間A1と、第2の空間A2とを連通させる連通路Rを構成するためのものである。本実施形態においても、複数の連通路Rが支持部20の縦横に渡って形成されており、これによって連通路Rは支持部20の中央の開口部21によって画定される第1の空間A1と第2の空間A2とを通気させた状態としている。なお、トレイTに形成される連通路Rは、全てが貫通孔150により構成される必要は無く、第1の実施形態に係る切欠部40或いは第2の実施形態に係る切欠部140によってその一部が構成されていてもよい。
以下、本実施形態において、基板Pをプレートホルダ9に受け渡す動作について説明する。搬送ハンド12は、第1及び第2の実施形態と同様、トレイTを介して基板Pを支持しつつ、基板Pをプレートホルダ9の上方まで搬送する。
具体的に搬送ロボット4は、基板Pの表面とプレートホルダ9の保持部31の表面とが平行になるように搬送ハンド12によってトレイTを支持し、基板Pをプレートホルダ9の上方に搬送し、図11(a)に示すように支持部20とプレートホルダ9の溝部30とを対向させる。そして、搬送ハンド12の下降動作に伴ってプレートホルダ9の溝部30内にトレイTが配置される。
このとき、図11(b)に示されるように、第1の空間A1を画定するトレイTの開口部21に保持部31が入り込むにつれて基板Pとプレートホルダ9との間(第1の空間A1)の空気100が支持部20に形成された貫通孔150により構成される連通路Rを通って基板Pの表面方向に沿って外部(第2の空間A2)へと排気されるようになる。
そして、最終的にトレイTは溝部30内に収容されることで、図11(c)に示されるように、空気溜りを生じさせることなく基板Pが保持部31に載置される。このとき、溝部30の底部に設けられた突部42がトレイTの支持部20の下面側の四隅に設けられた凹部41内に係合することにより、トレイTはガタツキを生じることなく溝部30に収容されたものとなる。
以上のように、基板Pとプレートホルダ9との間の空気は、第1及び第2の実施形態と同様、トレイTの連通路Rを介して排気される。このように本実施形態によれば、プレートホルダ9と基板Pとの間に空気溜りや薄い空気層が生じることを抑制し、基板Pの載置ずれや変形の発生を防止することができる。このため、プレートホルダ9に対する基板Pの受け渡しを円滑に行うことができ、プレートホルダ9上に良好に基板Pを載置することができる。
図12及び図13は、本発明の第4の実施形態に係る搬送装置の構成を示す図である。図12は本実施形態におけるトレイTの平面構成を示す図であり、図13は基板Pをプレートホルダ9上に載置する際に−Y軸方向から視た図である。なお、図12においては、便宜上、トレイTを支持する搬送ハンド12の図示を省略している。また、本実施形態においては、上記実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。第4の実施形態と上述の実施形態とは、トレイTのフレーム構造を基板Pの表面に沿った方向に分割した不連続部により連通路Rの一部が構成される点が異なっている。
本実施形態におけるトレイTは、図12に示すように、支持部20を基板Pの表面に沿った方向に分割する不連続部160が形成されている。この不連続部160は、開口部21を区画する支持部20の一部を分断するものであり、上述した第1の空間A1と、第2の空間A2とを連通させる連通路Rの一部を構成するものである。本実施形態においては、連通路Rの端部が不連続部160により構成され、他の部分は第1の実施形態に係る切欠部40よって構成されている。なお、不連続部160、第2の実施形態に係る切欠部140、或いは第3の実施形態に係る貫通孔150を組み合わせることで連通路Rを構成することもできる。
以下、本実施形態において、基板Pをプレートホルダ9に受け渡す動作について説明する。搬送ハンド12は、第1乃至第3の実施形態と同様、トレイTを介して基板Pを支持しつつ、基板Pをプレートホルダ9の上方まで搬送する。
搬送ロボット4は、基板Pの表面とプレートホルダ9の保持部31の表面とが平行になるように搬送ハンド12によってトレイTを支持し、基板Pをプレートホルダ9の上方に搬送し、図13(a)に示すように支持部20とプレートホルダ9の溝部30とを対向させる。そして、搬送ハンド12の下降動作に伴ってプレートホルダ9の溝部30内にトレイTが配置される。
このとき、図13(b)に示されるように、第1の空間A1を画定するトレイTの開口部21に保持部31が入り込むにつれて基板Pとプレートホルダ9との間(第1の空間A1)の空気100が連通路Rを通って基板Pの表面方向に沿って外部に排気される。
そして、最終的にトレイTは溝部30内に収容され、図13(c)に示されるように、空気溜りを生じさせることなく基板Pが保持部31に載置される。このとき、溝部30の底部に設けられた突部42がトレイTの支持部20の下面側の四隅に設けられた凹部41内に係合することにより、トレイTはガタツキを生じることなく溝部30に収容されたものとなる。
本実施形態では、連通路Rの両端部が不連続部160となっているので、連通路Rを介して排気された第1の空間A1の空気を第2の空間A2に良好に排出することができる。したがって、プレートホルダ9に対する基板Pの受け渡しを円滑に行うことができ、プレートホルダ9上に良好に基板Pを載置することができる。
なお、上述の実施形態の基板Pとしては、ディスプレイデバイス用のガラス基板のみならず、半導体デバイス製造用の半導体ウエハ、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版(合成石英、シリコンウエハ)等が適用される。
また、露光装置としては、マスクMと基板Pとを同期移動してマスクMのパターンを介した露光光ILで基板Pを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置(スキャニングステッパ)の他に、マスクMと基板Pとを静止した状態でマスクMのパターンを一括露光し、基板Pを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置(ステッパ)にも適用することができる。
また、本発明は、米国特許第6341007号明細書、米国特許第6208407号明細書、米国特許第6262796号明細書等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置にも適用できる。
また、本発明は、米国特許第6897963号明細書、欧州特許出願公開第1713113号明細書等に開示されているような、基板を保持する基板ステージと、基板を保持せずに、基準マークが形成された基準部材及び/又は各種の光電センサを搭載した計測ステージとを備えた露光装置にも適用することができる。また、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置を採用することができる。
なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン(又は位相パターン・減光パターン)を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第6778257号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク(電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる)を用いてもよい。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしても良い。
上述の実施形態の露光装置は、本願請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。
各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図14に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ201、この設計ステップに基づいたマスク(レチクル)を製作するステップ202、デバイスの基材である基板を製造するステップ203、上述の実施形態に従って、マスクのパターンを用いて露光光で基板を露光すること、及び露光された基板(感光剤)を現像することを含む基板処理(露光処理)を含む基板処理ステップ204、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む)205、検査ステップ206等を経て製造される。なお、ステップ204では、感光剤を現像することで、マスクのパターンに対応する露光パターン層(現像された感光剤の層)を形成し、この露光パターン層を介して基板を加工することが含まれる。
なお、上述の実施形態及び変形例の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の実施形態及び変形例で引用した露光装置などに関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
P…基板、T…トレイ(基板支持部材)、IL…露光光、1…露光装置、4…搬送ロボット、9…プレートホルダ、13…駆動装置、30…溝部、30a…側壁部、30b…底面部、31…基板載置部、33…移動機構、40…連通孔、40a…第1連通孔、40b…第2連通孔、71…リブ、100…空気
Claims (24)
- 基板を支持する基板支持部材であって、
少なくとも1つの開口部を形成し、該少なくとも1つの開口部に対向する前記基板を支持するフレーム部を備え、
前記フレーム部は、当該フレーム部が支持する前記基板と前記少なくとも1つの開口部とによって画定される第1の空間と該第1の空間とは異なる第2の空間とを前記基板の表面に沿った方向に連通させる連通路が設けられている基板支持部材。 - 前記フレーム部は、格子状に形成されている請求項1記載の基板支持部材。
- 前記連通路は、互いに交差する少なくとも2方向に沿って設けられている請求項1又は2記載の基板支持部材。
- 前記連通路は、前記フレーム部のうち前記基板に対向する端面に形成された切欠部を含む請求項1〜3のいずれか一項に記載の基板支持部材。
- 前記連通路は、前記フレーム部のうち前記基板に対向する端面と反対の下面に形成された切欠部を含む請求項1〜4のいずれか一項に記載の基板支持部材。
- 前記開口部の周囲長に対して前記切欠部が占める割合は、該周囲長に対して非切欠部が占める割合より多い請求項4又は5に記載の基板支持部材。
- 前記連通路は、前記フレーム部を前記表面に沿った方向に貫通する貫通孔を含む請求項1〜5のいずれか一項に記載の基板支持部材。
- 前記連通路の断面積は、前記第2の空間に向かって漸次拡大している請求項1〜7のいずれか一項に記載の基板支持部材。
- 前記連通路は、前記第2の空間に向かって漸次拡大するテーパー形状を有する請求項8に記載の基板支持部材。
- 前記連通路は、前記フレーム部が前記表面に沿った方向に分割された不連続部を含む請求項1〜9のいずれか一項に記載の基板支持部材。
- 基板を支持する基板支持部材であって、
少なくとも1つの開口部を形成し、該少なくとも1つの開口部に対向する前記基板を支持するフレーム部を備え、
前記フレーム部は、前記少なくとも1つの開口部と当該フレーム部が支持する前記基板とによって画定される第1の空間の気体を該第1の空間とは異なる第2の空間へ前記基板の表面に沿った方向に通気させる通気路が設けられている基板支持部材。 - 所定面に沿って基板を支持する基板支持部材であって、
前記所定面に沿って第1及び第2の開口部を形成し、前記第1及び第2の開口部を前記所定面に沿った方向に互いに連通させる連通路が設けられたフレーム部を備える基板支持部材。 - 前記連通路は、互いに交差する少なくとも2方向に沿って設けられている請求項12記載の基板支持部材。
- 前記連通路は、前記フレーム部のうち前記所定面に沿った端面に形成された切欠部を含む請求項12又は13に記載の基板支持部材。
- 前記第1及び第2の開口部の周囲長に対して前記切欠部が占める割合は、該周囲長に対して非切欠部が占める割合より多い請求項14記載の基板支持部材。
- 前記連通路は、前記フレーム部を前記所定面に沿った方向に貫通する貫通孔を含む請求項12〜15のいずれか一項に記載の基板支持部材。
- 前記連通路は、前記フレーム部が前記表面に沿った方向に分割された不連続部を含む請求項12〜16のいずれか一項に記載の基板支持部材。
- 当該基板支持部材は、前記基板とともに基板保持部に搬送されて、該基板保持部の上面のうち前記基板が載置される基板載置部と異なる部分に配置される請求項1〜17のいずれか一項に記載の基板支持部材。
- 前記フレーム部は、前記基板保持部の上面のうち、前記開口部に対応する前記基板載置部を区画する凹部に配置される請求項18記載の基板支持部材。
- 基板を保持する基板保持部に前記基板を搬送する搬送装置において、
前記基板を支持した請求項1〜17のいずれか一項に記載の基板支持部材を保持して前記基板保持部の上面に向けて降下させる降下駆動部を備える搬送装置。 - 前記降下駆動部は、前記基板保持部の上面のうち前記基板が載置される基板載置部に前記基板支持部材から前記基板を受け渡し、前記基板保持部の上面のうち前記基板載置部と異なる部分に前記基板支持部材を配置する請求項20記載の搬送装置。
- 前記基板保持部の上面のうち前記異なる部分に配置された前記基板支持部材を保持して上昇させ、前記基板載置部に載置された前記基板を前記基板支持部材によって支持する上昇駆動部を備える請求項21記載の搬送装置。
- 露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記基板を保持する基板保持部を有し、該基板保持部に保持した前記基板を前記露光光の照射領域に移動させる基板保持装置と、
前記基板保持装置に前記基板を搬送する請求項20〜22のいずれか一項に記載の搬送装置と、を備える露光装置。 - 請求項23に記載の露光装置を用いて、前記基板にパターンを露光することと、
前記パターンが露光された前記基板を前記パターンに対応して加工することと、
を含むデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009238413A JP2011086764A (ja) | 2009-10-15 | 2009-10-15 | 基板支持部材、搬送装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009238413A JP2011086764A (ja) | 2009-10-15 | 2009-10-15 | 基板支持部材、搬送装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011086764A true JP2011086764A (ja) | 2011-04-28 |
Family
ID=44079503
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009238413A Pending JP2011086764A (ja) | 2009-10-15 | 2009-10-15 | 基板支持部材、搬送装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011086764A (ja) |
-
2009
- 2009-10-15 JP JP2009238413A patent/JP2011086764A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6780732B2 (ja) | 搬送装置、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
JP6245308B2 (ja) | 基板搬送方法、デバイス製造方法、基板搬送装置および露光装置 | |
JP5469852B2 (ja) | 搬送装置、搬送方法、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
TWI784972B (zh) | 曝光裝置、平板顯示器的製造方法、元件製造方法以及曝光方法 | |
US20110141448A1 (en) | Substrate carrier device, substrate carrying method, substrate supporting member, substrate holding device, exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method | |
CN110114725B (zh) | 搬运装置、曝光装置、平板显示器的制造方法、以及元件制造方法 | |
JP2013051237A (ja) | 物体処理装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、物体搬送装置、及び物体の搬入方法 | |
JP5471088B2 (ja) | 基板保持部材、基板搬送装置、基板搬送方法、ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP5741926B2 (ja) | 物体交換システム、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び物体交換方法 | |
JP5741927B2 (ja) | 物体搬出方法、物体交換方法、物体保持装置、物体交換システム、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2011086764A (ja) | 基板支持部材、搬送装置、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
JP2010267807A (ja) | 基板保持装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
JP6015984B2 (ja) | 物体搬出方法、物体交換方法、物体保持装置、物体交換システム、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP6015983B2 (ja) | 物体交換システム、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法及びデバイス製造方法 | |
JP2011113086A (ja) | 受け渡し機構、ステージ装置、搬送装置、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
JP2011242627A (ja) | 物体支持装置、物体搬送システム、露光装置、デバイス製造方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法 |