JP2011072878A - Method of producing laminate, laminate, optical component, and method of producing coating film - Google Patents
Method of producing laminate, laminate, optical component, and method of producing coating film Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011072878A JP2011072878A JP2009225454A JP2009225454A JP2011072878A JP 2011072878 A JP2011072878 A JP 2011072878A JP 2009225454 A JP2009225454 A JP 2009225454A JP 2009225454 A JP2009225454 A JP 2009225454A JP 2011072878 A JP2011072878 A JP 2011072878A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- component
- coating
- hard coat
- film
- coating film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Description
本発明は、積層構造体の製造方法、該製造方法により得られる積層構造体、該積層構造体を有する光学用部材及び塗工膜の形成方法に関する。さらに詳しくは、層分離を利用した簡易な一液型塗工方法によって、光学用や建材用等として有用な、例えば帯電防止膜等の機能膜が設けられた積層構造体であって、層間の密着性が良い積層構造体を製造する方法、該製造方法により得られる積層構造体及び該積層構造体を有する光学用部材、並びに層分離構造を有する塗工膜の形成方法に関するものである。 The present invention relates to a method for producing a laminated structure, a laminated structure obtained by the production method, an optical member having the laminated structure, and a method for forming a coating film. More specifically, it is a laminated structure provided with a functional film such as an antistatic film, which is useful for optical and building materials, etc., by a simple one-component coating method using layer separation, The present invention relates to a method for producing a laminated structure with good adhesion, a laminated structure obtained by the production method, an optical member having the laminated structure, and a method for forming a coating film having a layer separation structure.
従来、積層構造体を形成するために、種々の多層塗工膜の形成方法が開発されてきた。多層塗工膜の形成方法としては、(1)複数の塗工液を用いて、塗布と乾燥処理を繰り返すタンデム塗工方式、(2)複数の塗工液を用いて、同時に多層塗布する方法(例えば、特許文献1及び2参照。)、及び(3)複数の塗工液を傾斜したスライド面上で予め多層化し、該多層塗工膜を基材上に転移させて多層塗工膜を形成する方法(例えば、特許文献3参照。)等が知られている。
一方、積層構造体として、スピノーダル分解により相分離構造を形成し、表面に凹凸を設けてなる防眩性フィルムが知られている。例えば、1つのポリマーと1つの硬化性樹脂前駆体と溶媒とを含む液相から、前記溶媒の蒸発に伴うスピノーダル分解により、相分離構造を形成し、前記樹脂前駆体を硬化させ、防眩層を形成した防眩性フィルムが開示されている(例えば、特許文献4参照。)。また、スピノーダル分解による相分離を利用した技術として、(A)活性エネルギー線硬化型重合性化合物、(B)熱可塑性樹脂、(C)前記(A)成分と前記(B)成分に対する良溶媒、及び(D)前記(B)成分に対する貧溶媒を含み、かつ前記(A)成分と前記(B)成分の含有比率[(A):(B)]と、前記(C)成分と前記(D)成分の含有比率[(C):(D)]が特定範囲である防眩性ハードコート層形成用材料、及び基材フィルム上に該材料を用いて形成された、活性エネルギー線硬化樹脂層からなる防眩性ハードコート層を有する防眩性ハードコートフィルムが開示されている(例えば、特許文献5参照。)。
Conventionally, in order to form a laminated structure, various methods for forming a multilayer coating film have been developed. As a method for forming a multilayer coating film, (1) a tandem coating method in which coating and drying are repeated using a plurality of coating liquids, and (2) a method in which multilayer coating is simultaneously performed using a plurality of coating liquids (For example, refer to Patent Documents 1 and 2), and (3) A plurality of coating liquids are previously multilayered on an inclined slide surface, and the multilayer coating film is transferred onto a substrate to form a multilayer coating film. A forming method (see, for example, Patent Document 3) is known.
On the other hand, an antiglare film is known as a laminated structure in which a phase separation structure is formed by spinodal decomposition and unevenness is provided on the surface. For example, from a liquid phase containing one polymer, one curable resin precursor, and a solvent, a phase separation structure is formed by spinodal decomposition accompanying evaporation of the solvent, the resin precursor is cured, and an antiglare layer The anti-glare film which formed A is disclosed (for example, refer patent document 4). Moreover, as a technique using phase separation by spinodal decomposition, (A) active energy ray-curable polymerizable compound, (B) thermoplastic resin, (C) a good solvent for the component (A) and the component (B), And (D) a poor solvent for the component (B), and the content ratio of the component (A) and the component (B) [(A) :( B)], the component (C) and the component (D) ) The content ratio [(C) :( D)] of the component is within a specific range, and the material for forming an antiglare hard coat layer, and the active energy ray curable resin layer formed on the base film using the material. An anti-glare hard coat film having an anti-glare hard coat layer is disclosed (for example, see Patent Document 5).
しかしながら、上記(1)の方法は、複数の塗工液を別々に準備しなければならない上、複数回の塗布、乾燥処理が必要である等、操作が煩雑で生産性に劣るという問題がある。特許文献1〜3に記載の上記(2)や(3)の方法は、塗工方法が改善され、上記(1)の方法に比べて生産性が改善されているが、やはり複数の塗工液を別々に準備しなければならないという問題は残る。
さらに、前記(1)〜(3)の方法においては、複数の塗工液の種類によっては、層間の密着性が必ずしも充分ではないという問題がある。
また、特許文献4及び5に記載のスピノーダル分解による相分離技術は、表面に不規則な凹凸を形成させる技術であって、多層塗工膜を形成させる技術には応用し難い。
However, the above method (1) has a problem that operations are complicated and inferior in productivity because a plurality of coating liquids must be prepared separately and a plurality of coating and drying processes are required. . In the methods (2) and (3) described in Patent Documents 1 to 3, the coating method is improved and the productivity is improved as compared with the method (1). The problem that the liquids must be prepared separately remains.
Further, the methods (1) to (3) have a problem that the adhesion between layers is not always sufficient depending on the types of the plurality of coating liquids.
Further, the phase separation technique based on spinodal decomposition described in Patent Documents 4 and 5 is a technique for forming irregular irregularities on the surface, and is difficult to apply to a technique for forming a multilayer coating film.
ところで、ディスプレイ分野で用いられる各種光学用部材、例えば反射防止フィルム、防眩フィルム、ハードコートフィルム等の保護フィルムや、建材分野等で用いられる各種部材においては、帯電を防止するための帯電防止膜、塵や埃、指紋等の付着を防止するための防汚膜等の機能膜を光学部材や化粧板等の表面に設けることが要求される。ところが、高性能の帯電防止材料は、通常、溶剤溶解性や、ハードコート材料等の他成分との相溶性に乏しいため、タンデム塗工方式等を利用した場合には層間の密着性が不充分になるという問題がある。 By the way, various optical members used in the display field, for example, protective films such as an antireflection film, an antiglare film, and a hard coat film, and various members used in the building material field, etc., an antistatic film for preventing charging. In addition, it is required to provide a functional film such as an antifouling film for preventing adhesion of dust, dust, fingerprints and the like on the surface of an optical member, a decorative board, and the like. However, high-performance antistatic materials are usually poor in solvent solubility and compatibility with other components such as hard coat materials, so when using a tandem coating method, etc., the interlayer adhesion is insufficient. There is a problem of becoming.
本発明は、このような状況下になされたものであり、簡易な手段である一液型塗工方法によって、光学用及び建材用等として有用な、例えば帯電防止膜等の機能膜が設けられた積層構造体であって、層間の密着性が良い積層構造体を製造する方法、該製造方法で得られた積層構造体及び該積層構造体を有する光学用部材、並びに層分離構造を有する塗工膜の形成方法を提供することを課題とする。 The present invention has been made under such circumstances, and a functional film such as an antistatic film, which is useful for optical and building materials, is provided by a one-part coating method which is a simple means. A laminated structure having good adhesion between layers, a laminated structure obtained by the production method, an optical member having the laminated structure, and a coating having a layer separation structure It is an object to provide a method for forming a film.
本発明者は、イオン液体がハードコート層形成成分との相溶性が低いことに着目し、ハードコート層形成成分及びイオン液体の両者を溶解し得る媒介溶剤を用いることにより、一液型塗工方法によって積層構造体を製造することが可能となり、上記課題を解決できることを見出した。 The present inventor has paid attention to the fact that the ionic liquid has low compatibility with the hard coat layer forming component, and by using a mediating solvent capable of dissolving both the hard coat layer forming component and the ionic liquid, It has been found that a laminated structure can be produced by the method and the above-mentioned problems can be solved.
すなわち本発明は、下記[1]〜[7]に関する。
[1]1液型塗工液による積層構造体の製造方法であって、下記工程1〜3をこの順に有する、イオン液体層とハードコート層を有する積層構造体の製造方法。
工程1:(A1)活性エネルギー線硬化性のハードコート層形成成分、(A2)ハードコート層形成成分用溶剤、(B1)イオン液体、(B2)イオン液体用マトリクスポリマー、及び(C)前記(A2)成分及び(B2)成分の両者と相溶性を有する、前記(A2)成分より沸点の低い媒介溶剤を混合し、1液型塗工液を得る工程。
工程2:工程1で得られた1液型塗工液を基材に塗布した後、前記(C)成分を揮発させることにより層分離構造を有する塗工膜を形成する工程。
工程3:工程2の後、塗工膜中の前記(A2)成分を揮発させる工程と、塗工膜へ活性エネルギー線を照射する工程とを有する工程。
[2](B1)成分が、イミダゾリウム系カチオン性物質、ピリジニウム系カチオン性物質、ピロリジニウム系カチオン性物質、第4級アンモニウム系カチオン性物質、第4級ホスホニウム系カチオン性物質からなる群から選択されるいずれかのカチオン性物質と、ハライド、シアニド(CN-)、トリフラート(CF3SO3 -)、テトラフルオロボラート(BF4 -)、ヘキサフルオロホスファート(PF6 -)、スルホニルアミド(SO2NH2 -)、メチルサルフェート(CH2SO4 -)、エチルサルフェート(C2H4SO4 -)、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド[(CF3SO2)2N-]、ビス(トリフルオロエタンスルホニル)イミド[(C2H2F3SO2)2N-]からなる群から選択されるいずれかのアニオンとが結合した塩である、上記[1]に記載の積層構造体の製造方法。
[3](C)成分がアセトン、テトラヒドロフラン及びジクロロメタンからなる群から選択される少なくとも1種である、上記[1]又は[2]に記載の積層構造体の製造方法。
[4]上記[1]〜[3]のいずれかに記載の製造方法により得られる積層構造体。
[5]上記[4]に記載の積層構造体を有する光学用部材。
[6]帯電防止性ハードコートフィルムである、上記[5]に記載の光学用部材。
[7]1液型塗工液を用いた塗工膜の形成方法であって、
(A1)活性エネルギー線硬化性のハードコート層形成成分、
(A2)ハードコート層形成成分用溶剤、
(B1)イオン液体、
(B2)イオン液体用マトリクスポリマー、並びに
(C)前記(A2)成分及び(B2)成分の両者と相溶性を有する、前記(A2)成分より沸点の低い媒介溶剤
を混合し、1液型塗工液を得、得られた1液型塗工液を基材に塗布した後、前記(C)成分を揮発させることによる、層分離構造を有する塗工膜の形成方法。
That is, the present invention relates to the following [1] to [7].
[1] A method for producing a laminated structure using a one-component coating liquid, comprising the following steps 1 to 3 in this order, and a method for producing a laminated structure having an ionic liquid layer and a hard coat layer.
Step 1: (A1) Active energy ray-curable hard coat layer forming component, (A2) Hard coat layer forming component solvent, (B1) ionic liquid, (B2) matrix polymer for ionic liquid, and (C) ( A step of mixing a solvent having a lower boiling point than the component (A2) having compatibility with both the component A2) and the component (B2) to obtain a one-component coating solution.
Process 2: The process of forming the coating film which has a layer-separation structure by volatilizing the said (C) component, after apply | coating the 1-component coating liquid obtained at the process 1 to the base material.
Process 3: The process which has the process of volatilizing the said (A2) component in a coating film after the process 2, and the process of irradiating an active energy ray to a coating film.
[2] The component (B1) is selected from the group consisting of an imidazolium cationic substance, a pyridinium cationic substance, a pyrrolidinium cationic substance, a quaternary ammonium cationic substance, and a quaternary phosphonium cationic substance Any of the cationic substances described above, halide, cyanide (CN − ), triflate (CF 3 SO 3 − ), tetrafluoroborate (BF 4 − ), hexafluorophosphate (PF 6 − ), sulfonylamide ( SO 2 NH 2 − ), methyl sulfate (CH 2 SO 4 − ), ethyl sulfate (C 2 H 4 SO 4 − ), bis (trifluoromethanesulfonyl) imide [(CF 3 SO 2 ) 2 N − ], bis ( one of a is selected from the group consisting of - trifluoroethane sulfonyl) imide [(C 2 H 2 F 3 SO 2) 2 N] Is on and is bonded to salts, method of manufacturing the stacked structure according to [1].
[3] The method for producing a laminated structure according to [1] or [2], wherein the component (C) is at least one selected from the group consisting of acetone, tetrahydrofuran, and dichloromethane.
[4] A laminated structure obtained by the production method according to any one of [1] to [3].
[5] An optical member having the laminated structure according to [4].
[6] The optical member according to [5], which is an antistatic hard coat film.
[7] A method for forming a coating film using a one-component coating liquid,
(A1) Active energy ray-curable hard coat layer forming component,
(A2) Hard coat layer forming component solvent,
(B1) ionic liquid,
(B2) Mixing a matrix polymer for ionic liquid, and (C) a solvent having a lower boiling point than the component (A2), which is compatible with both the component (A2) and the component (B2), A method for forming a coating film having a layer separation structure by volatilizing the component (C) after obtaining a working solution and applying the obtained one-component coating solution to a substrate.
本発明によれば、簡易な一液型塗工方法によって、光学用や建材用等として有用な、例えば表面に帯電防止層等の機能層が設けられた積層構造体であって、層間の密着性が良い積層構造体を製造する方法を提供することができる。本発明の製造方法では、ハードコート層形成成分用の溶剤への溶解性が低く、通常は層間の密着性が低くなる帯電防止材料を用いながらも良好な密着性を有する積層構造体を得ることが可能となり、高い帯電防止機能を有する光学用部材を提供することが可能となる。 According to the present invention, it is a laminated structure having a functional layer such as an antistatic layer provided on the surface, which is useful as an optical material or a building material by a simple one-component coating method. It is possible to provide a method for manufacturing a laminated structure having good properties. In the production method of the present invention, a laminated structure having good adhesion while using an antistatic material that has low solubility in a solvent for forming a hard coat layer and usually has low adhesion between layers is obtained. Therefore, it becomes possible to provide an optical member having a high antistatic function.
本発明は、1液型塗工液による積層構造体の製造方法であって、下記工程1〜3をこの順に有する、イオン液体層とハードコート層を有する積層構造体の製造方法である。
工程1:(A1)活性エネルギー線硬化性のハードコート層形成成分、(A2)ハードコート層形成成分用溶剤、(B1)イオン液体、(B2)イオン液体用マトリクスポリマー、及び(C)前記(A2)成分及び(B2)成分の両者と相溶性を有する、前記(A2)成分より沸点の低い媒介溶剤を混合し、1液型塗工液を得る工程。
工程2:工程1で得られた1液型塗工液を基材に塗布した後、前記(C)成分を揮発させることにより層分離構造を有する塗工膜を形成する工程。
工程3:工程2の後、塗工膜中の前記(A2)成分を揮発させる工程と、塗工膜へ活性エネルギー線を照射する工程とを有する工程。
以下、工程1〜3について順に説明する。
This invention is a manufacturing method of the laminated structure by 1 liquid type coating liquid, Comprising: It is the manufacturing method of the laminated structure which has the following processes 1-3 in this order, and has an ionic liquid layer and a hard-coat layer.
Step 1: (A1) Active energy ray-curable hard coat layer forming component, (A2) Hard coat layer forming component solvent, (B1) ionic liquid, (B2) matrix polymer for ionic liquid, and (C) ( A step of mixing a solvent having a lower boiling point than the component (A2) having compatibility with both the component A2) and the component (B2) to obtain a one-component coating solution.
Process 2: The process of forming the coating film which has a layer-separation structure by volatilizing the said (C) component, after apply | coating the 1-component coating liquid obtained at the process 1 to the base material.
Process 3: The process which has the process of volatilizing the said (A2) component in a coating film after the process 2, and the process of irradiating an active energy ray to a coating film.
Hereinafter, steps 1 to 3 will be described in order.
[工程1]
工程1は、1液型の塗工液を得る工程である。本発明では、塗工液の成分として、(A1)活性エネルギー線硬化性のハードコート層形成成分、(A2)ハードコート層形成成分用溶剤、(B1)イオン液体、(B2)イオン液体用マトリクスポリマー及び(C)前記(A2)成分及び(B2)成分の両者と相溶性を有する、前記(A2)成分より沸点の低い媒介溶剤を用い、これらを混合して1液型の塗工液を得る。
上記混合温度は、(A2)成分、(B2)成分及び(C)成分のいずれの沸点をも超えない温度であれば特に制限は無いが、操作の簡便性の観点及び各成分の揮発抑制の観点から、通常、室温(15〜30℃を指し、以下同様である。)にて混合することが好ましい。
以下、塗工液の各成分について説明する。
[Step 1]
Step 1 is a step of obtaining a one-component coating liquid. In the present invention, (A1) active energy ray-curable hard coat layer forming component, (A2) hard coat layer forming component solvent, (B1) ionic liquid, (B2) ionic liquid matrix Using a mediator solvent having a lower boiling point than the component (A2) having compatibility with both the polymer and the component (C2) and the component (A2) and the component (B2), these are mixed to form a one-component coating solution. obtain.
The mixing temperature is not particularly limited as long as it does not exceed the boiling point of any of the components (A2), (B2), and (C), but it is easy to operate and suppresses volatilization of each component. From the viewpoint, it is usually preferable to mix at room temperature (points at 15 to 30 ° C., the same applies hereinafter).
Hereinafter, each component of the coating liquid will be described.
((A1)活性エネルギー線硬化性のハードコート層形成成分)
(A1)成分は、積層構造体にハードコート性能を付与するためのものであり、電磁波又は荷電粒子線の中でエネルギー量子を有するもの、すなわち、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を照射することにより、架橋、硬化する化合物を含有する。この活性エネルギー線硬化性の化合物としては、活性エネルギー線硬化型オリゴマー及び/又は活性エネルギー線硬化型モノマーを用いることができる。
((A1) Active energy ray-curable hard coat layer forming component)
The component (A1) is for imparting hard coat performance to the laminated structure and irradiates an active energy ray such as an ultraviolet ray or an electron beam having an energy quantum among electromagnetic waves or charged particle beams. Thus, it contains a compound that crosslinks and cures. As the active energy ray-curable compound, an active energy ray-curable oligomer and / or an active energy ray-curable monomer can be used.
活性エネルギー線硬化型オリゴマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系オリゴマー、エポキシアクリレート系オリゴマー、ウレタンアクリレート系オリゴマー、ポリエーテルアクリレート系オリゴマー、ポリブタジエンアクリレート系オリゴマー、シリコーンアクリレート系オリゴマー等が挙げられる。
ここで、ポリエステルアクリレート系オリゴマーとしては、例えば多価アルコールの縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより、あるいは、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。
エポキシアクリレート系オリゴマーは、例えば、比較的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹脂のオキシラン環に、(メタ)アクリル酸を反応させてエステル化することにより得ることができる。また、このエポキシアクリレート系オリゴマーを部分的に二塩基性カルボン酸無水物で変性したカルボキシル変性型のエポキシアクリレートオリゴマーも用いることができる。
ウレタンアクリレート系オリゴマーは、例えば、ポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールとポリイソシアナートの反応によって得られるポリウレタンオリゴマーを、(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができ、ポリオールアクリレート系オリゴマーは、ポリエーテルポリオールの水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。
活性エネルギー線硬化型オリゴマーの重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法で測定した標準ポリスチレン換算の値で、好ましくは500〜100,000、より好ましくは1,000〜70,000、さらに好ましくは3,000〜40,000である。
活性エネルギー線硬化型オリゴマーは、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
Examples of the active energy ray-curable oligomer include polyester acrylate oligomers, epoxy acrylate oligomers, urethane acrylate oligomers, polyether acrylate oligomers, polybutadiene acrylate oligomers, and silicone acrylate oligomers.
Here, as the polyester acrylate oligomer, for example, the hydroxyl group of the polyester oligomer having hydroxyl groups at both ends obtained by condensation of polyhydric alcohol is esterified with (meth) acrylic acid, or the polyhydric carboxylic acid is alkylene. It can be obtained by esterifying the terminal hydroxyl group of an oligomer obtained by adding an oxide with (meth) acrylic acid.
The epoxy acrylate oligomer can be obtained, for example, by reacting an oxirane ring of a relatively low molecular weight bisphenol type epoxy resin or novolac type epoxy resin with (meth) acrylic acid for esterification. A carboxyl-modified epoxy acrylate oligomer obtained by partially modifying this epoxy acrylate oligomer with a dibasic carboxylic acid anhydride can also be used.
The urethane acrylate oligomer can be obtained, for example, by esterifying a polyurethane oligomer obtained by the reaction of polyether polyol or polyester polyol and polyisocyanate with (meth) acrylic acid. It can be obtained by esterifying the hydroxyl group of ether polyol with (meth) acrylic acid.
The weight average molecular weight of the active energy ray-curable oligomer is a value in terms of standard polystyrene measured by a gel permeation chromatography (GPC) method, preferably 500 to 100,000, more preferably 1,000 to 70,000, Preferably it is 3,000-40,000.
An active energy ray hardening-type oligomer may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
活性エネルギー線硬化型モノマーとしては、例えばジ(メタ)アクリル酸1,4−ブタンジオールエステル、ジ(メタ)アクリル酸1,6−ヘキサンジオールエステル、ジ(メタ)アクリル酸ネオペンチルグリコールエステル、ジ(メタ)アクリル酸ポリエチレングリコールエステル、ジ(メタ)アクリル酸ネオペンチルグリコールアジペートエステル、ジ(メタ)アクリル酸ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステル、ジ(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニル、ジ(メタ)アクリル酸カプロラクトン変性ジシクロペンテニル、ジ(メタ)アクリル酸エチレンオキシド変性リン酸エステル、ジ(メタ)アクリル酸アリル化シクロヘキシル、ジ(メタ)アクリル酸イソシアヌレート、ジメチロールトリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、トリ(メタ)アクリル酸トリメチロールプロパンエステル、トリ(メタ)アクリル酸ペンタエリスリトールエステル、トリ(メタ)アクリル酸ジペンタエリスリトールエステル、トリ(メタ)アクリル酸プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールエステル、トリ(メタ)アクリル酸ペンタエリスリトールエステル、トリ(メタ)アクリル酸プロピオンオキシド変性トリメチロールプロパンエステル、イソシアヌル酸トリス(アクリロキシエチル)、ペンタ(メタ)アクリル酸プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールエステル、ヘキサ(メタ)アクリル酸ジペンタエリスリトールエステル、ヘキサ(メタ)アクリル酸カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールエステル等が挙げられる。活性エネルギー線硬化型モノマーは、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 Examples of the active energy ray-curable monomer include di (meth) acrylic acid 1,4-butanediol ester, di (meth) acrylic acid 1,6-hexanediol ester, di (meth) acrylic acid neopentyl glycol ester, di (Meth) acrylic acid polyethylene glycol ester, di (meth) acrylic acid neopentyl glycol adipate ester, di (meth) acrylic acid hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester, di (meth) acrylic acid dicyclopentanyl, di (meth) Acrylic acid caprolactone-modified dicyclopentenyl, di (meth) acrylic acid ethylene oxide-modified phosphate ester, di (meth) acrylic acid allylated cyclohexyl, di (meth) acrylic acid isocyanurate, dimethylol tricyclodecane di (meth) a Relate, tri (meth) acrylic acid trimethylolpropane ester, tri (meth) acrylic acid pentaerythritol ester, tri (meth) acrylic acid dipentaerythritol ester, tri (meth) acrylic acid propionic acid modified dipentaerythritol ester, tri ( (Meth) acrylic acid pentaerythritol ester, tri (meth) acrylic acid propion oxide modified trimethylolpropane ester, isocyanuric acid tris (acryloxyethyl), penta (meth) acrylic acid propionic acid modified dipentaerythritol ester, hexa (meth) acrylic Examples include acid dipentaerythritol ester, hexa (meth) acrylic acid caprolactone-modified dipentaerythritol ester, and the like. An active energy ray hardening-type monomer may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
(A1)成分は、光重合開始剤や、表面調整剤(レベリング剤)、防眩剤、老化防止剤等を含有していてもよい。
光重合開始剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−プロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−2(ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、ベンゾフェノン、p−フェニルベンゾフェノン、4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロロベンゾフェノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−ターシャリーブチルアントラキノン、2−アミノアントラキノン、2−メチルチオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、p−ジメチルアミン安息香酸エステル、オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−プロペニル)フェニル]プロパノン)等が挙げられる。これらは1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。光重合開始剤の使用量は、用いる活性エネルギー線硬化性の化合物の種類に応じて適宜選定すればよい。
レベリング剤としては、公知のものを使用でき、例えばシリコーン系、フッ素系、ポリエーテル系、アクリル系、チタネート系等の各種界面活性剤が挙げられる。これらの中でも、フッ素系界面活性剤が好ましく、パーフルオロアルキル基を含有するフッ素系界面活性剤[例えば、商品名「MCF−350−5」(DIC株式会社製)等。]がより好ましい。
防眩剤としては、公知のものを使用でき、シリカ粒子等が挙げられる。
老化防止剤としては、公知のものを使用でき、酸化亜鉛、酸化カルシウム、酸化マグネシウム等の金属酸化物が挙げられる。
The component (A1) may contain a photopolymerization initiator, a surface conditioner (leveling agent), an antiglare agent, an antiaging agent and the like.
Examples of the photopolymerization initiator include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, acetophenone, dimethylaminoacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2 , 2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, 4, -(2- Droxyethoxy) phenyl-2 (hydroxy-2-propyl) ketone, benzophenone, p-phenylbenzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, dichlorobenzophenone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tertiarybutylanthraquinone 2-aminoanthraquinone, 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, benzyldimethyl ketal, acetophenone dimethyl ketal, p-dimethylamine benzoate , Oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-propenyl) phenyl] propanone) and the like. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type. What is necessary is just to select the usage-amount of a photoinitiator suitably according to the kind of active energy ray-curable compound to be used.
As the leveling agent, known ones can be used, and examples thereof include various surfactants such as silicone, fluorine, polyether, acrylic and titanate. Among these, a fluorosurfactant is preferable, and a fluorosurfactant containing a perfluoroalkyl group [for example, trade name “MCF-350-5” (manufactured by DIC Corporation)]. ] Is more preferable.
As an anti-glare agent, a well-known thing can be used and a silica particle etc. are mentioned.
Known antiaging agents can be used, and examples thereof include metal oxides such as zinc oxide, calcium oxide, and magnesium oxide.
((A2)ハードコート層形成成分用溶剤)
(A2)成分の溶剤は、(A1)成分を溶解し得る溶剤であり、例えばヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族系有機溶剤;トルエン、キシレン等の芳香族系有機溶剤;塩化メチレン、塩化エチレン等のハロゲン化炭化水素;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノール等のアルコール系有機溶剤;メチルエチルケトン、2−ペンタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン系有機溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系有機溶剤;エチルセロソルブ等のセロソルブ系有機溶剤等が挙げられる。これらは、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を混合して使用してもよい。操作の簡便性の観点から、(A1)成分を室温で溶解し得る溶剤であることが好ましい。また、これらの中でも、後述する(C)成分の優先的揮発の観点から、沸点100℃を超える溶媒が好ましく、沸点110℃を超える溶媒がより好ましい。
(A2)成分の使用量に特に制限は無いが、通常、(A1)成分100質量部に対して好ましくは20〜100質量部であり、より好ましくは30〜80質量部であり、さらに好ましくは30〜60質量部である。この範囲であれば、十分に(A1)成分を十分に溶解し、且つ積層構造体に十分なハードコート性を付与することができる。
((A2) Hard coat layer forming component solvent)
The solvent of the component (A2) is a solvent that can dissolve the component (A1). For example, an aliphatic organic solvent such as hexane, heptane, and cyclohexane; an aromatic organic solvent such as toluene and xylene; methylene chloride, ethylene chloride Halogenated hydrocarbons such as: alcohol organic solvents such as methanol, ethanol, propanol, butanol and 1-methoxy-2-propanol; ketone organic solvents such as methyl ethyl ketone, 2-pentanone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and isophorone; acetic acid Examples include ester organic solvents such as ethyl and butyl acetate; cellosolve organic solvents such as ethyl cellosolve, and the like. These may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for them. From the viewpoint of ease of operation, a solvent capable of dissolving the component (A1) at room temperature is preferable. Among these, from the viewpoint of preferential volatilization of the component (C) described later, a solvent having a boiling point of more than 100 ° C is preferable, and a solvent having a boiling point of more than 110 ° C is more preferable.
Although there is no restriction | limiting in particular in the usage-amount of (A2) component, Usually, it is preferably 20-100 mass parts with respect to 100 mass parts of (A1) component, More preferably, it is 30-80 mass parts, More preferably. 30 to 60 parts by mass. Within this range, the component (A1) can be sufficiently dissolved and sufficient hard coat properties can be imparted to the laminated structure.
((B1)イオン液体)
(B1)成分は、積層構造体に高い帯電防止性を付与し得るイオン液体である。
「イオン液体」とは、一般的に、常温下、比較的低温領域下において液体状態を示すもののことを言う。また、該イオン液体は、通常、高いイオン伝導性、高い熱安定性、比較的低粘性等を示し、蒸気圧が殆どなく、引火性及び可燃性を示さず、並びに液体温度範囲が広範囲であるという特徴を有する。
イオン液体は、カチオン性の物質が好ましい。該カチオン性の物質は、通常、カウンターイオンであるアニオンとの塩で存在する。イオン液体の具体例としては、イミダゾリウム系カチオン性物質、ピリジニウム系カチオン性物質、ピロリジニウム系カチオン性物質、第4級アンモニウム系カチオン性物質、第4級ホスホニウム系カチオン性物質からなる群から選択されるいずれかのカチオン性物質と、ハライド、シアニド(CN-)、トリフラート(CF3SO3 -)、テトラフルオロボラート(BF4 -)、ヘキサフルオロホスファート(PF6 -)、スルホニルアミド(SO2NH2 -)、メチルサルフェート(CH2SO4 -)、エチルサルフェート(C2H4SO4 -)、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド[(CF3SO2)2N-]、ビス(トリフルオロエタンスルホニル)イミド[(C2H2F3SO2)2N-]からなる群から選択されるいずれかのアニオンとが結合した塩が挙げられる。
上記ハライドとしては、クロリド(Cl-)、ブロミド(Br-)、ヨージド(I-)等が挙げられる。
((B1) ionic liquid)
The component (B1) is an ionic liquid that can impart high antistatic properties to the laminated structure.
An “ionic liquid” generally refers to a liquid that exhibits a liquid state at room temperature and in a relatively low temperature region. Further, the ionic liquid usually exhibits high ionic conductivity, high thermal stability, relatively low viscosity, etc., has almost no vapor pressure, does not exhibit flammability and flammability, and has a wide liquid temperature range. It has the characteristics.
The ionic liquid is preferably a cationic substance. The cationic substance is usually present as a salt with an anion which is a counter ion. Specific examples of the ionic liquid are selected from the group consisting of imidazolium cationic substances, pyridinium cationic substances, pyrrolidinium cationic substances, quaternary ammonium cationic substances, and quaternary phosphonium cationic substances. Any of the above cationic substances, halide, cyanide (CN − ), triflate (CF 3 SO 3 − ), tetrafluoroborate (BF 4 − ), hexafluorophosphate (PF 6 − ), sulfonylamide (SO 2 NH 2 − ), methyl sulfate (CH 2 SO 4 − ), ethyl sulfate (C 2 H 4 SO 4 − ), bis (trifluoromethanesulfonyl) imide [(CF 3 SO 2 ) 2 N − ], bis (tri tetrafluoroethane) imide [(C 2 H 2 F 3 SO 2) 2 N -] one selected from the group consisting of Include salts and anions are bonded.
Examples of the halide include chloride (Cl − ), bromide (Br − ), and iodide (I − ).
イミダゾリウム系カチオン性物質とアニオンとの塩の具体例(例示物質のカギ括弧中はカウンターイオンを示す)としては、1,3−ジメチルイミダゾリウム「クロリド」、1,3−ジメチルイミダゾリウム「ジメチルホスファート」、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム「クロリド」、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム「ブロミド」、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム「ヨージド」、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム「トリフルオロメタンスルホナート」、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム「p−トルエンスルホナート」、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム「エチルサルフェート」、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム「2−メチル(2―メトキシエトキシ)エチルサルフェート」、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム「テトラフルオロボラート」、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム「ヘキサフルオロホスファート」、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム「ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド」、1−メチル−3−プロピルイミダゾリウム「ヨージド」、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウム「クロリド」、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウム「ブロミド」、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウム「ヨージド」、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウム「トリフルオロメタンスルホナート」、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウム「テトラフルオロボラート」、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウム「ヘキサフルオロホスファート」、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウム「ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド」、1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウム「クロリド」、1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウム「ヘキサフルオロホスファート」、1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウム「テトラフルオロボラート」、1−ブチル−2,3−ジメチルイミダゾリウム「クロリド」、1−ブチル−2,3−ジメチルイミダゾリウム「テトラフルオロボラート」、1−ブチル−2,3−ジメチルイミダゾリウム「ヘキサフルオロホスファート」等が挙げられる。 Specific examples of a salt of an imidazolium-based cationic substance and an anion (counter ions in the brackets of the exemplified substance indicate counter ions) include 1,3-dimethylimidazolium “chloride”, 1,3-dimethylimidazolium “dimethyl” Phosphate, 1-ethyl-3-methylimidazolium “chloride”, 1-ethyl-3-methylimidazolium “bromide”, 1-ethyl-3-methylimidazolium “iodide”, 1-ethyl-3-methyl Imidazolium “trifluoromethanesulfonate”, 1-ethyl-3-methylimidazolium “p-toluenesulfonate”, 1-ethyl-3-methylimidazolium “ethylsulfate”, 1-ethyl-3-methylimidazolium “ 2-methyl (2-methoxyethoxy) ethyl sulfate ", 1-ethyl- -Methylimidazolium "tetrafluoroborate", 1-ethyl-3-methylimidazolium "hexafluorophosphate", 1-ethyl-3-methylimidazolium "bis (trifluoromethanesulfonyl) imide", 1-methyl- 3-propylimidazolium “iodide”, 1-butyl-3-methylimidazolium “chloride”, 1-butyl-3-methylimidazolium “bromide”, 1-butyl-3-methylimidazolium “iodide”, 1-butyl-3-methylimidazolium “chloride” Butyl-3-methylimidazolium “trifluoromethanesulfonate”, 1-butyl-3-methylimidazolium “tetrafluoroborate”, 1-butyl-3-methylimidazolium “hexafluorophosphate”, 1-butyl- 3-methylimidazolium “bis (trifluoro Tansulfonyl) imide ", 1-hexyl-3-methylimidazolium" chloride ", 1-hexyl-3-methylimidazolium" hexafluorophosphate ", 1-hexyl-3-methylimidazolium" tetrafluoroborate " 1-butyl-2,3-dimethylimidazolium “chloride”, 1-butyl-2,3-dimethylimidazolium “tetrafluoroborate”, 1-butyl-2,3-dimethylimidazolium “hexafluorophosphate” Or the like.
ピリジニウム系カチオン性物質とアニオンとの塩の具体例(例示物質のカギ括弧中はカウンターイオンを示す)としては、1−エチルピリジニウム「クロリド」、1−エチルピリジニウム「ブロミド」、1−ブチルピリジニウム「クロリド」、)、1−ブチルピリジニウム「ブロミド」、1−ブチルピリジニウム「ヘキサフルオロホスファート」、1−ブチル−4−メチルピリジニウム「ブロミド」、1−ブチル−4−メチルピリジニウム「ヘキサフルオロホスファート」、1−エチル−3−メチルピリジニウム「エチルサルフェート」、1−エチル−3−(ヒドロキシメチル)ピリジニウム「エチルサルフェート」等が挙げられる。
ピロリジニウム系カチオン性物質とアニオンとの塩の具体例(例示物質のカギ括弧中はカウンターイオンを示す)としては、1−ブチル−1−メチルピロリジニウム「ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド」等が挙げられる。
第4級アンモニウム系カチオン性物質とアニオンとの塩の具体例(例示物質のカギ括弧中はカウンターイオンを示す)としては、N,N−ジメチル−N−エチル−N−(2−メトキシエチル)アンモニウム「テトラフルオロボラート」、N,N−ジエチル−N−メチル−N−(2−メトキシエチル)アンモニウム「テトラフルオロボラート」、N,N−ジメチル−N−エチル−N−(2−メトキシエチル)アンモニウム「ビス(トリフルオロエタンスルホニル)イミド」、N,N−ジエチル−N−メチル−N−(2−メトキシエチル)アンモニウム「ビス(トリフルオロエタンスルホニル)イミド」等が挙げられる。
第4級ホスホニウム系カチオン性物質とアニオンとの塩の具体例(例示物質のカギ括弧中はカウンターイオンを示す)としては、テトラエチルホスホニウム「テトラフルオロボラート」、テトラフェニルホスホニウム「クロリド」等が挙げられる。
以上の中でも、(B1)成分としては、第4級アンモニウム系カチオン性物質とアニオンとの塩であることが好ましく、N,N−ジメチル−N−エチル−N−(2−メトキシエチル)アンモニウムとアニオンとの塩であることがより好ましい。特に、この組み合わせの場合のアニオンとしては、テトラフルオロボラート、ビス(トリフルオロエタンスルホニル)イミドが好ましい。
Specific examples of the salt of a pyridinium-based cationic substance and an anion (counter ions in the brackets of the exemplified substance indicate counter ions) include 1-ethylpyridinium “chloride”, 1-ethylpyridinium “bromide”, 1-butylpyridinium “ Chloride ",), 1-butylpyridinium" bromide ", 1-butylpyridinium" hexafluorophosphate ", 1-butyl-4-methylpyridinium" bromide ", 1-butyl-4-methylpyridinium" hexafluorophosphate " 1-ethyl-3-methylpyridinium “ethyl sulfate”, 1-ethyl-3- (hydroxymethyl) pyridinium “ethyl sulfate”, and the like.
Specific examples of the salt of a pyrrolidinium-based cationic substance and an anion (counter ions in the brackets of the exemplified substance indicate counter ions) include 1-butyl-1-methylpyrrolidinium “bis (trifluoromethanesulfonyl) imide” and the like. Can be mentioned.
Specific examples of a salt of a quaternary ammonium-based cationic substance and an anion (counter ions in the brackets of the exemplified substance indicate counter ions) include N, N-dimethyl-N-ethyl-N- (2-methoxyethyl) Ammonium “tetrafluoroborate”, N, N-diethyl-N-methyl-N- (2-methoxyethyl) ammonium “tetrafluoroborate”, N, N-dimethyl-N-ethyl-N- (2-methoxy Ethyl) ammonium “bis (trifluoroethanesulfonyl) imide”, N, N-diethyl-N-methyl-N- (2-methoxyethyl) ammonium “bis (trifluoroethanesulfonyl) imide” and the like.
Specific examples of the salt of a quaternary phosphonium cationic substance and an anion (counter ions in the brackets of the exemplified substance indicate counter ions) include tetraethylphosphonium “tetrafluoroborate”, tetraphenylphosphonium “chloride” and the like. It is done.
Among these, the component (B1) is preferably a salt of a quaternary ammonium-based cationic substance and an anion, and N, N-dimethyl-N-ethyl-N- (2-methoxyethyl) ammonium and More preferred is a salt with an anion. In particular, tetrafluoroborate and bis (trifluoroethanesulfonyl) imide are preferable as the anion in this combination.
イオン液体は、前記(A2)成分との相溶性が低いため、イオン液体を帯電防止材料として用いる場合、従来の方法では効率良く積層構造体を形成することができないが、本発明の製造方法によれば、層間の密着性(以下、単に密着性と称する。)の高い積層構造体を効率良く製造することができる。
(B1)成分の使用量は、(A1)成分100質量部に対して、通常、好ましくは2〜40質量部、より好ましくは5〜30質量部、さらに好ましくは10〜25質量部である。この範囲であれば、積層構造体に十分な帯電防止性を付与しつつ、ハードコート性を損なわない。
Since the ionic liquid has low compatibility with the component (A2), when the ionic liquid is used as an antistatic material, a conventional method cannot form a laminated structure efficiently. According to this, it is possible to efficiently manufacture a laminated structure having high adhesion between layers (hereinafter simply referred to as adhesion).
The amount of component (B1) used is usually preferably 2 to 40 parts by mass, more preferably 5 to 30 parts by mass, and even more preferably 10 to 25 parts by mass with respect to 100 parts by mass of component (A1). If it is this range, hard coat property will not be impaired, providing sufficient antistatic property to a laminated structure.
((B2)イオン液体用マトリクスポリマー)
前記(B1)成分は、(B2)成分であるイオン液体用マトリクスポリマーと混合されてイオノゲルとなり、積層構造体において、高い導電性を有する高性能帯電防止層として機能する。
(B2)成分としては、イオン液体に対して高い相溶性を有し、イオン伝導性を阻害しない成膜性の高分子材料であれば特に制限は無く、公知のイオン液体用マトリクスポリマーから、(B1)成分として選択したイオン液体との相溶性が良いものを適宜選択すればよい。(B2)成分の具体例としては、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリエチレンイミン、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルピロリドン、セルロース、酢酸セルロース、グルコースオキシダーゼ、ペルオキシダーゼ、ポリアリルアミン塩酸塩、ポリオルガノシロキサンや、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム及びポリエチレンスルホン酸ナトリウム等のスルホン酸系ポリマー等が挙げられる。これらは、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。これらの中でも、(B1)成分として第4級アンモニウム系カチオン性物質とアニオンとの塩を使用する場合には、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、スルホン酸系ポリマーが好ましく、ポリエチレンオキシドがより好ましい。
(B2)成分の重量平均分子量は、(B1)成分との相溶性及び(A2)成分との非相溶性の観点から、通常、500〜1,000,000が好ましく、1,000〜700,000がより好ましく、2,000〜500,000がさらに好ましい。ここで、重量平均分子量は、ゲルパーミエションクロマトグラフィー(GPC)により測定したポリスチレン換算の値である。
(B2)成分の使用量に特に制限は無いが、通常、(B1)成分100質量部に対して好ましくは70〜200質量部であり、より好ましくは80〜150質量部であり、さらに好ましくは90〜130質量部である。この範囲であれば、(B1)成分と十分に相溶し、積層構造体に高い帯電防止性を付与することができる。
((B2) Matrix polymer for ionic liquid)
The component (B1) is mixed with the matrix polymer for ionic liquid as the component (B2) to form an ionogel, and functions as a high-performance antistatic layer having high conductivity in the laminated structure.
The component (B2) is not particularly limited as long as it is a film-forming polymer material that has high compatibility with the ionic liquid and does not inhibit ionic conductivity. From the known matrix polymer for ionic liquid, ( What has good compatibility with the ionic liquid selected as B1) component should just be selected suitably. Specific examples of the component (B2) include polystyrene, polyethylene, polyethyleneimine, polyethylene oxide, polypropylene oxide, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyacrylamide, polyurethane, polyvinyl chloride, polyvinylpyrrolidone, cellulose, cellulose acetate, glucose oxidase, Examples include peroxidase, polyallylamine hydrochloride, polyorganosiloxane, and sulfonic acid polymers such as sodium polystyrene sulfonate and sodium polyethylene sulfonate. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type. Among these, when a salt of a quaternary ammonium cationic substance and an anion is used as the component (B1), polyethylene oxide, polypropylene oxide, and sulfonic acid polymer are preferable, and polyethylene oxide is more preferable.
The weight average molecular weight of the component (B2) is usually preferably from 500 to 1,000,000, preferably from 1,000 to 700, from the viewpoint of compatibility with the component (B1) and incompatibility with the component (A2). 000 is more preferable, and 2,000 to 500,000 is more preferable. Here, the weight average molecular weight is a value in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC).
Although there is no restriction | limiting in particular in the usage-amount of (B2) component, Usually, it is preferably 70-200 mass parts with respect to 100 mass parts of (B1) component, More preferably, it is 80-150 mass parts, More preferably. 90 to 130 parts by mass. If it is this range, it will fully be compatible with (B1) component, and high antistatic property can be provided to a laminated structure.
((C)媒介溶剤)
(C)成分は、前記(A2)成分及び(B2)成分の両者と相溶性を有する、前記(A2)成分より沸点の低い媒介溶剤であり、「1液型」の塗工液を得るために必須の成分である。
また、(C)成分は、1液型の塗工液から優先的に揮発することにより、相溶性に乏しい又は相溶性の無い2層、つまり(A1)成分を含有する(A2)成分層[ハードコート層]と(B1)成分を含有する(B2)成分層[イオン液体層]とに層分離させることが可能であるため、層分離構造を有する積層構造体の形成に重要な役割を担う媒介溶剤である。
上記の通り、該(C)成分は前記(A2)成分より沸点が低い溶剤であるが、層分離構造をより容易に形成する観点から、(A2)成分の沸点よりも好ましくは5℃以上、より好ましくは10℃以上、より好ましくは20℃以上、より好ましくは30℃以上、さらに好ましくは40℃以上低い沸点を有する溶剤である。
以上のような(C)成分としては、例えば、アセトン、テトラヒドロフラン(THF)等のケトン系媒介溶剤;ジクロロメタン等のハロゲン系媒介溶剤等が挙げられ、沸点100℃以下の溶剤が好ましく、沸点80℃以下の溶剤がより好ましく、沸点70℃以下の溶剤がさらに好ましい。これらの中でも、密着性の高い積層構造体を効率良く形成する観点及び(A2)成分との沸点差の観点から、アセトン、テトラヒドロフラン、ジクロロメタンが好ましく、アセトン、テトラヒドロフランがより好ましい。
(C)成分の使用量に特に制限は無いが、均一な1液型塗工液を得る観点及び密着性の高い積層構造体を効率良く形成する観点から、前記(A2)成分及び(B2)成分の合計量100質量部に対して、通常、好ましくは100〜600質量部、より好ましくは150〜500質量部、より好ましくは200〜400質量部、さらに好ましくは250〜350質量部である。
((C) Mediator solvent)
The component (C) is a solvent having a lower boiling point than the component (A2), which is compatible with both the component (A2) and the component (B2), so as to obtain a “one-component” coating solution. Is an essential ingredient.
In addition, the component (C) is preferentially volatilized from the one-component type coating solution, so that the two layers with poor compatibility or incompatibility, that is, the component layer (A2) containing the component (A1) [A2] Hard coat layer] and (B2) component layer (ionic liquid layer) containing component (B1) can be separated into layers, so that it plays an important role in the formation of a laminated structure having a layer separation structure. It is a mediator solvent.
As described above, the component (C) is a solvent having a lower boiling point than the component (A2). However, from the viewpoint of forming a layer separation structure more easily, the boiling point of the component (A2) is preferably 5 ° C. or higher. More preferably, it is a solvent having a boiling point of 10 ° C. or higher, more preferably 20 ° C. or higher, more preferably 30 ° C. or higher, and still more preferably 40 ° C. or higher.
Examples of the component (C) include ketone-based mediating solvents such as acetone and tetrahydrofuran (THF); halogen-based mediating solvents such as dichloromethane. Solvents having a boiling point of 100 ° C. or lower are preferable, and boiling points of 80 ° C. The following solvents are more preferable, and solvents having a boiling point of 70 ° C. or lower are more preferable. Among these, acetone, tetrahydrofuran, and dichloromethane are preferable, and acetone and tetrahydrofuran are more preferable from the viewpoint of efficiently forming a laminated structure with high adhesion and a difference in boiling point from the component (A2).
Although there is no restriction | limiting in particular in the usage-amount of (C) component, from a viewpoint which obtains a uniform 1 liquid type coating liquid, and the viewpoint which forms a laminated structure with high adhesiveness efficiently, said (A2) component and (B2) It is usually preferably 100 to 600 parts by mass, more preferably 150 to 500 parts by mass, more preferably 200 to 400 parts by mass, and further preferably 250 to 350 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of components.
[工程2]
工程2は、工程1で得られた1液型塗工液を基材に塗布した後、前記(C)成分を揮発させることにより、(A1)成分を含有する(A2)成分層[ハードコート層]と(B1)成分を含有する(B2)成分層[イオン液体層]との層分離構造を有する塗工膜を形成する工程である。
本発明者らの検討によると、工程2では、全ての成分を均一にする効果を有する(C)成分が優先的に揮発することにより、残りの相溶性が無い又は相溶性に乏しい成分が次第に層分離していくものと考えられ、これにより層分離構造を形成することができた。(C)成分を揮発させる方法に特に制限は無いが、(C)成分の沸点以上且つ(A2)成分の沸点未満で加熱する方法が簡便であり好ましい。加熱は、オーブン等の、1液型塗工液を均一に加熱できる手段を用いることが好ましい。また、加熱時間に、(C)成分が十分に揮発される程度であれば特に制限は無いが、通常、好ましくは20秒〜5分、より好ましくは30秒〜4分、さらに好ましくは40秒〜2分である。
[Step 2]
In step 2, the one-component coating liquid obtained in step 1 is applied to a substrate, and then the component (C) is volatilized to contain (A1) component (A2) component layer [hard coat This is a step of forming a coating film having a layer separation structure of (layer) and (B2) component layer [ionic liquid layer] containing the component (B1).
According to the study by the present inventors, in Step 2, the component (C) having the effect of making all the components uniform is preferentially volatilized, so that the remaining incompatible or poorly compatible components are gradually added. It was considered that the layers were separated, and thus a layer separation structure could be formed. Although there is no restriction | limiting in particular in the method of volatilizing (C) component, The method heated more than the boiling point of (C) component and less than the boiling point of (A2) component is simple and preferable. The heating is preferably performed by means such as an oven that can uniformly heat the one-component coating solution. Further, the heating time is not particularly limited as long as the component (C) is sufficiently volatilized, but is usually preferably 20 seconds to 5 minutes, more preferably 30 seconds to 4 minutes, and even more preferably 40 seconds. ~ 2 minutes.
(基材)
上記基材に特に制限はなく、例えば光学用部材や建材用部材等によって適宜選択すればよい。光学用部材の場合は、光学用フィルムの基材として公知であるプラスチックフィルムの中から適宜選択して用いることができる。
このようなプラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ポリアミドフィルム、アクリル樹脂フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、シクロオレフィン樹脂フィルム等が挙げられる。
これらの基材は、透明、半透明のいずれであってもよく、また、着色されていてもよいし、無着色のものでもよく、用途に応じて適宜選択すればよい。例えば液晶表示体の保護用として用いる場合には、無色透明のフィルムが好適である。
基材の厚さに特に制限はなく、状況に応じて適宜選定すればよいが、通常、好ましくは15〜250μm、より好ましくは30〜200μmである。
(Base material)
There is no restriction | limiting in particular in the said base material, What is necessary is just to select suitably with the member for optics, the member for building materials, etc., for example. In the case of an optical member, it can be appropriately selected from plastic films known as base materials for optical films.
Examples of such plastic films include polyester films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, polyethylene films, polypropylene films, cellophane, diacetyl cellulose films, triacetyl cellulose films, acetyl cellulose butyrate films, polychlorinated films. Vinyl film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene-vinyl acetate copolymer film, polystyrene film, polycarbonate film, polymethylpentene film, polysulfone film, polyether ether ketone film, polyether sulfone film, polyetherimide film , Polyimide film, fluororesin film, Amide film, acrylic resin film, norbornene resin film, cycloolefin resin films or the like.
These substrates may be either transparent or translucent, may be colored, or may be uncolored, and may be appropriately selected depending on the application. For example, when used for protecting a liquid crystal display, a colorless and transparent film is suitable.
There is no restriction | limiting in particular in the thickness of a base material, Although what is necessary is just to select suitably according to a condition, Usually, it is preferably 15-250 micrometers, More preferably, it is 30-200 micrometers.
また、基材は、その表面に設けられる層との密着性を向上させる目的で、所望により片面又は両面に、酸化法や凹凸化法等によって表面処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、クロム酸処理(湿式)、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理等が挙げられ、また、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法等が挙げられる。これらの表面処理法は基材の種類に応じて適宜選ばれるが、一般には効果及び操作性等の面から、コロナ放電処理法が好ましく用いられる。
1液型塗工液を基材に塗布する方法に特に制限は無く、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等を用いてコーティングする方法が挙げられる。
Moreover, the base material can be surface-treated by an oxidation method, an uneven | corrugated method, etc. as needed for the purpose of improving the adhesiveness with the layer provided in the surface. Examples of the oxidation method include corona discharge treatment, chromic acid treatment (wet), flame treatment, hot air treatment, ozone / ultraviolet irradiation treatment and the like, and examples of the unevenness method include a sand blast method and a solvent treatment method. Is mentioned. These surface treatment methods are appropriately selected according to the type of the substrate, but in general, the corona discharge treatment method is preferably used from the viewpoints of effects and operability.
There is no particular limitation on the method of applying the one-component coating liquid to the substrate, and conventionally known methods such as bar coating, knife coating, roll coating, blade coating, die coating, and gravure coating are used. Coating method.
以上の工程1及び工程2により、1液型塗工液を用いた塗工膜の形成方法であって、(A1)活性エネルギー線硬化性のハードコート層形成成分、(A2)ハードコート層形成成分用溶剤、(B1)イオン液体、(B2)イオン液体用マトリクスポリマー、並びに(C)前記(A2)成分及び(B2)成分の両者と相溶性を有する、前記(A2)成分より沸点の低い媒介溶剤を混合し、1液型塗工液を得、得られた1液型塗工液を基材に塗布した後、前記(C)成分を揮発させることによる、層分離構造を有する塗工膜の形成方法を提供できる。 According to the above steps 1 and 2, a method for forming a coating film using a one-pack type coating liquid, comprising (A1) an active energy ray-curable hard coat layer forming component and (A2) hard coat layer formation Component solvent, (B1) ionic liquid, (B2) matrix polymer for ionic liquid, and (C) compatible with both (A2) component and (B2) component, lower boiling point than component (A2) Coating having a layer separation structure by volatilizing the component (C) after mixing a medium solvent to obtain a one-component coating solution, applying the obtained one-component coating solution to a substrate A method for forming a film can be provided.
[工程3]
工程3は、工程2によって得られた層分離構造を有する塗工膜から(A2)成分を揮発させる工程と、塗工膜に活性エネルギー線を照射することによって層分離構造中の(A1)成分を硬化させる工程とを有する工程である。
該工程3においては、塗工膜から(A2)成分を揮発させる工程は、活性エネルギー線照射の前後のいずれに有していてもよいが、活性エネルギー線の照射「前」に有している方が簡便であり好ましい。
活性エネルギー線としては、例えば紫外線や電子線等が挙げられる。紫外線は、高圧水銀ランプ、ヒュージョンHランプ、キセノンランプ等で得られる。一方、電子線は、電子線加速器等によって得られる。この活性エネルギー線の中では、特に紫外線が好適である。なお、電子線を使用する場合は、前記光重合開始剤を用いることなく、硬化膜を得ることができる。
(A2)成分を揮発させる方法に特に制限は無いが、例えば70〜120℃程度で加熱する方法等が挙げられる。加熱は、オーブン等の、塗工膜を均一に加熱できる手段を用いることが好ましい。
このようにして形成された塗工膜の厚さは、通常、0.5〜20μm程度、好ましくは1〜10μmである。
なお、塗工膜中の層分離構造の有無は、例えばスラブ型光導波路分光法を利用した界面紫外可視分光測定装置を用いて確認することができる。また、断面の走査型電子顕微鏡(SEM)や光学顕微鏡によっても確認することができる。
以上のようにして得られた積層構造体を有する光学用部材は、高い帯電防止機能を有しており、特に帯電防止性ハードコートフィルムとして有用である。
[Step 3]
Step 3 includes the step of volatilizing the component (A2) from the coating film having the layer separation structure obtained in Step 2, and the component (A1) in the layer separation structure by irradiating the coating film with active energy rays. And a step of curing.
In the step 3, the step of volatilizing the component (A2) from the coating film may be included before or after the irradiation with the active energy ray, but before the irradiation with the active energy ray. It is simpler and preferable.
Examples of the active energy rays include ultraviolet rays and electron beams. Ultraviolet rays are obtained with a high-pressure mercury lamp, a fusion H lamp, a xenon lamp or the like. On the other hand, an electron beam is obtained by an electron beam accelerator or the like. Among these active energy rays, ultraviolet rays are particularly preferable. In addition, when using an electron beam, a cured film can be obtained without using the said photoinitiator.
(A2) Although there is no restriction | limiting in particular in the method of volatilizing a component, For example, the method of heating at about 70-120 degreeC etc. are mentioned. It is preferable to use a means that can uniformly heat the coating film, such as an oven.
Thus, the thickness of the coating film formed is about 0.5-20 micrometers normally, Preferably it is 1-10 micrometers.
In addition, the presence or absence of the layer separation structure in the coating film can be confirmed using, for example, an interfacial ultraviolet-visible spectroscopic measurement apparatus using slab type optical waveguide spectroscopy. Moreover, it can also confirm with the scanning electron microscope (SEM) and optical microscope of a cross section.
The optical member having the laminated structure obtained as described above has a high antistatic function, and is particularly useful as an antistatic hard coat film.
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によって何ら限定されるものではない。
なお、各例で得られた塗工膜の層分離構造の有無の調査、並びに各例で得られた積層構造体の表面抵抗率及び密着性の測定を、以下に示す方法に従って行った。
EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited at all by these examples.
In addition, the investigation of the presence or absence of the layer separation structure of the coating film obtained in each example, and the measurement of the surface resistivity and adhesion of the laminated structure obtained in each example were performed according to the following methods.
(1)層分離構造の有無
石英製光導波路基板(システムインスツルメンツ社製)に、塗工膜の塗工面側及びその裏面側をそれぞれ完全に密着させ、スラブ型光導波路分光法を利用した界面紫外可視分光測定装置「SIS−50型」(システムインスツルメンツ社製)を用いてエバネッセント波吸収特性を調査した。
塗工面側と裏面(基材側)のエバネッセント波吸収特性に大きな差が得られた場合に、効果的に層分離構造が形成されたと判断した。
(2)帯電防止性
(2−1)高抵抗率計「ハイレスタ(登録商標)UP」(三菱化学株式会社製)を用い、印加電圧100V、10秒にて表面抵抗率(Ω/□)の測定を行い、帯電防止性の指標とした。光学部材や建材において、帯電防止機能としては、表面抵抗率1010Ω/□以下が要求され、これを超えると不良である。
(2−2)各積層構造体を、90℃のオーブン中に250時間静置した後、上記(2−1)と同様の方法により、表面抵抗値を測定し、高温環境下に置かれた場合における帯電防止性(以下、高温帯電防止性と称する。)の指標とした。
(3)密着性
JIS K5600−5−6に準拠し、イオン液体層とハードコート層との密着性を評価した。なお、剥離後の残りをパーセンテージで表した。剥離後の残りが100%に近いほど、イオン液体層とハードコート層との密着性が良好である。
(1) Presence / absence of layer separation structure A quartz optical waveguide substrate (manufactured by System Instruments Co., Ltd.) is in close contact with the coated film side and the back side thereof, and interfacial ultraviolet using slab type optical waveguide spectroscopy. The evanescent wave absorption characteristics were investigated using a visible spectroscopic measurement apparatus “SIS-50 type” (manufactured by System Instruments).
When a large difference was obtained in the evanescent wave absorption characteristics between the coated surface side and the back surface (base material side), it was determined that the layer separation structure was effectively formed.
(2) Antistatic property (2-1) Using a high resistivity meter “HIRESTA (registered trademark) UP” (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), the surface resistivity (Ω / □) can be obtained at an applied voltage of 100 V for 10 seconds. Measurement was performed and used as an antistatic index. In an optical member or a building material, a surface resistivity of 10 10 Ω / □ or less is required as an antistatic function.
(2-2) After leaving each laminated structure in a 90 ° C. oven for 250 hours, the surface resistance value was measured by the same method as in (2-1) above and placed in a high-temperature environment. It was used as an index of antistatic property in the case (hereinafter referred to as high temperature antistatic property).
(3) Adhesiveness Based on JIS K5600-5-6, the adhesiveness of an ionic liquid layer and a hard-coat layer was evaluated. In addition, the remainder after peeling was expressed in percentage. The closer the remaining after peeling is to 100%, the better the adhesion between the ionic liquid layer and the hard coat layer.
<製造例1>塗工液1
室温にて、下記表1に示すとおりに全成分を混合し、塗工液1を調製した。
All components were mixed as shown in Table 1 below at room temperature to prepare a coating liquid 1.
<製造例2>塗工液2
製造例1において、(B1)成分のN,N−ジメチル−N−エチル−N−(2−メトキシエチル)アンモニウム テトラフルオロボラートを、N,N−ジメチル−N−エチル−N−(2−メトキシエチル)アンモニウム ビス(トリフルオロエタンスルホニル)イミド(関東化学株式会社製)に代え、(C)成分のアセトンをテトラヒドロフランに代えたこと以外は同様にして全成分を混合し、塗工液2を得た。
<Production Example 2> Coating liquid 2
In Production Example 1, N, N-dimethyl-N-ethyl-N- (2-methoxyethyl) ammonium tetrafluoroborate as component (B1) was mixed with N, N-dimethyl-N-ethyl-N- (2- In place of methoxyethyl) ammonium bis (trifluoroethanesulfonyl) imide (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.), all components were mixed in the same manner except that acetone of component (C) was replaced with tetrahydrofuran, and coating solution 2 was Obtained.
<製造例3及び4>順次形成用塗工液
製造例1における表1中の(A1)成分と(A2)成分とを、表1に記載の配合量で室温にて混合して塗工液3とし、別途(B1)成分と(B2)成分とを、表1に記載の配合量で室温にて混合して塗工液4とした。
<Manufacture examples 3 and 4> Coating liquid for formation sequentially The coating liquid which mixes (A1) component and (A2) component of Table 1 in manufacture example 1 with the compounding quantity of Table 1 at room temperature. The component (B1) and the component (B2) were separately mixed at room temperature in the amounts shown in Table 1 to obtain a coating solution 4.
<製造例5>
製造例1において、(C)成分を用いなかったこと以外は同様にして全成分を混合したところ、プロピレングリコールモノメチルエーテル層(上層)とイオン液体層(下層)に分離し、1液にて均質に塗布できるような塗工液を得ることはできなかった。
<Production Example 5>
In Production Example 1, all components were mixed in the same manner except that the component (C) was not used, and separated into a propylene glycol monomethyl ether layer (upper layer) and an ionic liquid layer (lower layer), and homogeneous in one liquid It was not possible to obtain a coating solution that could be applied to the surface.
<実施例1>
基材(東洋紡績株式会社製PETフィルム、製品名「A−4100」、厚み100μm)上に、製造例1で得た塗工液1をバーコーティングにより塗布した後、内温60℃のオーブン中で1分間保持し、(C)成分を揮発させた。ここで、前記方法により、塗工膜は層分離構造[(A1)・(A2)層/(B1)・(B2)層]を有していることを確認した。次いで、内温80℃のオーブン中で30秒間保持することにより、塗工膜中の(A2)成分を揮発させた。その後、紫外線を照射(積算光量:100mJ/cm2)して塗工膜を硬化させ、厚み1μmの積層構造体1を得た。
得られた積層構造体1の帯電防止性、高温帯電防止性及び密着性の測定を行った結果を表2に示す。
<Example 1>
On the base material (Toyobo Co., Ltd. PET film, product name “A-4100”, thickness 100 μm), the coating liquid 1 obtained in Production Example 1 was applied by bar coating, and then in an oven at an internal temperature of 60 ° C. And kept for 1 minute to volatilize the component (C). Here, it was confirmed by the above method that the coating film had a layer separation structure [(A1) · (A2) layer / (B1) · (B2) layer]. Subsequently, (A2) component in a coating film was volatilized by hold | maintaining for 30 second in oven with an internal temperature of 80 degreeC. Thereafter, ultraviolet rays were applied (accumulated light amount: 100 mJ / cm 2 ) to cure the coating film, and a laminated structure 1 having a thickness of 1 μm was obtained.
Table 2 shows the results of measurement of antistatic properties, high-temperature antistatic properties and adhesion of the laminated structure 1 obtained.
<実施例2>
実施例1において、塗工液1の代わりに製造例2で得た塗工液2を用いたこと以外は同様にして実験を行い、積層構造体2を得た。なお、実施例2においても、(C)成分を揮発させて得た塗工膜は、層分離構造を有していた。
得られた積層構造体2の帯電防止性、高温帯電防止性及び密着性の測定を行った結果を表2に示す。
<Example 2>
A laminated structure 2 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the coating liquid 2 obtained in Production Example 2 was used instead of the coating liquid 1. In Example 2 as well, the coating film obtained by volatilizing the component (C) had a layer separation structure.
Table 2 shows the results of measurement of antistatic property, high-temperature antistatic property and adhesion of the laminated structure 2 obtained.
<比較例1>タンデム塗工方式
基材(東洋紡績社製PETフィルム、製品名「A−4100」厚み100μm)上に、製造例4で得た塗工液4をバーコーティングにより塗布し、続いてバーコーティングにより製造例3で得た塗工液3を塗工液4上に塗布した後、内温80℃のオーブン中で30秒間乾燥させ、次いで紫外線を積算光量が100mJ/cm2になるように照射して塗工膜を硬化させ、厚み3μmの積層構造体3を得た。
得られた積層構造体3の帯電防止性、高温帯電防止性及び密着性の測定を行った結果を表2に示す。
<Comparative Example 1> Tandem coating method The coating liquid 4 obtained in Production Example 4 was applied by bar coating on a base material (PET film manufactured by Toyobo Co., Ltd., product name “A-4100” thickness 100 μm). After coating the coating liquid 3 obtained in Production Example 3 on the coating liquid 4 by bar coating, the coating liquid 4 is dried in an oven at an internal temperature of 80 ° C. for 30 seconds, and then the total amount of ultraviolet light is 100 mJ / cm 2 . In this way, the coating film was cured to obtain a laminated structure 3 having a thickness of 3 μm.
Table 2 shows the results of measurement of antistatic properties, high-temperature antistatic properties and adhesion of the laminated structure 3 obtained.
表2より、本発明の方法(実施例1及び2)で得られた積層構造体は、同じ材料を用いて従来のタンデム塗工方式により作製した積層構造体(比較例1)に比べて、密着性が高いことがわかる。さらに、同じイオン液体を使用しているにも関らず、初期帯電防止性及び高温環境下に置かれた場合の帯電防止性までもが向上したことが分かる。ゆえに、本発明の方法に従うと、簡易な1液型塗工方法によって、より信頼性及び性能の高い帯電防止性ハードコートフィルムを製造できることが分かる。 From Table 2, the laminated structure obtained by the method of the present invention (Examples 1 and 2) was compared with the laminated structure (Comparative Example 1) produced by the conventional tandem coating method using the same material. It can be seen that the adhesion is high. Further, it can be seen that even though the same ionic liquid is used, the initial antistatic property and the antistatic property when placed in a high temperature environment are improved. Therefore, according to the method of the present invention, it can be seen that an antistatic hard coat film having higher reliability and performance can be produced by a simple one-component coating method.
本発明の製造方法は、光学用や建材用等として有用な、例えば帯電防止膜等の機能膜が設けられた積層構造体の製造方法として利用できる。本発明により得られる積層構造体は、例えばディスプレイ分野において用いられる反射防止フィルム、防眩フィルム、ハードコートフィルム等の保護フィルム等の光学用部材として有用である。 The production method of the present invention can be used as a production method of a laminated structure provided with a functional film such as an antistatic film, which is useful for optics, building materials, and the like. The laminated structure obtained by the present invention is useful as an optical member such as a protective film such as an antireflection film, an antiglare film, or a hard coat film used in the display field.
Claims (7)
工程1:(A1)活性エネルギー線硬化性のハードコート層形成成分、(A2)ハードコート層形成成分用溶剤、(B1)イオン液体、(B2)イオン液体用マトリクスポリマー、及び(C)前記(A2)成分及び(B2)成分の両者と相溶性を有する、前記(A2)成分より沸点の低い媒介溶剤を混合し、1液型塗工液を得る工程。
工程2:工程1で得られた1液型塗工液を基材に塗布した後、前記(C)成分を揮発させることにより層分離構造を有する塗工膜を形成する工程。
工程3:工程2の後、塗工膜中の前記(A2)成分を揮発させる工程と、塗工膜へ活性エネルギー線を照射する工程とを有する工程。 A method for producing a laminated structure using a one-component coating liquid, comprising the following steps 1 to 3 in this order: an ionic liquid layer and a hard coat layer.
Step 1: (A1) Active energy ray-curable hard coat layer forming component, (A2) Hard coat layer forming component solvent, (B1) ionic liquid, (B2) matrix polymer for ionic liquid, and (C) ( A step of mixing a solvent having a lower boiling point than the component (A2) having compatibility with both the component A2) and the component (B2) to obtain a one-component coating solution.
Process 2: The process of forming the coating film which has a layer-separation structure by volatilizing the said (C) component, after apply | coating the 1-component coating liquid obtained at the process 1 to the base material.
Process 3: The process which has the process of volatilizing the said (A2) component in a coating film after the process 2, and the process of irradiating an active energy ray to a coating film.
(A1)活性エネルギー線硬化性のハードコート層形成成分、
(A2)ハードコート層形成成分用溶剤、
(B1)イオン液体、
(B2)イオン液体用マトリクスポリマー、並びに
(C)前記(A2)成分及び(B2)成分の両者と相溶性を有する、前記(A2)成分より沸点の低い媒介溶剤
を混合し、1液型塗工液を得、得られた1液型塗工液を基材に塗布した後、前記(C)成分を揮発させることによる、層分離構造を有する塗工膜の形成方法。 A method for forming a coating film using a one-component coating liquid,
(A1) Active energy ray-curable hard coat layer forming component,
(A2) Hard coat layer forming component solvent,
(B1) ionic liquid,
(B2) Mixing a matrix polymer for ionic liquid, and (C) a solvent having a lower boiling point than the component (A2), which is compatible with both the component (A2) and the component (B2), A method for forming a coating film having a layer separation structure by volatilizing the component (C) after obtaining a working solution and applying the obtained one-component coating solution to a substrate.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009225454A JP2011072878A (en) | 2009-09-29 | 2009-09-29 | Method of producing laminate, laminate, optical component, and method of producing coating film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009225454A JP2011072878A (en) | 2009-09-29 | 2009-09-29 | Method of producing laminate, laminate, optical component, and method of producing coating film |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011072878A true JP2011072878A (en) | 2011-04-14 |
Family
ID=44017457
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009225454A Pending JP2011072878A (en) | 2009-09-29 | 2009-09-29 | Method of producing laminate, laminate, optical component, and method of producing coating film |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011072878A (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011154352A (en) * | 2009-12-28 | 2011-08-11 | Dainippon Printing Co Ltd | Optical film, method for forming the same, polarizing plate, display panel, and display |
JP2013023525A (en) * | 2011-07-19 | 2013-02-04 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | Active energy ray curable antistatic composition, and optical film |
JP2014051652A (en) * | 2012-08-07 | 2014-03-20 | Nof Corp | Coating type antistatic agent |
WO2015037549A1 (en) * | 2013-09-12 | 2015-03-19 | 富士フイルム株式会社 | Composite film |
JP2017054129A (en) * | 2011-05-25 | 2017-03-16 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | Light control film |
-
2009
- 2009-09-29 JP JP2009225454A patent/JP2011072878A/en active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011154352A (en) * | 2009-12-28 | 2011-08-11 | Dainippon Printing Co Ltd | Optical film, method for forming the same, polarizing plate, display panel, and display |
JP2017054129A (en) * | 2011-05-25 | 2017-03-16 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | Light control film |
JP2013023525A (en) * | 2011-07-19 | 2013-02-04 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | Active energy ray curable antistatic composition, and optical film |
JP2014051652A (en) * | 2012-08-07 | 2014-03-20 | Nof Corp | Coating type antistatic agent |
WO2015037549A1 (en) * | 2013-09-12 | 2015-03-19 | 富士フイルム株式会社 | Composite film |
JP2015077786A (en) * | 2013-09-12 | 2015-04-23 | 富士フイルム株式会社 | Composite film |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2631068B1 (en) | Laminate body and manufacturing method thereof | |
CN102239432B (en) | Anti-glare film comprising anti-glare agent with a shape overlapped two anti-glare particles and method of manufacturing the same | |
JP6034210B2 (en) | Composition for substrate treatment, method for producing laminate substrate, and laminate substrate | |
TW201232018A (en) | Antistatic hardcoat film, process for producing same, polarizer, and image display device | |
TWI479179B (en) | Optical film, method of producting optical film, polarizer, display panel, and display | |
JP5988867B2 (en) | Transparent conductive film | |
TW201128216A (en) | Method for producing optical film, optical film, polarizer and display | |
JP5063141B2 (en) | Method for producing antiglare hard coat film | |
JP2013241556A (en) | Antistatic hard coat layer forming composition, optical film, optical film manufacturing method, polarizing plate, and image display device | |
JP2012214004A (en) | Antistatic laminate, optical film, polarizing plate, image display device and production method of antistatic laminate | |
JP2011072878A (en) | Method of producing laminate, laminate, optical component, and method of producing coating film | |
JP2005314671A (en) | Method for producing conductive resin cured product and composition for conductive resin cured product | |
JP2009262148A (en) | Method of manufacturing multilayer coating film | |
TW201636216A (en) | Transparent conductive film | |
KR20160117165A (en) | Transparent conductive film | |
TWI389798B (en) | An anti-reflectance film | |
JP2011072881A (en) | Method of producing laminate, laminate, optical component, and method of forming coating film | |
JP2009262149A (en) | Method of manufacturing multilayer coating film and optical member | |
TWI482705B (en) | Curable resin composition for antistatic layer, optical film, polarizing plate and display panel | |
JP2010143213A (en) | Hard coat film, method for manufacturing hard coat film, transparent conductive laminate, optical element, and electronic instrument | |
JP6401745B2 (en) | Antistatic method for optical film, polarizing plate and display | |
WO2017057526A1 (en) | Hard coat film, polarizing plate, and image display device | |
JP2010110751A (en) | Method of producing multilayered coating film | |
JP2010082565A (en) | Method of producing multilayered coating film using magnetic field | |
JP6235079B2 (en) | Composition for substrate treatment, method for producing laminate substrate, and laminate substrate |