JP2011068946A - Rotary target assembly and rotary target - Google Patents

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Chung-Han Wu
忠翰 呉
Wei-Hsun Hsu
偉勳 許
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a rotary target assembly forming a rotary target in which a cylindrical target and a cylindrical supporting pipe are firmly combined. <P>SOLUTION: The rotary target assembly includes a cylindrical target and a cylindrical supporting pipe. The difference between the inside diameter of the cylindrical target and the outside diameter of the cylindrical supporting pipe is substantially equal to a value obtained by multiplying the yield strain of the target material by the inside diameter of the cylindrical target and N. In this case, the N is a value in the range from 1 to 10. The difference can be adjusted by the dimensions of the target material and the cylindrical target, and, as a result, the cylindrical target can be firmly bonded to the cylindrical supporting pipe. In this way, the thermal conductivity and electric conductivity of the rotary target improve. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、回転ターゲットに関し、特に円筒形ターゲット及び該円筒形ターゲットに強固に結合された円筒形支持管を有する回転ターゲットに関する。   The present invention relates to a rotating target, and more particularly, to a rotating target having a cylindrical target and a cylindrical support tube firmly coupled to the cylindrical target.

一般に、マグネトロンスパッタリング法において、平面ターゲットが使用されている。スパッタリングは、ターゲットの表面に実施され、磁力線がターゲット表面に接する所に最高のプラズマ密度の部分を集中させる。このため、レーストラック状の浸食模様が、スパッタリング後のターゲット表面上に形成される。平面ターゲットは、約35%〜50%の使用率である。   In general, a planar target is used in the magnetron sputtering method. Sputtering is performed on the surface of the target and concentrates the portion of the highest plasma density where the magnetic field lines are in contact with the target surface. For this reason, a racetrack-like erosion pattern is formed on the surface of the target after sputtering. The planar target has a usage rate of about 35% to 50%.

このため、回転ターゲットの使用率は、スパッタリングの費用を減少させるべく、最大で70%〜80%であり、長寿命を有する。   For this reason, the usage rate of the rotating target is 70% to 80% at the maximum in order to reduce the cost of sputtering, and has a long life.

回転ターゲットは、円筒形ターゲット及び円筒形支持管を有する。回転ターゲットのターゲット結合は、平面ターゲットのターゲット結合より複雑である。従来の方法は、円筒形ターゲットと該円筒形ターゲットの内径より小さい外径を有する前記円筒形支持管とを準備すること、前記円筒形支持管を前記円筒形ターゲットに挿入すること、及び該円筒形ターゲットと前記円筒形支持管とを結合すべく、前記円筒形ターゲットと前記円筒形支持管との間の隔たりに低融点の金属で作られたはんだを塗布することを含む。前記円筒形ターゲット及び前記円筒形支持管をはんだつけするとき、前記回転ターゲットに圧力を加えることが難しく、その結果、前記円筒形ターゲットは、前記円筒形支持管に強固に結合することができない。   The rotating target has a cylindrical target and a cylindrical support tube. Target binding for rotating targets is more complex than target binding for planar targets. Conventional methods include providing a cylindrical target and the cylindrical support tube having an outer diameter smaller than the inner diameter of the cylindrical target, inserting the cylindrical support tube into the cylindrical target, and the cylinder Applying a solder made of a low-melting metal to a gap between the cylindrical target and the cylindrical support tube to bond the shaped target and the cylindrical support tube. When soldering the cylindrical target and the cylindrical support tube, it is difficult to apply pressure to the rotating target, and as a result, the cylindrical target cannot be firmly bonded to the cylindrical support tube.

特開平11−071667号公報は、熱膨張及び収縮の理論に従って前記円筒形支持管を前記円筒形ターゲットに挿入すること及び前記円筒形支持管と前記円筒形ターゲットとを結合するために機械力を使用することを含む回転ターゲットの製造方法を開示する。前記円筒形ターゲットの内径と前記円筒形支持管の外径との間の差は、0.01mmから0.5mmであるが、該差と回転ターゲットの寸法との間の関連性を全く考慮していない。George M.Wityak‘s Research(Society of Vacuum Coaters,49th Annual Technical Conference Proceedings,2005)によれば、前記差と前記回転ターゲットの寸法とが適切に調整されず、円筒形ターゲットと円筒形支持管とを取り外すことができないにもかかわらず、前記回転ターゲットは、該回転ターゲットの温度の変化及び電気アークの発生周波数に比例して低い熱伝導率及び導電率を有することを見出すことができる。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-071667 discloses a mechanical force for inserting the cylindrical support tube into the cylindrical target according to the theory of thermal expansion and contraction and for coupling the cylindrical support tube and the cylindrical target. Disclosed is a method of manufacturing a rotating target that includes using. The difference between the inner diameter of the cylindrical target and the outer diameter of the cylindrical support tube is from 0.01 mm to 0.5 mm, but the relationship between the difference and the dimensions of the rotating target is completely taken into account. Not. George M.M. According to Wityak's Research (Society of Vacuum Coats, 49th Annual Technical Conference Processings, 2005), the difference and dimensions of the rotating target are not properly adjusted, and the cylindrical target and the cylindrical support tube are removed. In spite of this, it can be found that the rotating target has a low thermal conductivity and conductivity in proportion to the temperature change of the rotating target and the frequency of occurrence of the electric arc.

特開平11−071667号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-071667 George M.Wityak‘s Research、Society of Vacuum Coaters、49th Annual Technical Conference Proceedings、2005George M.M. Wityak's Research, Society of Vacuum Coators, 49th Annual Technical Conference Processings, 2005

本発明の主な目的は、円筒形ターゲットと円筒形支持管とが強固に結合された回転ターゲットを形成する回転ターゲット組立体を提供することである。   A main object of the present invention is to provide a rotating target assembly that forms a rotating target in which a cylindrical target and a cylindrical support tube are firmly coupled.

前記目的を解決するために、本発明に係る回転ターゲット組立体は、円筒形ターゲットと円筒形支持管とを含む。円筒形ターゲットの内径と円筒形支持管の外径との間の差は、ターゲット材料の降伏ひずみに前記円筒形ターゲットの内径及びNを乗じた値に実質的に等しい。ここでNは1と10との間の値である。   In order to solve the above-mentioned object, a rotating target assembly according to the present invention includes a cylindrical target and a cylindrical support tube. The difference between the inner diameter of the cylindrical target and the outer diameter of the cylindrical support tube is substantially equal to the yield strain of the target material multiplied by the inner diameter and N of the cylindrical target. Here, N is a value between 1 and 10.

前記差は前記ターゲット材料と、前記円筒形ターゲットの寸法とにより調節することができ、結果として、前記円筒形ターゲットは円筒形支持管に強固に結合することができる。そのため、前記回転ターゲットの熱伝導率及び導電率は向上する。   The difference can be adjusted by the target material and the dimensions of the cylindrical target, and as a result, the cylindrical target can be firmly bonded to a cylindrical support tube. Therefore, the thermal conductivity and conductivity of the rotating target are improved.

本発明に係る回転ターゲット組立体の展開図。The expanded view of the rotation target assembly which concerns on this invention. 本発明に係る回転ターゲット組立体の円筒形支持管の端面図。The end view of the cylindrical support tube of the rotation target assembly which concerns on this invention. 本発明に係る回転ターゲット組立体の円筒形ターゲットの端面図。1 is an end view of a cylindrical target of a rotating target assembly according to the present invention. FIG. 本発明に係る回転ターゲット組立体の実施例の分解斜視図。The disassembled perspective view of the Example of the rotation target assembly which concerns on this invention. 本発明に係る回転ターゲット組立体の別の実施例の分解斜視図。The disassembled perspective view of another Example of the rotation target assembly which concerns on this invention.

図1を参照するに、本発明に係る回転ターゲット組立体は、円筒形ターゲット(10)と円筒形支持管(20)とを有する。円筒形ターゲット(10)は、外管として機能し、ターゲット材料から成り、内径を有する。円筒形支持管(20)は、内管として機能し、円筒形ターゲット(10)内に挿入して使用され、また外径を有する。円筒形ターゲット(10)の前記内径は、円筒形支持管(20)の前記外径より小さい。円筒形ターゲット(10)の前記内径と円筒形支持管(20)の前記外径との間の差は、ターゲット材料の降伏ひずみに円筒形ターゲット(10)の前記内径及びNを乗じた値に実質的に等しい。ここでNは1と10との間の値である。   Referring to FIG. 1, the rotating target assembly according to the present invention includes a cylindrical target (10) and a cylindrical support tube (20). The cylindrical target (10) functions as an outer tube, is made of a target material, and has an inner diameter. The cylindrical support tube (20) functions as an inner tube, is used by being inserted into the cylindrical target (10), and has an outer diameter. The inner diameter of the cylindrical target (10) is smaller than the outer diameter of the cylindrical support tube (20). The difference between the inner diameter of the cylindrical target (10) and the outer diameter of the cylindrical support tube (20) is obtained by multiplying the yield strain of the target material by the inner diameter and N of the cylindrical target (10). Substantially equal. Here, N is a value between 1 and 10.

Rは円筒形ターゲット(10)の前記内径を、rは円筒形支持管(20)の前記外径をそれぞれ示し、rはRより大きい。加熱されたとき、円筒形ターゲット(10)と円筒形支持管(20)との間で温度差が生ずる。熱膨張及び収縮の理論によれば、R´はR(1+K)に実質的に等しく、r´はr(1+K)に実質的に等しい。R´は円筒形ターゲット(10)の変形後の該円筒形ターゲットの前記内径を、r´は円筒形支持管(20)の変形後の該円筒形支持管の前記外径をそれぞれ示している。Kは円筒形ターゲット(10)の熱膨張率を、Kは円筒形支持管(20)の熱膨張率をそれぞれ示している。Tは膨張又は収縮前後の円筒形ターゲット(10)の温度の温度差を、Tは膨張又は収縮前後の円筒形支持管(20)の温度の温度差をそれぞれ示している。R´がr´より大きいとき、円筒形支持管(20)は、円筒形ターゲット(10)に挿入することができる。 R represents the inner diameter of the cylindrical target (10), r represents the outer diameter of the cylindrical support tube (20), and r is larger than R. When heated, there is a temperature difference between the cylindrical target (10) and the cylindrical support tube (20). According to the theory of thermal expansion and contraction, R ′ is substantially equal to R (1 + K a T a ) and r ′ is substantially equal to r (1 + K b T b ). R ′ represents the inner diameter of the cylindrical target after deformation of the cylindrical target (10), and r ′ represents the outer diameter of the cylindrical support tube after deformation of the cylindrical support tube (20). . K a indicates the thermal expansion coefficient of the cylindrical target (10), and K b indicates the thermal expansion coefficient of the cylindrical support tube (20). T a indicates the temperature difference of the temperature of the cylindrical target (10) before and after expansion or contraction, and T b indicates the temperature difference of the temperature of the cylindrical support tube (20) before and after expansion or contraction. When R ′ is greater than r ′, the cylindrical support tube (20) can be inserted into the cylindrical target (10).

円筒形ターゲット(10)の前記内径と円筒形支持管(20)の前記外径との間の差は、円筒形ターゲット(10)及び円筒形支持管(20)の強固並びに円筒形ターゲット(10)及び円筒形支持管(20)の耐えうる応力を決定する。   The difference between the inner diameter of the cylindrical target (10) and the outer diameter of the cylindrical support tube (20) is due to the robustness of the cylindrical target (10) and the cylindrical support tube (20) and the cylindrical target (10). ) And the stress that the cylindrical support tube (20) can withstand.

本発明の好ましい差は、ターゲット材料の降伏ひずみにターゲット材料の内径及びNを乗じた値に実質的に等しくすべきである。ここでNは1と10との間の値である。前記差が前記好ましい差より小さいとき、得られる回転ターゲットは低い熱伝導率及び導電率を有し、結果としてスパッタリング中に温度が望ましくない上昇をし、異常に放電する。前記差が前記好ましい差より大きいとき、前記回転ターゲットは変形し、損傷し、使用することができない。   The preferred difference of the present invention should be substantially equal to the yield strain of the target material multiplied by the inner diameter and N of the target material. Here, N is a value between 1 and 10. When the difference is less than the preferred difference, the resulting rotating target has low thermal conductivity and conductivity, resulting in an undesirably elevated temperature during sputtering and abnormal discharge. When the difference is greater than the preferred difference, the rotating target is deformed, damaged and cannot be used.

円筒形ターゲット(10)及び円筒形支持管(20)は、少しもはんだを付けることなく強固に結合することができる。さらに、熱伝導率、導電率及び円筒形ターゲット(10)と円筒形支持管(20)との結合を向上させるために、中間体は円筒形ターゲット(10)の前記内面と円筒形支持管(20)の前記外面との間に適用させることができる。   The cylindrical target (10) and the cylindrical support tube (20) can be firmly bonded without any soldering. Furthermore, in order to improve the thermal conductivity, conductivity and the coupling between the cylindrical target (10) and the cylindrical support tube (20), the intermediate is the inner surface of the cylindrical target (10) and the cylindrical support tube ( 20) and the outer surface.

図2及び図3を参照するに、円筒形ターゲット(10)は内面(11)に形成された少なくとも1つの内側の溝(12)を備え、該内側の溝は中間体(30)で満たされていてもよい。円筒形支持管(20)は外面(21)に形成された少なくとも1つの外側の溝(22)を備え、該外側の溝は中間体(30)で満たされていてもよい。中間体(30)は、導電性材料から成り、円筒形ターゲット(10)及び円筒形支持管(20)の組立の前後に内側の溝(12)及び/又は外側の溝(22)に取り付けることができる。   Referring to FIGS. 2 and 3, the cylindrical target (10) comprises at least one inner groove (12) formed in the inner surface (11), the inner groove being filled with an intermediate body (30). It may be. The cylindrical support tube (20) comprises at least one outer groove (22) formed in the outer surface (21), which outer groove may be filled with an intermediate body (30). The intermediate body (30) is made of a conductive material and is attached to the inner groove (12) and / or the outer groove (22) before and after assembly of the cylindrical target (10) and the cylindrical support tube (20). Can do.

図4を参照するに、1つの実施例において円筒形ターゲット(10)は、近位端(13)と、遠位端(14)とを備える。内側の溝(12)は、近位端(13)又は遠位端(14)に隣接する内面(11)に形成されている。円筒形支持管(20)は、近位端(23)と、遠位端(24)とを備える。外側の溝(22)は、近位端(23)又は遠位端(24)にそれぞれ隣接する外面(21)に形成されている。溝(12)、(22)は、間隔をおいて形成してもよく、環状溝を形成することにより相互に連絡してもよい。図5を参照するに、他の実施例において各内側の溝(12´)又は外側の溝(22´)は前記近位端から前記遠位端までの長手方向の溝である。各溝は、直線、螺旋又は同種のものでもよい。   Referring to FIG. 4, in one embodiment, the cylindrical target (10) comprises a proximal end (13) and a distal end (14). The inner groove (12) is formed in the inner surface (11) adjacent to the proximal end (13) or the distal end (14). The cylindrical support tube (20) comprises a proximal end (23) and a distal end (24). An outer groove (22) is formed in the outer surface (21) adjacent to the proximal end (23) or the distal end (24), respectively. The grooves (12), (22) may be formed at intervals or may be communicated with each other by forming an annular groove. Referring to FIG. 5, in another embodiment, each inner groove (12 ') or outer groove (22') is a longitudinal groove from the proximal end to the distal end. Each groove may be straight, spiral or the like.

本発明は回転ターゲット組立体を含む回転ターゲットを提供する。円筒形支持管(20)は、円筒形ターゲット(10)に取り付けられ、該円筒形ターゲットに強固に結合されている。   The present invention provides a rotating target including a rotating target assembly. The cylindrical support tube (20) is attached to the cylindrical target (10) and is firmly coupled to the cylindrical target.

[例]
[回転ターゲットの製造方法]
[例1]
132.5mmの内径を有する銀の円筒形ターゲット及び133.0mmの外径を有するステンレス鋼の円筒形支持管を提供する。銀の熱膨張率は約19.5×10−6/Kである。前記銀の円筒形ターゲットは、25℃から500℃まで加熱され、前記内径は133.7mmへ拡大される。前記ステンレス鋼の円筒形支持管は25℃であり、該支持管は回転ターゲットを形成すべく前記銀の円筒形ターゲットに挿入される。前記回転ターゲットは室温まで冷却され、組み立てられる。前記銀の円筒形ターゲットと前記ステンレス鋼の円筒形支持管との間の差は0.5mmであり、銀の降伏ひずみは0.25%であり、Nは1.5である。
[Example]
[Method of manufacturing rotating target]
[Example 1]
A silver cylindrical target having an inner diameter of 132.5 mm and a stainless steel cylindrical support tube having an outer diameter of 133.0 mm are provided. The coefficient of thermal expansion of silver is about 19.5 × 10 −6 / K. The silver cylindrical target is heated from 25 ° C. to 500 ° C., and the inner diameter is expanded to 133.7 mm. The stainless steel cylindrical support tube is at 25 ° C., and the support tube is inserted into the silver cylindrical target to form a rotating target. The rotating target is cooled to room temperature and assembled. The difference between the silver cylindrical target and the stainless steel cylindrical support tube is 0.5 mm, the yield strain of silver is 0.25%, and N is 1.5.

[例2]
70.0mmの内径を有するインジウムスズ酸化物の円筒形ターゲット及び70.15mmの外径を有するステンレス鋼の円筒形支持管を提供する。インジウムスズ酸化物の熱膨張率は、約7.5×10−6/Kであり、ステンレス鋼の熱膨張率は、約10.5×10−6/Kである。前記インジウムスズ酸化物の円筒形ターゲットは、25℃から525℃まで加熱され、前記内径は70.26mmへ拡大される。前記ステンレス鋼の円筒形支持管は25℃から−75℃まで冷却され、前記ステンレス鋼の円筒形支持管の前記外径は70.08mmへ縮小させる。前記ステンレス鋼の円筒形支持管は、回転ターゲットを形成すべく前記インジウムスズ酸化物の円筒形ターゲットに挿入される。前記回転ターゲットは室温に冷却され、組み立てられる。前記インジウムスズ酸化物の円筒形ターゲットと前記ステンレス鋼の円筒形支持管との間の差は0.15mmであり、インジウムスズ酸化物の降伏ひずみは0.21%であり、Nは1.0である。
[Example 2]
A cylindrical target of indium tin oxide having an inner diameter of 70.0 mm and a stainless steel cylindrical support tube having an outer diameter of 70.15 mm are provided. The thermal expansion coefficient of indium tin oxide is about 7.5 × 10 −6 / K, and the thermal expansion coefficient of stainless steel is about 10.5 × 10 −6 / K. The indium tin oxide cylindrical target is heated from 25 ° C. to 525 ° C. and the inner diameter is expanded to 70.26 mm. The stainless steel cylindrical support tube is cooled from 25 ° C. to −75 ° C., and the outer diameter of the stainless steel cylindrical support tube is reduced to 70.08 mm. The stainless steel cylindrical support tube is inserted into the indium tin oxide cylindrical target to form a rotating target. The rotating target is cooled to room temperature and assembled. The difference between the indium tin oxide cylindrical target and the stainless steel cylindrical support tube is 0.15 mm, the yield strain of indium tin oxide is 0.21%, and N is 1.0. It is.

[例3]
100.0mmの内径を有するアルミニウムの円筒形ターゲット及び101.0mmの外径を有するステンレス鋼の円筒形支持管を提供する。アルミニウムの熱膨張率は、約23.2×10−6/Kである。前記アルミニウムの円筒形ターゲットは、25℃から525℃まで加熱され、前記内径は101.2mmへ拡大される。前記ステンレス鋼の円筒形支持管は25℃であり、該支持管は回転ターゲットを形成すべく前記アルミニウムの円筒形ターゲットに挿入される。前記回転ターゲットは室温まで冷却され、組み立てられる。前記アルミニウムの円筒形ターゲットと前記ステンレス鋼の円筒形支持管との間の差は1.0mmであり、アルミニウムの降伏ひずみは0.21%であり、Nは4.0である。
[Example 3]
An aluminum cylindrical target having an inner diameter of 100.0 mm and a stainless steel cylindrical support tube having an outer diameter of 101.0 mm are provided. The coefficient of thermal expansion of aluminum is about 23.2 × 10 −6 / K. The aluminum cylindrical target is heated from 25 ° C. to 525 ° C. and the inner diameter is increased to 101.2 mm. The stainless steel cylindrical support tube is at 25 ° C., and the support tube is inserted into the aluminum cylindrical target to form a rotating target. The rotating target is cooled to room temperature and assembled. The difference between the aluminum cylindrical target and the stainless steel cylindrical support tube is 1.0 mm, the yield strain of aluminum is 0.21%, and N is 4.0.

[比較例]
132.6mmの内径を有する銀の円筒形ターゲット及び132.8mmの外径を有するステンレス鋼の円筒形支持管を提供する。銀の熱膨張率は約19.5×10−6/Kである。前記銀の円筒形ターゲットは、25℃から500℃まで加熱され、前記内径は133.8mmへ拡大される。前記ステンレス鋼の円筒形支持管は25℃であり、該支持管は回転ターゲットを形成すべく前記銀の円筒形ターゲットに挿入される。前記回転ターゲットは室温まで冷却され、組み立てられる。前記銀の円筒形ターゲットと前記ステンレス鋼の円筒形支持管との間の差は0.2mmであり、銀の降伏ひずみは0.25%であり、Nは0.6である。
[Comparative example]
A silver cylindrical target having an inner diameter of 132.6 mm and a stainless steel cylindrical support tube having an outer diameter of 132.8 mm are provided. The coefficient of thermal expansion of silver is about 19.5 × 10 −6 / K. The silver cylindrical target is heated from 25 ° C. to 500 ° C., and the inner diameter is expanded to 133.8 mm. The stainless steel cylindrical support tube is at 25 ° C., and the support tube is inserted into the silver cylindrical target to form a rotating target. The rotating target is cooled to room temperature and assembled. The difference between the silver cylindrical target and the stainless steel cylindrical support tube is 0.2 mm, the silver yield strain is 0.25%, and N is 0.6.

[スパッタリング試験]
スパッタリングの出力を1kwから5kwへ調整することにより、比較例の前記円筒形ターゲットの温度が150℃より高い間、例1、例2及び例3の前記円筒形ターゲットの温度は50℃に維持されている。比較例の結合が十分に強固でないことが証明され、結果として熱を前記円筒形ターゲットから前記円筒形支持管まで伝導することができない。したがって、前記円筒形ターゲットの前記内径と前記円筒形支持管の前記外径との間の差は、前記ターゲット材料の降伏ひずみに前記円筒形ターゲットの内径及びNを乗じた値に等しくなるように制御されなければならない。Nは1と10の間の値である。前記円筒ターゲットは、円筒形支持管と強固に結合することができる。そのため、前記回転ターゲットの熱伝導率及び導電率は改善される。
[Sputtering test]
By adjusting the sputtering output from 1 kw to 5 kw, the temperature of the cylindrical targets of Examples 1, 2 and 3 is maintained at 50 ° C. while the temperature of the cylindrical target of the comparative example is higher than 150 ° C. ing. The bond of the comparative example proves to be not strong enough and as a result heat cannot be conducted from the cylindrical target to the cylindrical support tube. Accordingly, the difference between the inner diameter of the cylindrical target and the outer diameter of the cylindrical support tube is equal to the yield strain of the target material multiplied by the inner diameter and N of the cylindrical target. Must be controlled. N is a value between 1 and 10. The cylindrical target can be firmly coupled to a cylindrical support tube. Therefore, the thermal conductivity and conductivity of the rotating target are improved.

10 円筒形ターゲット
11 内面
12、12´ 内側の溝
13、23 近位端
14、24 遠位端
20 円筒形支持管
21 外面
22、22´ 外側の溝
30 中間体
10 cylindrical target 11 inner surface 12, 12 'inner groove 13, 23 proximal end 14, 24 distal end 20 cylindrical support tube 21 outer surface 22, 22' outer groove 30 intermediate

Claims (5)

外管として機能し、ターゲット材料から成り、内面及び内径を有する円筒形ターゲットと、
内管として機能し、前記円筒形ターゲットに挿入して使用され、外面と前記円筒形ターゲットの前記内径より大きい外径とを有する円筒形支持管とを含み、
前記円筒形支持管が前記円筒形ターゲットに結合される前における、前記円筒形ターゲットの前記内径と前記円筒形支持管の前記外径との間の差は、前記ターゲット材料の降伏ひずみに前記円筒ターゲットの前記内径及びNを乗じた値に実質的に等しい、ここでNは1と10との間の値である、回転ターゲット組立体。
A cylindrical target that functions as an outer tube, consists of a target material, and has an inner surface and an inner diameter;
A cylindrical support tube that functions as an inner tube, is used inserted into the cylindrical target, and has an outer surface and an outer diameter larger than the inner diameter of the cylindrical target;
Before the cylindrical support tube is coupled to the cylindrical target, the difference between the inner diameter of the cylindrical target and the outer diameter of the cylindrical support tube is the yield strain of the target material in the cylinder. A rotating target assembly, substantially equal to the inner diameter of the target and N multiplied by N, where N is a value between 1 and 10.
さらに、前記円筒形ターゲットの前記内面若しくは前記円筒形支持管の前記外面又はその両方のそれぞれに形成された、少なくとも1つの溝を有する、請求項1に記載の回転ターゲット組立体。   The rotating target assembly of claim 1, further comprising at least one groove formed in each of the inner surface of the cylindrical target and / or the outer surface of the cylindrical support tube. さらに、前記円筒形ターゲットと前記円筒形支持管との間に適用され、導電性材料から成る中間体を備える、請求項1に記載の回転ターゲット組立体。   The rotating target assembly of claim 1, further comprising an intermediate body applied between the cylindrical target and the cylindrical support tube and made of a conductive material. 前記溝は、導電性材料から成る中間体で満たされている、請求項2に記載の回転ターゲット組立体。   The rotary target assembly of claim 2, wherein the groove is filled with an intermediate made of a conductive material. 前記円筒形支持管は前記円筒形ターゲットに取り付けられ、該円筒形ターゲットと結合されている、請求項1ないし4のいずれか1項に記載の回転ターゲット組立体を含む、回転ターゲット。   5. A rotating target comprising the rotating target assembly according to claim 1, wherein the cylindrical support tube is attached to and coupled to the cylindrical target.
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