JP2011068593A - Droplet applying apparatus and droplet applying method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technique for forming various application patterns without requiring a high-capacity memory and enforcing a large treatment burden on a control part etc. <P>SOLUTION: The apparatus for producing a patch holds matrix data D in which a plurality of elements are arranged in row and column directions and each element is provided with values from 0 to n (n is an arbitrary positive integer) in a memory. The control part 40 binarizes the matrix data D using threshold values designated by a recipe to acquire a pattern image data P to regulate an application pattern. Discharge of a chemical from an application head is controlled on the base of the acquired pattern image data P to form a prescribed application pattern on a substrate sheet. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

この発明は、塗布対象物に対して塗布液を液滴として吐出して、当該塗布対象物上に塗布パターンを形成させる技術に関する。   The present invention relates to a technique for forming a coating pattern on a coating object by discharging a coating liquid as droplets onto the coating object.

塗布対象物に塗布液を液滴として吐出して様々な塗布パターンを形成する技術は、従来から各種提案されている。例えば、インクジェット装置は、塗布対象物(例えばプリント用紙)に対して吐出ヘッドから微小なインクの液滴を吐出して、塗布対象物上に図形や文字等の様々な塗布パターンを形成する。一般に、吐出ヘッドからのインクの吐出は、塗布対象物上に形成すべき塗布パターンを記述した2値の画像データに基づいて制御される。インクジェット装置の構成は、例えば特許文献1に開示されている。   Various techniques for forming various coating patterns by ejecting a coating liquid as droplets onto a coating object have been proposed. For example, an ink jet apparatus ejects minute ink droplets from an ejection head onto an application target (for example, print paper) to form various application patterns such as figures and characters on the application target. In general, the ejection of ink from the ejection head is controlled based on binary image data describing a coating pattern to be formed on a coating object. The configuration of the ink jet apparatus is disclosed in, for example, Patent Document 1.

ところで、吐出ヘッドの制御に用いられるこの2値の画像データは、従来においては、塗布処理装置の制御部が塗布処理を実行する際にリアルタイムで生成していた。あるいは、外部装置にてリアルタイムで生成された画像データが塗布処理装置の制御部に高速に転送されることによって取得されていた。また、塗布パターンがある程度限定されている場合には、想定されうる全て塗布パターンの画像データを塗布処理装置のメモリに格納しておき、塗布処理を実行する際にメモリに格納された画像データのうち形成すべき塗布パターンに合致したものを選択して読み出す構成が採用されることも多かった。   By the way, conventionally, the binary image data used for controlling the ejection head has been generated in real time when the control unit of the coating processing apparatus executes the coating processing. Alternatively, the image data generated in real time by the external apparatus is acquired by being transferred to the control unit of the coating processing apparatus at high speed. Further, when the application pattern is limited to some extent, the image data of all possible application patterns are stored in the memory of the application processing apparatus, and the image data stored in the memory when executing the application process is stored. In many cases, a configuration in which a pattern matching a coating pattern to be formed is selected and read out is employed.

特開2002−137370号公報JP 2002-137370 A

前者の態様においては、どのような塗布パターンにも対応できるという利点があるものの、塗布処理の処理速度を担保するために画像データを高速に生成する必要があるので、これを生成する処理を行う処理部の負担が大きくなってしまう。また、後者の態様においては、多様な塗布パターンに対応可能とするためには、大量の画像データをメモリに保持しておかなければならない。したがって、大容量のメモリが必要となってしまう。   In the former mode, there is an advantage that it can be applied to any coating pattern, but it is necessary to generate image data at a high speed in order to ensure the processing speed of the coating process, so a process for generating this is performed. The burden on the processing unit is increased. In the latter mode, a large amount of image data must be stored in a memory in order to be able to deal with various application patterns. Therefore, a large-capacity memory is required.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、制御部等に大きな処理負担を強いることなく、また、大容量のメモリを要することもなく、多様な塗布パターンを形成可能な技術を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and provides a technique capable of forming various application patterns without imposing a large processing burden on a control unit or the like and without requiring a large-capacity memory. The purpose is to do.

請求項1の発明は、複数の要素が行方向および列方向に配列されるとともに各要素に0〜n(ただし、nは任意の正の整数)までの要素値が付与されたマトリクスデータを保持する保持手段と、前記複数の要素の全てについて同じ閾値を用いて前記マトリクスデータを2値化し、得られた2値の画像データを、塗布パターンを規定するパターン画像データとして取得するパターン取得手段と、塗布対象物に対して塗布液を液滴として吐出する塗布ヘッドと、前記パターン画像データに基づいて前記塗布ヘッドからの前記塗布液の吐出を制御して、前記塗布対象物上に前記塗布パターンを形成させる制御手段と、を備える。   The invention of claim 1 holds matrix data in which a plurality of elements are arranged in a row direction and a column direction, and each element is assigned an element value from 0 to n (where n is an arbitrary positive integer). And holding means for binarizing the matrix data using the same threshold value for all of the plurality of elements, and obtaining the obtained binary image data as pattern image data for defining a coating pattern; A coating head that ejects the coating liquid as droplets onto the coating object; and the ejection of the coating liquid from the coating head based on the pattern image data to control the coating pattern on the coating object. And control means for forming.

請求項2の発明は、請求項1に記載の液滴塗布装置であって、前記マトリクスデータのマトリクス領域内に複数の形状パターンが入れ子状に規定されており、前記複数の形状パターンの輪郭線のそれぞれは、要素値が所定値以下または以上の要素領域を規定する境界線となっている。   A second aspect of the present invention is the droplet applying apparatus according to the first aspect, wherein a plurality of shape patterns are defined in a nested manner in a matrix region of the matrix data, and contour lines of the plurality of shape patterns are provided. Each is a boundary line that defines an element region whose element value is equal to or less than a predetermined value.

請求項3の発明は、請求項2に記載の液滴塗布装置であって、前記パターン取得手段が、前記マトリクスデータから、要素値が所定の閾値以下または以上の要素を抽出することによって、その形状が、前記複数の形状パターンのいずれかである塗布パターンを規定するパターン画像データを取得する。   A third aspect of the present invention is the droplet applying apparatus according to the second aspect, wherein the pattern acquisition unit extracts an element having an element value equal to or less than a predetermined threshold value from the matrix data. Pattern image data defining a coating pattern whose shape is one of the plurality of shape patterns is acquired.

請求項4の発明は、請求項2に記載の液滴塗布装置であって、前記パターン取得手段が、前記マトリクスデータから、要素値が、所定の上限閾値以下であり、かつ、所定の下限閾値以上の要素を抽出することによって、その形状が、前記複数の形状パターンのうちの2つの形状パターンを組み合わせたくりぬき形状である塗布パターンを規定するパターン画像データを取得する。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the droplet applying apparatus according to the second aspect, wherein the pattern obtaining unit has an element value equal to or lower than a predetermined upper limit threshold value from the matrix data and a predetermined lower limit threshold value. By extracting the above elements, pattern image data defining a coating pattern whose shape is a hollow shape obtained by combining two shape patterns of the plurality of shape patterns is acquired.

請求項5の発明は、請求項2から4のいずれかに記載の液滴塗布装置であって、前記パターン取得手段が、前記マトリクスデータを、前記塗布対象物の形状に応じて規定される閾値を用いて2値化することによって、当該塗布対象物の形状に応じた形状の塗布パターンを規定するパターン画像データを取得する。   A fifth aspect of the present invention is the droplet coating apparatus according to any one of the second to fourth aspects, wherein the pattern acquisition means sets the matrix data to a threshold value defined according to the shape of the coating object. Is used to obtain pattern image data that defines a coating pattern having a shape corresponding to the shape of the coating object.

請求項6の発明は、請求項5に記載の液滴塗布装置であって、前記複数の形状パターンに、前記塗布対象物と合同の形状が含まれる。   A sixth aspect of the present invention is the droplet applying apparatus according to the fifth aspect, wherein the plurality of shape patterns include a shape that is congruent with the application object.

請求項7の発明は、請求項5または6に記載の液滴塗布装置であって、前記複数の形状パターンに、前記塗布対象物の所定の外縁幅領域を除く部分領域に相当する形状が含まれる。   A seventh aspect of the present invention is the droplet coating apparatus according to the fifth or sixth aspect, wherein the plurality of shape patterns include a shape corresponding to a partial region excluding a predetermined outer edge width region of the coating object. It is.

請求項8の発明は、請求項1に記載の液滴塗布装置であって、前記マトリクスデータのマトリクス領域内に、各要素値が分散して配置されている。   The invention according to claim 8 is the droplet applying apparatus according to claim 1, wherein each element value is distributed and arranged in a matrix region of the matrix data.

請求項9の発明は、請求項8に記載の液滴塗布装置であって、前記パターン取得手段が、前記マトリクスデータを、所定の閾値を用いて2値化することによって、当該閾値に応じた濃度の塗布パターンを規定するパターン画像データを取得する。   The invention according to claim 9 is the droplet applying apparatus according to claim 8, wherein the pattern acquisition unit binarizes the matrix data using a predetermined threshold value, and responds to the threshold value. Pattern image data defining the application pattern of density is acquired.

請求項10の発明は、請求項1から9のいずれかに記載の液滴塗布装置であって、前記液滴塗布装置が、基材シートの片面に薬剤を担持した貼付剤を製造する貼付剤製造装置であり、前記塗布対象物が、前記基材シートであり、前記塗布液が、前記薬剤を含む薬液である。   A tenth aspect of the present invention is the droplet applying apparatus according to any one of the first to ninth aspects, wherein the droplet applying apparatus manufactures a patch having a drug supported on one side of a base sheet. It is a manufacturing apparatus, the application target is the base sheet, and the coating solution is a chemical solution containing the drug.

請求項11の発明は、a)複数の要素が行方向および列方向に配列されるとともに各要素に0〜n(ただし、nは任意の正の整数)までの要素値が付与されたマトリクスデータを、前記複数の要素の全てについて同じ閾値を用いて2値化し、得られた2値の画像データを、塗布パターンを規定するパターン画像データとして取得する工程と、b)塗布ヘッドに、塗布対象物に対して塗布液を液滴として吐出させて、前記塗布対象物上に前記塗布パターンを形成させる工程と、を備える。   The invention according to claim 11 is a matrix data in which a) a plurality of elements are arranged in a row direction and a column direction, and each element is assigned an element value from 0 to n (where n is an arbitrary positive integer). And binarizing all of the plurality of elements using the same threshold value, and obtaining the obtained binary image data as pattern image data for defining a coating pattern; and b) applying to the coating head And a step of discharging a coating liquid onto the object as droplets to form the application pattern on the object to be applied.

請求項1〜11の発明によると、複数の要素が行方向および列方向に配列されるとともに各要素に0〜n(ただし、nは任意の正の整数)までの要素値が付与されたマトリクスデータを、複数の要素の全てについて同じ閾値を用いて2値化することによって、塗布パターンを規定するパターン画像データを取得する。この構成によると、2値化処理に用いる閾値を変更するだけで、様々な塗布パターンのパターン画像データを取得することができる。したがって、簡易な構成で(すなわち、制御部等に大きな処理負担を強いることなく、また、大容量のメモリを要することもなく)多様な塗布パターンを形成することができる。   According to the invention of claims 1 to 11, a matrix in which a plurality of elements are arranged in the row direction and the column direction, and each element is given an element value of 0 to n (where n is an arbitrary positive integer). By binarizing the data using the same threshold value for all of the plurality of elements, pattern image data defining a coating pattern is acquired. According to this configuration, pattern image data of various application patterns can be acquired simply by changing the threshold value used for the binarization process. Therefore, various application patterns can be formed with a simple configuration (that is, without imposing a large processing burden on the control unit or the like and without requiring a large-capacity memory).

特に、請求項3の発明によると、マトリクスデータから、その形状がマトリクス領域内に規定された複数の形状パターンのいずれかである塗布パターンのパターン画像データを取得することができる。したがって、簡易な構成で多様な形状の塗布パターンを形成することができる。   In particular, according to the third aspect of the present invention, pattern image data of a coating pattern whose shape is one of a plurality of shape patterns defined in the matrix region can be acquired from the matrix data. Therefore, various shapes of application patterns can be formed with a simple configuration.

特に、請求項4の発明によると、マトリクスデータから、その形状が、マトリクス領域内に規定された複数の形状パターンのうちの2つの形状パターンを組み合わせたくりぬき形状である塗布パターンのパターン画像データを取得することができる。したがって、簡易な構成で多様なくりぬき形状の塗布パターンを形成することができる。   In particular, according to the invention of claim 4, the pattern image data of the application pattern whose shape is a hollow shape obtained by combining two shape patterns out of a plurality of shape patterns defined in the matrix region from the matrix data. Can be acquired. Therefore, it is possible to form a variety of hollow pattern application patterns with a simple configuration.

特に、請求項9の発明によると、マトリクス領域内に各要素値が分散して配置されているマトリクスデータを所定の閾値を用いて2値化することによって、当該閾値に応じた濃度の塗布パターンを規定するパターン画像データを取得することができる。この構成によると、2値化処理に用いる閾値を変更するだけで、様々な濃度の塗布パターンのパターン画像データを取得することができる。したがって、簡易な構成で多様な濃度の塗布パターンを形成することができる。   In particular, according to the invention of claim 9, by binarizing the matrix data in which each element value is distributed and arranged in the matrix area using a predetermined threshold value, a coating pattern having a density corresponding to the threshold value is obtained. Can be obtained. According to this configuration, it is possible to acquire pattern image data of application patterns having various densities only by changing the threshold used for the binarization process. Therefore, application patterns with various concentrations can be formed with a simple configuration.

特に、請求項10の発明によると、簡易な構成で多様な塗布パターンの貼付剤を製造することができる。   In particular, according to the invention of claim 10, it is possible to manufacture patches with various application patterns with a simple configuration.

貼付剤製造装置の要部構成の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of the principal part structure of a patch manufacturing apparatus. 制御部の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of a control part. 第1の実施の形態における貼付剤の製造工程の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the manufacturing process of the patch in 1st Embodiment. 第1の実施の形態における貼付剤の製造工程の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the manufacturing process of the patch in 1st Embodiment. 第1の実施の形態における貼付剤の製造工程の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the manufacturing process of the patch in 1st Embodiment. 第1の実施の形態における貼付剤の製造工程の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the manufacturing process of the patch in 1st Embodiment. 形状マトリクスデータの構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of shape matrix data. 形状マトリクスデータの構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of shape matrix data. 形状マトリクスデータを2値化して取得されるパターン画像データの1つを示す図である。It is a figure which shows one of the pattern image data acquired by binarizing shape matrix data. 形状マトリクスデータを2値化して取得されるパターン画像データの1つを示す図である。It is a figure which shows one of the pattern image data acquired by binarizing shape matrix data. 形状マトリクスデータを2値化して取得されるパターン画像データの1つを示す図である。It is a figure which shows one of the pattern image data acquired by binarizing shape matrix data. 第2の実施の形態における貼付剤の製造工程の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the manufacturing process of the patch in 2nd Embodiment. 第2の実施の形態における貼付剤の製造工程の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the manufacturing process of the patch in 2nd Embodiment. 第2の実施の形態における貼付剤の製造工程の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the manufacturing process of the patch in 2nd Embodiment. 濃度マトリクスデータの部分拡大図である。It is the elements on larger scale of density matrix data. 濃度マトリクスデータを2値化して取得されるパターン画像データの1つを示す図である。It is a figure which shows one of the pattern image data acquired by binarizing density matrix data. 濃度マトリクスデータを2値化して取得されるパターン画像データの1つを示す図である。It is a figure which shows one of the pattern image data acquired by binarizing density matrix data. 濃度マトリクスデータを2値化して取得されるパターン画像データの1つを示す図である。It is a figure which shows one of the pattern image data acquired by binarizing density matrix data. 形状マトリクスデータと濃度マトリクスデータとを併用して取得されるパターン画像データの1つを示す図である。It is a figure which shows one of the pattern image data acquired using shape matrix data and density matrix data together. 併合マトリクスデータの構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of merge matrix data. 変形例における貼付剤の製造工程の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the manufacturing process of the patch in a modification.

以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について詳細に説明する。なお、以下においては、本発明を基材シートに薬剤を塗布して貼付剤を製造する装置(貼付剤製造装置)に適用した場合について説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following, the case where the present invention is applied to an apparatus for manufacturing a patch by applying a drug to a base sheet (patch manufacturing apparatus) will be described.

〈A.第1の実施の形態〉
〈1.装置構成〉
第1の実施の形態に係る貼付剤製造装置1の構成について、図1を参照しながら説明する。図1は、貼付剤製造装置1の要部構成の概略を示す図である。貼付剤製造装置1は、予め粘着剤91が塗られた帯状の支持体92上に塗布対象物(ここでは、円形の基材シート)90を一定間隔で貼設し(図3参照)、その基材シート90上に薬剤を塗布する装置である。
<A. First Embodiment>
<1. Device configuration>
The configuration of the patch manufacturing apparatus 1 according to the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a diagram showing an outline of a main configuration of the patch manufacturing apparatus 1. The patch manufacturing apparatus 1 pastes an object to be applied (here, a circular base sheet) 90 on a belt-like support 92 on which an adhesive 91 has been applied in advance (see FIG. 3). This is an apparatus for applying a drug on the base sheet 90.

貼付剤製造装置1は、帯状の支持体92を水平方向に沿って搬送する搬送機構20と、搬送される支持体92上に貼設された基材シート90の位置を検出する位置検出センサ70と、基材シート90に薬剤を含む薬液を吹き付けて塗布する塗布ユニット10と、塗布ユニット10に薬液を送給する薬液送給部30と、基材シート90に塗布した薬液を乾燥させる乾燥ユニット50と、を備える。また、貼付剤製造装置1は、装置に設けられた上記の各要素を制御する制御部40を備える。   The patch manufacturing apparatus 1 includes a transport mechanism 20 that transports the belt-shaped support body 92 along the horizontal direction, and a position detection sensor 70 that detects the position of the base sheet 90 affixed on the transported support body 92. A coating unit 10 for spraying and applying a chemical solution containing a drug to the base sheet 90, a chemical solution feeding unit 30 for feeding the chemical solution to the coating unit 10, and a drying unit for drying the chemical solution applied to the base sheet 90 50. Moreover, the patch manufacturing apparatus 1 is provided with the control part 40 which controls said each element provided in the apparatus.

〈搬送機構20〉
搬送機構20は、長尺の帯状の支持体92が巻回された送りローラ21を備える。搬送機構20は、図示を省略するテンションローラや補助ローラをも備えており、送りローラ21から送り出された支持体92を水平方向に沿って搬送する。支持体92は、塗布ユニット10に基材シート90を順次搬送供給する役割を担うものであり、ネル生地、織布、メリヤス、不織布、樹脂フィルムなどにて形成することができる。支持体92の幅は例えば60mmである。この実施の形態においては、送りローラ21に巻回された支持体92の片面全面に予め粘着剤91が積層されている(図3)。すなわち、搬送機構20は、粘着剤91の層が既に形成された支持体92を送りローラ21から送り出し、粘着剤層が上側を向くように支持体92を搬送する。
<Transport mechanism 20>
The transport mechanism 20 includes a feed roller 21 around which a long belt-like support 92 is wound. The transport mechanism 20 also includes a tension roller and an auxiliary roller (not shown), and transports the support body 92 fed from the feed roller 21 along the horizontal direction. The support 92 plays a role of sequentially conveying and supplying the base sheet 90 to the coating unit 10 and can be formed of flannel cloth, woven cloth, knitted fabric, non-woven cloth, resin film, or the like. The width of the support 92 is 60 mm, for example. In this embodiment, the adhesive 91 is previously laminated on the entire surface of one side of the support 92 wound around the feed roller 21 (FIG. 3). That is, the transport mechanism 20 feeds the support 92 on which the adhesive 91 layer has already been formed from the feed roller 21 and transports the support 92 so that the adhesive layer faces upward.

また、貼付剤製造装置1は、送りローラ21の近傍に図示を省略するシート供給機構を備えており、そのシート供給機構によって送りローラ21から送り出された支持体92に塗布対象物となる円板形状の基材シート90を供給する。薬剤を直接担持する基材シート90は、薬剤に対する不透過性を有する樹脂材料(例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PP(ポリプロピレン)、PE(ポリエチレン)等)により形成されている。   Further, the patch manufacturing apparatus 1 includes a sheet supply mechanism (not shown) in the vicinity of the feed roller 21, and a disk that is an object to be coated on the support 92 that is fed from the feed roller 21 by the sheet supply mechanism. A base material sheet 90 having a shape is supplied. The base sheet 90 that directly carries the drug is formed of a resin material that is impermeable to the drug (for example, PET (polyethylene terephthalate), PP (polypropylene), PE (polyethylene), etc.).

また、貼付剤製造装置1は、エンコーダ22を備えている。エンコーダ22は、支持体92が搬送機構20により所定距離だけ搬送される毎にパルス信号を出力する。エンコーダ22としては、例えば、支持体92の搬送量に応じて回転し、所定の回転量毎にパルス信号を出力するロータリーエンコーダを用いることができる。   Further, the patch manufacturing apparatus 1 includes an encoder 22. The encoder 22 outputs a pulse signal each time the support 92 is transported by a predetermined distance by the transport mechanism 20. As the encoder 22, for example, a rotary encoder that rotates according to the conveyance amount of the support 92 and outputs a pulse signal for each predetermined rotation amount can be used.

〈塗布ユニット10〉
塗布ユニット10は、搬送機構20によって搬送される基材シート90に薬剤を含む薬液を塗布する機能部であり、機械的に固定して内包された塗布ヘッド11を備える。
<Coating unit 10>
The coating unit 10 is a functional unit that applies a chemical solution containing a drug to the base sheet 90 transported by the transport mechanism 20 and includes a coating head 11 that is mechanically fixed and contained.

塗布ヘッド11は、薬剤を含む薬液を微滴化して微小液滴を生成し、その液滴を搬送機構20によって搬送される基材シート90の上面に吹き付ける。具体的には、塗布ヘッド11は、支持体92の全幅と同等かそれ以上の幅を有し、搬送方向TDに垂直な方向(支持体92の幅方向)に沿って、所定のピッチで一列に配列された複数個のノズル(図示省略)が設けられている。制御部40は、例えば各ノズルに印加する電圧を制御することにより、各ノズルからの薬液の吐出を制御する。塗布ヘッド11の具体的な内部構造は、例えば特開2009−23334号公報に開示されるものと同様のものとすることができる。ただし、支持体92の幅方向におけるノズル配列ピッチは、これが小さいほど薬液塗布の精度を向上させることができるため、なるべく小さくすることが好ましい。なお、塗布ヘッド11には、上記のような、液滴ジェット方式によって薬液を噴出する液滴ジェットヘッド(例えば、駆動方式が積層ピエゾドロップオンデマンド方式のインクジェットヘッド)を用いることができるが、液滴を吐出する方式はどのようなものであってもよい。   The coating head 11 atomizes a chemical solution containing a medicine to generate fine droplets, and sprays the droplets onto the upper surface of the base sheet 90 conveyed by the conveyance mechanism 20. Specifically, the coating head 11 has a width equal to or greater than the entire width of the support 92 and is arranged in a row at a predetermined pitch along a direction perpendicular to the transport direction TD (the width direction of the support 92). A plurality of nozzles (not shown) arranged in the above are provided. The control unit 40 controls the discharge of the chemical solution from each nozzle, for example, by controlling the voltage applied to each nozzle. The specific internal structure of the coating head 11 can be the same as that disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-23334. However, the nozzle arrangement pitch in the width direction of the support 92 is preferably as small as possible because the smaller the nozzle arrangement pitch, the higher the accuracy of chemical solution application. The coating head 11 may be a liquid droplet jet head that ejects a chemical solution by the liquid droplet jet method (for example, an inkjet head having a stacked piezo drop on demand method). Any method of ejecting drops may be used.

上記の構成により、塗布ヘッド11は、制御部40からの制御に応じて、搬送機構20によって搬送される基材シート90に対して、1ラインずつ薬液の液滴を吐出する。つまり、塗布ヘッド11は、搬送方向TDと逆の方向に相対的に移動しながら(すなわち、支持体92上に貼設された基材シート90に対して相対移動しながら)、基材シート90に対して薬液の液滴を吐出して、所定の塗布パターンを形成する。   With the above configuration, the coating head 11 discharges the liquid droplets of the chemical solution one line at a time to the base sheet 90 conveyed by the conveyance mechanism 20 in accordance with the control from the control unit 40. That is, the coating head 11 moves while moving relatively in the direction opposite to the transport direction TD (that is, while moving relatively with respect to the substrate sheet 90 affixed on the support 92). A liquid droplet of a chemical solution is discharged to form a predetermined coating pattern.

なお、塗布ユニット10には、塗布ユニット10に設けられた塗布ヘッド11を加熱または冷却して薬液の温調を行う温調部(図示省略)を付設してもよい。温調部としては、所定温度の温調水を導入する温調配管、または、ヒータを用いることができる。薬液の粘度および表面張力は薬液の温度にも依存するところ、温調部により薬液の温調を行うことによって薬液の粘度および表面張力が液滴ジェット方式のノズルから噴出可能な適正範囲内に収まるように調整することができる。また、薬液の粘度および表面張力が変化すると、ノズルの先端付近に形成される薬液のメニスカス量が変化し、ノズルから噴出される液滴の量が変化するという問題も生じるところ、温調部により塗布ヘッド11内の薬液の温度を一定(例えば30℃)に保つことによって、ノズルから噴出される液滴の量も一定にすることができる。温調部は、塗布ヘッド11内に内蔵してもよい。   The application unit 10 may be provided with a temperature control unit (not shown) that controls the temperature of the chemical solution by heating or cooling the application head 11 provided in the application unit 10. As the temperature control unit, a temperature control pipe for introducing temperature-controlled water at a predetermined temperature or a heater can be used. The viscosity and surface tension of the chemical solution also depend on the temperature of the chemical solution. By adjusting the temperature of the chemical solution using the temperature control unit, the viscosity and surface tension of the chemical solution fall within the appropriate range that can be ejected from a droplet jet type nozzle. Can be adjusted as follows. In addition, when the viscosity and surface tension of the chemical solution change, the amount of meniscus of the chemical solution formed near the tip of the nozzle also changes, causing the problem that the amount of liquid droplets ejected from the nozzle also changes. By keeping the temperature of the chemical in the coating head 11 constant (for example, 30 ° C.), the amount of liquid droplets ejected from the nozzle can also be made constant. The temperature adjustment unit may be built in the coating head 11.

〈薬液送給部30〉
薬液送給部30は、塗布ユニット10に薬液を送給する。薬液送給部30は、薬液を貯留する薬液タンク31を備える。薬液タンク31は、供給配管32を介して塗布ユニット10の塗布ヘッド11と連通接続されている。供給配管32の経路途中には異物除去フィルターおよび脱気フィルター(いずれも図示省略)が介挿されている。薬液タンク31は、常に一定量の薬液を貯留しており、調合タンク(図示省略)から適宜薬液タンク31に薬液が補充される。
<Chemical liquid feeding part 30>
The chemical liquid feeding unit 30 feeds the chemical liquid to the coating unit 10. The chemical solution feeding unit 30 includes a chemical solution tank 31 that stores the chemical solution. The chemical tank 31 is connected to the application head 11 of the application unit 10 through a supply pipe 32. A foreign substance removal filter and a deaeration filter (both not shown) are interposed in the middle of the supply pipe 32. The chemical liquid tank 31 always stores a certain amount of chemical liquid, and the chemical liquid tank 31 is appropriately replenished with chemical liquid from a preparation tank (not shown).

ここで、薬液とは薬剤を含む液体である。貼付剤に用いられる薬剤の具体的な種類は特に限定されるものではないが、皮膚を通して投与し得るもの、すなわち経皮吸収可能な薬剤が好ましい。そのような薬剤として、より具体的には、インドメタシン、ケトプロフェン、フルルビプロフェン、イブプロフェン、ビロキシカム、サリチル酸メチル、サリチル酸グリコール、l-メントール、dl-カンフル、ノニル酸ワリニリルアシド、カプサイシンなどの鎮痛消炎剤があげられる。また、ニトログリセリン、ニフェジピン、イソソルバイドナイトレートなどの冠血管拡張剤、または、プロカテロール、ツロブテロールなどの喘息薬を薬剤として使用してもよい。さらに、上記の他にも薬剤としては、全身性麻酔薬、催眠・鎮静薬、抗てんかん薬、鎮暈薬、精神神経用薬、骨格筋弛緩薬、自律神経用薬、鎮痙薬、抗パーキンソン薬、抗ヒスタミン薬、強心薬、不整脈用薬、利尿薬、血圧降下薬、血管収縮薬、末梢血管拡張薬、動脈硬化用薬、循環器用薬、呼吸促進薬、鎮咳去痰薬、ホルモン薬、化膿性疾患用外用薬、鎮痛・鎮痒・収斂・消炎用薬、寄生性皮膚疾患用薬、止血用薬、痛風治療用薬、糖尿病用薬、抗悪性腫瘍用薬、抗生物質、化学療法薬、麻薬、抗うつ用薬、禁煙補助薬(ニコチン)などを使用することができる。   Here, the chemical solution is a liquid containing a drug. Although the specific kind of the drug used for the patch is not particularly limited, a drug that can be administered through the skin, that is, a drug that can be absorbed through the skin is preferable. More specifically, analgesic and anti-inflammatory agents such as indomethacin, ketoprofen, flurbiprofen, ibuprofen, viloxicam, methyl salicylate, glycol salicylate, l-menthol, dl-camphor, valinylyl nonylate, capsaicin, etc. can give. In addition, coronary vasodilators such as nitroglycerin, nifedipine and isosorbide nitrate, or asthma drugs such as procaterol and tulobuterol may be used as drugs. In addition to the above, the drugs include general anesthetics, hypnotics / sedatives, antiepileptics, antipruritics, psychoneurotics, skeletal muscle relaxants, autonomic nerves, antispasmodics, antiparkinson drugs, Antihistamine, cardiotonic, arrhythmic, diuretic, antihypertensive, vasoconstrictor, peripheral vasodilator, arteriosclerosis, cardiovascular, respiratory stimulant, antitussive expectorant, hormone, purulent disease Topical medicine, analgesic / antipruritic / astringent / anti-inflammatory medicine, parasitic skin disease medicine, hemostatic medicine, gout treatment medicine, diabetes medicine, anti-malignant tumor medicine, antibiotics, chemotherapeutic medicine, narcotic, anti Depressants, smoking cessation aids (nicotine), etc. can be used.

このような薬剤が溶媒中に溶解されて薬液とされている。溶媒としては、薬剤の性質に応じて、水、または、アルコールを用いることができる。薬剤が溶媒中に溶解された所定濃度の薬液が調合タンクにて調合され、その薬液が調合タンクから供給されて薬液タンク31に貯留される。薬液タンク31に貯留されている薬液は、塗布ヘッド11が薬液を噴出したときにノズル内に生じる毛管現象によって各ノズルに送給される。薬液の送給過程において、供給配管32を流れる薬液から異物および気泡が異物除去フィルターおよび脱気フィルターによってそれぞれ取り除かれる。なお、薬液には、基材シート90への密着性を高めるバインダー、および/または、添加剤がさらに含まれていてもよい。また、薬液には、薬液の粘度および表面張力を調整するために薬剤の溶媒が添加されてもよい。また、薬液には、薬液の乾燥速度を低下させるために保湿剤が添加されてもよい。   Such a drug is dissolved in a solvent to form a drug solution. As the solvent, water or alcohol can be used depending on the properties of the drug. A chemical solution having a predetermined concentration in which a drug is dissolved in a solvent is prepared in a preparation tank, and the chemical solution is supplied from the preparation tank and stored in the chemical tank 31. The chemical solution stored in the chemical solution tank 31 is supplied to each nozzle by capillary action generated in the nozzle when the coating head 11 ejects the chemical solution. In the process of supplying the chemical liquid, foreign substances and bubbles are removed from the chemical liquid flowing through the supply pipe 32 by the foreign substance removal filter and the degassing filter, respectively. In addition, the chemical | medical solution may further contain the binder and / or additive which improve the adhesiveness to the base material sheet 90. FIG. In addition, a chemical solvent may be added to the chemical solution in order to adjust the viscosity and surface tension of the chemical solution. In addition, a moisturizing agent may be added to the chemical solution in order to reduce the drying rate of the chemical solution.

また、薬液送給部30は、薬液タンク31から供給配管32を介して塗布ユニット10の塗布ヘッド11に負圧を付与する負圧ポンプ(図示省略)を備えてもよい。ノズルに供給された薬液は、そのままでは自重でノズルの先端付近に液滴ジェット方式に適したメニスカスを形成できないところ、負圧ポンプによって吐出方向とは逆向きの負圧を薬液に与えておけば、薬液を若干ノズル内に引き戻して適正なメニスカスを形成することができる。さらに、薬液タンク31の下部に、薬液タンク31内の薬液の温度を所定温度(例えば30℃)に温調するためのヒータ(図示省略)を付設してもよい。   Further, the chemical liquid feeding unit 30 may include a negative pressure pump (not shown) that applies a negative pressure from the chemical liquid tank 31 to the application head 11 of the application unit 10 via the supply pipe 32. The chemical solution supplied to the nozzle itself is under its own weight and cannot form a meniscus suitable for the droplet jet method near the tip of the nozzle, but if a negative pressure opposite to the discharge direction is applied to the chemical solution by a negative pressure pump The chemical solution can be slightly pulled back into the nozzle to form an appropriate meniscus. Furthermore, a heater (not shown) for adjusting the temperature of the chemical solution in the chemical solution tank 31 to a predetermined temperature (for example, 30 ° C.) may be provided below the chemical solution tank 31.

〈乾燥ユニット50〉
乾燥ユニット50は、塗布ユニット10よりも基材シート90の搬送方向下流側に設けられている。乾燥ユニット50は、その内側を通過する基材シート90に塗布されている薬液を乾燥させる。乾燥ユニット50としては、基材シート90の表面に常温のドライエアーまたは加熱したドライエアー(温風)を送風するものなど公知の種々の乾燥装置を用いることができる。また、乾燥ユニット50としては、単なる熱風(特段の除湿を行っていない)を供給する熱風乾燥炉や遠赤外線ヒータを用いた乾燥炉を用いるようにしてもよい。
<Drying unit 50>
The drying unit 50 is provided on the downstream side of the coating unit 10 in the conveyance direction of the base sheet 90. The drying unit 50 dries the chemical applied to the base sheet 90 that passes through the inside of the drying unit 50. As the drying unit 50, various known drying devices such as one that blows normal temperature dry air or heated dry air (hot air) onto the surface of the base sheet 90 can be used. Further, as the drying unit 50, a hot air drying furnace that supplies mere hot air (without special dehumidification) or a drying furnace using a far infrared heater may be used.

〈位置検出センサ70〉
位置検出センサ70は、塗布ユニット10よりも基材シート90の搬送方向上流側に設けられている。位置検出センサ70は、塗布ヘッド11から薬液の液滴を吹き付ける前に、支持体92上における基材シート90の位置を検出する。位置検出センサ70によって検出された基材シート90の位置情報に基づいて、その基材シート90に正確に薬液の液滴が吹き付けられるように制御部40が塗布ヘッド11の薬液吐出位置を制御する。位置検出センサ70としては、反射式若しくは透過式の光学式センサ、または、超音波センサなどの各種センサを用いることができる。また、位置検出センサ70に代えて撮像カメラを設け、その撮像カメラによって支持体92上面を撮像して得られた画像データを処理することによって基材シート90の位置を検出するようにしてもよい。
<Position detection sensor 70>
The position detection sensor 70 is provided on the upstream side of the coating unit 10 in the conveyance direction of the base sheet 90. The position detection sensor 70 detects the position of the base sheet 90 on the support 92 before spraying a liquid droplet of the chemical liquid from the application head 11. Based on the position information of the base sheet 90 detected by the position detection sensor 70, the control unit 40 controls the chemical liquid discharge position of the coating head 11 so that the liquid droplets of the chemical liquid are accurately sprayed on the base sheet 90. . As the position detection sensor 70, various sensors such as a reflection type or transmission type optical sensor or an ultrasonic sensor can be used. Further, an imaging camera may be provided in place of the position detection sensor 70, and the position of the base sheet 90 may be detected by processing image data obtained by imaging the upper surface of the support 92 with the imaging camera. .

〈制御部40〉
制御部40は、貼付剤製造装置1に設けられた上記の種々の動作機構を制御する。図2は、制御部40の構成を示すブロック図である。制御部40のハードウェアとしての構成は一般的なコンピュータと同様である。すなわち、制御部40は、各種演算処理を行うCPU41、基本プログラムを記憶する読み出し専用のメモリであるROM42、各種情報を記憶する読み書き自在のメモリであるRAM43および処理プログラム81やデータなどを記憶しておく固定ディスク44をバスライン49に接続して構成されている。RAM43には、後述する「マトリクスデータD」が格納されている。
<Control unit 40>
The control unit 40 controls the various operation mechanisms provided in the patch manufacturing apparatus 1. FIG. 2 is a block diagram illustrating a configuration of the control unit 40. The configuration of the control unit 40 as hardware is the same as that of a general computer. That is, the control unit 40 stores a CPU 41 that performs various arithmetic processes, a ROM 42 that is a read-only memory that stores basic programs, a RAM 43 that is a readable / writable memory that stores various information, a processing program 81, data, and the like. The fixed disk 44 to be placed is connected to the bus line 49. The RAM 43 stores “matrix data D” to be described later.

また、バスライン49には、上述したエンコーダ22、位置検出センサ70、および、塗布ヘッド11がインターフェイス(I/F)45を介して接続されている。これら以外の貼付剤製造装置1の各種動作機構も図示を省略するインターフェイスを介してバスライン49に接続されている。制御部40のCPU41は、固定ディスク44に格納されている処理プログラム81を実行することにより、これら塗布ヘッド11などの各動作機構を制御して貼付剤製造処理を進行させる。   In addition, the encoder 22, the position detection sensor 70, and the coating head 11 described above are connected to the bus line 49 via an interface (I / F) 45. Various operation mechanisms of the patch manufacturing apparatus 1 other than these are also connected to the bus line 49 via an interface (not shown). The CPU 41 of the control unit 40 executes the processing program 81 stored in the fixed disk 44 to control each operation mechanism such as the coating head 11 and advance the patch manufacturing process.

また、バスライン49には、表示装置46および入力装置47が電気的に接続されている。表示装置46は、例えば液晶ディスプレイ等を用いて構成されており、処理結果やメッセージ等の種々の情報を表示する。入力装置47は、例えばキーボードやマウス等を用いて構成されており、コマンドやパラメータ等の入力を受け付ける。装置のオペレータは、表示装置46に表示された内容を確認しつつ入力装置47からコマンドやパラメータ等の入力を行うことができる。なお、表示装置46と入力装置47とを一体化してタッチパネルとして構成するようにしてもよい。   A display device 46 and an input device 47 are electrically connected to the bus line 49. The display device 46 is configured using, for example, a liquid crystal display or the like, and displays various information such as processing results and messages. The input device 47 is configured using, for example, a keyboard, a mouse, and the like, and receives input of commands, parameters, and the like. The operator of the apparatus can input commands and parameters from the input device 47 while confirming the contents displayed on the display device 46. Note that the display device 46 and the input device 47 may be integrated to form a touch panel.

さらに、バスライン49には、DVDやCDなどの記録媒体RMから記録内容を読み取る読取装置48が接続されている。処理プログラム81は、記録媒体RMから読取装置48によって読み出されて固定ディスク44に格納されるようにしてもよい。   Further, a reading device 48 that reads recorded contents from a recording medium RM such as a DVD or a CD is connected to the bus line 49. The processing program 81 may be read from the recording medium RM by the reading device 48 and stored in the fixed disk 44.

以上が、貼付剤製造装置1の主たる構成要素である。なお、上記の構成以外にも貼付剤製造装置1は、詳説を省略する種々の機構を備えている。例えば、乾燥ユニット50よりもさらに下流側には、薬液が塗布された基材シート90に剥離ライナーを貼り合わせる機構や支持体92を裁断する機構が設けられている。   The above is the main component of the patch manufacturing apparatus 1. In addition to the above configuration, the patch manufacturing apparatus 1 includes various mechanisms that omit detailed description. For example, on the further downstream side of the drying unit 50, a mechanism for attaching a release liner to the base sheet 90 coated with a chemical solution and a mechanism for cutting the support 92 are provided.

〈2.処理の流れ〉
上記の構成を有する貼付剤製造装置1において行われる貼付剤の製造処理の流れを、図3〜図6を参照しながら説明する。図3〜図6は、貼付剤製造装置1における貼付剤の製造工程の一例を示す図である。以下の処理は、制御部40のCPU41が処理プログラム81を実行して貼付剤製造装置1の各動作機構を制御することによって進行する。
<2. Process flow>
The flow of the patch manufacturing process performed in the patch manufacturing apparatus 1 having the above-described configuration will be described with reference to FIGS. 3-6 is a figure which shows an example of the manufacturing process of the patch in the patch manufacturing apparatus 1. FIG. The following processing proceeds when the CPU 41 of the control unit 40 executes the processing program 81 to control each operation mechanism of the patch manufacturing apparatus 1.

制御部40の制御下にて、搬送機構20が支持体92を水平方向に沿って搬送するとともに、図示省略のシート供給機構が支持体92の上面に一定間隔で円板形状の基材シート90を供給する。送りローラ21から送り出されて水平方向に搬送される支持体92の上面には粘着剤91の層が予め形成されており、供給された基材シート90は支持体92上に貼設される。支持体92上に貼設されたそれぞれの基材シート90の位置は位置検出センサ70によって検出されて制御部40に伝達される。   Under the control of the control unit 40, the transport mechanism 20 transports the support body 92 along the horizontal direction, and a sheet supply mechanism (not shown) has a disk-shaped base sheet 90 on the upper surface of the support body 92 at regular intervals. Supply. A layer of adhesive 91 is formed in advance on the upper surface of the support 92 that is fed from the feed roller 21 and conveyed in the horizontal direction, and the supplied base sheet 90 is stuck on the support 92. The position of each base material sheet 90 affixed on the support body 92 is detected by the position detection sensor 70 and transmitted to the control unit 40.

制御部40は、位置検出センサ70から取得した位置情報に基づいて、塗布ヘッド11を制御して薬液の液滴を支持体92上の基材シート90に吹き付けさせる。すなわち、塗布ユニット10の塗布ヘッド11は、制御部40による制御に従って、薬剤を含む薬液を微滴化して微小液滴を生成し、その液滴を搬送機構20によって搬送される基材シート90の所定領域に吹き付ける。これにより、基材シート90に薬剤層95が形成される。   Based on the position information acquired from the position detection sensor 70, the control unit 40 controls the coating head 11 to spray liquid chemical droplets onto the base material sheet 90 on the support 92. That is, the application head 11 of the application unit 10 generates a fine droplet by atomizing the chemical liquid containing the drug according to the control by the control unit 40, and the substrate sheet 90 that is conveyed by the conveyance mechanism 20. Spray on a predetermined area. As a result, the drug layer 95 is formed on the base sheet 90.

ただし、基材シート90にどのような塗布パターンで薬剤層を形成するかはレシピにより指定されており、制御部40は、レシピにて指定された塗布パターンが記述された2値の画像データ(以下「パターン画像データP」という)を後述する一連の処理により取得する。そして、当該取得したパターン画像データPに基づいて塗布ヘッド11に設けられた全てのノズルについてオン/オフのタイミングを制御する。すなわち、ある領域(パターン画像データPにおいて「1」とされている領域)に薬液を吹き付けるときには、その領域に対応するノズルの圧電素子に電圧を印加して当該ノズルから薬液の液滴を噴出させる。なお、塗布ヘッド11からの薬液の吐出タイミングは、エンコーダ22からのパルス信号に基づいて特定される。これによって、基材シート90に、レシピに指定された塗布パターンで薬剤層が形成されることになる。   However, the application pattern in which the drug layer is formed on the base sheet 90 is specified by the recipe, and the control unit 40 has binary image data (in which the application pattern specified by the recipe is described) ( (Hereinafter referred to as “pattern image data P”) is acquired by a series of processes described later. Based on the acquired pattern image data P, the on / off timing of all nozzles provided in the coating head 11 is controlled. That is, when a chemical liquid is sprayed onto a certain area (area set to “1” in the pattern image data P), a voltage is applied to the piezoelectric element of the nozzle corresponding to that area to eject a liquid droplet of the chemical liquid from the nozzle. . The discharge timing of the chemical solution from the coating head 11 is specified based on the pulse signal from the encoder 22. As a result, a drug layer is formed on the base sheet 90 with the application pattern specified in the recipe.

この実施の形態においては、レシピに、基材シート90上に形成すべき塗布パターンの形状が指定されている。すなわち、オペレータは、レシピで指定することにより、任意の形状の塗布パターンを基材シート90上に形成させることができる。   In this embodiment, the shape of the application pattern to be formed on the base sheet 90 is specified in the recipe. That is, the operator can form an application pattern having an arbitrary shape on the base sheet 90 by designating the recipe.

例えば、レシピにて、基材シート90と合同の塗布パターンを形成するように指定されている場合(すなわち、基材シート90の全面に薬剤層を形成するように指定されている場合)、制御部40は、基材シート90と合同の図形の塗布パターンが記述されたパターン画像データPを取得し、取得したパターン画像データPに基づいて塗布ヘッド11からの薬液の吐出を制御する。これにより、基材シート90の全面に薬剤層95が形成される(図4)。   For example, when it is specified in the recipe to form a coating pattern that is the same as that of the base sheet 90 (that is, when it is specified to form a drug layer on the entire surface of the base sheet 90), the control is performed. The unit 40 acquires the pattern image data P in which the application pattern of the figure congruent with the base sheet 90 is described, and controls the discharge of the chemical solution from the application head 11 based on the acquired pattern image data P. Thereby, the chemical | medical agent layer 95 is formed in the whole surface of the base material sheet 90 (FIG. 4).

また例えば、レシピにて、基材シート90の所定の外縁幅領域を除く部分領域に相当する塗布パターンを形成するように指定されている場合(すなわち、基材シート90の外縁から所定幅だけ内側の部分領域に薬剤層を形成するように指定されている場合)、制御部40は、当該部分領域に相当する図形の塗布パターンが記述されたパターン画像データPを取得し、取得したパターン画像データPに基づいて塗布ヘッド11からの薬液の吐出を制御する。これにより、基材シート90の当該部分領域に薬剤層95が形成される(図5)。   Further, for example, when it is specified in the recipe to form a coating pattern corresponding to a partial area excluding a predetermined outer edge width area of the base sheet 90 (that is, inside by a predetermined width from the outer edge of the base sheet 90) The control unit 40 acquires the pattern image data P in which the application pattern of the graphic corresponding to the partial area is described, and the acquired pattern image data. Based on P, the discharge of the chemical solution from the coating head 11 is controlled. Thereby, the chemical | medical agent layer 95 is formed in the said partial area | region of the base material sheet 90 (FIG. 5).

また例えば、レシピにて、基材シート90の所定の外縁幅領域に相当する塗布パターンを形成するように指定されている場合(すなわち、基材シート90の外縁から所定幅の部分領域に薬剤層を形成するように指定されている場合)、制御部40は、当該部分領域に相当する図形の塗布パターンが記述されたパターン画像データPを取得し、取得したパターン画像データPに基づいて塗布ヘッド11からの薬液の吐出を制御する。これにより、基材シート90の当該部分領域に薬剤層95が形成される(図6)。   Further, for example, when the recipe specifies that an application pattern corresponding to a predetermined outer edge width region of the base sheet 90 is formed (that is, a drug layer is formed from the outer edge of the base sheet 90 to a partial region of a predetermined width). The control unit 40 acquires the pattern image data P describing the application pattern of the graphic corresponding to the partial area, and applies the application head based on the acquired pattern image data P). 11 controls the discharge of the chemical solution from 11. Thereby, the chemical | medical agent layer 95 is formed in the said partial area | region of the base material sheet 90 (FIG. 6).

薬剤層95が形成された基材シート90は乾燥ユニット50に搬送されて薬液の乾燥処理が行われる。さらにその後、基材シート90に剥離ライナーが貼り合わされ、支持体92が所定のサイズに裁断されて貼付剤とされる。   The base material sheet 90 on which the drug layer 95 is formed is conveyed to the drying unit 50 and the chemical liquid is dried. Thereafter, a release liner is bonded to the base sheet 90, and the support 92 is cut into a predetermined size to obtain a patch.

〈3.パターン画像データPの取得態様〉
この実施の形態に係る貼付剤製造装置1の制御部40は、レシピにて指定された形状の塗布パターンを規定するパターン画像データPを、制御部40のRAM43に格納されたマトリクスデータDを用いて取得する。以下において、制御部40がパターン画像データPを取得する方法について説明する。
<3. Pattern Image Data P Acquisition Mode>
The control unit 40 of the patch manufacturing apparatus 1 according to this embodiment uses the matrix image D stored in the RAM 43 of the control unit 40 as the pattern image data P that defines the application pattern having the shape specified in the recipe. Get. Hereinafter, a method in which the control unit 40 acquires the pattern image data P will be described.

〈3−1.マトリクスデータD〉
はじめに、マトリクスデータDについて説明する。マトリクスデータDは、複数の要素が行方向および列方向に配列されるとともに各要素に0〜n(ただし、nは任意の正の整数)までの値(要素値)が付与されたデータである。なお、nの値は各要素に持たせるデータサイズに応じて規定される。例えば、各要素に8ビットのデータサイズを持たせた場合、各要素に0〜255の任意の要素値を付与することができるので、n=255となる。
<3-1. Matrix Data D>
First, the matrix data D will be described. The matrix data D is data in which a plurality of elements are arranged in the row direction and the column direction, and each element is given a value (element value) from 0 to n (where n is an arbitrary positive integer). . The value of n is defined according to the data size that each element has. For example, if each element has an 8-bit data size, any element value from 0 to 255 can be assigned to each element, so n = 255.

マトリクスデータDの要素数は、塗布ヘッド11のノズルの個数(具体的には、搬送方向TDと垂直な方向についてのノズルの個数、すなわち、ノズルの解像度)に応じて規定されることが好ましい。例えば、ノズルの解像度が600dpiである場合、マトリクスデータDの行方向(もしくは、列方向)についての要素数は600することが好ましい。   The number of elements of the matrix data D is preferably defined according to the number of nozzles of the coating head 11 (specifically, the number of nozzles in the direction perpendicular to the transport direction TD, that is, the resolution of the nozzles). For example, when the resolution of the nozzle is 600 dpi, the number of elements in the row direction (or column direction) of the matrix data D is preferably 600.

この実施の形態に係る貼付剤製造装置1は、マトリクスデータDとして、塗布パターンの形状を規定するマトリクスデータD(以下「形状マトリクスデータDa」という)を保持している。形状マトリクスデータDaについて、図7を参照しながら説明する。図7は、形状マトリクスデータDaの構成例を示す図である。   The patch manufacturing apparatus 1 according to this embodiment holds matrix data D (hereinafter referred to as “shape matrix data Da”) that defines the shape of an application pattern as matrix data D. The shape matrix data Da will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a diagram illustrating a configuration example of the shape matrix data Da.

形状マトリクスデータDaには、マトリクス領域内に複数の形状パターンが入れ子状に規定されており、各形状パターンの輪郭線は、要素値が所定値以下の要素領域を規定する境界線となっている。   In the shape matrix data Da, a plurality of shape patterns are defined in a nested manner in the matrix region, and the contour line of each shape pattern is a boundary line that defines an element region whose element value is a predetermined value or less. .

例えば、図7に示される形状マトリクスデータDaにおいて、第1の形状パターンの輪郭線L(1)は要素値が10以下の要素領域を規定する境界線となっている。また、第2の形状パターンの輪郭線L(2)は要素値が30以下の要素領域を規定する境界線となっている。また、第3の形状パターンの輪郭線L(3)は要素値が50以下の要素領域を規定する境界線となっている。つまり、マトリクス領域内、輪郭線L(1)よりも内側の領域M1に位置する要素には、0〜10のいずれかの要素値(図7の例では10)が付与されている。また、輪郭線L(1)の外側であって輪郭線L(2)の内側の領域M2に位置する要素には、11〜30のいずれかの要素値が付与されている(図7の例では30)。また、輪郭線L(2)の外側であって輪郭線L(3)の内側の領域M3に位置する要素には、31〜50のいずれかの要素値が付与されている(図7の例では50)。また、輪郭線L(3)の外側の領域M4に位置する要素には、51〜255のいずれかの要素値が付与されている(図7の例では255)。なお、図7の例では、各領域に同じ要素値が配されているが、許容される範囲の値であれば、異なる要素値が配されてもよい。   For example, in the shape matrix data Da shown in FIG. 7, the contour line L (1) of the first shape pattern is a boundary line that defines an element region having an element value of 10 or less. The contour line L (2) of the second shape pattern is a boundary line that defines an element region having an element value of 30 or less. The contour line L (3) of the third shape pattern is a boundary line that defines an element region having an element value of 50 or less. That is, one of element values 0 to 10 (10 in the example of FIG. 7) is given to an element located in the matrix area and the area M1 inside the contour line L (1). In addition, any element value of 11 to 30 is assigned to an element located in the region M2 outside the contour line L (1) and inside the contour line L (2) (example in FIG. 7). Then 30). In addition, any element value of 31 to 50 is given to an element located in the region M3 outside the contour line L (2) and inside the contour line L (3) (example in FIG. 7). Then 50). In addition, any element value of 51 to 255 is given to the element located in the region M4 outside the contour line L (3) (255 in the example of FIG. 7). In the example of FIG. 7, the same element value is arranged in each region, but different element values may be arranged as long as the values are within an allowable range.

なお、図7の例では、互いにサイズの異なる円形の形状パターンが3個規定される形状マトリクスデータDaが例示されているが、形状マトリクスデータDaに規定される形状パターンは3個に限らず、また、円形以外の形状パターンが規定されてもよく、また、複数種類の形状が同時に規定されてもよい。図8には、形状マトリクスデータDaの別の構成例が示されている。   In the example of FIG. 7, the shape matrix data Da in which three circular shape patterns having different sizes are defined is illustrated, but the shape pattern defined in the shape matrix data Da is not limited to three, Moreover, a shape pattern other than a circle may be defined, and a plurality of types of shapes may be defined simultaneously. FIG. 8 shows another configuration example of the shape matrix data Da.

〈3−2.パターン画像データPの取得〉
上述したとおり、レシピには、基材シート90上に形成すべき塗布パターンが指定されている。具体的には、レシピには、基材シート90上に形成すべき塗布パターンをRAM43に格納されたマトリクスデータDから抽出可能な閾値が記述されており、これによって、基材シート90上に形成すべき塗布パターンが指定されている。制御部40は、RAM43に格納されたマトリクスデータDを、レシピにて指定された閾値を用いて2値データに変換し(2値化)、得られた2値データをパターン画像データPとして取得する。ただし、2値化処理においては、マトリクスデータDに含まれる複数の要素の全てについて同じ閾値が用いられる。すなわち、マトリクスデータDに含まれる複数の要素の全てが、同じ閾値と比較される。
<3-2. Acquisition of pattern image data P>
As described above, the application pattern to be formed on the base sheet 90 is specified in the recipe. Specifically, the recipe describes a threshold value that allows the application pattern to be formed on the base sheet 90 to be extracted from the matrix data D stored in the RAM 43, thereby forming the pattern on the base sheet 90. The application pattern to be specified is specified. The control unit 40 converts the matrix data D stored in the RAM 43 into binary data (binarization) using a threshold value specified in the recipe, and obtains the obtained binary data as pattern image data P. To do. However, in the binarization process, the same threshold value is used for all of a plurality of elements included in the matrix data D. That is, all of the plurality of elements included in the matrix data D are compared with the same threshold value.

RAM43に形状マトリクスデータDaが格納されている場合、レシピには、形状マトリクスデータDaから、形成すべき塗布パターンの形状を抽出可能な閾値(上限閾値、もしくは、上限閾値および下限閾値)が指定されている。   When the shape matrix data Da is stored in the RAM 43, a threshold value (upper limit threshold value, or upper limit threshold value and lower limit threshold value) at which the shape of the coating pattern to be formed can be extracted from the shape matrix data Da is specified in the recipe. ing.

〈レシピに上限閾値が指定されている場合〉
レシピに上限閾値が指定されている場合、制御部40は、形状マトリクスデータDaから上限閾値以下の要素領域を抽出することによって、形状マトリクスデータDaをパターン画像データPに変換する。具体的には、形状マトリクスデータDaの全要素のそれぞれについて、その要素値と指定された上限閾値とを比較し、要素値が上限閾値以下の場合は当該要素に「1」を付与し、要素値が上限閾値よりも大きい場合は当該要素に「0」を付与することによって、形状マトリクスデータDaをパターン画像データPに変換する。
<When an upper threshold is specified for the recipe>
When the upper limit threshold value is specified in the recipe, the control unit 40 converts the shape matrix data Da into the pattern image data P by extracting an element region having an upper limit threshold value or less from the shape matrix data Da. Specifically, for each of all elements of the shape matrix data Da, the element value is compared with the designated upper limit threshold value. If the element value is equal to or less than the upper limit threshold value, “1” is assigned to the element, When the value is larger than the upper limit threshold value, “0” is given to the element to convert the shape matrix data Da into the pattern image data P.

例えば、レシピに指定された上限閾値が10であるとする。この場合、制御部40は、形状マトリクスデータDaの全要素のそれぞれについて、要素値が10以下の場合は当該要素に「1」を付与し、要素値が10よりも大きい場合は当該要素に「0」を付与する。RAM43に格納されている形状マトリクスデータDaが、図7に例示されるものである場合、当該処理によって、要素値が10以下の要素領域(領域M1)が抽出される。制御部40は、当該得られたデータをパターン画像データPとして取得する(図9)。   For example, it is assumed that the upper threshold value designated in the recipe is 10. In this case, for each of all elements of the shape matrix data Da, the control unit 40 assigns “1” to the element when the element value is 10 or less, and assigns “1” to the element when the element value is greater than 10. 0 ”is assigned. When the shape matrix data Da stored in the RAM 43 is as illustrated in FIG. 7, an element region (region M1) having an element value of 10 or less is extracted by the processing. The control unit 40 acquires the obtained data as the pattern image data P (FIG. 9).

制御部40が当該パターン画像データPにしたがって塗布ヘッド11からの薬液の吐出を制御することによって、第1の形状パターンの塗布パターンが基材シート90上に形成されることになる(例えば、図5参照)。   The control unit 40 controls the discharge of the chemical solution from the coating head 11 according to the pattern image data P, whereby a coating pattern having the first shape pattern is formed on the base sheet 90 (for example, FIG. 5).

また例えば、レシピに指定された上限閾値が50であるとする。この場合、制御部40は、形状マトリクスデータDaの全要素のそれぞれについて、要素値が50以下の場合は当該要素に「1」を付与し、要素値が50よりも大きい場合は当該要素に「0」を付与する。RAM43に格納されている形状マトリクスデータDaが、図7に例示されるものである場合、当該処理によって、要素値が50以下の要素領域(領域M1、領域M2、および、領域M3)が抽出される。制御部40は、当該得られたデータをパターン画像データPとして取得する(図10)。   Further, for example, assume that the upper limit threshold value specified in the recipe is 50. In this case, for each of all elements of the shape matrix data Da, the control unit 40 assigns “1” to the element when the element value is 50 or less, and assigns “1” to the element when the element value is greater than 50. 0 ”is assigned. When the shape matrix data Da stored in the RAM 43 is as illustrated in FIG. 7, element regions (region M1, region M2, and region M3) having element values of 50 or less are extracted by this processing. The The control unit 40 acquires the obtained data as pattern image data P (FIG. 10).

制御部40が当該パターン画像データPにしたがって塗布ヘッド11からの薬液の吐出を制御することによって、第3の形状パターンの塗布パターンが基材シート90上に形成されることになる(例えば、図4参照)。   When the control unit 40 controls the discharge of the chemical solution from the coating head 11 according to the pattern image data P, the coating pattern of the third shape pattern is formed on the base sheet 90 (for example, FIG. 4).

〈レシピに上限閾値と下限閾値とが指定されている場合〉
レシピに上限閾値と下限閾値とが指定されている場合、制御部40は、形状マトリクスデータDaから上限閾値以下であり、かつ、下限閾値以上の要素領域を抽出することによって、形状マトリクスデータDaをパターン画像データPに変換する。具体的には、形状マトリクスデータDaの全要素のそれぞれについて、その要素値と指定された上限閾値・下限閾値とをそれぞれ比較し、要素値が上限閾値以上であり、かつ、下限閾値以下の場合は当該要素に「1」を付与し、要素値が上限閾値よりも大きい、あるいは、下限閾値よりも小さい場合は、当該要素に「0」を付与することによって、形状マトリクスデータDaをパターン画像データPに変換する。
<When the upper and lower thresholds are specified in the recipe>
When the upper limit threshold and the lower limit threshold are specified in the recipe, the control unit 40 extracts the shape matrix data Da from the shape matrix data Da by extracting element regions that are equal to or lower than the upper limit threshold and equal to or higher than the lower limit threshold. Convert to pattern image data P. Specifically, for each of all elements of the shape matrix data Da, the element value is compared with the specified upper and lower thresholds, respectively, and the element value is equal to or higher than the upper threshold and lower than the lower threshold. Gives “1” to the element, and if the element value is larger than the upper threshold or smaller than the lower threshold, “0” is given to the element, thereby obtaining the shape matrix data Da as the pattern image data. Convert to P.

例えば、レシピに指定された上限閾値、下限閾値が、それぞれ50、31であるとする。この場合、制御部40は、形状マトリクスデータDaの全要素のそれぞれについて、要素値が31以上であり、かつ、50以下の場合は当該要素に「1」を付与し、要素値が50よりも大きい、あるいは、31よりも小さい場合は、当該要素に「0」を付与する。RAM43に格納されている形状マトリクスデータDaが、図7に例示されるものである場合、当該処理によって、要素値が31以上であり50以下の要素領域(領域M3)が抽出される。制御部40は、当該得られたデータをパターン画像データPとして取得する(図11)。   For example, it is assumed that the upper limit threshold and the lower limit threshold specified in the recipe are 50 and 31, respectively. In this case, the control unit 40 gives “1” to the element when the element value is 31 or more and 50 or less for each of all the elements of the shape matrix data Da, and the element value is more than 50. If it is larger or smaller than 31, “0” is assigned to the element. When the shape matrix data Da stored in the RAM 43 is as illustrated in FIG. 7, an element region (region M3) having an element value of 31 or more and 50 or less is extracted by the processing. The control unit 40 acquires the obtained data as pattern image data P (FIG. 11).

制御部40が当該パターン画像データPにしたがって塗布ヘッド11からの薬液の吐出を制御することによって、第3の形状パターンから第2の形状パターンをくり抜いたくりぬき形状の塗布パターンの塗布パターンが基材シート90上に形成されることになる(例えば、図6参照)。   When the control unit 40 controls the discharge of the chemical solution from the coating head 11 according to the pattern image data P, the coating pattern of the hollow-shaped coating pattern obtained by hollowing out the second shape pattern from the third shape pattern is the base material. It is formed on the sheet 90 (see, for example, FIG. 6).

〈B.第2の実施の形態〉
〈1.装置構成〉
第2の実施の形態に係る貼付剤製造装置の構成について説明する。この実施の形態に係る貼付剤製造装置は、第1の実施の形態に係る貼付剤製造装置1と同様の装置構成を備えている。以下の説明において、第1の実施の形態と同一の要素については同じ符号を付して示すことにする。
<B. Second Embodiment>
<1. Device configuration>
A configuration of the patch manufacturing apparatus according to the second embodiment will be described. The patch manufacturing apparatus according to this embodiment has the same device configuration as the patch manufacturing apparatus 1 according to the first embodiment. In the following description, the same elements as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals.

〈2.処理の流れ〉
第2の実施の形態に係る貼付剤製造装置1において行われる貼付剤の製造処理の流れを、図12〜図14を参照しながら説明する。図12〜図14は、貼付剤製造装置1における貼付剤の製造工程の一例を示す図である。
<2. Process flow>
The flow of the patch manufacturing process performed in the patch manufacturing apparatus 1 according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. 12-14 is a figure which shows an example of the manufacturing process of the patch in the patch manufacturing apparatus 1. FIG.

第1の実施の形態と同様、基材シート90にどのような塗布パターンで薬剤層を形成するかはレシピにより指定されており、制御部40は、レシピにて指定された塗布パターンが記述されたパターン画像データPを後述する一連の処理により取得する。そして、当該取得したパターン画像データPにしたがって塗布ヘッド11に設けられた全てのノズルについてオン/オフのタイミングを制御する。これによって、基材シート90に、レシピに指定された塗布パターンで薬剤層が形成されることになる。   As in the first embodiment, the application pattern for forming the drug layer on the base sheet 90 is specified by the recipe, and the control unit 40 describes the application pattern specified by the recipe. The obtained pattern image data P is acquired by a series of processes described later. Then, on / off timing is controlled for all nozzles provided in the coating head 11 according to the acquired pattern image data P. As a result, a drug layer is formed on the base sheet 90 with the application pattern specified in the recipe.

ただし、この実施の形態においては、レシピに、基材シート90上に形成すべき塗布パターンの濃度が指定されている。すなわち、オペレータは、レシピで指定することにより、任意の濃度の塗布パターンを基材シート90上に形成させることができる。ただし、ここでいう「塗布パターンの濃度」とは、1ノズルから吐出される薬液の量と、塗布パターン全体に塗布すべき薬液の量とから規定される値であり、ノズルから吐出される薬液の濃度値とは異なる概念である。   However, in this embodiment, the density of the coating pattern to be formed on the base sheet 90 is specified in the recipe. That is, the operator can form an application pattern having an arbitrary density on the base sheet 90 by designating the recipe. However, “the density of the coating pattern” here is a value defined by the amount of the chemical liquid ejected from one nozzle and the amount of the chemical liquid to be applied to the entire coating pattern, and the chemical liquid ejected from the nozzle This is a different concept from the density value.

例えば、単位面積あたりのノズルの個数がN個であり、1ノズルから吐出される薬液の量がmであるとする。この場合、単位面積あたりに塗布すべき薬液の量が(N×m)であれば、N個のノズル全てから薬液を吐出する必要がある。この場合、塗布パターンの濃度は100パーセントとなる(図12)。一方、単位面積あたりに塗布すべき薬液の量が(N×m)/2であれば、N個のノズル中、半分の(N/2)個のノズルのみから薬液を吐出すればよい。この場合、塗布パターンの濃度は50パーセントとなる(図13)。このように、塗布パターンの濃度は、塗布パターンの全領域に対して薬液が実際に塗布されている領域の面積が占める比率により規定されることになる。   For example, it is assumed that the number of nozzles per unit area is N, and the amount of chemical liquid discharged from one nozzle is m. In this case, if the amount of the chemical solution to be applied per unit area is (N × m), it is necessary to discharge the chemical solution from all N nozzles. In this case, the density of the coating pattern is 100 percent (FIG. 12). On the other hand, if the amount of the chemical solution to be applied per unit area is (N × m) / 2, the chemical solution may be discharged from only half (N / 2) nozzles out of the N nozzles. In this case, the density of the coating pattern is 50 percent (FIG. 13). Thus, the density of the application pattern is defined by the ratio of the area of the area where the chemical is actually applied to the entire area of the application pattern.

例えば、レシピにて、基材シート90に濃度が100パーセントの塗布パターンを形成するように指定されている場合、制御部40は、濃度が100パーセントの塗布パターンが記述されたパターン画像データPを取得し、取得したパターン画像データPに基づいて塗布ヘッド11からの薬液の吐出を制御する。これにより、濃度が100パーセントの薬剤層(すなわち、塗布パターン内の全ドットに対して薬液が塗布された薬剤層)95が基材シート90上に形成される(図12)。   For example, when it is specified in the recipe that an application pattern with a density of 100 percent is formed on the base sheet 90, the control unit 40 uses the pattern image data P describing the application pattern with a density of 100 percent. Based on the acquired pattern image data P, the discharge of the chemical solution from the coating head 11 is controlled. As a result, a drug layer having a concentration of 100 percent (that is, a drug layer in which a drug solution is applied to all dots in the application pattern) 95 is formed on the base sheet 90 (FIG. 12).

また例えば、レシピにて、基材シート90に濃度が50パーセントの塗布パターンを形成するように指定されている場合、制御部40は、濃度が50パーセントの塗布パターンが記述されたパターン画像データPを取得し、取得したパターン画像データPに基づいて塗布ヘッド11からの薬液の吐出を制御する。これにより、濃度が50パーセントの薬剤層(すなわち、塗布パターン内の全ドットのうちの半分のドットのみに対して薬液が塗布された薬剤層)95が基材シート90上に形成される(図13)。   For example, when it is specified in the recipe that an application pattern having a density of 50 percent is formed on the base sheet 90, the control unit 40 displays the pattern image data P describing the application pattern having a density of 50 percent. And the ejection of the chemical solution from the coating head 11 is controlled based on the acquired pattern image data P. As a result, a drug layer having a concentration of 50 percent (that is, a drug layer in which a chemical solution is applied to only half of all dots in the application pattern) 95 is formed on the base sheet 90 (FIG. 13).

また例えば、レシピにて、基材シート90に濃度が12.5パーセントの塗布パターンを形成するように指定されている場合、制御部40は、濃度が12.5パーセントの塗布パターンが記述されたパターン画像データPを取得し、取得したパターン画像データPに基づいて塗布ヘッド11からの薬液の吐出を制御する。これにより、濃度が12.5パーセントの薬剤層(すなわち、塗布パターン内の全ドットのうちの1/8のドットのみに対して薬液が塗布された薬剤層)95が基材シート90上に形成される(図14)。   For example, when it is specified in the recipe that an application pattern having a density of 12.5% is formed on the base sheet 90, the control unit 40 describes the application pattern having a density of 12.5%. The pattern image data P is acquired, and the discharge of the chemical solution from the coating head 11 is controlled based on the acquired pattern image data P. As a result, a drug layer having a concentration of 12.5% (that is, a drug layer in which a chemical solution is applied to only 1/8 of all dots in the application pattern) 95 is formed on the base sheet 90. (FIG. 14).

〈3.パターン画像データPの取得態様〉
この実施の形態に係る貼付剤製造装置1の制御部40は、レシピにて指定された濃度の塗布パターンを規定するパターン画像データPを、制御部40のRAM43に格納されたマトリクスデータDを用いて取得する。以下において、制御部40がパターン画像データPを取得する方法について説明する。
<3. Pattern Image Data P Acquisition Mode>
The control unit 40 of the patch manufacturing apparatus 1 according to this embodiment uses the matrix image D stored in the RAM 43 of the control unit 40 as the pattern image data P that defines the application pattern having the concentration specified by the recipe. Get. Hereinafter, a method in which the control unit 40 acquires the pattern image data P will be described.

〈3−1.マトリクスデータD〉
この実施の形態に係る貼付剤製造装置1は、マトリクスデータDとして、塗布パターンの濃度を規定するマトリクスデータD(以下「濃度マトリクスデータDb」という)を保持している。濃度マトリクスデータDbについて、図15を参照しながら説明する。図15は、濃度マトリクスデータDbの部分拡大図である。
<3-1. Matrix Data D>
The patch manufacturing apparatus 1 according to this embodiment holds, as matrix data D, matrix data D (hereinafter referred to as “density matrix data Db”) that defines the density of the coating pattern. The density matrix data Db will be described with reference to FIG. FIG. 15 is a partially enlarged view of the density matrix data Db.

濃度マトリクスデータDbには、各要素値がマトリクス領域の全体に分散して配置されている。すなわち、濃度マトリクスデータDbにおいては、各要素値が、マトリクス領域において局所的に現れるといったことがないように配慮して形成されている。   In the density matrix data Db, each element value is distributed and arranged over the entire matrix area. That is, in the density matrix data Db, each element value is formed so as not to appear locally in the matrix region.

特に、各要素値は、マトリクス領域の全体に均一に分散して配置される(すなわち、各要素値の単位面積あたりの出現頻度がマトリクス領域の全体にわたって等しくなるように配置される)ことが好ましい。   In particular, it is preferable that the element values are uniformly distributed throughout the matrix area (that is, the element values are arranged so that the frequency of appearance per unit area of the element values is equal throughout the matrix area). .

〈3−2.パターン画像データPの取得〉
第1の実施の形態と同様、この実施の形態においても、レシピには、基材シート90上に形成すべき塗布パターンが指定されている。RAM43に濃度マトリクスデータDbが格納されている場合、レシピには、濃度マトリクスデータDbから、形成すべき塗布パターンの濃度に合致した2値の画像データを抽出可能な閾値が指定されている。
<3-2. Acquisition of pattern image data P>
Similar to the first embodiment, also in this embodiment, an application pattern to be formed on the base sheet 90 is specified in the recipe. When the density matrix data Db is stored in the RAM 43, the recipe designates a threshold value from which binary image data matching the density of the coating pattern to be formed can be extracted from the density matrix data Db.

制御部40は、RAM43に格納された濃度マトリクスデータDbを、レシピにて指定された閾値を用いて2値データに変換し、得られた2値データをパターン画像データPとして取得する。ただし、ここでも、2値化処理においては、濃度マトリクスデータDbに含まれる複数の要素の全てについて同じ閾値が用いられる。すなわち、濃度マトリクスデータDbに含まれる複数の要素の全てが、同じ閾値と比較される。   The control unit 40 converts the density matrix data Db stored in the RAM 43 into binary data using a threshold value specified in the recipe, and acquires the obtained binary data as pattern image data P. However, here, in the binarization process, the same threshold is used for all of the plurality of elements included in the density matrix data Db. That is, all of the plurality of elements included in the density matrix data Db are compared with the same threshold value.

具体的には、制御部40は、濃度マトリクスデータDbの全要素のそれぞれについて、その要素値と指定された閾値とを比較し、要素値が閾値以下の場合は当該要素に「1」を付与し、要素値が閾値よりも大きい場合は当該要素に「0」を付与することによって、濃度マトリクスデータDbをパターン画像データPに変換する。   Specifically, the control unit 40 compares the element value with the specified threshold value for each of all elements of the density matrix data Db, and gives “1” to the element when the element value is equal to or less than the threshold value. If the element value is larger than the threshold value, the density matrix data Db is converted to the pattern image data P by assigning “0” to the element.

ただし、上述したとおり、濃度マトリクスデータDbにおいては、各要素値がマトリクス領域の全体に分散して配置されている。したがって、閾値がどのようなものであっても、マトリクス領域の全体から満遍なく要素が抽出される。ただし、抽出される要素の個数は閾値に応じて変わってくる。すなわち、閾値に応じた個数の要素がマトリクス領域の全体に分散して配置された塗布パターンが得られる。このような塗布パターンは、巨視的に見れば均一な濃度を呈し、その濃度は、抽出された要素の個数がマトリクスを構成する全要素の個数に対して占める比率により規定されることになる。   However, as described above, in the density matrix data Db, the element values are distributed throughout the matrix area. Therefore, regardless of the threshold value, elements are uniformly extracted from the entire matrix region. However, the number of extracted elements varies according to the threshold value. That is, a coating pattern is obtained in which the number of elements corresponding to the threshold value is distributed and arranged throughout the matrix area. Such a coating pattern exhibits a uniform density when viewed macroscopically, and the density is defined by the ratio of the number of extracted elements to the total number of elements constituting the matrix.

例えば、レシピに指定された閾値が20であるとする。この場合、制御部40は、濃度マトリクスデータDbの全要素のそれぞれについて、要素値が20以下の場合は当該要素に「1」を付与し、要素値が20よりも大きい場合は当該要素に「0」を付与する。これにより、濃度マトリクスデータDbから要素値が20以下の要素領域が抽出される。RAM43に格納された濃度マトリクスデータDbが図15に示されるものである場合、64個の要素中、抽出される要素(要素値が20以下の要素)は8個である。したがって、濃度が12.5パーセントの塗布パターンを規定するパターン画像データPが得られることになる。制御部40は、当該得られたデータをパターン画像データPとして取得する(図16)。   For example, it is assumed that the threshold value specified in the recipe is 20. In this case, for each of all elements of the density matrix data Db, the control unit 40 assigns “1” to the element when the element value is 20 or less, and assigns “1” to the element when the element value is greater than 20. 0 ”is assigned. Thereby, an element region having an element value of 20 or less is extracted from the density matrix data Db. In the case where the density matrix data Db stored in the RAM 43 is as shown in FIG. 15, out of 64 elements, 8 elements (elements having an element value of 20 or less) are extracted. Therefore, pattern image data P defining a coating pattern having a density of 12.5% is obtained. The control unit 40 acquires the obtained data as pattern image data P (FIG. 16).

制御部40が当該パターン画像データPにしたがって塗布ヘッド11からの薬液の吐出を制御することによって、濃度が12.5パーセントの塗布パターンが基材シート90上に形成されることになる(図14参照)。   When the control unit 40 controls the discharge of the chemical solution from the coating head 11 according to the pattern image data P, a coating pattern having a concentration of 12.5% is formed on the base sheet 90 (FIG. 14). reference).

また例えば、レシピに指定された閾値が80であるとする。この場合、制御部40は、濃度マトリクスデータDbの全要素のそれぞれについて、要素値が80以下の場合は当該要素に「1」を付与し、要素値が80よりも大きい場合は当該要素に「0」を付与する。これにより、濃度マトリクスデータDbから要素値が80以下の要素領域が抽出される。RAM43に格納された濃度マトリクスデータDbが図15に示されるものである場合、64個の要素中、抽出される要素(要素値が80以下の要素)は32個である。したがって、濃度が50パーセントの塗布パターンを規定するパターン画像データPが得られることになる。制御部40は、当該得られたデータをパターン画像データPとして取得する(図17)。   Also, for example, assume that the threshold value specified in the recipe is 80. In this case, for each of all elements of the density matrix data Db, the control unit 40 assigns “1” to the element when the element value is 80 or less, and assigns “1” to the element when the element value is greater than 80. 0 ”is assigned. Thereby, an element region having an element value of 80 or less is extracted from the density matrix data Db. When the density matrix data Db stored in the RAM 43 is as shown in FIG. 15, 32 elements (elements having an element value of 80 or less) are extracted from the 64 elements. Therefore, pattern image data P defining a coating pattern having a density of 50 percent is obtained. The control unit 40 acquires the obtained data as pattern image data P (FIG. 17).

制御部40が当該パターン画像データPにしたがって塗布ヘッド11からの薬液の吐出を制御することによって、濃度が50パーセントの塗布パターンが基材シート90上に形成されることになる(図13参照)。   When the control unit 40 controls the discharge of the chemical solution from the coating head 11 according to the pattern image data P, a coating pattern having a density of 50 percent is formed on the base sheet 90 (see FIG. 13). .

また例えば、レシピに指定された閾値が255であるとする。濃度マトリクスデータDbの各要素が8ビットのデータサイズで規定されている場合、濃度マトリクスデータDbの全ての要素の要素値は、255以下の値で規定されている。したがってこの場合、制御部40は、濃度マトリクスデータDbの全要素に「1」を付与する。これにより、濃度マトリクスデータDbの全領域が抽出される。RAM43に格納された濃度マトリクスデータDbが図15に示されるものである場合、64個の要素中、全ての要素が抽出される。したがって、濃度が100パーセントの塗布パターンを規定するパターン画像データPが得られることになる。制御部40は、当該得られたデータをパターン画像データPとして取得する(図18)。   For example, assume that the threshold value specified in the recipe is 255. When each element of the density matrix data Db is defined with an 8-bit data size, the element values of all elements of the density matrix data Db are defined with a value of 255 or less. Therefore, in this case, the control unit 40 assigns “1” to all elements of the density matrix data Db. As a result, the entire region of the density matrix data Db is extracted. When the density matrix data Db stored in the RAM 43 is as shown in FIG. 15, all of the 64 elements are extracted. Therefore, pattern image data P defining a coating pattern with a density of 100 percent is obtained. The control unit 40 acquires the obtained data as pattern image data P (FIG. 18).

制御部40が当該パターン画像データPにしたがって塗布ヘッド11からの薬液の吐出を制御することによって、濃度が100パーセントの塗布パターンが基材シート90上に形成されることになる(図12参照)。   When the control unit 40 controls the discharge of the chemical solution from the coating head 11 according to the pattern image data P, a coating pattern having a density of 100 percent is formed on the base sheet 90 (see FIG. 12). .

〈C.第3の実施の形態〉
〈1.装置構成〉
第3の実施の形態に係る貼付剤製造装置の構成について説明する。この実施の形態に係る貼付剤製造装置は、第1の実施の形態に係る貼付剤製造装置1と同様の装置構成を備えている。以下の説明において、第1の実施の形態と同一の要素については同じ符号を付して示すことにする。
<C. Third Embodiment>
<1. Device configuration>
The configuration of the patch manufacturing apparatus according to the third embodiment will be described. The patch manufacturing apparatus according to this embodiment has the same device configuration as the patch manufacturing apparatus 1 according to the first embodiment. In the following description, the same elements as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals.

〈2.処理の流れ〉
第3の実施の形態に係る貼付剤製造装置1において行われる貼付剤の製造処理の流れは、上記の各実施の形態に係る貼付剤製造装置1において行われるものとほぼ同様である。
<2. Process flow>
The flow of the patch manufacturing process performed in the patch manufacturing apparatus 1 according to the third embodiment is substantially the same as that performed in the patch manufacturing apparatus 1 according to each of the above embodiments.

上記の各実施の形態と同様、ここでも、基材シート90にどのような塗布パターンで薬剤層を形成するかはレシピにより指定されており、制御部40は、レシピにて指定された塗布パターンが記述されたパターン画像データPを後述する一連の処理により取得する。そして、当該取得したパターン画像データPにしたがって塗布ヘッド11に設けられた全てのノズルについてオン/オフのタイミングを制御する。これによって、基材シート90に、レシピに指定された塗布パターンで薬剤層が形成されることになる。   Similar to the above embodiments, here, the application pattern for forming the drug layer on the base sheet 90 is specified by the recipe, and the control unit 40 applies the application pattern specified by the recipe. Is acquired by a series of processes described later. Then, on / off timing is controlled for all nozzles provided in the coating head 11 according to the acquired pattern image data P. As a result, a drug layer is formed on the base sheet 90 with the application pattern specified in the recipe.

ただし、この実施の形態においては、レシピに、基材シート90上に形成すべき塗布パターンの形状と濃度の両方が指定されている。すなわち、オペレータは、レシピで指定することにより、任意の形状および任意の濃度の塗布パターンを基材シート90上に形成させることができる。   However, in this embodiment, both the shape and density of the coating pattern to be formed on the base sheet 90 are specified in the recipe. That is, the operator can form an application pattern having an arbitrary shape and an arbitrary density on the base sheet 90 by designating the recipe.

例えば、レシピにて、その形状が基材シート90と合同であり、その濃度が50パーセントの塗布パターンを形成するように指定されている場合、制御部40は、その形状が基材シート90と合同の図形であり、その濃度が50パーセントの塗布パターンが記述されたパターン画像データPを取得し、取得したパターン画像データPに基づいて塗布ヘッド11からの薬液の吐出を制御する。これにより、基材シート90の全面に濃度が50パーセントの薬剤層95が形成される(図13)。   For example, in the recipe, when the shape is congruent with the base sheet 90 and the density is designated to form a coating pattern of 50%, the control unit 40 has the shape as the base sheet 90. Pattern image data P, which is a congruent figure and in which an application pattern with a density of 50 percent is described, is acquired, and the discharge of the chemical solution from the application head 11 is controlled based on the acquired pattern image data P. As a result, a drug layer 95 having a concentration of 50 percent is formed on the entire surface of the base sheet 90 (FIG. 13).

〈3.パターン画像データPの取得態様〉
この実施の形態に係る貼付剤製造装置1の制御部40は、レシピにて指定された形状および濃度の塗布パターンを規定するパターン画像データPを、制御部40のRAM43に格納されたマトリクスデータDを用いて取得する。以下において、制御部40がパターン画像データPを取得する方法について説明する。
<3. Pattern Image Data P Acquisition Mode>
The control unit 40 of the patch manufacturing apparatus 1 according to this embodiment uses the matrix data D stored in the RAM 43 of the control unit 40 to store pattern image data P that defines the application pattern having the shape and density specified in the recipe. Use to get. Hereinafter, a method in which the control unit 40 acquires the pattern image data P will be described.

〈3−1.マトリクスデータD〉
この実施の形態に係る貼付剤製造装置1は、マトリクスデータDとして、上述した形状マトリクスデータDaと、濃度マトリクスデータDbとを保持している。
<3-1. Matrix Data D>
The patch manufacturing apparatus 1 according to this embodiment holds the shape matrix data Da and the density matrix data Db described above as the matrix data D.

〈3−2.パターン画像データPの取得〉
上記の各実施の形態と同様、この実施の形態においても、レシピには、基材シート90上に形成すべき塗布パターンが指定されている。RAM43に形状マトリクスデータDaと濃度マトリクスデータDbとが格納されている場合、レシピには、形状マトリクスデータDaから、形成すべき塗布パターンの形状を抽出可能な閾値(上限閾値、もしくは、上限閾値および下限閾値)と、濃度マトリクスデータDbから、形成すべき塗布パターンの濃度に合致した2値の画像データを抽出可能な閾値とが、それぞれ指定されている。これら2つの閾値によって、基材シート90上に形成すべき塗布パターンが指定されている。
<3-2. Acquisition of pattern image data P>
Similar to the above-described embodiments, also in this embodiment, the application pattern to be formed on the base sheet 90 is specified in the recipe. When the shape matrix data Da and the density matrix data Db are stored in the RAM 43, the recipe includes a threshold value (upper limit threshold value, upper limit threshold value, and upper threshold value) from which the shape of the application pattern to be formed can be extracted from the shape matrix data Da. Lower limit threshold value) and a threshold value from which binary image data matching the density of the coating pattern to be formed can be extracted from the density matrix data Db. The application pattern to be formed on the base sheet 90 is specified by these two threshold values.

制御部40は、RAM43に格納された形状マトリクスデータDaと濃度マトリクスデータDbのそれぞれを、レシピにて指定された閾値を用いて2値データに変換する。そして、得られた2つの2値の画像データの各要素の論理積をとって、新たな2値の画像データを生成し、これをパターン画像データPとして取得する。   The control unit 40 converts each of the shape matrix data Da and the density matrix data Db stored in the RAM 43 into binary data using a threshold value specified in the recipe. Then, a logical product of each element of the obtained two binary image data is taken to generate new binary image data, which is obtained as pattern image data P.

例えば、RAM43に格納されているマトリクスデータDが、図7に示される形状マトリクスデータDaと、図15に示される濃度マトリクスデータDbである場合において、形状マトリクスデータDaについてレシピに指定された上限閾値が50であり、濃度マトリクスデータDbについてレシピに指定された閾値が80であるとすると、図10に示される2値の画像データと、図17に示される2値の画像データとの論理積により、図19に示されるパターン画像データPが取得される。   For example, when the matrix data D stored in the RAM 43 is the shape matrix data Da shown in FIG. 7 and the density matrix data Db shown in FIG. 15, the upper limit threshold value specified in the recipe for the shape matrix data Da Is 50 and the threshold value specified in the recipe for the density matrix data Db is 80, the logical product of the binary image data shown in FIG. 10 and the binary image data shown in FIG. The pattern image data P shown in FIG. 19 is acquired.

制御部40が当該パターン画像データPにしたがって塗布ヘッド11からの薬液の吐出を制御することによって、形状が第3の形状パターンであり、濃度が50パーセントの塗布パターンが基材シート90上に形成されることになる(図13参照)。   The control unit 40 controls the discharge of the chemical liquid from the coating head 11 according to the pattern image data P, whereby a coating pattern having a shape of the third shape and a density of 50% is formed on the base sheet 90. (See FIG. 13).

〈D.第4の実施の形態〉
〈1.装置構成〉
第4の実施の形態に係る貼付剤製造装置の構成について説明する。この実施の形態に係る貼付剤製造装置は、第1の実施の形態に係る貼付剤製造装置1と同様の装置構成を備えている。以下の説明において、第1の実施の形態と同一の要素については同じ符号を付して示すことにする。
<D. Fourth Embodiment>
<1. Device configuration>
The configuration of the patch manufacturing apparatus according to the fourth embodiment will be described. The patch manufacturing apparatus according to this embodiment has the same device configuration as the patch manufacturing apparatus 1 according to the first embodiment. In the following description, the same elements as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals.

〈2.処理の流れ〉
第4の実施の形態に係る貼付剤製造装置1において行われる貼付剤の製造処理の流れは、第3の実施の形態に係る貼付剤製造装置1において行われるものと同様である。
<2. Process flow>
The flow of the patch manufacturing process performed in the patch manufacturing apparatus 1 according to the fourth embodiment is the same as that performed in the patch manufacturing apparatus 1 according to the third embodiment.

〈3.パターン画像データPの取得態様〉
この実施の形態に係る貼付剤製造装置1の制御部40は、レシピにて指定された形状および濃度の塗布パターンを規定するパターン画像データPを、制御部40のRAM43に格納されたマトリクスデータDを用いて取得する。以下において、制御部40がパターン画像データPを取得する方法について説明する。
<3. Pattern Image Data P Acquisition Mode>
The control unit 40 of the patch manufacturing apparatus 1 according to this embodiment uses the matrix data D stored in the RAM 43 of the control unit 40 to store pattern image data P that defines the application pattern having the shape and density specified in the recipe. Use to get. Hereinafter, a method in which the control unit 40 acquires the pattern image data P will be described.

〈3−1.マトリクスデータD〉
この実施の形態に係る貼付剤製造装置1は、マトリクスデータDとして、塗布パターンの形状と濃度の両方を規定可能なマトリクスデータ(以下「併合マトリクスデータDc」という)を保持している。併合マトリクスデータDcについて、図20を参照しながら説明する。図20は、併合マトリクスデータDcの構成例を示す図である。
<3-1. Matrix Data D>
The patch manufacturing apparatus 1 according to this embodiment holds, as matrix data D, matrix data (hereinafter referred to as “merged matrix data Dc”) that can define both the shape and density of the application pattern. The merged matrix data Dc will be described with reference to FIG. FIG. 20 is a diagram illustrating a configuration example of the merged matrix data Dc.

併合マトリクスデータDcには、形状マトリクスデータDa(図7)と同様、マトリクス領域内に複数の形状パターンが入れ子状に規定されており、各形状パターンの輪郭線は、要素値が所定値以下の要素領域を規定する境界線となっている。   In the merged matrix data Dc, like the shape matrix data Da (FIG. 7), a plurality of shape patterns are defined in a nested manner in the matrix area, and the contour line of each shape pattern has an element value equal to or less than a predetermined value. It is a boundary line that defines the element area.

例えば、図20に示される併合マトリクスデータDcにおいて、第1の形状パターンの輪郭線L(1)は要素値が50以下の要素領域を規定する境界線となっている。また、第2の形状パターンの輪郭線L(2)は要素値が100以下の要素領域を規定する境界線となっている。また、第3の形状パターンの輪郭線L(3)は要素値が150以下の要素領域を規定する境界線となっている。つまり、マトリクス領域内、輪郭線L(1)よりも内側の領域M1に位置する要素には、0〜50のいずれかの要素値が付与されている。また、輪郭線L(1)の外側であって輪郭線L(2)の内側の領域M2に位置する要素には、51〜100のいずれかの要素値が付与されている。また、輪郭線L(2)の外側であって輪郭線L(3)の内側の領域M3に位置する要素には、101〜150のいずれかの要素値が付与されている。また、輪郭線L(3)の外側の領域M4に位置する要素には、151〜255のいずれかの要素値が付与されている。   For example, in the merged matrix data Dc shown in FIG. 20, the contour line L (1) of the first shape pattern is a boundary line that defines an element region having an element value of 50 or less. The contour line L (2) of the second shape pattern is a boundary line that defines an element region having an element value of 100 or less. The contour line L (3) of the third shape pattern is a boundary line that defines an element region having an element value of 150 or less. That is, any element value of 0 to 50 is given to the element located in the area M1 inside the matrix area and the outline L (1). In addition, an element value of any one of 51 to 100 is assigned to an element located in the region M2 outside the contour line L (1) and inside the contour line L (2). In addition, an element value of 101 to 150 is assigned to an element located in the region M3 outside the contour line L (2) and inside the contour line L (3). In addition, any element value of 151 to 255 is given to the element located in the region M4 outside the contour line L (3).

ここで、併合マトリクスデータDcにおいては、各要素値が、当該要素値が属する部分領域内に分散して配置されている。図20に示される併合マトリクスデータDcの場合、例えば、要素値が30の要素は領域M1に分散して配置されており、要素値が90の要素は領域M2に分散して配置されている。すなわち、併合マトリクスデータDcにおいては、各要素値は、マトリクス領域に規定される特定の部分領域にのみ現れるものの、当該部分領域の中では分散して現れるように配慮して形成されている。   Here, in the merged matrix data Dc, each element value is distributed and arranged in the partial region to which the element value belongs. In the case of the merged matrix data Dc shown in FIG. 20, for example, elements with an element value of 30 are distributed in the region M1, and elements with an element value of 90 are distributed in the region M2. That is, in the merged matrix data Dc, each element value is formed so that it appears only in a specific partial area defined in the matrix area, but appears dispersed in the partial area.

なお、図20の例では、互いにサイズの異なる円形の形状パターンが3個規定される併合マトリクスデータDcが例示されているが、併合マトリクスデータDcに規定される形状パターンは3個に限らず、また、円形以外の形状パターンが規定されてもよく、また、複数種類の形状が同時に規定されてもよい(図8参照)。   In the example of FIG. 20, merged matrix data Dc in which three circular shape patterns having different sizes are defined is illustrated, but the shape pattern defined in the merged matrix data Dc is not limited to three, Further, a shape pattern other than a circle may be defined, and a plurality of types of shapes may be defined simultaneously (see FIG. 8).

〈3−2.パターン画像データPの取得〉
この実施の形態においても、上記の各実施の形態と同様、レシピには、基材シート90上に形成すべき塗布パターンが指定されている。RAM43に併合マトリクスデータDcが格納されている場合、レシピには、併合マトリクスデータDcから、形成すべき塗布パターンの形状および濃度に合致した2値の画像データを抽出可能な閾値(上限閾値、もしくは、上限閾値および下限閾値)が指定されている。
<3-2. Acquisition of pattern image data P>
Also in this embodiment, the application pattern to be formed on the base sheet 90 is specified in the recipe, as in the above embodiments. When the merge matrix data Dc is stored in the RAM 43, the recipe includes a threshold value (upper limit threshold value, or binary value) that can extract binary image data that matches the shape and density of the coating pattern to be formed from the merge matrix data Dc. , Upper threshold and lower threshold).

制御部40は、RAM43に格納された併合マトリクスデータDcを、レシピにて指定された閾値を用いて2値データに変換し、得られた2値データをパターン画像データPとして取得する。ただし、ここでも、2値化処理においては、併合マトリクスデータDcに含まれる複数の要素の全てについて同じ閾値が用いられる。すなわち、併合マトリクスデータDcに含まれる複数の要素の全てが、同じ閾値と比較される。   The control unit 40 converts the merged matrix data Dc stored in the RAM 43 into binary data using a threshold specified by the recipe, and acquires the obtained binary data as pattern image data P. However, here, in the binarization process, the same threshold is used for all of the plurality of elements included in the merged matrix data Dc. That is, all of the plurality of elements included in the merged matrix data Dc are compared with the same threshold value.

具体的には、併合マトリクスデータDcの全要素のそれぞれについて、その要素値と指定された上限閾値とを比較し、要素値が上限閾値以下の場合は当該要素に「1」を付与し、要素値が上限閾値よりも大きい場合は当該要素に「0」を付与することによって、併合マトリクスデータDcをパターン画像データPに変換する。また、レシピに上限閾値と下限閾値とが指定されている場合は、要素値が上限閾値以上であり、かつ、下限閾値以下の場合は当該要素に「1」を付与し、要素値が上限閾値よりも大きい、あるいは、下限閾値よりも小さい場合は、当該要素に「0」を付与することによって、併合マトリクスデータDcをパターン画像データPに変換する。   Specifically, for each of all elements of the merged matrix data Dc, the element value is compared with the designated upper limit threshold value. If the element value is equal to or less than the upper limit threshold value, “1” is assigned to the element. When the value is larger than the upper limit threshold, “0” is assigned to the element, thereby converting the merged matrix data Dc into the pattern image data P. Further, when the upper limit threshold and the lower limit threshold are specified in the recipe, the element value is equal to or higher than the upper limit threshold, and when it is equal to or lower than the lower limit threshold, “1” is given to the element, and the element value is the upper limit threshold. Greater than or less than the lower limit threshold value, the merged matrix data Dc is converted into the pattern image data P by giving “0” to the element.

例えば、レシピに指定された上限閾値が50であるとする。この場合、制御部40は、併合マトリクスデータDcの全要素のそれぞれについて、要素値が50以下の場合は当該要素に「1」を付与し、要素値が50よりも大きい場合は当該要素に「0」を付与する。RAM43に格納されている併合マトリクスデータDcが、図20に例示されるものである場合、当該処理によって、領域M1内に配置された全要素が抽出される。制御部40は、当該得られたデータをパターン画像データPとして取得する。   For example, it is assumed that the upper limit threshold specified in the recipe is 50. In this case, for each of all elements of the merged matrix data Dc, the control unit 40 assigns “1” to the element when the element value is 50 or less, and assigns “1” to the element when the element value is greater than 50. 0 ”is assigned. When the merged matrix data Dc stored in the RAM 43 is as exemplified in FIG. 20, all elements arranged in the region M1 are extracted by the processing. The control unit 40 acquires the obtained data as pattern image data P.

制御部40が当該パターン画像データPにしたがって塗布ヘッド11からの薬液の吐出を制御することによって、形状が第1の形状パターンであり、濃度が100パーセントの塗布パターンが基材シート90上に形成されることになる。   The control unit 40 controls the discharge of the chemical solution from the coating head 11 according to the pattern image data P, whereby a coating pattern having a shape of the first shape pattern and a concentration of 100% is formed on the base sheet 90. Will be.

また例えば、レシピに指定された上限閾値が25であるとする。この場合、制御部40は、併合マトリクスデータDcの全要素のそれぞれについて、要素値が20以下の場合は当該要素に「1」を付与し、要素値が25よりも大きい場合は当該要素に「0」を付与する。RAM43に格納されている併合マトリクスデータDcが、図20に例示されるものである場合、要素値が25以下の要素は領域M1に分散して配置されている。したがって当該処理によって、領域M1の全体から満遍なく要素が抽出される。例えば、各要素値が同数個ずつ配置されているとすると、領域M1に配置された全要素のうちの半分の要素が、領域M1の全域から満遍なく抽出され、濃度が50パーセントの塗布パターンを規定するパターン画像データPが得られることになる。制御部40は、当該得られたデータをパターン画像データPとして取得する。   Further, for example, it is assumed that the upper limit threshold value specified in the recipe is 25. In this case, for each of all elements of the merged matrix data Dc, the control unit 40 assigns “1” to the element when the element value is 20 or less, and assigns “1” to the element when the element value is greater than 25. 0 ”is assigned. When the merged matrix data Dc stored in the RAM 43 is as illustrated in FIG. 20, elements having an element value of 25 or less are distributed in the region M1. Therefore, elements are uniformly extracted from the entire region M1 by the processing. For example, if the same number of element values are arranged, half of all elements arranged in the region M1 are uniformly extracted from the entire region M1, and a coating pattern having a concentration of 50% is defined. Pattern image data P to be obtained is obtained. The control unit 40 acquires the obtained data as pattern image data P.

制御部40が当該パターン画像データPにしたがって塗布ヘッド11からの薬液の吐出を制御することによって、形状が第1の形状パターンであり、濃度が50パーセントの塗布パターンが基材シート90上に形成されることになる。   The control unit 40 controls the discharge of the chemical solution from the coating head 11 according to the pattern image data P, whereby a coating pattern having a shape of the first shape and a density of 50% is formed on the base sheet 90. Will be.

〈E.効果〉
上記の実施の形態によると、複数の要素が行方向および列方向に配列されるとともに各要素に0〜n(ただし、nは任意の正の整数)までの要素値が付与されたマトリクスデータDをRAM43に保持しておき、これを、レシピに指定された閾値を用いて2値化することによって、塗布パターンを規定するパターン画像データPを取得する。ただし、2値化処理においては、マトリクスデータDに含まれる複数の要素の全てについて同じ閾値が用いられる。この構成によると、2値化処理に用いる閾値を変更するだけで、様々な塗布パターンのパターン画像データPを取得することができる。したがって、簡易な構成で(すなわち、制御部等に大きな処理負担を強いることなく、また、大容量のメモリを要することもなく)、多様な塗布パターンを形成することができる。
<E. effect>
According to the above embodiment, matrix data D in which a plurality of elements are arranged in the row direction and the column direction and each element is assigned an element value from 0 to n (where n is an arbitrary positive integer). Is stored in the RAM 43, and this is binarized using a threshold value specified in the recipe, thereby obtaining pattern image data P defining the application pattern. However, in the binarization process, the same threshold value is used for all of a plurality of elements included in the matrix data D. According to this configuration, the pattern image data P of various application patterns can be acquired simply by changing the threshold used for the binarization process. Accordingly, various application patterns can be formed with a simple configuration (that is, without imposing a large processing burden on the control unit or the like and without requiring a large-capacity memory).

例えば、各要素に8ビットのデータサイズを持たせた場合、各要素に0〜255のいずれかの要素値を付与することができる。この場合、最大で、256通りの塗布パターンを1つのマトリクスデータD上に規定することができる。すなわち、1個のマトリクスデータDから、256通りの塗布パターンを記述したパターン画像データPを抽出することができる。各要素に8ビットのデータサイズを持たせたマトリクスデータDを1個記憶するのに要するメモリ容量は、256通りの塗布パターンを記述したパターン画像データPをそのまま記憶するのに要するメモリ容量の32分の1であり、必要となるデータ容量は格段に小さくなることがわかる。   For example, when each element has an 8-bit data size, any element value of 0 to 255 can be assigned to each element. In this case, a maximum of 256 coating patterns can be defined on one matrix data D. That is, pattern image data P describing 256 coating patterns can be extracted from one piece of matrix data D. The memory capacity required to store one matrix data D having an 8-bit data size for each element is 32, which is the memory capacity required to store pattern image data P describing 256 coating patterns as they are. It can be seen that the required data capacity is much smaller.

また、制御部40は、マトリクスデータDに含まれる要素値と与えられた閾値とを比較するだけで、パターン画像データPを取得することができる。したがって、制御部40がパターン画像データPの取得に要する処理負荷を軽減することができる。   Further, the control unit 40 can acquire the pattern image data P only by comparing the element value included in the matrix data D with a given threshold value. Therefore, the processing load required for the control unit 40 to acquire the pattern image data P can be reduced.

特に、第1の実施の形態によると、マトリクス領域内に複数の形状パターンが入れ子状に規定されているマトリクスデータD(形状マトリクスデータDa)から、レシピに指定された上限閾値以下の要素領域を抽出することによって、その形状が、マトリクス領域内に規定された複数の形状パターンのいずれかである塗布パターンのパターン画像データPを取得することができる。また、形状マトリクスデータDaから、レシピに指定された上限閾値以下であり、かつ、レシピに指定された下限閾値以上の要素領域を抽出することによって、その形状が、マトリクス領域内に規定された複数の形状パターンのうちの2つの形状パターンを組み合わせたくりぬき形状である塗布パターンのパターン画像データPを取得することができる。したがって、簡易な構成で多様な形状の塗布パターンを形成することができる。   In particular, according to the first embodiment, an element area equal to or lower than the upper limit threshold specified in the recipe is selected from matrix data D (shape matrix data Da) in which a plurality of shape patterns are defined in a nested manner in the matrix area. By extracting, the pattern image data P of the application pattern whose shape is one of a plurality of shape patterns defined in the matrix region can be acquired. Further, by extracting, from the shape matrix data Da, an element region that is equal to or lower than the upper limit threshold specified in the recipe and is equal to or higher than the lower limit threshold specified in the recipe, the shape is defined in the matrix region. The pattern image data P of the application pattern which is a hollow shape obtained by combining two of the shape patterns can be acquired. Therefore, various shapes of application patterns can be formed with a simple configuration.

また、例えば貼付剤の場合、基材シート90の全面に薬剤層を形成したり、基材シート90の周囲に所定幅の余白を残して薬剤層を形成したりする場合が多い。このように、塗布対象物上に形成すべき塗布パターンは、当該塗布対象物の形状に応じて規定される形状(例えば、塗布対象物と合同、あるいは、相似の形状)であることが多い。   For example, in the case of a patch, a drug layer is often formed on the entire surface of the base sheet 90, or a drug layer is formed with a margin of a predetermined width around the base sheet 90. As described above, the application pattern to be formed on the application object is often a shape defined according to the shape of the application object (for example, a shape that is the same as or similar to the application object).

第1の実施の形態においては、塗布対象物である基材シート90の形状に応じて規定した閾値をレシピに指定しておくことによって、塗布対象物上に当該塗布対象物の形状に応じた形状の塗布パターンを形成することが可能となる。例えば、各種の形状を含んだ形状マトリクスデータDaから基材シート90と合同な形状の塗布パターンを抽出可能な閾値をレシピに記述しておけば、基材シート90に、これと合同の形状の塗布パターンを形成する(すなわち、基材シート90の全面に薬剤層を形成する)ことができる(図4参照)。   In the first embodiment, the threshold value defined in accordance with the shape of the base material sheet 90 that is the application target is specified in the recipe, so that the shape of the application target is set on the application target. It becomes possible to form a coating pattern having a shape. For example, if a threshold value that can extract a coating pattern having the same shape as the base sheet 90 from the shape matrix data Da including various shapes is described in the recipe, the base sheet 90 has the same shape as that of the base sheet 90. An application pattern can be formed (that is, a drug layer is formed on the entire surface of the base sheet 90) (see FIG. 4).

また例えば、塗布対象物に応じた形状(例えば、と合同の形状の形状、相似の形状、塗布対象物の所定の外縁幅領域を除く部分領域に相当する形状、塗布対象物の所定の外縁幅領域に相当する形状、等)を含んだ形状マトリクスデータDaを作成してRAM43に格納しておけば、当該塗布対象物に対する各種の塗布処理により幅広く対応することが可能となる。例えば上記の実施の形態のように、塗布対象物が円形の基材シート90である場合、図7に例示されるように、同心に配置された様々な半径の円を入れ子状に規定した形状マトリクスデータDaを作成しておけば、そこには、基材シート90と合同の形状や、基材シート90の所定の外縁幅領域を除く部分領域に相当する形状、基材シート90の所定の外縁幅領域に相当する形状等が含まれることとなる。したがって、これらの各種の形状の塗布パターンを規定するパターン画像データPを形状マトリクスデータDaから生成することができる。すなわち、このような形状マトリクスデータDaをRAM43に格納しておけば、当該基材シート90に対する各種の塗布処理に幅広く対応することが可能となる(図4〜図6参照)。   In addition, for example, a shape corresponding to the application target (for example, a congruent shape, a similar shape, a shape corresponding to a partial region excluding a predetermined outer edge width region of the application target, a predetermined outer edge width of the application target If shape matrix data Da including a shape corresponding to a region, etc.) is created and stored in the RAM 43, it is possible to deal with a wide variety of application processes for the application object. For example, as in the above-described embodiment, when the application target is a circular base sheet 90, as illustrated in FIG. 7, a shape in which concentrically arranged circles with various radii are defined in a nested manner. If the matrix data Da has been created, the matrix data Da includes a shape that is congruent to the base sheet 90, a shape that corresponds to a partial region excluding a predetermined outer edge width region of the base sheet 90, and a predetermined shape of the base sheet 90. A shape or the like corresponding to the outer edge width region is included. Therefore, the pattern image data P that defines the application patterns of these various shapes can be generated from the shape matrix data Da. That is, if such shape matrix data Da is stored in the RAM 43, it is possible to widely cope with various coating processes for the base sheet 90 (see FIGS. 4 to 6).

特に、第2の実施の形態によると、マトリクス領域内に各要素値が分散して配置されているマトリクスデータD(濃度マトリクスデータDb)を、レシピに指定された閾値を用いて2値化することによって、当該閾値に応じた濃度の塗布パターンを規定するパターン画像データPを取得することができる。したがって、簡易な構成で多様な濃度の塗布パターンを形成することができる。   In particular, according to the second embodiment, the matrix data D (density matrix data Db) in which the element values are distributed and arranged in the matrix area is binarized using the threshold value specified in the recipe. Thus, the pattern image data P that defines the application pattern having the density corresponding to the threshold value can be acquired. Therefore, application patterns with various concentrations can be formed with a simple configuration.

特に、第3の実施の形態によると、形状マトリクスデータDaと濃度マトリクスデータDbとの両方を、それぞれレシピに指定された閾値を用いて2値化し、得られた2つの2値の画像データの論理積をパターン画像データPとして取得する。これによって、レシピに指定された閾値に応じた形状および濃度の塗布パターンを規定するパターン画像データPを取得することができる。したがって、簡易な構成で様々な形状と濃度とを自由に組み合わせた塗布パターンを形成することができる。   In particular, according to the third embodiment, both the shape matrix data Da and the density matrix data Db are binarized using the threshold values specified in the recipe, and the two binary image data obtained are obtained. The logical product is acquired as pattern image data P. Thereby, the pattern image data P that defines the application pattern having the shape and density corresponding to the threshold value specified in the recipe can be acquired. Therefore, it is possible to form a coating pattern in which various shapes and concentrations are freely combined with a simple configuration.

特に、第4の実施の形態によると、マトリクス領域内に複数の形状パターンが入れ子状に規定され、さらに、各形状パターンの輪郭線により規定される部分領域内に各値の要素が分散して配置されている併合マトリクスデータDcを、レシピに指定された閾値を用いて2値化することによって、当該閾値に応じた形状および濃度の塗布パターンを規定するパターン画像データPを取得することができる。したがって、簡易な構成で様々な形状と濃度とを自由に組み合わせた塗布パターンを形成することができる。   In particular, according to the fourth embodiment, a plurality of shape patterns are defined in a nested manner in the matrix region, and further, each value element is dispersed in the partial region defined by the contour line of each shape pattern. By binarizing the arranged merge matrix data Dc using a threshold value specified in the recipe, pattern image data P that defines a coating pattern having a shape and density corresponding to the threshold value can be acquired. . Therefore, it is possible to form a coating pattern in which various shapes and concentrations are freely combined with a simple configuration.

〈F.変形例〉
以上、本発明の実施の形態について説明したが、この発明はその趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。
<F. Modification>
While the embodiments of the present invention have been described above, the present invention can be modified in various ways other than those described above without departing from the spirit of the present invention.

例えば、RAM43には、複数のマトリクスデータDが格納されてもよい。この場合、上記の各実施の形態において説明した各種のマトリクスデータDa,Db,Dcが併せ持たれてもよい。RAM43に複数のマトリクスデータDが格納されている場合、どのマトリクスデータDを用いて処理を行うかを予めレシピにて指定しておき、制御部40が指定されたマトリクスデータDを用いてパターン画像データPを取得する構成とすればよい。   For example, the RAM 43 may store a plurality of matrix data D. In this case, various kinds of matrix data Da, Db, Dc described in the above embodiments may be included. When a plurality of matrix data D are stored in the RAM 43, which matrix data D is to be used for processing is designated in advance by a recipe, and the control unit 40 uses the designated matrix data D for the pattern image. What is necessary is just to make it the structure which acquires the data P. FIG.

また例えば、形状マトリクスデータDaにおいては、マトリクス領域内に規定された複数の形状パターンの輪郭線は、要素値が所定値以下の要素領域を規定する境界線となっているものとしたが、輪郭線は、要素値が所定値以上の要素領域を規定する境界線となっていてもよい。後者の場合、レシピに下限閾値を指定しておき、制御部40が、形状マトリクスデータDaから下限閾値以上の要素領域を抽出することによって、形状マトリクスデータDaから、その形状が、形状マトリクスデータDaに規定された複数の形状パターンのいずれかであるような塗布パターンを規定するパターン画像データPを取得することができる。   Further, for example, in the shape matrix data Da, the contour lines of a plurality of shape patterns defined in the matrix region are boundary lines that define element regions whose element values are equal to or less than a predetermined value. The line may be a boundary line that defines an element region having an element value equal to or greater than a predetermined value. In the latter case, a lower limit threshold value is designated in the recipe, and the control unit 40 extracts an element region that is equal to or larger than the lower limit threshold value from the shape matrix data Da, so that the shape is converted from the shape matrix data Da into the shape matrix data Da. Pattern image data P that defines a coating pattern that is one of a plurality of shape patterns defined in (1) can be acquired.

また例えば、濃度マトリクスデータDbの各要素値は、マトリクス領域の全体に分散して配置されるものとし、特に、マトリクス領域の全体に均一に分散されることが好ましいとしたが、マトリクス領域の全体に不均一に分散される構成でもよい。例えば、マトリクス領域の中央部付近で、特定の要素値の単位面積あたりの出現頻度が高く(あるいは、低く)なるように配置されてもよい。   Further, for example, each element value of the density matrix data Db is assumed to be distributed over the entire matrix area, and in particular, preferably distributed uniformly over the entire matrix area. It may be configured to be dispersed non-uniformly. For example, the frequency of appearance of a specific element value per unit area may be high (or low) near the center of the matrix region.

また例えば、上記の各実施の形態においては、レシピにてマトリクスデータDからパターン画像データPを作成するための閾値が指定されることにより形成すべき塗布パターンが指定されていたが、閾値ではなく、塗布パターン番号等により形成すべき塗布パターンが指定されていてもよい。また、形成すべき塗布パターンの形状(あるいは、濃度)が指定されることにより形成すべき塗布パターンが指定されていてもよい。これらの場合、塗布パターン番号(あるいは、塗布パターンの形状、濃度)と、RAM43に格納されたマトリクスデータDから当該塗布パターンを抽出可能な閾値とを対応付けたテーブルを予めRAM43等に格納しておき、制御部40が、レシピに指定された塗布パターン番号等と対応付けられた閾値をテーブルから読み出して、マトリクスデータDの2値化処理を行う構成とすればよい。   Further, for example, in each of the above-described embodiments, the application pattern to be formed is specified by specifying a threshold value for creating the pattern image data P from the matrix data D in the recipe. The application pattern to be formed may be specified by the application pattern number or the like. Further, the application pattern to be formed may be specified by specifying the shape (or density) of the application pattern to be formed. In these cases, a table in which the application pattern number (or the shape and density of the application pattern) is associated with the threshold value with which the application pattern can be extracted from the matrix data D stored in the RAM 43 is stored in advance in the RAM 43 or the like. Alternatively, the control unit 40 may read the threshold value associated with the application pattern number specified in the recipe from the table and perform the binarization processing of the matrix data D.

また例えば、貼付剤製造装置1において、図21に示すように、複数個の塗布ユニット10a,10bを設けてもよい。各塗布ユニットからそれぞれ異なる薬液を吐出させることによって、基材シート90を複数種類の薬液で塗り分けることができる。なお、複数個の塗布ユニット10a,10bのうちのいずれかを、薬剤ではなく粘着材を塗布する塗布ユニットとしてもよい。また、図21の例では、2個の塗布ユニット10a,10bが設けられているが、3個以上の塗布ユニットが設けられてもよい。   Further, for example, in the patch manufacturing apparatus 1, a plurality of application units 10a and 10b may be provided as shown in FIG. By discharging different chemical solutions from the respective application units, the base sheet 90 can be separately applied with a plurality of types of chemical solutions. Note that any one of the plurality of application units 10a and 10b may be an application unit that applies an adhesive instead of a drug. In the example of FIG. 21, two coating units 10a and 10b are provided, but three or more coating units may be provided.

第1の実施の形態において説明したように、例えば図7に例示される形状マトリクスデータDaを用いれば、第1の形状パターンの塗布パターンを規定するパターン画像データPと、第2の形状パターンから第1の形状パターンをくり抜いたくりぬき形状の形状パターンの塗布パターンを規定するパターン画像データPとを容易に取得することができる。   As described in the first embodiment, for example, if the shape matrix data Da illustrated in FIG. 7 is used, the pattern image data P that defines the application pattern of the first shape pattern and the second shape pattern are used. It is possible to easily acquire the pattern image data P that defines the application pattern of the shape pattern in which the first shape pattern is cut out.

そこで、第1の塗布ユニット10aから、第1の薬液で、第1の形状パターンの薬剤層95aを基材シート90上に形成させ、さらに、第2の塗布ユニット10から、第2の薬液で、第2の形状パターンから第1の形状パターンをくり抜いたくりぬき形状の形状パターンの薬剤層95bを基材シート90上に形成させれば、簡単に、基材シート90を複数種類の薬液で塗り分けることできる(図21参照)。また、例えば、第2の薬液を粘着材とすれば、薬液の周囲に粘着層が形成された貼付剤を容易に生成することもできる。   Therefore, the first coating unit 10a is used to form the drug layer 95a having the first shape pattern on the base sheet 90 with the first chemical solution, and further from the second coating unit 10 with the second chemical solution. If the base layer 90 is formed with the drug layer 95b having a hollow shape pattern obtained by hollowing out the first shape pattern from the second shape pattern, the base sheet 90 can be easily applied with a plurality of types of chemical solutions. They can be divided (see FIG. 21). For example, if the second chemical solution is an adhesive material, a patch in which an adhesive layer is formed around the chemical solution can be easily generated.

また、例えば、貼付剤製造装置1において、塗布ユニット10が、塗布ヘッド11を複数個備えてもよい。1個の塗布ユニット10に複数個の塗布ヘッド11を設けることによって、解像度を高めることができる。例えば、300dpiの塗布ヘッド11をそのノズルが互い違いになるように配置すれば、600dpiの解像度を実現することができる。   Further, for example, in the patch manufacturing apparatus 1, the coating unit 10 may include a plurality of coating heads 11. By providing a plurality of coating heads 11 in one coating unit 10, the resolution can be increased. For example, if the 300 dpi coating head 11 is arranged so that the nozzles are staggered, a resolution of 600 dpi can be realized.

また、上記の各実施の形態に係る貼付剤製造装置1の構成要素は、上記に説明した態様に限らない。例えば、上記の各実施の形態においては、制御部40はCPU41を備える構成としたが、これを例えばFPGAに代えてもよい。   Moreover, the component of the patch manufacturing apparatus 1 which concerns on each said embodiment is not restricted to the aspect demonstrated above. For example, in each of the embodiments described above, the control unit 40 includes the CPU 41, but this may be replaced with, for example, an FPGA.

また、塗布ヘッド11には積層ピエゾドロップオンデマンド方式のインクジェットヘッドを用いていたが、これに限定されるものではなく、いわゆる液滴ジェット方式によって微小液滴を生成して噴出するものであればよい。   In addition, although the multilayer piezo drop-on-demand ink jet head is used as the coating head 11, the present invention is not limited to this, as long as micro droplets are generated and ejected by a so-called droplet jet method. Good.

また、上記においては、本発明を、基材シートに薬剤を塗布して貼付剤を製造する装置(貼付剤製造装置)に適用した場合について説明している。本発明を貼付剤製造装置に適用した場合、簡易な構成で多様な塗布パターンの貼付剤を製造することができる。ただし、本発明は、貼付剤製造装置に限らず、塗布対象物に液滴を塗布する各種の装置に適用することができる。例えば、インクの液滴をプリント用紙等に塗布して画像等を形成するインクジェット装置に適用することができる。   Moreover, in the above, the case where this invention is applied to the apparatus (patch manufacturing apparatus) which manufactures a patch by apply | coating a chemical | medical agent to a base material sheet is demonstrated. When the present invention is applied to a patch manufacturing apparatus, patches with various application patterns can be manufactured with a simple configuration. However, the present invention is not limited to the patch manufacturing apparatus, but can be applied to various apparatuses that apply droplets to an application target. For example, the present invention can be applied to an ink jet apparatus that forms an image or the like by applying ink droplets to a print sheet or the like.

1 貼付剤製造装置
10 塗布ユニット
11 塗布ヘッド
20 搬送機構
21 送りローラ
22 エンコーダ
30 薬液送給部
40 制御部
50 乾燥ユニット
70 位置検出センサ
90 基材シート
92 支持体
95 薬剤層
D マトリクスデータ
Da 形状マトリクスデータ
Db 濃度マトリクスデータ
Dc 併合マトリクスデータ
P パターン画像データ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Patch production apparatus 10 Application | coating unit 11 Application | coating head 20 Conveyance mechanism 21 Feed roller 22 Encoder 30 Chemical solution feeding part 40 Control part 50 Drying unit 70 Position detection sensor 90 Base material sheet 92 Support body 95 Drug layer D Matrix data Da Shape matrix Data Db Density matrix data Dc Merged matrix data P Pattern image data

Claims (11)

複数の要素が行方向および列方向に配列されるとともに各要素に0〜n(ただし、nは任意の正の整数)までの要素値が付与されたマトリクスデータを保持する保持手段と、
前記複数の要素の全てについて同じ閾値を用いて前記マトリクスデータを2値化し、得られた2値の画像データを、塗布パターンを規定するパターン画像データとして取得するパターン取得手段と、
塗布対象物に対して塗布液を液滴として吐出する塗布ヘッドと、
前記パターン画像データに基づいて前記塗布ヘッドからの前記塗布液の吐出を制御して、前記塗布対象物上に前記塗布パターンを形成させる制御手段と、
を備えることを特徴とする液滴塗布装置。
Holding means for holding matrix data in which a plurality of elements are arranged in a row direction and a column direction and each element is assigned an element value of 0 to n (where n is an arbitrary positive integer);
Pattern acquisition means for binarizing the matrix data using the same threshold value for all of the plurality of elements, and acquiring the obtained binary image data as pattern image data defining a coating pattern;
An application head for discharging the application liquid as droplets to the application object;
Control means for controlling the ejection of the coating liquid from the coating head based on the pattern image data to form the coating pattern on the coating object;
A droplet applying apparatus comprising:
請求項1に記載の液滴塗布装置であって、
前記マトリクスデータのマトリクス領域内に複数の形状パターンが入れ子状に規定されており、
前記複数の形状パターンの輪郭線のそれぞれは、要素値が所定値以下または以上の要素領域を規定する境界線となっていることを特徴とする液滴塗布装置。
The droplet applying apparatus according to claim 1,
In the matrix area of the matrix data, a plurality of shape patterns are defined in a nested manner,
Each of the contour lines of the plurality of shape patterns serves as a boundary line that defines an element region having an element value equal to or less than a predetermined value.
請求項2に記載の液滴塗布装置であって、
前記パターン取得手段が、
前記マトリクスデータから、要素値が所定の閾値以下または以上の要素を抽出することによって、その形状が、前記複数の形状パターンのいずれかである塗布パターンを規定するパターン画像データを取得することを特徴とする液滴塗布装置。
The droplet applying apparatus according to claim 2,
The pattern acquisition means
Extracting an element having an element value equal to or less than a predetermined threshold value from the matrix data to obtain pattern image data defining an application pattern whose shape is one of the plurality of shape patterns. A droplet coating apparatus.
請求項2に記載の液滴塗布装置であって、
前記パターン取得手段が、
前記マトリクスデータから、要素値が、所定の上限閾値以下であり、かつ、所定の下限閾値以上の要素を抽出することによって、その形状が、前記複数の形状パターンのうちの2つの形状パターンを組み合わせたくりぬき形状である塗布パターンを規定するパターン画像データを取得することを特徴とする液滴塗布装置。
The droplet applying apparatus according to claim 2,
The pattern acquisition means
By extracting elements from the matrix data whose element value is equal to or less than a predetermined upper limit threshold and greater than or equal to a predetermined lower limit threshold, the shape is a combination of two shape patterns of the plurality of shape patterns A droplet coating apparatus that acquires pattern image data that defines a coating pattern that is a punched-out shape.
請求項2から4のいずれかに記載の液滴塗布装置であって、
前記パターン取得手段が、
前記マトリクスデータを、前記塗布対象物の形状に応じて規定される閾値を用いて2値化することによって、当該塗布対象物の形状に応じた形状の塗布パターンを規定するパターン画像データを取得することを特徴とする液滴塗布装置。
The droplet applying apparatus according to any one of claims 2 to 4,
The pattern acquisition means
The matrix data is binarized using a threshold value defined according to the shape of the coating object, thereby obtaining pattern image data defining a coating pattern having a shape corresponding to the shape of the coating object. A droplet applying apparatus.
請求項5に記載の液滴塗布装置であって、
前記複数の形状パターンに、前記塗布対象物と合同の形状が含まれることを特徴とする液滴塗布装置。
The droplet applying apparatus according to claim 5,
The droplet coating apparatus, wherein the plurality of shape patterns include a congruent shape with the coating object.
請求項5または6に記載の液滴塗布装置であって、
前記複数の形状パターンに、前記塗布対象物の所定の外縁幅領域を除く部分領域に相当する形状が含まれることを特徴とする液滴塗布装置。
The droplet applying apparatus according to claim 5 or 6,
The droplet applying apparatus according to claim 1, wherein the plurality of shape patterns include a shape corresponding to a partial region excluding a predetermined outer edge width region of the application object.
請求項1に記載の液滴塗布装置であって、
前記マトリクスデータのマトリクス領域内に、各要素値が分散して配置されていることを特徴とする液滴塗布装置。
The droplet applying apparatus according to claim 1,
A droplet coating apparatus, wherein each element value is distributed and arranged in a matrix area of the matrix data.
請求項8に記載の液滴塗布装置であって、
前記パターン取得手段が、
前記マトリクスデータを、所定の閾値を用いて2値化することによって、当該閾値に応じた濃度の塗布パターンを規定するパターン画像データを取得することを特徴とする液滴塗布装置。
The droplet applying apparatus according to claim 8,
The pattern acquisition means
A liquid droplet coating apparatus, wherein the matrix data is binarized using a predetermined threshold value to obtain pattern image data defining a coating pattern having a density corresponding to the threshold value.
請求項1から9のいずれかに記載の液滴塗布装置であって、
前記液滴塗布装置が、基材シートの片面に薬剤を担持した貼付剤を製造する貼付剤製造装置であり、
前記塗布対象物が、前記基材シートであり、
前記塗布液が、前記薬剤を含む薬液であることを特徴とする液滴塗布装置。
A droplet applying apparatus according to any one of claims 1 to 9,
The droplet applying apparatus is a patch manufacturing apparatus for manufacturing a patch carrying a drug on one side of a base sheet,
The application object is the substrate sheet,
The droplet coating apparatus, wherein the coating liquid is a chemical liquid containing the drug.
a)複数の要素が行方向および列方向に配列されるとともに各要素に0〜n(ただし、nは任意の正の整数)までの要素値が付与されたマトリクスデータを、前記複数の要素の全てについて同じ閾値を用いて2値化し、得られた2値の画像データを、塗布パターンを規定するパターン画像データとして取得する工程と、
b)塗布ヘッドに、塗布対象物に対して塗布液を液滴として吐出させて、前記塗布対象物上に前記塗布パターンを形成させる工程と、
を備えることを特徴とする液滴塗布方法。
a) Matrix data in which a plurality of elements are arranged in a row direction and a column direction and each element is given an element value from 0 to n (where n is an arbitrary positive integer) Binarization using the same threshold value for all, and obtaining the obtained binary image data as pattern image data defining a coating pattern;
b) causing the coating head to discharge the coating liquid onto the coating object as droplets to form the coating pattern on the coating object;
A droplet coating method comprising:
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