JP2011066253A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】樹脂により囲まれる球状のはんだを良好に端子に接続するための半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】一面に半導体素子が搭載されて樹脂封止された基板1のうち端子1bが露出する他面の上に、活性剤含有の熱硬化性樹脂膜8を形成する工程と、球状のはんだ9を熱硬化性樹脂膜8に押しつけて、端子1bに接触させる工程と、端子1bにはんだ9を押し当てた状態で、はんだ9に接触する領域の熱硬化性樹脂膜8に熱を加えて一部を半硬化する工程と、はんだ9を端子1bに押しつける力を解放する工程と、熱硬化性樹脂膜8の全体を加熱して、熱硬化性樹脂膜8の硬化率を上昇させるとともに、はんだ9を溶融して端子1bに接続する工程と、熱硬化性樹脂膜8の温度を下げるとともにはんだ9を硬化する工程とを含む。
【選択図】図3
【解決手段】一面に半導体素子が搭載されて樹脂封止された基板1のうち端子1bが露出する他面の上に、活性剤含有の熱硬化性樹脂膜8を形成する工程と、球状のはんだ9を熱硬化性樹脂膜8に押しつけて、端子1bに接触させる工程と、端子1bにはんだ9を押し当てた状態で、はんだ9に接触する領域の熱硬化性樹脂膜8に熱を加えて一部を半硬化する工程と、はんだ9を端子1bに押しつける力を解放する工程と、熱硬化性樹脂膜8の全体を加熱して、熱硬化性樹脂膜8の硬化率を上昇させるとともに、はんだ9を溶融して端子1bに接続する工程と、熱硬化性樹脂膜8の温度を下げるとともにはんだ9を硬化する工程とを含む。
【選択図】図3
Description
本発明は、半導体装置の製造方法に関する。
半導体装置において、インターポーザの一面側に半導体チップを取り付け、半導体チップ及びインターボーザの一面をモールド樹脂により覆い、さらにインターポーザの他面側に複数のはんだボールを形成した構造が使用されている。インターポーザは、半導体チップとはんだボールを電気的に接続するビア、ランド端子及び配線を有している。
はんだボールをインターポーザに接着する方法として、例えば、インターポーザにラミネートした熱硬化性樹脂シートにはんだボールを押しつけてインターポーザの電極に接触させた後に、はんだボールをリフローさせる工程が知られている。そして、はんだボールをリフローし、さらに熱硬化性樹脂が硬化する温度まで一気に加熱することにより、はんだボールの根元を補強している。
はんだボールの補強については、その他に、はんだボールをインターポーザのランド電極に導電性ペーストを介して接着した後に、はんだボールの根本を補強樹脂で囲み、続いて、はんだボールの頭部の補強樹脂を除去する方法もある。
はんだボールを熱硬化性樹脂シートに押しつけた後に、はんだボールの溶融と熱硬化性樹脂シートの硬化を同じ熱処理によって行う上記の方法によれば、熱硬化性樹脂シートが硬化する前に未溶融のはんだボールが電極から浮き上がったり、ずれたりし易い。
また、ハンダボールを電極に接着した後に、ハンダボールの根本を補強樹脂で囲む方法によれば、はんだボールの頭部から補強樹脂を除去する工程が必要となり、スループットの向上が図れない。
また、ハンダボールを電極に接着した後に、ハンダボールの根本を補強樹脂で囲む方法によれば、はんだボールの頭部から補強樹脂を除去する工程が必要となり、スループットの向上が図れない。
本発明の目的は、樹脂により囲まれる球状のはんだを良好に端子に接続するための半導体装置の製造方法を提供することにある。
本発明の1つの観点によれば、一面に半導体素子が搭載されて樹脂封止された基板のうち端子が露出する他面の上に、活性剤含有の熱硬化性樹脂膜を形成する工程と、球状のはんだを前記熱硬化性樹脂膜に押しつけて、前記端子に接触させる工程と、前記端子に前記はんだを押し当てた状態で、前記熱硬化性樹脂膜のうち前記はんだに接触する領域に熱を加えて前記熱硬化性樹脂膜の一部を半硬化する工程と、前記はんだを前記端子に押しつける力を解放する工程と、前記熱硬化性樹脂膜の全体を加熱して、前記熱硬化性樹脂膜の硬化率を上昇させるとともに、前記はんだを溶融して前記端子に接続する工程と、前記熱硬化性樹脂膜の温度を下げるとともに前記はんだを硬化する工程と、を有することを特徴とする半導体装置の製造方法が提供される。
本発明によれば、基板上に熱硬化性樹脂膜を形成し、その後に球状のはんだを熱硬化性樹脂膜に押しつけて基板上の端子に接触させ、その状態で、はんだ周囲の熱硬化性樹脂膜を局部的に加熱して半硬化させている。
これにより、はんだを溶融する前に、熱硬化性樹脂膜からはんだを浮かせる力が加わることを防止することができ、はんだと端子の接触を長く良好に保持することができるので、その後にはんだを溶融し、端子に良好に接続することができる。はんだに接する部分の熱硬化性樹脂膜の硬化率は低くてもよく、その後に溶融されるはんだの濡れ広がりを阻害することはない。
これにより、はんだを溶融する前に、熱硬化性樹脂膜からはんだを浮かせる力が加わることを防止することができ、はんだと端子の接触を長く良好に保持することができるので、その後にはんだを溶融し、端子に良好に接続することができる。はんだに接する部分の熱硬化性樹脂膜の硬化率は低くてもよく、その後に溶融されるはんだの濡れ広がりを阻害することはない。
発明の目的および利点は、請求の範囲に具体的に記載された構成要素および組み合わせによって実現され達成される。前述の一般的な説明および以下の詳細な説明は、典型例および説明のためのものであって、本発明を限定するためのものではない、と理解すべきである。
以下に、図面を参照して本発明の好ましい実施形態を説明する。図面において、同様の構成要素には同じ参照番号が付されている。
図1(a)〜(d)、図2(a)〜(c)は、本発明の実施形態に係る半導体装置の製造方法を示す断面図である。また、図3(a)〜(e)は、図1(d)、図2(a)、(b)に示す工程の詳細を示す部分拡大断面図である。
図1(a)〜(d)、図2(a)〜(c)は、本発明の実施形態に係る半導体装置の製造方法を示す断面図である。また、図3(a)〜(e)は、図1(d)、図2(a)、(b)に示す工程の詳細を示す部分拡大断面図である。
まず、図1(a)に示すように、シート基板1の一面に半導体チップ3を搭載した後に、金ワイヤ4を用いて半導体チップ3とシート基板1上のランド端子1aをワイヤボンディングする。半導体チップ3は半導体素子であって、内部には半導体集積回路が形成され、その上面には金ワイヤ4を接続するための導電性パッドを有している。
その後、シート基板1の一面において、半導体チップ3をエポキシ系樹脂等のモールド樹脂5で封止する。モールド樹脂は例えば金型を用いて整形、硬化される。
その後、シート基板1の一面において、半導体チップ3をエポキシ系樹脂等のモールド樹脂5で封止する。モールド樹脂は例えば金型を用いて整形、硬化される。
シート基板1は、例えば図3(a)に示すように、シート状のガラスエポキシからなる絶縁板2aの一面と他面に銅パターンを形成した構造を有している。銅パターンは、銅泊又は銅合金泊をフォトリソグラフィー法によりパターニングして形成され、例えば、絶縁板2aの一面には上記のランド端子1aの他に配線1d、1eを有し、その他面にはランド端子1b、配線1c等を有している。
それらの一面と他面には、配線1d、1cを覆うレジスト等の絶縁パターン2b、2cが形成されている。さらに、絶縁板2aの中には、一面側と他面側の配線1c、1dを電気的に接続するためのビア1vが形成されている。
それらの一面と他面には、配線1d、1cを覆うレジスト等の絶縁パターン2b、2cが形成されている。さらに、絶縁板2aの中には、一面側と他面側の配線1c、1dを電気的に接続するためのビア1vが形成されている。
次に、図1(b)に示すように、シート基板1の他面上に間隔をおいてスクリーンマスク6を配置する。そして、スクリーンマスク6上に熱硬化性樹脂8aを供給し、さらにスクリーンマスク6上でスキージ7を移動しながら熱硬化性樹脂8aを透過させてシート基板1上にスクリーン印刷する。これにより、シート基板1の他面の全面にはランド端子1bを覆う熱硬化性樹脂膜8が形成される。
熱硬化性樹脂8aとして、例えば、エポキシ系樹脂と酸無水物系硬化剤を主成分とし、その粘度が15±5Pa・s程度の材料がある。また、熱硬化性樹脂8aにはフラックス成分が含まれる。また、フラックス成分には、活性剤、例えばアミン化合物が含まれる。アミン化合物として、ハロゲン化水素酸アミン塩、アミン有機酸塩等がある。
熱硬化性樹脂膜8は、少なくとも後述する球状のはんだ(半田)ボール9の直径よりも薄い厚さtに形成され、半田ボール9の直径(高さ)hの半分以下(0<t≦h/2)の厚さtとすることが好ましい。例えば、直径0.3mmの複数の半田ボール9を0.5mmピッチで配置するFBGA(Fine-pitch Ball Grid Allay)においては、印刷される熱硬化性樹脂膜8の厚さを0.15mm以下とする。
次に、図1(c)に示すように、ボール吸着治具10の下面に複数の半田ボール9を吸着し、複数の半田ボール9をシート基板1の他面上のランド端子1bに対向させた状態でボール吸着治具10を移動してそれらを接近させる。
半田ボール9の材料として、例えば、融点が217℃〜240℃の錫銅系合金からなる無鉛はんだを使用する。錫銅系合金には、SnCu、SnCuAg、SnCuN等の合金がある。
半田ボール9の材料として、例えば、融点が217℃〜240℃の錫銅系合金からなる無鉛はんだを使用する。錫銅系合金には、SnCu、SnCuAg、SnCuN等の合金がある。
続いて、図1(d)とその部分拡大図である図3(a)に示すように、半田ボール9を熱硬化性樹脂膜9に押しつけて、さらにその中に沈み込ませることにより、半田ボール9をランド端子1bに接触させる。
ボール吸着治具10は、熱伝導率の良い材料、例えばステンレス、アルミニウム等の金属から形成されている。ボール吸着治具10の下面には、図3(a)に示すように、半田ボール9の取り付けピッチで半球状の凹部10aが複数形成され、それらの凹部10aには吸引用孔10bが通じている。
半田ボール9を熱硬化性樹脂膜9に押しつける場合には、吸引路10bに負の圧力を加え、半田ボール9を凹部10aに吸着する。
ボール吸着治具10は、熱伝導率の良い材料、例えばステンレス、アルミニウム等の金属から形成されている。ボール吸着治具10の下面には、図3(a)に示すように、半田ボール9の取り付けピッチで半球状の凹部10aが複数形成され、それらの凹部10aには吸引用孔10bが通じている。
半田ボール9を熱硬化性樹脂膜9に押しつける場合には、吸引路10bに負の圧力を加え、半田ボール9を凹部10aに吸着する。
次に、図3(b)に示すように、ボール吸着治具10から半田ボール9を介して熱を熱硬化性樹脂膜8に加え、これにより熱硬化性樹脂膜8のうち半田ボール9に接触する周辺領域8bを部分的にBステージ化する。
Bステージは、樹脂材料の状態を示し、その他にAステージ、Cステージがある。Aステージは、液体状又は半液状であり、熱硬化性樹脂8aの初期状態である。Bステージは、Aステージからさらに加熱された状態であり、通常、室温では固体状態にあり、架橋が不十分な状態であって半硬化状態と言われることもある。Cステージは、Bステージからさらに加熱された状態で、この段階では溶剤には不溶となり、膨潤も生じなく、樹脂の硬化状態である。
半田ボール9に加える熱は、半田ボール9の周辺領域8bの熱硬化性樹脂膜8をCステージ化、即ち硬化させず、その後のさらなる加熱により溶融する半田ボール9の濡れ性を阻害しない温度に調整される。例えば、半田ボール9に接触する部分の熱硬化性樹脂膜8の硬化率が50%以下、例えば40%〜50%になる温度に調整する。その温度として、例えば、エポキシ系樹脂と酸無水物系硬化剤を主成分とする熱硬化性樹脂8aの場合には90℃〜150℃程度とし、その加熱時間を30秒〜90秒とする。
ところで、初期状態の熱硬化性樹脂膜8は実質的に流動性を有し、そのままの状態では、沈み込んだ半田ボール9を浮かせる応力が生じる。これに対し、半田ボール9の周辺領域8bの熱硬化性樹脂膜8を部分的にBステージ化すると、半田ボール9には熱硬化性樹脂膜8からの応力が殆ど加わらず、浮き上がりは防止され、ランド端子1bに接触した状態に保持される。
次に、ボール吸着治具10の吸引孔10bからの吸引を停止することにより半田ボール9の拘束を解く。
その後に、図2(a)に示すように、ボール吸着治具10をシート基板1から離すと、半田ボール9は、熱硬化性樹脂膜8の半硬化した周辺領域8bにより半固定され、かつランド端子1b上に接触した状態のままとなる。また、ボール吸着治具10から離された半田ボール9は常温に戻される。
その後に、図2(a)に示すように、ボール吸着治具10をシート基板1から離すと、半田ボール9は、熱硬化性樹脂膜8の半硬化した周辺領域8bにより半固定され、かつランド端子1b上に接触した状態のままとなる。また、ボール吸着治具10から離された半田ボール9は常温に戻される。
次に、半田ボール9が取り付けられたシート基板1をリフロー炉に入れ、図2(b)に示すように熱硬化性樹脂膜8及び半田ボール9を加熱する。リフロー炉として、例えば、熱制御性の良い赤外線加熱器を備えた炉を使用する。
その加熱温度は、以下に説明するように、図4のプロファイルに従って制御される。
その加熱温度は、以下に説明するように、図4のプロファイルに従って制御される。
まず、第1ステップでは、リフロー炉内温度を常温から第1温度、即ち熱硬化性樹脂膜8の全体をBステージにする温度まで上昇させる。第1温度は例えば140℃〜160℃であり、その温度を例えば60秒〜90秒の時間で保持する。
これにより、熱硬化性樹脂膜8に含まれるフラックス成分がランド端子1b表面及び半田ボール9表面を活性化し、ランド端子1bの銅箔表面と半田ボール9の表面の酸化物が還元されて除去される。従って、第1温度の加熱は、ランド端子1bと半田ボール9の接合を促進させるための前処理でもある。
これにより、熱硬化性樹脂膜8に含まれるフラックス成分がランド端子1b表面及び半田ボール9表面を活性化し、ランド端子1bの銅箔表面と半田ボール9の表面の酸化物が還元されて除去される。従って、第1温度の加熱は、ランド端子1bと半田ボール9の接合を促進させるための前処理でもある。
この状態では、半田ボール9の周辺領域8bのみならず熱硬化性樹脂8全体の硬化率は、図3(c)に示すように、半田ボール9に接触する部分の硬化率と同程度になって、はんだ濡れ性が阻害されないように50%以下となる。しかし、この状態では、半田ボール9は殆ど溶融せず、濡れ広がることはない。
次の第2ステップでは、リフロー炉内温度を第1温度から第2温度、即ちはんだ溶融温度に上昇させる。
その温度上昇過程において、例えば220℃で熱硬化性樹脂膜8の硬化率が50%〜60%になると、図3(d)に示すように半田ボール9が溶融し始め、その濡れ広がり率が10%から100%まで進む。この場合、熱硬化性樹脂膜8内のフラックスの効果により、半田ボール9はその表面張力が低下してランド端子1b上で濡れ広がる。なお、硬化率が50%〜60%では、熱硬化性樹脂膜8は、Bステージの状態であって流動性を維持しているために、はんだ濡れ広がりを阻害することはない。
その温度上昇過程において、例えば220℃で熱硬化性樹脂膜8の硬化率が50%〜60%になると、図3(d)に示すように半田ボール9が溶融し始め、その濡れ広がり率が10%から100%まで進む。この場合、熱硬化性樹脂膜8内のフラックスの効果により、半田ボール9はその表面張力が低下してランド端子1b上で濡れ広がる。なお、硬化率が50%〜60%では、熱硬化性樹脂膜8は、Bステージの状態であって流動性を維持しているために、はんだ濡れ広がりを阻害することはない。
さらに温度が上がって第2温度、例えば240℃付近に達すると、図3(e)に示すように、溶融化が進んだ半田ボール9はランド端子1b上で濡れ広がりが進む。同時に、熱硬化性樹脂膜8は徐々に硬化し、220℃付近での硬化率は約60%であり、さらに第2の温度である加熱ピーク温度240℃付近で硬化率は約80%まで進む。
加熱温度が上昇する過程において、熱硬化性樹脂膜8の硬化率は上昇するが、その硬化率の変化は加熱温度の変化に比べて遅いので、はんだ濡れを阻害するほどにはならない。即ち、半田ボール9の濡れ広がり率が100%の状態で、熱硬化性樹脂膜8の硬化率は、はんだ濡れ広がりを阻害するほどではなく、濡れ広がりは安定する。
第2温度は、約10秒間保持され、その後にリフロー炉内の加熱は停止され、炉内温度は徐々に低下し、ついには常温になる。第2温度から常温に戻る途中の220℃付近で半田ボール9は再硬化するとともに、熱硬化性樹脂膜8の硬化率は100%に達し、Cステージ化する。
なお、温度上昇により第1温度から220℃に到達する時点から、温度下降により第2温度から220℃に到達する時点までの時間が約50秒〜70秒となるように、炉内温度を制御する。
なお、温度上昇により第1温度から220℃に到達する時点から、温度下降により第2温度から220℃に到達する時点までの時間が約50秒〜70秒となるように、炉内温度を制御する。
再硬化した半田ボール8とランド端子1bの境界には、SuCu合金が形成され、互いに強固に接合される。また、硬化した熱硬化性樹脂膜8は初期状態の厚さから約10%収縮し、また、再硬化された半田ボール8の高さは初期状態よりも低くなる。例えば、0.5mmピッチのFBGAの場合、半田ボール8の高さは0.3mmから0.25mmへと低くなり、また、熱硬化性樹脂膜8の厚さは0.15mmから0.135mmへと薄くなる。
リフロー炉から出されたシート基板1は、図2(c)に示すように、ダイサー21によって個片化され、半導体装置20として分離される。
リフロー炉から出されたシート基板1は、図2(c)に示すように、ダイサー21によって個片化され、半導体装置20として分離される。
以上の実施形態によれば、シート基板1上に熱硬化性樹脂膜8を形成した後に、半田ボール9を熱硬化性樹脂膜8に押しつけてランド端子1bに接触させた状態で、熱硬化性樹脂膜8のうち半田ボール9に接触する部分を局部的に加熱して半硬化させている。
従って、熱硬化性樹脂膜8に押しつけられた半田ボール9は、仮固定されるので、ボール吸着治部10による押しつけが解かれた後であってリフロー炉内で加熱されるまでの間に、ランド端子1bから浮き難くなり、ズレにくくなる。これにより、半田ボール9をランド端子1b上で安定して加熱溶融することができ、歩留まりが向上する。
しかも、熱硬化性樹脂膜8はシート基板1の他面側の全面に形成されているので、半導体装置20の実装時には、その一面側に形成されているモールド樹脂5の熱膨張によるシート基板1の反りを打ち消すように応力が加わる。従って、シート基板1の反りを抑制することができ、半導体装置20の実装が容易になる。
しかも、熱硬化性樹脂膜8はシート基板1の他面側の全面に形成されているので、半導体装置20の実装時には、その一面側に形成されているモールド樹脂5の熱膨張によるシート基板1の反りを打ち消すように応力が加わる。従って、シート基板1の反りを抑制することができ、半導体装置20の実装が容易になる。
ところで、半田ボール9を介して熱硬化性樹脂膜8を部分的に加熱することにより、半田ボール9の浮きを防止してランド端子1bとの未接触を阻止するためには、半田ボール9が熱硬化性樹脂膜8に多く埋まっていることが望ましい。
一方、完成した半導体装置20をメインボードに実装する際に、メインボードの接続端子に半導体装置20の半田ボール9をより広く濡れ広がらせて、はんだ接続強度を向上させる必要がある。そのためには、半田ボール9は、熱硬化性樹脂膜8の上面からより多く露出している方が有効である。
それらの相反する事象を補完するためには、熱硬化性樹脂膜8の初期の厚みは、半田ボール9の初期の半径と実質的に同一の値にすることが好ましい。
なお、熱硬化性樹脂膜8は、上記したようにスクリーン印刷法によって形成してもよいが、実質的にAステージ状態の熱硬化性樹脂シートを貼り付ける方法を採用してもよい。これにより、熱硬化性樹脂膜8の厚みをより均一にすることができる。
それらの相反する事象を補完するためには、熱硬化性樹脂膜8の初期の厚みは、半田ボール9の初期の半径と実質的に同一の値にすることが好ましい。
なお、熱硬化性樹脂膜8は、上記したようにスクリーン印刷法によって形成してもよいが、実質的にAステージ状態の熱硬化性樹脂シートを貼り付ける方法を採用してもよい。これにより、熱硬化性樹脂膜8の厚みをより均一にすることができる。
ここで挙げた全ての例および条件的表現は、発明者が技術促進に貢献した発明および概念を読者が理解するのを助けるためのものであり、ここで具体的に挙げたそのような例および条件に限定することなく解釈すべきであり、また、明細書におけるそのような例の編成は本発明の優劣を示すこととは関係ない。本発明の実施形態を詳細に説明したが、本発明の精神および範囲から逸脱することなく、それに対して種々の変更、置換および変形を施すことができると理解すべきである。
次に、本発明の実施形態について特徴を付記する。
(付記1)
一面に半導体素子が搭載されて樹脂封止された基板のうち端子が露出する他面の上に、活性剤含有の熱硬化性樹脂膜を形成する工程と、
球状のはんだを前記熱硬化性樹脂膜に押しつけて、前記端子に接触させる工程と、
前記端子に前記はんだを押し当てた状態で、前記熱硬化性樹脂膜のうち前記はんだに接触する領域に熱を加えて前記熱硬化性樹脂膜の一部を半硬化する工程と、
前記はんだを前記端子に押しつける力を解放する工程と、
前記熱硬化性樹脂膜の全体を加熱して、前記熱硬化性樹脂膜の硬化率を上昇させるとともに、前記はんだを溶融して前記端子に接続する工程と、
前記熱硬化性樹脂膜の温度を下げるとともに前記はんだを硬化する工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
(付記2)
前記活性剤は、アミン化合物を含むことを特徴とする付記1に記載の半導体装置の製造方法。
(付記3)
前記熱硬化性樹脂膜は、スクリーン印刷法により形成されることを特徴とする付記1又は付記2に記載の半導体装置の製造方法。
(付記4)
前記熱硬化性樹脂膜は、シート状であって前記基板に貼り付ける方法により形成されることを特徴とする付記1又は付記2に記載の半導体装置の製造方法。
(付記5)
形成初期の前記熱硬化性樹脂膜の厚さは、溶融前の前記はんだの高さの半分以下であることを特徴とする付記1乃至付記4のいずれか1つに記載の半導体装置の製造方法。
(付記6)
吸着治具を用いて前記はんだを前記端子に押しつけるとともに、前記吸着治具から前記はんだに熱を伝達することを特徴とする付記1乃至付記5のいずれか1つに記載の半導体装置の製造方法。
(付記7)
前記はんだは、無鉛はんだであることを特徴とする付記1乃至付記6のいずれか1つに記載の半導体装置の製造方法。
(付記8)
前記端子は、銅、同合金のいずれかから形成されていることを特徴とする付記1乃至付記7のいずれか1つに記載の半導体装置の製造方法。
(付記1)
一面に半導体素子が搭載されて樹脂封止された基板のうち端子が露出する他面の上に、活性剤含有の熱硬化性樹脂膜を形成する工程と、
球状のはんだを前記熱硬化性樹脂膜に押しつけて、前記端子に接触させる工程と、
前記端子に前記はんだを押し当てた状態で、前記熱硬化性樹脂膜のうち前記はんだに接触する領域に熱を加えて前記熱硬化性樹脂膜の一部を半硬化する工程と、
前記はんだを前記端子に押しつける力を解放する工程と、
前記熱硬化性樹脂膜の全体を加熱して、前記熱硬化性樹脂膜の硬化率を上昇させるとともに、前記はんだを溶融して前記端子に接続する工程と、
前記熱硬化性樹脂膜の温度を下げるとともに前記はんだを硬化する工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
(付記2)
前記活性剤は、アミン化合物を含むことを特徴とする付記1に記載の半導体装置の製造方法。
(付記3)
前記熱硬化性樹脂膜は、スクリーン印刷法により形成されることを特徴とする付記1又は付記2に記載の半導体装置の製造方法。
(付記4)
前記熱硬化性樹脂膜は、シート状であって前記基板に貼り付ける方法により形成されることを特徴とする付記1又は付記2に記載の半導体装置の製造方法。
(付記5)
形成初期の前記熱硬化性樹脂膜の厚さは、溶融前の前記はんだの高さの半分以下であることを特徴とする付記1乃至付記4のいずれか1つに記載の半導体装置の製造方法。
(付記6)
吸着治具を用いて前記はんだを前記端子に押しつけるとともに、前記吸着治具から前記はんだに熱を伝達することを特徴とする付記1乃至付記5のいずれか1つに記載の半導体装置の製造方法。
(付記7)
前記はんだは、無鉛はんだであることを特徴とする付記1乃至付記6のいずれか1つに記載の半導体装置の製造方法。
(付記8)
前記端子は、銅、同合金のいずれかから形成されていることを特徴とする付記1乃至付記7のいずれか1つに記載の半導体装置の製造方法。
1 シート基板
1a、1b ランド端子
3 半導体チップ(半導体素子)
4 金ワイヤ
5 モールド樹脂
6 スクリーンマスク
7 スキージ
8 熱硬化性樹脂膜
8a 熱硬化性樹脂
8b 周辺領域
9 はんだボール
10 ボール吸着治具
20 半導体装置
21 ダイサ
1a、1b ランド端子
3 半導体チップ(半導体素子)
4 金ワイヤ
5 モールド樹脂
6 スクリーンマスク
7 スキージ
8 熱硬化性樹脂膜
8a 熱硬化性樹脂
8b 周辺領域
9 はんだボール
10 ボール吸着治具
20 半導体装置
21 ダイサ
Claims (5)
- 一面に半導体素子が搭載されて樹脂封止された基板のうち端子が露出する他面の上に、活性剤含有の熱硬化性樹脂膜を形成する工程と、
球状のはんだを前記熱硬化性樹脂膜に押しつけて、前記端子に接触させる工程と、
前記端子に前記はんだを押し当てた状態で、前記熱硬化性樹脂膜のうち前記はんだに接触する領域に熱を加えて前記熱硬化性樹脂膜の一部を半硬化する工程と、
前記はんだを前記端子に押しつける力を解放する工程と、
前記熱硬化性樹脂膜の全体を加熱して、前記熱硬化性樹脂膜の硬化率を上昇させるとともに、前記はんだを溶融して前記端子に接続する工程と、
前記熱硬化性樹脂膜の温度を下げるとともに前記はんだを硬化する工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記活性剤は、アミン化合物を含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記熱硬化性樹脂膜は、スクリーン印刷法により形成されることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記熱硬化性樹脂膜は、シート状であって前記基板に貼り付ける方法により形成されることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体装置の製造方法。
- 形成初期の前記熱硬化性樹脂膜の厚さは、溶融前の前記はんだの高さの半分以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009216374A JP2011066253A (ja) | 2009-09-18 | 2009-09-18 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009216374A JP2011066253A (ja) | 2009-09-18 | 2009-09-18 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2011066253A true JP2011066253A (ja) | 2011-03-31 |
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ID=43952183
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2009216374A Pending JP2011066253A (ja) | 2009-09-18 | 2009-09-18 | 半導体装置の製造方法 |
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-
2009
- 2009-09-18 JP JP2009216374A patent/JP2011066253A/ja active Pending
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