JP2011044459A - Resin composition for electronic substrate, and electronic substrate using the same - Google Patents

Resin composition for electronic substrate, and electronic substrate using the same Download PDF

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祐介 高木
Katsuyuki Iwasaki
勝幸 岩崎
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition for an insulating layer that enables a through hole etc., of the electronic substrate, especially, a small-diameter through hole to be bored with good operability, and can suppress cracking in a heat cycle. <P>SOLUTION: This invention relates to the resin composition for an insulating layer of the electronic substrate such that a thermosetting resin includes alumina and aluminum hydroxide at the same time, and the electronic substrate having the insulating layer laminated. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、通信機器や測定機器等の電子機器に組み込まれる電子基板の絶縁層用樹脂組成物およびこれを用いた多層配線基板に関する。   The present invention relates to a resin composition for an insulating layer of an electronic substrate incorporated in an electronic device such as a communication device or a measuring device, and a multilayer wiring substrate using the same.

通信機器や測定機器などの電子機器に組み込まれるプリント配線基板の基板材料としては、エポキシ樹脂板が使用されることが多い。エポキシ樹脂板は、通常、ガラス繊維等を補強材料(基材)とし、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂の硬化剤および難燃剤などからなるエポキシ樹脂組成物の硬化物をマトリックスとして構成されたものである。
エポキシ樹脂は、硬化中に収縮が少ないこと、硬化時にガスや水の発生がないこと、硬化後の樹脂が優れた電気絶縁性能を有すること、化学薬品に対する抵抗性に優れていること等の理由でプリント配線基板のマトリックス材料として使用されている。
Epoxy resin plates are often used as a substrate material for printed wiring boards incorporated in electronic devices such as communication devices and measuring devices. The epoxy resin plate is usually configured by using glass fiber or the like as a reinforcing material (base material) and a cured product of an epoxy resin composition including an epoxy resin, an epoxy resin curing agent, a flame retardant, and the like as a matrix.
Epoxy resin has little shrinkage during curing, no generation of gas or water during curing, the resin after curing has excellent electrical insulation performance, excellent resistance to chemicals, etc. It is used as a matrix material for printed wiring boards.

補強材料としてガラス織布を用いたエポキシ樹脂板は、例えば次の方法により製造される。エポキシ樹脂組成物を含むワニスをガラス織布に含浸させ、溶剤を乾燥除去しながら樹脂の反応を進め、完全硬化に至る前の半硬化させたいわゆるプリプレグを得る。そして、該プリプレグを積層板の厚みに応じて単独でまたは所定枚数重ね、さらにその片面又は両面に金属箔例えば銅箔を配置し、ステンレス板等の間に挟んで加熱加圧することにより金属箔張エポキシ樹脂板が得られる。次いで、金属箔張エポキシ樹脂積層板の金属箔をエッチング等の手段により不要部分を除去して回路を形成することによりプリント配線基板が得られる。   An epoxy resin plate using a glass woven fabric as a reinforcing material is manufactured, for example, by the following method. A glass woven fabric is impregnated with a varnish containing an epoxy resin composition, the reaction of the resin proceeds while drying and removing the solvent, and a so-called prepreg that is semi-cured before full curing is obtained. Then, depending on the thickness of the laminated plate, the prepreg is singly or a predetermined number of layers are laminated. Further, a metal foil such as a copper foil is disposed on one or both surfaces of the prepreg, and sandwiched between stainless steel plates or the like, and heated and pressed to form a metal foil An epoxy resin plate is obtained. Next, a printed wiring board is obtained by forming a circuit by removing unnecessary portions of the metal foil of the metal foil-clad epoxy resin laminate by means of etching or the like.

エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂が常用されているが、通信機器、測定機器のように高信頼性を要求される電子機器に組み込まれるプリント配線基板の基板材料としては、マトリックスのガラス転移温度(Tg)が高いことが要求され、多官能エポキシ樹脂、例えば、o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂にビスフェノールA型エポキシ樹脂を配合したエポキシ樹脂組成物が用いられている。   As the epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin is commonly used, but as a substrate material for printed wiring boards incorporated in electronic devices that require high reliability such as communication equipment and measuring equipment, glass transition of the matrix High temperature (Tg) is required, and an epoxy resin composition in which a bisphenol A type epoxy resin is blended with a polyfunctional epoxy resin, for example, an o-cresol novolac type epoxy resin, is used.

一方、配線基板の放熱性を高めるために樹脂に熱伝導性の高いフィラーを充填する方法が金属基板の製造に用いられている。熱伝導性の高い絶縁性フィラーとしては、窒化ケイ素、窒化ホウ素等の金属窒化物が優れているが、粒度、形態の関係から充填出来る量に制約がありその特徴を発揮できず、非常に高価であるためあまり使われていない。これに対してアルミナ(酸化アルミニウム)はシリカ(酸化ケイ素)の数十倍の熱伝導率があり、シリカ同様に球状で粒度設計された充填目的の製品が揃いつつある。価格もシリカの高級グレード並みで使用できる状況にあるので熱伝導性の高い接着剤に配合される。しかし、樹脂シートにアルミナを配合した場合、アルミナ配合物で硬化した樹脂層は非常に硬くて脆く、基板の外周の機械加工やドリルスルーホールの形成といった機械切削を必要とするため、加工上の問題が発生する。特殊な金型やドリルビットの損傷による取替え本数の増加は、コスト面から見て問題となる。   On the other hand, in order to improve the heat dissipation of the wiring board, a method of filling a resin with a filler having high thermal conductivity is used for manufacturing a metal board. Metal nitrides such as silicon nitride and boron nitride are excellent as insulating fillers with high thermal conductivity. However, the amount that can be filled is limited due to the relationship between the particle size and form, and the characteristics cannot be exhibited, so it is very expensive. Therefore, it is not used much. In contrast, alumina (aluminum oxide) has a thermal conductivity several tens of times that of silica (silicon oxide), and products for filling purposes that are spherical and have a particle size designed like silica are being prepared. Since the price is about the same as the high grade grade of silica, it is blended into an adhesive with high thermal conductivity. However, when alumina is blended in the resin sheet, the resin layer cured with the alumina blend is very hard and brittle, and requires machining such as machining of the outer periphery of the substrate and formation of a drill through hole. A problem occurs. An increase in the number of replacements due to damage to special molds or drill bits is a problem from a cost standpoint.

また、放熱性を高めるため、特許文献1にはメタルコアプリント配線板の層構造を改良することにより、放熱性、加工精度、加工性を高めることができ、小径のスルーホールの形成を容易にすることができると記載され、絶縁層にエポキシ樹脂が配合されているが、エポキシ樹脂の具体的な組成は記載されていない。   Moreover, in order to improve heat dissipation, Patent Document 1 discloses that by improving the layer structure of the metal core printed wiring board, heat dissipation, processing accuracy, and workability can be improved, and formation of small-diameter through holes is facilitated. Although an epoxy resin is blended in the insulating layer, the specific composition of the epoxy resin is not described.

更に、プリント配線基板の永久穴埋め加工では、エポキシ樹脂組成物をスルーホールやバイアホール等の穴部に充填する際に、空気の巻き込み等によりどうしてもボイドが発生してしまう。このようなボイドは、予備硬化や本硬化を行なっても完全に除去することは困難であり、なくすことはできなかった。このような現象は、穴部の深さが深い程(スルーホールの場合はコア基板の厚さが厚くなる程)、またエポキシ樹脂組成物の粘度が高い程顕著であった。また、前記プリント配線板の永久穴埋め加工では、予備硬化時にクラックが発生するという問題があった。さらに、加熱硬化時の収縮が大きく、本硬化後にスルーホール壁との間に隙間が生じるという問題もあった。   Further, in permanent hole filling of a printed wiring board, voids are inevitably generated due to air entrainment or the like when filling the hole portion such as a through hole or a via hole with an epoxy resin composition. Such voids are difficult to remove completely even if pre-curing or main curing is performed, and cannot be eliminated. Such a phenomenon becomes more prominent as the depth of the hole is deeper (in the case of a through hole, the thicker the core substrate), and the higher the viscosity of the epoxy resin composition. Further, in the permanent hole filling process of the printed wiring board, there is a problem that cracks occur during preliminary curing. Furthermore, there is a problem that the shrinkage at the time of heat curing is large, and a gap is generated between the through hole wall after the main curing.

特開2007−242740号公報JP 2007-242740 A

従来、電子基板において絶縁層を形成する樹脂は熱膨張率が大きく、クラックなどが起こりやすい。その解決策として、樹脂にフィラーを添加する方法が知られており、アルミナはその代表例である。しかし、アルミナは硬度の高い物質であり、スルーホールの穴あけ処理などで、ドリルやルーターに負荷を与え、ビットの摩耗や破壊が生じる可能性がある。従って、アルミナを樹脂に配合することは基板の加工性を悪化させるという問題がある。
そこで、本発明の課題はプリント配線板のスルーホール等の孔開けを作業性良く行うことができ、ヒートサイクル時のクラック発生や、絶縁信頼性の悪化、穴部に充填された硬化物の上に形成される絶縁樹脂層や蓋メッキの層間剥離等がなく、絶縁信頼性や耐熱性、耐湿性、PCT耐性等の特性に優れる高信頼性の電子基板の熱硬化性樹脂組成物を提供することにある。
さらに、本発明の別の課題は電子基板の高密度化を実現するために、加工中にドリルが折損するという不具合が抑え、小径のスルーホールの孔開けを可能にすることである。
Conventionally, a resin that forms an insulating layer in an electronic substrate has a large coefficient of thermal expansion, and is likely to crack. As a solution, a method of adding a filler to a resin is known, and alumina is a typical example. However, alumina is a material with high hardness, and it may cause wear and breakage of the bit by applying a load to the drill or router in the drilling process of the through hole. Therefore, there is a problem that blending alumina into the resin deteriorates the workability of the substrate.
Therefore, the problem of the present invention is that it is possible to drill through holes and the like of a printed wiring board with good workability, crack generation during heat cycle, deterioration of insulation reliability, and the top of the cured product filled in the hole. Provided is a highly reliable thermosetting resin composition for an electronic substrate that is excellent in insulation reliability, heat resistance, moisture resistance, PCT resistance, etc. There is.
Further, another object of the present invention is to suppress a problem that a drill breaks during processing in order to realize a high density of an electronic substrate, and to enable drilling of a small diameter through hole.

本発明の課題は下記(1)〜(6)の手段により達成された。
(1)少なくとも、熱硬化性樹脂と、フィラーとしてアルミナおよび水酸化アルミニウムとを含有する電子基板の絶縁層用樹脂組成物。
(2)熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂である上記(1)に記載の電子基板の絶縁層用樹脂組成物。
(3)フィラーとして、アルミナ約30〜約42質量%および水酸化アルミニウム約20〜約33質量%を含有する上記(1)または(2)に記載の電子基板の絶縁層用樹脂組成物。
(4)アルミナと水酸化アルミニウムの配合比が、アルミナに対し水酸化アルミニウム比が約1:1〜約2.1:1である上記(1)〜(3)のいずれか1項に記載の電子基板の絶縁層用樹脂組成物。
(5)エポキシ樹脂がビスフェノールA型エポキシ樹脂である上記(2)〜(4)のいずれか1項に記載の電子基板の絶縁層用樹脂組成物。
(6)金属コア層とその上に積層された少なくとも一層の絶縁層と、該絶縁層の上に積層された導電層を有し、該金属コア層を貫通するスルーホールが形成された電子基板において、少なくとも、エポキシ樹脂と、フィラーとしてアルミナおよび水酸化アルミニウムとを含有する樹脂組成物を絶縁層として積層する電子基板。
The object of the present invention has been achieved by the following means (1) to (6).
(1) A resin composition for an insulating layer of an electronic substrate containing at least a thermosetting resin and alumina and aluminum hydroxide as fillers.
(2) The resin composition for an insulating layer of an electronic substrate according to the above (1), wherein the thermosetting resin is an epoxy resin.
(3) The resin composition for an insulating layer of an electronic substrate according to the above (1) or (2), which contains about 30 to about 42% by mass of alumina and about 20 to about 33% by mass of aluminum hydroxide as fillers.
(4) The blending ratio of alumina and aluminum hydroxide is any one of the above (1) to (3), wherein the aluminum hydroxide ratio is about 1: 1 to about 2.1: 1 with respect to alumina. Resin composition for insulating layer of electronic substrate.
(5) The resin composition for an insulating layer of an electronic substrate according to any one of (2) to (4), wherein the epoxy resin is a bisphenol A type epoxy resin.
(6) An electronic substrate having a metal core layer, at least one insulating layer stacked thereon, and a conductive layer stacked on the insulating layer, and having a through hole penetrating the metal core layer An electronic substrate in which an epoxy resin and a resin composition containing at least alumina and aluminum hydroxide as fillers are laminated as an insulating layer.

本発明の樹脂組成物は、水酸化アルミニウムがアルミナより熱伝導率では劣るが、電子基板の難燃性が向上し、また、硬度がアルミナより柔らかくなるため、アルミナと水酸化アルミニウムを同時に配合したことによって、一般の樹脂に比べ高熱伝導率を有し、難燃性も高く、なおかつ加工性が改善された絶縁層の調製を可能にした。   In the resin composition of the present invention, aluminum hydroxide is inferior in thermal conductivity to alumina, but the flame retardancy of the electronic substrate is improved and the hardness is softer than that of alumina. Therefore, alumina and aluminum hydroxide are blended at the same time. As a result, it was possible to prepare an insulating layer having a higher thermal conductivity than that of a general resin, high flame retardancy, and improved workability.

一般に電子基板はプリント配線板とモジュール基板があり、多くの場合多層板が使用される。多層配線基板は、基板の表面に第1の配線パターンが形成され、これを覆うようにして樹脂組成物の絶縁層が形成されており、さらに、該絶縁層の表面に第2の配線パターンが形成され、順次多層化される。   In general, electronic boards include printed wiring boards and module boards, and in many cases, multilayer boards are used. In the multilayer wiring board, a first wiring pattern is formed on the surface of the substrate, an insulating layer of a resin composition is formed so as to cover the first wiring pattern, and further, a second wiring pattern is formed on the surface of the insulating layer. Formed and sequentially multilayered.

プリント配線板の基板には、銅張積層板が主に使われることが多い。樹脂は絶縁体であることから電気的には素材として適しているが、熱膨張率が高く、強度が十分ではないことから、繊維、ガラス布等に樹脂を染み込ませることで補強している。
そして、銅膜が張られた銅張積層板上に回路パターンを露光・現像し、不要部分を除去することで回路を形成し、両面板等の場合は両面の回路を繋ぐ為に穴をあけ、銅めっきを施す。その後、配線のショートを防ぐ為にソルダレジストと呼ばれる保護膜を塗布し、シンボルマークをプリントし、プリント配線板と動力源を繋ぐ端子に金メッキを施すことで、プリント配線板が完成し、各種検査を経て部品実装がなされる。
In many cases, a copper-clad laminate is mainly used as a printed wiring board substrate. Since the resin is an insulator, it is electrically suitable as a raw material. However, since the coefficient of thermal expansion is high and the strength is not sufficient, it is reinforced by impregnating the resin into fibers, glass cloth, or the like.
Then, a circuit pattern is exposed and developed on a copper clad laminate with a copper film, and a circuit is formed by removing unnecessary parts. In the case of a double-sided board, etc., a hole is made to connect the circuits on both sides. Apply copper plating. After that, a protective film called solder resist is applied to prevent wiring shorts, symbol marks are printed, and the terminals that connect the printed wiring board and the power source are plated with gold to complete the printed wiring board. After that, parts are mounted.

樹脂としては、多くの種類の熱硬化型樹脂を使用することが出来るが、エポキシ樹脂を主成分とし、フェノ−ル樹脂を硬化剤とする熱硬化型樹脂は、密着性、耐熱性に優れているので、当該樹脂の層を基材の樹脂絶縁層積層側に焼付硬化により設けた場合、両側の基材とプレプリグ(接着剤)と強固に密着し、ハンダ付けにより加熱されても、密着性が低下しない。この熱硬化型樹脂層としてはポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂およびメラミン樹脂が挙げられ、硬化剤がイソシアネ−トまたはメラミンである場合、より密着性、耐熱性に優れている。   As the resin, many types of thermosetting resins can be used, but thermosetting resins mainly composed of epoxy resin and phenol resin as curing agent are excellent in adhesion and heat resistance. Therefore, when the resin layer is provided on the resin insulation layer lamination side of the base material by baking and curing, the base material on both sides and the prepreg (adhesive) are firmly adhered, and even if heated by soldering, the adhesiveness Does not drop. Examples of the thermosetting resin layer include polyester resins, acrylic resins, polyurethane resins, and melamine resins. When the curing agent is isocyanate or melamine, the adhesiveness and heat resistance are more excellent.

金属を基板とするメタルコアプリント配線板、メタルコア型プリント基板およびメタルコアプリント回路板等のメタルコア基板は、その実装面上に実装された電気部品が発する熱を放熱するとともに均熱化するのに好適な電気回路基板であって、アルミニウムおよび銅等の熱伝導性の良好な金属板をメタルコア(即ち、メタルベース)とし、該メタルコアに樹脂を主体とする絶縁層を介して導体層を設けたものである。   Metal core boards such as metal core printed wiring boards, metal core type printed boards, and metal core printed circuit boards, which use metal as a substrate, are suitable for radiating and leveling heat generated by electrical components mounted on the mounting surface. An electric circuit board in which a metal plate having good thermal conductivity such as aluminum and copper is used as a metal core (that is, a metal base), and a conductor layer is provided on the metal core via an insulating layer mainly composed of resin. is there.

絶縁層を形成するために、通常、プリプレグ(即ち、ガラス繊維を編んでシート状に形成したガラス繊維織物に絶縁樹脂として、例えば、エポキシ樹脂を含浸させたもの)が使用される。メタルコアにスルーホール用の貫通孔が設けられたメタルコア基板では、導体層とメタルコアとを絶縁するため、メタルコアの貫通孔が絶縁樹脂で埋められる。当該孔埋めは、メタルコアにプリプレグを積層するように重ねたものを加熱加圧して一体化するときにプリプレグから流出する絶縁樹脂を貫通孔に流し込む方法によるのが一般的である。   In order to form the insulating layer, a prepreg (that is, a glass fiber fabric formed by knitting glass fibers into a sheet shape) is usually used as an insulating resin impregnated with an epoxy resin. In a metal core substrate in which a through hole for a through hole is provided in a metal core, the through hole of the metal core is filled with an insulating resin in order to insulate the conductor layer from the metal core. The hole filling is generally performed by a method in which an insulating resin that flows out from the prepreg is poured into the through-hole when the prepreg laminated on the metal core is integrated by heating and pressing.

スルーホールを有するメタルコア基板は、例えば、より具体的には次のように製造される。まず、ドリル加工、X線穴あけ(即ち、レーザードリル加工)およびパンチング等といった穴あけ加工によりスルーホール用の貫通孔が板厚方向に形成された板状のメタルコアを用意する。   For example, the metal core substrate having a through hole is manufactured as follows more specifically. First, a plate-shaped metal core in which through holes for through holes are formed in the plate thickness direction by drilling such as drilling, X-ray drilling (that is, laser drilling) and punching is prepared.

次いで、メタルコアの両主面側に複数のプリプレグおよび導電金属箔として、例えば、銅箔を順次積層し、この状態で加熱加圧成形を施す。すると、銅箔張り積層体が得られる。つまり、メタルコアに複数のプリプレグおよび銅箔を積層した状態ではメタルコアの貫通孔は空隙を成しているが、前記加熱加圧成形により、プリプレグからの絶縁樹脂の流動、充填、そして硬化によって、前述の貫通孔も一体的に埋められた状態を成した銅箔張り積層体が得られる。   Next, as a plurality of prepregs and conductive metal foils, for example, copper foils are sequentially laminated on both main surface sides of the metal core, and in this state, heating and pressing are performed. Then, a copper foil-clad laminate is obtained. That is, in the state where a plurality of prepregs and copper foil are laminated on the metal core, the through hole of the metal core forms a void, but by the heat and pressure forming, the above-mentioned by the flow, filling and curing of the insulating resin from the prepreg Thus, a copper foil-clad laminate in which the through holes are integrally filled is obtained.

こうして得た銅箔張り積層体に、メタルコアの貫通孔と同軸的に且つ、貫通孔の径よりも小径の貫通孔をドリル加工およびX線穴あけ(即ち、レーザードリル加工)等の穴あけ加工により形成する。その後、貫通孔を画成する内壁面も含めて銅箔張り積層体の表面全体にメッキ処理を施し、これにより導電金属製のスルーホールを形成し、そしてその後エッチング等による所要の回路パターン形成処理およびレジスト形成処理等を施すことによって、メタルコア基板が得られる。   In the copper foil-clad laminate thus obtained, a through-hole that is coaxial with the through-hole of the metal core and smaller in diameter than the through-hole is formed by drilling such as drilling and X-ray drilling (ie, laser drilling). To do. After that, the entire surface of the copper foil-clad laminate including the inner wall surface defining the through hole is plated, thereby forming a through hole made of conductive metal, and then a required circuit pattern forming process by etching or the like. And a metal core board | substrate is obtained by performing a resist formation process etc.

本発明のプリプレグの製造に必要な樹脂組成物を製造するにあたっては、(A)樹脂、(B)フィラー、(C)硬化剤およびその他の添加剤をミキサーなどを用いて配合する。その他の添加剤としては、例えば、硬化促進剤、無機充填材、滑剤、分散剤、可塑剤、難燃剤、顔料、シランカップリング剤、変性剤および変色防止剤等の従来公知の添加剤を必要に応じて適宜配合することができる。   In producing the resin composition necessary for producing the prepreg of the present invention, (A) resin, (B) filler, (C) curing agent and other additives are blended using a mixer or the like. As other additives, for example, conventionally known additives such as curing accelerators, inorganic fillers, lubricants, dispersants, plasticizers, flame retardants, pigments, silane coupling agents, modifiers and discoloration inhibitors are necessary. Depending on the case, it can be blended appropriately.

(A)樹脂
本発明の樹脂組成物に用いる樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂を使用できる。熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂およびビニルエステル樹脂などが挙げられる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリプロピレンなどのポリオレフィン樹脂並びにポリ塩化ビニル樹脂、EEA樹脂、EVA樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホンおよびポリエーテルエーテルケトンなどが挙げられる。これらの中でも、熱硬化性樹脂が好ましく、エポキシ樹脂が特に好ましい。
(A) Resin As resin used for the resin composition of this invention, a thermoplastic resin and a thermosetting resin can be used, for example. Examples of the thermosetting resin include an epoxy resin, a phenol resin, an unsaturated polyester resin, a silicone resin, a polyimide resin, and a vinyl ester resin. Examples of the thermoplastic resin include polyolefin resins such as polypropylene and polyvinyl chloride resins, EEA resins, EVA resins, polyester resins, polyether imides, polyether sulfones, and polyether ether ketones. Among these, a thermosetting resin is preferable, and an epoxy resin is particularly preferable.

エポキシ樹脂としては、1分子中に少なくとも1個のエポキシ基を有する従来公知のエポキシ樹脂を用いることができる。このようなエポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノールF型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、含複素環エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、芳香族・脂肪族または脂環式カルボン酸のグリシジルエステル型エポキシ樹脂、スピロ環含有エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン骨格含有エポキシ樹脂が挙げられる。これらは単独でまたは二種類以上組み合わせて用いることができる。中でも好ましいのはビスフェノールA型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂および臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂であり、特に好ましいのはビスフェノールA型エポキシ樹脂およびフェノールノボラック型エポキシ樹脂である。   As the epoxy resin, a conventionally known epoxy resin having at least one epoxy group in one molecule can be used. Examples of such epoxy resins include bisphenol A type epoxy resins, tetrabromobisphenol A type epoxy resins, phenol F type epoxy resins, alicyclic epoxy resins, phenol novolac type epoxy resins, brominated phenol novolak type epoxy resins, Cresol novolak type epoxy resin, heterocyclic epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin of aromatic / aliphatic or alicyclic carboxylic acid, spiro ring containing epoxy resin, dicyclopentadiene skeleton containing epoxy Resin. These can be used alone or in combination of two or more. Among them, bisphenol A type epoxy resin, tetrabromobisphenol A type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin and brominated phenol novolac type epoxy resin are preferable, and bisphenol A type epoxy resin and phenol novolac type epoxy resin are particularly preferable. is there.

(B)フィラー
本発明の樹脂組成物に用いるフィラーとしては、例えば、シリカ、アルミナ、水酸化アルミニウム、沈降性硫酸バリウム、タルク、炭酸カルシウム、窒化ケイ素および窒化アルミニウム等の体質顔料、並びに銅、錫、亜鉛、ニッケル、銀、パラジウム、アルミニウム、鉄、コバルト、金および白金等の金属粉体が挙げられる。このようなフィラーは、その形状によって球状フィラーと球状以外の他の形状の粉砕フィラーに分類される。
(B) Filler
Examples of the filler used in the resin composition of the present invention include extender pigments such as silica, alumina, aluminum hydroxide, precipitated barium sulfate, talc, calcium carbonate, silicon nitride and aluminum nitride, and copper, tin, zinc and nickel. , Metal powders such as silver, palladium, aluminum, iron, cobalt, gold and platinum. Such fillers are classified into spherical fillers and pulverized fillers other than spherical shapes depending on their shapes.

本発明の樹脂組成物は、フィラーとしてアルミナと水酸化アルミニウムを併用して配合することが好ましい。両者の配合比は、アルミナが約30〜約42質量%、水酸化アルミニウムが約20〜約33質量%であり、アルミナ/水酸化アルミニウム比は約1:1〜約2.1:1であればよい。   The resin composition of the present invention is preferably blended with alumina and aluminum hydroxide as fillers. The blending ratio of both is about 30 to about 42% by weight of alumina, about 20 to about 33% by weight of aluminum hydroxide, and the alumina / aluminum hydroxide ratio is about 1: 1 to about 2.1: 1. That's fine.

また、本発明の樹脂組成物中のアルミナと水酸化アルミニウムは、平均粒子径が0.5〜5μmであることが好ましい。平均粒子径がこのような範囲であると、当該水酸化アルミニウムを含む樹脂組成物を、プリント配線基板の基板材料に使用した場合に表面の平滑性が優れる。また、樹脂組成物中での分散性にも優れるため、樹脂組成物の機械的強度も良好となる。平均粒子径が0.5μm未満であると、水酸化アルミニウムの粒子が小さいためにハンドリングしにくくなり、粒子間の凝集力が増加して、樹脂組成物中での分散性が低下する場合がある。また、5μmを超えると、当該水酸化アルミニウムを含む樹脂組成物をプリント配線基板の基板材料に使用した場合に基板表面の平滑性が低下する。   Moreover, it is preferable that the average particle diameter of the alumina and aluminum hydroxide in the resin composition of this invention is 0.5-5 micrometers. When the average particle diameter is in such a range, the smoothness of the surface is excellent when the resin composition containing aluminum hydroxide is used as a substrate material for a printed wiring board. Moreover, since it is excellent also in the dispersibility in a resin composition, the mechanical strength of a resin composition also becomes favorable. If the average particle size is less than 0.5 μm, the aluminum hydroxide particles are small and difficult to handle, the cohesive force between the particles increases, and the dispersibility in the resin composition may decrease. . On the other hand, when the thickness exceeds 5 μm, the smoothness of the substrate surface decreases when the resin composition containing aluminum hydroxide is used as a substrate material for a printed wiring board.

本発明の樹脂組成物に配合する水酸化アルミニウムの調製は限定されないが、水3分子を有する水酸化アルミニウムを加熱処理する加熱工程を行い、結合水を脱水することにより製造できる。加熱工程によって、結合水数が3であるギブサイト型水酸化アルミニウムが部分的に結合水数が1であるベーマイト型に転移し、その結果、結合水数が1.8〜2.7の範囲である水酸化アルミニウムを得ることができる。加熱処理の方法には制限はなく、乾燥機や電気炉などを使用して、水酸化アルミニウムを静置した状態で加熱する静置式加熱方法等の加熱方法に応じた条件で加熱する。したがって、要求される性質と生産性とを考慮して、当業者の裁量により加熱条件を設定することができる。   Although the preparation of aluminum hydroxide to be blended in the resin composition of the present invention is not limited, it can be produced by performing a heating step of heat-treating aluminum hydroxide having three water molecules and dehydrating the bound water. By the heating step, the gibbsite-type aluminum hydroxide having a bound water number of 3 is partially transferred to a boehmite type having a bound water number of 1, so that the bound water number is in the range of 1.8 to 2.7. Some aluminum hydroxide can be obtained. There is no restriction | limiting in the method of heat processing, It heats on the conditions according to heating methods, such as a stationary heating method of heating in the state which left aluminum hydroxide still, using a dryer, an electric furnace, etc. Therefore, the heating conditions can be set at the discretion of those skilled in the art in consideration of required properties and productivity.

水酸化アルミニウムは市販品を使用してもよく、製品としては、例えば、H42I(平均粒子径;1.1μm、NaO量;0.29%、昭和電工(株)社製)、HS330(平均粒子径;7μm、NaO量;0.04%、昭和電工(株)社製)およびCL303(中心粒径;2.5μm、NaO量;0.21%、住友化学(株)社製)等をあげることができる。 Commercially available aluminum hydroxide may be used. Examples of the product include H42I (average particle size: 1.1 μm, Na 2 O amount: 0.29%, Showa Denko KK), HS330 ( Average particle size: 7 μm, Na 2 O amount: 0.04%, manufactured by Showa Denko KK) and CL303 (center particle size: 2.5 μm, Na 2 O amount: 0.21%, Sumitomo Chemical Co., Ltd.) Etc.).

また、水酸化アルミニウムの粒子表面をシランカップリング剤で処理するシランカップリング処理工程を行ってもよい。シランカップリング処理によって、水酸化アルミニウムと樹脂との密着性が向上し、樹脂組成物に対して難燃性だけでなく強度も付与でき、また、樹脂組成物中での分散性が改善される。
カップリングとしては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシランおよびγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
Moreover, you may perform the silane coupling process process which processes the particle | grain surface of aluminum hydroxide with a silane coupling agent. Silane coupling treatment improves adhesion between aluminum hydroxide and the resin, can impart not only flame retardancy but also strength to the resin composition, and improves dispersibility in the resin composition. .
As the coupling, for example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane and γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane Etc.

(C)硬化剤
本発明の樹脂組成物に用いる硬化剤としては、例えば、アミン系化合物(脂環式ポリアミン、ポリアミドポリアミンおよび芳香族ポリアミン)、ジシアンジアミド(DICY)に代表されるグアニジン化合物、酸無水物系化合物、フェノール樹脂系化合物およびポリメルカプタン類等を挙げることが出来る。これらの硬化剤は、樹脂100質量部当たり0.5〜60質量部の範囲で添加することができるが、その使用量については硬化剤の種類や各樹脂の種類や量によって適宜選択される。
また、硬化促進剤として従来公知の化合物を用いることができ、例えば、2−エチル−4−メチルイミダゾールおよび1−ベンジル−2−メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物等を単独でまたは2種以上組み合わせて用いることができる。特に好ましいのは2−エチル−4−メチルイミダゾールである。硬化促進剤は、前記樹脂100質量部に対して、0.01〜0.5質量部程度の割合で配合することが好ましい。
(C) Curing agent
Examples of the curing agent used in the resin composition of the present invention include amine compounds (alicyclic polyamines, polyamide polyamines and aromatic polyamines), guanidine compounds represented by dicyandiamide (DICY), acid anhydride compounds, phenols, and the like. Examples thereof include resin compounds and polymercaptans. Although these hardening | curing agents can be added in the range of 0.5-60 mass parts per 100 mass parts of resin, the usage-amount is suitably selected with the kind of hardening | curing agent and the kind and quantity of each resin.
Moreover, a conventionally well-known compound can be used as a hardening accelerator, for example, imidazole compounds, such as 2-ethyl-4-methylimidazole and 1-benzyl-2-methylimidazole, are used individually or in combination of 2 or more types. be able to. Particularly preferred is 2-ethyl-4-methylimidazole. It is preferable to mix | blend a hardening accelerator in the ratio of about 0.01-0.5 mass part with respect to 100 mass parts of said resins.

そして、これらを混練することにより本発明の樹脂組成物が得られるが、通常、前記樹脂組成物の各材料を有機溶媒に溶解しながら混練してワニスを調製する。有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等を用いることができる。中でも好ましいのはメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、キシレンおよびエチレングリコールモノメチルエーテル等であり、特に好ましいのはメチルエチルケトン、キシレンおよびエチレングリコールモノメチルエーテル等である。   And by kneading these, the resin composition of the present invention is obtained. Usually, each material of the resin composition is kneaded while dissolving in an organic solvent to prepare a varnish. As the organic solvent, for example, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, toluene, xylene, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, or the like can be used. Among them, preferred are methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, xylene and ethylene glycol monomethyl ether, and particularly preferred are methyl ethyl ketone, xylene and ethylene glycol monomethyl ether.

前記ワニスは、不揮発分が10〜80質量%程度となるように調製することが好ましい。より好ましくは30〜70質量%程度、さらにより好ましくは40〜60質量%程度である。次いで、得られたワニスを基材に含浸させ、溶媒を乾燥除去させながら樹脂の反応を進め、半硬化させたプリプレグを得る。   The varnish is preferably prepared so that the nonvolatile content is about 10 to 80% by mass. More preferably, it is about 30-70 mass%, More preferably, it is about 40-60 mass%. Next, the obtained varnish is impregnated into the base material, and the reaction of the resin proceeds while drying and removing the solvent, thereby obtaining a semi-cured prepreg.

溶媒の乾燥除去は、80〜200℃程度、より好ましくは120〜180℃程度、さらにより好ましくは140〜160℃程度の温度で、2〜10分間程度、より好ましくは3〜8分間程度、さらにより好ましくは4〜6分間程度行うことができる。   Dry removal of the solvent is about 80 to 200 ° C., more preferably about 120 to 180 ° C., even more preferably about 140 to 160 ° C., about 2 to 10 minutes, more preferably about 3 to 8 minutes, More preferably, it can be performed for about 4 to 6 minutes.

このようにして樹脂プリプレグが得られるが、得られた樹脂プリプレグは粘着性がなく取扱い易いものである。該樹脂プリプレグは、所定枚数を重ね、後述する方法で加熱および厚さ方向に加圧して得られる3mm厚さの樹脂板の、JIS K6911に規定のブリッジ法による周波数1MHz、温度23℃の条件下での誘電率が、2.7〜3.5程度であることが好ましい。より好ましくは2.8〜3.4程度、さらにより好ましくは2.8〜3.3程度である。   In this way, a resin prepreg is obtained. The obtained resin prepreg is not sticky and easy to handle. The resin prepreg is a 3 mm thick resin plate obtained by stacking a predetermined number of sheets and heating and pressing in the thickness direction by the method described later, under the conditions of a frequency of 1 MHz and a temperature of 23 ° C. according to the bridge method specified in JIS K6911. The dielectric constant is preferably about 2.7 to 3.5. More preferably, it is about 2.8 to 3.4, and still more preferably about 2.8 to 3.3.

樹脂銅張板を製造する場合は、先ず前記樹脂プリプレグを1枚又は2枚以上重ねて、その片面又は両面に銅箔を配置する。銅箔は、5〜70μm程度の厚みのものを用いることができる。次いで、銅張板などの製造に通常用いられる熱圧プレスを用いて加熱および厚み方向に加圧する。熱圧プレス条件は、成形温度160〜220℃程度、成形圧力10〜120kg/cm程度、成形時間30〜300分間程度とすることができる。 When manufacturing a resin copper clad board, the said resin prepreg is piled up 1 sheet or 2 sheets or more first, and copper foil is arrange | positioned on the single side | surface or both surfaces. The copper foil having a thickness of about 5 to 70 μm can be used. Subsequently, it heats and pressurizes in the thickness direction using the hot press normally used for manufacture of a copper clad board. The hot press conditions can be a molding temperature of about 160 to 220 ° C., a molding pressure of about 10 to 120 kg / cm 2 , and a molding time of about 30 to 300 minutes.

さらに樹脂回路基板を調製する場合は、該樹脂銅張板の不要銅箔部分を、塩化第二鉄溶液およびアルカリエッチング液等を用いたエッチング等により選択的に除去すればよい。さらに、両面回路基板の場合は、スルーホールメッキ、導電性樹脂、ジャンパ線およびハトメピン等により裏表回路間を接続すればよい。   Further, when preparing a resin circuit board, an unnecessary copper foil portion of the resin copper clad plate may be selectively removed by etching using a ferric chloride solution, an alkaline etching solution, or the like. Furthermore, in the case of a double-sided circuit board, the back and front circuits may be connected by through-hole plating, conductive resin, jumper wires, eyelet pins, or the like.

その他、前記樹脂プリプレグを用いて、従来公知の方法により樹脂回路基板を作製することができる。例えば、前記樹脂プリプレグを1枚または2枚以上重ねた状態で、前記条件の熱圧プレスにより加熱加圧して樹脂板を作製し、該樹脂板の片面又は両面に無電解銅メッキ等により導体回路を形成するとともに、両面回路基板の場合はスルーホールメッキ等により裏表回路間を接続すること等によっても樹脂回路基板を得ることができる。   In addition, a resin circuit board can be produced by a conventionally known method using the resin prepreg. For example, in a state where one or two or more of the resin prepregs are stacked, a resin plate is manufactured by heating and pressing with the above-described hot press, and a conductive circuit is formed by electroless copper plating or the like on one or both sides of the resin plate. In the case of a double-sided circuit board, the resin circuit board can also be obtained by connecting the front and back circuits by through-hole plating or the like.

いずれにしても、表裏回路間の接続をスルーホールメッキにより行う場合は、レーザを利用して容易にスルーホールを形成することができる。これは、前記樹脂回路基板ではプリプレグの基材としてアラミド基材を用いているところ、アラミド基材はガラス基材などと異なり有機材料からなるため、レーザによってアブレーションを起こすことによるものである。   In any case, when the connection between the front and back circuits is made by through-hole plating, the through-hole can be easily formed using a laser. This is because an aramid base material is used as the base material of the prepreg in the resin circuit board, and the aramid base material is made of an organic material unlike a glass base material, and therefore ablation is caused by laser.

レーザとしては従来公知のものを用いることができ、例えば、He−Neレーザ、Arレーザ,Krレーザ、COレーザ、Nレーザ、エキシマレーザ、金属蒸気レーザ、He−Cdレーザ、ルビーレーザ、YAGレーザ、ガラスレーザおよび半導体レーザ等が挙げられる。中でも好ましいのはCOレーザ、エキシマレーザおよびYAGレーザであり、特に好ましいのはCOレーザおよびエキシマレーザである。 Conventionally known lasers can be used, for example, He-Ne laser, Ar laser, Kr laser, CO 2 laser, N 2 laser, excimer laser, metal vapor laser, He-Cd laser, ruby laser, YAG. A laser, a glass laser, a semiconductor laser, etc. are mentioned. Among these, a CO 2 laser, an excimer laser, and a YAG laser are preferable, and a CO 2 laser and an excimer laser are particularly preferable.

前記樹脂多層回路基板を製造するにあたっては、通常、一対の銅箔間に1枚または2〜5枚程度の前記プリプレグおよび1枚または2〜12枚程度の前記樹脂回路基板を適宜配置し、熱圧プレスにより加熱加圧し、スルーホールメッキ等により各層回路間を接続すればよい。熱圧プレス条件は、前記樹脂回路基板の作製時と同様にすることができる。また、銅箔は、5〜35μm程度の厚みのものを用いることができる。   In manufacturing the resin multilayer circuit board, usually, one or two to five prepregs and one or two to 12 resin circuit boards are appropriately arranged between a pair of copper foils, What is necessary is just to connect between each layer circuit by heat-pressing by pressure press and through-hole plating etc. FIG. The hot-pressing conditions can be the same as in the production of the resin circuit board. The copper foil having a thickness of about 5 to 35 μm can be used.

また、最外層の銅箔の不要部分を、塩化第二鉄溶液およびアルカリエッチング液等を用いたエッチング等により選択的に除去して外層回路を形成すればよい。   Further, the outer layer circuit may be formed by selectively removing unnecessary portions of the outermost copper foil by etching using a ferric chloride solution, an alkaline etching solution, or the like.

以下、実施例および試験例を示して本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a test example are shown and this invention is demonstrated in detail, this invention is not restrict | limited to these Examples.

<エポキシ樹脂板の調製>
エポキシ当量500の臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(旭化成エポキシ社製、#8049(商品名))10.22質量部、エポキシ当量316の臭素化ノボッラク型エポキシ樹脂(日本レック社製、NRA−75(商品名))15.32質量部、硬化剤としてジシアンジアミド(DICY)(製品名、会社名等記載する)質量部、硬化促進剤として2−エチル−4−メチルイミダゾール0.02質量部、第1表に記載したアルミナおよび水酸化アルミニウムを加え、メチルエチルケトンおよびエチレングリコールモノメチルエーテルの混合溶媒に80℃で1時間程度混練して、不揮発分約50質量%の絶縁層用ワニスを調製した。
<Preparation of epoxy resin plate>
Brominated bisphenol A type epoxy resin with epoxy equivalent of 500 (Asahi Kasei Epoxy, # 8049 (trade name)) 10.22 parts by mass, brominated novolak type epoxy resin with epoxy equivalent of 316 (NRA-75, NRA-75) (Product name)) 15.32 parts by mass, dicyandiamide (DICY) (described as product name, company name, etc.) parts by mass as a curing agent, 0.02 parts by mass of 2-ethyl-4-methylimidazole as a curing accelerator, first Alumina and aluminum hydroxide described in the table were added and kneaded in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and ethylene glycol monomethyl ether at 80 ° C. for about 1 hour to prepare an insulating layer varnish having a nonvolatile content of about 50 mass%.

Figure 2011044459
Figure 2011044459

調製したワニスを、厚さ0.1mmのアラミドペーパー基材(帝人社製、テクノーラ(商品名))に含浸し、140℃で5分間乾燥してプリプレグを作製した。該プリプレグを30枚重ね、温度190℃、圧力100kg/cmで100分間プレスすることにより、3mm厚さの両面エポキシ樹脂板を作製した。作成した樹脂板をの以下の評価項目で試験した。結果を第2表に示す。 The prepared varnish was impregnated into a 0.1 mm thick aramid paper substrate (manufactured by Teijin Limited, Technora (trade name)) and dried at 140 ° C. for 5 minutes to prepare a prepreg. 30 sheets of the prepreg were stacked and pressed at a temperature of 190 ° C. and a pressure of 100 kg / cm 2 for 100 minutes to prepare a double-sided epoxy resin plate having a thickness of 3 mm. The prepared resin plate was tested with the following evaluation items. The results are shown in Table 2.

<機械加工性の評価>
樹脂硬化物の表面を市販のカッターナイフで線を引いてどのくらいまで刃で樹脂を削ることが出来るかを試験した。すなわち、樹脂硬化物の表面に市販のカッターナイフで10mm長の線を引き10回ごとの線の状態とカッターナイフの摩耗の具合を観察し、樹脂表面を削って線を引くことができなくなる回数を求めた。結果を第2表に示す。
<Evaluation of machinability>
The surface of the cured resin was drawn with a commercially available cutter knife and tested to what extent the resin could be cut with a blade. That is, a 10 mm long line is drawn with a commercially available cutter knife on the surface of the cured resin, and the state of the line every 10 times and the state of wear of the cutter knife are observed, and the number of times the line cannot be drawn by scraping the resin surface. Asked. The results are shown in Table 2.

<熱伝導率の測定>
樹脂組成物の熱伝導率を測定し、約20w/mk以上の維持をもって「○」とした結果を表2に示す。
<Measurement of thermal conductivity>
Table 2 shows the results of measuring the thermal conductivity of the resin composition and setting it as “◯” with a maintenance of about 20 w / mk or more.

<電気絶縁性の測定>
櫛歯回路(ライン/スペース=0.2mm/0.2mm)をデザインした積層板に加熱硬化する前の樹脂板を真空ラミネート(条件;ラミネート温度120℃、真空度40トール、速度2m/分)を行い温度170℃、1時間で硬化させた。その後、500時間の環境試験(85℃/85%RH、印加電極50V(DC))にかけたのち、500Vの電圧を60秒間印加した後の線間絶縁抵抗値を測定した。その結果、1×1011[Ω]以上の維持をもって「○」とした。結果を第2表に示す。
<Measurement of electrical insulation>
Laminate the resin board before heat curing on the laminated board designed with a comb circuit (line / space = 0.2 mm / 0.2 mm) (conditions: lamination temperature 120 ° C., vacuum degree 40 torr, speed 2 m / min) And cured at 170 ° C. for 1 hour. Then, after applying to the environmental test (85 degreeC / 85% RH, applied electrode 50V (DC)) for 500 hours, the insulation resistance value between lines after applying the voltage of 500V for 60 second was measured. As a result, “×” was maintained with a maintenance of 1 × 10 11 [Ω] or more. The results are shown in Table 2.

Figure 2011044459
Figure 2011044459

上記評価項目につき、絶縁層用の樹脂板を試験した結果、樹脂組成物にアルミナと水酸化アルミニウムを同時に配合すると、熱伝導率はアルミナのみを配合した場合と同等であり、樹脂板表面の硬度が低下し、実技面でも基板の外周加工、ドリリング性が改善され、電子基板の製造適性が向上した。   As a result of testing a resin plate for an insulating layer for the above evaluation items, when alumina and aluminum hydroxide were blended in the resin composition at the same time, the thermal conductivity was the same as when only alumina was blended, and the hardness of the resin plate surface As a result, the peripheral processing of the substrate and the drilling performance were improved and the manufacturability of the electronic substrate was improved.

本発明の熱硬化性樹脂組成物はアルミナと水酸化アルミニウムを併用した結果、絶縁樹脂層の弾性率が低下し、電子基板のスルーホール等の孔開けを作業性良く行なうことができ、小径のスルーホールの孔開けを可能にした。又、クラック発生や、絶縁信頼性の悪化、穴部に充填された硬化物の上に形成される絶縁樹脂層や蓋メッキの層間剥離等がなく、電子基板の製造工程の生産性が大幅に改善される。   As a result of the combined use of alumina and aluminum hydroxide in the thermosetting resin composition of the present invention, the elastic modulus of the insulating resin layer is reduced, and through holes such as through holes in electronic substrates can be made with good workability. It was possible to drill through holes. In addition, there is no generation of cracks, deterioration of insulation reliability, insulation resin layer formed on the cured material filled in the hole or delamination of the lid plating, etc., greatly increasing the productivity of the electronic substrate manufacturing process Improved.

Claims (6)

少なくとも、熱硬化性樹脂と、フィラーとしてアルミナおよび水酸化アルミニウムを含有する電子基板の絶縁層用樹脂組成物。   A resin composition for an insulating layer of an electronic substrate containing at least a thermosetting resin and alumina and aluminum hydroxide as fillers. 熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂である請求項1に記載の電子基板の絶縁層用樹脂組成物。   The resin composition for an insulating layer of an electronic substrate according to claim 1, wherein the thermosetting resin is an epoxy resin. フィラーとして、アルミナ約30〜約42質量%および水酸化アルミニウム約20〜約33質量%を含有する請求項1または2に記載の電子基板の絶縁層用樹脂組成物。   The resin composition for an insulating layer of an electronic substrate according to claim 1 or 2, wherein the filler contains about 30 to about 42% by mass of alumina and about 20 to about 33% by mass of aluminum hydroxide. アルミナと水酸化アルミニウムの配合比が、アルミナに対し水酸化アルミニウム比が約1:1〜約2.1:1である請求項1〜3のいずれか1項に記載の電子基板の絶縁層用樹脂組成物。   4. The insulating layer for an electronic substrate according to claim 1, wherein the mixing ratio of alumina and aluminum hydroxide is about 1: 1 to about 2.1: 1 with respect to alumina. 5. Resin composition. エポキシ樹脂がビスフェノールA型エポキシ樹脂である請求項2〜4のいずれか1項に記載の電子基板の絶縁層用樹脂組成物。   The resin composition for an insulating layer of an electronic substrate according to any one of claims 2 to 4, wherein the epoxy resin is a bisphenol A type epoxy resin. 金属コア層とその上に積層された少なくとも一層の絶縁層と、該絶縁層の上に積層された導電層を有し、該金属コア層を貫通するスルーホールが形成された電子基板において、少なくとも、エポキシ樹脂と、フィラーとしてアルミナおよび水酸化アルミニウムとを含有する樹脂組成物を絶縁層として積層する電子基板。   In an electronic substrate having a metal core layer, at least one insulating layer laminated thereon, and a conductive layer laminated on the insulating layer, and having a through-hole penetrating the metal core layer, An electronic substrate in which an epoxy resin and a resin composition containing alumina and aluminum hydroxide as fillers are laminated as an insulating layer.
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