JP2011035160A - Suction table, and device for mounting spherical body - Google Patents

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JP2011035160A JP2009179818A JP2009179818A JP2011035160A JP 2011035160 A JP2011035160 A JP 2011035160A JP 2009179818 A JP2009179818 A JP 2009179818A JP 2009179818 A JP2009179818 A JP 2009179818A JP 2011035160 A JP2011035160 A JP 2011035160A
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Kentaro Nakajima
謙太郎 中島
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a suction table capable of reducing cost while maintaining a function of surely holding a suction object. <P>SOLUTION: This suction table includes: a plate-like base body part 81 formed with intakes 81h on an upper surface 81a side; a sheet body 82 having ventilation and arranged on the upper surface 81a side of the base body part 81 to cover the intakes 81h; and a suction plate 83 formed with a plurality of vent holes 83c penetrating in the thickness direction and arranged on the upper surface 81a side by interposing the sheet body 82 so that one surface 83a faces the upper surface 81a of the base body part 81; wherein the intakes 81h communicate with the vent holes 83c through the sheet body 82 in the state where the suction plate 83 is arranged on the upper surface 81a side, and air is sucked from the intakes 81h to suck and hold a substrate 400 mounted on the other surface 83b of the suction plate 83. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、吸着対象体を吸着して保持する吸着台、およびその吸着台を備えた球状体搭載装置に関するものである。   The present invention relates to a suction stand for sucking and holding a suction target body, and a spherical body mounting device including the suction stand.

この種の保持台を備えた装置として、特開2002−254163号公報に開示された半田ボール搭載装置が知られている。この半田ボール搭載装置は、ボール搭載ステージ、ボール吸着ツールおよび反り量測定手段などを備えて構成されている。この半田ボール搭載装置では、半田ボールの搭載に先立ち、反り量測定手段によって基板(BGA基板)の反り量が測定される。次いで、反り量の測定値が規定値以内と判断された基板が、ボール搭載ステージに搬送されて載置される。続いて、ボール搭載ステージに載置された基板の電極上に、ボール吸着ツールによって半田ボールが搭載される。   A solder ball mounting apparatus disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-254163 is known as an apparatus including this type of holding table. This solder ball mounting apparatus includes a ball mounting stage, a ball suction tool, a warp amount measuring means, and the like. In this solder ball mounting apparatus, the warpage amount of the substrate (BGA substrate) is measured by the warpage amount measuring means prior to mounting of the solder ball. Next, the substrate on which the measured value of the warpage amount is determined to be within the specified value is transferred to and placed on the ball mounting stage. Subsequently, a solder ball is mounted on the electrode of the substrate placed on the ball mounting stage by a ball suction tool.

特開2002−254163号公報(第2−3頁、第1図)JP 2002-254163 (page 2-3, FIG. 1)

ところが、上記の半田ボール搭載装置を含むこの種の半田ボール搭載装置には、改善すべき以下の課題がある。すなわち、上記の半田ボール搭載装置では、ボール搭載ステージに基板を載置して、その状態における半田ボールの電極上に半田ボールを搭載している。一方、近年の基板の高密度化に伴って電極の狭ピッチ化が進んでおり、このような狭ピッチの電極に微小な半田ボールを搭載する際には、ボール搭載ステージに対して基板を正確に位置合わせして確実に固定する必要がある。しかしながら、上記の半田ボール搭載装置では、ボール搭載ステージに固定手段が備えられていないため、位置ずれして、半田ボールを電極に正確に搭載できないおそれがある。   However, this type of solder ball mounting apparatus including the above-described solder ball mounting apparatus has the following problems to be improved. That is, in the above solder ball mounting apparatus, a substrate is mounted on a ball mounting stage, and the solder balls are mounted on the electrodes of the solder balls in that state. On the other hand, with the recent increase in the density of substrates, the pitch of electrodes has been reduced, and when mounting a small solder ball on such a narrow pitch electrode, the substrate is accurately placed on the ball mounting stage. It is necessary to align and securely fix. However, in the above solder ball mounting apparatus, since the ball mounting stage is not provided with a fixing means, there is a possibility that the solder ball cannot be accurately mounted on the electrode due to displacement.

上記のような事態を回避するため、発明者は、基板を吸着して確実に保持(固定)可能な吸着台553を既に開発している。この吸着台553は、図17,18に示すように、上面581a側に凹部581bが形成されると共にその凹部581bの底面581cに吸気口581dが形成された基体部581と、通気性を有する多孔質のセラミック材料によって形成されて基体部581の凹部581bに嵌め込まれた吸着板582とを備えて構成されている。この場合、載置された基板の傾斜を回避するため、基体部581の上面581aおよび吸着板582の上面582aを高精度に平坦化させると共に、両面581a,582aの間に段差が生じないように構成する必要がある。このため、この吸着台553を製作する際には、基体部581の凹部581bに吸着板582を嵌め込んで接着剤等を用いて固定した後に、両面581a,582aを研磨している。しかしながら、硬質なセラミック材料で形成された吸着板582を研磨するには長時間を要している。このため、この吸着台553には、製作コストが高騰しており、この点の改善が望まれている。また、長期間の使用によって吸着板582が目詰りしたときには、吸着板582を交換して研磨加工を行う必要があるため、ランニングコストが高騰しているという改善すべき課題も存在する。   In order to avoid the above situation, the inventor has already developed a suction stand 553 that can suck and hold (fix) the substrate securely. As shown in FIGS. 17 and 18, the suction table 553 includes a base portion 581 in which a recess 581b is formed on the upper surface 581a side, and an intake port 581d is formed in a bottom surface 581c of the recess 581b. And a suction plate 582 that is formed of a high-quality ceramic material and is fitted in the concave portion 581b of the base body portion 581. In this case, in order to avoid the inclination of the placed substrate, the upper surface 581a of the base body 581 and the upper surface 582a of the suction plate 582 are flattened with high accuracy, and a step is not generated between the both surfaces 581a and 582a. Must be configured. Therefore, when manufacturing the suction table 553, the suction plates 582 are fitted into the recesses 581b of the base body 581 and fixed with an adhesive or the like, and then both surfaces 581a and 582a are polished. However, it takes a long time to polish the suction plate 582 formed of a hard ceramic material. For this reason, the production cost of the suction table 553 is soaring, and improvement of this point is desired. Further, when the suction plate 582 is clogged due to long-term use, it is necessary to perform polishing by replacing the suction plate 582, so there is a problem to be improved that the running cost is rising.

本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、吸着対象体を確実に保持する機能を維持しつつコストの低減を実現し得る吸着台および球状体搭載装置を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of such problems, and it is a main object of the present invention to provide an adsorption platform and a spherical body mounting device that can realize a reduction in cost while maintaining a function of reliably holding an object to be adsorbed. And

上記目的を達成すべく請求項1記載の吸着台は、吸着対象体を吸着して保持する吸着台であって、上面側に吸気口が形成された板状の基体部と、通気性を有して前記吸気口を覆うように前記基体部の前記上面側に配置されるシート体と、厚み方向に貫通する複数の通気孔が形成されると共に一面が前記上面に対向するように前記シート体を挟んで当該上面側に配置される吸着板とを備え、前記吸着板を前記上面側に配置した状態において前記シート体を介して前記吸気口と前記通気孔とが連通し、前記吸気口から吸気して前記吸着板の他面に載置された前記吸着対象体を吸着して保持する。   In order to achieve the above object, an adsorption platform according to claim 1 is an adsorption platform for adsorbing and holding an object to be adsorbed, and has a plate-like base portion having an air inlet on the upper surface side and air permeability. The sheet body is disposed on the upper surface side of the base portion so as to cover the intake port, and a plurality of air holes penetrating in the thickness direction are formed and the sheet body is opposed to the upper surface. A suction plate disposed on the upper surface side of the suction plate, and the suction port and the vent hole communicate with each other through the sheet body in a state where the suction plate is disposed on the upper surface side. It sucks in and sucks and holds the suction object mounted on the other surface of the suction plate.

また、請求項2記載の吸着台は、請求項1記載の吸着台において、前記シート体を嵌め込み可能な凹部が前記基体部の前記上面および前記吸着板の前記一面の少なくとも一方に形成されている。   According to a second aspect of the present invention, there is provided the suction table according to the first aspect, wherein a recess into which the sheet body can be fitted is formed on at least one of the upper surface of the base portion and the one surface of the suction plate. .

また、請求項3記載の吸着台は、請求項1または2記載の吸着台において、前記吸着板は、導電性材料で形成されている。   According to a third aspect of the present invention, in the suction table according to the first or second aspect, the suction plate is made of a conductive material.

また、請求項4記載の吸着台は、請求項1または2記載の吸着台において、前記吸着板は、非導電性材料で形成されている。   According to a fourth aspect of the present invention, in the suction table according to the first or second aspect, the suction plate is formed of a non-conductive material.

また、請求項5記載の球状体搭載装置は、請求項1から4のいずれかに記載の吸着台と、当該吸着台によって保持されている前記吸着対象体としての搭載対象体に球状体を搭載する搭載部とを備えている。   Moreover, the spherical body mounting apparatus of Claim 5 mounts a spherical body on the adsorption | suction stand in any one of Claim 1 to 4, and the mounting target body as the said adsorption | suction target object currently hold | maintained by the said adsorption | suction stand. And a mounting portion.

請求項1記載の吸着台および請求項5記載の球状体搭載装置によれば、上面側に吸気口が形成された基体部と、通気性を有して吸気口を覆うように基体部の上面側に配置されるシート体と、複数の通気孔が形成されると共にシート体を挟んで基体部の上面側に配置される吸着板とを備えて吸着台を構成したことにより、硬質で研磨加工に長い時間を必要とするセラミックを用いることなく吸着対象体を確実に吸着して保持することができる。このため、この吸着台および球状体搭載装置によれば、基体部および吸着板を研磨加工の容易な材料で形成することで、基体部の上面、吸着板の一面および吸着板の他面を短時間で研磨することができるため、研磨加工のコストが低減する分、吸着台ひいては球状体搭載装置の製作コストを十分に低減することができる。また、この吸着台および球状体搭載装置によれば、長期間の使用によってシート体が目詰りしたとしても、研磨加工の必要な基体部および吸着板を交換することなく、シート体のみを交換するだけで済むため、ランニングコストを十分に低く抑えることができる。   According to the suction table according to claim 1 and the spherical body mounting device according to claim 5, the base portion having an air inlet formed on the upper surface side, and the upper surface of the base portion so as to have air permeability and cover the air inlet. Hard and polished by having a suction base comprising a sheet body arranged on the side and a suction plate formed on the upper surface side of the base portion with a plurality of vent holes formed and sandwiching the sheet body Therefore, the object to be adsorbed can be reliably adsorbed and held without using a ceramic that requires a long time. Therefore, according to the suction table and the spherical body mounting device, the upper surface of the base portion, one surface of the suction plate, and the other surface of the suction plate are shortened by forming the base portion and the suction plate with a material that can be easily polished. Since the polishing can be performed in time, the manufacturing cost of the suction table and thus the spherical body mounting device can be sufficiently reduced as much as the cost of the polishing process is reduced. Further, according to the suction table and the spherical body mounting apparatus, even if the sheet body is clogged due to long-term use, only the sheet body is replaced without replacing the base portion and the suction plate that require polishing. Therefore, the running cost can be kept sufficiently low.

また、請求項2記載の吸着台および請求項5記載の球状体搭載装置によれば、シート体を嵌め込み可能な凹部を基体部の上面および吸着板の一面の少なくとも一方に形成したことにより、基体部の上面と吸着板の一面とを密着させることができるため、両面を高精度に平坦化させることで、吸着板に載置された吸着対象体の傾斜を確実に回避することができる。   In addition, according to the suction table according to claim 2 and the spherical body mounting device according to claim 5, the concave portion into which the sheet member can be fitted is formed on at least one of the upper surface of the base portion and one surface of the suction plate. Since the upper surface of the part and one surface of the suction plate can be brought into close contact with each other, it is possible to reliably avoid the inclination of the suction object placed on the suction plate by flattening both surfaces with high accuracy.

また、請求項3記載の吸着台および請求項5記載の球状体搭載装置によれば、導電性材料で吸着板を形成したことにより、例えば、裏側に端子が形成されている吸着対象体に対して球状体を搭載する際に、裏側の端子を吸着板を介して基準電位(グランド電位)に接続することで、吸着対象体の帯電を防止することができる。   Moreover, according to the suction stand according to claim 3 and the spherical body mounting device according to claim 5, the suction plate is formed of a conductive material, so that, for example, the suction target body having a terminal formed on the back side When the spherical body is mounted, charging of the object to be attracted can be prevented by connecting the terminal on the back side to the reference potential (ground potential) via the attracting plate.

また、請求項4記載の吸着台および請求項5記載の球状体搭載装置によれば、非導電性材料で吸着板を形成したことにより、例えば、吸着対象体の裏側に端子が形成されているときに、端子同士を絶縁しつつその吸着対象体を吸着することができる。   Moreover, according to the suction stand of Claim 4, and the spherical body mounting apparatus of Claim 5, since the suction plate was formed with the nonelectroconductive material, for example, the terminal is formed on the back side of the suction object. Sometimes, the suction object can be sucked while the terminals are insulated from each other.

半田ボール搭載装置1の構成を示す構成図である。1 is a configuration diagram showing a configuration of a solder ball mounting device 1. 搭載部2の構成を示す断面図である。3 is a cross-sectional view showing a configuration of a mounting unit 2. FIG. 吸着ヘッド11および整列用プレート13の構成を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing the configuration of the suction head 11 and the alignment plate 13. 半田ボール搭載装置1の構成を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a configuration of a solder ball mounting device 1. 塗布部3および吸着台53の構成を示す構成図である。It is a block diagram which shows the structure of the application part 3 and the adsorption stand 53. FIG. 吸着台53の構成を示す第1の分解斜視図である。FIG. 6 is a first exploded perspective view showing the configuration of the suction table 53. 吸着台53の構成を示す第2の分解斜視図である。FIG. 6 is a second exploded perspective view showing the configuration of the suction table 53. 吸着台53の斜視図である。It is a perspective view of the adsorption stand 53. FIG. 半田ボール搭載装置1の動作を説明する第1の説明図である。FIG. 6 is a first explanatory view explaining the operation of the solder ball mounting apparatus 1. 半田ボール搭載装置1の動作を説明する第2の説明図である。FIG. 6 is a second explanatory view for explaining the operation of the solder ball mounting apparatus 1. 半田ボール搭載装置1の動作を説明する第3の説明図である。FIG. 10 is a third explanatory view for explaining the operation of the solder ball mounting apparatus 1. 半田ボール搭載装置1の動作を説明する第4の説明図である。FIG. 10 is a fourth explanatory view for explaining the operation of the solder ball mounting apparatus 1. 半田ボール搭載装置1の動作を説明する第5の説明図である。FIG. 10 is a fifth explanatory diagram for explaining the operation of the solder ball mounting apparatus 1. 半田ボール搭載装置1の動作を説明する第6の説明図である。FIG. 10 is a sixth explanatory diagram illustrating the operation of the solder ball mounting apparatus 1. 半田ボール搭載装置1の動作を説明する第7の説明図である。FIG. 10 is a seventh explanatory diagram for explaining the operation of the solder ball mounting apparatus 1; 半田ボール搭載装置1の動作を説明する第8の説明図である。FIG. 10 is an eighth explanatory view for explaining the operation of the solder ball mounting apparatus 1; 従来の吸着台553の構成を示す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view which shows the structure of the conventional suction stand 553. 従来の吸着台553の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the conventional suction stand 553.

以下、吸着台および球状体搭載装置の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。   Hereinafter, embodiments of the suction table and the spherical body mounting device will be described with reference to the accompanying drawings.

最初に、図1に示す半田ボール搭載装置(球状体搭載装置)1の構成について説明する。半田ボール搭載装置1は、同図に示すように、搭載部2、塗布部3、搬送部4、検出部5および制御部6を備えて、球状体の一例としての微小な球状粒体である半田ボール(マイクロボール)300(図3参照)を搭載対象体(および吸着対象体)としての基板400の端子401(図15参照)に搭載(載置)可能に構成されている。この場合、半田ボール300は、直径L1(図3参照)が70μm程度の球状に構成されている。また、半田ボール300は、半田ボール搭載装置1によって基板400の端子401に搭載された後に加熱溶融されることにより、基板400上にボールグリッドアレイ(BGA)を構成する。   First, the configuration of the solder ball mounting apparatus (spherical body mounting apparatus) 1 shown in FIG. 1 will be described. As shown in the figure, the solder ball mounting device 1 includes a mounting unit 2, a coating unit 3, a transport unit 4, a detection unit 5, and a control unit 6, and is a small spherical particle as an example of a spherical body. A solder ball (microball) 300 (see FIG. 3) can be mounted (placed) on a terminal 401 (see FIG. 15) of a substrate 400 as a mounting object (and an adsorption object). In this case, the solder ball 300 has a spherical shape with a diameter L1 (see FIG. 3) of about 70 μm. Further, the solder balls 300 are mounted on the terminals 401 of the substrate 400 by the solder ball mounting apparatus 1 and then heated and melted to constitute a ball grid array (BGA) on the substrate 400.

搭載部2は、基板400の端子401に半田ボール300を搭載する搭載処理を実行する。具体的には、搭載部2は、図1に示すように、吸着ヘッド11、供給部12、整列用プレート13、および移動機構14を備えて構成されている。   The mounting unit 2 executes a mounting process for mounting the solder balls 300 on the terminals 401 of the substrate 400. Specifically, as illustrated in FIG. 1, the mounting unit 2 includes a suction head 11, a supply unit 12, an alignment plate 13, and a moving mechanism 14.

吸着ヘッド11は、複数の半田ボール300を吸着する吸着処理を実行する。具体的には、吸着ヘッド11は、図2に示すように、一例として、内部に空隙11aが形成された箱状に構成されている。また、図3に示すように、吸着ヘッド11における底壁11bには、底壁11bの外面(以下「吸着面11c」ともいう)に開口すると共に空隙11aと連通する吸気孔11dが、底壁11bの厚み方向に沿って複数(同図では、そのうちの1個のみを図示している)形成されている。なお、吸着面11cにおける吸気孔11dの開口部を、以下「吸気口11e」ともいう。   The suction head 11 performs a suction process for sucking a plurality of solder balls 300. Specifically, as shown in FIG. 2, the suction head 11 is configured in a box shape in which a gap 11 a is formed as an example. As shown in FIG. 3, the bottom wall 11b of the suction head 11 has an intake hole 11d that opens to the outer surface of the bottom wall 11b (hereinafter also referred to as “suction surface 11c”) and communicates with the gap 11a. A plurality (only one of them is shown in the figure) is formed along the thickness direction of 11b. In addition, the opening portion of the suction hole 11d in the suction surface 11c is also referred to as “a suction port 11e” hereinafter.

この場合、図3に示すように、吸気孔11d(つまり、吸気口11e)の直径L2は、半田ボール300の直径L1(この例では、70μm)よりも短い40μm程度に規定されている。また、図2に示すように、吸着ヘッド11には、空隙11a内の空気を排気するための排気孔11fが形成されている。この吸着ヘッド11では、空隙11a内の空気の排気によって空隙11a内が負圧状態となり、それに伴って吸気口11eからの吸気が行われることにより、吸着ヘッド11の吸着面11cにおける吸気口11eの縁部に半田ボール300を吸着することが可能となっている(図3参照)。   In this case, as shown in FIG. 3, the diameter L2 of the intake hole 11d (that is, the intake port 11e) is defined to be about 40 μm, which is shorter than the diameter L1 of the solder ball 300 (70 μm in this example). As shown in FIG. 2, the suction head 11 is formed with an exhaust hole 11f for exhausting the air in the gap 11a. In the suction head 11, the inside of the gap 11 a is brought into a negative pressure state by the exhaust of air in the gap 11 a, and the suction from the suction port 11 e is performed accordingly, whereby the suction port 11 e of the suction surface 11 c of the suction head 11 is sucked. The solder ball 300 can be adsorbed to the edge (see FIG. 3).

供給部12は、制御部6の制御に従い、吸着ヘッド11に対して半田ボール300を供給する供給処理を実行すると共に、余剰な半田ボール300を吸引して除去する除去処理を実行する。具体的には、供給部12は、図2に示すように、収容容器21、吸着保持部22、吸引部23、および図外の駆動機構を備えて構成されている。収容容器21は、同図に示すように、その内面が断面半円状に湾曲した容器本体21cと、容器本体21cの両側部に配設された2枚の側壁(図示せず)とを備えて、容器本体21cおよび側壁によって形成される収容部21a(同図参照)内に半田ボール300を収容可能に構成されている。また、収容容器21の開口部21b(同図参照)側には、側壁に両端部が支持されたワイパー21dが配設されている。また、側壁には、吸着保持部22を回動可能に支持するためのベアリング(図示せず)が配設されている。この場合、収容容器21は、供給処理の実行時において開口部21bが吸着ヘッド11の吸着面11cに対向するように配置される。   The supply unit 12 executes a supply process for supplying the solder balls 300 to the suction head 11 according to the control of the control unit 6 and also performs a removal process for sucking and removing excess solder balls 300. Specifically, as shown in FIG. 2, the supply unit 12 includes a storage container 21, a suction holding unit 22, a suction unit 23, and a driving mechanism (not shown). As shown in the figure, the container 21 includes a container body 21c whose inner surface is curved in a semicircular cross section, and two side walls (not shown) disposed on both sides of the container body 21c. Thus, the solder ball 300 can be accommodated in the accommodating portion 21a (see the same figure) formed by the container main body 21c and the side wall. In addition, a wiper 21d having both end portions supported by side walls is disposed on the opening 21b (see the same figure) side of the container 21. Further, a bearing (not shown) for rotatably supporting the suction holding portion 22 is disposed on the side wall. In this case, the storage container 21 is arranged so that the opening 21b faces the suction surface 11c of the suction head 11 when the supply process is executed.

吸着保持部22は、全体として直方体状に形成されると共に、図2に示すように、基端部22b側から先端部22aに至る吸気経路22cが内部に形成されて、収容容器21の収容部21a内に収容されている半田ボール300をその先端部22aで吸着して保持可能に構成されている。また、吸着保持部22の先端部22aには、通気性シート22eが取り付けられている。また、吸着保持部22は、基端部22b側に配設された図外の軸および吸気管22dが収容容器21の側壁に配設されたベアリングによって回転可能に支持されることで、収容容器21の開口部21b側において基端部22bを中心として回動可能に配設されている。   The suction holding part 22 is formed in a rectangular parallelepiped shape as a whole, and as shown in FIG. 2, an intake passage 22 c from the base end part 22 b side to the tip end part 22 a is formed inside, and the storage part of the storage container 21. The solder ball 300 accommodated in 21a is configured to be attracted and held by its tip 22a. A breathable sheet 22 e is attached to the tip 22 a of the suction holding unit 22. In addition, the suction holding unit 22 is supported by a shaft disposed outside the drawing disposed on the base end portion 22b side and an intake pipe 22d rotatably supported by a bearing disposed on the side wall of the storage container 21. 21 is disposed so as to be rotatable about the base end portion 22b on the opening 21b side.

この場合、吸着保持部22は、図2に示すように、先端部22aが収容容器21の容器本体21cの底部側に対向しているときに、収容容器21の収容部21aに収容されている半田ボール300を先端部22aで吸着して保持する。また、吸着保持部22は、供給処理の実行時において、図13に示すように、半田ボール300を保持している先端部22aが吸着ヘッド11の吸着面11cに対向するように駆動機構によって回動させられる。   In this case, as shown in FIG. 2, the suction holding portion 22 is accommodated in the accommodating portion 21 a of the accommodating container 21 when the distal end portion 22 a faces the bottom side of the container main body 21 c of the accommodating container 21. The solder ball 300 is attracted and held by the tip 22a. Further, as shown in FIG. 13, the suction holding unit 22 is rotated by a driving mechanism so that the tip 22 a holding the solder ball 300 faces the suction surface 11 c of the suction head 11 during the supply process. Be moved.

吸引部23は、図2に示すように、2枚の区画壁23b,23cを備えて構成されて、収容容器21における2枚の側壁と区画壁23b,23cとによって形成される吸引経路23a(同図参照)を介して半田ボール300を吸引可能に構成されている。この場合、この半田ボール搭載装置1では、収容容器21、吸着保持部22および吸引部23が上記のように構成されることで、これらが一体に構成されている(以下、一体化された収容容器21、吸着保持部22および吸引部23を全体として「本体部100」ともいう)。   As shown in FIG. 2, the suction portion 23 is configured to include two partition walls 23 b and 23 c, and a suction path 23 a (formed by the two side walls and the partition walls 23 b and 23 c in the storage container 21. The solder ball 300 is configured to be suckable via the same). In this case, in the solder ball mounting apparatus 1, the storage container 21, the suction holding unit 22 and the suction unit 23 are configured as described above, so that they are integrated (hereinafter referred to as integrated storage). The container 21, the suction holding unit 22, and the suction unit 23 as a whole are also referred to as “main body unit 100”).

整列用プレート13は、吸着ヘッド11に対して着脱可能に構成されると共に、図3に示すように、吸着ヘッド11の吸着面11cに上面13aが接触するように装着された状態において吸着ヘッド11の吸気口11eに連通する挿通孔13cが形成されている。この場合、同図に示すように、整列用プレート13の厚みL3は、吸気口11eの縁部に吸着された半田ボール300が下面13bから突出しない80μm程度に規定されている。また、挿通孔13cの直径L4は、半田ボール300が通過可能な90μm程度に規定されている。また、整列用プレート13は、本体部100の配置位置の上方の位置に配置されている。   The alignment plate 13 is configured to be detachable from the suction head 11 and, as shown in FIG. 3, the suction head 11 is mounted in a state where the upper surface 13a is in contact with the suction surface 11c of the suction head 11. An insertion hole 13c communicating with the intake port 11e is formed. In this case, as shown in the figure, the thickness L3 of the aligning plate 13 is defined to be about 80 μm so that the solder ball 300 adsorbed on the edge of the air inlet 11e does not protrude from the lower surface 13b. Further, the diameter L4 of the insertion hole 13c is defined to be about 90 μm through which the solder ball 300 can pass. Further, the alignment plate 13 is disposed at a position above the position where the main body 100 is disposed.

移動機構14は、制御部6の制御に従い、整列用プレート13の配置位置(本体部100の配置位置の上方の位置であって、半田ボール300を吸着する吸着処理が実行される吸着位置P1(図4参照)と基板400に半田ボール300を搭載する搭載処理が実行される搭載位置P2(同図参照)との間で吸着ヘッド11を搬送する。   Under the control of the control unit 6, the moving mechanism 14 is located at an arrangement position of the alignment plate 13 (a position above the arrangement position of the main body 100, and an adsorption position P 1 (at which an adsorption process for adsorbing the solder balls 300 is performed) The suction head 11 is transported between the mounting position P2 (see FIG. 4) and the mounting position P2 (see FIG. 4) where the mounting process for mounting the solder balls 300 on the substrate 400 is performed.

塗布部3は、図4に示すように、基板400が供給される供給位置P3と搭載位置P2との間に配設されて基板400の表面にフラックスを塗布する塗布処理を実行する。この場合、塗布部3は、図5に示すように、マスク31、供給機構32およびスキージ33を備えて構成されている。マスク31は、塗布処理が実行される塗布位置P4に基板400搬送されたときに、図外の駆動機構によって基板400の表面側に移動させられて、基板400におけるフラックスの塗布対象部分(具体的には、端子401が形成されている部分)を除く部分を覆う。供給機構32は、塗布位置P4に基板400が搬送されたときに、基板400の表面におけるマスク31によって覆われていない部分(露出部分)にフラックスを供給する。スキージ33は、駆動機構によってマスク31の表面に沿って移動させられることにより、基板400の表面に供給されたフラックスを引き伸ばす。   As shown in FIG. 4, the coating unit 3 is disposed between the supply position P3 to which the substrate 400 is supplied and the mounting position P2, and executes a coating process for applying flux to the surface of the substrate 400. In this case, as shown in FIG. 5, the application unit 3 includes a mask 31, a supply mechanism 32, and a squeegee 33. When the substrate 31 is transported to the application position P4 where the application process is performed, the mask 31 is moved to the surface side of the substrate 400 by a driving mechanism (not shown), and the flux application target portion (specifically, the substrate 400) Covers the portion excluding the portion where the terminal 401 is formed. When the substrate 400 is transported to the application position P4, the supply mechanism 32 supplies the flux to a portion (exposed portion) that is not covered with the mask 31 on the surface of the substrate 400. The squeegee 33 is moved along the surface of the mask 31 by the drive mechanism, thereby stretching the flux supplied to the surface of the substrate 400.

搬送部4は、図4に示すように、供給位置P3と搭載位置P2とを結ぶ搬送経路Rに沿って基板400を搬送する。この場合、搬送部4は、第1搬送機構41、第2搬送機構42および第3搬送機構43を備えて構成され、搬送経路Rを複数(例えば、3つ)に分割した各分割経路(例えば、後述する第1経路R1、第2経路R2および第3経路R3)に沿って、各搬送機構41〜43が基板400をそれぞれ搬送する。   As shown in FIG. 4, the transport unit 4 transports the substrate 400 along a transport path R that connects the supply position P <b> 3 and the mounting position P <b> 2. In this case, the transport unit 4 includes a first transport mechanism 41, a second transport mechanism 42, and a third transport mechanism 43, and each divided path (for example, three) divided into a plurality of (for example, three) transport paths R Each of the transport mechanisms 41 to 43 transports the substrate 400 along a first route R1, a second route R2, and a third route R3, which will be described later.

第1搬送機構41は、図4に示すように、供給位置P3と引き渡し位置P5(塗布位置P4よりも搭載位置P2側に位置する位置)とを結ぶ第1経路R1(搬送経路Rの一部)に沿って基板400を搬送する第1搬送処理を実行する。具体的には、第1搬送機構41は、ステージ51、レール52、吸着台53および移動機構54を備えて構成されている。ステージ51は、第1経路R1に沿って配設されたレール52上を移動機構54によって移動させられる。   As shown in FIG. 4, the first transport mechanism 41 has a first path R1 (a part of the transport path R) that connects the supply position P3 and the delivery position P5 (a position that is located closer to the mounting position P2 than the application position P4). ) To carry out the first transfer process for transferring the substrate 400. Specifically, the first transport mechanism 41 includes a stage 51, a rail 52, a suction stand 53, and a moving mechanism 54. The stage 51 is moved by the moving mechanism 54 on the rail 52 arranged along the first path R1.

吸着台53は、ステージ51の上に固定されて、載置(供給)された吸着対象体としての基板400を吸着して保持可能に構成されている。具体的には、吸着台53は、図5,6に示すように、基体部81、シート体82および吸着板83を備えて構成されている。基体部81は、金属(例えばアルミニウム)によって全体として矩形の板状に形成されて、全体として矩形の板状に形成されている。また、基体部81の上面81a側には、シート体82を嵌め込み可能な矩形の凹部81cが形成されている。また、凹部81cの縁部には、上面81aよりもシート体82の厚み分だけ凹んだ段部81eが形成されている。さらに、凹部81cの底面81dには、シート体82を支持するリブ81fが形成されている。また、基体部81には、基体部81の側面に開口すると共に凹部81cに連通する吸気孔81gが形成されている。なお、凹部81cにおける吸気孔81gの開口部を、以下「吸気口81h」ともいう。   The suction stand 53 is fixed on the stage 51 and configured to suck and hold the substrate 400 as a suction target body placed (supplied). Specifically, as shown in FIGS. 5 and 6, the suction stand 53 includes a base portion 81, a sheet body 82, and a suction plate 83. The base portion 81 is formed in a rectangular plate shape as a whole with metal (for example, aluminum), and is formed in a rectangular plate shape as a whole. A rectangular recess 81c into which the sheet body 82 can be fitted is formed on the upper surface 81a side of the base body 81. Further, a stepped portion 81e that is recessed from the upper surface 81a by the thickness of the sheet body 82 is formed at the edge of the recessed portion 81c. Further, a rib 81f that supports the sheet body 82 is formed on the bottom surface 81d of the recess 81c. The base portion 81 is formed with an intake hole 81g that opens on the side surface of the base portion 81 and communicates with the recess 81c. In addition, the opening part of the intake hole 81g in the recessed part 81c is also called "intake port 81h" below.

シート体82は、一例として、不織布、織布、ポリエチレン、ポリプロピレンおよび紙などで構成された通気性を有する素材によって矩形のシート状に形成されている。この場合、図5,7に示すように、シート体82が基体部81の凹部81cに嵌め込まれる(つまり、基体部81の上面81a側に配置される)ことにより、基体部81の吸気口81hがシート体82によって覆われる。   As an example, the sheet body 82 is formed in a rectangular sheet shape by a breathable material made of nonwoven fabric, woven fabric, polyethylene, polypropylene, paper, and the like. In this case, as shown in FIGS. 5 and 7, the sheet body 82 is fitted into the recess 81 c of the base portion 81 (that is, disposed on the upper surface 81 a side of the base portion 81), whereby the air inlet 81 h of the base portion 81. Is covered by the sheet body 82.

吸着板83は、導電性材料(例えばアルミニウム)によって全体として矩形の板状に形成されている。また、吸着板83は、図7,8に示すように、一面83a(図7における下面)が基体部81の上面81aに対向するようにしてシート体82を挟んで基体部81の上面81a側に配置されて、ねじ84によって基体部81に固定されている。また、吸着板83には、厚み方向に貫通する複数の通気孔83cが形成されている。この場合、各通気孔83cは、基体部81の上面81a側に配置された状態においてシート体82に対向する矩形の領域83d(図6参照)内に形成されている。   The suction plate 83 is formed in a rectangular plate shape as a whole by a conductive material (for example, aluminum). Further, as shown in FIGS. 7 and 8, the suction plate 83 has a surface 83 a (the lower surface in FIG. 7) facing the upper surface 81 a of the base portion 81, and sandwiches the sheet body 82 so that the upper surface 81 a side of the base portion 81. And is fixed to the base portion 81 with a screw 84. Further, the suction plate 83 is formed with a plurality of vent holes 83c penetrating in the thickness direction. In this case, each air hole 83c is formed in a rectangular region 83d (see FIG. 6) that faces the sheet body 82 in a state of being arranged on the upper surface 81a side of the base portion 81.

ここで、この半田ボール搭載装置1のように、狭ピッチの端子401に微小な半田ボール300を搭載する装置においては、基板400が僅かに傾斜しているだけで、半田ボール300を正しい位置に確実に搭載するのが困難となる。このため、この吸着台53では、保持した基板400の傾斜を回避するため、基体部81の上面81aにおける凹部81cの外側の部位(吸着板83の一面83aとの当接部位)、吸着板83の一面83a、および吸着板83の他面83b(同図における上面)が研磨加工によって高精度に平坦化されている。この場合、この吸着台53では、発明者が既に開発している吸着台とは異なり、硬質で研磨加工に長い時間を必要とするセラミックに代えてシート体82を用いると共に、シート体82を挟んで配置された基体部81および吸着板83が研磨加工の容易なアルミニウムで形成されている。このため、この吸着台53および半田ボール搭載装置1では、上記の各面81a,83a,83bを短時間で研磨することができるため、研磨加工のコストが低減する分、吸着台53ひいては半田ボール搭載装置1の製作コストを十分に低減することが可能となっている。   Here, in the apparatus in which the minute solder balls 300 are mounted on the terminals 401 having a narrow pitch, such as the solder ball mounting apparatus 1, the solder balls 300 are placed in the correct positions only by the substrate 400 being slightly inclined. It becomes difficult to mount securely. For this reason, in this suction table 53, in order to avoid the inclination of the held substrate 400, the outer surface of the recess 81c on the upper surface 81a of the base portion 81 (the contact portion with the one surface 83a of the suction plate 83), the suction plate 83 One surface 83a and the other surface 83b (upper surface in the figure) of the suction plate 83 are flattened with high precision by polishing. In this case, the suction table 53 is different from the suction table already developed by the inventor in that the sheet body 82 is used in place of the ceramic that is hard and requires a long time for polishing and sandwiches the sheet body 82. The base portion 81 and the suction plate 83 arranged in (1) are formed of aluminum that is easy to polish. For this reason, in this suction stand 53 and the solder ball mounting apparatus 1, each of the surfaces 81a, 83a, 83b can be polished in a short time. The production cost of the mounting device 1 can be sufficiently reduced.

ここで、吸着台53は、次のようにして組み立てられる。まず、図6に示すように、基体部81の凹部81cにシート体82を嵌め込む。この際に、凹部81cの縁部に形成されている段部81e、および凹部81cの底面81dに形成されているリブ81fによってシート体82が支持される。また、シート体82によって基体部81における凹部81cの底面81dに開口する吸気孔81gの吸気口81hがシート体82によって覆われる。次いで、シート体82を嵌め込んだ基体部81の上面81aと吸着板83の一面83aとを対向させて、シート体82を挟んだ状態で基体部81の上面81a側に吸着板83を載置する。続いて、図8に示すように、ねじ84を用いて基体部81に対して吸着板83を固定する。以上により吸着台53が完成する。   Here, the suction stand 53 is assembled as follows. First, as shown in FIG. 6, the sheet body 82 is fitted into the recess 81 c of the base portion 81. At this time, the sheet body 82 is supported by the step portion 81e formed at the edge of the recess 81c and the rib 81f formed on the bottom surface 81d of the recess 81c. Further, the sheet body 82 covers the intake port 81 h of the intake hole 81 g that opens to the bottom surface 81 d of the recess 81 c in the base body 81. Next, the upper surface 81a of the base portion 81 into which the sheet body 82 is fitted is opposed to the one surface 83a of the suction plate 83, and the suction plate 83 is placed on the upper surface 81a side of the base portion 81 with the sheet body 82 interposed therebetween. To do. Subsequently, as shown in FIG. 8, the suction plate 83 is fixed to the base portion 81 using a screw 84. Thus, the suction table 53 is completed.

この場合、上記のようにして構成されている吸着台53では、シート体82を介して吸気口81hに連通する通気孔83cからの吸気により、吸着板83の他面83b(図7における上面)に載置された基板400が吸着して保持される。また、この吸着台53では、長期間の使用によってシート体82が目詰りしたとしても、研磨加工の必要な基体部81および吸着板83を交換することなく、シート体82のみを交換するだけで済むため、ランニングコストを十分に低く抑えることが可能となっている。   In this case, in the suction platform 53 configured as described above, the other surface 83b of the suction plate 83 (upper surface in FIG. 7) is sucked from the air vent 83c communicating with the suction port 81h via the sheet body 82. The substrate 400 placed on is sucked and held. Further, in this suction stand 53, even if the sheet body 82 is clogged due to long-term use, only the sheet body 82 is replaced without replacing the base portion 81 and the suction plate 83 that require polishing. Therefore, the running cost can be kept sufficiently low.

第2搬送機構42は、図4に示すように、引き渡し位置P5と受け渡し位置P6(引き渡し位置P5よりも搭載位置P2側に位置する位置)とを結ぶ第2経路R2(搬送経路Rの一部)に沿って基板400を搬送する第2搬送処理を実行する。具体的には、第2搬送機構42は、同図に示すように、吸着部61および移動機構62を備えて構成されている。吸着部61は、基板400を吸着する。移動機構62は、吸着部61を上下動させると共に、第2経路R2に沿って吸着部61を移動させる。   As shown in FIG. 4, the second transport mechanism 42 has a second path R2 (a part of the transport path R) that connects the delivery position P5 and the delivery position P6 (position located on the mounting position P2 side from the delivery position P5). ) To carry out the second transfer process for transferring the substrate 400. Specifically, the second transport mechanism 42 includes a suction unit 61 and a moving mechanism 62 as shown in FIG. The adsorption unit 61 adsorbs the substrate 400. The moving mechanism 62 moves the suction portion 61 up and down and moves the suction portion 61 along the second path R2.

第3搬送機構43は、図4に示すように、受け渡し位置P6と搭載位置P2とを結ぶ第3経路R3(搬送経路Rの一部)に沿って基板400を搬送する第2搬送処理を実行する。具体的には、第3搬送機構43は、ステージ71、レール72、吸着台73、移動機構74および補正機構75を備えて構成されている。ステージ71は、第3経路R3に沿って配設されたレール72上を移動機構74によって移動させられる。吸着台73は、上記した第1搬送機構41の吸着台53と同様に構成されて、上面に載置された基板400を吸着して保持する。補正機構75は、吸着台73の下部に配設されて、吸着台73を上下方向に貫通する中心軸を中心として吸着台73を回動させることにより、検出部5による後述する検出処理の結果に基づいて、吸着台73によって保持されている基板400の位置ずれを補正する補正処理を実行する。   As shown in FIG. 4, the third transport mechanism 43 performs a second transport process for transporting the substrate 400 along a third path R3 (a part of the transport path R) connecting the delivery position P6 and the mounting position P2. To do. Specifically, the third transport mechanism 43 includes a stage 71, a rail 72, a suction stand 73, a moving mechanism 74, and a correction mechanism 75. The stage 71 is moved by the moving mechanism 74 on the rail 72 disposed along the third route R3. The suction stand 73 is configured in the same manner as the suction stand 53 of the first transport mechanism 41 described above, and sucks and holds the substrate 400 placed on the upper surface. The correction mechanism 75 is disposed below the suction table 73 and rotates the suction table 73 around a central axis that penetrates the suction table 73 in the vertical direction. As a result of detection processing described later by the detection unit 5. Based on the above, a correction process for correcting the positional deviation of the substrate 400 held by the suction table 73 is executed.

検出部5は、第3搬送機構43の吸着台73に保持されている基板400の表面を撮像する図外のカメラを備えて構成されて、図4に示すように、受け渡し位置P6と搭載位置P2との間の所定位置(同図に示す検出位置P7)に配設されている。この場合、検出部5は、基板400の撮像画像を画像解析することにより、基板400を上下方向に貫通する中心軸を中心とする基板400の回転方向の位置ずれを検出する検出処理を実行する。   The detection unit 5 includes a camera (not shown) that images the surface of the substrate 400 held on the suction platform 73 of the third transport mechanism 43, and as shown in FIG. 4, the delivery position P6 and the mounting position It is arranged at a predetermined position (detection position P7 shown in the figure) between P2. In this case, the detection unit 5 performs a detection process of detecting a positional deviation in the rotation direction of the substrate 400 around the central axis penetrating the substrate 400 in the vertical direction by analyzing the captured image of the substrate 400. .

制御部6は、搭載部2、塗布部3、搬送部4および検出部5を制御して、基板400の端子401に半田ボール300を搭載させる。   The control unit 6 controls the mounting unit 2, the coating unit 3, the transport unit 4, and the detection unit 5 to mount the solder ball 300 on the terminal 401 of the substrate 400.

次に、半田ボール搭載装置1を用いて、半田ボール300を基板400の端子401に搭載する工程、およびその際の半田ボール搭載装置1の動作について、図面を参照して説明する。なお、初期状態では、図4に示すように、搬送部4における第1搬送機構41のステージ51が供給位置P3に位置し、搬送部4における第3搬送機構43のステージ71が受け渡し位置P6に位置しているものとする。また、供給位置P3に位置している第1搬送機構41の吸着台53における吸着板83の他面83b(上面)に図外の基板供給装置によって基板400が供給(載置)されるものとする。   Next, the process of mounting the solder ball 300 on the terminal 401 of the substrate 400 using the solder ball mounting apparatus 1 and the operation of the solder ball mounting apparatus 1 at that time will be described with reference to the drawings. In the initial state, as shown in FIG. 4, the stage 51 of the first transport mechanism 41 in the transport unit 4 is located at the supply position P3, and the stage 71 of the third transport mechanism 43 in the transport unit 4 is at the delivery position P6. Assume that it is located. Further, the substrate 400 is supplied (placed) on the other surface 83b (upper surface) of the suction plate 83 in the suction table 53 of the first transport mechanism 41 located at the supply position P3 by a substrate supply device (not shown). To do.

この半田ボール搭載装置1では、開始操作がされたときに、制御部6が搬送部4の第1搬送機構41に対して第1搬送処理を実行させる。この第1搬送処理では、第1搬送機構41の吸着台53が、供給(載置)された基板400を保持する。具体的には、吸着台53は、吸着板83を基体部81の上面81a側に配置した状態においてシート体82を介して基体部81の吸気口81hと吸着板83の通気孔83cとが連通しており、吸気管を介して基体部81の吸気孔81gに接続されている図外の吸気装置が作動することによって吸気口81hからの吸気が行われ、これによって吸着板83の他面83bに載置された基板400を吸着して保持する。この場合、この吸着台53では、吸着板83が導電性材料によって形成されている。このため、例えば、裏側に端子401が形成されている基板400に対して半田ボール300を搭載する際に、裏側の端子401を吸着板83を介して基準電位(グランド電位)に接続することで、基板400の帯電を防止することが可能となっている。   In the solder ball mounting apparatus 1, when the start operation is performed, the control unit 6 causes the first transport mechanism 41 of the transport unit 4 to execute the first transport process. In the first transport process, the suction table 53 of the first transport mechanism 41 holds the supplied (mounted) substrate 400. Specifically, in the suction stand 53, the suction port 81 h of the base portion 81 and the vent hole 83 c of the suction plate 83 communicate with each other through the sheet body 82 in a state where the suction plate 83 is disposed on the upper surface 81 a side of the base portion 81. Then, when an unillustrated intake device connected to the intake hole 81g of the base portion 81 via the intake pipe is operated, intake from the intake port 81h is performed, and thereby the other surface 83b of the suction plate 83 The substrate 400 placed on is sucked and held. In this case, in the suction table 53, the suction plate 83 is formed of a conductive material. Therefore, for example, when the solder ball 300 is mounted on the substrate 400 on which the terminal 401 is formed on the back side, the back side terminal 401 is connected to the reference potential (ground potential) via the suction plate 83. The charging of the substrate 400 can be prevented.

続いて、移動機構54が、図9に示すように、ステージ51を第1経路R1に沿って配設されたレール52上を移動させる。次いで、移動機構54は、ステージ51が塗布位置P4に位置した時点でその移動を停止させる。   Subsequently, the moving mechanism 54 moves the stage 51 on the rail 52 disposed along the first path R1, as shown in FIG. Next, the moving mechanism 54 stops the movement when the stage 51 is positioned at the application position P4.

続いて、制御部6は、塗布部3に対して塗布処理を実行させる。この塗布処理では、塗布部3のマスク31が図外の駆動機構によって基板400の表面側に移動させられる(図5参照)。この際に、基板400における端子401の形成部分を除く部分が覆われる。次いで、塗布部3の供給機構32が基板400における端子401の形成部分(露出部分)にフラックスを供給する。続いて、スキージ33が図外の駆動機構によってマスク31(基板400の表面)に沿って移動させられる。これにより、基板400の表面における端子401の形成部分にフラックスが引き伸ばされて塗布される。   Subsequently, the control unit 6 causes the coating unit 3 to perform a coating process. In this coating process, the mask 31 of the coating unit 3 is moved to the surface side of the substrate 400 by a driving mechanism (not shown) (see FIG. 5). At this time, the portion of the substrate 400 excluding the portion where the terminal 401 is formed is covered. Next, the supply mechanism 32 of the application unit 3 supplies the flux to the formation part (exposed part) of the terminal 401 in the substrate 400. Subsequently, the squeegee 33 is moved along the mask 31 (the surface of the substrate 400) by a driving mechanism (not shown). Thereby, the flux is stretched and applied to the portion where the terminal 401 is formed on the surface of the substrate 400.

次いで、第1搬送機構41の移動機構54が、ステージ51を引き渡し位置P5に向けて移動させ、ステージ51が引き渡し位置P5に位置した時点でその移動を停止させる。これにより、供給位置P3と引き渡し位置P5とを結ぶ第1経路R1に沿って基板400が第1搬送機構41によって搬送される。   Next, the moving mechanism 54 of the first transport mechanism 41 moves the stage 51 toward the delivery position P5, and stops the movement when the stage 51 is located at the delivery position P5. As a result, the substrate 400 is transported by the first transport mechanism 41 along the first path R1 connecting the supply position P3 and the delivery position P5.

続いて、制御部6は、搬送部4の第2搬送機構42に対して第2搬送処理を実行させる。この第2搬送処理では、第2搬送機構42の移動機構62が、図10に示すように、引き渡し位置P5の上方に吸着部61を移動させる。次いで、移動機構62は、吸着部61を下降させることにより、第1搬送機構41の吸着台53によって保持されている基板400に対して吸着部61を近接させる。続いて、制御部6が、吸着台53による基板400の吸着を解除させる。これにより、吸着部61によって基板400が吸着されて、基板400が第1搬送機構41から第2搬送機構42に引き渡される。次いで、移動機構62は、吸着部61を上昇させた後に、第2経路R2に沿って吸着部61を移動させて受け渡し位置P6の上方に位置させる。続いて、移動機構62は、吸着部61を下降させることにより、搬送部4における第3搬送機構43の吸着台73の上面に基板400を載置する。これにより、引き渡し位置P5と受け渡し位置P6とを結ぶ第2経路R2に沿って基板400が第2搬送機構42によって搬送される。   Subsequently, the control unit 6 causes the second transport mechanism 42 of the transport unit 4 to execute the second transport process. In the second transport process, the moving mechanism 62 of the second transport mechanism 42 moves the suction portion 61 above the delivery position P5 as shown in FIG. Next, the moving mechanism 62 lowers the suction unit 61 to bring the suction unit 61 closer to the substrate 400 held by the suction table 53 of the first transport mechanism 41. Subsequently, the control unit 6 releases the suction of the substrate 400 by the suction stand 53. As a result, the substrate 400 is adsorbed by the adsorption unit 61, and the substrate 400 is transferred from the first conveyance mechanism 41 to the second conveyance mechanism 42. Next, the moving mechanism 62 raises the suction portion 61 and then moves the suction portion 61 along the second path R2 to be positioned above the delivery position P6. Subsequently, the moving mechanism 62 lowers the suction unit 61 to place the substrate 400 on the upper surface of the suction platform 73 of the third transport mechanism 43 in the transport unit 4. As a result, the substrate 400 is transported by the second transport mechanism 42 along the second path R2 connecting the delivery position P5 and the delivery position P6.

また、第1搬送機構41の移動機構54は、基板400が第1搬送機構41から第2搬送機構42に引き渡された時点で、図11に示すように、ステージ51を引き渡し位置P5から供給位置P3に移動(初期位置に復帰)させる。   Further, the moving mechanism 54 of the first transport mechanism 41 moves the stage 51 from the delivery position P5 to the supply position as shown in FIG. 11 when the substrate 400 is delivered from the first transport mechanism 41 to the second transport mechanism 42. Move to P3 (return to initial position).

次いで、制御部6は、搬送部4の第3搬送機構43に対して第3搬送処理を実行させる。この第3搬送処理では、第3搬送機構43の吸着台73が、第2搬送機構42によって載置された基板400を吸着して保持し、移動機構74が、図11に示すように、ステージ71を第3経路R3に沿って配設されたレール72上を移動させる。続いて、移動機構74は、同図に示すように、ステージ71が検出位置P7に位置した時点でその移動を停止させる。   Next, the control unit 6 causes the third transport mechanism 43 of the transport unit 4 to execute the third transport process. In the third transport process, the suction table 73 of the third transport mechanism 43 sucks and holds the substrate 400 placed by the second transport mechanism 42, and the moving mechanism 74 moves the stage as shown in FIG. 71 is moved on the rail 72 arranged along the third route R3. Subsequently, as shown in the figure, the moving mechanism 74 stops the movement when the stage 71 is located at the detection position P7.

次いで、制御部6は、検出部5に対して検出処理を実行させる。この検出処理では、検出部5は、第3搬送機構43の吸着台73によって保持されている基板400を吸着台73の上方から撮像して、その撮像画像を画像解析することにより、基板400を上下方向に貫通する中心軸を中心とする回転方向の基板400の位置ずれを検出する。   Next, the control unit 6 causes the detection unit 5 to execute detection processing. In this detection process, the detection unit 5 captures the substrate 400 held by the suction platform 73 of the third transport mechanism 43 from above the suction platform 73 and analyzes the captured image to thereby analyze the substrate 400. A positional shift of the substrate 400 in the rotation direction about the central axis penetrating in the vertical direction is detected.

続いて、制御部6は、第3搬送機構43の補正機構75に対して補正処理を実行させる。この補正処理では、補正機構75は、検出部5による検出処理の結果に基づき、吸着台73を上下方向に貫通する中心軸を中心として吸着台73を回動させることにより、吸着台73によって保持されている基板400の位置ずれを補正する。   Subsequently, the control unit 6 causes the correction mechanism 75 of the third transport mechanism 43 to perform correction processing. In this correction process, the correction mechanism 75 is held by the suction stand 73 by rotating the suction stand 73 about the central axis that penetrates the suction stand 73 in the vertical direction based on the result of the detection process by the detection unit 5. The positional deviation of the substrate 400 is corrected.

次いで、第3搬送機構43の移動機構74が、図12に示すように、ステージ71を搭載位置P2に向けて移動させ、ステージ71が搭載位置P2に位置した時点でその移動を停止させる。これにより、受け渡し位置P6と搭載位置P2とを結ぶ第3経路R3に沿って基板400が第3搬送機構43によって搬送される。   Next, as shown in FIG. 12, the moving mechanism 74 of the third transport mechanism 43 moves the stage 71 toward the mounting position P2, and stops the movement when the stage 71 is positioned at the mounting position P2. As a result, the substrate 400 is transported by the third transport mechanism 43 along the third path R3 connecting the delivery position P6 and the mounting position P2.

一方、制御部6は、例えば、上記の第1搬送処理の開始から所定時間が経過した時点で、搭載部2に対して搭載処理を開始させる。この搭載処理では、移動機構14が、図2に示すように、整列用プレート13の配置位置に吸着ヘッド11を搬送させる。この際に、図3に示すように、吸着ヘッド11における底壁11bの吸着面11cと整列用プレート13の上面13aとが接触する。続いて、制御部6は、吸着ヘッド11に対して吸着処理を実行させると共に、供給部12に対して供給処理および除去処理を実行させる。具体的には、制御部6は、図外の吸気装置を作動させる。これにより、吸着ヘッド11の空隙11a内が負圧状態となって吸気口11eからの吸気が開始される。また、供給部12の吸着保持部22における吸気経路22cからの吸気、および供給部12の吸引部23における吸引経路23aからの吸気が開始される。   On the other hand, for example, the control unit 6 causes the mounting unit 2 to start the mounting process when a predetermined time has elapsed since the start of the first transport process. In this mounting process, the moving mechanism 14 transports the suction head 11 to the arrangement position of the alignment plate 13 as shown in FIG. At this time, as shown in FIG. 3, the suction surface 11 c of the bottom wall 11 b of the suction head 11 and the upper surface 13 a of the alignment plate 13 come into contact with each other. Subsequently, the control unit 6 causes the suction head 11 to perform a suction process and causes the supply unit 12 to perform a supply process and a removal process. Specifically, the control unit 6 operates an intake device (not shown). As a result, the space 11a of the suction head 11 is in a negative pressure state and intake from the intake port 11e is started. In addition, intake from the intake path 22 c in the suction holding unit 22 of the supply unit 12 and intake from the suction path 23 a in the suction unit 23 of the supply unit 12 are started.

次いで、吸着保持部22における吸気経路22cからの吸気に伴い、供給部12の収容容器21に収容されている半田ボール300が吸着保持部22の先端部22aに吸着されて保持される。続いて、制御部6は、図外の駆動機構を制御して、吸着保持部22の基端部22bに取り付けられている吸気管22dを回転させることにより、図13に示すように、基端部22bを中心として吸着保持部22を回動させる。この際に、先端部22aに保持されている半田ボール300が吸着保持部22の回動に伴い、収容容器21の開口部21b側に移動させられる。また、開口部21b側に移動させられた半田ボール300の一部が、開口部21b側に配設されているワイパー21dによって払い落とされる。このため、吸着ヘッド11に供給される半田ボール300の量(数)が適正な量に制限される。   Next, with the suction from the suction path 22 c in the suction holding unit 22, the solder ball 300 stored in the storage container 21 of the supply unit 12 is sucked and held by the tip 22 a of the suction holding unit 22. Subsequently, the control unit 6 controls the driving mechanism (not shown) to rotate the intake pipe 22d attached to the proximal end portion 22b of the suction holding portion 22, thereby making the proximal end as shown in FIG. The suction holding part 22 is rotated around the part 22b. At this time, the solder ball 300 held by the tip 22 a is moved toward the opening 21 b of the container 21 as the suction holding unit 22 rotates. Further, a part of the solder ball 300 moved to the opening 21b side is wiped off by the wiper 21d provided on the opening 21b side. For this reason, the amount (number) of solder balls 300 supplied to the suction head 11 is limited to an appropriate amount.

次いで、制御部6は、吸着保持部22の先端部22aが吸着ヘッド11の吸着面11cに対向した時点(吸着保持部22が180°回動した時点)で、駆動機構を制御して、吸気管22dの回転を停止させる。続いて、制御部6は、駆動機構を制御して、吸着ヘッド11の吸着面11c(整列用プレート13)に向けて本体部100を移動させて、先端部22aを整列用プレート13(吸着面11c)の一端側に近接させる。この際に、整列用プレート13に近接させられた先端部22aに保持されている半田ボール300のうちの整列用プレート13側(上部)に位置している半田ボール300が、吸着ヘッド11の吸気口11eからの吸気に伴う吸引力によって吸着保持部22の吸引力に抗して吸着ヘッド11に引き寄せられて、吸着ヘッド11に供給される。また、供給された半田ボール300の一部が、吸気口11eに引き寄せられて、整列用プレート13の各挿通孔13cを通って吸着ヘッド11の吸着面11cにおける吸気口11eの縁部に吸着される。   Next, the control unit 6 controls the drive mechanism when the tip 22a of the suction holding unit 22 faces the suction surface 11c of the suction head 11 (when the suction holding unit 22 rotates 180 °), The rotation of the tube 22d is stopped. Subsequently, the control unit 6 controls the drive mechanism to move the main body 100 toward the suction surface 11c (alignment plate 13) of the suction head 11, and the tip 22a is moved to the alignment plate 13 (suction surface). 11c) is brought close to one end side. At this time, the solder ball 300 located on the alignment plate 13 side (upper part) of the solder balls 300 held at the tip 22 a close to the alignment plate 13 is sucked into the suction head 11. The suction force generated by the suction from the mouth 11 e is attracted to the suction head 11 against the suction force of the suction holding unit 22 and supplied to the suction head 11. Further, a part of the supplied solder ball 300 is attracted to the suction port 11 e and is sucked by the edge of the suction port 11 e on the suction surface 11 c of the suction head 11 through each insertion hole 13 c of the alignment plate 13. The

次いで、制御部6は、駆動機構を制御して、図13に示すように、先端部22aを整列用プレート13に近接させた状態で、本体部100を整列用プレート13(吸着面11c)に沿って整列用プレート13の他端側(同図における右側)に向けて(同図に矢印で示す方向に)移動させる。この際に、上記したように、先端部22aに保持されている半田ボール300のうちの整列用プレート13側に位置している半田ボール300が、吸着ヘッド11の吸引力によって吸着保持部22の吸引力に抗して吸着ヘッド11に引き寄せられて、吸着ヘッド11に供給され、その一部が整列用プレート13の各挿通孔13cを通って吸着ヘッド11の吸着面11cにおける吸気口11eの縁部に吸着される。このようにして、吸着保持部22の先端部22aに保持されている半田ボール300が、吸着保持部22の移動に伴って徐々に(分散されつつ)吸着ヘッド11に供給されると共に、供給された半田ボール300の一部が吸着ヘッド11の吸着面11cにおける各吸気口11eの縁部に1つずつ吸着される。   Next, the control unit 6 controls the drive mechanism to place the main body unit 100 on the alignment plate 13 (suction surface 11c) in a state where the tip 22a is brought close to the alignment plate 13 as shown in FIG. And is moved toward the other end side (right side in the figure) of the alignment plate 13 (in the direction indicated by the arrow in the figure). At this time, as described above, the solder balls 300 located on the alignment plate 13 side among the solder balls 300 held by the tip 22 a are attracted by the suction force of the suction head 11. The suction head 11 is attracted to the suction head 11 against the suction force and supplied to the suction head 11, and a part of the suction head 11 passes through the insertion holes 13 c of the alignment plate 13 and the edge of the suction port 11 e on the suction surface 11 c of the suction head 11. Adsorbed to the part. In this way, the solder balls 300 held by the tip 22a of the suction holding unit 22 are gradually supplied to the suction head 11 as the suction holding unit 22 moves (while being distributed). A part of the solder ball 300 is sucked one by one at the edge of each suction port 11e in the suction surface 11c of the suction head 11.

ここで、半田ボール300は、上記したように微小なため、静電気や分子間力による半田ボール300同士が互いに引き合う力が半田ボールの重量に対して相対的に大きくなっている。このため、吸気口11eの縁部に吸着された搭載対象の半田ボール300に、他の余剰な半田ボール300が付着する。この場合、この半田ボール搭載装置1では、上記したように、整列用プレート13の厚みL3が半田ボール300の直径L1よりもやや厚い80μm程度に規定され、挿通孔13cの直径L4が、半田ボール300の直径L1よりもやや大きい90μm程度に規定されている。このため、搭載対象の半田ボール300だけが挿通孔13c内に収容され、余剰な半田ボール300は、その一部分(体積的な一部分)またはその全体が挿通孔13cの下面13bよりも外側(下側)に突出した状態で付着している。また、この半田ボール搭載装置1では、上記したように、先端部22aに保持されている半田ボール300が分散されつつ供給されるため、半田ボール300の過剰な供給が防止されて、余剰な半田ボール300の付着が少なく抑えられている。   Here, since the solder ball 300 is minute as described above, the force with which the solder balls 300 attract each other due to static electricity or intermolecular force is relatively large with respect to the weight of the solder ball. For this reason, another surplus solder ball 300 adheres to the solder ball 300 to be mounted adsorbed on the edge of the air inlet 11e. In this case, in the solder ball mounting apparatus 1, as described above, the thickness L3 of the alignment plate 13 is defined to be about 80 μm, which is slightly thicker than the diameter L1 of the solder ball 300, and the diameter L4 of the insertion hole 13c is It is defined to be about 90 μm, which is slightly larger than 300 diameter L1. Therefore, only the solder ball 300 to be mounted is accommodated in the insertion hole 13c, and the excess solder ball 300 is partly (volume part) or entirely outside the lower surface 13b of the insertion hole 13c (lower side). ) Sticks in a protruding state. Further, in this solder ball mounting apparatus 1, as described above, the solder balls 300 held at the tip 22a are supplied while being dispersed, so that excessive supply of the solder balls 300 is prevented and excessive solder is supplied. The adhesion of the balls 300 is suppressed to a small extent.

続いて、制御部6は、駆動機構を制御して、図14に示すように、本体部100を整列用プレート13に沿って(同図に矢印で示す方向に)さらに移動させる。この際に、同図に示すように、吸着保持部22に続いて吸引部23が移動させられて、吸引部23における吸引経路23aからの吸気によって余剰な半田ボール300が吸引される。このため、搭載対象の半田ボール300と余剰な半田ボール300とが互いに強く引き合っていたとしても、余剰な半田ボール300の全てが搭載対象の半田ボール300から強制的に引き離されて吸着ヘッド11または整列用プレート13から確実に除去される。   Subsequently, the control unit 6 controls the driving mechanism to further move the main body unit 100 along the alignment plate 13 (in the direction indicated by the arrow in FIG. 14) as shown in FIG. At this time, as shown in the figure, the suction part 23 is moved following the suction holding part 22, and surplus solder balls 300 are sucked by suction from the suction path 23 a in the suction part 23. For this reason, even if the solder balls 300 to be mounted and the excessive solder balls 300 attract each other strongly, all of the excessive solder balls 300 are forcibly separated from the solder balls 300 to be mounted and the suction head 11 or It is surely removed from the alignment plate 13.

続いて、制御部6は、移動機構14を制御して、吸着ヘッド11が整列用プレート13から離反するように、吸着ヘッド11を移動させる。次いで、制御部6は、移動機構14を制御して、半田ボール300を吸着している吸着ヘッド11を搭載位置P2に搬送させ、続いて、図15に示すように、吸着ヘッド11によって吸着されている半田ボール300が基板400の端子401に塗布されているフラックスに接触するように吸着ヘッド11を基板400に向けて(同図に示す矢印の向きに)移動させる。   Subsequently, the control unit 6 controls the moving mechanism 14 to move the suction head 11 so that the suction head 11 is separated from the alignment plate 13. Next, the control unit 6 controls the moving mechanism 14 to cause the suction head 11 that sucks the solder balls 300 to be transported to the mounting position P2, and then is sucked by the suction head 11 as shown in FIG. The suction head 11 is moved toward the substrate 400 (in the direction of the arrow shown in the figure) so that the solder balls 300 being in contact with the flux applied to the terminals 401 of the substrate 400.

次いで、制御部6は、吸気装置を制御して、吸着ヘッド11における吸気口11eからの吸気を停止させる。この際に、図16に示すように、吸着ヘッド11による吸着が解除されて、半田ボール300が基板400の端子401に塗布されたフラックスの上に載置される。続いて、制御部6は、移動機構14を制御して、同図に示すように、吸着ヘッド11を上方に向けて(同図に示す矢印の向きに)移動させた後に、初期位置に搬送させる。以上により、基板400における端子401への半田ボール300の搭載が完了する。次いで、半田ボール300の搭載が完了した基板400が、図外の取り出し装置によって第3搬送機構43の吸着台73からストック場所に移動される。続いて、第3搬送機構43の移動機構74が、ステージ71を搭載位置P2から受け渡し位置P6に移動(初期位置に復帰)させる。   Next, the control unit 6 controls the intake device to stop intake from the intake port 11 e in the suction head 11. At this time, as shown in FIG. 16, the suction by the suction head 11 is released, and the solder ball 300 is placed on the flux applied to the terminal 401 of the substrate 400. Subsequently, the control unit 6 controls the moving mechanism 14 to move the suction head 11 upward (in the direction of the arrow shown in the figure) and then transport it to the initial position as shown in the figure. Let Thus, the mounting of the solder balls 300 on the terminals 401 on the substrate 400 is completed. Next, the substrate 400 on which the mounting of the solder balls 300 is completed is moved from the suction platform 73 of the third transport mechanism 43 to the stock location by a take-out device (not shown). Subsequently, the moving mechanism 74 of the third transport mechanism 43 moves the stage 71 from the mounting position P2 to the delivery position P6 (returns to the initial position).

一方、制御部6は、上記した搭載処理が実行されている間に、次の基板400に対する第1搬送処理を第1搬送機構41に開始させ、次いで、その基板400に対するに塗布処理を塗布部3に実行させる。つまり、この半田ボール搭載装置1では、塗布処理を搭載処理と並行して行うことが可能となっている。このため、第3搬送機構43の吸着台73(ステージ71)が受け渡し位置P6において長時間待機させられることなく、次の基板400が吸着台73に載置される。また、制御部6は、次の基板400に対する第1搬送処理の開始から所定時間が経過した時点で、次の基板400に対する搭載処理(吸着処理、供給処理および除去処理)を搭載部2に開始させる。このため、この半田ボール搭載装置1では、次の基板400が搭載位置P2に搬送されるまでの間に吸着処理、供給処理および除去処理を完了(またはほぼ完了)させることができるため、第3搬送機構43の吸着台73が搭載位置P2において待機する時間を短縮することが可能となっている。したがって、この半田ボール搭載装置1では、1つの基板400当たりの処理時間を十分に短縮することができる結果、生産性を十分に向上させることが可能となっている。以下、制御部6は、搭載部2、塗布部3、搬送部4および検出部5に対して上記の各処理を実行させることにより、基板400に対する半田ボール300の搭載を連続して行う。   On the other hand, the control unit 6 causes the first transport mechanism 41 to start the first transport process for the next substrate 400 while the mounting process described above is being performed, and then performs the coating process on the substrate 400. 3 is executed. That is, in this solder ball mounting apparatus 1, the coating process can be performed in parallel with the mounting process. Therefore, the next substrate 400 is placed on the suction platform 73 without the suction platform 73 (stage 71) of the third transport mechanism 43 being kept on standby for a long time at the delivery position P6. In addition, the control unit 6 starts the mounting process (adsorption processing, supply processing, and removal processing) for the next substrate 400 to the mounting unit 2 when a predetermined time has elapsed from the start of the first transport processing for the next substrate 400. Let For this reason, in this solder ball mounting apparatus 1, the suction process, the supply process, and the removal process can be completed (or almost completed) until the next substrate 400 is transported to the mounting position P2. It is possible to shorten the time that the suction stand 73 of the transport mechanism 43 waits at the mounting position P2. Therefore, in this solder ball mounting apparatus 1, it is possible to sufficiently shorten the processing time per one substrate 400, and as a result, it is possible to sufficiently improve productivity. Hereinafter, the control unit 6 causes the mounting unit 2, the application unit 3, the transport unit 4, and the detection unit 5 to perform the above-described processes, thereby continuously mounting the solder balls 300 on the substrate 400.

このように、この吸着台53および半田ボール搭載装置1によれば、上面81a側に吸気口81hが形成された基体部81と、通気性を有して吸気口81hを覆うように基体部81の上面81a側に配置されるシート体82と、複数の通気孔83cが形成されると共にシート体82を挟んで上面81a側に配置される吸着板83とを備えて吸着台53を構成したことにより、硬質で研磨加工に長い時間を必要とするセラミックを用いることなく基板400を確実に吸着して保持することができる。このため、この吸着台53および半田ボール搭載装置1によれば、基体部81および吸着板83を研磨加工の容易なアルミニウムで形成することで、基体部81の上面81a、吸着板83の一面83aおよび吸着板83の他面83bを短時間で研磨することができるため、研磨加工のコストが低減する分、吸着台53ひいては半田ボール搭載装置1の製作コストを十分に低減することができる。また、この吸着台53および半田ボール搭載装置1によれば、長期間の使用によってシート体82が目詰りしたとしても、研磨加工の必要な基体部81および吸着板83を交換することなく、シート体82のみを交換するだけで済むため、ランニングコストを十分に低く抑えることができる。   As described above, according to the suction table 53 and the solder ball mounting device 1, the base portion 81 having the air inlet 81h formed on the upper surface 81a side and the base portion 81 so as to cover the air inlet 81h with air permeability. The suction table 53 is configured to include a sheet body 82 disposed on the upper surface 81a side and a suction plate 83 formed with a plurality of vent holes 83c and disposed on the upper surface 81a side with the sheet body 82 interposed therebetween. Thus, the substrate 400 can be reliably adsorbed and held without using a hard ceramic that requires a long time for polishing. For this reason, according to the suction table 53 and the solder ball mounting device 1, the base portion 81 and the suction plate 83 are formed of aluminum which is easy to polish, whereby the upper surface 81a of the base portion 81 and the one surface 83a of the suction plate 83 are formed. In addition, since the other surface 83b of the suction plate 83 can be polished in a short time, the manufacturing cost of the suction table 53 and thus the solder ball mounting device 1 can be sufficiently reduced by the amount of the polishing process. Further, according to the suction table 53 and the solder ball mounting device 1, even if the sheet body 82 is clogged due to long-term use, the sheet portion 82 and the suction plate 83 that need to be polished can be replaced without replacing the sheet body 82. Since only the body 82 needs to be replaced, the running cost can be kept sufficiently low.

また、この吸着台53および半田ボール搭載装置1によれば、シート体82を嵌め込み可能な凹部81cを基体部81の上面81aに形成したことにより、基体部81の上面81aと吸着板83の一面83aとを密着させることができるため、両面を高精度に平坦化させることで、吸着板83に載置された基板400の傾斜を確実に回避することができる。   Further, according to the suction table 53 and the solder ball mounting device 1, the concave portion 81 c into which the sheet body 82 can be fitted is formed on the upper surface 81 a of the base portion 81, whereby the upper surface 81 a of the base portion 81 and one surface of the suction plate 83. 83a can be brought into intimate contact with each other, and the inclination of the substrate 400 placed on the suction plate 83 can be reliably avoided by flattening both surfaces with high accuracy.

また、この吸着台53および半田ボール搭載装置1によれば、導電性材料で吸着板83を形成したことにより、例えば、裏側に端子401が形成されている基板400に対して半田ボール300を搭載する際に、裏側の端子401を吸着板83を介して基準電位(グランド電位)に接続することで、基板400の帯電を防止することができる。   In addition, according to the suction table 53 and the solder ball mounting device 1, since the suction plate 83 is formed of a conductive material, for example, the solder ball 300 is mounted on the substrate 400 on which the terminal 401 is formed on the back side. In doing so, charging of the substrate 400 can be prevented by connecting the terminal 401 on the back side to the reference potential (ground potential) via the suction plate 83.

なお、吸着板83をアルミニウムで形成した例について上記したが、他の金属で形成することもできる。また、金属以外の他の導電性材料(例えば、導電性樹脂)で形成した吸着板83を採用することもできる。さらに、非導電性材料で形成した吸着板83を採用することもできる。この場合、この半田ボール搭載装置1では、基体部81、シート体82および吸着板83によって吸着台53が構成されているため、導電性材料で形成された吸着板83、および非導電性材料で形成された吸着板83のいずれか一方を用いることができる。このため、基板400における端子401同士の絶縁の要否などに応じて、吸着板83を交換することで、各種の基板400に対応させることができる。   In addition, although it mentioned above about the example which formed the adsorption | suction board 83 with aluminum, it can also form with another metal. Moreover, the adsorption | suction board 83 formed with other electroconductive materials (for example, electroconductive resin) other than a metal is also employable. Furthermore, an adsorption plate 83 formed of a non-conductive material can be employed. In this case, in the solder ball mounting apparatus 1, since the suction base 53 is configured by the base portion 81, the sheet body 82, and the suction plate 83, the suction plate 83 formed of a conductive material and a non-conductive material are used. Any one of the formed suction plates 83 can be used. For this reason, it is possible to correspond to various substrates 400 by exchanging the suction plate 83 according to the necessity of insulation between the terminals 401 on the substrate 400 or the like.

また、シート体82を嵌め込み可能な凹部81cを基体部81の上面81aにのみ形成した構成例について上記したが、シート体82を嵌め込み可能な凹部を吸着板83の一面83aに形成する構成や、基体部81の上面81aおよび吸着板83の一面83aの双方にこのような凹部を形成する構成を採用することもできる。   Further, the configuration example in which the concave portion 81c into which the sheet body 82 can be fitted is formed only on the upper surface 81a of the base body 81, but the configuration in which the concave portion into which the sheet body 82 can be fitted is formed on the one surface 83a of the suction plate 83, A configuration in which such a concave portion is formed on both the upper surface 81a of the base portion 81 and the one surface 83a of the suction plate 83 may be employed.

1 半田ボール搭載装置
2 搭載部
53 吸着台
81 基体部
81a 上面
81c 凹部
81h 吸気口
82 シート体
83 吸着板
83a 一面
83b 他面
83c 通気孔
300 半田ボール
400 基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Solder ball mounting apparatus 2 Mounting part 53 Suction stand 81 Base part 81a Upper surface 81c Recessed part 81h Air inlet 82 Sheet body 83 Suction plate 83a One side 83b Other side 83c Vent hole 300 Solder ball 400 Substrate

Claims (5)

吸着対象体を吸着して保持する吸着台であって、
上面側に吸気口が形成された板状の基体部と、通気性を有して前記吸気口を覆うように前記基体部の前記上面側に配置されるシート体と、厚み方向に貫通する複数の通気孔が形成されると共に一面が前記上面に対向するように前記シート体を挟んで当該上面側に配置される吸着板とを備え、前記吸着板を前記上面側に配置した状態において前記シート体を介して前記吸気口と前記通気孔とが連通し、前記吸気口から吸気して前記吸着板の他面に載置された前記吸着対象体を吸着して保持する吸着台。
An adsorption platform for adsorbing and holding an adsorption object,
A plate-like base portion having an air inlet formed on the upper surface side, a sheet body disposed on the upper surface side of the base portion so as to cover the air inlet with air permeability, and a plurality of holes penetrating in the thickness direction And a suction plate disposed on the upper surface side of the sheet body so that one surface faces the upper surface, and the suction plate is disposed on the upper surface side in the state where the suction plate is disposed on the upper surface side. A suction stand for communicating the suction port and the vent hole through a body, sucking from the suction port, and sucking and holding the suction target object placed on the other surface of the suction plate.
前記シート体を嵌め込み可能な凹部が前記基体部の前記上面および前記吸着板の前記一面の少なくとも一方に形成されている請求項1記載の吸着台。   The suction stand according to claim 1, wherein a concave portion into which the sheet body can be fitted is formed on at least one of the upper surface of the base portion and the one surface of the suction plate. 前記吸着板は、導電性材料で形成されている請求項1または2記載の吸着台。   The suction table according to claim 1, wherein the suction plate is made of a conductive material. 前記吸着板は、非導電性材料で形成されている請求項1または2記載の吸着台。   The suction table according to claim 1, wherein the suction plate is made of a non-conductive material. 請求項1から4のいずれかに記載の吸着台と、当該吸着台によって保持されている前記吸着対象体としての搭載対象体に球状体を搭載する搭載部とを備えている球状体搭載装置。   A spherical body mounting apparatus comprising: the suction table according to any one of claims 1 to 4; and a mounting unit for mounting the spherical body on the mounting target body as the suction target body held by the suction base.
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