JP2011034849A - Organic el device - Google Patents

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Nobuo Imai
信雄 今井
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Japan Display Central Inc
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Toshiba Mobile Display Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL device having an excellent display quality. <P>SOLUTION: The organic EL device includes: an insulating substrate; a pixel electrode arranged above the insulating substrate; a barrier rib arranged around the pixel electrode; a dividing layer arranged above the pixel electrode and dividing the pixel electrode exposed from the barrier rib into a plurality of regions; an organic layer arranged above the pixel electrode and the dividing layer; and a counter electrode arranged above the organic layer. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス(EL)装置に関する。   The present invention relates to an organic electroluminescence (EL) device.

近年、自発光型で、高速応答、広視野角、高コントラストの特徴を有し、かつ、更に薄型軽量化が可能な有機エレクトロルミネセンス(EL)素子を用いた表示装置の開発が盛んに行われている。   In recent years, active development of display devices using organic electroluminescence (EL) elements that are self-luminous, have high-speed response, wide viewing angle, high contrast, and can be made thinner and lighter. It has been broken.

例えば、特許文献1によれば、異物が存在することに起因した電極間のショートにより発光不良が発生した場合に、発光不良が発生した有機発光素子内の異物を検出し、異物を囲む領域にレーザーを照射して少なくとも一方の電極を除去する有機発光装置のリペア方法及び製造方法に関する技術が開示されている。   For example, according to Patent Document 1, when a light emission failure occurs due to a short circuit between electrodes due to the presence of foreign matter, the foreign matter in the organic light emitting element in which the light emission failure has occurred is detected, and the region surrounding the foreign matter is detected. A technique relating to a repair method and a manufacturing method of an organic light emitting device in which at least one electrode is removed by laser irradiation is disclosed.

特開2009−16195号公報JP 2009-16195 A

本発明の目的は、表示品位の良好な有機EL装置を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an organic EL device with good display quality.

本発明の一態様によれば、
絶縁基板と、
前記絶縁基板の上方に配置された画素電極と、
前記画素電極の周囲に配置された隔壁と、
前記画素電極の上に配置され、前記隔壁から露出した前記画素電極を複数の領域に分割する分割層と、
前記画素電極及び前記分割層の上に配置された有機層と、
前記有機層の上に配置された対向電極と、
を備えたことを特徴とする有機EL装置が提供される。
According to one aspect of the invention,
An insulating substrate;
A pixel electrode disposed above the insulating substrate;
Barrier ribs arranged around the pixel electrode;
A dividing layer disposed on the pixel electrode and dividing the pixel electrode exposed from the partition wall into a plurality of regions;
An organic layer disposed on the pixel electrode and the divided layer;
A counter electrode disposed on the organic layer;
An organic EL device characterized by comprising:

また、本発明の一態様によれば、
絶縁基板と、
前記絶縁基板の上方に配置された画素電極と、
前記画素電極の周囲に配置された隔壁と、
前記隔壁に接続されるとともに前記画素電極の上に配置され、前記隔壁から露出した前記画素電極を前記隔壁との間で複数の領域に分割する分割層と、
前記画素電極及び前記分割層の上に配置された有機層と、
前記有機層及び前記隔壁を覆う対向電極と、
前記有機層及び前記対向電極がループ状に欠落し、前記分割層の一部を露出する溝と、
を備えたことを特徴とする有機EL装置が提供される。
According to one embodiment of the present invention,
An insulating substrate;
A pixel electrode disposed above the insulating substrate;
Barrier ribs arranged around the pixel electrode;
A dividing layer connected to the partition wall and disposed on the pixel electrode and dividing the pixel electrode exposed from the partition wall into a plurality of regions with the partition wall;
An organic layer disposed on the pixel electrode and the divided layer;
A counter electrode covering the organic layer and the partition;
The organic layer and the counter electrode are missing in a loop shape, a groove exposing a part of the divided layer,
An organic EL device characterized by comprising:

本発明によれば、表示品位の良好な有機EL装置を提供することができる。   According to the present invention, an organic EL device with good display quality can be provided.

図1は、本発明の一態様に係る有機EL装置の構成を概略的に示す平面図である。FIG. 1 is a plan view schematically showing a configuration of an organic EL device according to one embodiment of the present invention. 図2は、本実施形態における有機EL表示装置の有機EL素子を含むアレイ基板の概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of an array substrate including an organic EL element of the organic EL display device according to this embodiment. 図3は、図2に示した分割層のレイアウト例を概略的に示す平面図である。FIG. 3 is a plan view schematically showing a layout example of the divided layers shown in FIG. 図4は、図2に示した分割層の他のレイアウト例を概略的に示す平面図である。FIG. 4 is a plan view schematically showing another layout example of the divided layers shown in FIG. 図5は、図2に示した分割層の他のレイアウト例を概略的に示す平面図である。FIG. 5 is a plan view schematically showing another layout example of the divided layers shown in FIG. 図6は、図2に示した分割層の他のレイアウト例を概略的に示す平面図である。FIG. 6 is a plan view schematically showing another layout example of the divided layers shown in FIG. 図7は、図2に示した分割層の他のレイアウト例を概略的に示す平面図である。FIG. 7 is a plan view schematically showing another layout example of the divided layers shown in FIG. 図8は、異物混入に起因した画素電極−対向電極間ショートのリペアを説明するための平面図である。FIG. 8 is a plan view for explaining the repair of the short-circuit between the pixel electrode and the counter electrode due to the contamination with foreign matter. 図9は、図8に示した有機EL素子をA−A線で切断したときの構造を概略的に示す断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view schematically showing a structure when the organic EL element shown in FIG. 8 is cut along line AA. 図10は、混色不良のリペアを説明するための平面図である。FIG. 10 is a plan view for explaining the repair of the color mixing failure. 図11は、図10に示した第1有機EL素子及び第2有機EL素子をB−B線で切断したときの構造を概略的に示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view schematically showing a structure when the first organic EL element and the second organic EL element shown in FIG. 10 are cut along a BB line.

以下、本発明の一態様について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。   Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In each figure, the same reference numerals are given to components that exhibit the same or similar functions, and duplicate descriptions are omitted.

図1は、有機EL装置の一例として、アクティブマトリクス駆動方式を採用した有機EL表示装置の構成を概略的に示す平面図である。   FIG. 1 is a plan view schematically showing a configuration of an organic EL display device adopting an active matrix driving method as an example of an organic EL device.

すなわち、有機EL装置は、表示パネル1を備えている。この表示パネル1は、アレイ基板100及び封止基板200を備えている。アレイ基板100は、画像を表示する略矩形状のアクティブエリア102において、マトリクス状に配置された複数の有機EL素子OLEDを備えている。封止基板200は、アクティブエリア102において、アレイ基板100の有機EL素子OLEDと向かい合っている。この封止基板200は、ガラスやプラスチックなどの光透過性を有する絶縁基板である。   That is, the organic EL device includes the display panel 1. The display panel 1 includes an array substrate 100 and a sealing substrate 200. The array substrate 100 includes a plurality of organic EL elements OLED arranged in a matrix in an approximately rectangular active area 102 for displaying an image. The sealing substrate 200 faces the organic EL element OLED of the array substrate 100 in the active area 102. The sealing substrate 200 is an insulating substrate having optical transparency such as glass or plastic.

これらのアレイ基板100及び封止基板200は、アクティブエリア102を囲む枠状に形成されたシール部材300によって貼り合わせされている。シール部材300は、例えば、紫外線硬化型樹脂などの有機系材料や、フリットガラスによって形成されている。シール部材300が有機系材料によって形成されている場合には、アレイ基板100と封止基板200との間のシール部材300によって囲まれた内側に樹脂層が充填されても良い。この場合、充填される樹脂層は、例えば、紫外線硬化型樹脂などの光透過性を有する有機系材料によって形成可能である。   The array substrate 100 and the sealing substrate 200 are bonded together by a seal member 300 formed in a frame shape surrounding the active area 102. The seal member 300 is made of, for example, an organic material such as an ultraviolet curable resin or frit glass. When the seal member 300 is formed of an organic material, the resin layer may be filled inside the array member 100 and the sealing substrate 200 surrounded by the seal member 300. In this case, the resin layer to be filled can be formed of, for example, an organic material having optical transparency such as an ultraviolet curable resin.

また、アレイ基板100は、アクティブエリア102の外側の周辺エリア104において、封止基板200の端部200Eから外方に向かって延在した延在部110を備えている。この延在部110には、駆動部130が設けられている。この駆動部130には、有機EL素子OLEDに電源や各種制御信号などの有機EL素子OLEDを駆動するのに必要な信号を供給する駆動ICチップやフレキシブル・プリンテッド・サーキット(以下、FPCと称する)などの信号供給源が接続可能である。   In addition, the array substrate 100 includes an extending portion 110 that extends outward from the end portion 200E of the sealing substrate 200 in the peripheral area 104 outside the active area 102. The extending part 110 is provided with a driving part 130. The driving unit 130 includes a driving IC chip and a flexible printed circuit (hereinafter referred to as FPC) that supply signals necessary for driving the organic EL element OLED such as a power source and various control signals to the organic EL element OLED. A signal supply source such as) can be connected.

図2は、有機EL装置の有機EL素子OLEDを備えたアレイ基板100の断面図である。   FIG. 2 is a cross-sectional view of the array substrate 100 including the organic EL element OLED of the organic EL device.

このアレイ基板100は、ガラスなどの絶縁基板101、絶縁基板101の上方に形成されたスイッチング素子SW、有機EL素子OLEDなどを備えている。絶縁基板101の上には、アンダーコート層111が配置されている。このアンダーコート層111は、例えば、シリコン酸化物やシリコン窒化物などの無機系材料によって形成されている。このようなアンダーコート層111は、アクティブエリア102の概ね全体に亘って延在している。   The array substrate 100 includes an insulating substrate 101 such as glass, a switching element SW formed above the insulating substrate 101, an organic EL element OLED, and the like. An undercoat layer 111 is disposed on the insulating substrate 101. The undercoat layer 111 is made of an inorganic material such as silicon oxide or silicon nitride, for example. Such an undercoat layer 111 extends over substantially the entire active area 102.

アンダーコート層111の上には、スイッチング素子SWの半導体層SCが配置されている。この半導体層SCは、例えばポリシリコンによって形成されている。この半導体層SCには、チャネル領域SCCを挟んでソース領域SCS及びドレイン領域SCDが形成されている。   On the undercoat layer 111, the semiconductor layer SC of the switching element SW is disposed. The semiconductor layer SC is made of, for example, polysilicon. In the semiconductor layer SC, a source region SCS and a drain region SCD are formed with a channel region SCC interposed therebetween.

半導体層SCは、ゲート絶縁膜112によって被覆されている。また、ゲート絶縁膜112は、アンダーコート層111の上にも配置されている。このゲート絶縁膜112は、例えば、シリコン酸化物やシリコン窒化物などの無機系材料によって形成されている。このようなゲート絶縁膜112は、アクティブエリア102の概ね全体に亘って延在している。   The semiconductor layer SC is covered with a gate insulating film 112. The gate insulating film 112 is also disposed on the undercoat layer 111. The gate insulating film 112 is formed of an inorganic material such as silicon oxide or silicon nitride, for example. Such a gate insulating film 112 extends over substantially the entire active area 102.

ゲート絶縁膜112の上には、チャネル領域SCCの直上にスイッチング素子SWのゲート電極Gが配置されている。この例では、スイッチング素子SWは、トップゲート型のpチャネル薄膜トランジスタである。このゲート電極Gは、パッシベーション膜113によって被覆されている。また、パッシベーション膜113は、ゲート絶縁膜112の上にも配置されている。このパッシベーション膜113は、例えば、シリコン酸化物やシリコン窒化物などの無機系材料によって形成されている。このようなパッシベーション膜113は、アクティブエリア102の概ね全体に亘って延在している。   On the gate insulating film 112, the gate electrode G of the switching element SW is disposed immediately above the channel region SCC. In this example, the switching element SW is a top gate type p-channel thin film transistor. The gate electrode G is covered with a passivation film 113. The passivation film 113 is also disposed on the gate insulating film 112. The passivation film 113 is made of, for example, an inorganic material such as silicon oxide or silicon nitride. Such a passivation film 113 extends over substantially the entire active area 102.

パッシベーション膜113の上には、スイッチング素子SWのソース電極S及びドレイン電極Dが配置されている。ソース電極Sは、半導体層SCのソース領域SCSにコンタクトしている。ドレイン電極Dは、半導体層SCのドレイン領域SCDにコンタクトしている。スイッチング素子SWのゲート電極G、ソース電極S、及び、ドレイン電極Dは、モリブデン(Mo)、タングステン(W)、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)などの導電材料を用いて形成されている。   On the passivation film 113, the source electrode S and the drain electrode D of the switching element SW are disposed. The source electrode S is in contact with the source region SCS of the semiconductor layer SC. The drain electrode D is in contact with the drain region SCD of the semiconductor layer SC. The gate electrode G, the source electrode S, and the drain electrode D of the switching element SW are formed using a conductive material such as molybdenum (Mo), tungsten (W), aluminum (Al), or titanium (Ti).

ソース電極S及びドレイン電極Dは、絶縁膜114によって被覆されている。また、絶縁膜114は、パッシベーション膜113の上にも配置されている。このような絶縁膜114は、例えば、紫外線硬化型樹脂や熱硬化型樹脂などの有機系材料や、各種無機系材料などによって形成されている。また、このような絶縁膜114は、アクティブエリア102の全体に亘って延在している。   The source electrode S and the drain electrode D are covered with an insulating film 114. The insulating film 114 is also disposed on the passivation film 113. Such an insulating film 114 is formed of, for example, an organic material such as an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin, or various inorganic materials. Further, such an insulating film 114 extends over the entire active area 102.

有機EL素子OLEDを構成する画素電極PEは、絶縁膜114の上に配置されている。画素電極PEは、スイッチング素子SWのドレイン電極Dに接続されている。この画素電極PEは、この例では陽極に相当する。   The pixel electrode PE constituting the organic EL element OLED is disposed on the insulating film 114. The pixel electrode PE is connected to the drain electrode D of the switching element SW. The pixel electrode PE corresponds to an anode in this example.

この画素電極PEは、反射電極PER及び透過電極PETが積層された2層構造である。つまり、反射電極PERは、絶縁膜114の上に配置されている。また、透過電極PETは、反射電極PERの上に配置されている。反射電極PERは、例えば、銀(Ag)、アルミニウム(Al)などの光反射性を有する導電材料によって形成されている。透過電極PETは、例えば、インジウム・ティン・オキサイド(ITO)、インジウム・ジンク・オキサイド(IZO)などの光透過性を有する導電材料によって形成されている。なお、画素電極PEは、上述した2層構造に限らず、3層以上の積層構造であっても良いし、反射電極PER単層であっても良いし、透過電極PET単層であっても良い。マイクロキャビティ構造を採用する場合には、画素電極PEは、反射電極PERを含む。   The pixel electrode PE has a two-layer structure in which a reflective electrode PER and a transmissive electrode PET are stacked. That is, the reflective electrode PER is disposed on the insulating film 114. The transmissive electrode PET is disposed on the reflective electrode PER. The reflective electrode PER is formed of a conductive material having light reflectivity such as silver (Ag) or aluminum (Al). The transmissive electrode PET is formed of a conductive material having optical transparency such as indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO). Note that the pixel electrode PE is not limited to the above-described two-layer structure, and may be a laminated structure of three or more layers, a reflective electrode PER single layer, or a transmissive electrode PET single layer. good. When the microcavity structure is employed, the pixel electrode PE includes a reflective electrode PER.

絶縁膜114の上には、隔壁PIが配置されている。この隔壁PIは、画素電極PEの周囲に配置されている。また、この隔壁PIは、画素電極PEの一部に重なっている。このような隔壁PIは、例えば、紫外線硬化型樹脂や熱硬化型樹脂などの有機系材料や、各種無機系材料などによって形成されている。この隔壁PIは、側面PISと、上面PITとを有している。   A partition wall PI is disposed on the insulating film 114. The partition wall PI is disposed around the pixel electrode PE. Further, the partition wall PI overlaps with a part of the pixel electrode PE. Such a partition wall PI is formed of, for example, an organic material such as an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin, or various inorganic materials. The partition wall PI has a side surface PIS and an upper surface PIT.

隔壁PIから露出した画素電極PEの上には、分割層120が配置されている。この分割層120は、画素電極PEを複数の領域に分割するものであり、図2に示した例では、分割層120と隔壁PIとの間に2つの領域A1及びA2が形成されている。これらの領域A1及びA2では、画素電極PEが隔壁PI及び分割層120から露出している。   The division layer 120 is disposed on the pixel electrode PE exposed from the partition wall PI. The dividing layer 120 divides the pixel electrode PE into a plurality of regions. In the example shown in FIG. 2, two regions A1 and A2 are formed between the dividing layer 120 and the partition wall PI. In these regions A1 and A2, the pixel electrode PE is exposed from the partition wall PI and the dividing layer 120.

このような分割層120は、隔壁PIと同一材料によって形成可能であり、例えば、紫外線硬化型樹脂や熱硬化型樹脂などの有機系材料や、各種無機系材料などの絶縁材料によって形成されている。特に、有機系材料を用いた場合には、ハーフトーンマスクを利用したフォトリソグラフィプロセスにより、隔壁PIと分割層120とを一括して形成することが可能である。このため、分割層120を形成するための別途の工程が不要である。この分割層120の構造については、後に詳細に説明する。   Such a dividing layer 120 can be formed of the same material as the partition wall PI, and is formed of, for example, an organic material such as an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin, or an insulating material such as various inorganic materials. . In particular, when an organic material is used, the partition walls PI and the divided layers 120 can be formed at a time by a photolithography process using a halftone mask. For this reason, the separate process for forming the division | segmentation layer 120 is unnecessary. The structure of the divided layer 120 will be described in detail later.

有機EL素子OLEDを構成する有機層ORGは、画素電極PEの上に配置されている。また、この有機層ORGは、分割層120の上にも配置されている。つまり、有機層ORGは、画素電極PE及び分割層120を覆っている。換言すると、分割層120は、画素電極PEと有機層ORGとの間に配置されている。さらに、この有機層ORGは、隔壁PIの上、特に隔壁PIの側面PISを覆うように配置されているが、隔壁PIの上面PITの少なくとも一部は露出している。   The organic layer ORG constituting the organic EL element OLED is arranged on the pixel electrode PE. The organic layer ORG is also disposed on the dividing layer 120. That is, the organic layer ORG covers the pixel electrode PE and the division layer 120. In other words, the division layer 120 is disposed between the pixel electrode PE and the organic layer ORG. Further, the organic layer ORG is disposed on the partition wall PI, particularly so as to cover the side surface PIS of the partition wall PI, but at least a part of the upper surface PIT of the partition wall PI is exposed.

このような有機層ORGは、少なくとも発光層を含み、さらに、ホール注入層、ホール輸送層、電子注入層、電子輸送層などを含んでも良い。有機層ORGの材料については、蛍光材料を含んでいても良いし、燐光材料を含んでいても良い。   Such an organic layer ORG includes at least a light emitting layer, and may further include a hole injection layer, a hole transport layer, an electron injection layer, an electron transport layer, and the like. The material of the organic layer ORG may include a fluorescent material or a phosphorescent material.

有機EL素子OLEDを構成する対向電極CEは、有機層ORGの上に配置されている。また、対向電極CEは、隔壁PIの上にも配置されている。つまり、対向電極CEは、有機層ORG及び隔壁PIを覆っている。この例では、対向電極CEは、陰極に相当する。   The counter electrode CE constituting the organic EL element OLED is arranged on the organic layer ORG. The counter electrode CE is also disposed on the partition wall PI. That is, the counter electrode CE covers the organic layer ORG and the partition wall PI. In this example, the counter electrode CE corresponds to a cathode.

このような対向電極CEは、例えば、ITOやIZOなどの導電材料によって形成された透過層や、マグネシウム・銀などによって形成された半透過層によって構成されている。マイクロキャビティ構造を採用する場合には、対向電極CEは、半透過層を含む。このような対向電極CEは、アクティブエリア102の全体に亘って延在している。   Such a counter electrode CE is composed of, for example, a transmissive layer formed of a conductive material such as ITO or IZO, or a semi-transmissive layer formed of magnesium / silver or the like. When the microcavity structure is employed, the counter electrode CE includes a semi-transmissive layer. Such a counter electrode CE extends over the entire active area 102.

隔壁PIによって囲まれた内側の領域は、実質的に発光領域EAに相当する。すなわち、発光領域EAでは、画素電極PEが隔壁PIから露出しており、画素電極PEの上に有機層ORGが積層され、さらに有機層ORGの上に対向電極CEが積層されている。このため、画素電極PEと対向電極CEとの間を電流が流れ、有機層ORGにおいて発光可能となる。   The inner area surrounded by the partition wall PI substantially corresponds to the light emitting area EA. That is, in the light emitting area EA, the pixel electrode PE is exposed from the partition wall PI, the organic layer ORG is stacked on the pixel electrode PE, and the counter electrode CE is stacked on the organic layer ORG. For this reason, a current flows between the pixel electrode PE and the counter electrode CE, and light emission is possible in the organic layer ORG.

なお、分割層120が配置された領域では、画素電極PEと有機層ORGとの間に絶縁材料からなる分割層120が介在しているため、電流のパスがなく、有機層ORGにおいて発光しない。   In the region where the dividing layer 120 is disposed, since the dividing layer 120 made of an insulating material is interposed between the pixel electrode PE and the organic layer ORG, there is no current path and no light is emitted from the organic layer ORG.

図3は、分割層120のレイアウト例を概略的に示す平面図である。なお、この図3においては、説明に必要な主要部のみを図示している。   FIG. 3 is a plan view schematically showing a layout example of the division layer 120. In FIG. 3, only the main parts necessary for explanation are shown.

発光領域EAは、略長方形状であり、第1方向Xに平行な一対の長辺L1及びL2と、第1方向Xに直交する第2方向Yに平行な一対の短辺S1及びS2と、を有している。これらの長辺L1及びL2、及び、短辺S1及びS2は、隔壁PIと画素電極PEとの境界に相当する。   The light emitting area EA has a substantially rectangular shape, a pair of long sides L1 and L2 parallel to the first direction X, a pair of short sides S1 and S2 parallel to the second direction Y orthogonal to the first direction X, have. The long sides L1 and L2 and the short sides S1 and S2 correspond to the boundary between the partition wall PI and the pixel electrode PE.

分割層120は、十字型に形成され、発光領域EAの各辺L1及びL2及びS1及びS2において、隔壁PIと接続されている。すなわち、分割層120は、第1方向Xに平行な第1分割部121、及び、第2方向Yに平行で且つ発光領域EAの略中央で第1分割部121と交差する第2分割部122を有している。これらの第1分割部121及び第2分割部122は、ともに直線状に形成されている。   The dividing layer 120 is formed in a cross shape, and is connected to the partition wall PI at each side L1 and L2 and S1 and S2 of the light emitting area EA. That is, the dividing layer 120 includes a first dividing unit 121 parallel to the first direction X, and a second dividing unit 122 that is parallel to the second direction Y and intersects the first dividing unit 121 at the approximate center of the light emitting area EA. have. Both of these first division part 121 and second division part 122 are linearly formed.

第1分割部121の両端は、短辺S1及びS2にそれぞれ接続されている。第2分割部122の両端は、長辺L1及びL2にそれぞれ接続されている。これにより、画素電極PEは、4つの領域A1乃至A4に分割されている。これらの第1分割部121及び第2分割部122は、領域A1乃至A4が略同等の面積となるように形成されることが望ましい。   Both ends of the first division unit 121 are connected to the short sides S1 and S2, respectively. Both ends of the second division unit 122 are connected to the long sides L1 and L2, respectively. Thereby, the pixel electrode PE is divided into four regions A1 to A4. The first divided portion 121 and the second divided portion 122 are preferably formed so that the areas A1 to A4 have substantially the same area.

なお、分割層120は、第1方向Xに平行な分割部を複数個有し、また、第2方向Yに平行な分割部を複数個有していても良い。これにより、画素電極PEは、より多くの領域に分割可能となる。   The dividing layer 120 may have a plurality of dividing portions parallel to the first direction X, and may have a plurality of dividing portions parallel to the second direction Y. Thereby, the pixel electrode PE can be divided into more regions.

図4乃至図7は、分割層120の他のレイアウト例を概略的に示す平面図である。なお、図3に示したレイアウト例と同一の構成については同一の参照符号を付して詳細な説明を省略する。   4 to 7 are plan views schematically showing other layout examples of the dividing layer 120. FIG. The same components as those in the layout example shown in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図4に示した例では、分割層120は、第2方向Yに平行な第1分割部121、及び、この第1分割部121から離間しているとともに第1分割部121と平行な第2分割部122を有している。これらの第1分割部121及び第2分割部122は、ともに直線状に形成されている。   In the example shown in FIG. 4, the divided layer 120 includes a first divided portion 121 parallel to the second direction Y, and a second separated from the first divided portion 121 and parallel to the first divided portion 121. A division unit 122 is included. Both of these first division part 121 and second division part 122 are linearly formed.

これらの第1分割部121及び第2分割部122の両端は、それぞれ長辺L1及びL2に接続されている。これにより、画素電極PEは、3つの領域A1乃至A3に分割されている。これらの第1分割部121及び第2分割部122は、領域A1乃至A3が略同等の面積となるように形成されることが望ましい。   Both ends of the first dividing unit 121 and the second dividing unit 122 are connected to the long sides L1 and L2, respectively. Thereby, the pixel electrode PE is divided into three regions A1 to A3. The first divided portion 121 and the second divided portion 122 are preferably formed so that the areas A1 to A3 have substantially the same area.

なお、分割層120は、第2方向Yに平行な分割部を1個のみ有していても良いし、3個以上有していても良い。分割部の数が多いほど、画素電極PEはより多くの領域に分割可能となる。   The dividing layer 120 may have only one dividing portion parallel to the second direction Y, or may have three or more. As the number of divided portions increases, the pixel electrode PE can be divided into more regions.

図5に示した例では、分割層120は、第1方向Xに平行な第1分割部121、及び、この第1分割部121から離間しているとともに第1分割部121と平行な第2分割部122を有している。これらの第1分割部121及び第2分割部122は、ともに直線状に形成されている。   In the example illustrated in FIG. 5, the divided layer 120 includes a first divided portion 121 parallel to the first direction X, and a second separated from the first divided portion 121 and parallel to the first divided portion 121. A division unit 122 is included. Both of these first division part 121 and second division part 122 are linearly formed.

これらの第1分割部121及び第2分割部122の両端は、それぞれ短辺S1及びS2に接続されている。これにより、画素電極PEは、3つの領域A1乃至A3に分割されている。これらの第1分割部121及び第2分割部122は、領域A1乃至A3が略同等の面積となるように形成されることが望ましい。   Both ends of the first dividing unit 121 and the second dividing unit 122 are connected to the short sides S1 and S2, respectively. Thereby, the pixel electrode PE is divided into three regions A1 to A3. The first divided portion 121 and the second divided portion 122 are preferably formed so that the areas A1 to A3 have substantially the same area.

なお、分割層120は、第1方向Xに平行な分割部を1個のみ有していても良いし、3個以上有していても良い。   The dividing layer 120 may have only one dividing portion parallel to the first direction X, or may have three or more.

図6に示した例では、分割層120は、短辺S1と長辺L1とが交わる角部C1から長辺L2の略中点LMを繋ぐ直線状の第1分割部121、及び、短辺S2と長辺L1とが交わる角部C2から長辺L2の略中点LMを繋ぐ直線状の第2分割部122を有している。これにより、画素電極PEは、3つの領域A1乃至A3に分割されている。領域A2の面積は、他の領域A1及びA3のそれぞれの面積より大きく、ここでは、領域A1の面積及び領域A3の面積の和と同等である。   In the example illustrated in FIG. 6, the divided layer 120 includes a linear first divided portion 121 that connects a corner portion C1 where the short side S1 and the long side L1 intersect with a substantially middle point LM of the long side L2, and a short side. A straight second divided portion 122 that connects a corner portion C2 where S2 and the long side L1 intersect with a substantially middle point LM of the long side L2 is provided. Thereby, the pixel electrode PE is divided into three regions A1 to A3. The area of the area A2 is larger than the areas of the other areas A1 and A3, and here is equivalent to the sum of the area of the area A1 and the area of the area A3.

図7に示した例では、分割層120は、短辺S1と長辺L1とが交わる角部C1から短辺S2の略中点SMを繋ぐ直線状の第1分割部121、及び、短辺S1と長辺L2とが交わる角部C2から短辺S2の略中点SMを繋ぐ直線状の第2分割部122を有している。これにより、画素電極PEは、3つの領域A1乃至A3に分割されている。領域A2の面積は、他の領域A1及びA3のそれぞれの面積より大きく、ここでは、領域A1の面積及び領域A3の面積の和と同等である。   In the example illustrated in FIG. 7, the divided layer 120 includes a linear first divided portion 121 that connects a corner portion C1 where the short side S1 and the long side L1 intersect with a substantially middle point SM of the short side S2, and a short side. A straight second divided portion 122 is provided that connects a corner portion C2 where S1 and the long side L2 intersect to a substantially midpoint SM of the short side S2. Thereby, the pixel electrode PE is divided into three regions A1 to A3. The area of the area A2 is larger than the areas of the other areas A1 and A3, and here is equivalent to the sum of the area of the area A1 and the area of the area A3.

図3乃至図7に示した分割層120の各レイアウト例は、2以上を互いに組み合わせても良い。   Each of the layout examples of the divided layer 120 shown in FIGS. 3 to 7 may be combined with two or more.

次に、有機層ORGに異物が混入し、画素電極PEと対向電極CEとの間のショートが発生した有機EL素子OLEDのリペアについて説明する。   Next, repair of the organic EL element OLED in which a foreign substance is mixed in the organic layer ORG and a short circuit occurs between the pixel electrode PE and the counter electrode CE will be described.

図8は、分割層120として図3に示したレイアウト例を適用した有機EL素子OLEDの平面図である。図8に示した例では、発光領域EAにおける領域A2に異物が混入している。このような状態では、有機EL素子OLEDにおける発光領域EAの全体が発光できない。   FIG. 8 is a plan view of an organic EL element OLED to which the layout example shown in FIG. In the example shown in FIG. 8, foreign matter is mixed in the area A2 in the light emitting area EA. In such a state, the entire light emitting area EA in the organic EL element OLED cannot emit light.

そこで、分割層120及び隔壁PIに向けてレーザーを照射し、異物が混入した領域A2を囲むように、分割層120及び隔壁PIの上に積層された有機層及び対向電極をループ状に除去する。ここでは、領域A2は、隔壁PIと、短辺S2との接続点から第2分割部122との交点までの第1分割部121と、長辺L1との接続点から第1分割部121との交点までの第2分割部122と、によって囲まれている。レーザーは、領域A2を囲むこれらの隔壁PI、第1分割部121、及び、第2分割部122の上を通るループ状に走査し、リペア処理が行われる。これにより、有機層及び対向電極が欠落したループ状の溝GVが形成される。この溝GVからは、隔壁PI、第1分割部121、及び、第2分割部122が露出している。   Therefore, a laser is irradiated toward the divided layer 120 and the partition wall PI, and the organic layer and the counter electrode stacked on the divided layer 120 and the partition wall PI are removed in a loop shape so as to surround the region A2 in which foreign matter is mixed. . Here, the region A2 includes the partition wall PI, the first divided portion 121 from the connection point of the short side S2 to the intersection with the second divided portion 122, and the first divided portion 121 from the connection point of the long side L1. And the second divided portion 122 up to the intersection of the two. The laser scans in a loop shape passing over the partition walls PI, the first division unit 121, and the second division unit 122 surrounding the region A2, and the repair process is performed. Thereby, a loop-shaped groove GV in which the organic layer and the counter electrode are missing is formed. From the groove GV, the partition wall PI, the first divided portion 121, and the second divided portion 122 are exposed.

図9は、リペア後の有機EL素子OLEDを概略的に示す断面図である。なお、図9では、説明に必要な主要部のみを図示している。   FIG. 9 is a cross-sectional view schematically showing the organic EL element OLED after repair. In FIG. 9, only the main parts necessary for the explanation are shown.

絶縁膜114の上に配置された画素電極PEは、隔壁PIと第1分割部121とによって領域A2及びA4とに分割されている。領域A2には異物が混入し、画素電極PEと対向電極CEとがショートしている。リペア後には、隔壁PIの上の対向電極CE、及び、第1分割部121の上の有機層ORG及び対向電極CEが欠落し、溝GVが形成されている。つまり、第1分割部121の一部及び隔壁PIの一部が溝GVから露出することになる。   The pixel electrode PE disposed on the insulating film 114 is divided into regions A2 and A4 by the partition wall PI and the first division unit 121. Foreign matter is mixed in the region A2, and the pixel electrode PE and the counter electrode CE are short-circuited. After the repair, the counter electrode CE on the partition wall PI, the organic layer ORG and the counter electrode CE on the first division part 121 are missing, and the groove GV is formed. That is, a part of the first division part 121 and a part of the partition wall PI are exposed from the groove GV.

溝GVによって囲まれた内側の有機層ORG及び対向電極CEは残留している。しかしながら、溝GVの内側の対向電極(つまり領域A2に対応した対向電極)CEは、溝GVの外側の対向電極(つまり領域A4に対応した対向電極及び隔壁PI上の対向電極)とは分離されている。   The inner organic layer ORG and the counter electrode CE surrounded by the groove GV remain. However, the counter electrode inside the groove GV (that is, the counter electrode corresponding to the region A2) CE is separated from the counter electrode outside the groove GV (that is, the counter electrode corresponding to the region A4 and the counter electrode on the partition wall PI). ing.

このような溝GVの形成により、溝GVによって囲まれた対向電極CEには電位が供給されない。一方で、溝GVの外側の対向電極CEは一続きとなっており、電位が供給可能である。つまり、領域A2は、他の領域A1、A3、及び、A4とは電気的に切り離された状態となる。したがって、領域A2は滅点化される一方で、他の領域A1、A3、及び、A4では、画素電極PEと対向電極CEとの間を正常に電流が流れ、有機層ORGにおいて発光可能となる。つまり、領域A1、A3、及び、A4は、実質的に発光に寄与する領域となる。   Due to the formation of the groove GV, the potential is not supplied to the counter electrode CE surrounded by the groove GV. On the other hand, the counter electrode CE outside the groove GV is continuous and can be supplied with a potential. That is, the region A2 is electrically separated from the other regions A1, A3, and A4. Therefore, while the area A2 is darkened, in the other areas A1, A3, and A4, a current normally flows between the pixel electrode PE and the counter electrode CE, and the organic layer ORG can emit light. . That is, the regions A1, A3, and A4 are regions that substantially contribute to light emission.

上述したように、画素電極PEを複数の領域に分割する分割層120を配置したことにより、異物が混入したことに起因して画素電極PEと対向電極CEとでショートが発生したとしても、異物が混入した領域のみを電気的に切り離して滅点化させることで、他の領域を正常に発光させることができ、リペアが可能となる。したがって、リペア前と比較して、良好な表示品位を実現できる。   As described above, by arranging the dividing layer 120 that divides the pixel electrode PE into a plurality of regions, even if a short circuit occurs between the pixel electrode PE and the counter electrode CE due to the mixing of foreign matter, the foreign matter By electrically disconnecting only the region where is mixed into dark spots, the other regions can emit light normally, and repair is possible. Therefore, it is possible to realize a better display quality than before the repair.

特に、リペアに際して利用されるレーザーは、分割層120及び隔壁PIに沿って走査される。このとき、レーザーを照射する際のターゲットとして分割層120(あるいは、分割層120を配置したことによって形成された発光領域EA内の起伏、あるいは、透過率や反射率の差など)を利用することができ、レーザーの照射精度を向上することが可能となる。   In particular, a laser used for repair is scanned along the dividing layer 120 and the partition wall PI. At this time, the dividing layer 120 (or the undulation in the light emitting area EA formed by disposing the dividing layer 120 or the difference in transmittance or reflectance) is used as a target for laser irradiation. This makes it possible to improve the accuracy of laser irradiation.

また、リペアに際しては、分割層120の上方からレーザーが照射されるため、分割層120の下方に配置された画素電極PEや各種配線や各種回路に対して、分割層120が保護膜として機能する。このため、分割層120の下方へのダメージを軽減することが可能となる。具体的には、分割層120上の対向電極CEにレーザーを照射しても分割層120によってレーザーが遮られるため分割層120下の画素電極PEまで切断されることは無い。したがって、例えば、図4乃至図7においてA1領域の画素電極PEにスイッチング素子のドレイン電極が接続されている場合に、レーザー照射によってA2領域の対向電極CEを他の領域から電気的に切り離しても、画素電極PEは電気的に切り離されないため、A3領域に電位を供給することが可能となる。   In repairing, since the laser is irradiated from above the dividing layer 120, the dividing layer 120 functions as a protective film for the pixel electrode PE, various wirings, and various circuits arranged below the dividing layer 120. . For this reason, it becomes possible to reduce the downward damage of the division | segmentation layer 120. FIG. Specifically, even if the counter electrode CE on the divided layer 120 is irradiated with a laser, the laser is blocked by the divided layer 120, so that the pixel electrode PE below the divided layer 120 is not cut. Therefore, for example, when the drain electrode of the switching element is connected to the pixel electrode PE in the A1 region in FIGS. 4 to 7, even if the counter electrode CE in the A2 region is electrically separated from other regions by laser irradiation. Since the pixel electrode PE is not electrically separated, a potential can be supplied to the A3 region.

次に、隣接する2つの有機EL素子の間で混色不良が発生した場合のリペアについて説明する。   Next, repair when color mixing failure occurs between two adjacent organic EL elements will be described.

図10は、分割層120として図5に示したレイアウト例を適用した第1有機EL素子OLED1及び第2有機EL素子OLED2の平面図である。第1有機EL素子OLED1と、第2有機EL素子OLED2とは、隣接している。第1有機EL素子OLED1は、第1有機層ORG1を有している。第2有機EL素子OLED2は、第1有機層ORG1とは異なる色に発光する第2有機層ORG2を有している。これらの第1有機EL素子OLED1及び第2有機EL素子OLED2は、それぞれ分割層120として第1分割部121及び第2分割部122を有し、それぞれ領域A1乃至A3を有している。   FIG. 10 is a plan view of the first organic EL element OLED1 and the second organic EL element OLED2 to which the layout example shown in FIG. The first organic EL element OLED1 and the second organic EL element OLED2 are adjacent to each other. The first organic EL element OLED1 has a first organic layer ORG1. The second organic EL element OLED2 has a second organic layer ORG2 that emits light in a color different from that of the first organic layer ORG1. Each of the first organic EL element OLED1 and the second organic EL element OLED2 includes a first divided portion 121 and a second divided portion 122 as a divided layer 120, and has regions A1 to A3, respectively.

図10に示した例では、第1有機層ORG1が第1有機EL素子OLED1と第2有機EL素子OLED2との間の隔壁PIを乗り越えて第2有機EL素子OLED2の領域A1に到達している。このような状態では、第2有機EL素子OLED2の領域A1では、第1有機層ORG1と第2有機層ORG2とが積層されているため、第1有機層ORG1の発光色と第2有機層ORG2の発光色とが混ざった所謂混色不良が発生する。   In the example shown in FIG. 10, the first organic layer ORG1 reaches the region A1 of the second organic EL element OLED2 over the partition wall PI between the first organic EL element OLED1 and the second organic EL element OLED2. . In such a state, since the first organic layer ORG1 and the second organic layer ORG2 are stacked in the region A1 of the second organic EL element OLED2, the emission color of the first organic layer ORG1 and the second organic layer ORG2 are stacked. A so-called color mixing failure occurs in which the light emission color is mixed.

そこで、分割層120及び隔壁PIに向けてレーザーを照射し、混色不良が発生した領域A1を囲むように、分割層120及び隔壁PIの上に積層された第1有機層ORG1、第2有機層ORG2、及び、対向電極をループ状に除去する。ここでは、第2有機EL素子OLED2の領域A1は、隔壁PI及び第1分割部121によって囲まれている。レーザーは、領域A1を囲むこれらの隔壁PI及び第1分割部121の上を通るループ状に走査し、リペア処理が行われる。これにより、第1有機層ORG1、第2有機層ORG2、及び、対向電極が欠落した溝GVが形成される。この溝GVからは、隔壁PI及び第1分割部121が露出している。   Therefore, the first organic layer ORG1 and the second organic layer stacked on the dividing layer 120 and the partition wall PI so as to surround the region A1 where the color mixing failure occurs by irradiating the laser toward the partition layer 120 and the partition wall PI. ORG2 and the counter electrode are removed in a loop. Here, the region A1 of the second organic EL element OLED2 is surrounded by the partition wall PI and the first divided portion 121. The laser scans in a loop shape passing over the partition walls PI and the first division part 121 surrounding the region A1, and repair processing is performed. As a result, the first organic layer ORG1, the second organic layer ORG2, and the groove GV lacking the counter electrode are formed. From this groove GV, the partition wall PI and the first division part 121 are exposed.

図11は、リペア後の第1有機EL素子OLED1及び第2有機EL素子OLED2を概略的に示す断面図である。なお、図11では、説明に必要な主要部のみを図示している。   FIG. 11 is a cross-sectional view schematically showing the first organic EL element OLED1 and the second organic EL element OLED2 after repair. In FIG. 11, only the main parts necessary for explanation are shown.

絶縁膜114の上に配置された第1有機EL素子OLED1の画素電極PE及び第2有機EL素子OLED2の画素電極PEは、それぞれ、隔壁PIと第1分割部121との間の領域A1と、第1分割部121と第2分割部122との間の領域A2と、第2分割部122と隔壁PIとの間の領域A3と、に分割されている。第1有機EL素子OLED1の第1有機層ORG1は、画素電極PE及び分割層120の上に配置されるとともに、第2有機EL素子OLED2との間の隔壁PIの上にも配置され、さらに、第1有機EL素子OLED1の画素電極PEの領域A1の上にも配置されている。第2有機EL素子OLED2の第2有機層ORG2は、画素電極PE及び分割層120の上に配置されるとともに、領域A1においては、第1有機層ORG1の上にも配置されている。対向電極CEは、第1有機層ORG1及び第2有機層ORG2の上に配置されている。   The pixel electrode PE of the first organic EL element OLED1 and the pixel electrode PE of the second organic EL element OLED2 arranged on the insulating film 114 are respectively a region A1 between the partition wall PI and the first division part 121, and It is divided into a region A2 between the first dividing unit 121 and the second dividing unit 122 and a region A3 between the second dividing unit 122 and the partition wall PI. The first organic layer ORG1 of the first organic EL element OLED1 is disposed on the pixel electrode PE and the dividing layer 120, and is also disposed on the partition wall PI between the second organic EL element OLED2, It arrange | positions also on area | region A1 of the pixel electrode PE of 1st organic EL element OLED1. The second organic layer ORG2 of the second organic EL element OLED2 is disposed on the pixel electrode PE and the division layer 120, and is also disposed on the first organic layer ORG1 in the region A1. The counter electrode CE is disposed on the first organic layer ORG1 and the second organic layer ORG2.

リペア後には、第1有機EL素子OLED1と第2有機EL素子OLED2との間の隔壁PIの上の第1有機層ORG1及び対向電極CEが欠落して、溝GVが形成されるとともに、第2有機EL素子OLED2において、第1分割部121の上の第2有機層ORG2及び対向電極CEが欠落して、溝GVが形成されている。つまり、第2有機EL素子OLED2においては、第1分割部121の一部及び隔壁PIの一部が溝GVから露出することになる。   After the repair, the first organic layer ORG1 and the counter electrode CE on the partition wall PI between the first organic EL element OLED1 and the second organic EL element OLED2 are missing, the groove GV is formed, and the second In the organic EL element OLED2, the second organic layer ORG2 and the counter electrode CE on the first divided portion 121 are missing, and a groove GV is formed. That is, in the second organic EL element OLED2, a part of the first division part 121 and a part of the partition wall PI are exposed from the groove GV.

溝GVによって囲まれた内側の第1有機層ORG1、第2有機層ORG2、及び、対向電極CEは残留している。しかしながら、溝GVの内側の対向電極(つまり領域A1に対応した対向電極)CEは、溝GVの外側の対向電極(つまり領域A2及びA3に対応した対向電極及び隔壁PI上の対向電極)とは分離されている。   The first organic layer ORG1, the second organic layer ORG2, and the counter electrode CE that are surrounded by the groove GV remain. However, the counter electrode inside the groove GV (that is, the counter electrode corresponding to the region A1) CE is different from the counter electrode outside the groove GV (that is, the counter electrode corresponding to the regions A2 and A3 and the counter electrode on the partition wall PI). It is separated.

このような溝GVの形成により、溝GVによって囲まれた対向電極CEには電位が供給されない。一方で、溝GVの外側の対向電極CEは一続きとなっており、電位が供給可能である。つまり、第2有機EL素子OLED2における領域A1は、他の領域A2及びA3とは電気的に切り離された状態となる。したがって、領域A1は滅点化される一方で、他の領域A2及びA3では、画素電極PEと対向電極CEとの間を正常に連流が流れ、有機層ORGにおいて発光可能となる。つまり、領域A2及びA3は、実質的に発光に寄与する領域となる。   Due to the formation of the groove GV, a potential is not supplied to the counter electrode CE surrounded by the groove GV. On the other hand, the counter electrode CE outside the groove GV is continuous and can be supplied with a potential. That is, the region A1 in the second organic EL element OLED2 is electrically separated from the other regions A2 and A3. Therefore, while the area A1 is darkened, in the other areas A2 and A3, a normal flow normally flows between the pixel electrode PE and the counter electrode CE, and light emission is possible in the organic layer ORG. That is, the regions A2 and A3 are regions that substantially contribute to light emission.

上述したように、画素電極PEを複数の領域に分割する分割層120を配置したことにより、混色不良が発生したとしても、その領域のみを電気的に切り離して滅点化させることで、他の領域を正常に発光させることができ、リペアが可能となる。したがって、リペア前と比較して、良好な表示品位を実現できる。   As described above, by arranging the dividing layer 120 that divides the pixel electrode PE into a plurality of regions, even if a color mixing failure occurs, only the region is electrically separated and darkened, The region can emit light normally, and repair is possible. Therefore, it is possible to realize a better display quality than before the repair.

なお、本実施形態においては、画素電極PEを分割する領域が多いほど、リペアの際に滅点化させる領域の面積が小さくて済むため、発光領域EAにおいて実質的に発光に寄与する領域の面積を大きく確保することができる。このため、リペア後の有機EL素子OLEDの発光状態は、正常な発光領域EAを有する有機EL素子OLEDの発光状態に近く、より良好な表示品位を得ることが可能となる。   In the present embodiment, the more the region into which the pixel electrode PE is divided, the smaller the area of the region to be darkened at the time of repair. Therefore, the area of the region that substantially contributes to light emission in the light emitting region EA. Can be secured greatly. For this reason, the light emitting state of the organic EL element OLED after repair is close to the light emitting state of the organic EL element OLED having the normal light emitting area EA, and better display quality can be obtained.

画素電極PEにおいて、分割された各領域の面積が略同等である場合、滅点化させる領域に応じた発光に寄与する面積の変化が少ない。すなわち、分割された領域に面積差がある場合には、比較的大きな面積の領域を滅点化させると、発光に寄与する面積が小さくなってしまい、逆に、比較的小さな面積の領域を滅点化させた場合には発光に寄与する面積が大きくなる。これに対して、画素電極PEを略同等の面積で分割した場合、どの領域を滅点化させても、リペア後に発光に寄与する面積は略同等とすることができる。   In the pixel electrode PE, when the areas of the divided areas are substantially equal, there is little change in the area contributing to light emission according to the area to be darkened. In other words, if there is a difference in area between the divided areas, if the area with a relatively large area is turned into a dark spot, the area contributing to light emission is reduced, and conversely, the area with a relatively small area is destroyed. In the case of the dotization, the area contributing to light emission increases. On the other hand, when the pixel electrode PE is divided by substantially the same area, the area that contributes to light emission after repair can be made substantially equal regardless of which area is darkened.

なお、この発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。   Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment as it is, and can be embodied by modifying the components without departing from the gist of the invention in the stage of implementation. Further, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed in the embodiment. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment. Furthermore, you may combine suitably the component covering different embodiment.

本実施形態は、有機EL装置として、有機EL表示装置について説明したが、有機EL照明や有機ELプリンターヘッドなどにも利用可能である。   In the present embodiment, the organic EL display device has been described as the organic EL device, but the present invention can also be used for organic EL lighting, an organic EL printer head, and the like.

1…表示パネル
100…アレイ基板
120…分割層
121…第1分割部 122…第2分割部
OLED…有機EL素子
PE…画素電極
CE…対向電極
ORG…有機層
PI…隔壁
GV…溝
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Display panel 100 ... Array substrate 120 ... Dividing layer 121 ... 1st dividing part 122 ... 2nd dividing part OLED ... Organic EL element PE ... Pixel electrode CE ... Counter electrode ORG ... Organic layer PI ... Partition GV ... Groove

Claims (5)

絶縁基板と、
前記絶縁基板の上方に配置された画素電極と、
前記画素電極の周囲に配置された隔壁と、
前記画素電極の上に配置され、前記隔壁から露出した前記画素電極を複数の領域に分割する分割層と、
前記画素電極及び前記分割層の上に配置された有機層と、
前記有機層の上に配置された対向電極と、
を備えたことを特徴とする有機EL装置。
An insulating substrate;
A pixel electrode disposed above the insulating substrate;
Barrier ribs arranged around the pixel electrode;
A dividing layer disposed on the pixel electrode and dividing the pixel electrode exposed from the partition wall into a plurality of regions;
An organic layer disposed on the pixel electrode and the divided layer;
A counter electrode disposed on the organic layer;
An organic EL device comprising:
絶縁基板と、
前記絶縁基板の上方に配置された画素電極と、
前記画素電極の周囲に配置された隔壁と、
前記隔壁に接続されるとともに前記画素電極の上に配置され、前記隔壁から露出した前記画素電極を前記隔壁との間で複数の領域に分割する分割層と、
前記画素電極及び前記分割層の上に配置された有機層と、
前記有機層及び前記隔壁を覆う対向電極と、
前記有機層及び前記対向電極がループ状に欠落し、前記分割層の一部を露出する溝と、
を備えたことを特徴とする有機EL装置。
An insulating substrate;
A pixel electrode disposed above the insulating substrate;
Barrier ribs arranged around the pixel electrode;
A dividing layer connected to the partition wall and disposed on the pixel electrode and dividing the pixel electrode exposed from the partition wall into a plurality of regions with the partition wall;
An organic layer disposed on the pixel electrode and the divided layer;
A counter electrode covering the organic layer and the partition;
The organic layer and the counter electrode are missing in a loop shape, a groove exposing a part of the divided layer,
An organic EL device comprising:
前記溝は、前記分割層及び前記隔壁に沿って形成されたことを特徴とする請求項2に記載の有機EL装置。   The organic EL device according to claim 2, wherein the groove is formed along the divided layer and the partition wall. 前記分割層は、前記隔壁と同一材料によって形成されたことを特徴とする請求項1または2に記載の有機EL装置。   The organic EL device according to claim 1, wherein the divided layer is formed of the same material as the partition wall. 前記分割層によって分割された領域の各面積は、略同等であることを特徴とする請求項1または2に記載の有機EL装置。   3. The organic EL device according to claim 1, wherein areas of the regions divided by the divided layers are substantially equal.
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014207105A (en) * 2013-04-11 2014-10-30 ソニー株式会社 Display unit and electronic apparatus
WO2014192396A1 (en) * 2013-05-28 2014-12-04 ソニー株式会社 Display device and electronic instrument
US9178174B2 (en) 2012-03-27 2015-11-03 Sony Corporation Display device and method of manufacturing the same, method of repairing display device, and electronic apparatus
CN105023934A (en) * 2014-04-23 2015-11-04 业鑫科技顾问股份有限公司 Organic light-emitting diode panel
KR20160031656A (en) * 2014-09-12 2016-03-23 엘지디스플레이 주식회사 Organic Light Emitting Diode Display Device Having Repair Structure
KR20160033804A (en) * 2014-09-18 2016-03-29 엘지디스플레이 주식회사 Organic light emitting display panel and organic light emitting display device
KR20160082768A (en) * 2014-12-29 2016-07-11 엘지디스플레이 주식회사 Organic light emitting display device having repair structure
WO2017195560A1 (en) * 2016-05-11 2017-11-16 株式会社Joled Display device and electronic device
WO2017208660A1 (en) * 2016-05-30 2017-12-07 株式会社Joled Display device and electronic device
JP2018018822A (en) * 2016-07-26 2018-02-01 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. Display device
CN108281469A (en) * 2018-01-29 2018-07-13 上海天马微电子有限公司 Organic light emitting display panel and display device
CN110391347A (en) * 2018-04-18 2019-10-29 株式会社日本有机雷特显示器 Organic EL display panel and its manufacturing method, organic EL display device
KR20200039902A (en) * 2018-10-05 2020-04-17 삼성디스플레이 주식회사 Display device

Cited By (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9178174B2 (en) 2012-03-27 2015-11-03 Sony Corporation Display device and method of manufacturing the same, method of repairing display device, and electronic apparatus
JP2014207105A (en) * 2013-04-11 2014-10-30 ソニー株式会社 Display unit and electronic apparatus
US10439006B2 (en) 2013-05-28 2019-10-08 Sony Corporation Controlling luminance of a display unit
WO2014192396A1 (en) * 2013-05-28 2014-12-04 ソニー株式会社 Display device and electronic instrument
CN105230125A (en) * 2013-05-28 2016-01-06 索尼公司 Display unit and electronic equipment
KR20160015203A (en) * 2013-05-28 2016-02-12 소니 주식회사 Display device and electronic instrument
US20160104750A1 (en) * 2013-05-28 2016-04-14 Sony Corporation Display unit and electronic apparatus
JPWO2014192396A1 (en) * 2013-05-28 2017-02-23 ソニー株式会社 Display device and electronic device
KR102203421B1 (en) * 2013-05-28 2021-01-14 소니 주식회사 Display device and electronic instrument
CN105023934A (en) * 2014-04-23 2015-11-04 业鑫科技顾问股份有限公司 Organic light-emitting diode panel
KR20160031656A (en) * 2014-09-12 2016-03-23 엘지디스플레이 주식회사 Organic Light Emitting Diode Display Device Having Repair Structure
KR102261886B1 (en) 2014-09-12 2021-06-09 엘지디스플레이 주식회사 Organic Light Emitting Diode Display Device Having Repair Structure
KR102259369B1 (en) * 2014-09-18 2021-06-02 엘지디스플레이 주식회사 Organic light emitting display panel and organic light emitting display device
KR20160033804A (en) * 2014-09-18 2016-03-29 엘지디스플레이 주식회사 Organic light emitting display panel and organic light emitting display device
KR102294591B1 (en) 2014-12-29 2021-08-27 엘지디스플레이 주식회사 Organic light emitting display device having repair structure
KR20160082768A (en) * 2014-12-29 2016-07-11 엘지디스플레이 주식회사 Organic light emitting display device having repair structure
WO2017195560A1 (en) * 2016-05-11 2017-11-16 株式会社Joled Display device and electronic device
US11201309B2 (en) 2016-05-11 2021-12-14 Joled Inc. Display unit and electronic apparatus including a divided electrode
JPWO2017195560A1 (en) * 2016-05-11 2018-08-02 株式会社Joled Display device and electronic device
CN109315048A (en) * 2016-05-30 2019-02-05 株式会社日本有机雷特显示器 Display device and electronic equipment
WO2017208660A1 (en) * 2016-05-30 2017-12-07 株式会社Joled Display device and electronic device
JPWO2017208660A1 (en) * 2016-05-30 2018-08-02 株式会社Joled Display device and electronic device
CN109315048B (en) * 2016-05-30 2022-06-10 株式会社日本有机雷特显示器 Display device and electronic apparatus
US11404501B2 (en) 2016-05-30 2022-08-02 Joled Inc. Display unit and electronic apparatus
JP2018018822A (en) * 2016-07-26 2018-02-01 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. Display device
JP7046515B2 (en) 2016-07-26 2022-04-04 三星ディスプレイ株式會社 Display device
CN108281469B (en) * 2018-01-29 2020-08-25 上海天马微电子有限公司 Organic light emitting display panel and display device
CN108281469A (en) * 2018-01-29 2018-07-13 上海天马微电子有限公司 Organic light emitting display panel and display device
JP2019192337A (en) * 2018-04-18 2019-10-31 株式会社Joled Organic EL display panel, organic EL display device, and method of manufacturing organic EL display panel
CN110391347A (en) * 2018-04-18 2019-10-29 株式会社日本有机雷特显示器 Organic EL display panel and its manufacturing method, organic EL display device
KR20200039902A (en) * 2018-10-05 2020-04-17 삼성디스플레이 주식회사 Display device
KR102616245B1 (en) 2018-10-05 2023-12-21 삼성디스플레이 주식회사 Display device

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