JP2011033355A - プローブカード - Google Patents

プローブカード Download PDF

Info

Publication number
JP2011033355A
JP2011033355A JP2009177073A JP2009177073A JP2011033355A JP 2011033355 A JP2011033355 A JP 2011033355A JP 2009177073 A JP2009177073 A JP 2009177073A JP 2009177073 A JP2009177073 A JP 2009177073A JP 2011033355 A JP2011033355 A JP 2011033355A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
probe
substrate
contact
board
adhesive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2009177073A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirobumi Nakano
博文 中野
Kazuhiro Matsuda
一宏 松田
Futoshi Kamimura
太志 上村
Akira Nushihara
昭 主原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Electronic Materials Corp
Original Assignee
Japan Electronic Materials Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Electronic Materials Corp filed Critical Japan Electronic Materials Corp
Priority to JP2009177073A priority Critical patent/JP2011033355A/ja
Publication of JP2011033355A publication Critical patent/JP2011033355A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

【課題】 配線基板上に固着されたプローブタイルをリペアする際の作業性を向上させたプローブカードを提供する。
【解決手段】 第1面にコンタクトプローブ11が形成されたプローブ基板14と、プローブ基板14と平行に配置されたST基板21と、プローブ基板14の第2面をST基板21に固着させる複数の接着膜300により構成される。各接着膜300は、プローブ基板14の第2面上で互いに離間して配置され、接着膜300間に空隙330が形成されている。
【選択図】 図7

Description

本発明は、プローブカードに係り、さらに詳しくは、コンタクトプローブが形成されたプローブ基板を配線基板に固着させるプローブカードの改良に関する。
半導体装置の製造工程には、半導体ウエハからなる検査基板上に形成された電子回路の電気的特性を検査する検査工程がある。この電気的特性の検査は、検査対象とする電子回路にテスト信号を入力し、その応答を検出するテスター装置を用いて行われる。通常、テスター装置から出力されたテスト信号は、プローブカードを介して検査基板上の電子回路に伝達される。プローブカードは、電子回路の微小な電極にそれぞれ接触させてテスター装置からのテスト信号を当該電子回路に伝達する多数のコンタクトプローブと、これらのコンタクトプローブが配設されるプローブ基板などからなる。
一般に、プローブカードは、多数のコンタクトプローブと多数の外部端子とが同一のプローブ基板上に形成され、プローブ基板上の配線パターンを介して、対応するコンタクトプローブ及び外部端子を導通させている。コンタクトプローブは、電子回路の端子電極に接触させるための探針であり、端子電極と同一のピッチで配設されている。一方、外部端子は、テスター装置を接続するための入出力端子であり、コンタクトプローブよりも広いピッチで配設されている。
近年、電子回路は、微細加工技術の進歩によって集積度が向上し、端子電極の配置が狭ピッチ化される傾向にある。このため、コンタクトプローブをプローブ基板上に配設する一方、外部端子はプローブ基板よりも大きなメイン基板上に配設されるようになってきた。この様なプローブカードの場合、プローブ基板及びメイン基板間において配線ピッチを拡大させ、コンタクトプローブ及び外部端子を接続するためのST(スペーストランスフォーマ)基板が用いられる。
この様なプローブカードは、複数のプローブタイルを検査基板上の電子回路の配置態様に合わせてST基板上に貼り付けることによって作成される。また、上記プローブタイルは、電子回路上の端子電極に対応付けてシリコンウエハやセラミック基板などの非導電性基板の一方の主面上に複数のコンタクトプローブを形成し、ダイサーを用いて当該電子回路に対応する部分を非導電性基板から切り出すことによって作成される。従来のプローブカードでは、非導電性基板から切り出したプローブタイルの裏面全体に接着シートを貼り付けてST基板上に固着させていた。このため、不具合の生じたプローブタイルをリペアする際に、当該プローブタイルをST基板から剥そうとしても、剥離が困難であるという問題があった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、配線基板上に固着されたプローブタイルをリペアする際の作業性を向上させたプローブカードを提供することを目的としている。特に、コンタクトプローブがプローブ基板上に形成されたプローブタイルを配線基板から容易に剥すことができるプローブカードを提供することを目的としている。
第1の本発明によるプローブカードは、第1面にコンタクトプローブが形成されたプローブ基板と、上記プローブ基板と平行に配置された配線基板と、上記プローブ基板の第2面を上記配線基板に固着させる2以上の接着膜とを備え、上記各接着膜が、上記プローブ基板の第2面上で互いに離間して配置され、上記接着膜間に空隙が形成されているように構成される。
この様な構成によれば、配線基板に固着させるための接着膜が、プローブ基板上に離間して配置され、接着膜間に空隙が形成されているので、プローブ基板の基板面全体に接着膜が形成される場合に比べて、接着力が低減され、配線基板からプローブ基板を容易に剥すことができる。特に、剥離液を用いてプローブ基板を配線基板から剥離させる場合、接着膜間の空隙を介して剥離液が浸透するので、接着膜に対する剥離液の浸透性が向上し、プローブ基板を剥し易くすることができる。
第2の本発明によるプローブカードは、上記構成に加え、上記コンタクトプローブが上記プローブ基板の対向する2つの辺にそれぞれ沿って配置され、少なくとも2つの上記接着膜が、いずれも矩形形状からなり、上記2つの辺とそれぞれ平行に配置されるように構成される。
この様な構成によれば、接着膜間の空隙がプローブ基板の互いに対向する端面間を連通するように形成されるので、接着膜に対する剥離液の浸透性をさらに向上させることができる。また、接着膜が2つの辺とそれぞれ平行に配置されるので、2つの辺にそれぞれ沿って配置された各コンタクトプローブと接着膜との間の距離を均一にすることができる。従って、各コンタクトプローブを検査対象物に当接させた際、各コンタクトプローブに付加される押圧力がプローブ基板に均等にかかることになるので、プローブ基板が撓んでコンタクトプローブの位置ずれが生じるのを抑制することができる。
第3の本発明によるプローブカードは、上記構成に加え、上記コンタクトプローブが、上記プローブ基板と略平行に延伸するビーム部の一端にコンタクト部が形成され、上記プローブ基板に固着されるベース部が上記ビーム部の他端に形成され、上記接着膜が、上記ベース部の下端面と対向させて配置されるように構成される。この様な構成によれば、接着膜がコンタクトプローブのベース部の下端面と対向させて配置されるので、コンタクトプローブに付加される押圧力によってプローブ基板に歪みが生じるのを抑制することができる。
第4の本発明によるプローブカードは、上記構成に加え、上記接着膜が、上記プローブ基板の4隅にそれぞれ配置されるように構成される。
第5の本発明によるプローブカードは、第1主面にコンタクトプローブが形成され、第1端面から第2端面に連通する溝が第2主面に形成されたプローブ基板と、上記プローブ基板と平行に配置された配線基板と、上記プローブ基板の第2主面を上記配線基板に固着させる接着膜とを備えて構成される。
この様な構成によれば、接着膜を介してプローブ基板を配線基板に固着させた際に、プローブ基板の接着面が溝の存在によって狭くなるので、接着力が低減され、配線基板からプローブ基板を容易に剥すことができる。特に、剥離液を用いてプローブ基板を配線基板から剥離させる場合、第1端面から第2端面に連通している溝を介して剥離液が第1端面及び第2端面間を浸透するので、プローブ基板を剥し易くすることができる。
本発明によるプローブカードによれば、配線基板に固着させるための接着膜が、プローブ基板上に離間して配置され、接着膜間に空隙が形成されているので、接着膜がプローブ基板の基板面全体に形成される場合に比べて、接着力が低減され、配線基板からプローブ基板を容易に剥すことができる。また、接着膜を介してプローブ基板を配線基板に固着させた際に、プローブ基板の接着面が溝の存在によって狭くなるので、接着力が低減され、配線基板からプローブ基板を容易に剥すことができる。従って、コンタクトプローブがプローブ基板上に形成されたプローブタイルを配線基板から容易に剥すことができるので、配線基板上に固着されたプローブタイルをリペアする際の作業性を向上させることができる。
本発明の実施の形態1によるプローブカード100の概略構成の一例を示した平面図である。 図1のプローブカード100の要部を拡大して示した図であり、ST基板21上のプローブタイル10が示されている。 図2のプローブカード100の構成例を示した断面図であり、A−A線による切断面の様子が示されている。 図1のプローブカード100の製造方法の一例を模式的に示した説明図であり、シリコンウエハ200上にコンタクトプローブ11を形成する工程が示されている。 図1のプローブカード100の製造方法の一例を模式的に示した説明図であり、シリコンウエハ200からプローブタイル10を切り出す工程が示されている。 図1のプローブカード100の製造方法の一例を模式的に示した説明図であり、プローブ基板14の裏面に接着シート300aを貼り付ける工程が示されている。 図1のプローブカード100の製造方法の一例を模式的に示した説明図であり、プローブタイル10をST基板21上に固着させる工程が示されている。 図1のプローブカード100の製造方法の一例を模式的に示した説明図であり、プローブ基板14の裏面に貼付される接着シート300aの他の例が示されている。 本発明の実施の形態2によるプローブカード100の製造方法の一例を示した図であり、ウエハ200の裏面にエッチング溝210を形成する工程が示されている。 図9のプローブカード100の製造方法の一例を示した図であり、シリコンウエハ200からプローブタイル10を切り出す工程が示されている。
実施の形態1.
<プローブカード>
図1(a)及び(b)は、本発明の実施の形態1によるプローブカード100の概略構成の一例を示した平面図であり、図1(a)には、プローブカード100を下側から見た様子が示され、図1(b)には、水平方向から見た様子が示されている。
プローブカード100は、検査基板上の電子回路の電気的特性を検査する際に用いられる検査装置であり、複数のプローブタイル10、ST基板21及びメイン基板31により構成される。メイン基板31は、プローブ装置(図示せず)に着脱可能に取り付けられる円形形状のPCB(プリント回路基板)であり、テスター装置(図示せず)との間で信号の入出力を行うための多数の外部端子32が周縁部に設けられている。
プローブタイル10は、検査対象物に接触させる複数のコンタクトプローブ11、コンタクトプローブ11と導通する端子パッド12などが一方の主面上に形成された基板からなり、他方の主面をST基板21に対向させて当該ST基板21上に固着されている。
各プローブタイル10は、互いに離間させてST基板21上に配置され、プローブタイル10上の各コンタクトプローブ11は、電子回路上の端子電極に対応付けて形成されている。
ST基板21は、プローブタイル10とメイン基板31との間で配線ピッチを拡大させ、或いは、コンタクトプローブ11のメイン基板31からの高さを調整するための配線基板である。ST基板21は、プローブタイル10が固着されている側とは反対側の主面をメイン基板31に対向させて当該メイン基板31上に固着されている。このST基板21は、そのサイズがメイン基板31よりも小さな円形形状からなり、メイン基板31の中央部に配置されている。ST基板21は、円形の他に、長方形やひし形などの四角形形状のものも考えられる。
プローブカード100は、プローブ装置によってコンタクトプローブ11が配設されている面を下にして水平に保持され、テスター装置が接続される。この状態で検査基板を下方から近づけ、コンタクトプローブ11を検査基板上の電子回路の端子電極に当接させれば、当該コンタクトプローブ11を介してテスト信号をテスター装置及び電子回路間で入出力させることができる。
各コンタクトプローブ11は、電子回路の微小な電極に接触させるプローブ(探針)であり、電子回路の電極の配置に合わせて整列配置されている。各コンタクトプローブ11は、ST基板21及びメイン基板31上の各配線を介して外部端子32と導通しており、コンタクトプローブ11を検査対象物に当接させることによって、検査対象物とテスター装置とを導通させることができる。
この例では、縦長の矩形形状のプローブタイル10が、横方向に3〜9個配列されている。また、プローブタイル10上の各コンタクトプローブ11及び各端子パッド12は、基板の長辺に沿って配列されている。
ST基板21上には、当該ST基板21上の配線パターン(図示せず)と導通し、プローブタイル10上の端子パッド12と接続するための複数の端子パッド22が形成されている。各端子パッド22は、接続端子用の電極であり、端子パッド12に対応付けて形成されている。
<ST基板上のプローブタイル>
図2は、図1のプローブカード100の要部を拡大して示した図であり、ST基板21上のプローブタイル10が示されている。プローブタイル10は、検査基板上の電子回路に対応付けて形成されたプローブ基板14からなり、プローブ基板14上には、コンタクトプローブ11、端子パッド12及び配線パターン13が形成されている。
コンタクトプローブ11は、検査対象物に当接させるコンタクト部11aが一方の端部に形成され、他方の端部がプローブ基板14に固着されたカンチレバー(片持ち梁)型のプローブである。各コンタクトプローブ11の上記他方の端部には、配線パターン13が接続され、当該配線パターン13を介して端子パッド12と導通している。端子パッド12は、配線パターン13を介してコンタクトプローブ11と導通する接続端子用の電極であり、ST基板21上の端子パッド22とワイヤボンディングされる。
この例では、縦長のプローブ基板14の長辺に沿って配列された6個のコンタクトプローブ11からなる2つのプローブ列が形成されている。つまり、各コンタクトプローブ11は、プローブ基板14の対向する2つの長辺にそれぞれ沿って配置されている。各端子パッド12は、プローブ基板14の長辺に沿って配置されている。この様なコンタクトプローブ11は、例えば、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)による微細加工によって作成される。
MEMSによるコンタクトプローブ11の作成方法には、プローブ基板に垂直な方向に導電層を積層していくことによって、当該プローブ基板上にコンタクトプローブを直接に形成する方法と、MEMSにより薄板状に形成されたコンタクトプローブをプローブ基板に垂直に固定する方法とが考えられる。また、コンタクトプローブ11の配列は、コンタクト部11a側の端面を対向させて2列に配列する場合の他に、井桁状にプローブ基板14の周縁部に沿って配列する場合も考えられる。
ST基板21上の各端子パッド22は、プローブタイル10に対応付けて配置され、端子パッド12ごとに形成されている。端子パッド12及び端子パッド22は、ボンディング装置を用いてワイヤボンディングされ、ボンディングワイヤからなるボンディングワイヤ23を介して導通している。
<プローブカードの断面図>
図3は、図2のプローブカード100の構成例を示した断面図であり、A−A線による切断面の様子が示されている。コンタクトプローブ11は、検査対象物に当接させるコンタクト部11aと、コンタクト部11aを支持するビーム部11bと、ビーム部11bと連結し、プローブ基板14に固着されるベース部11cにより構成される。
コンタクト部11aは、ビーム部11bの一方の端部に形成される柱状の接触子であり、プローブ基板14と略平行に延伸するビーム部11bの一端に形成されている。ベース部11cは、ビーム部11bの他方の端部に形成され、プローブ基板14に固着されている。
プローブタイル10内の各コンタクトプローブ11は、プローブ基板14上に導電層を積層することによって同時に形成される。また、プローブ基板14上の配線パターン13は、コンタクトプローブ11のコンタクト部11aとは反対側の端部から延伸するように形成されている。配線パターン13及び端子パッド12は、共通の配線層として形成される。
この様なコンタクトプローブ11や配線パターン13が形成されたプローブ基板14は、シート状の接着膜300を介してST基板21に固着されている。接着膜300は、プローブ基板14のコンタクトプローブ11が形成されている側の主面を上面、反対側の主面を下面として、プローブ基板14の下面をST基板21の上面に固着させる固着部材であり、樹脂固化物からなる。
この例では、接着膜300が、コンタクトプローブ11のベース部11cの下端面と対向させて配置され、ベース部11cの真下からプローブ基板14の端面近傍にかけてプローブ基板14の下面が固着されている。プローブ基板14上の端子パッド12とST基板21上の端子パッド22とは、ボンディングワイヤ23により接続されている。
<プローブカードの製造工程>
図4〜図7は、図1のプローブカード100の製造方法の一例を模式的に示した説明図である。図4には、検査基板上の電子回路に対応付けてシリコンウエハ200上にコンタクトプローブ11を形成する工程が示されている。
まず、シリコンウエハ200の一方の主面上にMEMS技術を用いて複数のコンタクトプローブ11を同時に形成する。各コンタクトプローブ11は、検査基板上の電子回路に対応するデバイス領域B1と、プローブタイル10の切り出し時に除去される不要領域B2とに区分して形成される。
例えば、円形形状のシリコンウエハ200上にフォトレジストからなるレジスト層を形成してパターニングし、スパッタリングによって導電層を形成することによって、配線パターン13及び端子パッド12が形成される。そして、電気メッキによってシリコンウエハ200と平行な導電層を積層することによって各コンタクトプローブ11が形成される。シリコンウエハ200などの半導体基板の代わりに、石英ガラスなどを主成分とするガラス基板やセラミック基板のような絶縁基板を用いても良く、この様な非導電性基板上にコンタクトプローブ11、端子パッド12及び配線パターン13が形成される。
この例では、3行5列のマトリクス状に配置された縦長の矩形形状のデバイス領域B1内に複数のコンタクトプローブ11が形成されている。デバイス領域B1内のコンタクトプローブ11は、当該デバイス領域B1の対向する2つの辺にそれぞれ沿って配置されている。すなわち、直線上に配列された複数のコンタクトプローブ11からなる2つのプローブ列が、デバイス領域B1の各長辺と平行に形成されている。
図5には、コンタクトプローブ11の形成後のシリコンウエハ200からプローブタイル10を切り出す工程が示されている。コンタクトプローブ11が形成されたシリコンウエハ200は、ダイサーを用いて切断され、デバイス領域B1部分がプローブタイル10として切り出される。ダイサーは、円盤状の回転刃を回転させて加工対象物を切削する切削装置である。
図6(a)及び(b)は、プローブ基板14の裏面に複数の接着シート300aを貼り付ける工程であり、図6(a)には、裏面上に接着シート300aが貼付されたプローブタイル10の斜視図が示され、図6(b)には、プローブ基板14の接着面320が示されている。シリコンウエハ200から切り出されたプローブタイル10の裏面上に複数の接着シート300aを貼り付ける。
接着シート300aは、プローブ基板14のコンタクトプローブ11が形成されている側とは反対側の主面を裏面として、プローブ基板14の裏面をST基板21に固着させるためのフィルム状の接着剤である。各接着シート300aは、プローブ基板14の裏面上で互いに離間して配置され、接着シート300a間に空隙330が形成されている。
この例では、2つの接着シート300aがいずれも縦長の矩形形状からなり、プローブ基板14の2つの長辺とそれぞれ平行に配置されている。つまり、各接着シート300aは、プローブ列と平行に配置されている。ここでは、コンタクトプローブ11に付加される押圧力によってプローブ基板14に歪みが生じるのを抑制するために、接着シート300aがプローブ列の近傍、より好ましくは、に配置されているものとする。接着面320は、例えば、プローブ基板14の裏面全体の2/3以下の面積、具体的には1/2程度の面積となっている。
接着シート300aの内側の端面310間に形成される空隙330は、プローブ基板14の2つの短辺間を連通している。この様な接着シート300aをプローブ基板14上に形成する具体的な方法としては、接着シートを所定のサイズ及び形状にカットしてからプローブ基板14に貼り付ける方法が考えられる。
或いは、接着シートをプローブ基板14に貼り付けた後で、当該接着シートを所定のサイズ及び形状にカットすることによって、プローブ列ごとの接着シート300aを形成しても良い。接着シートのカットには、カッティングプロッターなどの切断装置が用いられる。
接着シート300aとしては、例えば、ポリイミド樹脂やポリアミドイミド樹脂などの高Tg材、或いは、線膨張係数や硬化収縮率の低いものを主成分とする熱可塑性の接着剤が用いられる。
プローブ基板14上の接着シート300aが当該プローブ基板14よりもサイズが小さく、接着面320が狭いので、プローブタイルの裏面全体に接着膜が形成される場合に比べて、接着力を低減させることができる。さらに、プローブ列と平行に接着シート300aが配置されるので、コンタクトプローブ11に負荷が加わった際にプローブ基板14が撓むのを抑制することができる。
また、不具合の生じたプローブタイル10をリペアする際に、剥離液を用いてプローブタイル10をST基板21から剥離させる場合、接着シート300aが固化した接着膜300の内側の端面310も剥離液に曝されるので、プローブタイル10の裏面全体に接着膜が形成される場合に比べて、剥離液の浸透性を向上させることができる。
剥離液としては、溶剤、界面活性剤又はこれらを組み合わせたものが用いられる。この様な剥離液がプローブ基板14やST基板21と接着膜300との界面に浸透することにより、接着膜300が膨潤劣化して接着強度が低下するので、プローブ基板14を容易に剥すことができる。
また、シリコンウエハ200からプローブタイル10を切り出した後で接着シート300aを形成することにより、プローブタイル10のダイシング時に生じる粉塵が接着シート300aに付着するのを防止することができる。
図7には、接着シート300aの貼付後のプローブタイル10をST基板21上に固着させる工程が示されている。接着シート300aが貼付されたプローブタイル10をST基板21に貼り付けることによって、当該プローブタイル10をST基板21上に固着させる。プローブタイル10の貼り付けは、プローブタイル10又はST基板21を加熱し、或いは、プローブタイル10をST基板21に押し付けて加圧することによって行われる。各プローブタイル10は、ST基板21に対して、基板面と平行な方向の位置合わせを行ってから貼り付けが行われる。
ST基板21に各プローブタイル10を固着させた後、プローブタイル10上の端子パッド12とST基板21上の端子パッド22とをボンディングワイヤ23で接続して、当該ST基板21をメイン基板31に固着させれば、プローブカード100が完成する。なお、メイン基板31とST基板21とが所定の間隔を空けて配置される場合も考えられる。この場合、メイン基板31とST基板21とは、例えば、接続ピンを介して結合される。
なお、不具合の生じたプローブタイル10をST基板21から取り除く場合、ST基板21から接着膜300の残渣を完全に取り除くのは困難である。そこで、リペア用のプローブタイル10を不具合タイルの除去部分に貼り付ける際には、プローブタイル10固着後のコンタクトプローブ11の高さにバラツキが生じるのを防ぐために、接着シート300aをリペア前の位置とは重ならないように配置するのが望ましい。
<接着シートの他の形状>
図8(a)〜(c)は、図1のプローブカード100の製造方法の一例を模式的に示した説明図であり、プローブ基板14の裏面に貼付される接着シート300aの他の例が示されている。図8(a)には、プローブ基板14の短辺付近に形成された接着面320が示されている。
この例では、横長の矩形形状の接着シート300aが、プローブ基板14の2つの短辺にそれぞれ沿って配置され、短辺付近に接着面320が形成されている。各接着面320は、短辺に最も近いコンタクトプローブ11を含むように形成されている。
図8(b)には、プローブ基板14の4隅に形成された接着面320が示されている。この例では、接着シート300aが、プローブ基板14の4隅にそれぞれ配置され、プローブ基板14の4つの頂角付近に矩形形状の接着面320が形成されている。図8(a)及び図8(b)に示した形状の接着シート300aであっても、接着膜300の内側の端面も剥離液に曝されるので、プローブタイル10の裏面全体に接着膜が形成される場合に比べて、剥離液の浸透性を向上させることができる。
図8(c)には、プローブ基板14の中央部に形成された接着面320が示されている。この例では、接着シート300aが、プローブ基板14の短辺の中央部であって、長辺に沿って配置されており、縦長の矩形形状の接着面320が形成されている。この接着面320は、2つのプローブ列にまたがって形成されている。この様な形状の接着シート300aであっても、プローブ基板14よりもサイズが小さく、接着面320が狭いので、プローブタイルの裏面全体に接着膜が形成される場合に比べて、接着力を低減させることができる。
本実施の形態によれば、プローブタイル10をST基板21に固着させるためにプローブ基板14上に配置される接着膜300がプローブ基板14よりもサイズが小さいので、プローブタイルの裏面全体に接着膜が形成される場合に比べて、接着力が低減され、ST基板21からプローブタイル10を容易に剥すことができる。すなわち、各接着膜300が、プローブ基板14上に離間して配置され、接着膜300間に空隙330が形成されているので、接着力が低減され、ST基板21からプローブ基板14を容易に剥すことができる。
また、剥離液を用いてプローブ基板14をST基板21から剥離させる場合、接着膜300間の空隙330を介して剥離液が浸透するので、接着膜300に対する剥離液の浸透性が向上し、プローブ基板14を剥し易くすることができる。特に、接着膜300間の空隙330がプローブ基板14の互いに対向する端面間を連通するように形成されるので、接着膜300に対する剥離液の浸透性を効果的に向上させることができる。
実施の形態2.
実施の形態1では、プローブ基板14上に複数の接着膜300を配置する場合の例について説明した。これに対して、本実施の形態では、プローブタイル10の裏面にエッチング溝を設けることによって接着膜に対する剥離液の浸透性を向上させる場合について説明する。
<ウエハ上のエッチング溝>
図9は、本発明の実施の形態2によるプローブカード100の製造方法の一例を模式的に示した説明図であり、デバイス領域B1に対応付けてシリコンウエハ200の裏面にエッチング溝210を形成する工程が示されている。コンタクトプローブ11が形成されたシリコンウエハ200の裏面にエッチング溝210を形成する。
エッチング溝210は、ST基板21上に固着されたプローブタイル10を剥離液を用いて当該ST基板21から剥離させる際に剥離液の浸透性を良くするためのウエハ基板の凹み部であり、シリコンウエハ200のエッチング処理によって形成される。この様なエッチング溝210は、デバイス領域B1に対応する位置に適切な幅及び深さで形成される。この例では、縦長の矩形形状のエッチング溝210がデバイス領域B1ごとに形成されている。
シリコンウエハ200上のコンタクトプローブ11は、検査基板上の電子回路に対応するデバイス領域B1と不要領域B2とに区分して形成される。エッチング溝210は、その様なデバイス領域B1内に形成され、ウエハ基板の肉薄部を構成している。
なお、エッチング溝210は、コンタクトプローブ11よりも前にシリコンウエハ200の一方の主面に形成しておき、エッチング溝210を形成した後でコンタクトプローブ11を他方の主面上に形成しても良い。
図10は、図9のプローブカード100の製造方法の一例を模式的に示した説明図であり、コンタクトプローブ11及びエッチング溝210の形成後のシリコンウエハ200からプローブタイル10を切り出す工程が示されている。コンタクトプローブ11やエッチング溝210が形成されたシリコンウエハ200をダイサーを用いて切断することによって、デバイス領域B1部分がプローブタイル10として切り出される。
エッチング溝210は、プローブ基板14の1つの端面から他の端面に連通するように形成される。この例では、エッチング溝210が、プローブ基板4の2つの短辺間を連通している。具体的には、プローブ基板14の短辺の中央部に配置され、長辺に沿って形成されている。このエッチング溝210により、2つのプローブ列の間にプローブ基板14の肉薄部が形成され、プローブ列が形成されている部分が相対的に肉厚となっている。
この様なプローブタイル10に接着シートを貼り付けて、プローブ基板14上に接着膜を形成し、ST基板21に貼り付けることによって、プローブタイル10をST基板21上に固着させる。そして、ST基板21に各プローブタイル10を固着させた後、プローブタイル10上の端子パッド12とST基板21上の端子パッド22とをボンディングワイヤ23で接続して、ST基板21をメイン基板31に固着させれば、プローブカード100が完成する。
本実施の形態によれば、接着膜を介してプローブタイル10をST基板21に固着させた際に、プローブ基板14の接着面がエッチング溝210の存在によって狭くなるので、接着力が低減され、ST基板21からプローブタイル10を容易に剥すことができる。また、不具合の生じたプローブタイル10をリペアする際に、剥離液を用いてプローブタイル10をST基板21から剥離させる場合、互いに対向する端面間を連通しているエッチング溝210を介して剥離液がこれらの端面間を浸透するので、接着膜に対する剥離液の浸透性が向上し、プローブタイル10を剥し易くすることができる。
11 コンタクトプローブ
11a コンタクト部
12 端子パッド
13 配線パターン
14 プローブ基板
21 ST基板
22 端子パッド
23 ボンディングワイヤ
31 メイン基板
32 外部端子
100 プローブカード
200 シリコンウエハ
210 エッチング溝
300 接着膜
300a 接着シート
310 接着膜の端面
320 接着面
330 空隙
B1 デバイス領域
B2 不要領域

Claims (5)

  1. 第1面にコンタクトプローブが形成されたプローブ基板と、
    上記プローブ基板と平行に配置された配線基板と、
    上記プローブ基板の第2面を上記配線基板に固着させる2以上の接着膜とを備え、
    上記各接着膜は、上記プローブ基板の第2面上で互いに離間して配置され、上記接着膜間に空隙が形成されていることを特徴とするプローブカード。
  2. 上記コンタクトプローブが上記プローブ基板の対向する2つの辺にそれぞれ沿って配置され、
    少なくとも2つの上記接着膜が、いずれも矩形形状からなり、上記2つの辺とそれぞれ平行に配置されることを特徴とする請求項1に記載のプローブカード。
  3. 上記コンタクトプローブは、上記プローブ基板と略平行に延伸するビーム部の一端にコンタクト部が形成され、上記プローブ基板に固着されるベース部が上記ビーム部の他端に形成され、
    上記接着膜が、上記ベース部の下端面と対向させて配置されることを特徴とする請求項2に記載のプローブカード。
  4. 上記接着膜が、上記プローブ基板の4隅にそれぞれ配置されることを特徴とする請求項1に記載のプローブカード。
  5. 第1主面にコンタクトプローブが形成され、第1端面から第2端面に連通する溝が第2主面に形成されたプローブ基板と、
    上記プローブ基板と平行に配置された配線基板と、
    上記プローブ基板の第2主面を上記配線基板に固着させる接着膜とを備えたことを特徴とするプローブカード。
JP2009177073A 2009-07-29 2009-07-29 プローブカード Pending JP2011033355A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009177073A JP2011033355A (ja) 2009-07-29 2009-07-29 プローブカード

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009177073A JP2011033355A (ja) 2009-07-29 2009-07-29 プローブカード

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011033355A true JP2011033355A (ja) 2011-02-17

Family

ID=43762591

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009177073A Pending JP2011033355A (ja) 2009-07-29 2009-07-29 プローブカード

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2011033355A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020165775A (ja) * 2019-03-29 2020-10-08 株式会社日本マイクロニクス プローブカード

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020165775A (ja) * 2019-03-29 2020-10-08 株式会社日本マイクロニクス プローブカード
JP7471778B2 (ja) 2019-03-29 2024-04-22 株式会社日本マイクロニクス プローブカード

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5681213B2 (ja) プローブカード及びその製造方法
JP2011022001A (ja) プローブカード
JP2011117761A (ja) プローブカードおよびプローブカードの製造方法
JP2011112517A (ja) プローブカード及びその製造方法
KR20230078613A (ko) 전기 장치 검사용 프로브 헤드
JP2011033355A (ja) プローブカード
JP5266155B2 (ja) プローブカードの製造方法
JP5643477B2 (ja) コンタクトプローブ
JP2011075532A (ja) プローブカード及びその製造方法
JP5058032B2 (ja) コンタクトプローブの製造方法
KR101066551B1 (ko) 프로브 카드 제조에 사용되는 핀 어레이 틀
JP5700761B2 (ja) 電気的接続装置
JP2010243303A (ja) 低熱膨張インターポーザ
JP2010276426A (ja) プローブカード
JP2008164317A (ja) プローブカード
JP5164543B2 (ja) プローブカードの製造方法
TWI601959B (zh) Proximity patch for probe card, method for manufacturing patch for probe card and probe card
WO2022208708A1 (ja) プローブカード
JPH09159694A (ja) Lsiテストプローブ装置
JP2011053076A (ja) プローブカードの製造方法
KR100829781B1 (ko) 원-터치 프로브 카드 및 이의 제조 방법
JP2023096615A (ja) 電気的接続装置
JP2014016371A (ja) コンタクトプローブ
JP2010181293A (ja) プローブカード
KR100932104B1 (ko) 사선형 탐침부재를 구비한 프로브 블록 및 상기탐침부재를 제조하는 방법