JP2011029494A - 回路基板、及び前記回路基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】表面に樹脂被膜2を形成し、前記樹脂被膜2の外表面側からレーザ加工又は機械加工することによって、所望の形状及び深さの回路溝3を形成し、前記回路溝3の表面及び前記樹脂被膜2の表面に触媒金属5を被着させ、前記絶縁基材1から前記樹脂被膜2を剥離することによって形成された絶縁基材1と、前記絶縁基材1に無電解めっきを施すことによって形成された電気回路6とを備え、前記絶縁基材1が、フィラーを含有することを特徴とする回路基板10である。
【選択図】図1
Description
まず、本発明の第1実施形態にかかる回路基板を製造する方法について説明する。図1は、第1実施形態に係る回路基板を製造する各工程を説明するための模式断面図である。
法や、支持基材に形成されたDFRを真空ラミネーター等を用いて絶縁基材表面に貼りあわせた後、全面硬化することにより容易に形成することができる。
前記第1実施形態では、平面の絶縁基材上に電気回路を形成して得られる回路基板について説明したが、本発明は、特に、それに限定されない。具体的には、絶縁基材として、段差状の立体面を有するような三次元形状の絶縁基材を用いても、正確な配線の電気回路を備える回路基板(立体回路基板)が得られる。
まず、絶縁基材として、平均粒子径0.5μmのシリカ粒子(株式会社アドマテックス製のSO−C2)と、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(DIC株式会社製の850S)と、硬化剤としてのジシアンジアミド(日本カーバイド工業株式会社製のDICY)とからなる基材を用意した。なお、前記絶縁基材は、前記シリカ粒子の含有量が前記絶縁基材に対して30質量%であり、厚みが100μmの基材であった。
なお、膨潤性樹脂被膜の膨潤度は、以下のように求めた。
前記シリカ粒子の含有量が30質量%の絶縁基材から、50質量%の絶縁基材に代えたこと以外、実施例1と同様である。
平均粒子径が0.5μmのシリカ粒子を含有する絶縁基材から、平均粒子径が1.5μmのシリカ粒子を含有する絶縁基材に代えたこと以外、実施例1と同様である。
平均粒子径が0.5μmのシリカ粒子を含有し、その含有量が30質量%の絶縁基材から、平均粒子径が1.5μmのシリカ粒子を含有し、その含有量が50質量%の絶縁基材に代えたこと以外、実施例1と同様である。
平均粒子径が0.5μmのシリカ粒子を含有し、その含有量が30質量%の絶縁基材から、平均粒子径が1.7μmのシリカ粒子を含有し、その含有量が75質量%の絶縁基材に代えたこと以外、実施例1と同様である。
平均粒子径が0.5μmのシリカ粒子を含有する絶縁基材から、平均粒子径が0.05μmのシリカ粒子を含有する絶縁基材に代えたこと以外、実施例1と同様である。
平均粒子径が0.5μmのシリカ粒子を含有し、その含有量が30質量%の絶縁基材から、平均粒子径が0.05μmのシリカ粒子を含有し、その含有量が50質量%の絶縁基材に代えたこと以外、実施例1と同様である。
絶縁基材として、フィラーを含有しない絶縁基材[ビスフェノールA型エポキシ樹脂(DIC株式会社製の850S)と、硬化剤としてのジシアンジアミド(日本カーバイド工業株式会社製のDICY)とからなる基材]を用いること以外、実施例1と同様である。
まず、回路溝を形成した後の絶縁基材を、前記回路溝の延びる方向に垂直な方向に、
7箇所、切断した。その切断面をマイクロスコープ(株式会社ハイロックス製のKH−7700)を用いて観察した。そして、以下の評価基準で評価した。
○:樹脂の溶出が確認された箇所が、7箇所中、1箇所であった
△:樹脂の溶出が確認された箇所が、7箇所中、2箇所であった
×:樹脂の溶出が確認された箇所が、7箇所中、3箇所以上であった。
前記無電解めっきによって、絶縁基材の回路溝(幅20μm、長さ30mm)上に形成されためっき層を、フィルアップめっきを行う前に、マイクロスコープ(株式会社ハイロックス製のKH−7700)を用いて、形成しためっき層全体を観察した。そして、以下の評価基準で評価した。
○:めっき層が形成されていないと確認された箇所が、1箇所であった
△:めっき層が形成されていないと確認された箇所が、2箇所であった
×:めっき層が形成されていないと確認された箇所が、3箇所以上であった。
前記無電解めっきによって、絶縁基材の回路溝(幅20μm、長さ30mm)上に形成されためっき層を、フィルアップめっきを行う前にマイクロスコープ(株式会社ハイロックス製のKH−7700)を用いて、形成しためっき層全体を観察した。そして、以下の評価基準で評価した。
○:めっき層が剥離していると確認された箇所が、1箇所であった
△:めっき層が剥離していると確認された箇所が、2箇所であった
×:めっき層が剥離していると確認された箇所が、3箇所以上であった。
2,22 樹脂被膜
3,23 回路溝
4 貫通孔
5 触媒金属
6 めっき層(電気回路)
7 めっき層
10 回路基板
11 フィラー
51 立体絶縁基材
60 回路基板
Claims (7)
- 表面に樹脂被膜を形成し、前記樹脂被膜の外表面側からレーザ加工又は機械加工することによって、所望の形状及び深さの回路溝を形成し、前記回路溝の表面及び前記樹脂被膜の表面に触媒金属を被着させ、前記絶縁基材から前記樹脂被膜を剥離することによって形成された絶縁基材と、
前記絶縁基材に無電解めっきを施すことによって形成された電気回路とを備え、
前記絶縁基材が、フィラーを含有することを特徴とする回路基板。 - 前記フィラーの含有量が、前記絶縁基材に対して10〜90質量%である請求項1に記載の回路基板。
- 前記フィラーの平均粒子径が、0.05〜10μmである請求項1又は請求項2に記載の回路基板。
- 前記フィラーの平均粒子径が、前記回路溝の幅、前記回路溝の深さ、及び隣接する回路溝と回路溝との間の部分の幅のうちの最小値に対して、0.25〜50%である請求項1〜3のいずれか1項に記載の回路基板。
- 前記フィラーが、無機微粒子である請求項1〜4のいずれか1項に記載の回路基板。
- 前記電気回路が、少なくとも5〜30μmの線幅の部分を含む請求項1〜5のいずれか1項に記載の回路基板。
- 絶縁基材表面に樹脂被膜を形成する被膜形成工程と、
前記樹脂被膜の外表面側から前記絶縁基材にレーザ加工又は機械加工することにより所望の形状及び深さの回路溝を形成する回路溝形成工程と、
前記回路溝の表面及び前記樹脂被膜の表面に触媒金属を被着させる触媒被着工程と、
前記絶縁基材から前記樹脂被膜を剥離する被膜剥離工程と、
前記樹脂被膜が剥離された絶縁基材に無電解めっきを施すめっき処理工程とを備え、
前記被膜形成工程が、前記絶縁基材として、フィラーを含有するものを用いることを特徴とする回路基板の製造方法。
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