JP2011029385A - Flexible multilayered substrate and method of manufacturing the same - Google Patents
Flexible multilayered substrate and method of manufacturing the same Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011029385A JP2011029385A JP2009173164A JP2009173164A JP2011029385A JP 2011029385 A JP2011029385 A JP 2011029385A JP 2009173164 A JP2009173164 A JP 2009173164A JP 2009173164 A JP2009173164 A JP 2009173164A JP 2011029385 A JP2011029385 A JP 2011029385A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wiring pattern
- resin
- multilayer substrate
- region
- flexible multilayer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
Description
本発明は、可撓性を有するコア材と、該コア材上に形成された配線パターンとを各々含む複数の層を積層して形成したフレキシブル多層基板およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a flexible multilayer substrate formed by laminating a plurality of layers each including a flexible core material and a wiring pattern formed on the core material, and a method for manufacturing the same.
特開平8−330683号公報(特許文献1)には、多層のプリント基板の1つの絶縁層をフレキシブルに曲がる材料で構成し、かつその層のみの部分を構成したプリント配線基板が示されている。 Japanese Patent Laid-Open No. 8-330683 (Patent Document 1) discloses a printed wiring board in which one insulating layer of a multilayer printed board is made of a material that bends flexibly and only the layer is formed. .
特開2008−235594号公報(特許文献2)には、リジッドプリント基板上に形成された電極と、配線板接合体に形成された電極とを導電性接着剤を介して電気的に接続することが示されている。 In JP 2008-235594 A (Patent Document 2), an electrode formed on a rigid printed board and an electrode formed on a wiring board assembly are electrically connected via a conductive adhesive. It is shown.
特許文献1に記載の上記基板において、絶縁層上に形成される銅箔の可撓性は必ずしも十分でないため、所望の屈曲性が得られない場合が生じ得る。 In the substrate described in Patent Document 1, the flexibility of the copper foil formed on the insulating layer is not always sufficient, so that the desired flexibility may not be obtained.
また、特許文献2に記載の配線板接合体は、本願発明とはその前提および構成を全く異にするものである。 Further, the wiring board assembly described in Patent Document 2 is completely different from the present invention in its premise and configuration.
本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、所望の屈曲性が得られるフレキシブル多層基板を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a flexible multilayer substrate capable of obtaining desired flexibility.
本発明に係るフレキシブル多層基板は、可撓性を有するコア材と、該コア材上に形成された配線パターンとを含む複数の層を備え、複数の層を積層し、一体化することにより積層体が構成され、複数の層の積層方向から見たときに、相対的に屈曲しやすい第1領域と相対的に屈曲しにくい第2領域とが形成され、配線パターンのうち、少なくとも第1領域上に位置する部分は、導電性粉末が樹脂で固着された導電性樹脂で構成されている。 The flexible multilayer substrate according to the present invention includes a plurality of layers including a flexible core material and a wiring pattern formed on the core material, and is laminated by laminating and integrating the plurality of layers. And a first region that is relatively easy to bend and a second region that is relatively difficult to bend when viewed from the stacking direction of the plurality of layers, and at least the first region of the wiring pattern is formed. The upper portion is made of a conductive resin in which conductive powder is fixed with resin.
上記構成によれば、相対的に屈曲しやすい第1領域に形成される配線パターンを導電性粉末が樹脂で固着された導電性樹脂で構成することにより、当該部分の配線パターンを金属薄膜で構成する場合と比較して、フレキシブル多層基板の屈曲性を向上させることができる。 According to the above configuration, the wiring pattern formed in the first region, which is relatively easy to bend, is configured with the conductive resin in which the conductive powder is fixed with the resin, so that the wiring pattern of the part is configured with the metal thin film. Compared with the case where it does, the flexibility of a flexible multilayer substrate can be improved.
1つの実施態様では、上記フレキシブル多層基板において、導電性樹脂に含まれる導電性粉末は、銅、金、銀、ニッケル、錫からなる群より選ばれた少なくとも1種の導電性粉末である。 In one embodiment, in the flexible multilayer substrate, the conductive powder contained in the conductive resin is at least one conductive powder selected from the group consisting of copper, gold, silver, nickel, and tin.
1つの実施態様では、上記フレキシブル多層基板において、導電性粉末の平均粒子径は0.5μm以上20μm以下である。 In one embodiment, in the flexible multilayer substrate, the average particle size of the conductive powder is 0.5 μm or more and 20 μm or less.
なお、本願明細書において「平均粒子径」とは、JIS R1629に示す方法で測定されたD50平均粒子径を意味する。 In the present specification, “average particle size” means the D 50 average particle size measured by the method shown in JIS R1629.
1つの実施態様では、上記フレキシブル多層基板において、導電性樹脂に含まれる樹脂は熱可塑性樹脂である。 In one embodiment, in the flexible multilayer substrate, the resin contained in the conductive resin is a thermoplastic resin.
1つの実施態様では、上記フレキシブル多層基板において、熱可塑性樹脂のガラス転移点は20℃以下である。 In one embodiment, in the flexible multilayer substrate, the glass transition point of the thermoplastic resin is 20 ° C. or less.
1つの実施態様では、上記フレキシブル多層基板において、コア材は熱可塑性樹脂シートにより構成される。 In one embodiment, in the flexible multilayer substrate, the core material is constituted by a thermoplastic resin sheet.
1つの実施態様では、上記フレキシブル多層基板において、複数の層は、導電性樹脂で構成された配線パターンが表面に形成された第1層と、導電性樹脂で構成された配線パターンよりも硬い金属薄膜からなる配線パターンが表面に形成された第2層とを含む。 In one embodiment, in the flexible multilayer substrate, the plurality of layers include a first layer having a wiring pattern made of a conductive resin formed on a surface thereof, and a metal harder than the wiring pattern made of a conductive resin. And a second layer having a wiring pattern made of a thin film formed on the surface thereof.
本発明に係るフレキシブル多層基板の製造方法は、可撓性を有するコア材と、該コア材上に形成された配線パターンとを含む複数の層を形成する工程と、複数の層を積層し、一体化することにより積層体を構成する工程とを備え、複数の層の積層方向から見たときに、相対的に屈曲しやすい第1領域と相対的に屈曲しにくい第2領域とを形成し、配線パターンのうち、少なくとも第1領域上に位置する部分を、導電性粉末が樹脂で固着された導電性樹脂で構成する。 The method for producing a flexible multilayer substrate according to the present invention includes a step of forming a plurality of layers including a flexible core material and a wiring pattern formed on the core material, and laminating the plurality of layers. Forming a laminate by integrating, and forming a first region that is relatively easy to bend and a second region that is relatively difficult to bend when viewed from the stacking direction of the plurality of layers. In the wiring pattern, at least a portion located on the first region is made of a conductive resin in which conductive powder is fixed with a resin.
上記方法によれば、相対的に屈曲しやすい第1領域に形成される配線パターンを導電性粉末が樹脂で固着された導電性樹脂で構成することにより、当該部分の配線パターンを金属薄膜で構成する場合と比較して、フレキシブル多層基板の屈曲性を向上させることができる。 According to the above method, the wiring pattern formed in the first region that is relatively easily bent is formed of the conductive resin in which the conductive powder is fixed with the resin, so that the wiring pattern of the portion is formed of the metal thin film. Compared with the case where it does, the flexibility of a flexible multilayer substrate can be improved.
本発明によれば、相対的に屈曲しやすい第1領域に形成される配線パターンを導電性粉末が樹脂で固着された導電性樹脂で構成することにより、フレキシブル多層基板における第1領域の屈曲性を向上させることができる。 According to the present invention, the wiring pattern formed in the first region, which is relatively easy to bend, is composed of the conductive resin in which the conductive powder is fixed with the resin, so that the flexibility of the first region in the flexible multilayer substrate is achieved. Can be improved.
以下に、本発明の実施の形態について説明する。なお、同一または相当する部分に同一の参照符号を付し、その説明を繰返さない場合がある。 Embodiments of the present invention will be described below. Note that the same or corresponding portions are denoted by the same reference numerals, and the description thereof may not be repeated.
なお、以下に説明する実施の形態において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。また、以下の実施の形態において、各々の構成要素は、特に記載がある場合を除き、本発明にとって必ずしも必須のものではない。 Note that in the embodiments described below, when referring to the number, amount, and the like, the scope of the present invention is not necessarily limited to the number, amount, and the like unless otherwise specified. In the following embodiments, each component is not necessarily essential for the present invention unless otherwise specified.
(実施の形態1)
図1は、実施の形態1に係るフレキシブル多層基板を示す断面図である。図1を参照して、本実施の形態に係るフレキシブル多層基板は、コア材10と、配線パターン20と、ヴィア導体30とを含む。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a flexible multilayer substrate according to the first embodiment. Referring to FIG. 1, the flexible multilayer substrate according to the present embodiment includes a
コア材10は、可撓性を有する素材で構成される。コア材10は、たとえば、液晶ポリマー(Liquid Crystal Polymer)(以下「LCP」という。)、ポリエチレンテレフタラート(polyethylene terephthalate)(以下「PET」という。)、およびポリイミドなどにより構成される絶縁層である。コア材10は、典型的には、LCPのような熱可塑性樹脂シートにより構成される。
The
コア材10をLCPで構成した場合、寸法安定性および高周波特性等に優れたフレキシブル多層基板を得ることが可能である。コア材10をLCPで構成した場合に高周波特性が向上するのは、LCPは吸水性が低く、コア材が吸収した水分の誘電率で高周波特性が悪化することが抑制されるからである。
When the
コア材10は、屈曲層である第1層αに含まれるもの(第1コア材)と、非屈曲層である第2層βに含まれるもの(第2コア材)とに分類される。
The
配線パターン20は、第1層αに含まれる第1配線パターン21と、第2層βに含まれる第2配線パターン22とを含む。
The
第1配線パターン21および第2配線パターン22は、互いに異なる材料により構成される。より具体的には、第2配線パターン22が金属薄膜で形成されるのに対し、第1配線パターン21は、導電性粉末が樹脂で固着された導電性樹脂で形成される。この導電性樹脂の膜は、たとえば銅箔などの金属薄膜よりも屈曲性に優れている。したがって、第1配線パターン21は、第2配線パターン22よりも屈曲性に優れている。本明細書では、その表面上に第1配線パターン21が形成されたコア材10を「屈曲層」(第1層α)と称し、その表面上に第2配線パターン22が形成されたコア材10を「非屈曲層」(第2層β)と称する。
The
上記の導電性粉末としては、たとえば、導電性樹脂に含まれる導電性粉末は、銅、金、銀、ニッケル、錫、およびそれらの混合物が用いられる。また、好ましくは、導電性粉末の平均粒子径(D50)は0.5μm以上20μm以下程度である。 As said electroconductive powder, copper, gold | metal | money, silver, nickel, tin, and those mixtures are used for the electroconductive powder contained in electroconductive resin, for example. Preferably, the average particle diameter (D 50 ) of the conductive powder is about 0.5 μm or more and 20 μm or less.
導電性粉末の径が大きすぎると、配線形状の再現性、および、微細配線性の低下が懸念される。逆に、導電性粉末の径が小さすぎると、第1配線パターン21の導電性について信頼性が低下することが懸念される。導電性粉末の平均粒子径(D50)を0.5μm以上20μm以下程度とすることで、このような懸念は払拭される。なお、導電性樹脂膜における導電性粉末の割合は、導通信頼性と屈曲性のバランスを考慮して、30〜80vol%程度とすることが好ましい。
If the diameter of the conductive powder is too large, there is a concern about the reproducibility of the wiring shape and the deterioration of the fine wiring property. On the other hand, if the diameter of the conductive powder is too small, there is a concern that the reliability of the conductivity of the
上記の導電性樹脂に含まれる樹脂としては、たとえば、熱可塑性樹脂が用いられる。また、好ましくは、この熱可塑性樹脂のガラス転移点は20℃以下程度である。すなわち、このガラス転移点が20℃以下であれば、ほぼ室温において、導電性樹脂膜が塑性変形し、いったん変形させた後は、その形状が維持されやすくなる。 As the resin contained in the conductive resin, for example, a thermoplastic resin is used. Preferably, the glass transition point of this thermoplastic resin is about 20 ° C. or less. That is, when the glass transition point is 20 ° C. or lower, the conductive resin film is plastically deformed at approximately room temperature, and once it is deformed, its shape is easily maintained.
熱可塑性樹脂のガラス転移点が高すぎると、常温において屈曲性が低下する傾向にある。熱可塑性樹脂のガラス転移点を20℃以下程度とすることで、優れた屈曲性を有するフレキシブル多層基板が得られる。 If the glass transition point of the thermoplastic resin is too high, the flexibility tends to decrease at room temperature. By setting the glass transition point of the thermoplastic resin to about 20 ° C. or less, a flexible multilayer substrate having excellent flexibility can be obtained.
ヴィア導体30は、コア材10に形成されたヴィアホール内に埋設されている。ヴィア導体30は、コア材10の両面上に位置する配線パターン20を電気的に接続する。コア材10上に所定の配線パターン20が形成され、配線パターン20どうしをヴィア導体30で電気的に接続することにより、所望の機能を実現する電気素子が形成される。上述の如く、コア材10としてLCP材を用いた場合は、高周波信号を伝達する高周波素子に適したフレキシブル多層基板が得られる。高周波素子は、携帯電話、デジタルカメラ、ゲーム機、高速伝送ケーブル等、多種多様な用途に用いられるものである。
The via
本実施の形態に係るフレキシブル多層基板においては、第1層αと第2層βとの積層方向(すなわち、図1における上下方向)から見たときに、第1配線パターン21および第2配線パターン22のうち、第1配線パターン21のみが形成された第1領域(屈曲部)Aと、第1配線パターン21および第2配線パターン22の両方が形成された第2領域(非屈曲部)Bとが形成されている。
In the flexible multilayer substrate according to the present embodiment, the
上述のように、屈曲部(フレキシブルエリア)となる第1領域Aには、導電性樹脂膜からなる第1配線パターン21のみが形成されている。したがって、第1配線パターン21に代えて第2配線パターン22を第1領域Aに設けた場合と比較して、第1領域Aの屈曲性が向上する。すなわち、屈曲性の高いフレキシブル多層基板が得られる。
As described above, only the
これに対して、非屈曲部(リジッドエリア)となる第2領域Bには、第1配線パターン21に加えて、金属膜からなる第2配線パターン22が形成されている。したがって、第1領域Aと比較して、第2領域Bは保形性が高い。したがって、第2領域Bは、フレキシブル多層基板をベース基板に実装する際の接続部として利用しやすい。
On the other hand, in addition to the
なお、相対的に屈曲しやすい第1領域Aと相対的に屈曲しにくい第2領域Bとは、たとえば以下の要領で区別可能である。一例として、非屈曲部である第2領域Bでは、各層の配線パターン20を電気的に接続するためのヴィア導体30がコア材10内に形成されているのに対し、屈曲部となる第1領域Aでは、ヴィア導体30が形成されていない。また、ベース基板との接続部となる第2領域Bでは、積層体の最外面に配線パターン20(第2配線パターン22)が形成されているのに対し、屈曲部となるためベース基板との接続部とはならない第1領域Aでは、積層体の最外面に配線パターン20が形成されていない。
The first region A, which is relatively easy to bend, and the second region B, which is relatively difficult to bend, can be distinguished, for example, in the following manner. As an example, in the second region B which is a non-bent portion, the via
上述の如く、本実施の形態に係るフレキシブル多層基板によれば、相対的に屈曲しやすい第1領域Aに形成される第1配線パターン21を導電性粉末が樹脂で固着された導電性樹脂で構成することにより、当該部分の配線パターンを金属薄膜で構成する場合と比較して、フレキシブル多層基板の屈曲性を向上させることができる。
As described above, according to the flexible multilayer substrate according to the present embodiment, the
本願発明者は、上述の作用効果を確認するため、コア材10と第1配線パターン21との幾つかの組み合わせについて、屈曲性を評価するための実験を行なった。その結果を表1に示す。
The inventor of the present application conducted an experiment for evaluating the flexibility of several combinations of the
なお、表1に結果を示す実験では、図1に示したフレキシブル多層基板を用い、コア材10として、厚さ25μmのフレキシブルフィルム(具体的には、表1に示すとおり、ポリイミド、PET、LCP等)が使用されている。第1配線パターン21としては、表1に示した厚み18μmの導体層が使用されている。なお、銅粉の平均粒子径は3.0μmである。第2配線パターン22としては、厚み18μmの銅箔が使用されている。ヴィア導体30としては、銀(Ag)粒子を印刷樹脂溶液に分散させたものをスクリーン印刷によりヴィアホール内に充填して形成したものが使用されている。
In the experiment whose results are shown in Table 1, the flexible multilayer substrate shown in FIG. 1 was used, and a flexible film having a thickness of 25 μm was used as the core material 10 (specifically, polyimide, PET, LCP as shown in Table 1). Etc.) are used. As the
また、表1において、屈曲性は、JIS C6471に規定されている耐折性試験にて評価した。具体的には、室温(25℃)下で、耐折性試験を行ない、500回以上の耐折性を示したものを良好(○)とし、500回未満のものを不良(×)とした。 In Table 1, the flexibility was evaluated by a folding resistance test defined in JIS C6471. Specifically, the folding resistance test was performed at room temperature (25 ° C.), and those that showed folding resistance of 500 times or more were evaluated as good (◯), and those that were less than 500 were rated as poor (×). .
表1に示すように、配線パターン21に導電性樹脂膜を適用した実施例1乃至3では、当該配線パターンを銅箔で形成した比較例よりも優れた屈曲性を実現できることが確認された。
As shown in Table 1, it was confirmed that in Examples 1 to 3 in which a conductive resin film was applied to the
なお、本願発明者は、他の実施例として、導電材料としての銅粉を樹脂であるPMMA(Polymethylmethacrylate)またはPMMA共重合体で固着した導電性樹脂により配線パターン21を形成した例についても、屈曲性を確認する実験を行なった。この実施例においては、樹脂のガラス転移点が45℃〜100℃程度であり、実施例1乃至3と比較してガラス転移点が高いため、常温における屈曲性の向上は、実施例1乃至3には及ばない程度のものであった。換言すれば、導電性粉末を固着する樹脂の樹脂のガラス転移点を20℃以下に設定することにより、常温における屈曲性が顕著に向上することが確認された。
As another example, the inventor of the present application also bent an example in which the
(実施の形成2)
図2は、実施の形態2に係るフレキシブル多層基板を示す断面図である。図2に示すように、本実施の形態に係るフレキシブル多層基板は、実施の形態1に係るフレキシブル多層基板の変形例であって、屈曲層である第1層αにおいて、屈曲部である第1領域Aでは配線パターン20を導電性樹脂からなる配線パターン21で構成し、非屈曲部である第2領域Bでは配線パターン20を金属薄膜からなる配線パターン22で構成することを特徴とする。本実施の形態においても、実施の形態1と同様に、第1領域Aの屈曲性を向上させることができる。
(Formation 2)
FIG. 2 is a sectional view showing a flexible multilayer substrate according to the second embodiment. As shown in FIG. 2, the flexible multilayer substrate according to the present embodiment is a modification of the flexible multilayer substrate according to Embodiment 1, and is a first layer α that is a bent portion in a first layer α that is a bent layer. In the region A, the
なお、上記以外の事項については、実施の形態1と同様であるので、詳細な説明は繰り返さない。 Since matters other than those described above are the same as in the first embodiment, detailed description will not be repeated.
(さらなる変形例)
上述した実施の形態では、導電性樹脂に含まれる導電性粉末を構成する材料およびその平均粒子径を例示したが、導電性粉末は、上述した材料からなるものに限定されず、導電性粉末の平均粒子径は上述の範囲に限定されない。
(Further variations)
In the above-described embodiment, the material constituting the conductive powder contained in the conductive resin and the average particle diameter thereof are exemplified. However, the conductive powder is not limited to the above-described material, and the conductive powder The average particle size is not limited to the above range.
上述した実施の形態では、導電性樹脂に含まれる熱可塑性樹脂のガラス転移点の範囲を例示したが、熱可塑性樹脂のガラス転移点の範囲は、上述のものに限定されない。 In the above-described embodiment, the range of the glass transition point of the thermoplastic resin included in the conductive resin is exemplified, but the range of the glass transition point of the thermoplastic resin is not limited to the above.
上述した実施の形態では、導電性樹脂で構成された配線パターン21が表面に形成された第1層αと、配線パターン21よりも硬い金属薄膜からなる配線パターン22が表面に形成された第2層βとで積層構造を形成する例を示したが、本発明の範囲はこれに限定されず、全ての配線パターン20を導電性樹脂で構成された配線パターン21で構成してもよい。
In the embodiment described above, the first layer α in which the
上述した実施の形態では、複数(2層)の第1層αが積層されているが、本発明の範囲はこれに限定されず、第1層αは1層のみであってもよい。 In the embodiment described above, a plurality (two layers) of the first layers α are stacked. However, the scope of the present invention is not limited to this, and the first layer α may be only one layer.
(製造方法)
以下では、図3〜図8を参照しながら、上述した実施の形態1,2に係るフレキシブル多層基板の製造方法について説明する。ここでは、一例として、コア材10をLCP樹脂で構成した例について説明する。
(Production method)
Below, the manufacturing method of the flexible multilayer substrate which concerns on Embodiment 1, 2 mentioned above is demonstrated, referring FIGS. Here, the example which comprised the
図3に示すように、一方の面に配線パターン20が配置されているコア材10に対して、配線パターン20と電気的に接続するように厚み方向に延在するヴィア導体を設置するための孔をあける処理が行なわれる。この孔あけ加工は、たとえば図3に示すようにレーザ光40の照射によって行なうことができる。
As shown in FIG. 3, for the
孔あけ加工の結果、図4に示すようにコア材10の一部が除去されて孔10Aが得られる。孔10Aは図ではストレートな縦孔として描かれているが、実際にはテーパ状の孔であってもよい。図4に示したのはレーザ光40の照射直後の様子である。孔10Aの内部に元々あったLCP樹脂は、レーザ照射によって除去されており、孔10Aの内壁近傍では、LCP樹脂が溶融した状態の領域が存在している。その後、温度がゆっくり低下することによって、図5に示すように、孔10Aの内壁近傍において溶融していたLCP樹脂が再凝固する。
As a result of the drilling process, as shown in FIG. 4, a part of the
図6に示すように、孔10Aにヴィア導体30を配置する。これはコア材10の上面にヴィア導体30の材料となる金属で成膜し、その後に余分な部分の金属膜を除去することによって行なうことができる。ヴィア導体30はたとえばCuで形成することができる。
As shown in FIG. 6, the via
図7に示すように、ヴィア導体30が形成されたコア材10を含む複数の層を積層する。ただ積み重ねるだけでなく、図8に示すように、積層体に含まれるすべてのコア材10を一体化させる。この工程は、加熱および加圧(高圧真空プレス)をすることによって行なうことができる。
As shown in FIG. 7, a plurality of layers including the
(第1層と第2層との積層方向から見た状態)
上述した実施の形態1,2に係るフレキシブル多層基板は、第1層αと第2層βとを積層し一体化することにより構成された積層体を含むものであるが、この積層体を第1層αと第2層βとの積層方向から見た状態を図9に示す。なお、図9においては、第1配線パターン21のうちパターン21Aを図中破線で示し、第2配線パターン22のうちパターン22Bを図中一点鎖線で示している。また、図9におけるI−I断面が図1の断面図に相当する。
(State seen from the stacking direction of the first layer and the second layer)
The flexible multilayer substrate according to the first and second embodiments described above includes a laminated body formed by laminating and integrating the first layer α and the second layer β, and this laminated body is the first layer. FIG. 9 shows a state viewed from the stacking direction of α and the second layer β. In FIG. 9, the
図9に示すように、第1領域Aでは、第1配線パターン21Aのみが形成されており、第2領域Bでは、第1配線パターン21Aおよび第2配線パターン22Bが双方形成されている。
As shown in FIG. 9, only the
以上、本発明の実施の形態について説明したが、今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the embodiments disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.
10 コア材、10A 孔、20 配線パターン、21 第1配線パターン、22 第2配線パターン、30 ヴィア導体、40 レーザ光、A 第1領域(屈曲部)、B 第2領域(非屈曲部)、α 第1層(屈曲層)、β 第2層(非屈曲層)。 10 core material, 10A hole, 20 wiring pattern, 21 first wiring pattern, 22 second wiring pattern, 30 via conductor, 40 laser light, A first region (bent portion), B second region (non-bent portion), α first layer (bending layer), β second layer (non-bending layer).
Claims (8)
前記複数の層を積層し、一体化することにより積層体が構成され、
前記複数の層の積層方向から見たときに、相対的に屈曲しやすい第1領域と相対的に屈曲しにくい第2領域とが形成され、
前記配線パターンのうち、少なくとも前記第1領域上に位置する部分は、導電性粉末が樹脂で固着された導電性樹脂で構成されている、フレキシブル多層基板。 A plurality of layers including a flexible core material and a wiring pattern formed on the core material;
A laminate is configured by laminating and integrating the plurality of layers,
When viewed from the stacking direction of the plurality of layers, a first region that is relatively easy to bend and a second region that is relatively difficult to bend are formed,
Of the wiring pattern, at least a portion located on the first region is a flexible multilayer substrate made of a conductive resin in which conductive powder is fixed with a resin.
前記複数の層を積層し、一体化することにより積層体を構成する工程とを備え、
前記複数の層の積層方向から見たときに、相対的に屈曲しやすい第1領域と相対的に屈曲しにくい第2領域とを形成し、
前記配線パターンのうち、少なくとも前記第1領域上に位置する部分を、導電性粉末が樹脂で固着された導電性樹脂で構成する、フレキシブル多層基板の製造方法。 Forming a plurality of layers including a flexible core material and a wiring pattern formed on the core material;
And laminating and integrating the plurality of layers to form a laminate,
Forming a first region that is relatively easy to bend and a second region that is relatively difficult to bend when viewed from the stacking direction of the plurality of layers;
A method for manufacturing a flexible multilayer substrate, wherein at least a portion of the wiring pattern located on the first region is formed of a conductive resin in which conductive powder is fixed with a resin.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009173164A JP2011029385A (en) | 2009-07-24 | 2009-07-24 | Flexible multilayered substrate and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009173164A JP2011029385A (en) | 2009-07-24 | 2009-07-24 | Flexible multilayered substrate and method of manufacturing the same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011029385A true JP2011029385A (en) | 2011-02-10 |
Family
ID=43637797
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009173164A Withdrawn JP2011029385A (en) | 2009-07-24 | 2009-07-24 | Flexible multilayered substrate and method of manufacturing the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011029385A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105898982A (en) * | 2016-06-30 | 2016-08-24 | 广东顺德施瑞科技有限公司 | High-voltage flexible circuit board and multi-layer flexible circuit board |
-
2009
- 2009-07-24 JP JP2009173164A patent/JP2011029385A/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105898982A (en) * | 2016-06-30 | 2016-08-24 | 广东顺德施瑞科技有限公司 | High-voltage flexible circuit board and multi-layer flexible circuit board |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6149920B2 (en) | Rigid flexible substrate and manufacturing method thereof | |
JP2018504776A (en) | High speed interconnects for printed circuit boards | |
JP2006294725A (en) | Wiring board, multilayered wiring board, and manufacturing method of these | |
JP4917271B2 (en) | Wiring board manufacturing method | |
CN100558222C (en) | Multiwiring board and manufacture method thereof | |
JP6449111B2 (en) | Shielding material, electronic parts and adhesive sheet | |
JP5273320B2 (en) | Multilayer flexible board | |
JP5668854B2 (en) | Flexible multilayer board | |
JP4409325B2 (en) | Wiring board and manufacturing method thereof | |
JP5945262B2 (en) | Printed wiring board and manufacturing method thereof | |
JP2011029385A (en) | Flexible multilayered substrate and method of manufacturing the same | |
TW540281B (en) | Manufacturing method of conductive paste material and manufacturing method of printing wiring base board | |
JP3956087B2 (en) | Method for manufacturing printed circuit board | |
JP2011029384A (en) | Flexible multilayered substrate and method of manufacturing the same | |
JP2016186986A (en) | Printed wiring board and manufacturing method of the same | |
JP2008198818A (en) | Method of manufacturing printed wiring circuit board | |
JP2008181914A (en) | Multilayer printed-wiring board and manufacturing method thereof | |
JP2004111701A (en) | Printed wiring board and its manufacturing method | |
JP2013098296A (en) | Method for manufacturing long flexible wiring board | |
JP5134713B2 (en) | Wiring board | |
JP6205834B2 (en) | Resin multilayer board | |
JP2013157566A (en) | Printed wiring board and method of manufacturing the printed wiring board | |
JP2009054773A (en) | Multilayer wiring board and manufacturing method thereof | |
TW201204213A (en) | Metode for fabricating circuit board | |
JP2010232596A (en) | Method of manufacturing multilayer wiring board, and multilayer wiring board |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20121002 |