JP2011029385A - Flexible multilayered substrate and method of manufacturing the same - Google Patents

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Junzo Fukuda
順三 福田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a flexible multilayered substrate obtaining desirable bendability. <P>SOLUTION: The flexible multilayered substrate includes a flexible core material 10 and a plurality of layers α, β having a wiring pattern 20 formed on the core material 10. The plurality of layers α, β are laminated and integrated with each other to constitute a laminate. When viewed from a laminated direction of the plurality of layers α, β, a first region A which is relatively liable to bend and a second region B which is relatively hard to bend are formed. In the wiring pattern 20, a part (a wiring pattern 21) disposed at least on the first region A is made of a conductive resin with conductive powder adhered thereto with a resin. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、可撓性を有するコア材と、該コア材上に形成された配線パターンとを各々含む複数の層を積層して形成したフレキシブル多層基板およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a flexible multilayer substrate formed by laminating a plurality of layers each including a flexible core material and a wiring pattern formed on the core material, and a method for manufacturing the same.

特開平8−330683号公報(特許文献1)には、多層のプリント基板の1つの絶縁層をフレキシブルに曲がる材料で構成し、かつその層のみの部分を構成したプリント配線基板が示されている。   Japanese Patent Laid-Open No. 8-330683 (Patent Document 1) discloses a printed wiring board in which one insulating layer of a multilayer printed board is made of a material that bends flexibly and only the layer is formed. .

特開2008−235594号公報(特許文献2)には、リジッドプリント基板上に形成された電極と、配線板接合体に形成された電極とを導電性接着剤を介して電気的に接続することが示されている。   In JP 2008-235594 A (Patent Document 2), an electrode formed on a rigid printed board and an electrode formed on a wiring board assembly are electrically connected via a conductive adhesive. It is shown.

特開平8−330683号公報JP-A-8-330683 特開2008−235594号公報JP 2008-235594 A

特許文献1に記載の上記基板において、絶縁層上に形成される銅箔の可撓性は必ずしも十分でないため、所望の屈曲性が得られない場合が生じ得る。   In the substrate described in Patent Document 1, the flexibility of the copper foil formed on the insulating layer is not always sufficient, so that the desired flexibility may not be obtained.

また、特許文献2に記載の配線板接合体は、本願発明とはその前提および構成を全く異にするものである。   Further, the wiring board assembly described in Patent Document 2 is completely different from the present invention in its premise and configuration.

本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、所望の屈曲性が得られるフレキシブル多層基板を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a flexible multilayer substrate capable of obtaining desired flexibility.

本発明に係るフレキシブル多層基板は、可撓性を有するコア材と、該コア材上に形成された配線パターンとを含む複数の層を備え、複数の層を積層し、一体化することにより積層体が構成され、複数の層の積層方向から見たときに、相対的に屈曲しやすい第1領域と相対的に屈曲しにくい第2領域とが形成され、配線パターンのうち、少なくとも第1領域上に位置する部分は、導電性粉末が樹脂で固着された導電性樹脂で構成されている。   The flexible multilayer substrate according to the present invention includes a plurality of layers including a flexible core material and a wiring pattern formed on the core material, and is laminated by laminating and integrating the plurality of layers. And a first region that is relatively easy to bend and a second region that is relatively difficult to bend when viewed from the stacking direction of the plurality of layers, and at least the first region of the wiring pattern is formed. The upper portion is made of a conductive resin in which conductive powder is fixed with resin.

上記構成によれば、相対的に屈曲しやすい第1領域に形成される配線パターンを導電性粉末が樹脂で固着された導電性樹脂で構成することにより、当該部分の配線パターンを金属薄膜で構成する場合と比較して、フレキシブル多層基板の屈曲性を向上させることができる。   According to the above configuration, the wiring pattern formed in the first region, which is relatively easy to bend, is configured with the conductive resin in which the conductive powder is fixed with the resin, so that the wiring pattern of the part is configured with the metal thin film. Compared with the case where it does, the flexibility of a flexible multilayer substrate can be improved.

1つの実施態様では、上記フレキシブル多層基板において、導電性樹脂に含まれる導電性粉末は、銅、金、銀、ニッケル、錫からなる群より選ばれた少なくとも1種の導電性粉末である。   In one embodiment, in the flexible multilayer substrate, the conductive powder contained in the conductive resin is at least one conductive powder selected from the group consisting of copper, gold, silver, nickel, and tin.

1つの実施態様では、上記フレキシブル多層基板において、導電性粉末の平均粒子径は0.5μm以上20μm以下である。   In one embodiment, in the flexible multilayer substrate, the average particle size of the conductive powder is 0.5 μm or more and 20 μm or less.

なお、本願明細書において「平均粒子径」とは、JIS R1629に示す方法で測定されたD50平均粒子径を意味する。 In the present specification, “average particle size” means the D 50 average particle size measured by the method shown in JIS R1629.

1つの実施態様では、上記フレキシブル多層基板において、導電性樹脂に含まれる樹脂は熱可塑性樹脂である。   In one embodiment, in the flexible multilayer substrate, the resin contained in the conductive resin is a thermoplastic resin.

1つの実施態様では、上記フレキシブル多層基板において、熱可塑性樹脂のガラス転移点は20℃以下である。   In one embodiment, in the flexible multilayer substrate, the glass transition point of the thermoplastic resin is 20 ° C. or less.

1つの実施態様では、上記フレキシブル多層基板において、コア材は熱可塑性樹脂シートにより構成される。   In one embodiment, in the flexible multilayer substrate, the core material is constituted by a thermoplastic resin sheet.

1つの実施態様では、上記フレキシブル多層基板において、複数の層は、導電性樹脂で構成された配線パターンが表面に形成された第1層と、導電性樹脂で構成された配線パターンよりも硬い金属薄膜からなる配線パターンが表面に形成された第2層とを含む。   In one embodiment, in the flexible multilayer substrate, the plurality of layers include a first layer having a wiring pattern made of a conductive resin formed on a surface thereof, and a metal harder than the wiring pattern made of a conductive resin. And a second layer having a wiring pattern made of a thin film formed on the surface thereof.

本発明に係るフレキシブル多層基板の製造方法は、可撓性を有するコア材と、該コア材上に形成された配線パターンとを含む複数の層を形成する工程と、複数の層を積層し、一体化することにより積層体を構成する工程とを備え、複数の層の積層方向から見たときに、相対的に屈曲しやすい第1領域と相対的に屈曲しにくい第2領域とを形成し、配線パターンのうち、少なくとも第1領域上に位置する部分を、導電性粉末が樹脂で固着された導電性樹脂で構成する。   The method for producing a flexible multilayer substrate according to the present invention includes a step of forming a plurality of layers including a flexible core material and a wiring pattern formed on the core material, and laminating the plurality of layers. Forming a laminate by integrating, and forming a first region that is relatively easy to bend and a second region that is relatively difficult to bend when viewed from the stacking direction of the plurality of layers. In the wiring pattern, at least a portion located on the first region is made of a conductive resin in which conductive powder is fixed with a resin.

上記方法によれば、相対的に屈曲しやすい第1領域に形成される配線パターンを導電性粉末が樹脂で固着された導電性樹脂で構成することにより、当該部分の配線パターンを金属薄膜で構成する場合と比較して、フレキシブル多層基板の屈曲性を向上させることができる。   According to the above method, the wiring pattern formed in the first region that is relatively easily bent is formed of the conductive resin in which the conductive powder is fixed with the resin, so that the wiring pattern of the portion is formed of the metal thin film. Compared with the case where it does, the flexibility of a flexible multilayer substrate can be improved.

本発明によれば、相対的に屈曲しやすい第1領域に形成される配線パターンを導電性粉末が樹脂で固着された導電性樹脂で構成することにより、フレキシブル多層基板における第1領域の屈曲性を向上させることができる。   According to the present invention, the wiring pattern formed in the first region, which is relatively easy to bend, is composed of the conductive resin in which the conductive powder is fixed with the resin, so that the flexibility of the first region in the flexible multilayer substrate is achieved. Can be improved.

本発明の実施の形態1に係るフレキシブル多層基板を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the flexible multilayer substrate which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態2に係るフレキシブル多層基板を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the flexible multilayer substrate which concerns on Embodiment 2 of this invention. 実施の形態1,2に係るフレキシブル多層基板の製造工程における第1工程を示す図である。It is a figure which shows the 1st process in the manufacturing process of the flexible multilayer substrate which concerns on Embodiment 1,2. 実施の形態1,2に係るフレキシブル多層基板の製造工程における第2工程を示す図である。It is a figure which shows the 2nd process in the manufacturing process of the flexible multilayer substrate which concerns on Embodiment 1,2. 実施の形態1,2に係るフレキシブル多層基板の製造工程における第3工程を示す図である。It is a figure which shows the 3rd process in the manufacturing process of the flexible multilayer substrate which concerns on Embodiment 1,2. 実施の形態1,2に係るフレキシブル多層基板の製造工程における第4工程を示す図である。It is a figure which shows the 4th process in the manufacturing process of the flexible multilayer substrate which concerns on Embodiment 1,2. 実施の形態1,2に係るフレキシブル多層基板の製造工程における第5工程を示す図である。It is a figure which shows the 5th process in the manufacturing process of the flexible multilayer substrate which concerns on Embodiment 1,2. 実施の形態1,2に係るフレキシブル多層基板の製造工程における第6工程を示す図である。It is a figure which shows the 6th process in the manufacturing process of the flexible multilayer substrate which concerns on Embodiment 1,2. 図1に示すフレキシブル多層基板を第1層と第2層との積層方向から見た状態を示す図である。It is a figure which shows the state which looked at the flexible multilayer substrate shown in FIG. 1 from the lamination direction of the 1st layer and the 2nd layer.

以下に、本発明の実施の形態について説明する。なお、同一または相当する部分に同一の参照符号を付し、その説明を繰返さない場合がある。   Embodiments of the present invention will be described below. Note that the same or corresponding portions are denoted by the same reference numerals, and the description thereof may not be repeated.

なお、以下に説明する実施の形態において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。また、以下の実施の形態において、各々の構成要素は、特に記載がある場合を除き、本発明にとって必ずしも必須のものではない。   Note that in the embodiments described below, when referring to the number, amount, and the like, the scope of the present invention is not necessarily limited to the number, amount, and the like unless otherwise specified. In the following embodiments, each component is not necessarily essential for the present invention unless otherwise specified.

(実施の形態1)
図1は、実施の形態1に係るフレキシブル多層基板を示す断面図である。図1を参照して、本実施の形態に係るフレキシブル多層基板は、コア材10と、配線パターン20と、ヴィア導体30とを含む。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a flexible multilayer substrate according to the first embodiment. Referring to FIG. 1, the flexible multilayer substrate according to the present embodiment includes a core material 10, a wiring pattern 20, and a via conductor 30.

コア材10は、可撓性を有する素材で構成される。コア材10は、たとえば、液晶ポリマー(Liquid Crystal Polymer)(以下「LCP」という。)、ポリエチレンテレフタラート(polyethylene terephthalate)(以下「PET」という。)、およびポリイミドなどにより構成される絶縁層である。コア材10は、典型的には、LCPのような熱可塑性樹脂シートにより構成される。   The core material 10 is made of a flexible material. The core material 10 is an insulating layer made of, for example, a liquid crystal polymer (hereinafter referred to as “LCP”), polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as “PET”), polyimide, and the like. . The core material 10 is typically composed of a thermoplastic resin sheet such as LCP.

コア材10をLCPで構成した場合、寸法安定性および高周波特性等に優れたフレキシブル多層基板を得ることが可能である。コア材10をLCPで構成した場合に高周波特性が向上するのは、LCPは吸水性が低く、コア材が吸収した水分の誘電率で高周波特性が悪化することが抑制されるからである。   When the core material 10 is made of LCP, it is possible to obtain a flexible multilayer substrate having excellent dimensional stability, high frequency characteristics, and the like. The reason why the high frequency characteristics are improved when the core material 10 is made of LCP is that LCP has low water absorption, and deterioration of the high frequency characteristics due to the dielectric constant of the moisture absorbed by the core material is suppressed.

コア材10は、屈曲層である第1層αに含まれるもの(第1コア材)と、非屈曲層である第2層βに含まれるもの(第2コア材)とに分類される。   The core material 10 is classified into one included in the first layer α that is a bent layer (first core material) and one included in the second layer β that is a non-bent layer (second core material).

配線パターン20は、第1層αに含まれる第1配線パターン21と、第2層βに含まれる第2配線パターン22とを含む。   The wiring pattern 20 includes a first wiring pattern 21 included in the first layer α and a second wiring pattern 22 included in the second layer β.

第1配線パターン21および第2配線パターン22は、互いに異なる材料により構成される。より具体的には、第2配線パターン22が金属薄膜で形成されるのに対し、第1配線パターン21は、導電性粉末が樹脂で固着された導電性樹脂で形成される。この導電性樹脂の膜は、たとえば銅箔などの金属薄膜よりも屈曲性に優れている。したがって、第1配線パターン21は、第2配線パターン22よりも屈曲性に優れている。本明細書では、その表面上に第1配線パターン21が形成されたコア材10を「屈曲層」(第1層α)と称し、その表面上に第2配線パターン22が形成されたコア材10を「非屈曲層」(第2層β)と称する。   The first wiring pattern 21 and the second wiring pattern 22 are made of different materials. More specifically, the second wiring pattern 22 is formed of a metal thin film, whereas the first wiring pattern 21 is formed of a conductive resin in which conductive powder is fixed with a resin. This conductive resin film is more flexible than a metal thin film such as a copper foil. Therefore, the first wiring pattern 21 is more flexible than the second wiring pattern 22. In this specification, the core material 10 having the first wiring pattern 21 formed on the surface thereof is referred to as a “bending layer” (first layer α), and the core material having the second wiring pattern 22 formed on the surface thereof. 10 is referred to as a “non-bent layer” (second layer β).

上記の導電性粉末としては、たとえば、導電性樹脂に含まれる導電性粉末は、銅、金、銀、ニッケル、錫、およびそれらの混合物が用いられる。また、好ましくは、導電性粉末の平均粒子径(D50)は0.5μm以上20μm以下程度である。 As said electroconductive powder, copper, gold | metal | money, silver, nickel, tin, and those mixtures are used for the electroconductive powder contained in electroconductive resin, for example. Preferably, the average particle diameter (D 50 ) of the conductive powder is about 0.5 μm or more and 20 μm or less.

導電性粉末の径が大きすぎると、配線形状の再現性、および、微細配線性の低下が懸念される。逆に、導電性粉末の径が小さすぎると、第1配線パターン21の導電性について信頼性が低下することが懸念される。導電性粉末の平均粒子径(D50)を0.5μm以上20μm以下程度とすることで、このような懸念は払拭される。なお、導電性樹脂膜における導電性粉末の割合は、導通信頼性と屈曲性のバランスを考慮して、30〜80vol%程度とすることが好ましい。 If the diameter of the conductive powder is too large, there is a concern about the reproducibility of the wiring shape and the deterioration of the fine wiring property. On the other hand, if the diameter of the conductive powder is too small, there is a concern that the reliability of the conductivity of the first wiring pattern 21 is lowered. Such a concern is wiped out by setting the average particle diameter (D 50 ) of the conductive powder to about 0.5 μm or more and 20 μm or less. In addition, it is preferable that the ratio of the electroconductive powder in an electroconductive resin film shall be about 30-80 vol% considering the balance of conduction | electrical_connection reliability and flexibility.

上記の導電性樹脂に含まれる樹脂としては、たとえば、熱可塑性樹脂が用いられる。また、好ましくは、この熱可塑性樹脂のガラス転移点は20℃以下程度である。すなわち、このガラス転移点が20℃以下であれば、ほぼ室温において、導電性樹脂膜が塑性変形し、いったん変形させた後は、その形状が維持されやすくなる。   As the resin contained in the conductive resin, for example, a thermoplastic resin is used. Preferably, the glass transition point of this thermoplastic resin is about 20 ° C. or less. That is, when the glass transition point is 20 ° C. or lower, the conductive resin film is plastically deformed at approximately room temperature, and once it is deformed, its shape is easily maintained.

熱可塑性樹脂のガラス転移点が高すぎると、常温において屈曲性が低下する傾向にある。熱可塑性樹脂のガラス転移点を20℃以下程度とすることで、優れた屈曲性を有するフレキシブル多層基板が得られる。   If the glass transition point of the thermoplastic resin is too high, the flexibility tends to decrease at room temperature. By setting the glass transition point of the thermoplastic resin to about 20 ° C. or less, a flexible multilayer substrate having excellent flexibility can be obtained.

ヴィア導体30は、コア材10に形成されたヴィアホール内に埋設されている。ヴィア導体30は、コア材10の両面上に位置する配線パターン20を電気的に接続する。コア材10上に所定の配線パターン20が形成され、配線パターン20どうしをヴィア導体30で電気的に接続することにより、所望の機能を実現する電気素子が形成される。上述の如く、コア材10としてLCP材を用いた場合は、高周波信号を伝達する高周波素子に適したフレキシブル多層基板が得られる。高周波素子は、携帯電話、デジタルカメラ、ゲーム機、高速伝送ケーブル等、多種多様な用途に用いられるものである。   The via conductor 30 is embedded in a via hole formed in the core material 10. The via conductors 30 electrically connect the wiring patterns 20 located on both surfaces of the core material 10. A predetermined wiring pattern 20 is formed on the core material 10, and the wiring elements 20 are electrically connected by the via conductors 30, thereby forming an electric element that realizes a desired function. As described above, when an LCP material is used as the core material 10, a flexible multilayer substrate suitable for a high-frequency element that transmits a high-frequency signal can be obtained. The high-frequency element is used for various applications such as a mobile phone, a digital camera, a game machine, and a high-speed transmission cable.

本実施の形態に係るフレキシブル多層基板においては、第1層αと第2層βとの積層方向(すなわち、図1における上下方向)から見たときに、第1配線パターン21および第2配線パターン22のうち、第1配線パターン21のみが形成された第1領域(屈曲部)Aと、第1配線パターン21および第2配線パターン22の両方が形成された第2領域(非屈曲部)Bとが形成されている。   In the flexible multilayer substrate according to the present embodiment, the first wiring pattern 21 and the second wiring pattern when viewed from the stacking direction of the first layer α and the second layer β (that is, the vertical direction in FIG. 1). 22, a first region (bent portion) A in which only the first wiring pattern 21 is formed, and a second region (non-bent portion) B in which both the first wiring pattern 21 and the second wiring pattern 22 are formed. And are formed.

上述のように、屈曲部(フレキシブルエリア)となる第1領域Aには、導電性樹脂膜からなる第1配線パターン21のみが形成されている。したがって、第1配線パターン21に代えて第2配線パターン22を第1領域Aに設けた場合と比較して、第1領域Aの屈曲性が向上する。すなわち、屈曲性の高いフレキシブル多層基板が得られる。   As described above, only the first wiring pattern 21 made of the conductive resin film is formed in the first region A serving as the bent portion (flexible area). Therefore, the flexibility of the first region A is improved as compared with the case where the second wiring pattern 22 is provided in the first region A instead of the first wiring pattern 21. That is, a flexible multilayer substrate having high flexibility can be obtained.

これに対して、非屈曲部(リジッドエリア)となる第2領域Bには、第1配線パターン21に加えて、金属膜からなる第2配線パターン22が形成されている。したがって、第1領域Aと比較して、第2領域Bは保形性が高い。したがって、第2領域Bは、フレキシブル多層基板をベース基板に実装する際の接続部として利用しやすい。   On the other hand, in addition to the first wiring pattern 21, a second wiring pattern 22 made of a metal film is formed in the second region B serving as a non-bent portion (rigid area). Therefore, the second region B has higher shape retention than the first region A. Therefore, the second region B can be easily used as a connection portion when the flexible multilayer substrate is mounted on the base substrate.

なお、相対的に屈曲しやすい第1領域Aと相対的に屈曲しにくい第2領域Bとは、たとえば以下の要領で区別可能である。一例として、非屈曲部である第2領域Bでは、各層の配線パターン20を電気的に接続するためのヴィア導体30がコア材10内に形成されているのに対し、屈曲部となる第1領域Aでは、ヴィア導体30が形成されていない。また、ベース基板との接続部となる第2領域Bでは、積層体の最外面に配線パターン20(第2配線パターン22)が形成されているのに対し、屈曲部となるためベース基板との接続部とはならない第1領域Aでは、積層体の最外面に配線パターン20が形成されていない。   The first region A, which is relatively easy to bend, and the second region B, which is relatively difficult to bend, can be distinguished, for example, in the following manner. As an example, in the second region B which is a non-bent portion, the via conductor 30 for electrically connecting the wiring patterns 20 of each layer is formed in the core material 10, whereas the first portion which is a bent portion. In the region A, the via conductor 30 is not formed. In addition, in the second region B which is a connection portion with the base substrate, the wiring pattern 20 (second wiring pattern 22) is formed on the outermost surface of the stacked body, whereas it becomes a bent portion. In the first region A that does not become a connection portion, the wiring pattern 20 is not formed on the outermost surface of the stacked body.

上述の如く、本実施の形態に係るフレキシブル多層基板によれば、相対的に屈曲しやすい第1領域Aに形成される第1配線パターン21を導電性粉末が樹脂で固着された導電性樹脂で構成することにより、当該部分の配線パターンを金属薄膜で構成する場合と比較して、フレキシブル多層基板の屈曲性を向上させることができる。   As described above, according to the flexible multilayer substrate according to the present embodiment, the first wiring pattern 21 formed in the first region A, which is relatively easily bent, is made of conductive resin in which conductive powder is fixed with resin. By comprising, the flexibility of a flexible multilayer substrate can be improved compared with the case where the wiring pattern of the said part is comprised with a metal thin film.

本願発明者は、上述の作用効果を確認するため、コア材10と第1配線パターン21との幾つかの組み合わせについて、屈曲性を評価するための実験を行なった。その結果を表1に示す。   The inventor of the present application conducted an experiment for evaluating the flexibility of several combinations of the core material 10 and the first wiring pattern 21 in order to confirm the above-described effects. The results are shown in Table 1.

Figure 2011029385
Figure 2011029385

なお、表1に結果を示す実験では、図1に示したフレキシブル多層基板を用い、コア材10として、厚さ25μmのフレキシブルフィルム(具体的には、表1に示すとおり、ポリイミド、PET、LCP等)が使用されている。第1配線パターン21としては、表1に示した厚み18μmの導体層が使用されている。なお、銅粉の平均粒子径は3.0μmである。第2配線パターン22としては、厚み18μmの銅箔が使用されている。ヴィア導体30としては、銀(Ag)粒子を印刷樹脂溶液に分散させたものをスクリーン印刷によりヴィアホール内に充填して形成したものが使用されている。   In the experiment whose results are shown in Table 1, the flexible multilayer substrate shown in FIG. 1 was used, and a flexible film having a thickness of 25 μm was used as the core material 10 (specifically, polyimide, PET, LCP as shown in Table 1). Etc.) are used. As the first wiring pattern 21, a conductor layer having a thickness of 18 μm shown in Table 1 is used. In addition, the average particle diameter of copper powder is 3.0 micrometers. As the second wiring pattern 22, a copper foil having a thickness of 18 μm is used. The via conductor 30 is formed by filling a via hole by screen printing with silver (Ag) particles dispersed in a printing resin solution.

また、表1において、屈曲性は、JIS C6471に規定されている耐折性試験にて評価した。具体的には、室温(25℃)下で、耐折性試験を行ない、500回以上の耐折性を示したものを良好(○)とし、500回未満のものを不良(×)とした。   In Table 1, the flexibility was evaluated by a folding resistance test defined in JIS C6471. Specifically, the folding resistance test was performed at room temperature (25 ° C.), and those that showed folding resistance of 500 times or more were evaluated as good (◯), and those that were less than 500 were rated as poor (×). .

表1に示すように、配線パターン21に導電性樹脂膜を適用した実施例1乃至3では、当該配線パターンを銅箔で形成した比較例よりも優れた屈曲性を実現できることが確認された。   As shown in Table 1, it was confirmed that in Examples 1 to 3 in which a conductive resin film was applied to the wiring pattern 21, it was possible to achieve better flexibility than the comparative example in which the wiring pattern was formed of copper foil.

なお、本願発明者は、他の実施例として、導電材料としての銅粉を樹脂であるPMMA(Polymethylmethacrylate)またはPMMA共重合体で固着した導電性樹脂により配線パターン21を形成した例についても、屈曲性を確認する実験を行なった。この実施例においては、樹脂のガラス転移点が45℃〜100℃程度であり、実施例1乃至3と比較してガラス転移点が高いため、常温における屈曲性の向上は、実施例1乃至3には及ばない程度のものであった。換言すれば、導電性粉末を固着する樹脂の樹脂のガラス転移点を20℃以下に設定することにより、常温における屈曲性が顕著に向上することが確認された。   As another example, the inventor of the present application also bent an example in which the wiring pattern 21 was formed of a conductive resin in which copper powder as a conductive material was fixed with a resin such as PMMA (Polymethylmethacrylate) or PMMA copolymer. An experiment to confirm the sex was conducted. In this example, since the glass transition point of the resin is about 45 ° C. to 100 ° C. and the glass transition point is higher than that of Examples 1 to 3, the improvement in flexibility at room temperature is shown in Examples 1 to 3. It was a thing of the grade which did not reach. In other words, it was confirmed that the flexibility at room temperature is remarkably improved by setting the glass transition point of the resin of the resin to which the conductive powder is fixed to 20 ° C. or less.

(実施の形成2)
図2は、実施の形態2に係るフレキシブル多層基板を示す断面図である。図2に示すように、本実施の形態に係るフレキシブル多層基板は、実施の形態1に係るフレキシブル多層基板の変形例であって、屈曲層である第1層αにおいて、屈曲部である第1領域Aでは配線パターン20を導電性樹脂からなる配線パターン21で構成し、非屈曲部である第2領域Bでは配線パターン20を金属薄膜からなる配線パターン22で構成することを特徴とする。本実施の形態においても、実施の形態1と同様に、第1領域Aの屈曲性を向上させることができる。
(Formation 2)
FIG. 2 is a sectional view showing a flexible multilayer substrate according to the second embodiment. As shown in FIG. 2, the flexible multilayer substrate according to the present embodiment is a modification of the flexible multilayer substrate according to Embodiment 1, and is a first layer α that is a bent portion in a first layer α that is a bent layer. In the region A, the wiring pattern 20 is constituted by a wiring pattern 21 made of a conductive resin, and in the second region B which is a non-bent portion, the wiring pattern 20 is constituted by a wiring pattern 22 made of a metal thin film. Also in the present embodiment, the flexibility of the first region A can be improved as in the first embodiment.

なお、上記以外の事項については、実施の形態1と同様であるので、詳細な説明は繰り返さない。   Since matters other than those described above are the same as in the first embodiment, detailed description will not be repeated.

(さらなる変形例)
上述した実施の形態では、導電性樹脂に含まれる導電性粉末を構成する材料およびその平均粒子径を例示したが、導電性粉末は、上述した材料からなるものに限定されず、導電性粉末の平均粒子径は上述の範囲に限定されない。
(Further variations)
In the above-described embodiment, the material constituting the conductive powder contained in the conductive resin and the average particle diameter thereof are exemplified. However, the conductive powder is not limited to the above-described material, and the conductive powder The average particle size is not limited to the above range.

上述した実施の形態では、導電性樹脂に含まれる熱可塑性樹脂のガラス転移点の範囲を例示したが、熱可塑性樹脂のガラス転移点の範囲は、上述のものに限定されない。   In the above-described embodiment, the range of the glass transition point of the thermoplastic resin included in the conductive resin is exemplified, but the range of the glass transition point of the thermoplastic resin is not limited to the above.

上述した実施の形態では、導電性樹脂で構成された配線パターン21が表面に形成された第1層αと、配線パターン21よりも硬い金属薄膜からなる配線パターン22が表面に形成された第2層βとで積層構造を形成する例を示したが、本発明の範囲はこれに限定されず、全ての配線パターン20を導電性樹脂で構成された配線パターン21で構成してもよい。   In the embodiment described above, the first layer α in which the wiring pattern 21 made of a conductive resin is formed on the surface and the wiring pattern 22 made of a metal thin film harder than the wiring pattern 21 is formed on the surface. Although an example in which a laminated structure is formed with the layer β has been shown, the scope of the present invention is not limited to this, and all the wiring patterns 20 may be constituted by the wiring patterns 21 made of a conductive resin.

上述した実施の形態では、複数(2層)の第1層αが積層されているが、本発明の範囲はこれに限定されず、第1層αは1層のみであってもよい。   In the embodiment described above, a plurality (two layers) of the first layers α are stacked. However, the scope of the present invention is not limited to this, and the first layer α may be only one layer.

(製造方法)
以下では、図3〜図8を参照しながら、上述した実施の形態1,2に係るフレキシブル多層基板の製造方法について説明する。ここでは、一例として、コア材10をLCP樹脂で構成した例について説明する。
(Production method)
Below, the manufacturing method of the flexible multilayer substrate which concerns on Embodiment 1, 2 mentioned above is demonstrated, referring FIGS. Here, the example which comprised the core material 10 with LCP resin is demonstrated as an example.

図3に示すように、一方の面に配線パターン20が配置されているコア材10に対して、配線パターン20と電気的に接続するように厚み方向に延在するヴィア導体を設置するための孔をあける処理が行なわれる。この孔あけ加工は、たとえば図3に示すようにレーザ光40の照射によって行なうことができる。   As shown in FIG. 3, for the core material 10 having the wiring pattern 20 disposed on one surface, a via conductor extending in the thickness direction is installed so as to be electrically connected to the wiring pattern 20. A process of drilling is performed. This drilling can be performed, for example, by irradiation with laser light 40 as shown in FIG.

孔あけ加工の結果、図4に示すようにコア材10の一部が除去されて孔10Aが得られる。孔10Aは図ではストレートな縦孔として描かれているが、実際にはテーパ状の孔であってもよい。図4に示したのはレーザ光40の照射直後の様子である。孔10Aの内部に元々あったLCP樹脂は、レーザ照射によって除去されており、孔10Aの内壁近傍では、LCP樹脂が溶融した状態の領域が存在している。その後、温度がゆっくり低下することによって、図5に示すように、孔10Aの内壁近傍において溶融していたLCP樹脂が再凝固する。   As a result of the drilling process, as shown in FIG. 4, a part of the core material 10 is removed to obtain the hole 10A. The hole 10A is depicted as a straight vertical hole in the figure, but may actually be a tapered hole. FIG. 4 shows a state immediately after the irradiation with the laser beam 40. The LCP resin originally present in the hole 10A is removed by laser irradiation, and there is a region where the LCP resin is melted in the vicinity of the inner wall of the hole 10A. Thereafter, as the temperature slowly decreases, as shown in FIG. 5, the LCP resin melted in the vicinity of the inner wall of the hole 10A is re-solidified.

図6に示すように、孔10Aにヴィア導体30を配置する。これはコア材10の上面にヴィア導体30の材料となる金属で成膜し、その後に余分な部分の金属膜を除去することによって行なうことができる。ヴィア導体30はたとえばCuで形成することができる。   As shown in FIG. 6, the via conductor 30 is disposed in the hole 10A. This can be performed by forming a film with a metal that will be the material of the via conductor 30 on the upper surface of the core material 10 and then removing the excess metal film. The via conductor 30 can be formed of Cu, for example.

図7に示すように、ヴィア導体30が形成されたコア材10を含む複数の層を積層する。ただ積み重ねるだけでなく、図8に示すように、積層体に含まれるすべてのコア材10を一体化させる。この工程は、加熱および加圧(高圧真空プレス)をすることによって行なうことができる。   As shown in FIG. 7, a plurality of layers including the core material 10 on which the via conductors 30 are formed are laminated. In addition to stacking, as shown in FIG. 8, all the core members 10 included in the laminate are integrated. This step can be performed by heating and pressurizing (high pressure vacuum press).

(第1層と第2層との積層方向から見た状態)
上述した実施の形態1,2に係るフレキシブル多層基板は、第1層αと第2層βとを積層し一体化することにより構成された積層体を含むものであるが、この積層体を第1層αと第2層βとの積層方向から見た状態を図9に示す。なお、図9においては、第1配線パターン21のうちパターン21Aを図中破線で示し、第2配線パターン22のうちパターン22Bを図中一点鎖線で示している。また、図9におけるI−I断面が図1の断面図に相当する。
(State seen from the stacking direction of the first layer and the second layer)
The flexible multilayer substrate according to the first and second embodiments described above includes a laminated body formed by laminating and integrating the first layer α and the second layer β, and this laminated body is the first layer. FIG. 9 shows a state viewed from the stacking direction of α and the second layer β. In FIG. 9, the pattern 21 </ b> A of the first wiring pattern 21 is indicated by a broken line in the drawing, and the pattern 22 </ b> B of the second wiring pattern 22 is indicated by an alternate long and short dash line in the drawing. 9 corresponds to the cross-sectional view of FIG.

図9に示すように、第1領域Aでは、第1配線パターン21Aのみが形成されており、第2領域Bでは、第1配線パターン21Aおよび第2配線パターン22Bが双方形成されている。   As shown in FIG. 9, only the first wiring pattern 21A is formed in the first region A, and both the first wiring pattern 21A and the second wiring pattern 22B are formed in the second region B.

以上、本発明の実施の形態について説明したが、今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   Although the embodiments of the present invention have been described above, the embodiments disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

10 コア材、10A 孔、20 配線パターン、21 第1配線パターン、22 第2配線パターン、30 ヴィア導体、40 レーザ光、A 第1領域(屈曲部)、B 第2領域(非屈曲部)、α 第1層(屈曲層)、β 第2層(非屈曲層)。   10 core material, 10A hole, 20 wiring pattern, 21 first wiring pattern, 22 second wiring pattern, 30 via conductor, 40 laser light, A first region (bent portion), B second region (non-bent portion), α first layer (bending layer), β second layer (non-bending layer).

Claims (8)

可撓性を有するコア材と、該コア材上に形成された配線パターンとを含む複数の層を備え、
前記複数の層を積層し、一体化することにより積層体が構成され、
前記複数の層の積層方向から見たときに、相対的に屈曲しやすい第1領域と相対的に屈曲しにくい第2領域とが形成され、
前記配線パターンのうち、少なくとも前記第1領域上に位置する部分は、導電性粉末が樹脂で固着された導電性樹脂で構成されている、フレキシブル多層基板。
A plurality of layers including a flexible core material and a wiring pattern formed on the core material;
A laminate is configured by laminating and integrating the plurality of layers,
When viewed from the stacking direction of the plurality of layers, a first region that is relatively easy to bend and a second region that is relatively difficult to bend are formed,
Of the wiring pattern, at least a portion located on the first region is a flexible multilayer substrate made of a conductive resin in which conductive powder is fixed with a resin.
前記導電性樹脂に含まれる前記導電性粉末は、銅、金、銀、ニッケル、錫からなる群より選ばれた少なくとも1種の導電性粉末である、請求項1に記載のフレキシブル多層基板。   The flexible multilayer substrate according to claim 1, wherein the conductive powder contained in the conductive resin is at least one conductive powder selected from the group consisting of copper, gold, silver, nickel, and tin. 前記導電性粉末の平均粒子径は0.5μm以上20μm以下である、請求項2に記載のフレキシブル多層基板。   The flexible multilayer substrate according to claim 2, wherein the conductive powder has an average particle size of 0.5 μm or more and 20 μm or less. 前記導電性樹脂に含まれる前記樹脂は熱可塑性樹脂である、請求項1から請求項3のいずれかに記載のフレキシブル多層基板。   The flexible multilayer substrate according to any one of claims 1 to 3, wherein the resin contained in the conductive resin is a thermoplastic resin. 前記熱可塑性樹脂のガラス転移点は20℃以下である、請求項4に記載のフレキシブル多層基板。   The flexible multilayer substrate according to claim 4, wherein a glass transition point of the thermoplastic resin is 20 ° C. or less. 前記コア材は熱可塑性樹脂シートにより構成される、請求項1から請求項5のいずれかに記載のフレキシブル多層基板。   The flexible multilayer substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein the core material is constituted by a thermoplastic resin sheet. 前記複数の層は、前記導電性樹脂で構成された配線パターンが表面に形成された第1層と、前記導電性樹脂で構成された配線パターンよりも硬い金属薄膜からなる配線パターンが表面に形成された第2層とを含む、請求項1から請求項6のいずれかに記載のフレキシブル多層基板。   The plurality of layers include a first layer having a wiring pattern made of the conductive resin formed on the surface and a wiring pattern made of a metal thin film harder than the wiring pattern made of the conductive resin on the surface. The flexible multilayer substrate according to any one of claims 1 to 6, comprising a second layer formed. 可撓性を有するコア材と、該コア材上に形成された配線パターンとを含む複数の層を形成する工程と、
前記複数の層を積層し、一体化することにより積層体を構成する工程とを備え、
前記複数の層の積層方向から見たときに、相対的に屈曲しやすい第1領域と相対的に屈曲しにくい第2領域とを形成し、
前記配線パターンのうち、少なくとも前記第1領域上に位置する部分を、導電性粉末が樹脂で固着された導電性樹脂で構成する、フレキシブル多層基板の製造方法。
Forming a plurality of layers including a flexible core material and a wiring pattern formed on the core material;
And laminating and integrating the plurality of layers to form a laminate,
Forming a first region that is relatively easy to bend and a second region that is relatively difficult to bend when viewed from the stacking direction of the plurality of layers;
A method for manufacturing a flexible multilayer substrate, wherein at least a portion of the wiring pattern located on the first region is formed of a conductive resin in which conductive powder is fixed with a resin.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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