JP2011028277A - Optical member - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical member having an oxide layer with a stabilized micro uneven structure and excellent durability, and a method of manufacturing the optical member. <P>SOLUTION: The optical member has a base material 21 and an anti-reflection film on the surface of the base material. The anti-reflection film has a metal oxide layer having a micro uneven structure on the surface due to aluminum oxide crystals. The metal oxide layer contains an amorphous layer 23, and at least the surface of the metal oxide layer is aluminum phosphate 25. The height of the micro uneven structure is 0.1-5 μm. Alternately, the aluminum oxide crystals are boehmite. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、光学部材に関する。具体的には、表面に酸化物の微細凹凸構造を有する光学部材に関する。   The present invention relates to an optical member. Specifically, the present invention relates to an optical member having a fine concavo-convex structure of an oxide on the surface.

ガラス眼鏡、光学レンズ、太陽電池パネル、ブラウン管、フィルター、ディスプレーパネルなどでは、表面の光散乱や反射の低減が求められている。これを実現するための一つの方法として、屈折率や膜厚を制御した単層または多層の反射防止膜が用いられている。この場合、膜の反射防止性能が波長と入射角度に応じて変化することが知られ、幅広い波長領域と入射角度に対する高性能反射防止性能を実現することは難しいことが知られている。   Glass glasses, optical lenses, solar battery panels, cathode ray tubes, filters, display panels, and the like are required to reduce surface light scattering and reflection. As one method for realizing this, a single-layer or multilayer antireflection film with a controlled refractive index and film thickness is used. In this case, it is known that the antireflection performance of the film changes depending on the wavelength and the incident angle, and it is known that it is difficult to realize high performance antireflection performance for a wide wavelength region and incident angle.

一方、従来よりガラスの表面に微細な凹凸を形成させて、反射防止機能を付与することが知られている。特に波長以下の微細化が出来れば、広い入射角度範囲において高い反射防止機能が期待される。微細化の手段として、ガラス表面への化学的エッチングや機械的粗面加工等が提案されている。化学エッチングと機械的加工は、可視光範囲の波長以下の微細化が難しく、特に透明性が必要とされる用途においては反射防止性能を有するものにはまだ至っていない。一方、ガラスの表面に凹凸構造を形成する塗膜も検討されてきた。例えば、特許文献1には、ガラスを含む透明物質に、アルミニウム、マグネシウム及び亜鉛またはそれらの合金の金属膜を酸化物または水酸化物に転化させ、種々の高さと形状を有する個々の小葉体を構成した反射防止膜が開示されている。また、特許文献2には、基体上に少なくともアルミニウムアルコキシドと安定化剤からなる塗布液を塗布し、アモルファスアルミナ膜を形成した後、熱水処理、乾燥してなる花弁状にランダム集合化した透明アルミナ膜が開示されている。   On the other hand, it has been conventionally known that fine irregularities are formed on the surface of glass to provide an antireflection function. In particular, if miniaturization below the wavelength can be achieved, a high antireflection function is expected in a wide incident angle range. As means for miniaturization, chemical etching on the glass surface, mechanical roughing, and the like have been proposed. In chemical etching and mechanical processing, it is difficult to reduce the wavelength below the wavelength in the visible light range, and an antireflection performance has not yet been achieved in applications that require transparency. On the other hand, a coating film that forms an uneven structure on the surface of glass has also been studied. For example, Patent Document 1 discloses that individual leaflets having various heights and shapes are obtained by converting a metal film of aluminum, magnesium and zinc or an alloy thereof into an oxide or hydroxide into a transparent material including glass. A constructed anti-reflective coating is disclosed. Further, in Patent Document 2, a coating liquid composed of at least an aluminum alkoxide and a stabilizer is applied on a substrate, an amorphous alumina film is formed, then hydrothermally treated, dried and randomly assembled into a petal shape. An alumina membrane is disclosed.

特公昭61−48124号公報Japanese Patent Publication No. 61-48124 特開平9−202649号公報JP-A-9-202649

特許文献1及び特許文献2に示されるように塗布膜は通常多孔質である場合が多い。基材である多くの高屈折率ガラスは、水、湿気に弱いアルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物や酸化ホウ素等の酸化物成分が含まれている。塗布膜形成用の基材としてこれらのガラスを適用する場合、空気中の水、湿気が基材表面まで入り込んでしまい、基材に含まれるアルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物や酸化ホウ素等が放出され、表面またはその界面が曇ったり、白化したりしてしまう。特に、多孔質酸化物に含まれている不安定な成分(例えば、水溶性成分や、水に溶解して再析出し得る成分)が水分と接触すると、水和反応等が進み、光学特性が経時と共に変動する問題も指摘されている。更に、酸を含む環境下に置かれると、多孔質酸化物自身が酸により溶解したり、変質等が起こる場合がある。   As shown in Patent Document 1 and Patent Document 2, the coating film is usually porous in many cases. Many high-refractive-index glasses that are base materials contain oxide components such as water, moisture-sensitive alkali metal oxides, alkaline earth metal oxides, and boron oxide. When these glasses are applied as a substrate for forming a coating film, water and moisture in the air enter the substrate surface, and alkali metal oxides, alkaline earth metal oxides and boron oxide contained in the substrate Etc. are released, and the surface or its interface becomes clouded or whitened. In particular, when an unstable component (for example, a water-soluble component or a component that can be dissolved and re-precipitated in water) contained in the porous oxide comes into contact with moisture, the hydration reaction proceeds and the optical characteristics are improved. Problems that change over time have also been pointed out. Furthermore, when placed in an environment containing an acid, the porous oxide itself may be dissolved by the acid or may be altered.

本発明は、このような従来の問題点に鑑みてなされたものであり、酸化物層の表面に微細な凹凸構造を有した光学部材に関するものである。特に酸化物層表面の微細凹凸構造が安定化し、耐久性に優れた酸化物層付き光学部材を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such conventional problems, and relates to an optical member having a fine uneven structure on the surface of an oxide layer. In particular, an object of the present invention is to provide an optical member with an oxide layer that has a fine uneven structure on the surface of the oxide layer and is excellent in durability.

前記目的を達成するために、本発明の光学部材は、基材と、該基材表面に反射防止膜とを有する光学部材であって、前記反射防止膜は少なくとも、表面に酸化アルミニウムの結晶による微細凹凸構造が形成された金属酸化物層を有し、前記金属酸化物層はアモルファス層を含み、前記金属酸化物層の少なくとも表面はリン酸アルミニウムとなっていることを特徴とする。 In order to achieve the above object, the optical member of the present invention is an optical member having a base material and an antireflection film on the surface of the base material, and the antireflection film is made of at least a surface of aluminum oxide crystals. It has a metal oxide layer in which a fine relief structure is formed, the metal oxide layer includes an amorphous layer, and at least the surface of the metal oxide layer is made of aluminum phosphate .

本発明によれば、基材に、表面に微細凹凸構造を有する酸化物層を付与し、更にリン酸塩化合物を含ませることにより、酸化物層の微細凹凸構造の安定性が格段に向上する効果を示す。更に、アルカリ、アルカリ土類、ホウ素を含む光学ガラスに適用でき、ガラス由来の耐久性の弱点が解消され、幅広い光学特性をもつ光学部材が可能となる。   According to the present invention, the stability of the fine uneven structure of the oxide layer is remarkably improved by providing the base material with an oxide layer having a fine uneven structure on the surface and further including a phosphate compound. Show the effect. Furthermore, it can be applied to optical glass containing alkali, alkaline earth, and boron, the weakness of durability derived from glass is eliminated, and an optical member having a wide range of optical characteristics becomes possible.

本発明の光学部材における第1の実施形態を図示したものFIG. 1 illustrates a first embodiment of the optical member of the present invention. 本発明の光学部材における第2の実施形態を図示したものThe second embodiment of the optical member of the present invention is illustrated.

(第1の実施形態)
図1は本発明の光学部材における第1の実施形態を図示したものであり、以下に説明する。
(First embodiment)
FIG. 1 illustrates a first embodiment of the optical member of the present invention, which will be described below.

本実施形態は、ガラスのような基材11と、水酸化酸化アルミニウムと酸化アルミニウムの複合体のような酸化物層12を含み、該酸化物層は光学部材の表面に形成される。また、酸化物層12の表面には微細凹凸構造を呈し、さらに酸化物層はリン酸アルミニウムのようなリン酸塩化合物を含むリン酸塩化合物含有層13を含む。   This embodiment includes a base material 11 such as glass and an oxide layer 12 such as a composite of aluminum hydroxide oxide and aluminum oxide, and the oxide layer is formed on the surface of the optical member. The surface of the oxide layer 12 has a fine uneven structure, and the oxide layer further includes a phosphate compound-containing layer 13 containing a phosphate compound such as aluminum phosphate.

本発明に用いられる微細凹凸構造は、ミクロン又はサブミクロンオーダーの凹凸であり得、酸化物を主成分とする固体と空隙との三次元構造から由来する。酸化物の形態としては、結晶質でもよく、アモルファスでもよく、結晶質及びアモルファスの両方の形態が存在していてもよい。微細凹凸構造は、酸化物層の表面(酸化物層の表面とは、光学部材の表面であって空気との界面)に向かって屈折率を連続的に減少させることができる形状を有している。従って、光学部材の表面の反射性能や透過機能を制御し、つや消し機能や、反射防止機能等を発現する。酸化物層の微細凹凸構造に秩序がある場合、特異的な角度や特異な波長における反射、透過の機能が現れる。反射防止機能の場合、表面の微細凹凸構造が異方性の結晶性酸化物微粒子から構成されるのが好ましい。異方性の結晶性酸化物微粒子の形状としては、板状、針状等を挙げることができる。異方性の結晶性酸化物微粒子の具体例として、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化チタニウム、酸化アルミニウム等の酸化物、ベーマイト(水酸化酸化アルミニウム)などの水酸化物、ケイ酸リチウム、ケイ酸チタニウム等の複合酸化物を挙げることができる。特に面の垂直方向に傾斜構造を形成しやすい板状粒子が好ましい。具体的には、水熱反応より得た板状のベーマイト粒子を好適に用いる。結晶性酸化物微粒子のサイズ及び凹凸の面方向のサイズを変化させることで、そのサイズに対応した波長に対する反射防止機能が実現する。可視光に対応する反射防止膜とする場合、凹凸の高さが0.1μm以上5μm以下であることが好ましい。0.1μm以上であれば、可視光での反射防止機能が発現できる。一方、凹凸の高さが5μm以下であると、凹凸構造の機械的強度が高く保持できる。リン酸塩化合物は、微細凹凸構造の酸化物の安定性に寄与する。リン酸塩化合物によって少なくとも酸化物の表面を被うことにより微細凹凸構造の形状が時間とともに変化することがなくなり安定化する。また、リン酸塩化合物が微細凹凸構造内に介在しても良い。   The fine concavo-convex structure used in the present invention can be concavo-convex in the order of microns or submicrons, and is derived from a three-dimensional structure of a solid mainly composed of an oxide and voids. The form of the oxide may be crystalline or amorphous, and both crystalline and amorphous forms may exist. The fine uneven structure has a shape capable of continuously decreasing the refractive index toward the surface of the oxide layer (the surface of the oxide layer is the surface of the optical member and the interface with air). Yes. Accordingly, the reflection performance and transmission function of the surface of the optical member are controlled, and a matte function, an antireflection function, and the like are exhibited. When the fine uneven structure of the oxide layer is ordered, functions of reflection and transmission at a specific angle and a specific wavelength appear. In the case of the antireflection function, it is preferable that the fine concavo-convex structure on the surface is composed of anisotropic crystalline oxide fine particles. Examples of the shape of the anisotropic crystalline oxide fine particles include a plate shape and a needle shape. Specific examples of anisotropic crystalline oxide fine particles include oxides such as magnesium oxide, zinc oxide, titanium oxide, and aluminum oxide, hydroxides such as boehmite (aluminum hydroxide oxide), lithium silicate, and titanium silicate. And the like. In particular, plate-like particles that can easily form an inclined structure in the direction perpendicular to the surface are preferred. Specifically, plate-like boehmite particles obtained by a hydrothermal reaction are preferably used. By changing the size of the crystalline oxide fine particles and the size of the surface of the irregularities, an antireflection function for a wavelength corresponding to the size is realized. In the case of an antireflection film corresponding to visible light, the height of the unevenness is preferably 0.1 μm or more and 5 μm or less. If it is 0.1 μm or more, an antireflection function with visible light can be exhibited. On the other hand, when the height of the unevenness is 5 μm or less, the mechanical strength of the uneven structure can be kept high. The phosphate compound contributes to the stability of the oxide having a fine relief structure. By covering at least the surface of the oxide with the phosphate compound, the shape of the fine concavo-convex structure does not change with time and is stabilized. Moreover, a phosphate compound may intervene in the fine concavo-convex structure.

このリン酸塩化合物がない場合は、酸化物層が多孔質であるため、空気中の水、湿気が基材表面まで入り込んでしまい基材に含まれるアルカリ金属酸化物、アルカリ希土類金属酸化物や酸化ホウ素等が放出され、表面またはその界面が曇ったりしてしまう。また酸化物層での反応が進んでしまい、屈折率などの特性が変化してしまう場合もある。本発明のリン酸塩化合物は酸化物層に含まれる非晶質酸化物等の不安定な酸化物の反応性を抑止し、これによって、空気中の水分によって起こる酸化物の変化が抑制され、また酸性環境下でも酸化物の溶出や劣化及びそれら起因の凹凸構造の崩壊が起こらなくなる。更に、凹凸構造を形成する異方性の結晶性酸化物微粒子表面もリン酸塩化合物によって被われることにより、凹凸構造の耐酸性、耐久性が向上し、光学特性が安定する。   In the absence of this phosphate compound, since the oxide layer is porous, water and moisture in the air enter the surface of the base material, and alkali metal oxide, alkali rare earth metal oxide contained in the base material, Boron oxide or the like is released, and the surface or its interface becomes cloudy. In addition, the reaction in the oxide layer may proceed, and characteristics such as the refractive index may change. The phosphate compound of the present invention suppresses the reactivity of unstable oxides such as amorphous oxides contained in the oxide layer, thereby suppressing changes in oxides caused by moisture in the air, Further, even under an acidic environment, oxide elution and deterioration, and collapse of the concavo-convex structure resulting from them do not occur. Furthermore, the surface of the anisotropic crystalline oxide fine particles forming the concavo-convex structure is also covered with the phosphate compound, whereby the acid resistance and durability of the concavo-convex structure are improved and the optical characteristics are stabilized.

本発明に用いるリン酸塩化合物としては、水に不溶性が有れば、特に限定する必要はない。具体例としてリン酸マグネシウム、リン酸カルシウム、リン酸亜鉛、リン酸バリウム、リン酸アルミニウム、リン酸ガリウム、リン酸ランタン、リン酸チタニウム、リン酸ジルコニウムを挙げることが出来る。前述のような光学部材の基材の耐久性が低い場合、リン酸塩化合物により酸化物層内に緻密な領域が形成されていることが好ましい。   The phosphate compound used in the present invention is not particularly limited as long as it is insoluble in water. Specific examples include magnesium phosphate, calcium phosphate, zinc phosphate, barium phosphate, aluminum phosphate, gallium phosphate, lanthanum phosphate, titanium phosphate, and zirconium phosphate. When the durability of the substrate of the optical member as described above is low, it is preferable that a dense region is formed in the oxide layer by the phosphate compound.

本発明の光学部材の基材としては、ガラス、プラスチック等が挙げられる。プラスチック基材の代表的なものとしては、ポリエステル、トリアセチルセルロース、酢酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ABS樹脂、ポリフェニレンオキサイド、ポリウレタン、ポリエチレン、ポリ塩化ビニルなどの熱可塑性樹脂のフィルムや成形品;不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、架橋型ポリウレタン、架橋型のアクリル樹脂、架橋型の飽和ポリエステル樹脂など各種の熱硬化性樹脂から得られる架橋フィルムや架橋した成形品等が挙げられる。   Examples of the substrate of the optical member of the present invention include glass and plastic. Typical plastic substrates include thermoplastics such as polyester, triacetyl cellulose, cellulose acetate, polyethylene terephthalate, polypropylene, polystyrene, polycarbonate, polymethyl methacrylate, ABS resin, polyphenylene oxide, polyurethane, polyethylene, and polyvinyl chloride. Resin films and molded articles; crosslinked polyester films, crosslinked molded articles obtained from various thermosetting resins such as unsaturated polyester resins, phenolic resins, crosslinked polyurethanes, crosslinked acrylic resins, crosslinked saturated polyester resins, etc. Can be mentioned.

アルカリ、アルカリ土類、ホウ素を含む光学ガラスを基材とする場合、表面に微細凹凸構造を有する酸化物層を付与すれば、該酸化物層は、高い反射防止機能を持つ反射防止膜として機能する。屈折率が1.4以上1.9以下の範囲で、数多くのガラスを選択できるために、幅広い高性能反射防止機能の光学レンズが可能になる。本発明のリン酸塩化合物を含む微細凹凸構造を有する酸化物層があれば、耐水性が弱い成分による劣化が抑制される。代表的な光学ガラス基材の具体例として、バリウムフリント、バリウムクラウン、ホウ硅クラウン、ランタンフリント、ランタンクラウンのガラスを挙げることができる。   When an optical glass containing alkali, alkaline earth, or boron is used as a base material, if an oxide layer having a fine concavo-convex structure is provided on the surface, the oxide layer functions as an antireflection film having a high antireflection function. To do. Since a large number of glasses can be selected when the refractive index is in the range of 1.4 or more and 1.9 or less, a wide range of high-performance anti-reflection optical lenses are possible. If there is an oxide layer having a fine concavo-convex structure containing the phosphate compound of the present invention, deterioration due to a component having low water resistance is suppressed. Specific examples of the typical optical glass substrate include glass of barium flint, barium crown, cocoon crown, lanthanum flint, and lanthanum crown.

(第2の実施形態)
図2は本発明の光学部材における第2の実施形態を図示したものであり、以下に説明する。
(Second Embodiment)
FIG. 2 illustrates a second embodiment of the optical member of the present invention, which will be described below.

なお、本実施形態においては、第1の実施形態の構成と異なるところを中心に説明する。   In the present embodiment, the description will focus on the differences from the configuration of the first embodiment.

本実施形態は、ガラスのような基材21と、水酸化酸化アルミニウムのような酸化物層24を含み、該酸化物層は光学部材の表面に形成される。また、酸化物層24の表面には微細凹凸構造を呈し、さらに酸化物層はリン酸塩化合物を含むリン酸塩化合物含有層25を含む。さらに酸化物層は、酸化アルミニウムのような1nm以上のアモルファス層23を含み、このアモルファス酸化物層23の上に微細凹凸構造が形成されている。ここでのアモルファスとは、X線散乱、中性子散乱の手法より結晶由来の回折が見られない状態を指し、通常の観察法で連続の膜でもよく、粒径が50nm以下の粒子からの集合体でも良い。   This embodiment includes a base material 21 such as glass and an oxide layer 24 such as aluminum hydroxide oxide, and the oxide layer is formed on the surface of the optical member. The surface of the oxide layer 24 has a fine uneven structure, and the oxide layer further includes a phosphate compound-containing layer 25 containing a phosphate compound. Further, the oxide layer includes an amorphous layer 23 having a thickness of 1 nm or more such as aluminum oxide, and a fine uneven structure is formed on the amorphous oxide layer 23. The term “amorphous” as used herein refers to a state in which diffraction derived from a crystal is not observed by the X-ray scattering and neutron scattering methods, and may be a continuous film by an ordinary observation method, or an aggregate of particles having a particle size of 50 nm or less. But it ’s okay.

リン酸塩化合物が少なくとも酸化物の表面を被い、リン酸塩化合物層25を形成する。後で説明があるように、リン酸系化合物が微細凹凸構造の隙間に浸透する場合、アルモファス層23にもリン酸塩化合物層25が形成される。また、アルモファス層全体がリン酸塩化合物層に変わってもよい。また、リン酸塩化合物は微細凹凸構造内に介在しても良い。このリン酸塩化合物層が緻密な層を形成する。さらに、必要に応じ、反射防止機能を向上させる目的で、基材の表面に予め屈折率が異なる中間層22があっても良い。中間層としては、蒸着、ゾル−ゲル法などの公知の方法より形成され、具体的にはシリカ、酸化チタン、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化イトリウム、酸化タンタル、またはこれらの複合膜を挙げることが出来る。基材の屈折率nと、中間層の屈折率nと、アモルファス層の屈折率nをn≧n≧nとするとより効果的である。このように設定することで、基材から酸化物層のアモルファス層まで屈折率を徐々に減少させることができる。さらに微細凹凸構造によって、アモルファス層から酸化物層の表面に向かって屈折率を連続的に減少させることができるので、反射防止効果を著しく高めることができる。 The phosphate compound covers at least the surface of the oxide to form the phosphate compound layer 25. As will be described later, when the phosphoric acid compound penetrates into the gaps of the fine concavo-convex structure, the phosphate compound layer 25 is also formed on the armofus layer 23. Further, the entire alumofus layer may be changed to a phosphate compound layer. Moreover, the phosphate compound may intervene in the fine relief structure. This phosphate compound layer forms a dense layer. Furthermore, if necessary, for the purpose of improving the antireflection function, an intermediate layer 22 having a different refractive index may be provided on the surface of the substrate in advance. The intermediate layer is formed by a known method such as vapor deposition or sol-gel method, and specifically includes silica, titanium oxide, tin oxide, aluminum oxide, yttrium oxide, tantalum oxide, or a composite film thereof. I can do it. The refractive index n b of the base material, the refractive index n s of the intermediate layer, it is more effective if the refractive index n a of the amorphous layer and n bn sn a. By setting in this way, the refractive index can be gradually reduced from the base material to the amorphous oxide layer. Furthermore, since the refractive index can be continuously decreased from the amorphous layer toward the surface of the oxide layer by the fine concavo-convex structure, the antireflection effect can be remarkably enhanced.

次に本発明の光学部材の製造方法について説明する。本発明の光学部材の製造方法は、基材に酸化物層を形成する工程と、前記酸化物層の表面に微細凹凸構造を形成する工程と、前記表面に微細凹凸構造を形成した酸化物層に水溶性リン酸系化合物を接触させる工程を含む。   Next, the manufacturing method of the optical member of this invention is demonstrated. The optical member manufacturing method of the present invention includes a step of forming an oxide layer on a substrate, a step of forming a fine relief structure on the surface of the oxide layer, and an oxide layer having a fine relief structure on the surface. And a step of bringing a water-soluble phosphoric acid compound into contact therewith.

基材の表面に酸化物層になる前駆体膜を形成させた後、前駆体膜に微細凹凸構造を形成させる。微細凹凸構造を形成させる方法として、特に限定されないが、前駆体膜の相分離、酸化、相転移、結晶化、選択的溶出などの方法を挙げることが出来る。好ましくは、金属膜、金属種を含む金属酸化物膜を水と接触させる工程より異方性の結晶性酸化物粒子を形成させることが好ましい。   After forming the precursor film | membrane used as an oxide layer on the surface of a base material, a fine uneven structure is formed in a precursor film | membrane. The method for forming the fine concavo-convex structure is not particularly limited, and examples thereof include methods such as phase separation, oxidation, phase transition, crystallization, and selective elution of the precursor film. Preferably, it is preferable to form anisotropic crystalline oxide particles from the step of bringing a metal film and a metal oxide film containing a metal species into contact with water.

金属膜の場合、水と接触させると、金属膜が酸化され、粒子状の結晶性の酸化物または水酸化物になれば、本発明の微細凹凸構造を形成させるのに用いる。これらの金属種としては、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛などを挙げることが出来、好ましくは、アルミニウムである。アルミニウムの場合は、大きさが数百nmまでの板状ベーマイト結晶性粒子が形成される。金属の膜として、蒸着法、イオンプレ−ティング法、スパッター法で得られた膜を好適に用いる。   In the case of a metal film, when the metal film is brought into contact with water and oxidized into a particulate crystalline oxide or hydroxide, it is used to form the fine relief structure of the present invention. Examples of these metal species include aluminum, magnesium, zinc, and the like, and preferably aluminum. In the case of aluminum, plate-like boehmite crystalline particles having a size up to several hundred nm are formed. As the metal film, a film obtained by vapor deposition, ion plating, or sputtering is preferably used.

また、金属酸化物膜の形成法としては、ゾル−ゲル法、スパッター法、蒸着法等の方法を挙げることが出来る。金属酸化物膜を水と接触させると、結晶化し微細凹凸が形成される。または、一部分が選択的にエッチングされることによっても微細凹凸構造が形成される。金属酸化物膜(以下酸化物膜と呼ぶ)は、好ましくはアモルファスであり、水と接触すると、溶出、再析出が起こり、結晶性微粒子の微細凹凸構造が形成される。酸化物の具体例としては、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化亜鉛を挙げることが出来る。必要に応じて、これらを主成分とする複合膜もよく、単独では粒成長しないシリカなどの酸化物成分を粒子の固溶成分、または粒界成分として加えても良い。酸化物膜の表面を反射防止膜とする場合、酸化アルミニウムを主成分とするアモルファス酸化物を好適に用いる。粒成長につれて、アモルファス酸化アルミニウム酸化物膜が微細凹凸構造に転移するが、アルモファス前駆体膜(アモルファス層)が1nm以上の膜厚で残ることが好ましい。前述したように微細凹凸構造は、アモルファス層との境界面から酸化物層の表面に向かって屈折率を連続的に減少させることができるので、光学部材の表面の反射性能や透過機能を制御し、つや消し機能や、反射防止機能等を発現する。またアモルファス層を残すことによって、リン酸系化合物がアルモファス層とも反応し、リン酸塩化合物を含む耐水性と耐酸性に優れ、且つ緻密な層が形成される。   Examples of the method for forming the metal oxide film include a sol-gel method, a sputtering method, and a vapor deposition method. When the metal oxide film is brought into contact with water, it crystallizes and fine irregularities are formed. Alternatively, the fine concavo-convex structure is also formed by selectively etching a part. The metal oxide film (hereinafter referred to as oxide film) is preferably amorphous, and when it comes into contact with water, elution and reprecipitation occur, and a fine uneven structure of crystalline fine particles is formed. Specific examples of the oxide include aluminum oxide, titanium oxide, and zinc oxide. If necessary, a composite film containing these as main components may be used, and an oxide component such as silica that does not grow by itself may be added as a solid solution component or a grain boundary component. When the surface of the oxide film is used as an antireflection film, an amorphous oxide mainly composed of aluminum oxide is preferably used. As the grain grows, the amorphous aluminum oxide oxide film transitions to a fine concavo-convex structure, but it is preferable that the Almophas precursor film (amorphous layer) remains with a thickness of 1 nm or more. As described above, the fine concavo-convex structure can continuously reduce the refractive index from the interface with the amorphous layer toward the surface of the oxide layer, thereby controlling the reflection performance and transmission function of the surface of the optical member. Develops a matte function, an antireflection function, and the like. Moreover, by leaving the amorphous layer, the phosphoric acid compound reacts with the alumofus layer, and a dense layer having excellent water resistance and acid resistance containing the phosphate compound is formed.

水と接触する工程は、基本的に、粒子成長の条件であれば、良く、好ましくは、温度が50℃以上で、より好ましくは60℃以上で行う。接触工程の時間は、特に限定されないが、好ましくは5分間以上3時間以下である。   The step of contacting with water may be basically performed under the condition of particle growth, and is preferably performed at a temperature of 50 ° C. or higher, more preferably 60 ° C. or higher. Although the time of a contact process is not specifically limited, Preferably it is 5 minutes or more and 3 hours or less.

得られた表面に微細凹凸構造を有する酸化物層を水溶性リン酸系化合物と接触させる表面処理工程においては、水溶性リン酸系化合物が少なくとも一部の酸化物と反応し、酸化物層にリン酸塩化合物を形成する。   In the surface treatment step of bringing the oxide layer having a fine relief structure on the surface into contact with the water-soluble phosphate compound, the water-soluble phosphate compound reacts with at least a portion of the oxide, A phosphate compound is formed.

本発明の水溶性リン酸系化合物は、基本的にリン酸基があって、且つ水溶性であればよい。リン酸系化合物の具体例としては、リン酸、ポリリン酸、リン酸アミン塩、ポリリン酸アミン塩、第1リン酸金属塩、第2リン酸金属塩等を挙げることができる。これらのリン酸系化合物は、単独でまたはこれらの二つ以上を組み合わせて使用することができる。リン酸系化合物と微細凹凸構造を有する酸化物層との反応性が高い場合、微細凹凸構造の酸化物成分との反応が急激に起こり、微細凹凸構造が壊れる恐れがる。微細凹凸由来の反射防止機能を損なわないようにするためにはその反応性を抑えなければならない。反応性を押えることが出来るリン酸系化合物として、好ましくは、第1リン酸金属塩とリン酸アミン塩を用いる。第1リン酸金属塩の具体例として、第1リン酸カルシウム、第1リン酸アルミニウム、第1リン酸亜鉛、第1リン酸チタニウムを挙げることが出来る。リン酸アミンの場合、第一、第二、第三リン酸アンモニウム塩、リン酸メチルアミン塩、リン酸エチルアミン塩、リン酸アルカノールアミン塩等のリン酸アミン塩を挙げることが出来る。このような金属塩の形態のリン酸系化合物を用いることにより、リン酸基と微細凹凸構造の酸化物層との反応がより穏やかに起こる。リン酸アミンを用いる場合では、リン酸アミンと微細凹凸構造の酸化物層との反応性がアミンによって低減される。接触工程では、アミンの離脱に伴って、リン酸基としての機能が発現され、微細凹凸構造の酸化物層との反応が進む。このようなリン酸系化合物と微細凹凸構造を有する酸化物層との反応により、微細凹凸構造の酸化物成分の表面に非水溶性のリン酸金属塩からの層が形成される。   The water-soluble phosphoric acid compound of the present invention may basically have a phosphate group and be water-soluble. Specific examples of the phosphoric acid compound include phosphoric acid, polyphosphoric acid, phosphoric acid amine salt, polyphosphoric acid amine salt, first phosphoric acid metal salt, and second phosphoric acid metal salt. These phosphoric acid compounds can be used alone or in combination of two or more thereof. When the reactivity of the phosphoric acid compound and the oxide layer having a fine concavo-convex structure is high, the reaction with the oxide component of the fine concavo-convex structure occurs rapidly, and the fine concavo-convex structure may be broken. In order not to impair the antireflection function derived from fine irregularities, the reactivity must be suppressed. As the phosphoric acid compound capable of suppressing the reactivity, a first metal phosphate metal salt and an amine phosphate salt are preferably used. Specific examples of the first metal phosphate include first calcium phosphate, first aluminum phosphate, first zinc phosphate, and first titanium phosphate. In the case of phosphoric acid amines, mention may be made of phosphoric acid amine salts such as primary, secondary and tertiary ammonium phosphates, phosphoric acid methylamine salts, phosphoric acid ethylamine salts, and phosphoric acid alkanolamine salts. By using such a phosphoric acid compound in the form of a metal salt, the reaction between the phosphoric acid group and the oxide layer having a fine concavo-convex structure occurs more gently. In the case of using an amine phosphate, the reactivity between the amine phosphate and the oxide layer having a fine relief structure is reduced by the amine. In the contacting step, the function as a phosphoric acid group is expressed as the amine is released, and the reaction with the oxide layer having a fine concavo-convex structure proceeds. By such a reaction between the phosphoric acid compound and the oxide layer having a fine relief structure, a layer made of a water-insoluble metal phosphate is formed on the surface of the oxide component having the fine relief structure.

水溶性リン酸系化合物の形態とし、その水系分散液またはアルコール等の水溶性有機溶剤の分散液を用いる。水溶性リン酸系化合物が、より好ましくは水系の分散液の形態であり、分散液中のリン酸系化合物の含有量が0.01重量%以上30重量%以下であり、より好ましくは0.05重量%以上20重量%以下である。含有量が0.01重量%以上であると、微細凹凸構造を有する酸化物層中のリン酸塩化合物の効果が発現できるようになる。一方、リン酸系化合物が30重量%以下であると、微細凹凸構造が維持され、微細凹凸構造由来の光学特性が損なわれない。   A water-soluble phosphoric acid compound is used, and an aqueous dispersion or a dispersion of a water-soluble organic solvent such as alcohol is used. The water-soluble phosphate compound is more preferably in the form of an aqueous dispersion, and the content of the phosphate compound in the dispersion is 0.01 wt% or more and 30 wt% or less, more preferably 0.8. It is 05 weight% or more and 20 weight% or less. When the content is 0.01% by weight or more, the effect of the phosphate compound in the oxide layer having a fine concavo-convex structure can be expressed. On the other hand, when the phosphoric acid compound is 30% by weight or less, the fine concavo-convex structure is maintained, and the optical characteristics derived from the fine concavo-convex structure are not impaired.

水溶性リン酸系化合物との接触方法としては、水溶性リン酸系化合物の分散液に微細凹凸構造を有する酸化物層を持つ基材を水溶性リン酸系化合物の分散液に浸漬する方法、ディップ、スピンやスプレー等の塗布方法等を挙げることが出来る。微細凹凸構造を有する酸化物層に、必要以上のリン酸系化合物を塗布される場合では、水やアルコールなどの分散媒を用い、洗浄や流し取りなどの方法より、除去するプロセスを入れてもよい。   As a method of contacting with a water-soluble phosphate compound, a method of immersing a substrate having an oxide layer having a fine concavo-convex structure in a water-soluble phosphate compound dispersion in a water-soluble phosphate compound dispersion, Examples of the application method include dip, spin and spray. When applying more phosphoric acid-based compounds to the oxide layer with fine concavo-convex structure, use a dispersion medium such as water or alcohol, and use a method such as washing or pouring to remove it. Good.

より具体的には、前記の微細凹構造が異方性酸化物粒子層である場合、リン酸化系化合物が異方性酸化物粒子と反応し、粒子表面に非水溶性リン酸塩化合物膜が形成される。粒径が100nm以下で粒子密度が大きい領域では、緻密なリン酸塩化合物領域が形成される。更に前記酸化物層に前記アルモファス層がある場合は、リン酸系化合物がアルモファス層とも反応し、リン酸塩化合物を含む耐水性に優れ、且つ緻密な層が形成される。この場合、基材が水分に弱いアルカリ、アルカリ土類、ホウ素のうち何れかの元素を含む透明ガラスであっても、ガラスへの水分の浸透が抑制され、高温高湿の環境下で、耐久性が優れた光学部材が得られる。   More specifically, when the fine concave structure is an anisotropic oxide particle layer, the phosphorylated compound reacts with the anisotropic oxide particle, and a water-insoluble phosphate compound film is formed on the particle surface. It is formed. In the region where the particle size is 100 nm or less and the particle density is large, a dense phosphate compound region is formed. Furthermore, when the said oxide layer has the said Almophas layer, a phosphoric acid type compound reacts with an Almophas layer, and it is excellent in water resistance containing a phosphate compound, and a precise | minute layer is formed. In this case, even if the base material is transparent glass containing any element of alkali, alkaline earth, and boron, which is sensitive to moisture, the penetration of moisture into the glass is suppressed, and it is durable in a high-temperature and high-humidity environment. An optical member having excellent properties can be obtained.

リン酸系化合物と微細凹凸構造を有する酸化物成分との反応を促進する必要がある場合、リン酸系化合物を接触させた後、300℃以下の乾燥工程を入れても良い。   When it is necessary to promote the reaction between the phosphoric acid compound and the oxide component having a fine concavo-convex structure, after bringing the phosphoric acid compound into contact, a drying step of 300 ° C. or less may be performed.

以下、実施例により本発明を具体的に説明する。ただし本発明はかかる実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described specifically by way of examples. However, the present invention is not limited to such examples.

各実施例、比較例で得られた、表面に微細な凹凸について、下記の方法で評価を行った。微細凹凸構造の評価とし、サンプルの断面を走査型電子顕微鏡(FE−SEM、日立製作所製S4500)を用いて断面を観察した。また、曇り具合を評価するため、ヘーズメーター(Nippon Denshoku、NDH2000)を用いて、曇り具合を判断する一般的な数値であるヘーズ値を測定した。   The fine unevenness on the surface obtained in each Example and Comparative Example was evaluated by the following method. As an evaluation of the fine concavo-convex structure, the cross section of the sample was observed using a scanning electron microscope (FE-SEM, S4500, manufactured by Hitachi, Ltd.). Moreover, in order to evaluate a cloudiness degree, the haze value which is a general numerical value which judges a cloudiness condition was measured using the haze meter (Nippon Denshoku, NDH2000).

微細凹凸構造の安定性について、60℃相対湿度90%の循環式高温高湿機で連続1000時間暴露させた後、再び断面または曇り具合を評価した。また、耐酸性の特性として、0.01Nの塩酸に浸漬し、微細凹凸構造の外観の変化を観察した。   Regarding the stability of the fine concavo-convex structure, after being continuously exposed for 1000 hours with a circulating high-temperature and high-humidity machine at 60 ° C. and a relative humidity of 90%, the cross section or cloudiness was evaluated again. Further, as an acid-resistant characteristic, it was immersed in 0.01 N hydrochloric acid, and a change in the appearance of the fine concavo-convex structure was observed.

(実施例1)
ゾル−ゲル法によるアモルファス酸化アルミニウム膜のコーティング液を用意する。具体的には、アルミニウム−sec−ブトキシド〔Al(O−sec−Bu)〕を攪拌しながら2−プロパノール〔IPA〕に溶かし、安定化成分としてアセト酢酸エチル〔Eacac〕を加え、調整し、コーティング液を用意した。ここでコーティング液のモル比は、Al(O−sec−Bu):IPA:Eacac=1:20:1の割合とした。30分間攪拌した後、加水分解のHOと触媒の成分を、HO:Al(O−sec−Bu)=1:1であって、0.01M塩酸になるように添加した。得られた混合液を48時間反応させ、アモルファス酸化アルミニウムのコーティング液とした。
Example 1
A coating solution for an amorphous aluminum oxide film by a sol-gel method is prepared. Specifically, aluminum-sec-butoxide [Al (O-sec-Bu) 3 ] is dissolved in 2-propanol [IPA] with stirring, ethyl acetoacetate [Eacac] is added as a stabilizing component, and adjusted. A coating solution was prepared. Here, the molar ratio of the coating liquid was Al (O-sec-Bu) 3 : IPA: Eacac = 1: 20: 1. After stirring for 30 minutes, the hydrolyzed H 2 O and catalyst components were added so that H 2 O: Al (O-sec-Bu) 3 = 1: 1 and 0.01 M hydrochloric acid. The obtained mixed solution was reacted for 48 hours to obtain an amorphous aluminum oxide coating solution.

リン酸系化合物の処理液とし、200重量部の純水に1重量部の第1リン酸アルミニウム〔Al(HPO〕を溶かし、約2日間静置した。その後、0.1μmのフィルターに通した。得られた透明液をリン酸系化合物の処理液1とした。 As a phosphoric acid compound treatment solution, 1 part by weight of primary aluminum phosphate [Al (H 2 PO 4 ) 3 ] was dissolved in 200 parts by weight of pure water and allowed to stand for about 2 days. Thereafter, it was passed through a 0.1 μm filter. The obtained transparent liquid was designated as a treatment liquid 1 for a phosphoric acid compound.

厚さ1mmのシリカガラス基板3枚を用意し、コーティング液に浸漬し、ディッピング法で、3mm/sの引き上げ速度、相対湿度50%の条件下で、コーティングした。その後、空気中で30分間乾燥し、その後、300℃の乾燥機で1時間熱処理した。その後、繰り返し、2回コーティングし、アモルファス酸化アルミニウム層付きのシリカガラスを得た。得られたシリカガラスを温水処理し、酸化アルミニウムの微細凹凸化を行った。それぞれステンレスホルダーにいれ、80℃の純水に30分間浸漬し、その後、100℃の乾燥機で乾燥した。その中の2枚をリン酸系化合物の処理液1に浸漬し、3mm/sの引き上げ速度で引き上げた。その後、60℃の乾燥機で1時間熱処理し、微細凹凸構造の酸化物層つきシリカガラスを得た。その1枚を、真空デシケーターに保管し、もう一枚は上記の耐久性試験条件(60℃、相対湿度90%)で耐久試験を行った。   Three silica glass substrates having a thickness of 1 mm were prepared, immersed in a coating solution, and coated by a dipping method under conditions of a pulling rate of 3 mm / s and a relative humidity of 50%. Thereafter, it was dried in air for 30 minutes, and then heat-treated with a dryer at 300 ° C. for 1 hour. Thereafter, coating was repeated twice to obtain silica glass with an amorphous aluminum oxide layer. The obtained silica glass was treated with warm water to make the aluminum oxide fine uneven. Each was placed in a stainless steel holder, immersed in pure water at 80 ° C. for 30 minutes, and then dried with a dryer at 100 ° C. Two of them were immersed in the phosphoric acid compound treatment solution 1 and pulled up at a lifting speed of 3 mm / s. Then, it heat-processed for 1 hour with the dryer of 60 degreeC, and obtained the silica glass with the oxide layer of a fine concavo-convex structure. One of them was stored in a vacuum desiccator, and the other was subjected to a durability test under the above-described durability test conditions (60 ° C., relative humidity 90%).

耐久試験したサンプルと真空デシケーターで保管したサンプルを分光光度計で評価したところ、500nmで透過率が何れも99.6%であって、外観も変化しなかった。更に、微細凹凸構造について、表面観察したところ、何れも表面に70nmのアルモファス層と厚さが約350nmの板状粒子からの凹凸構造の層になっていることがわかった。真空デシケーターで保管したサンプルと比べて、高温高湿の条件下で、変化しなかった。耐酸性評価として、このサンプルを0.01N塩酸水溶液に15分間浸漬した。その後、蒸留水でリンスし、80℃乾燥させ、観察したところ、塩酸浸漬による外観および透過率の変化が見られなかった。   When the sample subjected to the durability test and the sample stored in the vacuum desiccator were evaluated with a spectrophotometer, the transmittance was 99.6% at 500 nm, and the appearance was not changed. Further, when the surface of the fine concavo-convex structure was observed, it was found that all of the rugged structure was a concavo-convex structure layer composed of a 70 nm Almophas layer and a plate-like particle having a thickness of about 350 nm. Compared to the sample stored in a vacuum desiccator, it did not change under high temperature and high humidity conditions. As an acid resistance evaluation, this sample was immersed in a 0.01N hydrochloric acid aqueous solution for 15 minutes. Thereafter, it was rinsed with distilled water, dried at 80 ° C. and observed, and no change in appearance and transmittance due to immersion in hydrochloric acid was observed.

(比較例1)
実施例1の第1リン酸アルミニウムの未コーティングのサンプルを用いて、実施例1と同様に、耐久性実験を行った。外観は実施例1の真空保管のサンプルと変わらなかった。一方、電子顕微鏡で断面観察したところ、アモルファス層が50nmになっていることが確認された。第1リン酸アルミニウムコーティングサンプルと異なり、高温高湿の環境下で、不安定で、アモルファス層が反応していることがわかった。その後、実施例1と同様に、このンプルを0.01N塩酸に浸漬し、耐酸性を評価したところ、表面の酸化アルミニウム膜が完全になくなり、耐酸性がなかった。
(Comparative Example 1)
Using the uncoated sample of the first aluminum phosphate of Example 1, a durability experiment was conducted in the same manner as in Example 1. The appearance was not different from the vacuum storage sample of Example 1. On the other hand, when the cross section was observed with an electron microscope, it was confirmed that the amorphous layer was 50 nm. Unlike the first aluminum phosphate coating sample, it was found that the amorphous layer was unstable and unstable in a high-temperature and high-humidity environment. Thereafter, in the same manner as in Example 1, this sample was immersed in 0.01N hydrochloric acid and evaluated for acid resistance. As a result, the aluminum oxide film on the surface disappeared completely and there was no acid resistance.

(実施例2)
厚さが1mmのソーダライムシリカガラス(NaO:17wt%)2枚を実施例1のアルモファス酸化アルミニウムコーティング液に、ディッピング法で、3mm/sの引き上げ速度、相対湿度50%の条件下で、コーティングした。その後、空気中で30分間乾燥し、その後、300℃の乾燥機で1時間熱処理した。その後、繰り返し、2回コーティングし、アモルファス酸化アルミニウム層付きのガラス基板を得た。得られたガラス基板を温水処理し、酸化アルミニウムの微細凹凸化を行った。それぞれステンレスホルダーにいれ、80℃の純水に30分間浸漬し、その後、100℃の乾燥機で乾燥した。その中の1枚をリン酸系化合物の処理液1に浸漬し、3mm/sの引き上げ速度で引き上げた。その後、60℃の乾燥機で1時間熱処理し、ガラス2を得た。
(Example 2)
Two soda-lime silica glasses (Na 2 O: 17 wt%) having a thickness of 1 mm were applied to the alumofas aluminum oxide coating solution of Example 1 under the conditions of a pulling rate of 3 mm / s and a relative humidity of 50% by dipping. Coated. Thereafter, it was dried in air for 30 minutes, and then heat-treated with a dryer at 300 ° C. for 1 hour. Thereafter, coating was repeated twice to obtain a glass substrate with an amorphous aluminum oxide layer. The obtained glass substrate was treated with warm water to make aluminum oxide fine unevenness. Each was placed in a stainless steel holder, immersed in pure water at 80 ° C. for 30 minutes, and then dried with a dryer at 100 ° C. One of them was immersed in the phosphoric acid compound treatment solution 1 and pulled up at a lifting speed of 3 mm / s. Then, it heat-processed for 1 hour with the 60 degreeC drying machine, and obtained the glass 2. FIG.

上記の耐久性試験条件(60℃、相対湿度90%)で耐久試験を行ったところ、外観は変化しなかった。分光光度計で透過率を測定したところ、透過率が99.7%であった。ヘーズメーター(Nippon Denshoku、NDH2000)で測定したところ、ヘーズ値が0.12であり、耐久試験前の測定値と比べて変化が無かった。最後、電子顕微鏡で、サンプルを断面観察したところ、30nmのアルモファス層と厚さが約320nmの板状粒子からの凹凸構造の層になっており、耐久試験前の測定値と比べて変化が無いことがわかった。   When the durability test was performed under the above-described durability test conditions (60 ° C., relative humidity 90%), the appearance did not change. When the transmittance was measured with a spectrophotometer, the transmittance was 99.7%. When measured with a haze meter (Nippon Denshoku, NDH2000), the haze value was 0.12, and there was no change compared to the measured value before the durability test. Finally, a cross-sectional observation of the sample with an electron microscope reveals that the layer has a concavo-convex structure composed of a 30-nm Almophas layer and a plate-like particle having a thickness of about 320 nm, and there is no change compared to the measured value before the durability test. I understood it.

(比較例2)
実施例2の第1リン酸アルミニウム未処理の微細凹凸構造のガラスと未処理ソーダライムシリカガラスを上記の耐久性試験を行った。何れも、白濁した。ヘーズメーターで測定したところ、ヘーズ値がそれぞれ2と2.5であった。
(Comparative Example 2)
The durability test was performed on the glass of the fine uneven structure untreated with the first aluminum phosphate of Example 2 and the untreated soda lime silica glass. All became cloudy. When measured with a haze meter, the haze values were 2 and 2.5, respectively.

(実施例3)
リン酸系化合物の処理液として、200重量部の純水に1重量部のリン酸アンモニウム〔(NHPO〕を溶かし、約2日間静置した。得られた透明液をリン酸系化合物の処理液2とした。
(Example 3)
As a processing solution for a phosphoric acid compound, 1 part by weight of ammonium phosphate [(NH 4 ) 3 PO 4 ] was dissolved in 200 parts by weight of pure water, and left standing for about 2 days. The obtained transparent liquid was used as the phosphoric acid compound treatment liquid 2.

NaOを11%含有し、屈折率が1.81の光学ガラスを基材とし、真空でタングステンヒーターを用い、アルミニウムの金属の蒸着膜を付けたガラスを2枚作製した。得られたガラスをそれぞれステンレスホルダーにいれ、沸騰水に1時間浸漬し、その後、100℃の乾燥機で1時間熱処理した。その中の1枚をリン酸系化合物の処理液2に浸漬し、3mm/sの引き上げ速度で引き上げた。その後、60℃の乾燥機で1時間熱処理し、ガラス3を得た。 Two glasses with 11% Na 2 O and an optical glass having a refractive index of 1.81 as a base material and a vacuum deposited tungsten film using a tungsten heater were prepared. Each of the obtained glasses was put in a stainless steel holder, immersed in boiling water for 1 hour, and then heat treated with a dryer at 100 ° C. for 1 hour. One of them was immersed in the phosphoric acid compound treatment solution 2 and pulled up at a lifting speed of 3 mm / s. Then, it heat-processed for 1 hour with the dryer of 60 degreeC, and obtained the glass 3.

ガラス3を上記の耐久性試験条件(60℃、相対湿度90%)で耐久試験を行ったところ、外観は変化しなかった。分光光度計で透過率を測定したところ、透過率が98.4%であった。ヘーズメーターで測定したところ、ヘーズ値が0.11であり、耐久試験前の測定値と比べて変化が無かった。最後、電子顕微鏡で、サンプルを断面観察したところ、厚さが約155nmの板状粒子からの凹凸構造の層になっており、耐久試験前の測定値と比べて変化が無いことがわかった。   When the durability test was performed on the glass 3 under the above-described durability test conditions (60 ° C., relative humidity 90%), the appearance did not change. When the transmittance was measured with a spectrophotometer, the transmittance was 98.4%. When measured with a haze meter, the haze value was 0.11, and there was no change compared to the measured value before the durability test. Finally, when the cross section of the sample was observed with an electron microscope, it was found that the layer was a concavo-convex structure layer of plate-like particles having a thickness of about 155 nm, and there was no change compared to the measured value before the durability test.

(比較例3)
実施例3のリン酸アンモニウム未処理のガラスを上記の耐久性試験を行ったところ、ガラスが白濁した。ヘーズメーターで測定したところ、ヘーズ値がそれぞれ1.2であった。
(Comparative Example 3)
When the above-mentioned durability test was performed on the glass not treated with ammonium phosphate of Example 3, the glass became cloudy. When measured with a haze meter, the haze value was 1.2.

(実施例4)
厚さが1mmで、屈折率が1.58で、光学ホウケイ酸ガラス(NaO:9wt%、KO:9wt%)2枚を、実施例1のアルモファス酸化アルミニウムコーティング液でコーティングした。コーティングは、ディッピング法で、3mm/sの引き上げ速度、相対湿度50%の条件下で行なった。その後、空気中で30分間乾燥し、その後、300℃の乾燥機で1時間熱処理した。その後、繰り返し、2回コーティングし、アモルファス酸化アルミニウム層付きのガラス基板を得た。得られたガラス基板を温水処理し、酸化アルミニウムの微細凹凸化を行った。それぞれステンレスホルダーにいれ、80℃の純水に30分間浸漬し、その後、100℃の乾燥機で乾燥した。その中の1枚をリン酸系化合物の処理液1に浸漬し、3mm/sの引き上げ速度で引き上げた。その後、60℃の乾燥機で1時間熱処理し、ガラス4を得た。
Example 4
Two sheets of optical borosilicate glass (Na 2 O: 9 wt%, K 2 O: 9 wt%) having a thickness of 1 mm and a refractive index of 1.58 were coated with the Almophas aluminum oxide coating solution of Example 1. The coating was performed by a dipping method under conditions of a lifting speed of 3 mm / s and a relative humidity of 50%. Thereafter, it was dried in air for 30 minutes, and then heat-treated with a dryer at 300 ° C. for 1 hour. Thereafter, coating was repeated twice to obtain a glass substrate with an amorphous aluminum oxide layer. The obtained glass substrate was treated with warm water to make aluminum oxide fine unevenness. Each was placed in a stainless steel holder, immersed in pure water at 80 ° C. for 30 minutes, and then dried with a dryer at 100 ° C. One of them was immersed in the phosphoric acid compound treatment solution 1 and pulled up at a lifting speed of 3 mm / s. Then, it heat-processed for 1 hour with the 60 degreeC drying machine, and obtained the glass 4. FIG.

上記の耐久性試験条件で耐久試験を行ったところ、外観は変化しなかった。分光光度計で透過率を測定したところ、透過率が99.6%であった。ヘーズメーターで測定したところ、ヘーズ値が0.09であり、耐久試験前の測定値と比べて変化が無かった。最後、電子顕微鏡で、サンプルを断面観察したところ、27nmのアルモファス層と厚さが約370nmの板状粒子からの凹凸構造の層になっており、耐久試験前の測定値と比べて変化が無いことがわかった。   When the durability test was performed under the above durability test conditions, the appearance did not change. When the transmittance was measured with a spectrophotometer, the transmittance was 99.6%. When measured with a haze meter, the haze value was 0.09 and there was no change compared to the measured value before the durability test. Finally, a cross-sectional observation of the sample with an electron microscope reveals that the layer has a concavo-convex structure composed of a 27 nm amorphous layer and a plate-like particle having a thickness of about 370 nm, and there is no change compared to the measured value before the durability test. I understood it.

(実施例5)
リン酸系化合物の処理液として、100重量部の純水に1重量部の第1リン酸カルシウム〔Ca(HPOO〕を溶かし、約2日間静置した。得られた透明液をリン酸系化合物の処理液3とした。
(Example 5)
As a phosphoric acid compound treatment solution, 1 part by weight of primary calcium phosphate [Ca (H 2 PO 4 ) 2 H 2 O] was dissolved in 100 parts by weight of pure water and allowed to stand for about 2 days. The obtained transparent liquid was designated as a treatment liquid 3 for a phosphoric acid compound.

厚さが1mmのソーダライムシリカガラス(NaO:17wt%)1枚を実施例1のアルモファス酸化アルミニウムコーティング液に、ディッピング法で、3mm/sの引き上げ速度、相対湿度50%の条件下で、コーティングした。その後、空気中で30分間乾燥し、その後、300℃の乾燥機で1時間熱処理した。その後、繰り返し、2回コーティングし、アモルファス酸化アルミニウム層付きのガラス基板を得た。得られたガラス基板を温水処理し、酸化アルミニウムの微細凹凸化を行った。それぞれステンレスホルダーにいれ、80℃の純水に30分間浸漬し、その後、100℃の乾燥機で乾燥した。続いてリン酸系化合物の処理液3に浸漬し、3mm/sの引き上げ速度で引き上げた。その後、60℃の乾燥機で1時間熱処理し、ガラス5を得た。 One sheet of soda lime silica glass (Na 2 O: 17 wt%) having a thickness of 1 mm was applied to the Almophas aluminum oxide coating solution of Example 1 by the dipping method under the conditions of a pulling rate of 3 mm / s and a relative humidity of 50%. Coated. Thereafter, it was dried in air for 30 minutes, and then heat-treated with a dryer at 300 ° C. for 1 hour. Thereafter, coating was repeated twice to obtain a glass substrate with an amorphous aluminum oxide layer. The obtained glass substrate was treated with warm water to make aluminum oxide fine unevenness. Each was placed in a stainless steel holder, immersed in pure water at 80 ° C. for 30 minutes, and then dried with a dryer at 100 ° C. Then, it was immersed in the processing liquid 3 of a phosphoric acid type compound, and it pulled up with the pulling-up speed of 3 mm / s. Then, it heat-processed for 1 hour with the 60 degreeC drying machine, and obtained the glass 5. FIG.

ガラス5を上記の耐久性試験条件(60℃、相対湿度90%)で耐久試験を行ったところ、外観は変化しなかった。分光光度計で透過率を測定したところ、透過率が98.2%であった。ヘーズメーターで測定したところ、ヘーズ値が0.10であった。最後、電子顕微鏡で、サンプルを断面観察したところ、15nmのアルモファス層と厚さが約390nmの板状粒子からの凹凸構造の層になっていることがわかった。   When the durability test was performed on the glass 5 under the above-described durability test conditions (60 ° C., relative humidity 90%), the appearance did not change. When the transmittance was measured with a spectrophotometer, the transmittance was 98.2%. When measured with a haze meter, the haze value was 0.10. Finally, a cross-sectional observation of the sample with an electron microscope revealed that the layer had a concavo-convex structure composed of a 15 nm Almorphus layer and a plate-like particle having a thickness of about 390 nm.

このリン酸系化合物の処理液には、アルカリ土類金属であるカルシウムが含まれている。しかし基材に含まれているアルカリ土類金属の形態とは異なる。このリン酸系化合物の処理液に酸化アルミニウム層付き基板を浸漬すると、リン酸系化合物が酸化アルミニウム成分と反応し、リン酸カルシウムとリン酸アルミニウムを含む非水溶性複合層を形成する。この層によって、水分の基材ガラスへの透過を防ぎ、またカルシウム自身もリン酸塩の形で強固に結合され、移動できないため、酸化アルミニウム層内をカルシウムが移動することによる光学特性の変化も起こらない。   The phosphoric acid compound treatment liquid contains calcium which is an alkaline earth metal. However, it differs from the form of alkaline earth metal contained in the substrate. When the substrate with an aluminum oxide layer is immersed in the phosphoric acid compound treatment liquid, the phosphoric acid compound reacts with the aluminum oxide component to form a water-insoluble composite layer containing calcium phosphate and aluminum phosphate. This layer prevents moisture from penetrating the base glass, and calcium itself is firmly bonded in the form of phosphate and cannot move, so the optical properties change due to the movement of calcium in the aluminum oxide layer. Does not happen.

(実施例6)
リン酸系化合物の処理液として、0.5%第1リン酸亜鉛〔Zn(HPO〕水溶液を用いた(処理液4)。ここでは、200重量部の純水に1重量部の第1リン酸亜鉛〔Zn(HPO〕を溶かしたものを用いた。
(Example 6)
A 0.5% first zinc phosphate [Zn (H 2 PO 4 ) 2 ] aqueous solution was used as a treatment liquid for the phosphoric acid compound (treatment liquid 4). Here, used was dissolved first zinc phosphate 1 part by weight [Zn (H 2 PO 4) 2] in pure water 200 parts by weight.

厚さが1mmのソーダライムシリカガラス(NaO:17wt%)1枚を実施例1のアルモファス酸化アルミニウムコーティング液に、ディッピング法で、3mm/sの引き上げ速度、相対湿度50%の条件下で、コーティングした。その後、空気中で30分間乾燥し、300℃の乾燥機で1時間熱処理した。その後、繰り返し、2回コーティングし、アモルファス酸化アルミニウム層付きのガラス基板を得た。得られたガラス基板を温水処理し、酸化アルミニウムの微細凹凸化を行った。それぞれステンレスホルダーにいれ、80℃の純水に30分間浸漬し、その後、100℃の乾燥機で乾燥した。続いて、リン酸系化合物の処理液4に浸漬し、3mm/sの引き上げ速度で引き上げた。その後、60℃の乾燥機で1時間熱処理し、ガラス6を得た。 One sheet of soda lime silica glass (Na 2 O: 17 wt%) having a thickness of 1 mm was applied to the Almophas aluminum oxide coating solution of Example 1 by the dipping method under the conditions of a pulling rate of 3 mm / s and a relative humidity of 50%. Coated. Then, it dried in the air for 30 minutes and heat-processed for 1 hour with the dryer of 300 degreeC. Thereafter, coating was repeated twice to obtain a glass substrate with an amorphous aluminum oxide layer. The obtained glass substrate was treated with warm water to make aluminum oxide fine unevenness. Each was placed in a stainless steel holder, immersed in pure water at 80 ° C. for 30 minutes, and then dried with a dryer at 100 ° C. Then, it was immersed in the processing liquid 4 of a phosphoric acid type compound, and it pulled up with the pulling-up speed of 3 mm / s. Then, it heat-processed for 1 hour with the 60 degreeC drying machine, and obtained the glass 6. FIG.

ガラス6を上記の耐久性試験条件(60℃、相対湿度90%)で耐久試験を行ったところ、外観は変化しなかった。分光光度計で透過率を測定したところ、透過率が98.5%であった。ヘーズメーターで測定したところ、ヘーズ値が0.11であった。最後、電子顕微鏡で、サンプルを断面観察したところ、厚さが35nmのアルモファス層と厚さが約400nmの板状粒子からの凹凸構造の層になっていることがわかった。   When the durability test was performed on the glass 6 under the above-described durability test conditions (60 ° C., relative humidity 90%), the appearance did not change. When the transmittance was measured with a spectrophotometer, the transmittance was 98.5%. When measured with a haze meter, the haze value was 0.11. Finally, a cross-sectional observation of the sample with an electron microscope revealed that the layer had a concavo-convex structure composed of an Almofus layer having a thickness of 35 nm and plate-like particles having a thickness of about 400 nm.

(実施例7)
厚さが1mmで、NaOを11wt%含有し、屈折率が1.81の光学ガラスを基材とした。
(Example 7)
An optical glass having a thickness of 1 mm, containing 11 wt% Na 2 O, and a refractive index of 1.81 was used as a base material.

テトラエトキシシラン(TEOS)をエタノール(EtOH)中に溶解させ、0.01MHCl水溶液を触媒として加えた後、6時間攪拌を行った。このときの各成分のモル比はTEOS:EtOH:HCl(aq)=1:40:2であった。また、チタニウムn−ブトキシド(TBOT)をエタノールに溶解させた後、安定化成分としアセト酢酸エチル(EAcAc)を加え室温で3時間攪拌を行った。各成分のモル比はTBOT:EtOH:EAcAc=1:20:1であった。前記SiOゾル液にTiOゾル液をモル比でSiO:TiO=70:30となるように加え、2時間室温で攪拌した後、SiO−TiO中間膜のコーティング液とした。 Tetraethoxysilane (TEOS) was dissolved in ethanol (EtOH), and 0.01 M HCl aqueous solution was added as a catalyst, followed by stirring for 6 hours. The molar ratio of each component at this time was TEOS: EtOH: HCl (aq) = 1: 40: 2. Further, after dissolving titanium n-butoxide (TBOT) in ethanol, ethyl acetoacetate (EAcAc) was added as a stabilizing component, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The molar ratio of each component was TBOT: EtOH: EAcAc = 1: 20: 1. The SiO in a molar ratio of the TiO 2 sol solution was added to the SiO 2 sol solution 2: TiO 2 = 70: 30 and so as added, the mixture was stirred at room temperature for 2 hours to obtain a coating solution of SiO 2 -TiO 2 intermediate film.

前記のガラス基板を中間膜のコーティング液に浸漬し、ディッピング法で、2mm/秒の引き上げ速度、相対湿度50%の条件下で、ガラス基板の表面に塗布膜を形成した。乾燥後、300℃で1時間焼成する熱処理をし、透明なTiとSiとを含むアモルファス酸化物の中間膜を被膜した。   The glass substrate was immersed in an intermediate film coating solution, and a coating film was formed on the surface of the glass substrate by a dipping method under a pulling rate of 2 mm / second and a relative humidity of 50%. After drying, heat treatment was performed by baking at 300 ° C. for 1 hour, and an amorphous oxide intermediate film containing transparent Ti and Si was coated.

中間膜を設けたガラス基板を実施例1のアルモファス酸化アルミニウムコーティング液に、ディッピング法で、3mm/sの引き上げ速度、相対湿度50%の条件下で、コーティングした。その後、空気中で30分間乾燥し、その後、300℃の乾燥機で1時間熱処理した。その後、繰り返し、2回コーティングし、アモルファス酸化アルミニウム層付きのガラス基板を得た。得られたガラス基板を温水処理し、酸化アルミニウム層の一部をベーマイトに転化して微細凹凸化を行った。ステンレスホルダーにいれ、80℃の純水に30分間浸漬し、その後、100℃の乾燥機で乾燥した。その後、実施例1のリン酸系化合物の処理液1に浸漬し、3mm/sの引き上げ速度で引き上げた。最後、60℃の乾燥機で1時間熱処理し、ガラス7を得た。   The glass substrate provided with the intermediate film was coated on the Almophas aluminum oxide coating solution of Example 1 by dipping method under the conditions of a lifting speed of 3 mm / s and a relative humidity of 50%. Thereafter, it was dried in air for 30 minutes, and then heat-treated with a dryer at 300 ° C. for 1 hour. Thereafter, coating was repeated twice to obtain a glass substrate with an amorphous aluminum oxide layer. The obtained glass substrate was treated with warm water, and a part of the aluminum oxide layer was converted into boehmite to make fine irregularities. The sample was put in a stainless steel holder, immersed in pure water at 80 ° C. for 30 minutes, and then dried with a dryer at 100 ° C. Then, it was immersed in the treatment liquid 1 of the phosphoric acid compound of Example 1 and pulled up at a lifting speed of 3 mm / s. Finally, heat treatment was performed for 1 hour with a dryer at 60 ° C. to obtain glass 7.

ガラス7を上記の耐久性試験条件(60℃、相対湿度90%)で耐久試験を行ったところ、外観は変化しなかった。分光光度計で透過率を測定したところ、透過率が99.5%であった。ヘーズメーターで測定したところ、ヘーズ値が0.11であった。   When the durability test was performed on the glass 7 under the above-described durability test conditions (60 ° C., relative humidity 90%), the appearance did not change. When the transmittance was measured with a spectrophotometer, the transmittance was 99.5%. When measured with a haze meter, the haze value was 0.11.

(実施例8)
を30wt%含有し、屈折率が1.77の光学ガラスを基材とした。
(Example 8)
An optical glass containing 30 wt% B 2 O 3 and having a refractive index of 1.77 was used as a base material.

まず、実施例7のSiOゾル液にTiOゾル液をモル比でSiO:TiO=80:20となるように加え、2時間室温で攪拌した後、SiO−TiO中間膜のコーティング液を作製した。中間膜のコーティング液を用い、ディッピング法で、2mm/秒の引き上げ速度、相対湿度が60%の条件下で、ガラス基板の表面に塗布膜を形成した。室温で乾燥した後、300℃で1時間熱処理をし、透明なアモルファスSiO−TiO膜付きのガラスを得た。 First, Example 7 of SiO 2 SiO in a molar ratio of the TiO 2 sol solution was added to the sol solution 2: TiO 2 = 80: 20 and so as added, the mixture was stirred at room temperature for 2 hours, the SiO 2 -TiO 2 intermediate film A coating solution was prepared. A coating film was formed on the surface of the glass substrate by a dipping method using an intermediate film coating solution under the conditions of a pulling rate of 2 mm / second and a relative humidity of 60%. After drying at room temperature, heat treatment was performed at 300 ° C. for 1 hour to obtain a glass with a transparent amorphous SiO 2 —TiO 2 film.

得た中間膜付きの基板を実施例1のアルモファス酸化アルミニウムコーティング液に、ディッピング法で、3mm/sの引き上げ速度、相対湿度50%の条件下で、コーティングした。その後、空気中で30分間乾燥し、その後、300℃の乾燥機で1時間熱処理した。その後、繰り返し、2回コーティングし、アモルファス酸化アルミニウム層付きのガラス基板を得た。得られたガラス基板を温水処理し、酸化アルミニウムの微細凹凸化を行った。ステンレスホルダーにいれ、80℃の純水に30分間浸漬し、その後、100℃の乾燥機で乾燥した。その後、リン酸系化合物の処理液1に浸漬し、3mm/sの引き上げ速度で引き上げた。最後、60℃の乾燥機で1時間熱処理し、ガラス8を得た。   The obtained substrate with an intermediate film was coated on the Almophas aluminum oxide coating solution of Example 1 by dipping method under the conditions of a lifting speed of 3 mm / s and a relative humidity of 50%. Thereafter, it was dried in air for 30 minutes, and then heat-treated with a dryer at 300 ° C. for 1 hour. Thereafter, coating was repeated twice to obtain a glass substrate with an amorphous aluminum oxide layer. The obtained glass substrate was treated with warm water to make aluminum oxide fine unevenness. The sample was put in a stainless steel holder, immersed in pure water at 80 ° C. for 30 minutes, and then dried with a dryer at 100 ° C. Then, it was immersed in the process liquid 1 of a phosphoric acid type compound, and it pulled up with the pulling-up speed of 3 mm / s. Finally, the glass 8 was heat-treated for 1 hour with a dryer at 60 ° C.

ガラス8を上記の耐久性試験条件(60℃、相対湿度90%)で耐久試験を行ったところ、外観は変化しなかった。分光光度計で透過率を測定したところ、透過率が99.4%であった。ヘーズメーターで測定したところ、ヘーズ値が0.09であった。   When the durability test was performed on the glass 8 under the above-described durability test conditions (60 ° C., relative humidity 90%), the appearance did not change. When the transmittance was measured with a spectrophotometer, the transmittance was 99.4%. When measured with a haze meter, the haze value was 0.09.

(実施例9)
NaOを7wt%含有し、屈折率が1.65の光学ガラスを基材とした。
Example 9
An optical glass containing 7 wt% Na 2 O and having a refractive index of 1.65 was used as a base material.

まず、実施例7のSiOゾル液にTiOゾル液をモル比でSiO:TiO=80:20となるように加え、2時間室温で攪拌した後、SiO−TiO中間膜のコーティング液を作製した。中間膜のコーティング液を用い、ディッピング法で、1.5mm/秒の引き上げ速度、相対湿度が60%の条件下で、ガラス基板の表面に塗布膜を形成した。室温で乾燥した後、300℃で1時間熱処理をし、透明なアモルファスSiO−TiO膜付きのガラスを得た。 First, Example 7 of SiO 2 SiO in a molar ratio of the TiO 2 sol solution was added to the sol solution 2: TiO 2 = 80: 20 and so as added, the mixture was stirred at room temperature for 2 hours, the SiO 2 -TiO 2 intermediate film A coating solution was prepared. A coating film was formed on the surface of the glass substrate by a dipping method using an intermediate film coating solution under the conditions of a pulling rate of 1.5 mm / second and a relative humidity of 60%. After drying at room temperature, heat treatment was performed at 300 ° C. for 1 hour to obtain a glass with a transparent amorphous SiO 2 —TiO 2 film.

得た中間膜付きの基板を実施例1のアルモファス酸化アルミニウムコーティング液に、ディッピング法で、3mm/sの引き上げ速度、相対湿度50%の条件下で、コーティングした。その後、空気中で30分間乾燥し、その後、300℃の乾燥機で1時間熱処理した。その後、繰り返し、2回コーティングし、アモルファス酸化アルミニウム層付きのガラス基板を得た。得られたガラス基板を温水処理し、酸化アルミニウムの微細凹凸化を行った。ステンレスホルダーにいれ、80℃の純水に30分間浸漬し、その後、100℃の乾燥機で乾燥した。その後、リン酸系化合物の処理液1に浸漬し、3mm/sの引き上げ速度で引き上げた。最後、60℃の乾燥機で1時間熱処理し、ガラス9を得た。   The obtained substrate with an intermediate film was coated on the Almophas aluminum oxide coating solution of Example 1 by dipping method under the conditions of a lifting speed of 3 mm / s and a relative humidity of 50%. Thereafter, it was dried in air for 30 minutes, and then heat-treated with a dryer at 300 ° C. for 1 hour. Thereafter, coating was repeated twice to obtain a glass substrate with an amorphous aluminum oxide layer. The obtained glass substrate was treated with warm water to make aluminum oxide fine unevenness. The sample was put in a stainless steel holder, immersed in pure water at 80 ° C. for 30 minutes, and then dried with a dryer at 100 ° C. Then, it was immersed in the process liquid 1 of a phosphoric acid type compound, and it pulled up with the pulling-up speed of 3 mm / s. Finally, heat treatment was performed for 1 hour with a dryer at 60 ° C. to obtain glass 9.

ガラス9を上記の耐久性試験条件(60℃、相対湿度90%)で耐久試験を行ったところ、外観は変化しなかった。分光光度計で透過率を測定したところ、透過率が99.6%であった。ヘーズメーターで測定したところ、ヘーズ値が0.10であった。   When the durability test was performed on the glass 9 under the above-described durability test conditions (60 ° C., relative humidity 90%), the appearance did not change. When the transmittance was measured with a spectrophotometer, the transmittance was 99.6%. When measured with a haze meter, the haze value was 0.10.

11、21 基材
12、24 酸化物層
13、25 リン酸塩化合物含有層
22 中間層
23 アモルファス層
11, 21 Base material 12, 24 Oxide layer 13, 25 Phosphate compound-containing layer 22 Intermediate layer 23 Amorphous layer

Claims (3)

基材と、該基材表面に反射防止膜とを有する光学部材であって、前記反射防止膜は少なくとも、表面に酸化アルミニウムの結晶による微細凹凸構造が形成された金属酸化物層を有し、前記金属酸化物層はアモルファス層を含み、前記金属酸化物層の少なくとも表面はリン酸アルミニウムとなっていることを特徴とする光学部材。 An optical member having a base material and an antireflection film on the surface of the base material, wherein the antireflection film has at least a metal oxide layer having a fine concavo-convex structure formed of aluminum oxide crystals on the surface, The optical member, wherein the metal oxide layer includes an amorphous layer, and at least a surface of the metal oxide layer is made of aluminum phosphate . 前記微細凹凸構造の高さが0.1μm以上5μm以下であることを特徴とする請求項1記載の光学部材。   The optical member according to claim 1, wherein a height of the fine concavo-convex structure is 0.1 μm or more and 5 μm or less. 前記酸化アルミニウムの結晶は、ベーマイトであることを特徴とする請求項1記載の光学部材。 The optical member according to claim 1, wherein the aluminum oxide crystal is boehmite.
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