JP2011009295A - Device and method for conveyance - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、被搬送物を保持して目標位置に搬送する搬送装置およびその搬送方法に関する。 The present invention relates to a transport apparatus that holds a transported object and transports it to a target position and a transport method thereof.
従来、化合物半導体の用途が様々な分野において広がっている。良く用いられる化合物半導体として、特に半導体レーザー素子およびLED(発光ダイオード)素子等が挙げられる。これらの素子の製造には、MOCVD(有機金属化学気相成長法)装置またはMBE(分子線エピタキシー法)装置が広く用いられている。 Conventionally, the use of compound semiconductors is expanding in various fields. Examples of frequently used compound semiconductors include semiconductor laser elements and LED (light emitting diode) elements. For manufacturing these elements, MOCVD (metal organic chemical vapor deposition) apparatus or MBE (molecular beam epitaxy) apparatus is widely used.
MOCVD装置は、加熱された基板に原料となるガスを照射することによって成膜処理を行う装置である。MBE装置は、真空中において蒸発させた原料を、基板に照射することによって成膜処理を行う装置である。いずれの装置も、結晶成長の原理を利用して、成膜処理を行っている。MOCVD装置は、MBE装置と比較して生産性およびメンテナンス性が良い。このことから、工業的に化合物半導体を量産する場合には、一般的にMOCVD装置が使用されている。 The MOCVD apparatus is an apparatus that performs a film formation process by irradiating a heated substrate with a gas as a raw material. The MBE apparatus is an apparatus that performs a film forming process by irradiating a substrate with a material evaporated in a vacuum. Both apparatuses perform film formation processing using the principle of crystal growth. The MOCVD apparatus has better productivity and maintainability than the MBE apparatus. For this reason, when a compound semiconductor is mass-produced industrially, an MOCVD apparatus is generally used.
一般的なMOCVD装置を図8に示す。図8は、MOCVD装置の断面を示す図である。 A general MOCVD apparatus is shown in FIG. FIG. 8 is a view showing a cross section of the MOCVD apparatus.
このMOCVD装置1は、反応室2、モーター9およびガス供給器15を備えている。
The MOCVD apparatus 1 includes a
反応室2の内部において、複数の載置台5を回転台4の上面に設けている。各載置台5には、基板3がそれぞれ載置されている。基板3の材料としては、Si、GaAs、GaN、またはサファイアガラス等を用いる。生産する化合物半導体によって適切なものが使用される。
In the
回転台4の詳細を図9に示す。図9は、回転台4の上面を示す図である。
Details of the
回転台4は、回転軸8の上端に支持されている。この回転軸8はモーター9によって回転するようになっている。回転台4の上面に設けられた複数の載置台5は、それぞれ自転するように構成されている。したがって、載置台5の上に載せられた基板3は、回転台4の回転および載置台5の自転によって、公転と自転とをすることになる。これは、生成する結晶成長層の均一性を向上させ、均一な膜を生成するためである。
The
載置台5を自転させる仕組みとして、特許文献1では、ギヤの噛み合わせを利用して回転させる方法が開示されている。各載置台5はそれぞれ自転ギヤ6の上に設置されており、回転台4の外周には固定ギヤ7が設置されている。この自転ギヤ6は、回転台4上に設置されているため、回転台4の回転と同期しており、回転台4の外周に固定された固定ギヤ7と噛み合うことによって自転する。
As a mechanism for rotating the mounting table 5, Patent Document 1 discloses a method of rotating by using gear meshing. Each mounting table 5 is installed on a
また、特許文献2では、載置台5の下から回転駆動用ガスを供給して載置台5を浮上させ、回転させる方法が開示されている。
Further,
さらに、回転台4の下方にはヒーター10が配置されており、ヒーター10によって基板3を加熱するようになっている。また、回転台4の上方には反応室2内部の空間を隔てる略平行な隔壁11が設けられている。
Further, a
反応室2の上部には配管12が接続されている。この配管12には、ガス供給器15が接続されており、内部に成膜処理の原料である原料ガス14を保持している。この原料ガス14は、配管12の先端にあるガス吹き出し口13から、回転台4の表面に沿って供給される。この際、原料ガス14は、ヒーター10によって加熱された基板3に達すると、化学反応を起こす。その結果、結晶成長が行われ、基板3上に成膜処理が施される。余分な原料ガス14は、基板3の上を通過後、回転台4の外周に設けられた排気経路16から排気される。
A
MOCVD装置1では、成膜処理を行うために、装置内部に基板3を載置台5の上にセットしなければならない。通常、これは手作業によって行われている。
In the MOCVD apparatus 1, in order to perform the film forming process, the
反応室2が開閉するMOCVD装置1を図10に示す。図10は、反応室2が開いているMOCVD装置1の断面を示す図である。
An MOCVD apparatus 1 in which the
一般的に、反応室2は、反応室2aおよび反応室2bの上下に分かれており、反応室2bを上昇させて開くようにしていることが多い。その際、反応室2内部の隔壁11は、反応室2bと共に上昇する場合、もしくは作業者によってその都度取り除かれる場合がある。
In general, the
基板3は、破損しやすい材料でできている。そのため、基板3を取り扱う作業者には、高度な技術が要求され、慎重に作業をしなければならない。このことから、基板3を載置する作業は、時間がかかる。そのため、この作業を自動化する工夫が行われている。
The
特許文献3では、ロボットハンドによって基板3を搬送する装置が開示されている。載置台5に設けられたマークをロボットハンドが検出することによって、載置台5との位置関係を認識する。その情報に基づいて、ロボットハンドは載置台5に基板3を載置する。
また、特許文献4では、基板3を載置する目標位置である載置台5の中心点と、実際の基板3の中心点との誤差を補正する装置が開示されている。基板3に基準指標を設け、その中心点を検出する。その中心点と、載置台5の中心点とのオフセット量を求め、基板3を載置する位置を補正する。
上記MOCVD装置1は、数100℃から1000℃を超える高温環境下で動作する。このため、熱膨張による影響を避ける意味から、自転ギヤ6および固定ギヤ7の嵌め合いの公差を大きく取らざるをえない。その結果、回転台4停止時の載置台5の位置はmm単位でずれることがあった。
The MOCVD apparatus 1 operates in a high temperature environment exceeding several hundred degrees Celsius to 1000 degrees Celsius. For this reason, in order to avoid the influence of thermal expansion, the tolerance of the fitting of the
前述した特許文献3および特許文献4に開示される方法は、装置を立ち上げた時に設定した目標位置に、基板3を載置することの自動化を目的としている。そのため、目標位置である載置台5の位置が搬送時に毎回変化するような搬送には適用できない。
The methods disclosed in
特許文献3に開示される方法の延長技術として、基板3を目標位置に搬送する際、その都度マークとロボットハンドとの位置関係を検出する方法も考えられる。しかし、搬送前の段階で基板3の位置決めをしておらず、ロボットハンドが基板3をどのような状態で保持したのか不明である。そのため、基板3を目標位置に適切に搬送することは困難である。
As an extension technique of the method disclosed in
前述したように、MOCVD装置1では、高温環境下で成膜処理が行われる。そのため、搬送時において載置台5の温度が下がりきらず、100℃以上の場合がある。特に、装置のスループットを向上するために装置内部の温度が下がりきる前に搬送を行う場合には、装置内部の温度は400℃を超える。なおかつ搬送をしている最中にも温度は刻々と変化する。そうした環境下において、特許文献3および特許文献4に開示される方法では搬送途中の温度変化による目標位置の変化に追従できず、適用することができない。
As described above, the MOCVD apparatus 1 performs the film forming process in a high temperature environment. For this reason, the temperature of the mounting table 5 may not be lowered during the conveyance, and may be 100 ° C. or higher. In particular, when transport is performed before the temperature inside the apparatus drops to reduce the throughput of the apparatus, the temperature inside the apparatus exceeds 400 ° C. In addition, the temperature changes every moment during the conveyance. Under such circumstances, the methods disclosed in
また、基板3は、25℃程度の常温から400℃程度の高温下に移動すると、急激な温度変化によってダメージを受ける場合がある。特に、線膨張係数の比較的大きいサファイアガラス基板(線膨張係数7.7×10−6/℃)等は、熱衝撃で割れることがある。したがって、その場合は基板3の移動速度を可能な限り下げ、基板3に急激な温度変化を与えないようにしなければならない。これは装置のスループットの低下につながる。
Further, when the
特許文献3および特許文献4に開示される方法は、いずれもマークまたは基準指標を目載置台5に設けなければならない。MOCVD装置1では、均一な成膜処理を行うために、基板3の温度の均一性が高く要求される。したがって、載置台5にマークまたは基準指標を設けることは、基板3の温度の不均一性を招いてしまう。
In any of the methods disclosed in
MOCVD装置1の反応室2内部では、成膜処理後に生成物が隔壁11に堆積し、これが落下することが知られている。したがって、載置台5ではない位置にマークまたは基準指標を設けることでできたとしても、その上に生成物が落下する可能性がある。その場合、マークまたは基準指標の検出が正しく行えなくなり、適切な搬送を行うことができない。
In the
本発明は、上記の問題点を鑑みて成されたものであり、その目的は、自動的に搬送物を搬送し、高精度に載置することができる搬送装置およびその搬送方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a transport apparatus that can automatically transport a transported object and place it with high accuracy, and a transport method therefor. It is in.
第一位置に設置された位置決め機構に配置された被搬送物を、第二位置に設置された載置台に搬送する搬送装置であって、
前記第二位置寄りの先端部にセンサーを有し、かつ、当該センサーから前記第一位置に向かって一定距離置いた位置において前記被搬送物を把持する把持部と、
前記把持部を上下に移動可能な高さ方向移動機構と、
前記把持部を、前記第一位置と前記第二位置との間において移動可能な第一の移動機構と、
前記第二位置からの距離が確定した所定位置に到達する前に前記把持部を減速させるように、前記第一の移動機構を制御する減速制御部と、
前記センサーからの出力に基づき前記所定位置を検出する検出制御部と、
前記検出された所定位置から前記第二位置までの距離と、前記被搬送物から前記センサーまでの距離とを加えた距離だけ、前記所定位置から前記把持部を移動させるように、前記第一の移動機構を制御する移動制御部と、を備えていることを特徴としている。
A transport device that transports an object to be transported arranged in a positioning mechanism installed in a first position to a mounting table installed in a second position,
A gripping unit that grips the object to be transported at a position at a certain distance from the sensor toward the first position, with a sensor at the tip near the second position;
A height direction moving mechanism capable of moving the grip portion up and down;
A first moving mechanism capable of moving the gripping portion between the first position and the second position;
A deceleration control unit for controlling the first moving mechanism so as to decelerate the gripping unit before reaching a predetermined position where the distance from the second position is determined;
A detection control unit for detecting the predetermined position based on an output from the sensor;
The first holding unit is moved from the predetermined position by a distance obtained by adding a distance from the detected predetermined position to the second position and a distance from the conveyed object to the sensor. And a movement control unit that controls the movement mechanism.
上記の構成によれば、本発明に係る搬送装置では、第一位置に設置された被搬送物を把持部が把持し、第二位置に設置された載置台にまで搬送する。 According to said structure, in the conveying apparatus which concerns on this invention, a holding part hold | grips the to-be-conveyed object installed in the 1st position, and conveys it to the mounting base installed in the 2nd position.
具体的には、把持部が被搬送物を把持し、第一の移動機構によってそのまま第二位置まで移動を開始する。把持部の先端にはセンサーが備えられており、当該センサーは第二位置までの距離が確定した所定位置を検出する。所定位置に到達する前に、把持部は減速するように構成されている。センサーが所定位置を検出すると、所定位置から第二位置までの距離と、被搬送物からセンサーまでの距離とを加えた距離だけ、所定位置から把持部を移動させる。これによって、把持部は第二位置まで到達し、被搬送物は載置台上に載置される。 Specifically, the gripper grips the object to be transported and starts moving to the second position as it is by the first moving mechanism. A sensor is provided at the tip of the grip portion, and the sensor detects a predetermined position where the distance to the second position is fixed. Prior to reaching the predetermined position, the gripping portion is configured to decelerate. When the sensor detects the predetermined position, the gripper is moved from the predetermined position by a distance obtained by adding the distance from the predetermined position to the second position and the distance from the conveyed object to the sensor. As a result, the gripping part reaches the second position, and the object to be transported is placed on the placing table.
したがって、本発明に係る搬送装置は、所定位置に到達する前に把持部を減速させることによって、センサーによる所定位置検出処理を安定化できる。その結果、被搬送物のより正確な搬送が可能となる。また、搬送先位置が変化している場合でも、把持部に備えられたセンサーによって搬送先の変化に対応することが可能であり、正確に被搬送物を搬送することができる。したがって、本発明に係る搬送装置は、搬送先位置の変化の有無に関わらず、被搬送物を第二位置まで精度良く搬送することが可能となる。 Therefore, the conveying apparatus according to the present invention can stabilize the predetermined position detection process by the sensor by decelerating the gripping part before reaching the predetermined position. As a result, it becomes possible to more accurately convey the object to be conveyed. Further, even when the transport destination position is changed, it is possible to cope with the change of the transport destination by the sensor provided in the gripping unit, and it is possible to accurately transport the object to be transported. Therefore, the transport apparatus according to the present invention can transport the transported object to the second position with high accuracy regardless of whether or not the transport destination position has changed.
前記載置台は、回転台上に複数設置されており、回転台を回転させることによっていずれの前記載置台を前記第二位置にまで移動させるか選択可能であり、
前記把持部を、前記高さ方向移動機構および前記第一の移動機構のいずれに対しても直角方向に移動可能な第二の移動機構を有していることを特徴としている。
A plurality of the mounting tables are installed on the rotating table, and it is possible to select which mounting table is moved to the second position by rotating the rotating table,
The gripping unit includes a second moving mechanism that can move in a direction perpendicular to both the height direction moving mechanism and the first moving mechanism.
上記の構成によれば、複数ある載置台のうちいずれの載置台を第二位置にまで移動させるか自由に選択することができる。また、回転台停止時に生じた回転台停止角度の誤差を補正することができる。 According to said structure, it can be freely selected which mounting base is moved to a 2nd position among several mounting bases. Further, it is possible to correct an error of the turntable stop angle generated when the turntable is stopped.
前記回転台は、回転角度を検出する角度センサーを備えており、角度センサーの出力に基づき、前記移動制御部が前記第二の移動機構による前記把持部の移動量を求めることを特徴としている。 The turntable includes an angle sensor that detects a rotation angle, and the movement control unit obtains the amount of movement of the gripper by the second moving mechanism based on an output of the angle sensor.
上記の構成によれば、回転台停止時に生じた回転台停止角度の誤差を補正するために、把持部が移動すべき量を算出することができる。 According to said structure, in order to correct | amend the error of the turntable stop angle produced at the time of a turntable stop, the quantity which a holding part should move can be calculated.
前記把持部は、前記先端部に前記センサーを少なくとも2つ備えており、それらを前記第二の移動機構による前記把持部の移動方向に所定の間隔を持って配置しており、
前記少なくとも2つのセンサーの出力に基づき、前記移動制御部が前記第二の移動機構による前記把持部の移動量を求めることを特徴としている。
The grip portion includes at least two sensors at the tip portion, and they are arranged with a predetermined interval in the moving direction of the grip portion by the second moving mechanism,
The movement control unit obtains a movement amount of the gripping part by the second movement mechanism based on outputs of the at least two sensors.
上記の構成によれば、複数のセンサーの情報に基づいて回転台停止角度の誤差を補正することができるので、第二位置をより正しく認識することができる。 According to said structure, since the error of a turntable stop angle can be correct | amended based on the information of a some sensor, a 2nd position can be recognized more correctly.
前記被搬送物は、搬送された際に前記載置台を覆う構造であることを特徴としている。 The transported object has a structure that covers the mounting table when transported.
上記の構成によれば、載置台上に異物が堆積することを防止できる。 According to said structure, it can prevent that a foreign material accumulates on a mounting base.
前記所定位置は、前記載置台の縁であることを特徴としている。 The predetermined position is an edge of the mounting table.
上記の構成によれば、センサーが載置台の縁を検出することによって、載置台の位置を認識できる。 According to said structure, the position of a mounting base can be recognized because a sensor detects the edge of a mounting base.
前記センサーは、反射型光ファイバーセンサーであることが好ましい。 The sensor is preferably a reflective optical fiber sensor.
上記の構成によれば、搬送先位置が高温下であっても、耐熱性を有する反射型光ファイバーセンサーでは問題なく所定位置を検出することができる。 According to said structure, even if a conveyance destination position is under high temperature, a reflective optical fiber sensor which has heat resistance can detect a predetermined position without a problem.
前記載置台は、グラファイト、炭化珪素、または炭化珪素コーティングされたグラファイトのいずれかによって構成されており、
前記載置台の縁よりも第一位置寄りには、窒化ホウ素または、窒化ホウ素と窒化珪素との化合物のいずれかが前記センサーから見て臨めることが好ましい。
The mounting table is composed of either graphite, silicon carbide, or graphite coated with silicon carbide,
It is preferable that either boron nitride or a compound of boron nitride and silicon nitride can be seen from the sensor closer to the first position than the edge of the mounting table.
上記の構成によれば、載置台とその外側とのコントラストが十分に大きくなるので、載置台の縁を検出しやすくなる。 According to said structure, since the contrast of a mounting base and its outer side becomes large enough, it becomes easy to detect the edge of a mounting base.
第一位置に設置された位置決め機構に配置された被搬送物を、第二位置に設置された載置台まで搬送する方法であって、
前記第二位置寄りの先端部にセンサーを有し、かつ、当該センサーから前記第一位置に向かって一定距離置いた位置において前記被搬送物を把持する把持部によって前記被搬送物を把持する工程と、
前記把持部を高さ方向に移動し、前記被搬送物を第一位置から持ち上げる工程と、
第二位置に向かって前記把持部を移動させる工程と、
前記把持部が第二位置までの距離が明らかな所定位置より手前の位置に達すると前記把持部の移動を減速させる工程と、
前記センサーによって前記所定位置を検出する工程と、
前記検出された所定位置から前記第二位置までの距離と、前記被搬送物から前記センサーまでの距離とを加えた距離だけ、前記所定位置から前記把持部を移動し、前記被搬送物を前記把持部から前記載置台に載置する工程と、を有することを特徴とする搬送方法。
A method of transporting an object to be transported arranged in a positioning mechanism installed in a first position to a mounting table installed in a second position,
A step of holding the transported object by a gripping unit that grips the transported object at a position at a certain distance from the sensor toward the first position, the sensor being provided at the tip near the second position. When,
Moving the gripping part in the height direction and lifting the conveyed object from a first position;
Moving the grip portion toward a second position;
A step of decelerating the movement of the gripping part when the gripping part reaches a position before the predetermined position where the distance to the second position is clear;
Detecting the predetermined position by the sensor;
The grip portion is moved from the predetermined position by a distance obtained by adding a distance from the detected predetermined position to the second position and a distance from the transferred object to the sensor, and the transferred object is moved to the second position. And a step of placing on the mounting table from the gripping part.
上記の構成によれば、所定位置に到達する前に把持部を減速させることによって、センサーによる所定位置検出処理を安定化でき、被搬送物のより正確な搬送が可能となる。 According to said structure, the predetermined position detection process by a sensor can be stabilized by decelerating a holding | grip part before reaching | attaining a predetermined position, and more exact conveyance of a to-be-conveyed object is attained.
本発明に係る搬送装置は、所定位置に到達する前に把持部を減速させることによって、センサーによる所定位置検出処理を安定化できる。その結果、被搬送物のより正確な搬送が可能となる。また、搬送先位置が変化している場合でも、把持部に備えられたセンサーによって搬送先の変化に対応することが可能であり、正確に被搬送物を搬送することができる。したがって、本発明に係る搬送装置は、搬送先位置の変化の有無に関わらず、被搬送物を第二位置まで精度良く搬送することが可能となる。 The conveyance device according to the present invention can stabilize the predetermined position detection process by the sensor by decelerating the gripping part before reaching the predetermined position. As a result, it becomes possible to more accurately convey the object to be conveyed. Further, even when the transport destination position is changed, it is possible to cope with the change of the transport destination by the sensor provided in the gripping unit, and it is possible to accurately transport the object to be transported. Therefore, the transport apparatus according to the present invention can transport the transported object to the second position with high accuracy regardless of whether or not the transport destination position has changed.
以下、本発明に係る実施の形態を、図面を参照して詳細に説明する。 Embodiments according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
なお、本実施形態を説明するための全図において、同一機能を有するものは、同一符号を付けてその繰り返しの説明は省略する。 In all the drawings for explaining the present embodiment, those having the same function are denoted by the same reference numerals, and the repeated explanation thereof is omitted.
〔第一の実施形態〕
(MOCVD装置1および基板トレイ搬送装置19の概要)
本発明の実施形態に係るMOCVD装置1および基板トレイ搬送装置19の概要について、図1を参照して説明する。図1は、本実施形態に係るMOCVD装置1および基板トレイ搬送装置19の断面を示す図である。
[First embodiment]
(Outline of MOCVD apparatus 1 and substrate tray transfer apparatus 19)
The outline | summary of the MOCVD apparatus 1 and the substrate
図1に示すように、本実施形態に係るMOCVD装置1の外部には、基板トレイ17の位置決め機構18と基板トレイ搬送装置19とが配置されている。
As shown in FIG. 1, a
本発明の概略としては、第一位置上に設置された位置決め機構18に配置された基板トレイ17を基板トレイ搬送装置19が把持し、MOCVD装置1の内部の第二位置に設置された載置台まで搬送する。MOCVD装置1内では成膜処理が行われ、成膜処理終了後に基板トレイ17は再び基板トレイ搬送装置19によって把持され、搬出される。
As an outline of the present invention, a
(MOCVD装置1の構成)
本実施形態に係るMOCVD装置1の構成を説明する。
(Configuration of MOCVD apparatus 1)
A configuration of the MOCVD apparatus 1 according to the present embodiment will be described.
MOCVD装置1は、図1に示すように、反応室2、モーター9、ガス供給器15およびエンコーダ30を備えている。
As shown in FIG. 1, the MOCVD apparatus 1 includes a
MOCVD装置1には、従来のMOCVD装置100と同様に、反応室2の内部において、回転台4の上面に複数の略円盤形の載置台5が設けられている。本実施形態では、回転台4の上に計8台の載置台5が設置されている。各載置台5には、それぞれ基板トレイ17が載っており、各基板トレイ17には、それぞれ基板3が載置されている。
Similar to the
回転台4は、回転軸8の上端に支持されている。回転軸8は、モーター9によって回転するようになっているため、回転台4を回転させる。回転台4の上面に設けられた複数の載置台5は、それぞれ自転するように構成されている。載置台5が自転する仕組みとしては、ギヤの噛み合わせを利用する方法を採用している。各載置台5はそれぞれ自転ギヤ6の上に設置されており、回転台4の外周には固定ギヤ7が設置されている。自転ギヤ6は、回転台4の回転と同期しており、回転台4の外周に固定された固定ギヤ7と噛み合うことによって自転する。したがって、載置台5の上に載せられた基板3は、回転台4の回転および載置台5の自転によって、公転と自転とをすることになる。
The
載置台5の材質には、高い熱伝導性および高い耐久性が求められるため、グラファイト、SiC(炭化珪素)またはSiCコーティングされたグラファイトを使用する。また、自転ギヤ6には、BN(窒化ホウ素)またはSBN(窒化ホウ素と窒化珪素との化合物)を素材として使用する。これらを用いるのは、載置台5の縁をセンサーによって検出しやすくするためでもある。これについては、後ほど詳しく説明する。
Since the mounting table 5 is required to have high thermal conductivity and high durability, graphite, SiC (silicon carbide) or SiC-coated graphite is used. The
図1に示すように、回転台4の下にはヒーター10が配置されており、基板3を加熱するようになっている。また、回転軸8にはエンコーダ30が取り付けられており、回転台4の回転角度を出力する。
As shown in FIG. 1, a
(基板トレイ搬送装置19の構成)
基板トレイ搬送装置19の構成を、図2を参照して説明する。図2は、基板トレイ搬送装置19の断面を示す図である。
(Configuration of Substrate Tray Transfer Device 19)
The configuration of the substrate
基板トレイ搬送装置19は、図2に示すように、吸着ヘッド22、搬送アーム26、高さ方向移動機構27、第一の移動機構28および第二の移動機構29を備えている。
As shown in FIG. 2, the substrate
図3に示すように、基板トレイ搬送装置19の先端には吸着ヘッド22が備えられている。吸着ヘッド22は、4つの吸着パッド23を有している。吸着パッド23には真空配管24が接続されており、真空配管24の内部を大気圧の状態から真空状態にすることが可能である。真空配管24の内部が真空状態になることによって、基板トレイ17を上方から吸着保持し、搬送することできる。吸着パッド23は、基板トレイ17の上面を吸着するように設定されており、誤って基板3を吸着しないようになっている。この際、基板トレイ17の上面を吸着しているが、下面または側面を吸着保持しても良い。また、基板トレイ17を真空配管24によって吸着する方法以外に、静電チャック等を利用した方法を採用しても良い。本実施形態では、基板トレイ17を用いて基板3を搬送する設計としているが、その他の炉内部材を用いても差し支えない。
As shown in FIG. 3, a
本実施形態に係る基板トレイ17の構成を、図3を参照して説明する。図3は、本実施形態に係る基板トレイ17の断面を示す図である。
The configuration of the
基板トレイ17は、略円盤形の石英板である。図3に示すように、基板トレイ17は、上面に凹部20を有し、下面に凸部21を有する。凹部20は、基板3を載置するための部位である。凸部21は、載置台5と勘合する部位であり、載置台5の外周に合わせて凸部21の寸法を設定している。
The
(反射型光ファイバーセンサー25が有する検出機構)
吸着パッド23から第二位置の方向へ一定距離置いた吸着ヘッド22の先端部には、反射型光ファイバーセンサー25が取り付けられている。反射型光ファイバーセンサー25は、そのセンサー先端を下向きにして取り付けられており、そこから光を発している。通常、反射型光ファイバーセンサー25は、発した光に対する対象物からの反射光の光量変化を計測することによって、対象物の有無を検出する。本実施形態では、前述のように載置台5にはグラファイト、SiCまたはSiCコーティングされたグラファイトを使用しており、自転ギヤ6にはBNまたはSBNを使用している。すなわち載置台5の縁よりも第一位置よりには、窒化ホウ素または、窒化ホウ素と窒化珪素との化合物のいずれかが、反射型光ファイバーセンサー25から見て臨めるようになっている。
(Detection mechanism of the reflective optical fiber sensor 25)
A reflective
グラファイト、SiCまたはSiCコーティングされたグラファイトの反射率は、BNまたはSBNと比較して非常に小さいので、載置台5および自転ギヤ6のコントラストは十分に大きくなる。したがって、本実施形態では、載置台5および自転ギヤ6のコントラストを検出することによって、載置台5の縁を検出することができる。また、反射型光ファイバーセンサー25は制御装置37の検出制御部に接続されており、センサーが縁を検出した信号を検出制御部に発することができる。なお、反射型光ファイバーセンサー25によって載置台5の縁を検出するのは、第二位置である載置台5までの距離が確定した所定位置を検出するためである。
Since the reflectivity of graphite, SiC or SiC-coated graphite is very small compared to BN or SBN, the contrast of the mounting table 5 and the
本実施形態では、反射型光ファイバーセンサー25として、耐熱性を有する竹中電子工業株式会社のGXH500Jシリーズを使用している。反射型光ファイバーセンサー25は比較的安価であり、バリエーションも多いため、対象物の有無を検出する目的では工業的に広く用いられている。位置検出としては、精度および汎用性の良さから、反射型光ファイバーセンサー25よりもビデオカメラを使用した画像処理による方法の方が広く用いられる。ただし、ビデオカメラを使用した画像処理装置は高価であり、なおかつ大きく、耐熱性に劣るため、本実施形態には適用することが困難である。また、本実施形態では反射型光ファイバーセンサー25を使用しているが、静電容量型または渦電流検知型のセンサーも適用可能である。基本的には非接触型が望ましいが、カンチレバー等を用いた機械スイッチ式でも構成可能である。
In the present embodiment, as the reflective
(基板トレイ搬送装置19が有する移動機構)
基板トレイ搬送装置19が有する移動機構を説明する。
(Movement mechanism of the substrate tray transfer device 19)
A moving mechanism of the substrate
図2に示すように、吸着ヘッド22は搬送アーム26に接続されている。搬送アーム26は、高さ方向移動機構27に固定されており、なおかつ高さ方向移動機構27は第一の移動機構28に固定されている。高さ方向移動機構27は、上下に移動可能であり、第一の移動機構28は、搬送アーム26が伸びている方向と同じ向きに移動可能である。また、高さ方向移動機構27および第一の移動機構28のいずれの移動方向に対しても、直角方向に移動する第二の移動機構29が配置されている。第一の移動機構28は、第二の移動機構29に固定されている。したがって、第二の移動機構29が移動すると、高さ方向移動機構27および第一の移動機構28のいずれも動くことになる。
As shown in FIG. 2, the
高さ方向移動機構27、第一の移動機構28および第二の移動機構29はそれぞれ制御装置37の移動制御部に接続されており、この移動制御部が各機構を制御している。
The height
(基板トレイ17の搬送手順)
基板トレイ17の具体的な搬送手順を、図4、図5および図6を参照して説明する。
(Conveying procedure of substrate tray 17)
A specific conveyance procedure of the
MOCVD装置1への基板トレイ17の搬送は、回転台4上に複数ある載置台5のうち、特定の一つを搬送先とする。
For transporting the
まず、MOCVD装置1内部で基板3への成膜処理が終了し、成膜処理された基板3およびその他の被搬送物をすでに搬出した状態とする。図4は、基板トレイ17の搬送の初期段階における、基板トレイ搬送装置19およびMOCVD装置1の断面を示す図である。図4に示すように、MOCVD装置1の反応室2は開いた状態となっている。
First, the film forming process on the
基板3を載置した基板トレイ17が図示しない搬送装置によって、位置決め機構18に搬送される動作から行われる。基板トレイ17は、位置決め機構18によって所定の位置に位置決めされ、その後吸着ヘッド22によって保持される。
The operation is performed from the operation in which the
この際、回転軸8に設けられたエンコーダ30から回転台4の現在の停止角度θが出力される。制御装置37は、回転台4の現在の停止角度θと、本来回転台4を停止させるべきだった停止角度θ0との差である停止角度の誤差Δθを求める。そこから第二の移動機構29が動くべき移動量Lyを計算する。具体的には、複数ある載置台5の公転半径Rと停止角度誤差Δθから、次式(1)で求める。
Ly = R × sinΔθ……(1)
第二の移動機構29は、求められたLyだけ移動する。
At this time, the current stop angle θ of the
Ly = R × sin Δθ (1)
The
それと同時に、第一の移動機構28が移動することによって、吸着ヘッド22により保持された基板トレイ17を、搬送先である載置台5に向かって移動を開始する。この際、第一の移動機構28の移動速度を200mm/secとする。なお、制御装置37には、載置台5の縁よりも十分手前である位置を予め入力しておく。載置台5の縁よりも十分手前である位置とは、載置台5の縁からおおよそ2mm手前から4mm手前の区間である。載置台5の縁よりも十分手前である位置として、載置台5の縁よりもおおよそ2mm手前を入力した例を以下に示す。
At the same time, the first moving
反射型光ファイバーセンサー25が予め入力された位置を通過すると、制御装置37の減速制御部によって第一の移動機構28は2mm/secまで減速する。したがって、載置台5の縁の上空を通過するおおよそ2mm手前で第一の移動機構28は減速し、減速状態で約4mm移動する。こうすることで反射型光ファイバーセンサー25が載置台5の縁の上空を比較的低速で通過することになる。
When the reflection type
(反射型光ファイバーセンサー25による検出)
図5は、反射型光ファイバーセンサー25が載置台5の縁を検出する状態の断面を示す図である。図5に示すように、反射型光ファイバーセンサー25は載置台5の方へ移動しながら、センサー先端から投射光31を発している。前述したように、載置台5にはSiCコーティングされたグラファイトを使用しており、自転ギヤ6にはSBNを素材として使用している。SiCコーティングされたグラファイトの反射率は、SBNの反射率と比較して非常に小さい。したがって、反射型光ファイバーセンサー25は、投射光31に対する反射光32の光量が多い状態から少ない状態へと移動していく。
(Detection by reflection type optical fiber sensor 25)
FIG. 5 is a view showing a cross section in a state where the reflection type
第一の移動機構28は、自身の座標を常時検出し、制御装置37に常時出力している。一方、反射型光ファイバーセンサー25は、検出した光量が、予め定められた閾値を越えた瞬間(または下回った瞬間)に、信号を制御装置37に出力するように設定されている。
The first moving
反射型光ファイバーセンサー25が反射光の強度変化を感知すると、すなわち閾値をまたがる変化を感知すると、この感知をきっかけに信号を制御装置37に発する。その信号を受け取った時点において、第一の移動機構28から制御装置37に入力された座標を、制御装置37は載置台5の縁位置として検出する。
When the reflection type
この検出処理時、反射型光ファイバーセンサー25は低速で移動しているため、反射型光ファイバーセンサー25は、投射光31に対する反射光32の光量変化のタイミングを精度良く感知することができる。なお、制御装置37は、予め入力した位置よりも手前の位置における反射型光ファイバーセンサー25からの出力を感知しない(すなわち無視する)ように設定されている。したがって、予め入力した位置を反射型光ファイバーセンサー25が過ぎた時点から、制御装置37は反射型光ファイバーセンサー25からの出力を感知するようになる。結果、載置台5の縁以外にコントラストの変化が発生しない領域を実質的にスキャンしているので、縁ではない部分を反射型光ファイバーセンサー25が誤って縁として検出してしまうことを防ぐことができる。
During the detection process, the reflection type
成膜処理中において、載置台5は基板トレイ17に覆われているため、生成物が堆積する可能性は低い。このことから、載置台5に生成物が堆積することによって、載置台5の縁の検出に誤差が生じる問題はない。また、載置台5の縁を検出させることによって、マークまたは基準指標を載置台5に新たに設けることで基板3の温度が不均一になることを防ぐことができる。
During the film forming process, since the mounting table 5 is covered with the
なお、成膜処理された基板3を搬出した直後のMOCVD装置1内部の温度は、約400℃あり、そこから徐々に下がっている。したがって、常温下にあった基板3が高温のMOCVD装置1内部に搬送されると急激な温度上昇によって、破壊等の問題が発生する場合がある。本実施形態では、載置台の縁近傍において第一の移動機構28が低速で移動している。このため、基板3は徐々に昇温されることになり、破壊等の発生を抑止できる。
Note that the temperature inside the MOCVD apparatus 1 immediately after unloading the film-formed
(基板トレイ17の勘合)
図6は、基板トレイ17を載置台5に勘合させている状態の断面を示す図である。本実施形態における載置台5の直径は115mmである。吸着ヘッド22に保持された状態での基板トレイ17の中心から反射型光ファイバーセンサー25までの距離は80mmである。したがって、載置台5の縁から115/2+80=137.5mmだけ第一の移動機構28を載置台5の方向に移動すると、吸着ヘッド22は載置台5にまで到達する。その後、図6に示すように、高さ方向移動機構27により吸着ヘッド22を載置台5に接近させると、基板トレイ17は載置台5と正確に勘合する。
(Fitting of the substrate tray 17)
FIG. 6 is a view showing a cross section in a state where the
基板トレイ17を載置台5に搬送し、勘合が完了すると、吸着ヘッド22は再び位置決め機構18の位置に移動する。次に搬送すべき基板トレイ17が図示しない搬送装置によって位置決め機構18に搬送されると、吸着ヘッド22は再びそれを保持し搬送する。その際、回転台4を回転させて、第二位置に新たな載置台5を移動させることによって、新たな搬送先とすることができる。こうして、いずれの載置台5を第二位置にまで移動するか選択可能である。
When the
本実施形態では、八箇所の載置台5すべてへ基板トレイ17を搬送すると、MOCVD装置1は反応室2を閉じ、成膜処理を開始する。成膜処理が終了すると、上記搬送動作を逆方向に行い、搬出作業を行う。この際、載置台5と基板トレイ17との精密な勘合が必要ないため、反射型光ファイバーセンサー25による載置台5の縁の検出は行わない。
In the present embodiment, when the
本実施形態では、1回の搬送で1個の基板トレイ17を搬送する装置を示したが、1回の搬送で複数個の基板トレイ17を搬送する装置を採用しても良い。
In the present embodiment, an apparatus that conveys one
(本実施形態の効果)
前述したとおり、本実施形態では、基板トレイ17の搬送をすべて自動化している。また、回転台4を停止した時に停止する角度に誤差が生じてしまっても、その誤差をエンコーダ30が検出するようになっている。その情報に基づいて、基板トレイ搬送装置19を移動させることによって補正できる。さらに、基板トレイ搬送装置19の先端に付けられた反射型光ファイバーセンサー25が載置台5を検出することによって、精度良く基板トレイ17を載置台5の上に載置することができる。同時に、基板トレイ17は高温のMOCVD装置1内に低速で搬送されるため、急な温度上昇による基板3の破壊を防ぐことができる。
(Effect of this embodiment)
As described above, in this embodiment, the conveyance of the
したがって、本実施形態に係るMOCVD装置1および基板トレイ搬送装置19によって、基板トレイ17を自動的に、なおかつ安定的で高精度に載置台5まで搬送することができる。
Therefore, the MOCVD apparatus 1 and the substrate
〔第二の実施形態〕
(複数のセンサーを備えた基板トレイ搬送装置19の概要)
本発明の第二の実施形態に係る基板トレイ搬送装置19について、図7を参照して説明する。図7は、複数の反射型光ファイバーセンサー25を備えた基板トレイ搬送装置19の上面を示す図である。
[Second Embodiment]
(Outline of substrate
A substrate
前述した実施形態ではエンコーダ30の出力に基づき補正を行っているが、複数の反射型光ファイバーセンサー25を用いて補正を行っても良い。複数の反射型光ファイバーセンサー25を設けることによって、基板トレイ17を載置すべき載置台5の中心を求めることができる。例として、2つの反射型光ファイバーセンサー25を備えた場合を以下に示す。
In the above-described embodiment, correction is performed based on the output of the
この場合、図7に示すように、2つの反射型光ファイバーセンサー25は、座標(x1,y1)33および座標(x2,y2)34を検出する。これらの座標と、載置台5の半径r35によって、載置台5の中心の座標(xr,yr)を求めることができる。具体的には、次式(2)および(3)から求める。
In this case, as shown in FIG. 7, the two reflective
すなわち、y1=0,x1=−x2とすると、載置台5の中心座標(xr,yr)は、A=−4×x1 2/y2 2+1、B=√{−4×(x1 2+y2 2/4−r2)×(−A)}と置き、結果、
xr=B/(2×A)……(2)
yr=y2/2−2×(x1/y2)×xr……(3)
が成立する。
That is, if y 1 = 0 and x 1 = −x 2 , the center coordinates (x r , y r ) of the mounting table 5 are A = −4 × x 1 2 / y 2 2 +1, B = √ {− 4 × (x 1 2 + y 2 2 / 4−r 2 ) × (−A)},
x r = B / (2 × A) (2)
y r = y 2 / 2-2 × (x 1 / y 2 ) × x r (3)
Is established.
この場合はエンコーダ30を設置するのを省略できるが、複数の反射型光ファイバーセンサー25を搭載することによって、吸着ヘッド22が大きくなる課題がある。
In this case, the installation of the
回転台4の回転を制御する機能が十分に高い場合は、前述した回転台4の停止角度の誤差はほとんどない。また、回転台4の慣性モーメントを小さくすることによって停止角度の誤差を十分に小さくできる場合も同様である。これらの場合は、第二の移動機構29、エンコーダ30、および複数の反射型光ファイバーセンサー25を設置することを省略できる。前述した実施形態は、量産を目的とした装置であるため、大型化されており、なおかつ回転台4の慣性モーメントが大きく、停止角度誤差が大きい。そのため、第二の移動機構29とエンコーダ30とを搭載している。
When the function of controlling the rotation of the
したがって、装置を設計する際の環境、または装置を使用する際の環境等によって、適切な装置を選択すると良い。 Therefore, an appropriate device may be selected depending on the environment when designing the device or the environment when using the device.
以上、本発明者によってなされた発明を、前記実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは言うまでもない。 Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiment, the invention is not limited to the embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.
例えば本発明の搬送装置19は、MOCVD装置およびMBE装置などの成膜装置に限らず、急激な温度上昇のない装置内への被搬送物の搬送にも活用できる。
For example, the
また、反射型光ファイバーセンサー25によって検出される所定位置は、載置台5の縁に限らない。MOCVD装置1において一定のコントラストを有し、かつ載置台5の中心(第二位置)から距離が確定した位置であれば、縁以外の如何なる位置でも良い。そのような条件を満たす位置としては、例えば自転ギヤ6の縁がある。
Further, the predetermined position detected by the reflective
本発明に係る成膜装置の搬送装置は、例えば成膜処理を行うMOCVD装置内の載置台に基板を搬送する搬送装置として利用できる。 The transfer apparatus of the film forming apparatus according to the present invention can be used as a transfer apparatus for transferring a substrate to a mounting table in an MOCVD apparatus that performs a film forming process, for example.
1 MOCVD装置
2 反応室
3 基板(被搬送物)
4 回転台
5 載置台
6 自転ギヤ
7 固定ギヤ
8 回転軸
9 モーター
10 ヒーター
11 隔壁
12 配管
13 ガス吹き出し口
14 原料ガス
15 ガス供給器
16 排気経路
17 基板トレイ
18 位置決め機構
19 基板トレイ搬送装置(搬送装置)
20 凹部
21 凸部
22 吸着ヘッド
23 吸着パッド
24 真空配管
25 反射型光ファイバーセンサー(センサー)
26 搬送アーム(把持部)
27 高さ方向移動機構
28 第一の移動機構
29 第二の移動機構
30 エンコーダ
31 投射光
32 反射光
33,34 座標
35 載置台5の半径
36 反射型光ファイバーセンサー間の距離
37 制御装置(減速制御部、検出制御部、移動制御部)
100 従来のMOCVD装置
1
DESCRIPTION OF
20
26 Transfer arm (gripping part)
27 Height
100 Conventional MOCVD equipment
Claims (9)
前記第二位置寄りの先端部にセンサーを有し、かつ、当該センサーから前記第一位置に向かって一定距離置いた位置において前記被搬送物を把持する把持部と、
前記把持部を上下に移動可能な高さ方向移動機構と、
前記把持部を、前記第一位置と前記第二位置との間において移動可能な第一の移動機構と、
前記第二位置からの距離が確定した所定位置に到達する前に前記把持部を減速させるように、前記第一の移動機構を制御する減速制御部と、
前記センサーからの出力に基づき前記所定位置を検出する検出制御部と、
前記検出された所定位置から前記第二位置までの距離と、前記被搬送物から前記センサーまでの距離とを加えた距離だけ、前記所定位置から前記把持部を移動させるように、前記第一の移動機構を制御する移動制御部と、を備えていることを特徴とする搬送装置。 A transport device that transports an object to be transported arranged in a positioning mechanism installed in a first position to a mounting table installed in a second position,
A gripping unit that grips the object to be transported at a position at a certain distance from the sensor toward the first position, with a sensor at the tip near the second position;
A height direction moving mechanism capable of moving the grip portion up and down;
A first moving mechanism capable of moving the gripping portion between the first position and the second position;
A deceleration control unit for controlling the first moving mechanism so as to decelerate the gripping unit before reaching a predetermined position where the distance from the second position is determined;
A detection control unit for detecting the predetermined position based on an output from the sensor;
The first holding unit is moved from the predetermined position by a distance obtained by adding a distance from the detected predetermined position to the second position and a distance from the conveyed object to the sensor. And a movement control unit that controls the movement mechanism.
前記把持部を、前記高さ方向移動機構および前記第一の移動機構のいずれに対しても直角方向に移動可能な第二の移動機構を有していることを特徴とする請求項1に記載の搬送装置。 A plurality of the mounting tables are installed on the rotating table, and it is possible to select which mounting table is moved to the second position by rotating the rotating table,
2. The second movement mechanism capable of moving the grip portion in a direction perpendicular to both the height direction movement mechanism and the first movement mechanism. Transport device.
前記少なくとも2つのセンサーの出力に基づき、前記移動制御部が前記第二の移動機構による前記把持部の移動量を求めることを特徴とする請求項2に記載の搬送装置。 The grip portion includes at least two sensors at the tip portion, and they are arranged with a predetermined interval in the moving direction of the grip portion by the second moving mechanism,
The transport apparatus according to claim 2, wherein the movement control unit obtains a movement amount of the grip part by the second movement mechanism based on outputs of the at least two sensors.
前記載置台の縁よりも第一位置寄りには、窒化ホウ素または、窒化ホウ素と窒化珪素との化合物のいずれかが前記センサーから見て臨めることを特徴とする請求項7に記載の搬送装置。 The mounting table is composed of either graphite, silicon carbide, or graphite coated with silicon carbide,
The transport apparatus according to claim 7, wherein either boron nitride or a compound of boron nitride and silicon nitride can be seen from the sensor closer to the first position than the edge of the mounting table.
前記第二位置寄りの先端部にセンサーを有し、かつ、当該センサーから前記第一位置に向かって一定距離置いた位置において前記被搬送物を把持する把持部によって前記被搬送物を把持する工程と、
前記把持部を高さ方向に移動し、前記被搬送物を第一位置から持ち上げる工程と、
第二位置に向かって前記把持部を移動させる工程と、
前記把持部が第二位置までの距離が明らかな所定位置より手前の位置に達すると前記把持部の移動を減速させる工程と、
前記センサーによって前記所定位置を検出する工程と、
前記検出された所定位置から前記第二位置までの距離と、前記被搬送物から前記センサーまでの距離とを加えた距離だけ、前記所定位置から前記把持部を移動し、前記被搬送物を前記把持部から前記載置台に載置する工程と、を備えていることを特徴とする搬送方法。 A method of transporting an object to be transported arranged in a positioning mechanism installed in a first position to a mounting table installed in a second position,
A step of holding the transported object by a gripping unit that grips the transported object at a position at a certain distance from the sensor toward the first position, the sensor being provided at the tip near the second position. When,
Moving the gripping part in the height direction and lifting the conveyed object from a first position;
Moving the grip portion toward a second position;
A step of decelerating the movement of the gripping part when the gripping part reaches a position before the predetermined position where the distance to the second position is clear;
Detecting the predetermined position by the sensor;
The grip portion is moved from the predetermined position by a distance obtained by adding a distance from the detected predetermined position to the second position and a distance from the transferred object to the sensor, and the transferred object is moved to the second position. And a step of placing on the mounting table from the gripping part.
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---|---|
JP (1) | JP5101567B2 (en) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013150607A1 (en) * | 2012-04-03 | 2013-10-10 | 株式会社島津製作所 | Substrate mounting position correcting apparatus and substrate mounting position correcting method |
KR20140051791A (en) * | 2012-10-23 | 2014-05-02 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | Substrate processing apparatus |
JP2018006761A (en) * | 2017-08-03 | 2018-01-11 | 株式会社ニコン | Object exchange method, object exchange system, exposure unit, manufacturing method of flat panel display, and device manufacturing method |
JP2019206751A (en) * | 2018-05-23 | 2019-12-05 | 信越化学工業株式会社 | Chemical vapor deposition apparatus and coating film forming method |
JP2021064689A (en) * | 2019-10-11 | 2021-04-22 | 三益半導体工業株式会社 | Transport method and transport device |
JP7554663B2 (en) | 2020-12-22 | 2024-09-20 | 東京エレクトロン株式会社 | SUBSTRATE TRANSFER APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02132840A (en) * | 1988-02-12 | 1990-05-22 | Tokyo Electron Ltd | Manufacturing device |
JPH05275511A (en) * | 1991-03-01 | 1993-10-22 | Tokyo Electron Ltd | Transferring system and treating device for object to be treated |
JPH07201948A (en) * | 1993-12-29 | 1995-08-04 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Substrate transferring jig |
JPH07321180A (en) * | 1994-05-20 | 1995-12-08 | Nec Kansai Ltd | Unloading device of semiconductor pellet |
JPH1126543A (en) * | 1997-07-07 | 1999-01-29 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Positioning method and device in substrate conveyor |
JP2003264214A (en) * | 2002-03-07 | 2003-09-19 | Hitachi High-Technologies Corp | Vacuum treatment device and vacuum treatment method |
JP2005260176A (en) * | 2004-03-15 | 2005-09-22 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | Position information acquiring method of conveying position of conveying apparatus |
JP2007201098A (en) * | 2006-01-25 | 2007-08-09 | Sharp Corp | Device and method for vapor phase growth |
JP2007238966A (en) * | 2006-03-03 | 2007-09-20 | Sharp Corp | Vapor deposition apparatus and vapor deposition method |
JP2007324486A (en) * | 2006-06-02 | 2007-12-13 | Tokyo Electron Ltd | Substrate treatment device, substrate treatment method, and memory medium |
JP2008277478A (en) * | 2007-04-27 | 2008-11-13 | Fujifilm Corp | Board clamp mechanism and drawing system |
-
2009
- 2009-06-23 JP JP2009148945A patent/JP5101567B2/en active Active
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02132840A (en) * | 1988-02-12 | 1990-05-22 | Tokyo Electron Ltd | Manufacturing device |
JPH05275511A (en) * | 1991-03-01 | 1993-10-22 | Tokyo Electron Ltd | Transferring system and treating device for object to be treated |
JPH07201948A (en) * | 1993-12-29 | 1995-08-04 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Substrate transferring jig |
JPH07321180A (en) * | 1994-05-20 | 1995-12-08 | Nec Kansai Ltd | Unloading device of semiconductor pellet |
JPH1126543A (en) * | 1997-07-07 | 1999-01-29 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Positioning method and device in substrate conveyor |
JP2003264214A (en) * | 2002-03-07 | 2003-09-19 | Hitachi High-Technologies Corp | Vacuum treatment device and vacuum treatment method |
JP2005260176A (en) * | 2004-03-15 | 2005-09-22 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | Position information acquiring method of conveying position of conveying apparatus |
JP2007201098A (en) * | 2006-01-25 | 2007-08-09 | Sharp Corp | Device and method for vapor phase growth |
JP2007238966A (en) * | 2006-03-03 | 2007-09-20 | Sharp Corp | Vapor deposition apparatus and vapor deposition method |
JP2007324486A (en) * | 2006-06-02 | 2007-12-13 | Tokyo Electron Ltd | Substrate treatment device, substrate treatment method, and memory medium |
JP2008277478A (en) * | 2007-04-27 | 2008-11-13 | Fujifilm Corp | Board clamp mechanism and drawing system |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013150607A1 (en) * | 2012-04-03 | 2013-10-10 | 株式会社島津製作所 | Substrate mounting position correcting apparatus and substrate mounting position correcting method |
KR20140051791A (en) * | 2012-10-23 | 2014-05-02 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | Substrate processing apparatus |
JP2014086545A (en) * | 2012-10-23 | 2014-05-12 | Tokyo Electron Ltd | Substrate processing apparatus |
KR101672577B1 (en) * | 2012-10-23 | 2016-11-03 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | Substrate processing apparatus |
US10186422B2 (en) | 2012-10-23 | 2019-01-22 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus |
JP2018006761A (en) * | 2017-08-03 | 2018-01-11 | 株式会社ニコン | Object exchange method, object exchange system, exposure unit, manufacturing method of flat panel display, and device manufacturing method |
JP2019206751A (en) * | 2018-05-23 | 2019-12-05 | 信越化学工業株式会社 | Chemical vapor deposition apparatus and coating film forming method |
JP7321768B2 (en) | 2018-05-23 | 2023-08-07 | 信越化学工業株式会社 | Chemical vapor deposition apparatus and film forming method |
US11885022B2 (en) | 2018-05-23 | 2024-01-30 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method of forming a film on a substrate by chemical vapor deposition |
JP2021064689A (en) * | 2019-10-11 | 2021-04-22 | 三益半導体工業株式会社 | Transport method and transport device |
JP7430872B2 (en) | 2019-10-11 | 2024-02-14 | 三益半導体工業株式会社 | Conveyance method and conveyance device |
JP7554663B2 (en) | 2020-12-22 | 2024-09-20 | 東京エレクトロン株式会社 | SUBSTRATE TRANSFER APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD |
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