JP2011009142A - スパイラルコンタクタおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 優れた電気接続性と耐久性、及びコンパクトな外形と優れた深い降伏点を兼ね備え、接続端子側に対応したスパイラル状接触子の長手方向の上面のエッジを鋭利に突起させたスパイラルコンタクタおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 スパイラルコンタクタ１は、凸形のスパイラル状接触子１１の長手方向の上面６のエッジ２、２の少なくとも一部に上方に突起状エッジ２を備え、突起状エッジ２は、Ｃｕ箔の露出面にＣｕメッキを施したときに生じるコーナＲによって形成され、ロジュームなどの硬質性の材料で形成された両エッジを上方向へ鋭利に突起させたことによって、スパイラル状接触子１１が接続端子に対し強く加圧され、スパイラル状接触子１１のエッジ２を摺動させることによって、接続端子の表面に形成された酸化膜を切り裂いて電気的接続性を向上させることができる。
【選択図】図１

Description

本発明は、優れた電気接続性を特徴としたスパイラルコンタクタに関し、特に接続端子側に対応したスパイラル状接触子の長手方向の上面のエッジを上方向へ鋭利に突起させたスパイラルコンタクタおよびその製造方法に関する。

図１１は、従来のスパイラル状接触子の概略を示し、（ａ）は接合前の断面図であり、（ｂ）は接合後の断面図である。
図１１の（ａ）（ｂ）に示すように、電子部品である絶縁基板１０６の上面には、凸型スパイラル状接触子１０２が形成され、スパイラル状接触子１０２は碁盤の目状に複数個が配置されている。スパイラル状接触子１０２の形状は、凸型の螺旋体（スパイラル）で形成され、根元から先端に進むにしたがって、幅が狭くなるように形成されている。スパイラル（螺旋体）は、たとえば、釣り竿の場合、先端に行けば行くほど細くすることで、曲げ応力を分散させ、破壊を防止しているのと同じように、凸型スパイラル状接触子１０２も先端に行けば行くほど幅を狭くすることで、曲げ応力の集中を防止し、曲げ応力の分散を図っている。螺旋状に形成された電子部品のスパイラル状接触子１０２と、このスパイラル状接触子１０２に金属から形成された電子部品の接続端子とを金属間接合により融着させる金属間接合方法において、スパイラル状接触子１０２は金属メッキにより形成されており、金属メッキの特徴である両端の角（コーナー）１０２ａ，１０２ａが鋭角になっていることによって、スパイラル状接触子１０２が押圧されることにより、このスパイラル状接触子１０２の角１０２ａが接触しながら摺動し、接続端子の表面酸化皮膜を除去して新生面と接触することも加わり、押圧する力が０．０５〜１Ｎ、温度が２０〜２５０℃、押圧時間が1〜３分により融着させ、金属間接合を行なう金属間接合方法である。（特許文献１参照）。

特開２００６−１４７８９０号

しかしながら、スパイラル状接触子が接続端子に対し強く加圧され、スパイラル状接触子の先端の角を摺動させることによって、接続端子の表面に形成された酸化膜を切り裂いて電気的接続性を向上させ、また、接触子の耐久性を向上させるために、接触子の表面にロジュームを設けてロジュームの硬質性によって摩耗を防止することが求められていた。ロジュームは他に硬質金メッキ、金コバルトでも構わない。

本発明は、前記課題を解決するために創案されたものであり、優れた電気接続性と耐久性、及びコンパクトな外形と優れた深い降伏点を兼ね備え、接続端子側に対応したスパイラル状接触子の長手方向の上面のエッジを鋭利に突起させたスパイラルコンタクタおよびその製造方法を提供することを課題とする。

請求項１に記載の発明のスパイラルコンタクタ（１）は、根元（１１ｂ）から先端（１１ａ）中心に向かって渦巻状（１１ｃ）に形成され、前記渦巻状（１１ｃ）の中心に先端（１１ａ）を有する凸形のスパイラル状接触子（１１）において、前記スパイラル状接触子の長手方向の上面エッジの少なくとも一部に上方に突起を備えていることを特徴とする。

請求項２に記載の発明のスパイラルコンタクタ（１）は、根元（１１ｂ）から先端（１１ａ）中心に向かって渦巻状（１１ｃ）に形成され、前記渦巻状（１１ｃ）の中心に先端（１１ａ）を有する凸形のスパイラル状接触子（１１）を上下二段に構成されたスパイラルコンタクタ（１）において、前記上段のスパイラル状接触子（１１）の長手方向の上面エッジの少なくとも一部に上方に突起を備えていることを特徴とする。

請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２の何れか一項に記載のスパイラルコンタクタ（１）であって、前記突起はロジューム、ニッケルおよび金を備えていることを特徴とする。

請求項４に記載の発明は、請求項１または請求項２の何れか一項に記載のスパイラルコンタクタであって、前記スパイラルコンタクタは、前記スパイラル状接触子（３１、３２）の根元を互いに１８０°位相をずらした位置に配置して、前記根元から渦巻きの中心に向けて立ち上がり、前記中心を同一として互いに併行して渦巻状に配設された２個の前記スパイラル状接触子（３１、３２）が先端で合流して一体とした二重渦巻きスパイラルコンタクタ（３）であることを特徴とする。

請求項５に記載の発明は、請求項１または請求項２の何れか一項に記載のスパイラルコンタクタであって、前記スパイラルコンタクタは、前記上下二段のスパイラル状接触子（４１、４２）の根元を互いに１２０°位相をずらした位置に配置して、前記根元から渦巻きの中心に向けて立ち上がり、前記中心を同一として互いに併行して渦巻状に配設された３個の前記スパイラル状接触子（４１、４２）が先端で合流して一体とした三重渦巻きスパイラルコンタクタ（４）であることを特徴とする。

請求項６に記載の発明は、請求項１または請求項２の何れか一項に記載のスパイラルコンタクタであって、前記スパイラルコンタクタは、前記上下二段の前記スパイラル状接触子（５１、５２）の前記渦巻きの根元を同一として互いに併行して渦巻状に配設された２個の前記スパイラル状接触子（５１、５２）が先端で合流して一体としたスパイラルコンタクタ（５）であることを特徴とする。

請求項７に記載の発明のスパイラルコンタクタの製造方法は、金属板を用意する第１工程（ａ）と、Ｃｕ箔とした金属板の表面に第１のフォトレジストを塗布、もしくはドライフィルムを貼付する。その上方からスパイラル状接触子のパターンを有する第１のフォトマスクを被せ、このフォトマスクの上方から光を照射して露光する第２工程（ｂ）と、第１のフォトマスクのパターンを形成するように第１のフォトレジストを現像する第３工程（ｃ）と、前記第３工程で露出したＣｕ箔の露出面にＣｕメッキを施し、スパイラル状接触子を成形する第４工程（ｄ）と、さらに上方からＣｕメッキの表面にロジュームＲｈ、Ｎｉメッキを含む金属メッキを施し、スパイラル状接触子を成形する第５工程（ｅ）と、前記スパイラル状接触子の表面に第２のフォトレジストを塗布、もしくはドライフィルムを貼付する第６工程（ｆ）と、上下反転させ、金属板の裏面に第３のフォトレジストを塗布、もしくはドライフィルムを貼付する。その上方からエッチング用の穴のパターンを有する第２のフォトマスクを被せ、このフォトマスクの上方から光を照射して露光する第７工程（ｇ）と、フォトマスクに光を照射して露光・現像して第３のフォトレジストを除去する第８工程（ｈ）と、Ｃｕ箔の裏面からＣｕ箔にエッチングで穴を開ける第９工程（ｉ）と、前記第２のフォトレジストと、Ｃｕ箔の裏面の第３のフォトレジストを除去する第１０工程（ｊ）と、前記スパイラル状接触子の渦巻きの中心を一方から凸形工具で押し上げて凸形に変形させた状態でアニールフォーミングする第１１工程（ｋ）と、粘着テープを貼り付ける第１２工程（ｌ）と、Ｃｕ箔をエッチングで除去する第１３工程（ｍ）と、を含むことを特徴とする。

請求項８に記載の発明のスパイラルコンタクタの製造方法は、金属板を用意する第Ａ工程（ａ）と、Ｃｕ箔とした金属板の表面に第１のフォトレジストを塗布、もしくはドライフィルムを貼付する。その上方からスパイラル状接触子のパターンを有する第１のフォトマスクを被せ、このフォトマスクの上方から光を照射して露光する第Ｂ工程（ｂ）と、第１のフォトマスクのパターンを形成するように第１のフォトレジストを現像する第Ｃ工程（ｃ）と、前記第３工程で露出したＣｕ箔の露出面にＣｕメッキを施し、スパイラル状接触子を成形する第Ｄ工程（ｄ）と、さらに上方からＣｕ箔の露出面にロジュームＲｈ、Ｎｉメッキを含む金属メッキを施し、スパイラル状接触子を成形する第Ｅ工程（ｅ）と、形成したスパイラル状接触子の表面に第２のフォトレジストを塗布、もしくはドライフィルムを貼付する。その上方から一体構造部のパターンを有する第２のフォトマスクを被せ、このフォトマスクの上方から光を照射して露光する第Ｆ工程（ｆ）と、このフォトマスクに光を照射して露光・現像して第２のフォトレジストを除去する第Ｇ工程（ｇ）と、金属メッキの表面にＣｕメッキを施す第Ｈ工程（ｈ）と、第２のフォトレジストを除去する第Ｉ工程（ｉ）と、Ｃｕメッキの表面にＮｉメッキを含む金属メッキを施す第Ｊ工程（ｊ）と、上下反転させ、金属板の裏面に第３のフォトレジストを塗布、もしくはドライフィルムを貼付する。その上方からエッチング用の穴のパターンを有する第３のフォトマスクを被せ、このフォトマスクの上方から光を照射して露光する第Ｋ工程（ｋ）と、フォトマスクに光を照射して露光・現像して第３のフォトレジストを除去する第Ｌ工程（ｌ）と、Ｃｕ箔の裏面からＣｕ箔にエッチングで穴を開ける第Ｍ工程（ｍ）と、Ｃｕ箔の裏面の第３のフォトレジストを除去する第Ｎ工程（ｎ）と、上下反転させたスパイラル状接触子の渦巻きの中心を一方から凸形工具で押し上げて凸形に変形させた状態でアニールフォーミングする第Ｏ工程（ｏ）と、粘着テープを貼り付ける第Ｐ工程（ｐ）と、Ｃｕ箔をエッチングで除去する第Ｑ工程（ｑ）と、上下に重ねられた形態のスパイラル状接触子が互いの底面と上面で密着している第Ｒ工程（ｒ）と、を含むことを特徴とする。

請求項１に係る発明によれば、接続端子側に対応した凸形のスパイラル状接触子の長手方向の上面に沿ってエッジを上方へ鋭利に突起させたことによって、スパイラル状接触子が接続端子に対し強く加圧され、スパイラル状接触子の先端の角を摺動させることによって、接続端子の表面に形成された酸化膜を切り裂いて電気的接続性を向上させることができる。

請求項２に係る発明によれば、上下二段に形成されたスパイラル状接触子のうち、接続端子側に対応した上方のスパイラル状接触子の長手方向の上面に沿って、ロジュームなどの硬質性の材料で形成されたエッジを上方向へ鋭利に突起させ、スパイラル状接触子が接続端子に対し強く加圧され、スパイラル状接触子の先端の角を摺動させることによって、接続端子の表面に形成された酸化膜を切り裂いて電気的接続性を向上させるとともに、上下二段に折り畳んだようなコンパクトな外形と優れた深い降伏点を備えることができる。

請求項３に係る発明によれば、硬質性の材料で形成されたエッジを上方向へ鋭利に突起させ、スパイラル状接触子が接続端子に対し強く加圧され、このスパイラル状接触子の先端の角を摺動させることによって、接続端子の表面に形成された酸化膜を切り裂いて電気的接続性を向上させ、また、接触子の耐久性を向上させるために、接触子の表面にロジュームを設けてロジュームの硬質性によって摩耗を防止することができる。

請求項４に係る発明によれば、スパイラル状接触子の根元を互いに１８０°位相をずらした位置に配置した２個のスパイラル状接触子が先端で合流して一体とした、先端部の平行性に優れた二重渦巻きスパイラルコンタクタにおいて、接続端子側に対応したスパイラル状接触子の長手方向の上面に沿って、ロジュームなどの硬質性の材料で形成されたエッジを上方向へ鋭利に突起させ、スパイラル状接触子が接続端子に対し強く加圧され、スパイラル状接触子の先端の角を摺動させることによって、接続端子の表面に形成された酸化膜を切り裂いて電気的接続性を向上させるとともに、さらに上下二段に折り畳んだようなコンパクトな外形に優れた深い降伏点を備えることができる。

請求項５に係る発明によれば、スパイラル状接触子の根元を互いに１２０°位相をずらした位置に配置した３個のスパイラル状接触子が先端で合流して一体とした、先端部の平行性に優れた三重渦巻きスパイラルコンタクタにおいて、接続端子側に対応したスパイラル状接触子の長手方向の上面に沿って、ロジュームなどの硬質性の材料で形成されたエッジを上方向へ鋭利に突起させ、スパイラル状接触子が接続端子に対し強く加圧され、スパイラル状接触子の先端の角を摺動させることによって、接続端子の表面に形成された酸化膜を切り裂いて電気的接続性を向上させるとともに、さらに上下二段に折り畳んだようなコンパクトな外形に優れた深い降伏点を備えることができる。

請求項６に係る発明によれば、渦巻きの根元を同一として互いに併行して渦巻状に配設された２個のスパイラル状接触子が先端で合流して一体とした、先端部の平行性に優れたスパイラルコンタクタにおいて、接続端子側に対応したスパイラル状接触子の長手方向の上面に沿って、ロジュームなどの硬質性の材料で形成されたエッジを上方向へ鋭利に突起させ、スパイラル状接触子が接続端子に対し強く加圧され、スパイラル状接触子の先端の角を摺動させることによって、接続端子の表面に形成された酸化膜を切り裂いて電気的接続性を向上させるとともに、さらに上下二段に折り畳んだようなコンパクトな外形に優れた深い降伏点を備えることができる。

請求項７に係る発明によれば、優れた電気接続性と耐久性、及びコンパクトな外形に優れた深い降伏点を備え、接続端子側に対応したスパイラル状接触子の長手方向の上面に沿って、ロジュームなどの硬質性の材料で形成されたエッジを上方向へ鋭利に突起させたスパイラルコンタクタの製造方法を提供することができる。

請求項８に係る発明によれば、上段のスパイラル状接触子と下段のスパイラル状接触子の根元から基部の少なくとも１箇所が一体構造になっていることによって、上下二段のスパイラル状接触子を接合するためのレーザスポット溶接などを不要とするため、製造工程の短縮および製造コストの低減をすることができ、優れた電気接続性と耐久性、及びコンパクトな外形に優れた深い降伏点を備え、接続端子側に対応したスパイラル状接触子の長手方向の上面に沿って、ロジューム、ニッケル、金などの硬質性合金で形成されたエッジを上方向へ鋭利に突起させた上下二段式のスパイラルコンタクタの製造方法を提供することができる。

このように、さまざまな形状の接続端子にも接続可能であるとともに、スパイラル状接触子が接続端子と接触して、スパイラル状接触子を先端から順に押し下げるときにスパイラル状接触子の先端部が接続端子とねじり動作を伴いながら接触し、微小円を描くことによって、優れた電気接続性を有するスパイラル状接触子において、優れた電気的特性と優れたバネ特性の両方を併せ持ったスパイラル状接触子を実現することができる。

以下、本発明に係るスパイラルコンタクタおよびその製造方法の実施の形態を、図面を参照しながら詳細に説明する。
＜第１の実施形態＞
図１は、本発明の第１の実施形態を説明するためのスパイラル状接触子を示し、（ａ）はスパイラル状接触子を示す平面図、（ｂ）は（ａ）に示すＡ―Ａ線の断面図であり、自然体では凸形状のスパイラル状接触子の断面図、（ｃ）は（ｂ）に示すＢ部の拡大断面図である。
図１（ａ）（ｂ）に示すように、スパイラルコンタクタ１は、根元１１ｂから先端１１ａ中心に向かって渦巻状部１１ｃに形成され、渦巻状部１１ｃの中心に先端１１ａを有する凸形のスパイラル状接触子１１において、スパイラル状接触子１１の長手方向の上面６の両エッジ２、２に沿って、または上面6のエッジの一部に上方に突起状エッジ２を備えている。

図１（ｃ）に示すように、突起状エッジ２は、Ｃｕ箔１４（図２参照）の露出面にＣｕメッキ１９（図２参照）を施したときに生じるコーナＲ（図２参照）によって形成される。この数字は実測値であるが、条件によっては変化する値であり、これに限ったものではない。この窪み状の形状は裏を返せばＣｕメッキ１９の形状である。このように、接続端子側（図略）に対応した凸形のスパイラル状接触子１１の長手方向の上面に沿って両エッジ２、２を上方へ鋭利に突起させたことによって、スパイラル状接触子１１が接続端子に対し強く加圧され、スパイラル状接触子１１のエッジ２を摺動させることによって、接続端子の表面に形成された酸化膜を切り裂いて電気的接続性を向上させることができる。

突起状エッジ２はロジュームＲｈ２６、ニッケルＮｉ１３および金Ａｕ１７を主な成分としている。
このように、硬質性の材料で形成された両エッジ２、２を上方向へ鋭利に突起させ、スパイラル状接触子１１が接続端子に対し強く加圧される。このようなスパイラル状接触子１１の耐久性を向上させるために、スパイラル状接触子１１の表面にロジューム２６を設けてロジュームの硬質性によって摩耗を防止することができる。

次に本発明のスパイラルコンタクタの製造工程を説明する。
図２、図３は、本発明の第１の実施形態を説明するためのスパイラルコンタクタの製造工程を示す工程断面図である。図２、図３に示すように、スパイラルコンタクタの製造方法は、金属板１４を用意する第１工程（ａ）と、Ｃｕ箔１４とした金属板１４の表面に第１のフォトレジスト１５を塗布、もしくはドライフィルムを貼付する。その上方からスパイラル状接触子１１のパターンを有する第１のフォトマスク１６を被せ、このフォトマスク１６の上方から光を照射して露光する第２工程（ｂ）と、第１のフォトマスク１６のパターンを形成するように第１のフォトレジスト１５を現像する第３工程（ｃ）と、第３工程で露出したＣｕ箔１４の露出面にＣｕメッキ１９を施し、スパイラル状接触子１１を成形する第４工程（ｄ）と、さらに上方からＣｕメッキ１９の表面にロジュームＲｈ２６、Ｎｉメッキ１３、Ａｕメッキ１７を含む金属のメッキを施し、スパイラル状接触子１１を成形する第５工程（ｅ）と、スパイラル状接触子１１の表面に第２のフォトレジスト２１を塗布、もしくはドライフィルムを貼付する第６工程（ｆ）と、上下反転させ、Ｃｕ箔１４の裏面に第３のフォトレジスト２２を塗布、もしくはドライフィルムを貼付する。その上方からエッチング用の穴１４ｃのパターンを有する第２のフォトマスク１８を被せ、このフォトマスク１８の上方から光を照射して露光する第７工程（ｇ）と、フォトマスク１８に光を照射して露光・現像して第３のフォトレジスト２２を除去する第８工程（ｈ）と、Ｃｕ箔１４の裏面からＣｕ箔１４にエッチングで穴を開ける第９工程（ｉ）と、第２のフォトレジスト２１と、Ｃｕ箔１４の裏面の第３のフォトレジスト２２を除去する第１０工程（ｊ）と、スパイラル状接触子１１の渦巻きの中心を一方から凸形工具２７で押し上げて凸形に変形させた状態でアニールフォーミングする第１１工程（ｋ）と、粘着テープ２４を貼り付ける第１２工程（ｌ）と、Ｃｕ箔１４をエッチングで除去する第１３工程（ｍ）と、を含んでいる。

これによって、優れた電気接続性と耐久性、及びコンパクトな外形と優れた深い降伏点を備え、接続端子側に対応したスパイラル状接触子の長手方向の上面に沿って、ロジュームなどの硬質性の材料で形成された両エッジを上方向へ鋭利に突起させたスパイラルコンタクタの製造方法を提供することができる。

＜第２の実施形態＞
次に、本発明の第２の実施形態を説明する。図４は、本発明の第２の実施形態を説明するためのスパイラル状接触子を示し、（ａ）はスパイラル状接触子を示す平面図、（ｂ）は（ａ）に示すＣ―Ｃ線の断面図であり、自然体では凸形状のスパイラル状接触子の断面図、（ｃ）は（ｂ）に示すスパイラル状接触子の上下が密着した状態を示す断面図である。
図４に示すように、スパイラルコンタクタ１´は、根元１１ｂから先端１１ａ中心に向かって渦巻状（渦巻状部）１１ｃに形成され、渦巻状部１１ｃの中心に先端１１ａを有する凸形のスパイラル状接触子１１、１２を上下二段に構成されたスパイラルコンタクタ１´において、上段のスパイラル状接触子１１の長手方向の上面６´の両エッジ２´、２´に沿って、またはエッジ6´の一部に上方に突起状エッジ２´を備えている。

これによれば、上下二段に形成されたスパイラル状接触子１１、１２のうち、接続端子側に対応した上方のスパイラル状接触子１１の長手方向の上面６´に沿って、ロジューム２６などの硬質性の材料で形成された両エッジ２´、２´を上方向へ鋭利に突起させ、スパイラル状接触子１１が接続端子に対し強く加圧され、スパイラル状接触子１１の先端１１ａの角（エッジ２´）を摺動させることによって、接続端子の表面に形成された酸化膜を切り裂いて電気的接続性を向上させるとともに、上下二段に折り畳んだようなコンパクトな外形と優れた深い降伏点を備えることができる。

次に本発明のスパイラルコンタクタの製造工程を説明する。図５、図６、図７は、本発明の第２の実施形態を説明するための二段式のスパイラルコンタクタの製造工程を示す工程断面図である。図５、図６、図７に示すように、スパイラルコンタクタ１´の製造方法は、金属板１４を用意する第Ａ工程（ａ）と、Ｃｕ箔１４とした金属板１４の表面に第１のフォトレジスト１５を塗布、もしくはドライフィルムを貼付する。その上方からスパイラル状接触子１１のパターンを有する第１のフォトマスク１６を被せ、このフォトマスク１６の上方から光を照射して露光する第Ｂ工程（ｂ）と、第１のフォトマスク１６のパターンを形成するように第１のフォトレジスト１５を現像する第Ｃ工程（ｃ）と、第３工程で露出したＣｕ箔１４の露出面にＣｕメッキ１９を施し、スパイラル状接触子を成形する第Ｄ工程（ｄ）と、さらに上方からＣｕ箔１４の露出面にロジュームＲｈ２６、Ｎｉメッキ１３、Ａｕメッキ１７から構成される金属のメッキを施し、スパイラル状接触子１１´を成形する第Ｅ工程（ｅ）と、形成したスパイラル状接触子１１´の表面に第２のフォトレジスト２１を塗布、もしくはドライフィルムを貼付する。その上方から一体構造部２５のパターンを有する第２のフォトマスク１８´を被せ、このフォトマスク１８´の上方から光を照射して露光する第Ｆ工程（ｆ）と、このフォトマスク１８´に光を照射して露光・現像して第２のフォトレジスト２１を除去する第Ｇ工程（ｇ）と、金属メッキの表面にＣｕメッキ１１ｅを施す第Ｈ工程（ｈ）と、第２のフォトレジスト２１を除去する第Ｉ工程（ｉ）と、Ｃｕメッキ１１ｅの表面にＮｉメッキ１３から構成される金属メッキを施す第Ｊ工程（ｊ）と、上下反転させ、金属板１４の裏面に第３のフォトレジスト２２を塗布、もしくはドライフィルムを貼付する。その上方からエッチング用の穴のパターンを有する第３のフォトマスク２３を被せ、このフォトマスク２３の上方から光を照射して露光する第Ｋ工程（ｋ）と、フォトマスク２３に光を照射して露光・現像して第３のフォトレジスト２２を除去する第Ｌ工程（ｌ）と、Ｃｕ箔１４の裏面からＣｕ箔１４にエッチングで穴１４ｃを開ける第Ｍ工程（ｍ）と、Ｃｕ箔１４の裏面の第３のフォトレジスト２２を除去する第Ｎ工程（ｎ）と、上下反転させたスパイラル状接触子１１、１２（スパイラルコンタクタ１´）の渦巻きの中心を一方から凸形工具２７で押し上げて凸形に変形させた状態でアニールフォーミングする第Ｏ工程（ｏ）と、粘着テープ２４を貼り付ける第Ｐ工程（ｐ）と、Ｃｕ箔１４をエッチングで除去する第Ｑ工程（ｑ）と、上下に重ねられた形態のスパイラル状接触子１１、１２（スパイラルコンタクタ１´）が互いの底面と上面で密着している第Ｒ工程（ｒ）と、を含む。

このように、上段のスパイラル状接触子１１と下段のスパイラル状接触子１２の根元１１ｂ、１２ｂから基部１１ｄ、１２ｄの少なくとも１箇所が一体構造になっていることによって、上下二段のスパイラル状接触子を接合するためのレーザスポット溶接などを不要とするため、製造工程の短縮および製造コストの低減をすることができ、優れた電気接続性と耐久性、及びコンパクトな外形と優れた深い降伏点を備え、接続端子側に対応したスパイラル状接触子１１の長手方向の上面６´に沿って、ロジュームＲｈ２６、ニッケルＮｉ１３、金Ａｕ１７などからなる硬質性合金で形成された両エッジ２´、２´を上方向へ鋭利に突起させた上下二段式のスパイラルコンタクタ１´の製造方法を提供することができる。

＜第３の実施形態＞
次に、本発明の第３の実施形態を説明する。図８は、本発明の第３の実施形態を説明するための二重渦巻き二段式のスパイラル状接触子を示し、（ａ）は二重渦巻き二段式のスパイラル状接触子を示す平面図、（ｂ）は（ａ）に示すＤ―Ｄ線の断面図であり、自然体では凸形状の二重渦巻き二段式のスパイラル状接触子の断面図、（ｃ）は（ｂ）に示す二重渦巻き二段式のスパイラル状接触子の上下が密着した状態を示す断面図である。
図８に示すように、二重渦巻きスパイラルコンタクタ３は、スパイラル状接触子３１の根元３１ｂ、３１ｂを互いに１８０°位相をずらした位置に配置して、また、スパイラル状接触子３２の根元３２ｂ、３２ｂを互いに１８０°位相をずらした位置に配置して、根元３１ｂ、３１ｂ、３２ｂ、３２ｂから渦巻きの中心に向けて立ち上がり、この先端３１ａ、３２ａの中心を同一として互いに併行して渦巻状に配設された２個のスパイラル状接触子３１、３２が先端３１ａ、３２ａで合流して一体とし、上段のスパイラル状接触子３２の長手方向の上面６´´の両エッジ２´´、２´´に沿って上方に突起状エッジ２´´、２´´を備えている。

そして上下二段に配設されたスパイラル状接触子３２、３１は、自然体では凸形状のスパイラル（渦巻き）であるが、根元３２ｂ、３２ｂ、３１ｂ、３１ｂから先端中心に向かって渦巻状に形成され、先端３２ａ、３１ａを同一として互いに併行して渦巻状に配設され、先端３２ａ、３１ａを一体とした二重渦巻きスパイラル状接触子３２、３１が根元３２ｂ、３１ｂから基部３２ｄ、３１ｄの少なくとも１箇所を一体構造としている。

このスパイラル状接触子３２、３１は、根元３２ｂ、３１ｂから先端中心に向かって渦巻状に形成され、渦巻状の中心に先端３２ａ、３１ａを有する凸形のスパイラル状接触子３２、３１を上下二段に重ね合わせたスパイラルコンタクタ３であって、スパイラルコンタクタ３は、電気電導性に富んだ材料、バネ性に富んだ材料を用いている。スパイラル状接触子３２、３１を形成するコア材は低電気抵抗材料のニッケル（Ｎｉ）基材であり、上下表面にはＡｕメッキを施している。またはスパイラル状接触子３２、３１を形成するコア材はバネ特性に優れたタングステンを配合したニッケル合金（Ｎｉ合金）であり、少なくとも上面表面にはＡｕメッキを施している。

このように、スパイラル状接触子３１、３２の根元を互いに１８０°位相をずらした位置に配置した２個のスパイラル状接触子３１、３２が先端３１ａ、３２ａで合流して一体とした、先端部の平行性に優れた二重渦巻きスパイラルコンタクタ３において、接続端子側に対応したスパイラル状接触子３１、３２の長手方向の上面６´´に沿って、ロジューム２６などの硬質性の材料で形成された両エッジ２´´を上方向へ鋭利に突起させ、スパイラル状接触子３１、３２が接続端子に対し強く加圧され、スパイラル状接触子３１、３２の先端３１ａ、３２ａの角（エッジ２´´）を摺動させることによって、接続端子の表面に形成された酸化膜を切り裂いて電気的接続性を向上させるとともに、さらに上下二段に折り畳んだようなコンパクトな外形と優れた深い降伏点を備えることができる。

また、スパイラル状接触子を上下二段に二枚重ねたことで、降伏点を深くすることができ、さらに接触押圧力を上げることなく電気抵抗を小さくすることができ、必要な降伏点の深さを維持して設置面積の小さいスパイラル状接触子とすることができる。

＜第４の実施の形態＞
次に、本発明の第４の実施形態を説明する。図９は本発明の第４の実施形態を説明するための三重渦巻き二段式のスパイラル状接触子を示し、（ａ）は三重渦巻き二段式のスパイラル状接触子を示す平面図、（ｂ）は（ａ）に示すＥ―Ｅ線の断面図であり、自然体では凸形状の三重渦巻き二段式のスパイラル状接触子の断面図、（ｃ）は（ｂ）に示す三重渦巻き二段式のスパイラル状接触子の上下が密着した状態を示す断面図である。
図９に示すように、三重渦巻きスパイラルコンタクタ４は、上下二段のスパイラル状接触子４１、４２のそれぞれ３つの根元Ａ、Ｂ、Ｃを互いに１２０°位相をずらした位置に配置して、また、スパイラル状接触子４１の根元４２ｂ、４２ｂ、４２ｂから渦巻きの中心に向けて立ち上がり、この先端４１ａ、４２ａの中心を同一として互いに併行して渦巻状に配設された３個の前記スパイラル状接触子４１、４２が先端で合流して一体とし、上段のスパイラル状接触子４２の長手方向の上面６´´´の両エッジ２´´´、２´´´に沿って上方に突起状エッジ２´´´、２´´´を備えている。

そして上下二段に配設されたスパイラル状接触子４２、４１は、自然体では凸形状のスパイラル（渦巻き）であるが、それぞれの３つの根元４２ｂ、４２ｂ、４２ｂ、４１ｂ、４１ｂ、４１ｂから先端中心に向かって渦巻状に形成され、先端４２ａ、４１ａを同一として互いに併行して渦巻状に配設され、先端４２ａ、４１ａを一体とした三重渦巻きスパイラル状接触子４２、４１が根元４２ｂ、４２ｂ、４２ｂ、４１ｂ、４１ｂ、４１ｂから基部４２ｄ、４１ｄの少なくとも１箇所を一体構造としている。

このスパイラル状接触子４２、４１は、それぞれの３つの根元４２ｂ、４２ｂ、４２ｂ、４１ｂ、４１ｂ、４１ｂから先端中心に向かって渦巻状に形成され、渦巻状の中心に先端４２ａ、４１ａを有する凸形のスパイラル状接触子４２、４１を上下二段に重ね合わせたスパイラルコンタクタ４であって、スパイラルコンタクタ４は、電気電導性に富んだ材料、バネ性に富んだ材料を用いている。スパイラル状接触子４２、４１を形成するコア材は低電気抵抗材料のニッケル（Ｎｉ）基材であり、上下表面にはＡｕメッキを施している。またはスパイラル状接触子４２、４１を形成するコア材はバネ特性に優れたタングステンを配合したニッケル合金（Ｎｉ合金）であり、少なくとも上面表面にはＡｕメッキを施している。

このように、スパイラル状接触子４１、４２のそれぞれの３つの根元を互いに１８０°位相をずらした位置に配置した２個のスパイラル状接触子３１、３２が先端３１ａ、３２ａで合流して一体とした、先端部の平行性に優れた二重渦巻きスパイラルコンタクタ３において、接続端子側に対応したスパイラル状接触子３１、３２の長手方向の上面６´´´に沿って、ロジューム２６などの硬質性の材料で形成された両エッジ２´´´を上方向へ鋭利に突起させ、スパイラル状接触子３１、３２が接続端子に対し強く加圧され、スパイラル状接触子３１、３２の先端３１ａ、３２ａの角（エッジ２´´´）を摺動させることによって、接続端子の表面に形成された酸化膜を切り裂いて電気的接続性を向上させるとともに、さらに上下二段に折り畳んだようなコンパクトな外形と優れた深い降伏点を備えることができる。

また、スパイラル状接触子を上下二段に二枚重ねたことで、降伏点を深くすることができ、さらに接触押圧力を上げることなく電気抵抗を小さくすることができ、必要な降伏点の深さを維持して設置面積の小さいスパイラル状接触子とすることができる。

このように、スパイラル状接触子の根元を互いに１２０°位相をずらした位置に配置した３個のスパイラル状接触子が先端で合流して一体とした、先端部の平行性に優れた三重渦巻きスパイラルコンタクタにおいて、接続端子側に対応したスパイラル状接触子の長手方向の上面に沿って、ロジュームなどの硬質性の材料で形成された両エッジを上方向へ鋭利に突起させ、スパイラル状接触子が接続端子に対し強く加圧され、スパイラル状接触子の先端の角を摺動させることによって、接続端子の表面に形成された酸化膜を切り裂いて電気的接続性を向上させるとともに、さらに上下二段に折り畳んだようなコンパクトな外形に優れた深い降伏点を備えることができる。

＜第５の実施の形態＞
次に、本発明の第５の実施形態を説明する。図１０は、本発明の第５の実施形態を説明するための渦巻きの根元を同一として互いに併行して渦巻状に配設された二段式のスパイラル状接触子を示し、（ａ）はスパイラル状接触子を示す平面図、（ｂ）は（ａ）に示すＦ―Ｆ線の断面図であり、自然体では凸形状のスパイラル状接触子の断面図である。
図１０に示すように、スパイラルコンタクタ５は、上下二段のスパイラル状接触子５１、５２の渦巻きの根元５２ｂ、５１ｂを同一として互いに併行して渦巻状に配設された２個のスパイラル状接触子５２、５１が先端５２ａ、５１ａで合流して一体とした。

このように、渦巻きの根元を同一として互いに併行して渦巻状に配設された２個のスパイラル状接触子が先端で合流して一体とした、先端部の平行性に優れたスパイラルコンタクタにおいて、接続端子側に対応したスパイラル状接触子の長手方向の上面に沿って、ロジュームなどの硬質性の材料で形成された両エッジを上方向へ鋭利に突起させ、スパイラル状接触子が接続端子に対し強く加圧され、スパイラル状接触子の先端の角を摺動させることによって、接続端子の表面に形成された酸化膜を切り裂いて電気的接続性を向上させるとともに、さらに上下二段に折り畳んだようなコンパクトな外形に優れた深い降伏点を備えることができる。

このように、上段のスパイラル状接触子と下段のスパイラル状接触子の根元から基部の少なくとも１箇所が一体構造になっていることによって、スパイラル状接触子単体では実現することが難しいが、スパイラル状接触子を上下二段に二枚重ねたことで、降伏点を深くすることができ、さらに接触押圧力を上げることなく電気抵抗を小さくすることができ、必要な降伏点の深さを維持して設置面積の小さいスパイラル状接触子とすることができる。

なお、前記スパイラルコンタクタの製造方法に関して以下に共通の特徴を説明する。金属板１４はＣｕ箔が好適であるので、金属板１４はＣｕ箔１４と記載した。Ｃｕ箔１４の厚みは、箔状であり、例えば、０．０８ｍｍとしたが、これに限定されるものではない。ここでの金属メッキは、電気電導性に優れたニッケル合金メッキが好適である。なお、金属メッキは、例えば、ニッケルＮｉ合金メッキを用いたが、これに限定されるものではない。
このアニールフォーミングは、例えば、２５０℃で加熱し、焼きなまし処理を行い、内部応力を除去する。ここで加熱温度は２５０℃としたが、２５０℃前後を含むものとし、さらにこれに限定されるものではない。
フォトマスクの形状は、スパイラル形状接触子の部分を黒塗りにした模様になっている。また、白黒逆のパターンを用いた方法でも構わない。
また、スパイラル状接触子は、根元から基部の少なくとも一部を一体構造としているが、先端部も同一工法によって一体構造としても構わない。この場合、根元から基部の少なくとも一部と先端部との間の渦巻状部は密着、乃至やや離れた状態で重なっていることになる。

基板間、デバイスと基板間などを電気的に接続するインターコネクタとして用いられ、優れた電気的接続特性やバネ特性に富むスパイラルコンタクタに適用可能である。

本発明の第１の実施形態を説明するためのスパイラル状接触子を示し、（ａ）はスパイラル状接触子を示す平面図、（ｂ）は（ａ）に示すＡ―Ａ線の断面図であり、自然体では凸形状のスパイラル状接触子の断面図、（ｃ）は（ｂ）に示すＢ部の拡大断面図である。 本発明の第１の実施形態を説明するためのスパイラルコンタクタの製造工程を示す工程断面図である。 本発明の第１の実施形態を説明するためのスパイラルコンタクタの製造工程を示す工程断面図である。 本発明の第２の実施形態を説明するためのスパイラル状接触子を示し、（ａ）はスパイラル状接触子を示す平面図、（ｂ）は（ａ）に示すＣ―Ｃ線の断面図であり、自然体では凸形状のスパイラル状接触子の断面図、（ｃ）は（ｂ）に示すスパイラル状接触子の上下が密着した状態を示す断面図である。 本発明の第２の実施形態を説明するための二段式のスパイラルコンタクタの製造工程を示す工程断面図である。 本発明の第２の実施形態を説明するための二段式のスパイラルコンタクタの製造工程を示す工程断面図である。 本発明の第２の実施形態を説明するための二段式のスパイラルコンタクタの製造工程を示す工程断面図である。 本発明の第３の実施形態を説明するための二重渦巻き二段式のスパイラル状接触子を示し、（ａ）は二重渦巻き二段式のスパイラル状接触子を示す平面図、（ｂ）は（ａ）に示すＤ―Ｄ線の断面図であり、自然体では凸形状の二重渦巻き二段式のスパイラル状接触子の断面図、（ｃ）は（ｂ）に示す二重渦巻き二段式のスパイラル状接触子の上下が密着した状態を示す断面図である。 本発明の第４の実施形態を説明するための三重渦巻き二段式のスパイラル状接触子を示し、（ａ）は三重渦巻き二段式のスパイラル状接触子を示す平面図、（ｂ）は（ａ）に示すＥ―Ｅ線の断面図であり、自然体では凸形状の三重渦巻き二段式のスパイラル状接触子の断面図、（ｃ）は（ｂ）に示す三重渦巻き二段式のスパイラル状接触子の上下が密着した状態を示す断面図である。 本発明の第５の実施形態を説明するための渦巻きの根元を同一として互いに併行して渦巻状に配設された二段式のスパイラル状接触子を示し、（ａ）はスパイラル状接触子を示す平面図、（ｂ）は（ａ）に示すＦ―Ｆ線の断面図であり、自然体では凸形状のスパイラル状接触子の断面図である。 従来のスパイラル状接触子の概略を示し、（ａ）は接合前の断面図であり、（ｂ）は接合後の断面図である。

１、１´、３、４、５ スパイラルコンタクタ
２、２´、２´´、２´´´、２´´´´ 突起状エッジ、エッジ
６、６´、６´´、６´´´、６´´´´ 上面
１１、１２、３１、３２、４１、４２、５１、５２ スパイラル状接触子
１１ａ 先端
１１ｂ 根元
１１ｃ 渦巻状部
１１ｄ 基部
１１ｅ、１９ Ｃｕメッキ
１２ａ 先端
１２ｂ 根元
１２ｃ 渦巻状部
１２ｄ 基部
１３ Ｎｉメッキ
１４ Ｃｕ箔
１４ｃ 穴
１５、２１、２２ フォトレジスト
１６、１８ 第１のフォトマスク
１７ Ａｕメッキ
２４ 粘着テープ
２５ 一体構造部
２６ ロジュームＲｈ
２７ 凸形工具
３１ａ 先端
３１ｂ 根元
３１ｃ 渦巻状部
３１ｄ 基部
３２ａ 先端
３２ｂ 根元
３２ｃ 渦巻状部
３２ｄ 基部
４１ａ 先端
４１ｂ 根元
４１ｃ 渦巻状部
４１ｄ 基部
４２ａ 先端
４２ｂ 根元
４２ｃ 渦巻状部
４２ｄ 基部
５１ａ 先端
５１ｂ 根元
５１ｃ 渦巻状部
５１ｄ 基部
５２ａ 先端
５２ｂ 根元
５２ｃ 渦巻状部
５２ｄ 基部

Claims (8)

1. 根元（１１ｂ）から先端（１１ａ）中心に向かって渦巻状（１１ｃ）に形成され、前記渦巻状（１１ｃ）の中心に先端（１１ａ）を有する凸形のスパイラル状接触子（１１）において、前記スパイラル状接触子の長手方向の上面エッジの少なくとも一部に上方に突起を備えていることを特徴とするスパイラルコンタクタ（１）。
2. 根元（１１ｂ）から先端（１１ａ）中心に向かって渦巻状（１１ｃ）に形成され、前記渦巻状（１１ｃ）の中心に先端（１１ａ）を有する凸形のスパイラル状接触子（１１）を上下二段に構成されたスパイラルコンタクタ（１）において、
   前記上段のスパイラル状接触子（１１）の長手方向の上面エッジの少なくとも一部に上方に突起を備えていることを特徴とするスパイラルコンタクタ（１）。
3. 前記突起はロジューム、ニッケルおよび金を備えていることを特徴とする請求項１または請求項２の何れか一項に記載のスパイラルコンタクタ（１）。
4. 前記スパイラルコンタクタは、前記スパイラル状接触子（３１、３２）の根元を互いに１８０°位相をずらした位置に配置して、前記根元から渦巻きの中心に向けて立ち上がり、前記中心を同一として互いに併行して渦巻状に配設された２個の前記スパイラル状接触子（３１、３２）が先端で合流して一体とした二重渦巻きスパイラルコンタクタ（３）であることを特徴とする請求項１または請求項２の何れか一項に記載のスパイラルコンタクタ。
5. 前記スパイラルコンタクタは、前記上下二段のスパイラル状接触子（４１、４２）の根元を互いに１２０°位相をずらした位置に配置して、前記根元から渦巻きの中心に向けて立ち上がり、前記中心を同一として互いに併行して渦巻状に配設された３個の前記スパイラル状接触子（４１、４２）が先端で合流して一体とした三重渦巻きスパイラルコンタクタ（４）であることを特徴とする請求項１または請求項２の何れか一項に記載のスパイラルコンタクタ。
6. 前記スパイラルコンタクタは、前記上下二段の前記スパイラル状接触子（５１、５２）の前記渦巻きの根元を同一として互いに併行して渦巻状に配設された２個の前記スパイラル状接触子（５１、５２）が先端で合流して一体としたスパイラルコンタクタ（５）であることを特徴とする請求項１または請求項２の何れか一項に記載のスパイラルコンタクタ。
7. 金属板を用意する第１工程（ａ）と、
   Ｃｕ箔とした金属板の表面に第１のフォトレジストを塗布、もしくはドライフィルムを貼付する。その上方からスパイラル状接触子のパターンを有する第１のフォトマスクを被せ、このフォトマスクの上方から光を照射して露光する第２工程（ｂ）と、
   第１のフォトマスクのパターンを形成するように第１のフォトレジストを現像する第３工程（ｃ）と、
   前記第３工程で露出したＣｕ箔の露出面にＣｕメッキを施し、スパイラル状接触子を成形する第４工程（ｄ）と、
   さらに上方からＣｕメッキの表面にロジュームＲｈ、Ｎｉメッキを備えた金属メッキを施し、スパイラル状接触子を成形する第５工程（ｅ）と、
   前記スパイラル状接触子の表面に第２のフォトレジストを塗布、もしくはドライフィルムを貼付する第６工程（ｆ）と、
   上下反転させ、金属板の裏面に第３のフォトレジストを塗布、もしくはドライフィルムを貼付する。その上方からエッチング用の穴のパターンを有する第２のフォトマスクを被せ、このフォトマスクの上方から光を照射して露光する第７工程（ｇ）と、
   フォトマスクに光を照射して露光・現像して第３のフォトレジストを除去する第８工程（ｈ）と、
   Ｃｕ箔の裏面からＣｕ箔にエッチングで穴を開ける第９工程（ｉ）と、
   前記第２のフォトレジストと、Ｃｕ箔の裏面の第３のフォトレジストを除去する第１０工程（ｊ）と、
   前記スパイラル状接触子の渦巻きの中心を一方から凸形工具で押し上げて凸形に変形させた状態でアニールフォーミングする第１１工程（ｋ）と、
   粘着テープを貼り付ける第１２工程（ｌ）と、
   Ｃｕ箔をエッチングで除去する第１３工程（ｍ）と、を含むことを特徴とするスパイラルコンタクタの製造方法。
8. 金属板を用意する第Ａ工程（ａ）と、
   Ｃｕ箔とした金属板の表面に第１のフォトレジストを塗布、もしくはドライフィルムを貼付する。その上方からスパイラル状接触子のパターンを有する第１のフォトマスクを被せ、このフォトマスクの上方から光を照射して露光する第Ｂ工程（ｂ）と、
   第１のフォトマスクのパターンを形成するように第１のフォトレジストを現像する第Ｃ工程（ｃ）と、
   前記第３工程で露出したＣｕ箔の露出面にＣｕメッキを施し、スパイラル状接触子を成形する第Ｄ工程（ｄ）と、
   さらに上方からＣｕ箔の露出面にロジュームＲｈ、Ｎｉメッキを備えた金属メッキを施し、スパイラル状接触子を成形する第Ｅ工程（ｅ）と、
   形成したスパイラル状接触子の表面に第２のフォトレジストを塗布、もしくはドライフィルムを貼付する。その上方から一体構造部のパターンを有する第２のフォトマスクを被せ、このフォトマスクの上方から光を照射して露光する第Ｆ工程（ｆ）と、
   このフォトマスクに光を照射して露光・現像して第２のフォトレジストを除去する第Ｇ工程（ｇ）と、
   金属メッキの表面にＣｕメッキを施す第Ｈ工程（ｈ）と、
   第２のフォトレジストを除去する第Ｉ工程（ｉ）と、
   Ｃｕメッキの表面にＮｉメッキを備えた金属メッキを施す第Ｊ工程（ｊ）と、
   上下反転させ、金属板の裏面に第３のフォトレジストを塗布、もしくはドライフィルムを貼付する。その上方からエッチング用の穴のパターンを有する第３のフォトマスクを被せ、このフォトマスクの上方から光を照射して露光する第Ｋ工程（ｋ）と、
   フォトマスクに光を照射して露光・現像して第３のフォトレジストを除去する第Ｌ工程（ｌ）と、
   Ｃｕ箔の裏面からＣｕ箔にエッチングで穴を開ける第Ｍ工程（ｍ）と、
   Ｃｕ箔の裏面の第３のフォトレジストを除去する第Ｎ工程（ｎ）と、
   上下反転させたスパイラル状接触子の渦巻きの中心を一方から凸形工具で押し上げて凸形に変形させた状態でアニールフォーミングする第Ｏ工程（ｏ）と、
   粘着テープを貼り付ける第Ｐ工程（ｐ）と、
   Ｃｕ箔をエッチングで除去する第Ｑ工程（ｑ）と、
   上下に重ねられた形態のスパイラル状接触子が互いの底面と上面で密着している第Ｒ工程（ｒ）と、を含むことを特徴とするスパイラルコンタクタの製造方法。