JP2011002434A - Gas supply device for inhibiting adhesion of suspended matter - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a nozzle, through which a gas for inhibiting adhesion of suspended matter to a target surface is sprayed, with a reduction in installation space perpendicular to the target surface.SOLUTION: The shape of a slit nozzle 41b is determined so that a relationship between the angle θ of the gas spraying axis and the broadening angle γ of gas spraying may satisfy 0<θ≤γ/2, preferably θ=γ/2 when a gas is sprayed through the slit nozzle 41b from the entire surrounding area (entire circumference) of a space below a sensor surface 31a to the space below the sensor surface 31a. This eliminates the conventional need to form two types of nozzles perpendicular to the sensor surface 31a. This makes it possible to make the nozzle installation space perpendicular to the sensor surface 31a smaller than before.

Description

本発明は、浮遊物付着抑制用ガス供給装置に関し、特に、対象面に浮遊物が付着することを、ガスを噴射することにより抑制するために用いて好適なものである。   The present invention relates to a floating substance adhesion suppressing gas supply device, and is particularly suitable for use in suppressing the adhesion of floating substances to a target surface by injecting gas.

従来から、種々の対象面に浮遊物が付着することを、その対象面の表面上の空間に対してガスを噴射することにより抑制することが行われている。
特許文献１には、圧延工程において帯状の鋼板の一面側から照射され、当該鋼板を透過した放射線（γ線）の量を、当該鋼板の他面側で検出することにより、当該鋼板の板厚を計測する板厚計において、当該板厚計の入射面（窓）に浮遊物が付着することを抑制する技術が開示されている。具体的には、板厚計の窓の表面上の空間が中空部となるように、当該板厚計の窓側に中空円筒状の筒を設ける。この筒の窓側の領域と鋼板側の領域には、それぞれ、窓の表面上の空間の側方から当該空間に対して水平方向に空気を噴射するための空気吐出口が形成されている。筒の鋼板側の領域に形成されている空気吐出口から、窓の表面上の空間に噴射される空気は、浮遊物が窓の方に進入するのを抑制する役割を果たす。一方、筒の窓側の領域に形成されている空気吐出口から、窓の表面上の空間に噴射される空気は、当該空間を大気圧よりも高い圧力に保つ役割を果たす。このように、特許文献１に記載の技術では、高さ方向に並べられている２つの空気吐出口を用いて、板厚計の窓に浮遊物が付着することを抑制するようにしている。 2. Description of the Related Art Conventionally, floating substances are prevented from adhering to various target surfaces by injecting gas into a space on the surface of the target surface.
In Patent Document 1, the thickness of the steel sheet is detected by detecting the amount of radiation (γ rays) irradiated from one surface side of the belt-shaped steel sheet in the rolling process and transmitted through the steel sheet on the other surface side of the steel sheet. In the thickness gauge for measuring the thickness of the thickness gauge, there has been disclosed a technique for suppressing floating substances from adhering to the incident surface (window) of the thickness gauge. Specifically, a hollow cylindrical tube is provided on the window side of the thickness gauge so that the space on the surface of the thickness gauge window becomes a hollow portion. An air discharge port for injecting air in a horizontal direction with respect to the space from the side of the space on the surface of the window is formed in the window side region and the steel plate side region of the cylinder. The air injected from the air discharge port formed in the region on the steel plate side of the cylinder into the space on the surface of the window plays a role of suppressing the entry of floating substances toward the window. On the other hand, the air injected from the air discharge port formed in the window side region of the cylinder into the space on the surface of the window plays a role of maintaining the space at a pressure higher than the atmospheric pressure. As described above, in the technique described in Patent Document 1, the two air discharge ports arranged in the height direction are used to suppress the floating matter from adhering to the window of the thickness gauge.

また、特許文献２には、炉内の情報を得るために、炉壁開口部を通して外部から炉内の様子を見えるようにするためのシールガラスの炉内側の面に浮遊物が付着することを抑制する技術が開示されている。具体的には、炉壁開口部の形状に応じた中空部を有する構造物を炉壁開口部の炉外側に設ける。構造物の当該炉壁開口部と対向する面にはシールガラスが設けられている。構造物の内壁のシールガラス側の領域には、シールガラスの面方向と平行な方向に延びるスリットが、当該構造物の内壁の周方向全周に亘って形成されている。また、構造物の内壁の炉壁開口部側の領域には、シールガラスの面方向に対して炉壁開口部側に傾斜したスリットが、当該構造物の内壁の周方向全周に亘って形成されている。構造物の内壁の炉壁開口部側の領域に形成されているスリットから、シールガラスの炉内側の面の表面上の空間に噴出される空気は、浮遊物がシールガラスの方に進入するのを抑制する役割を果たす。一方、構造物の内壁のシールガラス側の領域に形成されているスリットから、シールガラスの炉内側の面の表面上の空間に噴出される空気は、当該空間を炉内の圧よりも高い圧力に保つ役割を果たす。このように、特許文献２に記載の技術では、構造物の軸方向に並べられている２つのスリットを用いて、シールガラスに浮遊物が付着することを抑制するようにしている。   Moreover, in Patent Document 2, in order to obtain information in the furnace, floating substances adhere to the inner surface of the seal glass for making the inside of the furnace visible through the furnace wall opening. Techniques for suppression are disclosed. Specifically, a structure having a hollow portion corresponding to the shape of the furnace wall opening is provided outside the furnace wall opening. A seal glass is provided on the surface of the structure facing the furnace wall opening. In the region on the seal glass side of the inner wall of the structure, slits extending in the direction parallel to the surface direction of the seal glass are formed over the entire circumference of the inner wall of the structure. In addition, a slit inclined toward the furnace wall opening side with respect to the surface direction of the seal glass is formed in the region on the furnace wall opening side of the inner wall of the structure over the entire circumferential direction of the inner wall of the structure. Has been. The air blown into the space on the surface of the inner surface of the seal glass from the slit formed in the area on the furnace wall opening side of the inner wall of the structure causes the suspended matter to enter the seal glass. It plays a role to suppress. On the other hand, the air blown into the space on the surface of the inner surface of the seal glass from the slit formed in the region on the seal glass side of the inner wall of the structure has a pressure higher than the pressure in the furnace. Play a role in keeping. As described above, in the technique described in Patent Document 2, the two slits arranged in the axial direction of the structure are used to prevent the floating substance from adhering to the seal glass.

特許第２８１５９３８号公報Japanese Patent No. 2815938 実公平７−９０３９号公報No. 7-9039

しかしながら、前述した従来の技術では、対象面（板厚計の入射面、シールガラスの炉内側の面）の表面上の空間を周方向から取り囲む領域において、当該対象面と垂直な方向に２種類のノズル（空気吐出口、スリット）を並べなければならない。したがって、対象面に浮遊物が付着することを抑制するための設備が大掛かりなものになるという問題点があった。更に、対象面と垂直な方向に２種類のノズルを並べるので、対象面と垂直な方向に大きなスペースを確保しなければならないという問題点もあった。例えば、板厚計と鋼板との間の距離を十分に確保することができない場合や、炉壁開口部の炉外側に設ける構造物の軸方向の長さを十分に確保することができない場合には、ノズルを設けるスペースを確保することができず、前述した技術を適用することができない虞があった。
本発明は、このような問題点に鑑みてなされたものであり、対象面に浮遊物が付着することを抑制するためのガスを噴射するノズルの、当該対象面に垂直な方向の設置スペースを従来よりも小さくすることを目的とする。 However, in the above-described conventional technology, in the region surrounding the space on the surface of the target surface (incident surface of the thickness gauge, the surface inside the furnace of the seal glass) from the circumferential direction, there are two types in the direction perpendicular to the target surface. Nozzles (air outlets, slits) must be arranged. Therefore, there has been a problem that a large facility is required to prevent the suspended matter from adhering to the target surface. Furthermore, since two types of nozzles are arranged in a direction perpendicular to the target surface, there is a problem that a large space must be secured in a direction perpendicular to the target surface. For example, when the distance between the plate thickness gauge and the steel plate cannot be secured sufficiently, or when the axial length of the structure provided outside the furnace wall opening cannot be secured sufficiently However, there was a possibility that the space for providing the nozzle could not be secured and the above-described technique could not be applied.
The present invention has been made in view of such problems, and an installation space in a direction perpendicular to the target surface of a nozzle for injecting a gas for suppressing the attachment of floating substances to the target surface is provided. The purpose is to make it smaller than before.

本発明の浮遊物付着抑制用ガス供給装置は、対象面の表面上の空間に対してガスを噴射することにより、当該対象面に浮遊物が付着することを抑制させる浮遊物付着抑制用ガス供給装置であって、前記対象面の表面上の空間を、当該空間の周方向全体から取り囲むように配置された中空形状の構造物を有し、前記構造物には、前記対象面に浮遊物が付着することを抑制するためのガスを噴射するノズルとして、当該構造物の内周面において全周に亘り形成された単一のスリットノズルのみが形成されており、前記スリットノズルは、前記構造物の内周面に近い箇所ほど、前記対象面からの距離が遠くなるように傾斜しており、前記スリットノズルにおけるガスの噴射軸の方向と前記対象面の面方向とのなす角度θ°と、前記スリットノズルから噴射されるガスの広がり角度γ°との関係が、以下の（Ａ）式の関係を満足することを特徴とする。
０°＜θ≦γ／２ ・・・（Ａ） The floating substance adhesion suppressing gas supply device of the present invention supplies a floating substance adhesion suppressing gas supply that inhibits floating substances from adhering to the target surface by injecting gas into the space on the surface of the target surface. The apparatus has a hollow structure disposed so as to surround a space on the surface of the target surface from the entire circumferential direction of the space, and the structure has floating objects on the target surface. As a nozzle for injecting gas for suppressing adhesion, only a single slit nozzle formed over the entire circumference on the inner peripheral surface of the structure is formed, and the slit nozzle is the structure The portion closer to the inner peripheral surface is inclined so that the distance from the target surface is farther, and the angle θ ° formed by the direction of the gas injection axis in the slit nozzle and the surface direction of the target surface, From the slit nozzle The relationship with the spread angle γ ° of the injected gas satisfies the relationship of the following equation (A).
0 ° <θ ≦ γ / 2 (A)

本発明によれば、対象面の表面上の空間に対して、当該空間の周方向全体の領域からガスを噴射する単一のスリットノズルを、内周側に近い箇所ほど当該対象面からの距離が遠くなるように傾斜させる。そして、当該スロットノズルにおけるガスの噴射軸の方向と当該対象面の面方向とのなす角度θ°と、当該スリットノズルから噴射されるガスの広がり角度γ°との関係が、０°＜θ≦γ／２になるようにした。したがって、従来のように、対象面に垂直な方向に２種類のノズルを形成しなくても、対象面に浮遊物が付着することを可及的に抑制することが可能になる。よって、対象面に垂直な方向におけるノズルの設置スペースを従来よりも小さくすることができる。   According to the present invention, with respect to the space on the surface of the target surface, the distance from the target surface to the single slit nozzle that injects gas from the entire region in the circumferential direction of the space is closer to the inner peripheral side. Tilt so that is far away. The relationship between the angle θ ° between the direction of the gas injection axis in the slot nozzle and the surface direction of the target surface and the spread angle γ ° of the gas injected from the slit nozzle is 0 ° <θ ≦ γ / 2 was set. Therefore, it is possible to suppress the floating substance from adhering to the target surface as much as possible without forming two types of nozzles in the direction perpendicular to the target surface as in the prior art. Therefore, the installation space of the nozzle in the direction perpendicular to the target surface can be made smaller than before.

本発明の実施形態を示し、浮遊物付着抑制用ガス供給装置（ガスパージ装置）が適用される板厚計が配設された圧延ラインの一部の概略構成の一例を示す図である。It is a figure which shows embodiment of this invention and shows an example of schematic structure of a part of rolling line by which the plate | board thickness meter with which the gas supply apparatus (gas purge apparatus) for floating substance adhesion suppression is applied was arrange | positioned. 本発明の実施形態を示し、板厚計付近の様子の概略の一例を示す図である。It is a figure which shows embodiment of this invention and shows an example of the outline of the mode of the thickness gauge vicinity. 本発明の実施形態を示し、ガスパージ装置の構成の一例を示す図である。It is a figure which shows embodiment of this invention and shows an example of a structure of a gas purge apparatus. 本発明の実施形態を示し、ガス噴射軸の角度θと、ガス噴射の広がり角度γとが種々の関係となる場合のガスの状態の一例を概念的に示す図である。It is a figure which shows embodiment of this invention and shows notionally an example of the state of gas in case the angle (theta) of a gas-injection axis | shaft and the expansion angle (gamma) of gas-injection have various relationships. 本発明の実施形態を示し、本実施形態のようにして対策（本対策）を行った場合と、比較例の場合におけるセンサ面への浮遊物の付着量を比較した結果の一例を示す図である。The figure which shows embodiment of this invention and is a figure which shows an example of the result of having compared the adhesion amount of the floating substance to the sensor surface in the case of taking a countermeasure (this countermeasure) like this embodiment, and the case of a comparative example is there. 本発明の実施形態を示し、ガスパージ装置の比較例の構成を示す図である。It is a figure which shows embodiment of this invention and shows the structure of the comparative example of a gas purge apparatus.

以下、図面を参照しながら、本発明の一実施形態を説明する。
図１は、浮遊物付着抑制用ガス供給装置（以下の説明では、必要に応じてガスパージ装置と称する）が適用される板厚計が配設された圧延ラインの一部の概略構成の一例を示す図である。
図１において、最終圧延スタンド１を通った帯状の鋼板２は、テンションリール３でコイル状に巻き取られる。最終圧延スタンド１からテンションリール３までの間において、板厚計１０により鋼板２の板厚が計測される。
図２は、板厚計１０付近の様子の概略の一例を示す図である。具体的に図２（ａ）は、板厚計１０をその側方から見た図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）のＡ方向から見た図である。
図２において、板厚計１０は、放射線発生装置２０と、放射線検出装置３０とを有している。本実施形態では、この板厚計１０に、ガスパージ装置４０、ガス供給源５０、及びガス供給管５１が取り付けられている場合を例に挙げて説明する。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 shows an example of a schematic configuration of a part of a rolling line in which a thickness gauge to which a gas supply device for suppressing floating substance adhesion (hereinafter referred to as a gas purging device if necessary) is applied. FIG.
In FIG. 1, a strip-shaped steel plate 2 that has passed through the final rolling stand 1 is wound up in a coil shape by a tension reel 3. The plate thickness of the steel plate 2 is measured by the plate thickness meter 10 between the final rolling stand 1 and the tension reel 3.
FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a schematic state in the vicinity of the thickness gauge 10. Specifically, FIG. 2A is a view of the thickness gauge 10 viewed from the side, and FIG. 2B is a view of the thickness gauge 10 viewed from the A direction of FIG.
In FIG. 2, the plate thickness meter 10 includes a radiation generation device 20 and a radiation detection device 30. In the present embodiment, a case where the gas purge device 40, the gas supply source 50, and the gas supply pipe 51 are attached to the plate thickness meter 10 will be described as an example.

放射線発生装置２０は、放射線源２１と、放射線源遮蔽ボックス２２とを有し、放射線源２１で発生し、放射線源遮蔽ボックス２２を通った放射線（γ線）を、鋼板２の一面側（図２に示す例では裏面側）から放射線検出装置３０の方向に照射するものである。後述するように本実施形態では、放射線検出装置３０における放射線の入射面に浮遊物が付着することを抑制するために、ガスパージ装置４０を設けるようにすることが特徴の一つであるが、本実施形態では、放射線発生装置２０にも、放射線源２１における放射線の出射面２１ａ（以下の説明では、必要に応じて放射線出射面２１ａと称する）に浮遊物が付着するのを抑制するためのエアーワイプノズル２３を設けるようにしている。すなわち、エアーワイプノズル２３は、放射線出射面２１ａの表面上の空間（図２に示す例では放射線出射面２１ａの上方の空間）に対して、当該空間の周方向の領域（図２に示す例では側方の領域）からガスを噴射することにより、放射線出射面２１ａに浮遊物が付着することを抑制するようにしている。尚、このガスは、ガス供給源５０からガス供給管５１を通って供給されるものである。また、このガスは、浮遊物を飛ばすことができるフリーなガスであれば、空気や窒素ガス等、どのようなガスであってもよい。   The radiation generator 20 includes a radiation source 21 and a radiation source shielding box 22, and generates radiation (γ rays) generated by the radiation source 21 and passing through the radiation source shielding box 22 on one surface side of the steel plate 2 (see FIG. In the example shown in FIG. 2, irradiation is performed in the direction of the radiation detection apparatus 30 from the back surface side. As will be described later, the present embodiment is characterized in that a gas purging device 40 is provided in order to suppress the adhering of floating substances to the radiation incident surface in the radiation detection device 30. In the embodiment, the air for suppressing the floating matter from adhering to the radiation emitting surface 21a of the radiation source 21 (hereinafter referred to as the radiation emitting surface 21a as necessary in the following description) also in the radiation generator 20. A wipe nozzle 23 is provided. That is, the air wipe nozzle 23 has a circumferential region (an example shown in FIG. 2) of the space with respect to a space on the surface of the radiation emitting surface 21a (a space above the radiation emitting surface 21a in the example shown in FIG. 2). Then, by injecting the gas from the side area), it is possible to prevent the floating substance from adhering to the radiation emitting surface 21a. This gas is supplied from the gas supply source 50 through the gas supply pipe 51. Further, this gas may be any gas such as air or nitrogen gas as long as it is a free gas capable of flying suspended matter.

放射線検出装置３０は、放射線検出器３１と、遮熱ボックス３２とを有し、放射線発生装置２０から照射された放射線を、鋼板２の他面側（図２に示す例では表面側）で入射し、入射した放射線の量を検出することにより、鋼板２の板厚を計測するものである。放射線検出器３１は、遮熱ボックス３２内に入っており、放射線検出装置３０を側方から見た場合には、放射線検出器３１は見えないので、図２（ａ）では放射線検出器３１を破線で示している。   The radiation detection device 30 includes a radiation detector 31 and a heat shielding box 32, and the radiation irradiated from the radiation generation device 20 is incident on the other surface side of the steel plate 2 (the surface side in the example shown in FIG. 2). The thickness of the steel plate 2 is measured by detecting the amount of incident radiation. Since the radiation detector 31 is contained in the heat shielding box 32 and the radiation detector 31 is not visible when the radiation detector 30 is viewed from the side, the radiation detector 31 is not shown in FIG. It is indicated by a broken line.

前述したように、放射線発生装置２０から照射された放射線を、放射線検出器３１における放射線の入射面（以下の説明では、必要に応じてセンサ面と称する）３１ａで入射できるように、放射線検出器３１におけるセンサ面３１ａが、放射線源２１における放射線出射面２１ａと鋼板２を介して相互に対向するように、放射線発生装置２０と、放射線検出装置３０とが配置されている。
本実施形態では、ガスパージ装置４０によって、放射線検出器３１におけるセンサ面３１ａの表面上の空間（図２に示す例ではセンサ面３１ａの下方の空間）に対して、当該空間の周方向全体の領域（図２に示す例では側方全体の領域）からガスを噴射することにより、放射線検出器３１におけるセンサ面３１ａに浮遊物が付着することを抑制するようにしている。尚、このガスも、ガス供給源５０からガス供給管５１を通って供給されるものである。 As described above, the radiation detector is configured so that the radiation emitted from the radiation generator 20 can be incident on the radiation incident surface 31a (hereinafter referred to as a sensor surface as necessary) in the radiation detector 31. The radiation generating device 20 and the radiation detecting device 30 are arranged so that the sensor surface 31a in 31 faces the radiation emitting surface 21a in the radiation source 21 and the steel plate 2 therebetween.
In the present embodiment, the entire area in the circumferential direction of the space with respect to the space on the surface of the sensor surface 31a in the radiation detector 31 (the space below the sensor surface 31a in the example shown in FIG. 2) by the gas purge device 40. By injecting the gas from the entire region (in the example shown in FIG. 2), the floating substance is prevented from adhering to the sensor surface 31 a of the radiation detector 31. This gas is also supplied from the gas supply source 50 through the gas supply pipe 51.

図３は、ガスパージ装置４０の構成の一例を示す図である。具体的に図３（ａ）は、ガスパージ装置４０の外観構成の概略の一例を示す図であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）のＡ−Ａ´方向から見た断面図であり、図３（ｃ）は、図３（ａ）のＢ−Ｂ´方向から見た断面図である。
図３に示すように、ガスパージ装置４０は、概ね中空円筒形状（リング状）の構造物４１を有している。構造物４１の中空部分の直径は、図２（ｂ）に示すように、放射線検出器３１におけるセンサ面３１ａの直径よりも大きく、構造物４１の中空部分が、放射線検出器３１におけるセンサ面３１ａの表面上の空間（図２に示す例ではセンサ面３１ａの下方の空間）に位置するようにしている。このようにガスパージ装置４０の構造物４１は、中空形状を有し、放射線検出器３１におけるセンサ面３１ａの表面上の空間（図２に示す例ではセンサ面３１ａの下方の空間）を、当該空間の周方向全体から取り囲むようにして配置されている。 FIG. 3 is a diagram illustrating an example of the configuration of the gas purge device 40. Specifically, FIG. 3A is a diagram showing an example of a schematic external configuration of the gas purge device 40, and FIG. 3B is a cross-sectional view as seen from the AA ′ direction of FIG. FIG. 3C is a cross-sectional view as seen from the BB ′ direction of FIG.
As shown in FIG. 3, the gas purge apparatus 40 has a structure 41 having a generally hollow cylindrical shape (ring shape). As shown in FIG. 2B, the diameter of the hollow portion of the structure 41 is larger than the diameter of the sensor surface 31a of the radiation detector 31, and the hollow portion of the structure 41 is the sensor surface 31a of the radiation detector 31. Is located in the space above the surface (in the example shown in FIG. 2, the space below the sensor surface 31a). Thus, the structure 41 of the gas purge apparatus 40 has a hollow shape, and the space on the surface of the sensor surface 31a in the radiation detector 31 (the space below the sensor surface 31a in the example shown in FIG. 2) is defined as the space. It is arrange | positioned so that it may surround from the whole circumferential direction.

ガスパージ装置４０の構造物４１の内部には、ガスパージノズルが形成されている。ガスパージノズルは、ガス受入領域４１ａと、スリットノズル４１ｂとを有する。ガス受入領域４１ａは、構造物４１の内部において、構造物４１の周方向全体に亘り形成された中空の領域であり、その一部がガス供給管５１の中空の領域と繋がっている。スリットノズル４１ｂは、構造物４１の周方向全体に亘って、ガス受入領域４１ａと、構造物４１の内周面とを繋ぐ単一のスリットである。また、スリットノズル４１ｂは、構造物４１の内周面に近い箇所ほど、センサ面３１ａからの距離が遠くなるように傾斜している。このようにスリットノズル４１ｂは、ガスパージ装置４０の構造物４１の内周面において、当該内周面の全周に亘り形成された単一のノズルである。   A gas purge nozzle is formed inside the structure 41 of the gas purge apparatus 40. The gas purge nozzle has a gas receiving area 41a and a slit nozzle 41b. The gas receiving region 41 a is a hollow region formed over the entire circumferential direction of the structure 41 inside the structure 41, and a part thereof is connected to the hollow region of the gas supply pipe 51. The slit nozzle 41 b is a single slit that connects the gas receiving region 41 a and the inner peripheral surface of the structure 41 over the entire circumferential direction of the structure 41. Further, the slit nozzle 41b is inclined so that the closer to the inner peripheral surface of the structure 41, the longer the distance from the sensor surface 31a. Thus, the slit nozzle 41b is a single nozzle formed over the entire circumference of the inner circumferential surface of the structure 41 of the gas purge device 40.

以上のように本実施形態では、単一（１種類）のスリットノズル４１ｂを用いてガスを噴射するようにしている。また、本実施形態では、ガス供給管５１からのガスを、ガス受入領域４１ａで受け入れた後に、スリットノズル４１ｂからセンサ面３１ａの下方の空間に噴射するようにしている。このようにすることによって、スリットノズル４１ｂは、可及的に均一な圧力のガスを、構造物４１の周方向全体（全周）から、センサ面３１ａの下方の空間を取り囲むようにして噴射することができる。尚、本実施形態では、例えば、２［kg・f/cm2］〜３［kg・f/cm2］程度の圧力でガスを噴射するようにしている。 As described above, in this embodiment, gas is injected using a single (one type) slit nozzle 41b. In the present embodiment, after the gas from the gas supply pipe 51 is received in the gas receiving region 41a, the gas is injected from the slit nozzle 41b into the space below the sensor surface 31a. By doing in this way, the slit nozzle 41b injects the gas of the pressure as uniform as possible from the whole circumferential direction (all the circumferences) of the structure 41 so that the space below the sensor surface 31a may be surrounded. be able to. In the present embodiment, for example, the gas is injected at a pressure of about 2 [kg · f / cm 2 ] to 3 [kg · f / cm 2 ].

また、本実施形態では、スリットノズル４１ｂのガス噴射軸（スリットノズル４１ｂの中心軸であり、通常は、後述する広がり角度γの１/２に位置する）の方向とセンサ面３１ａの面方向とのなす角度（以下の説明では、必要に応じてガス噴射軸の角度と称する）をθ［°］とし、スリットノズル４１ｂから噴射されるガスの広がり角度（以下の説明では、必要に応じてガス噴射の広がり角度と称する）をγ［°］とすると、以下の（１）式、好ましくは以下の（２）式が満足するように、スリットノズル４１ｂの形状（スリット厚や傾斜角度）を決定するようにしている。
０＜θ≦γ／２ ・・・（１）
θ＝γ／２ ・・・（２）
以下にこのようにする理由を説明する。 In the present embodiment, the direction of the gas injection axis of the slit nozzle 41b (the central axis of the slit nozzle 41b and normally located at ½ of the spread angle γ described later) and the surface direction of the sensor surface 31a Is defined as θ [°], and the spread angle of the gas injected from the slit nozzle 41b (in the following description, the gas is (Referred to as the spread angle of injection) is γ [°], the shape of the slit nozzle 41b (slit thickness and inclination angle) is determined so that the following equation (1), preferably the following equation (2) is satisfied: Like to do.
0 <θ ≦ γ / 2 (1)
θ = γ / 2 (2)
The reason for this will be described below.

図４は、ガス噴射軸の角度θと、ガス噴射の広がり角度γとが種々の関係となる場合のガスの状態の一例を概念的に示す図である。具体的に図４（ａ）は、ガス噴射軸の角度θが０［°］である場合のガスの状態の一例を概念的に示す図であり、図４（ｂ）は、ガス噴射軸の角度θが０［°］＜θ＜γ／２である場合のガスの状態の一例を概念的に示す図であり、図４（ｃ）は、ガス噴射軸の角度θがθ＝γ／２である場合のガスの状態の一例を概念的に示す図であり、図４（ｄ）は、ガス噴射軸の角度θがθ＞γ／２である場合のガスの状態の一例を概念的に示す図である。
図４（ａ）に示すように、ガス噴射軸の角度θが０［°］である場合、スリットノズルから噴射されたガス６１が衝突すると、センサ面３１ａ側（図４に示す例では上側）への流れと、センサ面３１ａとは反対側（図４に示す例では下側）への流れとが概ね均等になる。したがって、センサ面３１ａの表面上の空間（図４に示す例ではセンサ面３１ａの下方の空間）の流れが乱れ、この乱れた流れの空間に、粉塵やヒュームといった浮遊物が巻き込まれてセンサ面３１ａに浮遊物が付着する虞がある。 FIG. 4 is a diagram conceptually illustrating an example of a gas state when the angle θ of the gas injection axis and the spread angle γ of the gas injection have various relationships. Specifically, FIG. 4A is a diagram conceptually showing an example of the state of gas when the angle θ of the gas injection axis is 0 [°], and FIG. FIG. 4C is a diagram conceptually illustrating an example of a gas state when the angle θ is 0 [°] <θ <γ / 2, and FIG. 4C illustrates the angle θ of the gas injection axis as θ = γ / 2. FIG. 4D conceptually shows an example of the gas state when the angle θ of the gas injection axis is θ> γ / 2. FIG.
As shown in FIG. 4A, when the angle θ of the gas injection axis is 0 [°], when the gas 61 injected from the slit nozzle collides, the sensor surface 31a side (upper side in the example shown in FIG. 4). And the flow to the side opposite to the sensor surface 31a (the lower side in the example shown in FIG. 4) are substantially equal. Therefore, the flow of the space on the surface of the sensor surface 31a (in the example shown in FIG. 4, the space below the sensor surface 31a) is disturbed, and suspended matter such as dust and fume is caught in the space of the disturbed flow. There is a risk that suspended matter may adhere to 31a.

これに対し、図４（ｂ）に示すように、ガス噴射軸の角度θが０［°］＜θ＜γ／２である場合、スリットノズルから噴射されたガス６１が衝突すると、センサ面３１ａとは反対側（図４に示す例では下側）への流れが、センサ面３１ａ側（図４に示す例では上側）への流れよりも多くなり、所謂エアーカーテンの効果を発揮する。すなわち、粉塵やヒュームといった浮遊物をセンサ面３１ａとは反対側への流れに随伴させることができ、浮遊物がセンサ面３１ａの方向に進入するのを抑制することができる。また、スリットノズルから噴射されたガス６１が衝突することにより生じるセンサ面３１ａ側（図４に示す例では上側）への流れにより、センサ面３１ａ近傍の圧力を大気圧に対して正圧（大気圧よりも高い圧力）に保つことができる。このことによって、スリットノズルから噴射されたガス６１が衝突することによって生じた流れに粉塵やヒュームといった浮遊物が巻き込まれてセンサ面３１ａに付着することを抑制することができる。   On the other hand, as shown in FIG. 4B, when the angle θ of the gas injection axis is 0 [°] <θ <γ / 2, when the gas 61 injected from the slit nozzle collides, the sensor surface 31a. The flow to the opposite side (lower side in the example shown in FIG. 4) is larger than the flow to the sensor surface 31a side (upper side in the example shown in FIG. 4), so that a so-called air curtain effect is exhibited. That is, floating substances such as dust and fume can be caused to accompany the flow to the opposite side of the sensor surface 31a, and the floating substances can be prevented from entering in the direction of the sensor surface 31a. Further, the pressure in the vicinity of the sensor surface 31a is set to a positive pressure (high pressure) relative to the atmospheric pressure due to the flow toward the sensor surface 31a (upper side in the example shown in FIG. 4) caused by the collision of the gas 61 injected from the slit nozzle. Pressure higher than atmospheric pressure). As a result, it is possible to prevent floating substances such as dust and fume from being caught in the flow generated by the collision of the gas 61 injected from the slit nozzle and adhering to the sensor surface 31a.

更に、図４（ｃ）に示すように、ガス噴射軸の角度θがθ＝γ／２である場合、スリットノズルから噴射されたガス６１が衝突すると、殆どがセンサ面３１ａとは反対側（図４に示す例では下側）への流れとなり、この流れにより、所謂エアーカーテンの効果をより効果的に発揮させることができる。すなわち、粉塵やヒュームといった浮遊物をセンサ面３１ａとは反対側への流れに随伴させることをより確実に行うことができ、浮遊物がセンサ面３１ａの方向に進入するのをより確実に抑制することができる。また、ガス６１のセンサ面３１ａ側の部分がセンサ面３１と平行に衝突することで、センサ面３１ａ近傍の圧力を大気圧に対して正圧に保つことをより安定して行うことができ、このことによって、スリットノズルから噴射されたガス６１が衝突することによって生じた流れに粉塵やヒュームといった浮遊物が巻き込まれてセンサ面３１ａに付着することをより確実に抑制することができる。   Furthermore, as shown in FIG. 4C, when the angle θ of the gas injection axis is θ = γ / 2, when the gas 61 injected from the slit nozzle collides, most of the side is opposite to the sensor surface 31a ( In the example shown in FIG. 4, the flow is downward), and the effect of the so-called air curtain can be more effectively exhibited by this flow. That is, it is possible to more reliably cause floating substances such as dust and fumes to accompany the flow to the opposite side of the sensor surface 31a, and more reliably suppress the floating substances from entering in the direction of the sensor surface 31a. be able to. Further, since the portion of the gas 61 on the sensor surface 31a side collides in parallel with the sensor surface 31, the pressure in the vicinity of the sensor surface 31a can be more stably maintained at a positive pressure with respect to the atmospheric pressure. Accordingly, it is possible to more reliably suppress floating substances such as dust and fume from being caught in the flow generated by the collision of the gas 61 ejected from the slit nozzle and adhering to the sensor surface 31a.

一方、図４（ｄ）に示すように、ガス噴射軸の角度θがθ＞γ／２である場合、スリットノズルから噴射されたガス６１が衝突すると、ほとんど全ての流れが、センサ面３１ａとは反対側（図４に示す例では下側）へ向く。このため、センサ面３１ａ近傍の圧力が大気圧に対して負圧（大気圧よりも低い圧力）になる。これにより、スリットノズルから噴射されたガス６１が衝突することによって生じる流れの少しの乱れによって、この乱れた流れの領域に、粉塵やヒュームといった浮遊物が巻き込まれてセンサ面３１ａに付着する虞がある。
本実施形態では、以上のような理由から、以下の（１）式、好ましくは以下の（２）式が満足するように、スリットノズル４１ｂの形状（スリット厚や傾斜角度）を決定するようにしている。尚、ガス噴射の広がり角度γは、例えば、以下の（３）式の範囲の何れかの値を採用することができる。
０［°］＜γ＜９０［°］ ・・・（３） On the other hand, as shown in FIG. 4 (d), when the angle θ of the gas injection axis is θ> γ / 2, when the gas 61 injected from the slit nozzle collides, almost all the flow flows between the sensor surface 31a and the sensor surface 31a. Is directed to the opposite side (lower side in the example shown in FIG. 4). For this reason, the pressure near the sensor surface 31a becomes a negative pressure (a pressure lower than the atmospheric pressure) with respect to the atmospheric pressure. As a result, there is a possibility that suspended matter such as dust and fume is caught in the region of the turbulent flow and adheres to the sensor surface 31a due to the slight turbulence of the flow caused by the collision of the gas 61 injected from the slit nozzle. is there.
In the present embodiment, for the reasons described above, the shape (slit thickness and inclination angle) of the slit nozzle 41b is determined so that the following expression (1), preferably the following expression (2) is satisfied. ing. As the gas injection spread angle γ, for example, any value within the range of the following expression (3) can be adopted.
0 [°] <γ <90 [°] (3)

図５は、本実施形態のようにして対策（本対策）を行った場合と、比較例の場合におけるセンサ面３１ａへの浮遊物の付着量を比較した結果の一例を示す図である。図５では、比較例におけるセンサ面３１ａへの浮遊物の付着量を「１」とした場合の、本対策におけるセンサ面３１ａへの浮遊物の付着量を示している。また、本対策では、以下の（２）式が満足するように、スリットノズル４１ｂの形状を決定するようにしている。具体的には、ガス噴射の広がり角度γを２０［°］としたため、ガス噴射軸の角度θは１０［°］となる。また、本対策と比較例における、ガスパージ装置以外の構成及び動作条件は同じである。
図６は、ガスパージ装置の比較例の構成を示す図である。具体的に図６（ａ）は、ガスパージ装置が取り付けられた板厚計を、その側方から見た図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）のＡ方向から見た図である。図６は、図２に対応する図である。
図６に示すように、比較例では、１つのエアーワイプノズル７１ａにより、センサ面３１ａの下方の空間に対して、当該空間の側方から、センサ面３１ａと平行な方向に、ガスを噴射する。また、比較例では、３つのエアーワイプノズル７１ｂ〜６１ｄにより、センサ面３１ａの下方の空間に対して、当該空間の側方から、エアーワイプノズル７１ａにより噴射されるガスと直交し、且つ、センサ面３１ａと平行な方向に、ガスを噴射する。
図５に示す結果から、本対策を行った場合のセンサ面３１ａへの浮遊物の付着量は、比較例の対策を行った場合のセンサ面３１ａへの浮遊物の付着量の１２［％］となり、センサ面３１ａへの浮遊物の付着量を十分に低減することができることが確認された。 FIG. 5 is a diagram illustrating an example of a result of comparison of the amount of floating substances adhering to the sensor surface 31a in the case where the countermeasure (this countermeasure) is performed as in the present embodiment and in the comparative example. FIG. 5 shows the amount of floating matter adhering to the sensor surface 31a in this measure when the amount of floating matter adhering to the sensor surface 31a in the comparative example is “1”. In this measure, the shape of the slit nozzle 41b is determined so that the following expression (2) is satisfied. Specifically, since the gas injection spread angle γ is set to 20 [°], the angle θ of the gas injection axis is 10 [°]. Further, the configuration and operating conditions other than the gas purging device in the present countermeasure and the comparative example are the same.
FIG. 6 is a diagram showing a configuration of a comparative example of the gas purge apparatus. Specifically, FIG. 6 (a) is a view of the plate thickness gauge to which the gas purging device is attached as viewed from the side, and FIG. 6 (b) is a view of the thickness gauge as viewed from the direction A in FIG. 6 (a). It is. FIG. 6 is a diagram corresponding to FIG.
As shown in FIG. 6, in the comparative example, a single air wipe nozzle 71a injects gas from the side of the space in a direction parallel to the sensor surface 31a into the space below the sensor surface 31a. . In the comparative example, the three air wipe nozzles 71b to 61d are orthogonal to the gas injected by the air wipe nozzle 71a from the side of the space with respect to the space below the sensor surface 31a, and the sensor. Gas is injected in a direction parallel to the surface 31a.
From the results shown in FIG. 5, the amount of floating matter adhering to the sensor surface 31 a when this measure is taken is 12 [%] of the amount of floating matter adhering to the sensor surface 31 a when the measure of the comparative example is taken. Thus, it was confirmed that the amount of suspended matter adhering to the sensor surface 31a can be sufficiently reduced.

以上のように本実施形態では、スリットノズル４１ｂによって、センサ面３１ａの下方の空間の周方向全体（全周）から、センサ面３１ａの下方の空間に対してガスを噴射するに際し、ガス噴射軸の角度θと、ガス噴射の広がり角度γとの関係が、０＜θ≦γ／２、好ましくはθ＝γ／２の関係を満足するように、スリットノズル４１ｂの形状を決定する。したがって、従来のように、センサ面３１ａに垂直な方向に、２種類のノズルを形成する必要がなくなる。よって、センサ面３１ａに垂直な方向におけるノズルの設置スペースを従来よりも小さくすることができる。これにより、例えば、板厚計１０との干渉により、ガスパージ装置４０を板厚計１０に取り付けられなくなることを抑制することができる。   As described above, in the present embodiment, when the gas is ejected from the entire circumferential direction (the entire circumference) of the space below the sensor surface 31a to the space below the sensor surface 31a by the slit nozzle 41b, The shape of the slit nozzle 41b is determined so that the relationship between the angle θ and the gas injection spread angle γ satisfies the relationship 0 <θ ≦ γ / 2, preferably θ = γ / 2. Accordingly, it is not necessary to form two types of nozzles in the direction perpendicular to the sensor surface 31a as in the conventional case. Therefore, the installation space of the nozzle in the direction perpendicular to the sensor surface 31a can be made smaller than before. Thereby, it can suppress that the gas purge apparatus 40 cannot be attached to the thickness gauge 10 by interference with the thickness gauge 10, for example.

（変形例）
本実施形態では、ガスパージ装置４０を板厚計１０のセンサ面３１ａに適用した場合を例に挙げて説明した。しかしながら、浮遊物が付着することを、ガスを噴射することにより抑制するものであれば、ガスパージ装置４０を適用する対象は、このようなものに限定されない。例えば、炉内を観察するためののぞき窓の炉内側の面にガスパージ装置４０を適用してもよい。このようにする場合、のぞき窓の炉内側の面近傍の圧力（対象面の近傍の圧力）が、炉内の圧（雰囲気の圧力）よりも高くなるように、スリットノズル４１ｂからガスを噴射する点以外は、本実施形態で説明したのと同じようにしてガスパージ装置４０を適用することができる。 (Modification)
In the present embodiment, the case where the gas purge device 40 is applied to the sensor surface 31a of the plate thickness meter 10 has been described as an example. However, the object to which the gas purging device 40 is applied is not limited to this as long as the floating substance is prevented from adhering by jetting gas. For example, you may apply the gas purge apparatus 40 to the surface inside the furnace of the observation window for observing the inside of a furnace. In this case, gas is injected from the slit nozzle 41b so that the pressure in the vicinity of the surface inside the furnace of the observation window (pressure in the vicinity of the target surface) becomes higher than the pressure in the furnace (pressure in the atmosphere). Except for this point, the gas purge device 40 can be applied in the same manner as described in the present embodiment.

尚、以上説明した本発明の実施形態は、何れも本発明を実施するにあたっての具体化の例を示したものに過ぎず、これらによって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されてはならないものである。すなわち、本発明はその技術思想、またはその主要な特徴から逸脱することなく、様々な形で実施することができる。   It should be noted that the embodiments of the present invention described above are merely examples of implementation in carrying out the present invention, and the technical scope of the present invention should not be construed as being limited thereto. Is. That is, the present invention can be implemented in various forms without departing from the technical idea or the main features thereof.

１ 最終圧延スタンド
２ 鋼板
３ テンションリール
１０ 板厚計
２０ 放射線発生装置
３０ 放射線検出装置
３１ 放射線検出器
３１ａ センサ面
４０ 浮遊物付着抑制用ガス供給装置（ガスパージ装置）
４１ 構造物
４１ａ ガス受入領域
４１ｂ スリットノズル
５０ ガス供給源
５１ ガス供給管
６１ ガス DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Final rolling stand 2 Steel plate 3 Tension reel 10 Thickness gauge 20 Radiation generation device 30 Radiation detection device 31 Radiation detector 31a Sensor surface 40 Gas supply device (gas purge device) for floating substance adhesion suppression
41 Structure 41a Gas receiving area 41b Slit nozzle 50 Gas supply source 51 Gas supply pipe 61 Gas

Claims (2)

対象面の表面上の空間に対してガスを噴射することにより、当該対象面に浮遊物が付着することを抑制させる浮遊物付着抑制用ガス供給装置であって、
前記対象面の表面上の空間を、当該空間の周方向全体から取り囲むように配置された中空形状の構造物を有し、
前記構造物には、前記対象面に浮遊物が付着することを抑制するためのガスを噴射するノズルとして、当該構造物の内周面において全周に亘り形成された単一のスリットノズルのみが形成されており、
前記スリットノズルは、前記構造物の内周面に近い箇所ほど、前記対象面からの距離が遠くなるように傾斜しており、
前記スリットノズルにおけるガスの噴射軸の方向と前記対象面の面方向とのなす角度θ°と、前記スリットノズルから噴射されるガスの広がり角度γ°との関係が、以下の（Ａ）式の関係を満足することを特徴とする浮遊物付着抑制用ガス供給装置。
０°＜θ≦γ／２ ・・・（Ａ） A floating substance adhesion suppression gas supply device that suppresses adhesion of floating substances to the target surface by injecting gas into the space on the surface of the target surface,
A hollow structure disposed so as to surround the space on the surface of the target surface from the entire circumferential direction of the space;
In the structure, only a single slit nozzle formed over the entire circumference on the inner peripheral surface of the structure is used as a nozzle for injecting gas for suppressing the attachment of floating substances to the target surface. Formed,
The slit nozzle is inclined so that the closer to the inner peripheral surface of the structure, the farther the distance from the target surface is,
The relationship between the angle θ ° formed by the direction of the gas injection axis in the slit nozzle and the surface direction of the target surface and the spread angle γ ° of the gas injected from the slit nozzle is expressed by the following equation (A): A gas supply device for suppressing adhesion of suspended solids, characterized by satisfying the relationship.
0 ° <θ ≦ γ / 2 (A) 前記対象面は、帯状の鋼板の一面側から照射され、当該鋼板を透過した放射線を、当該鋼板の他面側で検出する放射線検出装置における前記放射線の入射面、又は、炉内を観察するための窓における前記炉内側の面であることを特徴とする請求項１に記載の浮遊物付着抑制用ガス供給装置。   The target surface is irradiated from one surface side of the belt-shaped steel plate and is used to observe the radiation incident surface or the inside of the furnace in the radiation detection device that detects the radiation transmitted through the steel plate on the other surface side of the steel plate. The floating substance adhesion-suppressing gas supply device according to claim 1, wherein the surface is an inner surface of the furnace in the window.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020094971A (en) * 2018-12-14 2020-06-18 日本製鉄株式会社 Device for preventing dirt adhesion to imaging window
WO2022195964A1 (en) * 2021-03-19 2022-09-22 株式会社東芝 Thickness measurement device

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5097448U (en) * 1973-12-28 1975-08-14
JPS5495265U (en) * 1977-12-16 1979-07-05
JPS5549689A (en) * 1978-10-03 1980-04-10 Ishikawajima Harima Heavy Ind Observation window
JPS586913A (en) * 1981-07-03 1983-01-14 Nippon Steel Corp Method and apparatus for observing interior of blast furnace
JPH05280964A (en) * 1991-07-05 1993-10-29 Nkk Corp Contamination preventing apparatus for radiation strip thickness gage
JPH0694448A (en) * 1992-09-10 1994-04-05 Furukawa Alum Co Ltd Plate thickness measuring method in rolling process
JPH08131810A (en) * 1994-11-14 1996-05-28 Fuji Paudaru Kk Photographic device used for granulating and coating device
JPH0980343A (en) * 1995-07-10 1997-03-28 Fuji Photo Film Co Ltd Dust sticking prevention device of image scanning device
JPH11231255A (en) * 1998-02-16 1999-08-27 Toshiba Corp Window surface air purge mechanism for optical window
JP2003021326A (en) * 2001-07-06 2003-01-24 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Peephole structure of furnace
JP2004333534A (en) * 2003-04-30 2004-11-25 Fujitsu General Ltd Housing case for monitor camera
JP2006278728A (en) * 2005-03-29 2006-10-12 Sony Corp Conductive film modifying method, laminated structure, and thin film transistor
WO2009037819A1 (en) * 2007-09-18 2009-03-26 Eitaro Terakawa Protective structure for imaging device

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5097448U (en) * 1973-12-28 1975-08-14
JPS5495265U (en) * 1977-12-16 1979-07-05
JPS5549689A (en) * 1978-10-03 1980-04-10 Ishikawajima Harima Heavy Ind Observation window
JPS586913A (en) * 1981-07-03 1983-01-14 Nippon Steel Corp Method and apparatus for observing interior of blast furnace
JPH05280964A (en) * 1991-07-05 1993-10-29 Nkk Corp Contamination preventing apparatus for radiation strip thickness gage
JPH0694448A (en) * 1992-09-10 1994-04-05 Furukawa Alum Co Ltd Plate thickness measuring method in rolling process
JPH08131810A (en) * 1994-11-14 1996-05-28 Fuji Paudaru Kk Photographic device used for granulating and coating device
JPH0980343A (en) * 1995-07-10 1997-03-28 Fuji Photo Film Co Ltd Dust sticking prevention device of image scanning device
JPH11231255A (en) * 1998-02-16 1999-08-27 Toshiba Corp Window surface air purge mechanism for optical window
JP2003021326A (en) * 2001-07-06 2003-01-24 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Peephole structure of furnace
JP2004333534A (en) * 2003-04-30 2004-11-25 Fujitsu General Ltd Housing case for monitor camera
JP2006278728A (en) * 2005-03-29 2006-10-12 Sony Corp Conductive film modifying method, laminated structure, and thin film transistor
WO2009037819A1 (en) * 2007-09-18 2009-03-26 Eitaro Terakawa Protective structure for imaging device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020094971A (en) * 2018-12-14 2020-06-18 日本製鉄株式会社 Device for preventing dirt adhesion to imaging window
JP7205207B2 (en) 2018-12-14 2023-01-17 日本製鉄株式会社 A device that prevents dirt from adhering to the photographing window
WO2022195964A1 (en) * 2021-03-19 2022-09-22 株式会社東芝 Thickness measurement device

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