JP2010525163A - 気化した有機材料の微調整 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1
Description
a.単一の第1有機成分の第1の量を気化デバイスに供給し、そこでは該成分が気化され及び第1の所定速度で該マニホールドへ供給され、
b.該第1有機成分を含む所定比率の有機成分混合物の或る量を輸送装置へ供給し、
c.該輸送装置が該有機成分混合物を第2の所定速度で急速加熱領域に供給し、そこでは該混合物が気化され及び該マニホールドへ供給され、および
d.該有機成分を該マニホールド中で混合し、該混合気化成分221が該開口部を通って該基板表面に堆積されることを可能にして、該膜を形成すること、
を含んでなる、方法によって達成される。
20 マニホールド
25 マニホールド
30 開口部
35 モータ
40 第1の輸送装置
45 第2の輸送装置
50 第1の容器
55 第2の容器
60 輸送経路
65 輸送経路
70 第3の容器
75 第4の容器
80 オーガー
90 モータ
100 気化装置
105 気化装置
110 マニホールド
115 気化装置
120 第1の有機成分
125 有機成分の混合物
135 るつぼ
140 加熱素子
150 開口部
160 第1の有機材料
170 加熱素子
180 基部
210 ステップ
215 ステップ
220 基板
221 ステップ
225 ステップ
230 ステップ
235 ステップ
240 ステップ
245 ステップ
250 ステップ
260 ステップ
265 ステップ
310 望ましい組成物スペース
320 第1の混合物
330 第2の混合物
340 第3の混合物
350 組成物範囲
360 第3の混合物
370 組成物範囲
410 OLEDデバイス
420 基板
430 アノード
435 正孔注入層
440 正孔輸送層
450 発光層
455 電子輸送層
460 電子注入層
470 有機層
490 カソード
Claims (29)
- 有機成分を気化し、および該蒸気をマニホールド中の開口部を通じて該マニホールドから間隔をあけられた基板表面へ供給して、少なくとも二つの有機成分から構成された膜を形成する方法であって、
a.単一の第1有機成分の第1の量を気化デバイスに供給し、そこでは該成分が気化され及び第1の所定速度で該マニホールドへ供給され、
b.該第1有機成分を含む所定比率の有機成分混合物の或る量を輸送装置へ供給し、
c.該輸送装置が該有機成分混合物を第2の所定速度で急速加熱領域に供給し、そこでは該混合物が気化され及び該マニホールドへ供給され、および
d.該混合有機成分を該マニホールド中で混合し、該混合気化成分が該開口部を通って該基板表面に堆積されることを可能にして、該膜を形成すること、
を含んでなる、方法。 - 該第1有機成分または該有機成分混合物またはその両方が該マニホールドへ供給される、該所定速度を変化させて、該フィルムの組成物を変化させることを、さらに含んでなる請求項1に記載の方法。
- 該第1および第2の所定速度の、速いもの対遅いものの比率を20:1未満に制限することを、さらに含んでなる請求項1に記載の方法。
- 該有機成分混合物がホストおよびドーパントを含んでなる、請求項1に記載の方法。
- 該輸送装置がオーガーを含んでなる、請求項1に記載の方法。
- 該混合物の気化が望ましいときには該オーガーが連続的に該混合物を該急速加熱領域まで供給し、および該混合物の気化が望ましくないときには該オーガーが停止する、請求項5に記載の方法。
- 該輸送装置の少なくとも一部が冷却されている、請求項1に記載の方法。
- 二以上の有機成分混合物を所定速度で対応する急速加熱領域へ供給するために二以上の輸送装置を備えること、をさらに含んでなる請求項1に記載の方法。
- 該所定速度のうちの、最高速度対最低速度の比率を20:1未満に制限すること、をさらに含んでなる請求項8に記載の方法。
- 第1混合物がホストおよびドーパントを含み、第2混合物がホストおよび共同ホストを含む、請求項8に記載の方法。
- 第1混合物がホストおよび共同ホストの混合物であり、第2混合物がホスト、共同ホストおよびドーパントの混合物である、請求項8に記載の方法。
- 輸送装置および気化デバイスの総数が、該膜における成分の総数に等しいかまたはそれより多い、請求項8に記載の方法。
- 少なくとも二つの気化デバイスを備え、そこでは少なくとも二つの単一の有機成分が気化され及び該マニホールドへ所定速度で供給されること、をさらに含んでなる請求項1に記載の方法。
- 該所定速度のうちの、最高速度対最低速度の比率を20:1未満に制限すること、をさらに含んでなる請求項13に記載の方法。
- 輸送装置および気化デバイスの総数が、該膜における成分の総数に等しいかまたはそれより多い、請求項13に記載の方法。
- 有機成分混合物を気化し、および該蒸気をマニホールド中の開口部を通じて該マニホールドから間隔をあけられた基板表面へ供給して、膜を形成する方法であって、
a.第1所定比率を有する第1有機成分混合物の第1の量を第1輸送装置に供給し、
b. 該第1混合物の少なくとも一つの有機成分を含み、且つ該第1所定比率とは異なる第2所定比率を有する、第2有機成分混合物の第2の量を第2輸送装置に供給し、
c.該第1および第2輸送装置が、対応する混合物を所定速度で対応する第1および第2急速加熱領域に供給し、そこでは該混合物が気化され及び該マニホールドへ供給され、および
d.該第1および第2混合物を該マニホールド中で混合し、該混合気化成分が該開口部を通って該基板表面に堆積されることを可能にして、該膜を形成すること、
を含んでなる、方法。 - 該第1または第2混合物またはその両方が、該第1または第2輸送装置またはその両方によって、対応する急速加熱領域へ供給される、該所定速度を変化させて、該フィルムの組成物を変化させることを、さらに含んでなる請求項16に記載の方法。
- 速い所定速度対遅い所定速度の比率を20:1未満に制限することを、さらに含んでなる請求項16に記載の方法。
- 該第1および第2混合物がホストおよびドーパントの混合物である、請求項16に記載の方法。
- 該第1および第2輸送装置がオーガーを含んでなる、請求項16に記載の方法。
- 該混合物の気化が望ましいときには該第1および第2オーガーが連続的に該混合物を対応する第1および第2急速加熱領域まで供給し、および該混合物の気化が望ましくないときには該オーガーが停止する、請求項20に記載の方法。
- 該第1および第2輸送装置の少なくとも一部が冷却されている、請求項16に記載の方法。
- 三以上の有機成分混合物を所定速度で対応する急速加熱領域へ供給するために三以上の輸送装置を備えること、をさらに含んでなる請求項16に記載の方法。
- 該所定速度のうちの、最高速度対最低速度の比率を20:1未満に制限すること、をさらに含んでなる請求項23に記載の方法。
- 第1混合物がホストおよび共同ホストの混合物を含み、第2混合物がホストおよび共同ホストの混合物を含む、請求項23に記載の方法。
- 第1混合物がホストおよび共同ホストの混合物であり、第2混合物がホスト、共同ホストおよびドーパントの混合物である、請求項23に記載の方法。
- 輸送装置の総数が、該膜における成分の総数に等しいかまたはそれより多い、請求項23に記載の方法。
- 有機成分を気化し、および該蒸気をマニホールド中の開口部を通じて該マニホールドから間隔をあけられた基板表面へ供給して、少なくとも二つの有機成分から構成された膜を形成する方法であって、
a.単一の第1有機成分の第1の量を気化デバイスに供給し、そこでは該成分が気化され及び第1の所定速度で第1マニホールド中の開口部を通じて該第1マニホールドと該基板の間の空間へ供給され、
b.該第1有機成分を含む所定比率の有機成分混合物の或る量を輸送装置へ供給し、
c.該輸送装置が該有機成分混合物を第2の所定速度で急速加熱領域に供給し、そこでは該混合物が気化され及び第2マニホールド中の開口部を通じて該第2マニホールドと該基板の間の空間へ供給され、および
d.該有機成分を該第1および第2マニホールドと該基板の間の空間で混合し、該混合気化成分が該基板表面に堆積されることを可能にして、該膜を形成すること、
を含んでなる、方法。 - 有機成分混合物を気化し、および該蒸気をマニホールド中の開口部を通じて該マニホールドから間隔をあけられた基板表面へ供給して、膜を形成する方法であって、
a.第1所定比率を有する第1有機成分混合物の第1の量を第1輸送装置に供給し、
b. 該第1混合物の少なくとも一つの有機成分を含み、且つ該第1所定比率とは異なる第2所定比率を有する、第2有機成分混合物の第2の量を第2輸送装置に供給し、
c.該第1および第2輸送装置が、対応する混合物を所定速度で対応する第1および第2急速加熱領域に供給し、そこでは該混合物が気化され及び対応する第1および第2マニホールド中の開口部を通じて該第1および第2マニホールドと該基板の間の空間へ供給され、および
d.該有機成分を該第1および第2マニホールドと該基板の間の空間で混合し、該混合気化成分が該基板表面に堆積されることを可能にして、該膜を形成すること、
を含んでなる、方法。
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