JP2010524155A - ガスクラスターイオンビームを用いて系統的な不均一性を補正する装置及び方法 - Google Patents
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Claims (20)
- ガスクラスターイオンビームを用いてワークピースの上部層を変更する方法であって:
前記ワークピースの上部層に関するパラメータのデータを集めるステップ;
前記パラメータのデータにおける不均一性を特定するステップ;
前記ワークピースの前記上部層に前記ガスクラスターイオンビームを向けるステップ;及び
前記不均一性を補正するために、少なくとも部分的には系統的なエラーレスポンスと前記パラメータのデータとに基づいて、前記ワークピースの前記上部層における位置に応じて前記ガスクラスターイオンビームの適用線量を空間的に調節するステップ;
を有する方法。 - 前記不均一性は、前記ガスクラスターイオンビームが前記基板の前記上部層に向けられる前に前記基板の前記上部層で実行される処理によって形成される、
請求項1の方法。 - 前記パラメータのデータを集めるステップは、
前記ガスクラスターイオンビームが前記ワークピースの前記上部層に向けられるところであるガスクラスターイオンビームツールの真空容器の外にある外部計測ツールを用いて前記パラメータのデータを集めるステップを更に有する、
請求項1の方法。 - 前記外部計測ツールは、分光偏光解析器、散乱計、干渉計、蛍光X線ツール、及び四探針ツールを含むグループから選択される、
請求項3の方法。 - 前記ガスクラスターイオンビームの適用線量を空間的に調節するステップは、
少なくとも部分的には前記系統的なエラーオフセットによって決定される各位置での滞留時間を有する前記ガスクラスターイオンビームに対して第二のワークピースを動かすステップを更に有する、
請求項1の方法。 - ガスクラスターイオンビームを用いて系統的な不均一性を補正する方法であって:
複数のワークピースのそれぞれに対する第一データセットを生成するステップ;
上部層の全域で調節なしに前記クラスターイオンビームを走査するステップ;
前記複数のワークピースのそれぞれに対する第二データセットを生成するステップ;
前記複数のワークピースのそれぞれにおける第一データセットのパラメータと第二データセットのパラメータとを比較することにより生成されるパラメータに関するデータにおける系統的な不均一性を特定するステップ;
別のワークピースの上部層の全域で前記ガスクラスターイオンビームを走査するステップ;及び
前記系統的な不均一性を補正するために、前記別のワークピースの前記上部層における位置に応じて前記ガスクラスターイオンビームの適用線量を空間的に調節するステップ;
を有する方法。 - 調節なしに前記クラスターイオンビームを走査するステップは、
前記系統的な不均一性を生じさせるために、前記別のワークピースの前記上部層を、前記ガスクラスターイオンビームにさらすステップを更に有する、
請求項6の方法。 - 前記第一データセットは、前記複数のワークピースからのガスクラスターイオンビーム処理前のデータを含み、前記第二データセットは、前記複数のワークピースからのガスクラスターイオンビーム処理後のデータを含む、
請求項6の方法。 - 前記第一データセット又は前記第二データセットの少なくとも一つは、外部計測ツールを用いて集められる、
請求項6の方法。 - 前記外部計測ツールは、分光偏光解析器、散乱計、干渉計、蛍光X線ツール、及び四探針ツールを含むグループから選択される、
請求項9の方法。 - 前記ガスクラスターイオンビームの適用線量を空間的に調節するステップは、
少なくとも部分的には前記系統的なエラーオフセットによって決定される各位置での滞留時間を有する前記ガスクラスターイオンビームに対して第二のワークピースを動かすステップを更に有する、
請求項6の方法。 - 計測ツールと共に用いる処理システムであり、該計測ツールが、処理されたワークピースのそれぞれにおける上部層のパラメータをマッピングし、且つ、該マッピングされたパラメータを表すパラメータに関するデータを生成するよう構成されるところの、処理システムであって:
ガスクラスターイオンビーム装置;及び
前記ガスクラスターイオンビーム装置に連通して結合され、且つ、前記計測ツールに連通して結合されるよう適合されるコントローラであり、前記計測ツールから前記パラメータに関するデータを受信し、前記計測ツールから受信した前記パラメータに関するデータに基づく、前記ガスクラスターイオンビーム装置の操作のための制御信号を生成し、且つ、前記ガスクラスターイオンビーム装置に該制御信号を伝えるよう構成されるコントローラ;を有する、
処理システム。 - ガスクラスターイオンビーム装置は、真空容器、該真空容器内でガスクラスターイオンビームを生成するよう構成されるソース、及び、該真空容器にあるワークピースサポートを含む、
請求項12の処理システム。 - 前記ワークピースサポートは、X−Y位置決めテーブルを含む、
請求項13の処理システム。 - 前記コントローラは、前記パラメータに関するデータにおける系統的な不均一性を特定し、前記ワークピースサポートによってサポートされるワークピースにおける位置に応じて前記ガスクラスターイオンビームの適用線量を空間的に調節するために、少なくとも部分的には該系統的な不均一性に基づいて前記制御信号を生成するよう構成される、
請求項13の処理システム。 - 前記ガスクラスターイオンビーム装置は、
複数の走査プレート;及び
前記複数の走査プレートに電気的に結合される走査発電機であり、前記ワークピースサポートに対する前記ガスクラスターイオンビームの経路を変えるために前記複数の走査プレートに電圧を掛けるよう構成される走査発電機;を更に有する、
請求項13の処理システム。 - 前記ソースは、反応性ソースである、
請求項13の処理システム。 - 前記パラメータに関するデータは、ガスクラスターイオンビーム処理前のデータ又はガスクラスターイオンビーム処理後のデータの少なくとも一つを含む、
請求項13の処理システム。 - 前記パラメータに関するデータは、フィルム厚データを含む、
請求項18の処理システム。 - 前記コントローラは、第一の無線技術による接続によって前記ガスクラスターイオンビーム装置と交信し、随意的に、第二の無線技術による接続によって前記計測ツールと交信するよう構成される、
請求項12の処理システム。
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