JP2010519520A5 - - Google Patents

Claims (18)

1. 関連するサンプル中の光学深さを評価するための光学装置。
   当該装置は、放射源、第１放射線ガイド、第２放射線ガイド、検出器及び処理手段を有する。
   前記放射源は、初期偏光を持つ放射線を放射することができる。
   第１放射線ガイドは、前記サンプルに放射線を放射するために前記放射源に光学的に接続している。第１及び第２放射線ガイドは、実質的に互いに揃えられたそれぞれの端部を備える。前記端部はさらに、前記サンプルから反射された放射線を取り込むように配置される。
   前記検出器は、第１及び第２放射線ガイドに光学的に接続している。前記検出器は、光学サブバンド内で、以下の指標を測定する。
   - 反射された放射線の第１偏光。
   - 反射された放射線の第２偏光。第２偏光は第１偏光とは異なる。
   - それぞれ第１及び第２放射線ガイドにおける反射された放射線の第１及び第２強度。
   前記処理手段は前記検出器に動作可能に接続している。前記処理手段は、前記光学サブバンド内で第１及び第２スペクトル関数を計算する。両方のスペクトル関数は、前記サンプル中の単散乱現象を実質的に示す。
   - 第１スペクトル関数は、反射された放射線の第１偏光と反射された放射線の第２偏光との間の偏光の差の測度である。
   - 第２スペクトル関数は、反射された放射線の第１及び第２強度の間の強度の差の測度である。
   前記処理手段はさらに、単散乱現象が前記サンプル内の実質的に同じ光学深さから生じているかを評価するために、第１及び第２スペクトル関数の間の相関の測度を計算する。
2. 第１スペクトル関数が偏光光散乱分光関数である請求項１に記載の光学装置。
3. 第２スペクトル関数が、第１及び第２放射線ガイドの間の差分経路長の測度である、請求項１又は請求項２に記載の光学装置。
4. 前記検出器が、前記光学サブバンド内で、第１放射線ガイドによって取り込まれた反射された放射線の第１偏光及び第２偏光を測定する、請求項１に記載の光学装置。
5. 第３放射線ガイドが、前記サンプルに前記初期偏光を持つ放射線を伝えるように配置され、第３放射線ガイドは、第１及び第２放射線ガイドの端部に実質的に揃えられた端部を持つ、請求項１に記載の光学装置。
6. 第３放射線ガイドは、前記サンプルから反射された放射線を取り込むように配置され、第３放射線ガイドは、前記検出器に光学的に接続している、請求項５に記載の光学装置。
7. 前記検出器は、２つの実質的に直交する向きで、反射された放射線の第１及び第２偏光を測定する、請求項１に記載の光学装置。
8. 前記放射源が、測定される第１偏光又は測定される第２偏光の偏光面に実質的に平行な面の中で直線偏光された前記初期偏光を持つ放射線を放射する、請求項１又は請求項７に記載の光学装置。
9. 第１放射線ガイド、第２放射線ガイド及び/又は第３放射線ガイドは、最大２００マイクロメートル、好ましくは最大１００マイクロメートル、さらに好ましくは５０マイクロメートルの直径を持つ光ファイバである、請求項１又は請求項５に記載の光学装置。
10. 前記処理手段はさらに、前記光学サブバンド内の複数の領域の相関を決定し、前記処理手段は続いて、後の光学測定のために最適な相関の領域を選択する、請求項１に記載の光学装置。
11. 前記処理手段はさらに、見出された相関に依存して前記光学サブバンドを変更する、請求項１又は請求項１０に記載の光学装置。
12. 前記相関に依存して第１及び第２放射線ガイドの間のそれぞれの端部の距離を少なくとも変更する駆動手段を有する、請求項１に記載の光学装置。
13. 第１放射線ガイド、第２放射線ガイド及び/又は第３放射線ガイドがカテーテルの一部を構成する、請求項１に記載の光学装置。
14. 関連する光学装置と協働するカテーテル。
    前記カテーテルは、第１放射線ガイド及び第２放射線ガイドを有する。
    第１放射線ガイドは、サンプルに放射線を放射するために放射源に光学的に接続している。第１及び第２放射線ガイドは、実質的に互いに揃えられたそれぞれの端部を備える。前記端部はさらに、前記サンプルから反射された放射線を取り込むように配置される。
    前記関連する光学装置は、放射源、検出器及び処理手段を有する。
    前記放射源は、初期偏光を持つ放射線を放射することができる。
    前記検出器は、第１及び第２放射線ガイドに光学的に接続している。前記検出器は、光学サブバンド内で、以下の指標を測定する。
    - 反射された放射線の第１偏光。
    - 反射された放射線の第２偏光。第２偏光は第１偏光とは異なる。
    - それぞれ第１及び第２放射線ガイドにおける反射された放射線の第１及び第２強度。
    前記処理手段は前記検出器に動作可能に接続している。前記処理手段は、前記光学サブバンド内で第１及び第２スペクトル関数を計算する。両方のスペクトル関数は、前記サンプル中の単散乱現象を実質的に示す。
    - 第１スペクトル関数は、反射された放射線の第１偏光と反射された放射線の第２偏光との間の偏光の差の測度である。
    - 第２スペクトル関数は、反射された放射線の第１及び第２強度の間の強度の差の測度である。
    前記処理手段はさらに、単散乱現象が前記サンプル内の実質的に同じ光学深さから生じているかを評価するために、第１及び第２スペクトル関数の間の相関の測度を計算する。
15. 第３放射線ガイドが、前記サンプルに前記初期偏光を持つ放射線を伝えるように配置され、第３放射線ガイドは、第１及び第２放射線ガイドの端部に実質的に揃えられた端部を持つ、請求項１４に記載のカテーテル。
16. 第３放射線ガイドは、前記サンプルから反射された放射線を取り込むように配置され、第３放射線ガイドは、前記検出器に光学的に接続している、請求項１５に記載のカテーテル。
17. 第１放射線ガイド、第２放射線ガイド及び/又は第３放射線ガイドが偏光維持特性を持つ、請求項１４から請求項１６のいずれか一項に記載のカテーテル。
18. サンプル中の光学深さを評価する光学装置を動作させる方法に従って、少なくとも一つのコンピュータとそれに結合されたデータ記憶手段とを有するコンピュータシステムが前記光学装置を制御することを可能にする、コンピュータプログラム製品。前記方法は以下のステップを有する。
    放射源によって初期偏光を持つ放射線を放射するステップ。
    前記サンプルに対して第１放射線ガイド及び第２放射線ガイドを配置するステップ。第１放射線ガイドは、前記サンプルに放射線を放射するために前記放射源に光学的に接続している。第１及び第２放射線ガイドは、実質的に互いに揃えられたそれぞれの端部を備える。前記端部はさらに、前記サンプルから反射された放射線を取り込むように配置される。
    第１及び第２放射線ガイドに光学的に接続している検出器を提供するステップ。前記検出器は、光学サブバンド内で、以下の指標を測定する。
    - 反射された放射線の第１偏光。
    - 反射された放射線の第２偏光。第２偏光は第１偏光とは異なる。
    - それぞれ第１及び第２放射線ガイドにおける反射された放射線の第１及び第２強度。
    前記検出器に動作可能に接続している処理手段を提供するステップ。前記処理手段は、前記光学サブバンド内で第１及び第２スペクトル関数を計算する。両方のスペクトル関数は、前記サンプル中の単散乱現象を実質的に示す。
    - 第１スペクトル関数は、反射された放射線の第１偏光と反射された放射線の第２偏光との間の偏光の差の測度である。
    - 第２スペクトル関数は、反射された放射線の第１及び第２強度の間の強度の差の測度である。
    前記処理手段によって、単散乱現象が前記サンプル内の実質的に同じ光学深さから生じているかを評価するために、第１及び第２スペクトル関数の間の相関の測度を計算するステップ。