JP2010279905A - 複合水素透過膜 - Google Patents
複合水素透過膜 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010279905A JP2010279905A JP2009135581A JP2009135581A JP2010279905A JP 2010279905 A JP2010279905 A JP 2010279905A JP 2009135581 A JP2009135581 A JP 2009135581A JP 2009135581 A JP2009135581 A JP 2009135581A JP 2010279905 A JP2010279905 A JP 2010279905A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- permeable membrane
- hydrogen
- hydrogen permeable
- metal alloy
- alloy substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 224
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 202
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 title claims abstract description 202
- 239000012528 membrane Substances 0.000 title claims abstract description 107
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title abstract 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 75
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 74
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 73
- 239000000075 oxide glass Substances 0.000 claims abstract description 61
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 32
- 239000005365 phosphate glass Substances 0.000 claims abstract description 32
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 32
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 20
- 229910020018 Nb Zr Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims abstract description 10
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 97
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical group [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 3
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 abstract description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 238000005289 physical deposition Methods 0.000 description 4
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 3
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- -1 that is Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 2
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005234 chemical deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 238000004549 pulsed laser deposition Methods 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000026 X-ray photoelectron spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000002419 bulk glass Substances 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
【解決手段】複合水素透過膜1は、水素透過性を有する金属合金基板2と、金属合金基板2を被覆する酸化物ガラス層3,5と、酸化物ガラス層3,5を被覆する触媒層4,6と、を備えている。金属合金基板2はNi−Nb−Zr合金からなり、酸化物ガラス層3,5はプロトン及び電子の混合導電性を有する酸化タングステン含有リン酸塩ガラスからなり、触媒層4,6はNi、Pd等の遷移金属からなる。複合水素透過膜1は、高い機械的強度を有し、長時間安定に動作する。
【選択図】図1
Description
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態である複合水素透過膜の構成を模式的に示す断面図である。複合水素透過膜1は、水素を透過する遷移金属元素を主成分とする金属合金からなる基板2(以下、金属合金基板とも呼ぶ。)と、この基板2の表面上に配設される第1の酸化物ガラス層3(以下、酸化物ガラス層とも呼ぶ。)と、第1の酸化物ガラス層3上に配設される第1の触媒層4と、基板2の裏面上に配設される第2の酸化物ガラス層5と、第2の酸化物ガラス層5上に配設される第2の触媒層6と、を備えている。つまり、金属合金基板2の表面側の第1の触媒層4は、第1の酸化物ガラス層3を介して配設され、同様に、金属合金基板2の裏面側の第2の触媒層6は、第2の酸化物ガラス層5を介して配設されている。
図2は、第2の実施形態に係る複合水素透過膜10の構成を模式的に示す断面図である。図2に示すように、複合水素透過膜10は、水素透過性を有する金属合金基板2と、金属合金基板2を被覆する酸化物ガラス層11と、酸化物ガラス層11を被覆する触媒層13と、から構成されている。図2に示す複合水素透過膜10は、図1に示す複合水素透過膜1と比べて、金属合金基板2の両側面2Aも酸化物ガラス層11と触媒層13とで被覆された構造を有している点で異なる。図示の場合、容器16が1次側容器17と2次側容器18とで流路を形成するように接続されており、1次側容器17と2次側容器18との間に複合水素透過膜10が挿入されている。ここで、金属合金基板2、酸化物ガラス層11及び触媒層13の各厚さは複合水素透過膜1と同様な厚さに設定すればよい。
図3は、第3の実施形態に係る複合水素透過膜10Aの構成を示す模式的な図であり、(A)は平面図、(B)は(A)のI−I’線に沿う断面図である。図3に示すように、複合水素透過膜10Aは、図2に示した複合水素透過膜10に対して、さらに、触媒層13の表面13Bの外周側に密着層14を配設した構造を有している。密着層14は、複合水素透過膜の使用温度に耐える金属を使用することができ、例えば銅を用いることができる。密着層14は、数μm〜10μmオーダーの厚さとすればよい。酸化物ガラス層11は10nmから100nmの範囲の厚みであり、触媒層13は10〜30nm程度の厚さであり、非常に薄い。数μm〜10μmオーダーの密着層14を設けることによって、密着層14は、複合水素透過膜10Aと図2に示す1次容器17又は2次側容器18との接触するときの緩衝層として作用する。密着層14は、図3に示すように、環状に形成されていれば、密着層14の中空部分を原料水素ガスが流入したり、精製水素ガスが流出したりする。複合水素透過膜10Aが1次容器17と2次側容器18と接触して配設される場合(図2参照)には、密着層14は、さらに、触媒層13の裏面側に設けてもよい。このような密着層14は、図1に示す複合水素透過膜1の第1及び第2の触媒層4,6上に設けてもよい。
図4は、第4の実施形態に係る複合水素透過膜15の構成を模式的に示す断面図である。図4に示す複合水素透過膜15は、図2に示す複合水素透過膜と比べて、金属合金基板2の両側面2A,2Aがテーパー形状を有している点で異なる。即ち、複合水素透過膜15では、金属合金基板2の側面2Aが金属合金基板2の上面2B及び下面2Cに対して傾斜している。他の構成は、図2に示す複合水素透過膜10と同様であるので説明は省略する。複合水素透過膜15によれば、金属合金基板2の側面2Aをテーパー形状としているので、この側面2Aへの酸化物ガラス層11及び触媒層13の被覆が容易となる。
図5は、第5の実施形態に係る複合水素透過膜15Aの構成を模式的に示す断面図である。図5に示す複合水素透過膜15Aは、図4に示す複合水素透過膜15において、触媒層13の表面13Bに密着層14を設けている点で、第4の実施形態とは異なる。また、触媒層13の裏面13Cに密着層を配設してもよいし、触媒層13の表面13B,裏面13Cの双方に密着層を配設してもよい。密着層14は、触媒層13の表裏面13B,13Cの少なくとも一方の外周に環状に設けられる点で、第3の実施形態と同様の機能を有する。
次に、本発明の第1乃至第5の実施形態に係る複合水素透過膜1,10,10A,15,15Aを用いた水素純化装置について説明する。
図6は、本発明の実施形態に係る複合水素透過膜1,10,10A,15,15Aを用いた水素純化装置20を模式的に示す図である。水素純化装置20は、図6に示すように、原料水素ガス21が供給される1次側容器22と、1次側容器22内に配設される複合水素透過膜1と、複合水素透過膜1を透過した精製水素ガス23が取り出される2次側容器24と、複合水素透過膜1を加熱するヒーター25と、1次側容器22及び2次側容器24に接続される配管部26と、配管部26内を真空引きする真空排気ポンプ27と、を有する。
一方、第2の配管34bと第1の配管34aとが接続される第2の切り替え弁36には、精製水素ガスを排出するための第3の配管34cが接続されており、第2の切り替え弁36を切り替えることで、第2の配管34bから精製水素ガス23を第3の配管34cを経由して排出する。第3の配管34cには水素ガス流量計33が取り付けられているので、精製水素ガス23の流量を測定することができる。
R=Σ(di/Ki) (1)
ここで、diは各層の厚さであり、Kiは各層の水素透過率である。
図7は、図1に示す複合水素透過膜1の製造工程を示す模式的な断面図である。
最初に、図7(A)に示すように、水素を透過する金属合金基板2を用意する。金属合金基板2は、圧延、切断、単ロールメルトスピン法等を用いて作製することができる。金属合金基板2は、必要な形状及び大きさに加工する。必要に応じて金属合金基板2の表面及び裏面を研磨等してもよい。
図1に示す5層構造の複合水素透過膜1を製作した。
最初に、アルゴン(Ar)雰囲気中の単ロールスピン法によって、Ni−Nb−Zrアモルファス合金帯を作製し、金属合金基板2を得た。Ni−Nb−Zr合金の組成は、(Nb0.6Ni0.4)45Zr50Co5であり、結晶化温度は約730Kであった。
なお、酸化タングステン含有リン酸塩ガラス層3,5はNi−Nb−Zr合金基板2に強固に密着し、その後の処理によって損傷を受けなかった。
図8に示すW4f5/2及びW4f7/2のXPSスペクトルから分かるように、1Paの酸素分圧下で成膜した酸化タングステン含有リン酸塩ガラス層3,5では、10Paの場合と比較して低エネルギー側に新たなピークが観察された。
実施例1における第1及び第2のNi層4,6を形成しない、つまり、第1及び第2のNi層4,6のない比較例1としての水素透過膜を作製した。
厚さが250μmのPd膜を、比較例2の水素透過膜とした。
図6に示す水素純化装置20を用いて複合水素透過膜1の水素透過特性を測定した。
最初に、真空排気ポンプ27によって配管部26、即ち、第1の配管34a及び第2の配管34bの内部を真空にし、次に、Heガス30を導入し、ヒーター25によって673Kまで昇温した。
次に、複合水素透過膜1へ原料水素ガス21を導入した。入力側と出力側との水素圧力差(P)は0.1〜0.3MPaまで変化させた。温度が673K,633K及び573Kのときに複合水素透過膜1を透過する精製水素ガス23の流量を、マスフローメータ等の水素ガス流量計33で測定した。なお、複合水素透過膜1において、原料水素ガス21が透過する面積は0.25cm2である。
これにより、測定温度範囲内では、実施例1の複合水素透過膜1の水素透過速度は、比較例2のPd膜と同等であることが判明した。
図10から明らかなように、実施例1の複合水素透過膜1による水素透過速度は水素圧力差のおおよそ0.7乗に比例することから、水素透過が、P0.5の拡散律則に近いことを示している(非特許文献16参照)。
2:金属合金基板
2A:金属合金基板の側面
2B:金属合金基板の上面
2C:金属合金基板の下面
3:第1の酸化物ガラス層(第1の酸化タングステン含有リン酸塩ガラス層)
4:第1の触媒層
5:第2の酸化物ガラス層(第2の酸化タングステン含有リン酸塩ガラス層)
6:第2の触媒層
11:酸化物ガラス層
12,12A,21:原料水素ガス
13:触媒層
13A:触媒層で被覆した複合水素透過膜の側面
13B:触媒層で被覆した複合水素透過膜の膜上面
13C:触媒層で被覆した複合水素透過膜の膜下面
14:密着層
16:容器
17,22:1次側容器
18,24:2次側容器
20:水素純化装置
23:精製水素ガス
25:ヒーター
26:配管部
27:真空排気ポンプ
28:ガスケット
30:不活性ガス(Heガス)
31:第1の切り替え弁
32:閉止弁
33:水素ガス流量計
34a:第1の配管
34b:第2の配管
34c:第3の配管
35:真空ポンプ用配管
36:第2の切り替え弁
Claims (10)
- 水素透過性を有する金属合金基板と、
上記金属合金基板を被覆する酸化物ガラス層と、
上記酸化物ガラス層を被覆する触媒層と、
を備える、複合水素透過膜。 - 水素透過性を有する金属合金基板と、
上記金属合金基板の表面上に配設される第1の酸化物ガラス層と、
上記第1の酸化物ガラス層上に配設される第1の触媒層と、
上記金属合金基板の裏面上に配設される第2の酸化物ガラス層と、
上記第2の酸化物ガラス層上に配設される第2の触媒層と、
を備える、複合水素透過膜。 - 前記金属合金基板は、遷移金属元素を主成分とする金属合金、例えばNi−Nb−Zr合金等からなる、請求項1又は2に記載の複合水素透過膜。
- 前記酸化物ガラス層はプロトン及び電子混合導電性を有している、請求項1又は2に記載の複合水素透過膜。
- 前記酸化物ガラス層は酸化タングステン含有リン酸塩ガラスからなる、請求項4に記載の複合水素透過膜。
- 前記触媒層は遷移金属元素からなる、請求項1又は2に記載の複合水素透過膜。
- 前記遷移金属元素は、ニッケル又はパラジウムである、請求項6に記載の複合水素透過膜。
- 前記触媒層上の外周部に密着層を配設した、請求項1に記載の複合水素透過膜。
- 前記第1触媒層上及び/又は前記第2触媒層上の外周部に密着層を配設した、請求項2に記載の複合水素透過膜。
- 前記金属合金基板の側面は該金属合金基板の上面及び下面に対して傾斜している、請求項1に記載の複合水素透過膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009135581A JP2010279905A (ja) | 2009-06-04 | 2009-06-04 | 複合水素透過膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009135581A JP2010279905A (ja) | 2009-06-04 | 2009-06-04 | 複合水素透過膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010279905A true JP2010279905A (ja) | 2010-12-16 |
Family
ID=43537154
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009135581A Pending JP2010279905A (ja) | 2009-06-04 | 2009-06-04 | 複合水素透過膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010279905A (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH067625A (ja) * | 1992-05-15 | 1994-01-18 | Bend Res Inc | 水素透過性複合金属膜を用いて水素を他のガスから分離する方法 |
JP2005097036A (ja) * | 2003-09-25 | 2005-04-14 | Kawazoe Frontier Technology Kk | 水素処理用多成分ガラス材料及び水素処理複合体 |
JP2009006260A (ja) * | 2007-06-28 | 2009-01-15 | Ngk Insulators Ltd | 水素分離体 |
-
2009
- 2009-06-04 JP JP2009135581A patent/JP2010279905A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH067625A (ja) * | 1992-05-15 | 1994-01-18 | Bend Res Inc | 水素透過性複合金属膜を用いて水素を他のガスから分離する方法 |
JP2005097036A (ja) * | 2003-09-25 | 2005-04-14 | Kawazoe Frontier Technology Kk | 水素処理用多成分ガラス材料及び水素処理複合体 |
JP2009006260A (ja) * | 2007-06-28 | 2009-01-15 | Ngk Insulators Ltd | 水素分離体 |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
JPN6009044139; YAMAURA, S. et al: 'Hydrogen Permeation Characteristics of Melt-Spun Ni-Nb-Zr Amorphous Alloy Membranes' Mater. Trans. Vol.44, No.9, 20030920, p.1885-1890, 日本金属学会 * |
JPN6009044141; TAWARAYAMA,H. et al: 'Low temperature thermochemical water splitting using tungsten phosphate glass/Pd laminated membrane' Journal of Power Sources Vol.161, Issue 1, 20061020, p.129-132, Elsevier * |
JPN6013043893; J. Membr. Sci., 2006, vol.286, p.170-173 * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4551429B2 (ja) | 燃料電池用セパレータの製造方法、燃料電池用セパレータおよび燃料電池 | |
WO2012157193A1 (ja) | 光電極およびその製造方法、光電気化学セルおよびそれを用いたエネルギーシステム、並びに水素生成方法 | |
CN112957912B (zh) | 一种多层选择性氢渗透复合膜及其制备和应用 | |
CN115029677B (zh) | 高透氢同位素和耐高温TaVNbZr/(TaVNbZrM)Nx复合梯度阻挡层制备工艺 | |
JP2015134699A (ja) | 酸化物膜およびプロトン伝導デバイス | |
JP6600300B2 (ja) | 固体電解質用多重層配置構成 | |
TWI449808B (zh) | 多孔基材的修飾方法及經修飾的多孔基材 | |
He et al. | Multilayered ceramic membrane with ion conducting thin layer induced by interface reaction for stable hydrogen production | |
Xing et al. | Chemical Compatibility Investigation of Thin‐Film Oxygen Transport Membranes on Metallic Substrates | |
JP2010279905A (ja) | 複合水素透過膜 | |
JP5022419B2 (ja) | 燃料電池用セパレータおよび燃料電池 | |
US20070163437A1 (en) | Hydrogen or helium permeation membrane and storage membrane and process for producing the same | |
JP6625698B2 (ja) | ガスをろ過するガスろ過構造およびその方法 | |
RU2674748C1 (ru) | Способ изготовления композитного водородного электрода для кислородно-водородных топливных элементов | |
JP2006314925A (ja) | 水素透過膜およびそれを備えた燃料電池 | |
JP3645088B2 (ja) | 水素透過膜及びその作製方法 | |
Hattori et al. | All electrochemical fabrication of a bilayer membrane composed of nanotubular photocatalyst and palladium toward high-purity hydrogen production | |
JP4304666B2 (ja) | プロトン導電性材料、プロトン導電性構造体、燃料電池およびプロトン導電性構造体の製造方法 | |
US10170643B2 (en) | Method for manufacturing barrier film with enhanced moisture resistance and barrier film manufactured by the same | |
JP5138876B2 (ja) | 酸化物プロトン導電性膜及びそれを含む水素透過構造体 | |
JP2009291742A (ja) | 水素透過部材及びこれを用いた水素生成反応器 | |
JP2007117810A (ja) | 水素透過膜、及びそれを用いた燃料電池 | |
CN212403966U (zh) | 一种氢气分离提纯膜 | |
Fuerst | Catalytic Coatings for Vanadium-Based Hydrogen Membranes | |
JP2005279484A (ja) | 水素透過膜およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120601 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20120601 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121108 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121211 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130209 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130903 |