JP2010278298A - 平面モータ装置及びステージ装置並びに露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】発磁体26とコイル体Cとの一方を有し所定の移動面を形成する固定部16と、発磁体とコイル体との他方を有し移動面に沿って移動可能な移動部とを備えた平面モータ装置であって、複数のコイル体で形成されるコイルユニットCUを複数有し、複数のコイルユニットは、当該コイルユニットと発磁体との相対移動に伴って生じるモーメントを互いに打ち消す配置で設けられる。
【選択図】図2
Description
これらの平面モータでは、固定部に対して移動部が移動する際に、移動平面と交差する方向(Z方向を含む成分)にも推力が生じるため、移動方向に沿ってコイル体が複数配列されている場合には、移動部にX軸周りやY軸周りのモーメントが生じてピッチング誤差となり、移動部の移動特性(移動速度、移動位置に対する制御性)が低下するという問題が生じる。
そこで、従来では、この問題を回避するために、複数のモータの一部の推力を調整することで上記の誤差を補正していたが、推力効率が低下したり、シーケンスの変更が必要になり、生産効率が悪化するという事態を招いてしまう。
本発明の平面モータ装置は、発磁体(26)とコイル体(C)との一方を有し所定の移動面(16a)を形成する固定部(16)と、発磁体とコイル体との他方を有し移動面に沿って移動可能な移動部(17)とを備えた平面モータ装置(15)であって、複数のコイル体で形成されるコイルユニット(CU)を複数有し、複数のコイルユニットは、当該コイルユニットと発磁体との相対移動に伴って生じるモーメントを互いに打ち消す配置で設けられるものである。
従って、本発明の平面モータ装置では、コイルユニットの配置によって、コイルユニットと発磁体との相対移動に伴って生じるモーメントを互いに打ち消すことができるため、誤差補正のためにモータの推力調整を別途行ったり、シーケンスの変更を行ったりする必要がなくなる。そのため、本発明では、生産効率が低下することを回避できる。
従って、本発明のステージ装置では、効率よく高精度にステージを駆動して、基板等の物体を移動させることが可能になる。
従って、本発明の露光装置では、マスクや基板等を高精度、且つ効率よく位置決めすることが可能となり、高精度な露光処理を効率よく実施することができる。
なお、本発明をわかりやすく説明するために、一実施例を示す図面の符号に対応付けて説明したが、本発明が実施例に限定されるものではないことは言うまでもない。
図1は、本発明の一実施形態による露光装置の概略構成を示す図である。図1に示す露光装置10は、半導体素子を製造するための露光装置であり、レチクル(マスク)Rとウエハ(基板)Wとを同期移動させつつ、レチクルRに形成されたパターンを逐次ウエハW上に転写するステップ・アンド・スキャン方式の縮小投影型の露光装置である。
図1に示す通り、露光装置10は、照明光学系ILSと、マスクとしてのレチクルRを保持するレチクルステージRSTと、投影光学系PLと、基板としてのウエハWをXY平面内でX方向及びY方向の2次元方向に移動させるステージ装置としてのウエハステージWSTと、これらを制御する主制御装置MCSとを含んで構成される。尚、図示を省略しているが、ウエハステージWSTには、露光装置10の性能を測定する各種測定機器が設けられたステージユニットを設けてもよい。
ステージユニットSUに設けられた駆動装置15を駆動することで、ステージユニットSUをXY面内の任意の方向に移動させることができる。
ステージユニットSUの位置情報(又は速度情報)はステージ制御系SCS及びこれを介して主制御装置MCSに送られる。ステージ制御系SCSでは主制御装置MCSからの指示に応じてステージユニットSUの位置情報(又は速度情報)に基づいて平面モータ装置15を介してステージユニットSUのXY面内の移動を制御する。
CP=MP×(n±(1/4)) …(1)
nは正の整数
CP=7MP/4(n=2)
すなわち、CP=7P/4となるピッチで配置されている。
コイル体Cに発生するローレンツ電磁力の大きさ及び方向は、コイル体Cに供給される電流の大きさ及び方向、並びに永久磁石26N,26Sとコイル体Cとの位置関係によって異なるが、本実施形態においては、X方向にステージユニットSUを移動させる場合には、X方向で隣り合う2つのコイル体Cについて、永久磁石26N,26Sとの位置関係に応じ、図5に示すように、互いに位相が90°だけ異なる同一振幅の正弦波電流EA、EBを供給することにより、各電流で生じるローレンツ電磁力FA、FBの合力GのX成分を永久磁石26N,26SのX位置によらず一定に制御している。
このように、本実施形態の露光装置では、ステージユニットSUのXY位置及び姿勢(Z軸回りの回転)θに応じてコイル体Cに供給する電流を制御することによって、ステージユニットSUひいてはウエハWの位置制御を行っている。
なお、コイル体Cへの通電と、永久磁石26N,26Sの位置に応じたステージユニットSUの移動との関係は、国際公開第00/46911号等に詳述されているため、ここではその説明を省略する。
ここでは、コイルユニットCUを+X方向に駆動する場合について説明する。また、コイル体Cについては、C1〜C4の符合を付して区別する。
このように、コイルユニットCU1〜CU4(移動部17)が永久磁石26N,26S(固定部16)に対していずれの位置にあった場合でも、+X方向の推力のみがステージユニットSUに付与される。
この図において、図1乃至図6に示す第1実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
上記第1実施形態では、隣接配置された4つのコイル体Cにより各コイルユニットCU1〜CU4が形成される構成を例示したが、第2実施形態では離間して配置されたコイル体Cにより各コイルユニットCU1〜CU4が形成される例について説明する。
そして、コイルユニットCU1〜CU4は、上述した式(1)を満足するように、CP=3P/4(n=1)のピッチで配置されている。
また、上記実施形態では、発磁体である永久磁石26が固定部16に設けられ、コイル体Cが移動部17に設けられる、いわゆるムービングコイル型(MC型)の平面モータ装置18の構成を例示したが、発磁体である永久磁石26が移動部17に設けられ、コイル体Cが固定部16に設けられる、いわゆるムービングマグネット型(MM型)の平面モータ装置にも適用可能である。
また、上記実施形態ではウエハステージWSTに本発明を適用した場合について説明したが、レチクルステージRSTにも適用することができ、更にはレチクルステージRSTとウエハステージWSTの両ステージに適用することも可能である。
さらに、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第1パターンと基板とをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第1パターンの縮小像を基板上に転写した後、第2パターンと基板とをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第2パターンの縮小像を第1パターンと部分的に重ねて基板上に一括露光してもよい(スティッチ方式の一括露光装置)。また、スティッチ方式の露光装置としては、基板上で少なくとも2つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Pを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン(又は位相パターン・減光パターン)を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第6,778,257号公報に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク(可変成形マスクとも呼ばれ、例えば非発光型画像表示素子(空間光変調器)の一種であるDMD(Digital Micro-mirror Device)などを含む)を用いてもよい。
また、例えば国際公開第2001/035168号パンフレットに開示されているように、干渉縞を基板上に形成することによって、基板上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置(リソグラフィシステム)にも本発明を適用することができる。
また、例えば特表2004−519850号公報(対応米国特許第6,611,316号)に開示されているように、2つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、1回の走査露光によって基板上の1つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置などにも本発明を適用することができる。また、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナーなどにも本発明を適用することができる。
そして、カラーフィルタ形成工程S2の後に、セル組み立て工程S3が実行される。このセル組み立て工程S3では、パターン形成工程S1にて得られた所定パターンを有するウエハW、及びカラーフィルタ形成工程S2にて得られたカラーフィルタ等を用いて液晶パネル(液晶セル)を組み立てる。
Claims (7)
- 発磁体とコイル体との一方を有し所定の移動面を形成する固定部と、発磁体とコイル体との他方を有し前記移動面に沿って移動可能な移動部とを備えた平面モータ装置であって、
複数の前記コイル体で形成されるコイルユニットを複数有し、
前記複数のコイルユニットは、当該コイルユニットと前記発磁体との相対移動に伴って生じるモーメントを互いに打ち消す配置で設けられる平面モータ装置。 - 前記発磁体は、隣り合う極性を異ならせて互いに略直行する方向に所定ピッチで格子状に配列され、
前記コイルユニットは、前記略直行する方向のそれぞれで、前記モーメント特性及び前記所定ピッチに対応するピッチで配列される請求項1記載の平面モータ装置。 - 前記発磁体が配列される所定ピッチをMP、前記コイルユニットが配列されるピッチをCPとすると、
CP=MP×(n±(1/4))(nは正の整数)
を満足する請求項2記載の平面モータ装置。 - 各コイルユニットの一つの前記コイル体が集まったコイル群が複数形成され、
前記複数のコイル群は、互いに離間して前記移動部に配置される請求項1から3のいずれか一項に記載の平面モータ装置。 - 前記コイル体には
、多相の励磁電流が通電される請求項1から4のいずれか一項に記載の平面モータ装置。 - 請求項1から5のいずれか一項に記載の平面モータ装置を備えるステージ装置。
- 請求項6記載のステージ装置を備える露光装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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