JP2010278069A - Arranging method of connection terminal - Google Patents

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義博 井原
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    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an arranging method of a connection terminal for arranging the connection terminals in all pads installed on a substrate. <P>SOLUTION: An electroless plating film 32 covering surfaces of first connection parts 36 installed in a plurality of connection terminal bodies 31 are formed by an electroless plating method. An electrolytic plating film 33 covering surfaces of second connection parts 37 arranged in the plurality of the connection terminal bodies 31 is formed by an electrolytic plating method. Thus, the plurality of the connection terminals 13 having the connection terminal bodies 31, the electroless plating films 32 and the electrolytic plating films 33 are formed. An alignment jig 41 provided with an alignment jig body 43 having a plurality of openings 46 where the connection terminals 13 are disposed and a magnet 44 installed on the face 43B of the alignment jig body 43 positioned at the opposite side of a face 43A where the openings 46 are formed is prepared. The connection terminals 13 are thrown into the plurality of the openings 46. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、接続端子の配設方法に係り、特に基板に設けられた複数のパッドに接続端子を配設する接続端子の配設方法に関する。   The present invention relates to a method for arranging connection terminals, and more particularly to a method for arranging connection terminals in which connection terminals are arranged on a plurality of pads provided on a substrate.

本願の発明者検討中の半導体装置として、電子部品と、外部接続用パッド及び電子部品が実装されるパッドを有する基板と、外部接続用パッドに配設された接続端子とを備えた半導体装置がある(図1参照)。   As a semiconductor device under examination by the inventors of the present application, a semiconductor device including an electronic component, a substrate having an external connection pad and a pad on which the electronic component is mounted, and a connection terminal disposed on the external connection pad. Yes (see FIG. 1).

図1は、本願の発明者検討中の半導体装置の断面図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view of a semiconductor device under investigation by the inventors of the present application.

図1を参照するに、従来の半導体装置200は、基板201と、電子部品202と、接続端子203とを有する。基板201は、基板本体205と、パッド207と、外部接続用パッド208と、はんだ209とを有する。   Referring to FIG. 1, a conventional semiconductor device 200 includes a substrate 201, an electronic component 202, and connection terminals 203. The substrate 201 includes a substrate body 205, pads 207, external connection pads 208, and solder 209.

基板本体205は、積層された複数の絶縁層(図示せず)と、積層された複数の絶縁層に形成された図示していない配線パターン(ビア及び配線を含む)とを有する。   The substrate body 205 has a plurality of stacked insulating layers (not shown) and a wiring pattern (including vias and wiring) (not shown) formed in the stacked plurality of insulating layers.

パッド207は、基板本体205の上面205Aに設けられている。パッド207は、電子部品202を実装するためのパッドである。   The pad 207 is provided on the upper surface 205A of the substrate body 205. The pad 207 is a pad for mounting the electronic component 202.

外部接続用パッド208は、基板本体205の下面205Bに設けられている。外部接続用パッド208は、基板本体205に形成された配線パターン(図示せず)を介して、パッド207と電気的に接続されている。外部接続用パッド208の接続面208Aには、はんだ209が設けられている。外部接続用パッド208は、はんだ209を介して、接続端子203と電気的に接続されている。   The external connection pad 208 is provided on the lower surface 205 </ b> B of the substrate body 205. The external connection pad 208 is electrically connected to the pad 207 via a wiring pattern (not shown) formed on the substrate body 205. Solder 209 is provided on the connection surface 208 </ b> A of the external connection pad 208. The external connection pad 208 is electrically connected to the connection terminal 203 via the solder 209.

電子部品202は、基板201に設けられたパッド207に実装されている。これにより、電子部品202は、基板201と電気的に接続されている。   The electronic component 202 is mounted on a pad 207 provided on the substrate 201. Thereby, the electronic component 202 is electrically connected to the substrate 201.

接続端子203は、ばね性を有した端子である。接続端子203の一方の端部203Aは、はんだ209を介して、外部接続用パッド208と接続されている。接続端子203の他方の端部203Bは、実装基板204に設けられたパッド215に対して略一定の圧力で押圧されている。これにより、基板201は、接続端子203を介して、実装基板204と電気的に接続されている。   The connection terminal 203 is a terminal having a spring property. One end 203 </ b> A of the connection terminal 203 is connected to the external connection pad 208 via the solder 209. The other end 203 </ b> B of the connection terminal 203 is pressed against the pad 215 provided on the mounting substrate 204 with a substantially constant pressure. Thereby, the substrate 201 is electrically connected to the mounting substrate 204 via the connection terminals 203.

このように、ばね性を有した接続端子203を用いることにより、半導体装置200と実装基板204との電気的な着脱を容易に行うことができる。   In this manner, by using the connection terminal 203 having spring properties, the semiconductor device 200 and the mounting substrate 204 can be easily attached and detached.

図2〜図5は、図1に示す接続端子の配設工程を示す図である。図2〜図5において、図1に示す半導体装置200と同一構成部分には同一符号を付す。   2-5 is a figure which shows the arrangement | positioning process of the connecting terminal shown in FIG. 2 to 5, the same components as those of the semiconductor device 200 shown in FIG.

図2〜図5を参照して、本願の発明者検討中の接続端子203の配設方法について説明する。始めに、図2に示す工程では、振動装置224により、接続端子203が収容される開口部222を複数有した端子整列用部材221を振動させた状態で、複数の開口部222の上方から複数の接続端子203を落下させる。これにより、複数の開口部222に所定の向き(具体的には、図2に示す開口部222に収容された接続端子203の向き)となるように接続端子203を整列させ、その後、振動装置224を停止させる。   With reference to FIG. 2 to FIG. 5, a method for arranging the connection terminals 203 under investigation by the inventors of the present application will be described. First, in the step shown in FIG. 2, a plurality of openings 222 are arranged from above the plurality of openings 222 with the vibration device 224 vibrating the terminal alignment member 221 having a plurality of openings 222 in which the connection terminals 203 are received. The connection terminal 203 is dropped. As a result, the connection terminals 203 are aligned in a predetermined direction (specifically, the direction of the connection terminals 203 accommodated in the openings 222 shown in FIG. 2) in the plurality of openings 222, and then the vibration device 224 is stopped.

次いで、図3に示す工程では、周知の手法により、基板本体205、パッド207、複数の外部接続用パッド208、及びはんだ209を備えた基板201を形成する。   Next, in the process shown in FIG. 3, the substrate 201 including the substrate body 205, the pads 207, the plurality of external connection pads 208, and the solder 209 is formed by a known method.

次いで、図4に示す工程では、図3に示す基板201に設けられたはんだ209を溶融させた状態で、はんだ209と端子整列用部材221に整列された接続端子203の端部203Aとを接触させることで、複数の外部接続用パッド208に接続端子203を配設させる。   Next, in the step shown in FIG. 4, the solder 209 provided on the substrate 201 shown in FIG. 3 is melted, and the solder 209 and the end 203 </ b> A of the connection terminal 203 aligned with the terminal alignment member 221 are brought into contact with each other. As a result, the connection terminals 203 are disposed on the plurality of external connection pads 208.

次いで、図5に示す工程では、はんだ209を硬化させた後、基板201を端子整列用部材221の上方に引き上げる。これにより、複数の接続端子203を備えた基板201が形成される(例えば、特許文献1参照。)。   Next, in the step shown in FIG. 5, after the solder 209 is cured, the substrate 201 is pulled up above the terminal alignment member 221. As a result, a substrate 201 having a plurality of connection terminals 203 is formed (see, for example, Patent Document 1).

なお、特許文献1には、上記構成とされた半導体装置200は、開示されていない。特許文献1は、ばね性を有した端子の例として挙げた先行技術文献である。   Note that Patent Document 1 does not disclose the semiconductor device 200 configured as described above. Patent Document 1 is a prior art document cited as an example of a terminal having springiness.

米国特許第7264486号明細書US Pat. No. 7,264,486

図6は、本願の発明者検討中の接続端子の配設方法の問題点を説明するための図である。図6において、図4に示す構造体と同一構成部分には同一符号を付す。   FIG. 6 is a diagram for explaining problems of the connection terminal arrangement method under investigation by the inventors of the present application. In FIG. 6, the same components as those in the structure shown in FIG.

しかしながら、本願の発明者検討中の接続端子203の配設方法では、端子整列用部材221を振動させた状態で、複数の開口部222の上方から接続端子203を落下させて、複数の開口部222に接続端子203を整列させていた。   However, in the arrangement method of the connection terminal 203 under examination by the inventors of the present application, the connection terminal 203 is dropped from above the plurality of openings 222 in a state where the terminal alignment member 221 is vibrated, and the plurality of openings The connection terminal 203 is aligned with 222.

そのため、開口部222に収容された接続端子203の向きが所定の向き(図2に示す開口部222に収容された接続端子203の向き)とは異なってしまう場合があった。   Therefore, the orientation of the connection terminal 203 accommodated in the opening 222 may be different from a predetermined orientation (the orientation of the connection terminal 203 accommodated in the opening 222 shown in FIG. 2).

この場合、図6に示すように、所定の向きとは異なる向きで開口部222に収容された接続端子203の端部203Aと外部接続用パッド208に形成されたはんだ209とを接続することができないという問題(言い換えれば、はんだ209が形成された全ての外部接続用パッド208に対して、接続端子203を配設することができないという問題)があった。   In this case, as shown in FIG. 6, it is possible to connect the end portion 203A of the connection terminal 203 accommodated in the opening 222 and the solder 209 formed on the external connection pad 208 in a direction different from the predetermined direction. There is a problem that the connection terminals 203 cannot be provided for all the external connection pads 208 on which the solder 209 is formed.

なお、上記接続端子203の代わりにPGA(Pin Grid Array)に適用されるピン端子(ばね性を有していない端子)を用いた場合についても、同様な問題が発生する。   A similar problem occurs when a pin terminal (terminal having no spring property) applied to a PGA (Pin Grid Array) is used instead of the connection terminal 203.

そこで本発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであり、基板に設けられた全てのパッドに対して、接続端子を配設することのできる接続端子の配設方法を提供することを目的とする。   Accordingly, the present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a connection terminal disposing method capable of disposing connection terminals with respect to all pads provided on a substrate. And

本発明の一観点によれば、接続面を備えた複数のパッドを有する基板を形成する基板形成工程と、前記パッドと電気的に接続される第1の接続部と、他の基板と電気的に接続される第2の接続部とを備えた接続端子本体を複数形成する接続端子本体形成工程と、無電解めっき法により、複数の前記接続端子本体に設けられた前記第1の接続部を覆う無電解めっき膜を形成すると共に、電解めっき法により、複数の前記接続端子本体に設けられた前記第2の接続部を覆う電解めっき膜を形成することで、前記接続端子本体、前記無電解めっき膜、及び前記電解めっき膜を備えた接続端子を複数形成する接続端子形成工程と、1つの前記接続端子を収容する開口部を複数有した整列治具本体と、前記開口部が形成された前記整列治具本体の第1の面とは反対側に位置する前記整列治具本体の第2の面に、複数の前記開口部と対向するように配置された磁石と、を備えた整列治具を準備する整列治具準備工程と、複数の前記開口部に前記接続端子を振り込む接続端子振込工程と、前記接続端子振込工程後に、前記無電解めっき膜が形成された前記第1の接続部と前記基板のパッドとを導電性ペーストを介して接触させ、前記導電性ペーストを溶融させることで、複数の前記パッドに前記接続端子を配設する接続端子配設工程と、前記接続端子配設工程後に、前記導電性ペーストを硬化させ、複数の前記接続端子が配設された前記基板を、前記整列治具から取り外す基板取外工程と、を含むことを特徴とする接続端子の配設方法が提供される。   According to one aspect of the present invention, a substrate forming step of forming a substrate having a plurality of pads having connection surfaces, a first connection portion electrically connected to the pads, and another substrate electrically A plurality of connection terminal bodies formed with a plurality of connection terminal bodies provided with a second connection section connected to the first connection sections provided on the plurality of connection terminal bodies by an electroless plating method. An electroless plating film is formed, and an electroplating film that covers the second connection portions provided on the plurality of connection terminal bodies is formed by an electroplating method. A connection terminal forming step of forming a plurality of connection terminals provided with a plating film and the electrolytic plating film, an alignment jig main body having a plurality of openings for accommodating the one connection terminal, and the openings are formed. The first of the alignment jig body An alignment jig preparing step of preparing an alignment jig comprising: a magnet disposed on the second surface of the alignment jig main body located on the opposite side of the magnet so as to face the plurality of openings; A connection terminal transfer step of transferring the connection terminals into the plurality of openings, and a conductive paste connecting the first connection portion on which the electroless plating film is formed and the pad of the substrate after the connection terminal transfer step A contact terminal disposing step of disposing the connection terminals on the plurality of pads; and after the connection terminal disposing step, the conductive paste is cured by melting the conductive paste. And a substrate removal step of removing the substrate on which the plurality of connection terminals are disposed from the alignment jig.

本発明によれば、電解めっき法により、複数の接続端子本体に設けられた第2の接続部を覆う電解めっき膜を形成することにより、電解めっき膜は磁化するため、整列治具本体の第2の面に配置された磁石の磁力により、開口部に電解めっき膜が形成された第2の接続部を吸引することが可能となる。また、無電解めっき法により、複数の接続端子本体に設けられた第1の接続部を覆う無電解めっき膜を形成することにより、無電解めっき膜は磁化しないため、整列治具本体の第2の面に配置された磁石の磁力により、開口部に無電解めっき膜が形成された第1の接続部が吸引されることがない。   According to the present invention, the electrolytic plating film is magnetized by forming the electrolytic plating film covering the second connection portions provided on the plurality of connection terminal bodies by the electrolytic plating method. The magnetic force of the magnet arranged on the surface of 2 makes it possible to attract the second connection part in which the electrolytic plating film is formed in the opening. In addition, since the electroless plating film is not magnetized by forming the electroless plating film covering the first connection portions provided on the plurality of connection terminal bodies by the electroless plating method, the second of the alignment jig body Due to the magnetic force of the magnet disposed on the surface, the first connection part in which the electroless plating film is formed in the opening is not attracted.

これにより、上記説明した電解めっき膜及び無電解めっき膜と、接続端子本体とを備えた接続端子を複数形成し、次いで、1つの接続端子を収容する開口部を複数有した整列治具本体と、開口部が形成された整列治具本体の第1の面とは反対側に位置する整列治具本体の第2の面に、複数の開口部と対向するように配置された磁石と、を備えた整列治具を準備し、次いで、複数の開口部に接続端子を振り込むことにより、全ての開口部に、所定の向きとなるようにそれぞれ1つの接続端子を振り込むことが可能となるため、基板に設けられた全てのパッドに対して、接続端子を配設することができる。   Thereby, a plurality of connection terminals including the above-described electrolytic plating film and electroless plating film and a connection terminal body are formed, and then an alignment jig body having a plurality of openings for accommodating one connection terminal; A magnet disposed on the second surface of the alignment jig body located opposite to the first surface of the alignment jig body in which the openings are formed, so as to face the plurality of openings. By preparing the alignment jig provided, and then swinging the connection terminals into a plurality of openings, it becomes possible to swing one connection terminal into each of the openings so as to have a predetermined orientation, Connection terminals can be provided for all pads provided on the substrate.

また、前記接続端子振込工程において、全ての前記開口部に対して前記接続端子が所定の向きで振り込まれない場合、前記接続端子振込工程と前記接続端子配設工程との間に、前記整列治具を上下逆さまにして、前記開口部に対して前記所定の向きで振り込まれなかった前記接続端子を除去する接続端子除去工程と、前記接続端子振込工程と、を繰り返し行ってもよい。   Further, in the connection terminal transfer step, when the connection terminals are not transferred in a predetermined direction with respect to all the openings, the alignment repair is performed between the connection terminal transfer step and the connection terminal arrangement step. The connecting terminal removing step of removing the connecting terminal that has not been transferred in the predetermined direction with respect to the opening and the connecting terminal transferring step may be repeated by turning the tool upside down.

このように、整列治具を上下逆さまにして、開口部に対して所定の向きで振り込まれなかった接続端子を除去する接続端子除去工程と、接続端子振込工程とを繰り返し行うことにより、全ての開口部に所定の向きとなるように接続端子を配置することが可能となるため、基板に設けられた全てのパッドに対して、確実に接続端子を配設することができる。   In this way, the alignment jig is turned upside down, and the connection terminal removal step for removing the connection terminal that has not been transferred in the predetermined direction with respect to the opening and the connection terminal transfer step are repeatedly performed, Since the connection terminals can be arranged in the opening so as to have a predetermined orientation, the connection terminals can be reliably arranged for all the pads provided on the substrate.

また、前記無電解めっき膜は、リンを含んでもよい。これにより、無電解めっき膜が磁化することを防止できる。   The electroless plating film may contain phosphorus. This can prevent the electroless plating film from being magnetized.

さらに、前記無電解めっき膜の前記リンの濃度を12wt%以上にしてもよい。これにより、無電解めっき膜が磁化することを確実に防止できる。   Furthermore, the phosphorus concentration of the electroless plating film may be 12 wt% or more. Thereby, it can prevent reliably that an electroless plating film is magnetized.

本発明によれば、基板に設けられた全てのパッドに対して、接続端子を配設することができる。   According to the present invention, connection terminals can be provided for all pads provided on a substrate.

本願の発明者検討中の半導体装置の断面図である。It is sectional drawing of the semiconductor device under inventor examination of this application. 図1に示す接続端子の配設工程を示す図(その1)である。FIG. 3 is a diagram (No. 1) illustrating an arrangement process of the connection terminal illustrated in FIG. 1. 図1に示す接続端子の配設工程を示す図(その2)である。FIG. 8 is a diagram (part 2) illustrating an arrangement process of the connection terminal illustrated in FIG. 1. 図1に示す接続端子の配設工程を示す図(その3)である。FIG. 4 is a diagram (part 3) illustrating an arrangement process of the connection terminal illustrated in FIG. 1. 図1に示す接続端子の配設工程を示す図(その4)である。FIG. 8 is a diagram (No. 4) illustrating the disposing step of the connection terminal illustrated in FIG. 1. 図1に示す接続端子の配設方法の問題点を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the problem of the arrangement | positioning method of the connecting terminal shown in FIG. 本発明の実施の形態に係る接続端子の配設方法により配設された接続端子を備えた半導体装置の断面図である。It is sectional drawing of the semiconductor device provided with the connection terminal arrange | positioned by the arrangement | positioning method of the connection terminal which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る接続端子の配設工程を示す図(その1)である。It is FIG. (1) which shows the arrangement | positioning process of the connecting terminal which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る接続端子の配設工程を示す図(その2)である。It is FIG. (2) which shows the arrangement | positioning process of the connecting terminal which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る接続端子の配設工程を示す図(その3)である。It is FIG. (3) which shows the arrangement | positioning process of the connecting terminal which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る接続端子の配設工程を示す図(その4)である。It is FIG. (4) which shows the arrangement | positioning process of the connecting terminal which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る接続端子の配設工程を示す図(その5)である。It is FIG. (5) which shows the arrangement | positioning process of the connecting terminal which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る接続端子の配設工程を示す図(その6)である。It is FIG. (6) which shows the arrangement | positioning process of the connecting terminal which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る接続端子の配設工程を示す図(その7)である。It is FIG. (The 7) which shows the arrangement | positioning process of the connecting terminal which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態の変形例に係る接続端子の配設工程を示す図(その1)である。It is a figure (the 1) which shows the arrangement | positioning process of the connecting terminal which concerns on the modification of embodiment of this invention. 本発明の実施の形態の変形例に係る接続端子の配設工程を示す図(その2)である。It is FIG. (2) which shows the arrangement | positioning process of the connecting terminal which concerns on the modification of embodiment of this invention. 本発明の実施の形態の変形例に係る接続端子の配設工程を示す図(その3)である。It is a figure (the 3) which shows the arrangement | positioning process of the connecting terminal which concerns on the modification of embodiment of this invention. 他の接続端子が整列された他の整列治具を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other alignment jig | tool with which the other connection terminal was aligned.

以下、図面に基づいて本発明の実施の形態について説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

(実施の形態)
図7は、本発明の実施の形態に係る接続端子の配設方法により配設された接続端子を備えた半導体装置の断面図である。
(Embodiment)
FIG. 7 is a cross-sectional view of a semiconductor device provided with connection terminals arranged by the connection terminal arrangement method according to the embodiment of the present invention.

ここで、本実施の形態の接続端子13の配設方法を説明する前に、本実施の形態の接続端子13の配設方法により配設された接続端子13を備えた半導体装置10の構成について説明する。   Here, before explaining the arrangement method of the connection terminals 13 of the present embodiment, the configuration of the semiconductor device 10 including the connection terminals 13 arranged by the arrangement method of the connection terminals 13 of the present embodiment. explain.

図7を参照するに、半導体装置10は、基板11と、電子部品12と、接続端子13とを有する。   Referring to FIG. 7, the semiconductor device 10 includes a substrate 11, an electronic component 12, and a connection terminal 13.

基板11は、基板本体21と、複数の電子部品実装用パッド23と、ソルダーレジスト層24,26と、外部接続用パッドである複数のパッド25と、導電性ペースト28とを有する。   The substrate 11 includes a substrate body 21, a plurality of electronic component mounting pads 23, solder resist layers 24 and 26, a plurality of pads 25 that are external connection pads, and a conductive paste 28.

基板本体21としては、例えば、複数の積層された絶縁層(図示せず)と、複数の積層された絶縁層に形成された図示していない配線パターン(ビア、配線、パッド等を含む)とを有した多層配線構造体を用いることができる。基板本体21は、電子部品実装用パッド23とパッド25とを電気的に接続する配線パターン(図示せず)を有する。   As the substrate body 21, for example, a plurality of laminated insulating layers (not shown), and a wiring pattern (not shown) formed on the plurality of laminated insulating layers (including vias, wirings, pads, etc.) A multilayer wiring structure having The board body 21 has a wiring pattern (not shown) for electrically connecting the electronic component mounting pads 23 and the pads 25.

電子部品実装用パッド23は、基板本体21の面21Aに設けられている。電子部品実装用パッド23は、電子部品12が実装されるパッドである。電子部品実装用パッド23は、電子部品12と電気的に接続されたバンプ16と接続される接続面23Aを有する。電子部品実装用パッド23の材料としては、例えば、Cuを用いることができる。   The electronic component mounting pad 23 is provided on the surface 21 </ b> A of the substrate body 21. The electronic component mounting pad 23 is a pad on which the electronic component 12 is mounted. The electronic component mounting pad 23 has a connection surface 23 </ b> A connected to the bump 16 electrically connected to the electronic component 12. As a material of the electronic component mounting pad 23, for example, Cu can be used.

ソルダーレジスト層24は、基板本体21の面21Aを覆うように設けられている。ソルダーレジスト層24は、電子部品実装用パッド23の接続面23Aを露出する開口部24Aを有する。   The solder resist layer 24 is provided so as to cover the surface 21 </ b> A of the substrate body 21. The solder resist layer 24 has an opening 24 </ b> A that exposes the connection surface 23 </ b> A of the electronic component mounting pad 23.

パッド25は、基板本体21の面21B(基板本体21の面21Aの反対側に位置する基板本体21の面)に設けられている。パッド25は、導電性ペースト28が形成される接続面25Aを有する。パッド25は、基板本体21に形成された配線パターン(図示せず)及び電子部品実装用パッド23を介して、電子部品12と電気的に接続されている。パッド25の材料としては、例えば、Cuを用いることができる。   The pad 25 is provided on the surface 21B of the substrate body 21 (the surface of the substrate body 21 located on the opposite side of the surface 21A of the substrate body 21). The pad 25 has a connection surface 25A on which the conductive paste 28 is formed. The pad 25 is electrically connected to the electronic component 12 via a wiring pattern (not shown) formed on the substrate body 21 and the electronic component mounting pad 23. As a material of the pad 25, for example, Cu can be used.

ソルダーレジスト層26は、基板本体21の面21Bを覆うように設けられている。ソルダーレジスト層26は、パッド25の接続面25Aを露出する開口部26Aを有する。   The solder resist layer 26 is provided so as to cover the surface 21 </ b> B of the substrate body 21. The solder resist layer 26 has an opening 26 </ b> A that exposes the connection surface 25 </ b> A of the pad 25.

導電性ペースト28は、開口部26Aから露出されたパッド25の接続面25Aに設けられている。導電性ペースト28は、接続端子13と接続されている。これにより、導電性ペースト28は、パッド25と接続端子13とを電気的に接続している。導電性ペースト28としては、例えば、はんだや金属粉を含有したエポキシ樹脂等を用いることができる。   The conductive paste 28 is provided on the connection surface 25A of the pad 25 exposed from the opening 26A. The conductive paste 28 is connected to the connection terminal 13. Thus, the conductive paste 28 electrically connects the pad 25 and the connection terminal 13. As the conductive paste 28, for example, an epoxy resin containing solder or metal powder can be used.

電子部品12は、電子部品実装用パッド23に対して、フリップチップ実装されている。言い換えれば、電子部品12は、バンプ16を介して、電子部品実装用パッド23と電気的に接続されている。電子部品12としては、例えば、半導体チップを用いることができる。この場合、電子部品12としては、例えば、CPU用半導体チップを用いることができる。   The electronic component 12 is flip-chip mounted on the electronic component mounting pad 23. In other words, the electronic component 12 is electrically connected to the electronic component mounting pad 23 via the bump 16. For example, a semiconductor chip can be used as the electronic component 12. In this case, as the electronic component 12, for example, a semiconductor chip for CPU can be used.

接続端子13は、ばね性を有した端子であり、接続端子本体31と、無電解めっき膜32と、電解めっき膜33とを有する。   The connection terminal 13 is a terminal having a spring property, and includes a connection terminal main body 31, an electroless plating film 32, and an electrolytic plating film 33.

接続端子本体31は、支持部35と、第1の接続部36と、第2の接続部37とを有する。支持部35は、第1及び第2の接続部36,37を支持するための部分である。支持部35は、板状とされており、ばね性を有する。   The connection terminal main body 31 includes a support portion 35, a first connection portion 36, and a second connection portion 37. The support part 35 is a part for supporting the first and second connection parts 36 and 37. The support part 35 is plate-shaped and has a spring property.

第1の接続部36は、支持部35の一方の端部に設けられている。第1の接続部36及び支持部35は、一体的に構成されている。第1の接続部36は、導電性ペースト28及び無電解めっき膜32を介して、基板11に設けられたパッド25と電気的に接続される部分である。   The first connection part 36 is provided at one end of the support part 35. The first connection portion 36 and the support portion 35 are integrally configured. The first connection portion 36 is a portion that is electrically connected to the pad 25 provided on the substrate 11 via the conductive paste 28 and the electroless plating film 32.

第2の接続部37は、支持部35の他方の端部に設けられている。第2の接続部37及び支持部35は、一体的に構成されている。第2の接続部37は、他の基板である実装基板15(例えば、マザーボード)に設けられたパッド17に対して押圧される(実際には、実装基板15に設けられた治具によって押圧される)ことで、電解めっき膜33を介して、パッド17と接触する部分である。   The second connection part 37 is provided at the other end of the support part 35. The 2nd connection part 37 and the support part 35 are comprised integrally. The second connecting portion 37 is pressed against the pad 17 provided on the mounting board 15 (for example, a mother board) which is another board (in practice, pressed by a jig provided on the mounting board 15. Thus, it is a portion that contacts the pad 17 through the electrolytic plating film 33.

上記構成とされた接続端子本体31の材料としては、例えば、銅系合金(例えば、リン青銅やベリリウム銅等)を用いることができる。   As a material of the connection terminal body 31 having the above-described configuration, for example, a copper-based alloy (for example, phosphor bronze, beryllium copper, or the like) can be used.

無電解めっき膜32は、第1の接続部36の表面を覆うように形成されている。無電解めっき膜32は、無電解めっき法により形成された金属膜である。無電解めっき膜32は、リンを含んだ金属膜であり、磁化しにくい膜である。無電解めっき膜32に含まれるリンの濃度は、例えば、12wt%以上にするとよい。   The electroless plating film 32 is formed so as to cover the surface of the first connection portion 36. The electroless plating film 32 is a metal film formed by an electroless plating method. The electroless plating film 32 is a metal film containing phosphorus and is a film that is difficult to magnetize. The concentration of phosphorus contained in the electroless plating film 32 is preferably 12 wt% or more, for example.

このように、無電解めっき膜32に含まれるリンの濃度を12wt%以上にすることにより、無電解めっき膜32が磁化することを確実に防止することができる。   Thus, by setting the concentration of phosphorus contained in the electroless plating film 32 to 12 wt% or more, it is possible to reliably prevent the electroless plating film 32 from being magnetized.

無電解めっき膜32としては、例えば、第1の接続部36の表面に、無電解Niめっき膜(例えば、厚さが3〜5μm)と、無電解Auめっき膜(例えば、厚さが0.01〜0.05μm)とを順次積層させた無電解Ni/Auめっき膜を用いることができる。   As the electroless plating film 32, for example, an electroless Ni plating film (for example, a thickness of 3 to 5 μm) and an electroless Au plating film (for example, a thickness of 0.1 mm) are formed on the surface of the first connection portion 36. An electroless Ni / Au plating film in which 01 to 0.05 μm) are sequentially laminated can be used.

電解めっき膜33は、第2の接続部37の表面を覆うように形成されている。電解めっき膜33は、電解めっき法により形成された金属膜である。電解めっき膜33は、磁化しやすい金属膜である。言い換えれば、電解めっき膜33は、磁石に吸着される金属膜である。   The electrolytic plating film 33 is formed so as to cover the surface of the second connection portion 37. The electrolytic plating film 33 is a metal film formed by an electrolytic plating method. The electrolytic plating film 33 is a metal film that is easily magnetized. In other words, the electrolytic plating film 33 is a metal film that is attracted to the magnet.

電解めっき膜33としては、例えば、第2の接続部37の表面に、電解Niめっき膜(例えば、厚さが3〜5μm)と、電解Auめっき膜(例えば、厚さが0.01〜0.05μm)とを順次積層させた電解Ni/Auめっき膜を用いることができる。   As the electrolytic plating film 33, for example, an electrolytic Ni plating film (for example, a thickness of 3 to 5 μm) and an electrolytic Au plating film (for example, a thickness of 0.01 to 0) are formed on the surface of the second connection portion 37. .05 μm) can be used, and an electrolytic Ni / Au plated film can be used.

上記構成とされた接続端子13は、電子部品12が実装された基板11と実装基板15とを電気的に接続するための端子である。   The connection terminal 13 configured as described above is a terminal for electrically connecting the substrate 11 on which the electronic component 12 is mounted and the mounting substrate 15.

図8〜図14は、本発明の実施の形態に係る接続端子の配設工程を示す図である。図8〜図14において、図7に示す半導体装置10と同一構成部分には同一符号を付す。   8-14 is a figure which shows the arrangement | positioning process of the connection terminal which concerns on embodiment of this invention. 8 to 14, the same components as those of the semiconductor device 10 shown in FIG.

図8〜図14を参照して、図7に示す基板11に設けられた複数のパッド25に接続端子13を配設する場合を例に挙げて、本実施の形態の接続端子の配設方法について説明する。   With reference to FIGS. 8 to 14, the connection terminal disposing method according to the present embodiment is exemplified by the case where the connection terminals 13 are disposed on the plurality of pads 25 provided on the substrate 11 illustrated in FIG. 7. Will be described.

始めに、図8に示す工程では、周知の手法により、基板本体21と、複数の電子部品実装用パッド23と、ソルダーレジスト層24,26と、外部接続用パッドである複数のパッド25と、複数のパッド25の接続面25Aに設けられた導電性ペースト28とを有する基板11を形成する(基板形成工程)。   First, in the process shown in FIG. 8, the substrate body 21, a plurality of electronic component mounting pads 23, solder resist layers 24 and 26, a plurality of pads 25 that are external connection pads, The substrate 11 having the conductive paste 28 provided on the connection surfaces 25A of the plurality of pads 25 is formed (substrate forming step).

基板本体21としては、例えば、複数の積層された絶縁層(図示せず)と、複数の積層された絶縁層に形成された図示していない配線パターン(ビア、配線、パッド等を含む)とを有した多層配線構造体を用いることができる。   As the substrate body 21, for example, a plurality of laminated insulating layers (not shown), and a wiring pattern (not shown) formed on the plurality of laminated insulating layers (including vias, wirings, pads, etc.) A multilayer wiring structure having

電子部品実装用パッド23及びパッド25は、例えば、めっき法により形成することができる。電子部品実装用パッド23及びパッド25の材料としては、例えば、Cuを用いることができる。   The electronic component mounting pad 23 and the pad 25 can be formed by, for example, a plating method. As a material for the electronic component mounting pad 23 and the pad 25, for example, Cu can be used.

導電性ペースト28としては、例えば、はんだや金属粉を含有したエポキシ樹脂等を用いることができる。   As the conductive paste 28, for example, an epoxy resin containing solder or metal powder can be used.

次いで、図9に示す工程では、支持部35と、基板11に設けられたパッド25と電気的に接続される第1の接続部36と、実装基板15に設けられたパッド17と電気的に接続される第2の接続部37とを有した接続端子本体31を複数形成する(接続端子本体形成工程)。   Next, in the process illustrated in FIG. 9, the support portion 35, the first connection portion 36 electrically connected to the pad 25 provided on the substrate 11, and the pad 17 provided on the mounting substrate 15 are electrically connected. A plurality of connection terminal main bodies 31 having the second connection portions 37 to be connected are formed (connection terminal main body forming step).

具体的には、例えば、導電性を有した板材(図示せず)をプレス加工し、その後、プレス加工された板材を折り曲げ加工することにより、接続端子本体31を形成する。上記導電性を有した板材の材料としては、例えば、銅系合金(例えば、リン青銅やベリリウム銅等)を用いることができる。   Specifically, for example, the connecting terminal body 31 is formed by pressing a conductive plate material (not shown) and then bending the pressed plate material. As the material of the conductive plate material, for example, a copper-based alloy (for example, phosphor bronze, beryllium copper, or the like) can be used.

次いで、図10に示す工程では、無電解めっき法により、複数の接続端子本体31に設けられた第1の接続部36の表面を覆う無電解めっき膜32を形成すると共に、電解めっき法により、複数の接続端子本体31に設けられた第2の接続部37の表面を覆う電解めっき膜33を形成することで、接続端子本体31、無電解めっき膜32、及び電解めっき膜33を備えた接続端子13を複数形成する(接続端子形成工程)。   Next, in the step shown in FIG. 10, while forming the electroless plating film 32 covering the surfaces of the first connection portions 36 provided on the plurality of connection terminal bodies 31 by electroless plating, A connection provided with the connection terminal body 31, the electroless plating film 32, and the electrolytic plating film 33 by forming the electrolytic plating film 33 covering the surface of the second connection portion 37 provided on the plurality of connection terminal bodies 31. A plurality of terminals 13 are formed (connection terminal forming step).

具体的には、無電解めっき膜32は、例えば、無電解めっき膜32の非形成領域に対応する部分の接続端子本体31の表面を覆うめっき用レジスト膜(図示せず)を形成し、その後、めっき用レジスト膜から露出された第1の接続部36の表面に無電解めっき膜32を形成し、その後、めっき用レジスト膜を除去することで形成する。   Specifically, the electroless plating film 32 is formed, for example, by forming a plating resist film (not shown) that covers the surface of the connection terminal body 31 corresponding to the non-formation region of the electroless plating film 32. The electroless plating film 32 is formed on the surface of the first connection portion 36 exposed from the plating resist film, and then the plating resist film is removed.

このような方法により形成された無電解めっき膜32には、リンが含まれるため、磁化しにくい。そのため、後述する図12に示す工程(接続端子振込工程)において、無電解めっき膜32が形成された第1の接続部36は、整列治具41に設けられた磁石44の磁力により、整列治具本体43に形成された開口部46に吸引されない。   Since the electroless plating film 32 formed by such a method contains phosphorus, it is difficult to magnetize. For this reason, in the process (connection terminal transfer process) shown in FIG. 12 described later, the first connection portion 36 on which the electroless plating film 32 is formed is aligned by the magnetic force of the magnet 44 provided on the alignment jig 41. It is not sucked into the opening 46 formed in the tool body 43.

無電解めっき膜32としては、例えば、第1の接続部36の表面に、無電解Niめっき膜(例えば、厚さが3〜5μm)と、無電解Auめっき膜(例えば、厚さが0.01〜0.05μm)とを順次積層させた無電解Ni/Auめっき膜を用いることができる。   As the electroless plating film 32, for example, an electroless Ni plating film (for example, a thickness of 3 to 5 μm) and an electroless Au plating film (for example, a thickness of 0.1 mm) are formed on the surface of the first connection portion 36. An electroless Ni / Au plating film in which 01 to 0.05 μm) are sequentially laminated can be used.

なお、無電解めっき膜32は、電解めっき膜33の形成領域を除いた部分の接続端子本体31の全面に形成してもよい。   The electroless plating film 32 may be formed on the entire surface of the connection terminal main body 31 except for the area where the electrolytic plating film 33 is formed.

また、電解めっき膜33は、例えば、電解めっき膜33の非形成領域に対応する部分の接続端子本体31の表面を覆うめっき用レジスト膜(図示せず)を形成し、次いで、めっき用レジスト膜から露出された第2の接続部37の表面に電解めっき膜33を形成し、その後、めっき用レジスト膜を除去することで形成する。このような方法により形成された電解めっき膜33は、磁化しやすく、磁石に吸着される。   Further, the electrolytic plating film 33 is formed, for example, by forming a resist film for plating (not shown) that covers the surface of the connection terminal body 31 corresponding to the non-formation region of the electrolytic plating film 33, and then the plating resist film The electrolytic plating film 33 is formed on the surface of the second connection portion 37 exposed from the substrate, and then the plating resist film is removed. The electrolytic plating film 33 formed by such a method is easily magnetized and is attracted to the magnet.

電解めっき膜33としては、例えば、第2の接続部37の表面に、電解Niめっき膜(例えば、厚さが3〜5μm)と、電解Auめっき膜(例えば、厚さが0.01〜0.05μm)とを順次積層させた電解Ni/Auめっき膜を用いることができる。   As the electrolytic plating film 33, for example, an electrolytic Ni plating film (for example, a thickness of 3 to 5 μm) and an electrolytic Au plating film (for example, a thickness of 0.01 to 0) are formed on the surface of the second connection portion 37. .05 μm) can be used, and an electrolytic Ni / Au plated film can be used.

なお、図9及び図10に示す工程の代わりに、例えば、導電性を有した板材(図示せず)をプレス加工し、次いで、プレス加工された接続端子本体31の母材に、無電解めっき膜32及び電解めっき膜33を形成し、その後、無電解めっき膜32及び電解めっき膜33が形成された接続端子本体31の母材を折り曲げ加工することで、接続端子本体31、無電解めっき膜32、及び電解めっき膜33を備えた接続端子13を形成してもよい。   Instead of the steps shown in FIGS. 9 and 10, for example, a conductive plate material (not shown) is pressed, and then the base material of the pressed connection terminal body 31 is electroless plated. After forming the film 32 and the electroplating film 33, the base material of the connection terminal body 31 on which the electroless plating film 32 and the electroplating film 33 are formed is bent, so that the connection terminal body 31 and the electroless plating film are formed. 32 and the connection terminal 13 provided with the electrolytic plating film 33 may be formed.

次いで、図11に示す工程では、接続端子13を収容する開口部46を複数有した整列治具本体43と、複数の開口部46が形成された整列治具本体43の面43A(第1の面)とは反対側に位置する整列治具本体43の面43B(第2の面)に、複数の開口部46と対向するように配置された磁石44と、磁石44に固定され、磁石44を介して、整列治具本体43を振動させる振動装置45と、を備えた整列治具41を準備する(整列治具準備工程)。   Next, in the process shown in FIG. 11, the alignment jig body 43 having a plurality of openings 46 for accommodating the connection terminals 13, and the surface 43 </ b> A of the alignment jig body 43 in which the plurality of openings 46 are formed (first A magnet 44 disposed on the surface 43B (second surface) of the alignment jig main body 43 located on the opposite side to the surface) so as to face the plurality of openings 46, and fixed to the magnet 44. An alignment jig 41 including a vibration device 45 that vibrates the alignment jig main body 43 is prepared (alignment jig preparation step).

次いで、図12に示す工程では、振動装置45により、接続端子13が収容される開口部46を複数有した整列治具本体43を振動させた状態で、整列治具本体43の上方から(言い換えれば、整列治具本体43の面43Aの上方から)複数の接続端子13を落下させて、複数の開口部46に接続端子13を振り込み、その後、振動装置45を停止させる(接続端子振込工程)。   Next, in the process shown in FIG. 12, the vibration device 45 vibrates the alignment jig body 43 having a plurality of openings 46 for receiving the connection terminals 13 from above the alignment jig body 43 (in other words, For example, from above the surface 43A of the alignment jig main body 43, the plurality of connection terminals 13 are dropped, the connection terminals 13 are transferred to the plurality of openings 46, and then the vibration device 45 is stopped (connection terminal transfer process). .

このとき、整列治具41に設けられた磁石44により、電解めっき膜33が形成された第2の接続部37が、整列治具本体43に形成された開口部46に吸引されるため、全ての開口部46に、開口部46に対して所定の向きAとなるように接続端子13を整列させることが可能となる。これにより、後述する図13に示す工程において、基板11に設けられた全てのパッド25に対して、確実に1つの接続端子31を配設することができる。   At this time, the magnet 44 provided in the alignment jig 41 attracts the second connection portion 37 in which the electrolytic plating film 33 is formed to the opening 46 formed in the alignment jig main body 43. The connection terminals 13 can be aligned with the opening 46 so that the opening 46 has a predetermined orientation A. Thereby, in the process shown in FIG. 13 to be described later, one connection terminal 31 can be reliably arranged for all the pads 25 provided on the substrate 11.

なお、本実施の形態における所定の向きAとは、図12に示す開口部46に振り込まれた接続端子13の向きのことである。具体的には、所定の向きAとは、電解めっき膜33が開口部46の底面46Aと接触すると共に、無電解めっき膜32の一部が開口部46の右側に位置する整列治具本体43の面43Aと対向するような接続端子13の向きである(図12参照)。   Note that the predetermined direction A in the present embodiment is the direction of the connection terminal 13 that is transferred to the opening 46 shown in FIG. Specifically, the predetermined direction A means that the electrolytic plating film 33 is in contact with the bottom surface 46A of the opening 46 and a part of the electroless plating film 32 is located on the right side of the opening 46. The direction of the connection terminal 13 is such that it faces the surface 43A (see FIG. 12).

次いで、図13に示す工程では、基板11に設けられた導電性ペースト28を溶融させた状態で、導電性ペースト28と整列治具41に振り込まれた(整列された)接続端子13の無電解めっき膜32が形成された第1の接続部36とを接触させる。   Next, in the step shown in FIG. 13, the electroless paste of the connection terminals 13 transferred (aligned) to the conductive paste 28 and the alignment jig 41 in a state where the conductive paste 28 provided on the substrate 11 is melted. The first connection part 36 on which the plating film 32 is formed is brought into contact.

次いで、図14に示す工程では、導電性ペースト28を硬化させた後、複数の接続端子13が接続された基板11を上方に引き上げる。これにより、導電性ペースト28を介して、基板11の全てのパッド25に、それぞれ1つの接続端子13が配設される。   Next, in the step shown in FIG. 14, after the conductive paste 28 is cured, the substrate 11 to which the plurality of connection terminals 13 are connected is pulled upward. As a result, one connection terminal 13 is disposed on each of the pads 25 of the substrate 11 via the conductive paste 28.

本実施の形態の接続端子の配設方法によれば、無電解めっき法により、複数の接続端子本体31に設けられた第1の接続部36の表面を覆う無電解めっき膜32を形成すると共に、電解めっき法により、複数の接続端子本体31に設けられた第2の接続部37の表面を覆う電解めっき膜33を形成することで、接続端子本体31、無電解めっき膜32、及び電解めっき膜33を備えた接続端子13を複数形成し、次いで、接続端子13を収容する開口部46を複数有した整列治具本体43と、整列治具本体43の面43Bに配置された磁石44と、を備えた整列治具41を準備し、その後、複数の開口部46に接続端子13を振り込むことにより、整列治具41に設けられた磁石44により、電解めっき膜33が形成された第2の接続部37が、整列治具本体43に形成された開口部46に吸引されるため、全ての開口部46に所定の向きAとなるように接続端子13を整列させることが可能となる。   According to the connection terminal arrangement method of the present embodiment, the electroless plating film 32 that covers the surfaces of the first connection portions 36 provided on the plurality of connection terminal bodies 31 is formed by electroless plating. By forming an electrolytic plating film 33 that covers the surfaces of the second connection portions 37 provided on the plurality of connection terminal bodies 31 by an electrolytic plating method, the connection terminal body 31, the electroless plating film 32, and the electrolytic plating A plurality of connection terminals 13 having a film 33 are formed, and then an alignment jig body 43 having a plurality of openings 46 for accommodating the connection terminals 13, and a magnet 44 disposed on a surface 43 </ b> B of the alignment jig body 43, Are prepared, and then the connection terminals 13 are swung into the plurality of openings 46, whereby the electroplating film 33 is formed by the magnet 44 provided on the alignment jig 41. Connection part 37 , Because it is sucked into the opening 46 formed in the arranging jig body 43, it is possible to align the connection terminal 13 to a predetermined direction A to all openings 46.

これにより、接続端子振込工程後に、無電解めっき膜32が形成された第1の接続部36と、基板11に設けられた導電性ペースト28とを接触させ、導電性ペースト28を溶融させて、基板11に設けられた複数のパッド25に接続端子13を配設することで、基板11に設けられた全てのパッド25に対して、1つの接続端子31を配設することができる。   Thereby, after the connection terminal transfer step, the first connection portion 36 on which the electroless plating film 32 is formed and the conductive paste 28 provided on the substrate 11 are brought into contact, and the conductive paste 28 is melted. By providing the connection terminals 13 on the plurality of pads 25 provided on the substrate 11, one connection terminal 31 can be provided on all the pads 25 provided on the substrate 11.

上記本実施の形態の接続端子13の配設方法(図8〜図14に示す工程参照)では、図12に示す接続端子振込工程において、整列治具本体43に形成された全ての開口部46に所定の向きAとなるように接続端子13が整列した場合を例に挙げて説明したが、図12に示す接続端子振込工程において、全ての開口部46に所定の向きAとなるように接続端子13が整列されない場合も存在する。   In the arrangement method of the connection terminals 13 of the present embodiment (see the steps shown in FIGS. 8 to 14), all the openings 46 formed in the alignment jig main body 43 in the connection terminal transfer step shown in FIG. In the connection terminal transfer process shown in FIG. 12, the connection terminals 13 are arranged so as to be in a predetermined direction A. There are also cases where the terminals 13 are not aligned.

そこで、図15〜図17を参照して、図12に示す接続端子振込工程において、全ての開口部46に、開口部46に対して所定の向きとなるように接続端子13が整列されなかった場合を例に挙げて、本実施の形態の変形例に係る接続端子の配設方法について説明する。   Accordingly, referring to FIGS. 15 to 17, in the connection terminal transfer step shown in FIG. 12, the connection terminals 13 were not aligned in all the openings 46 so as to be in a predetermined direction with respect to the openings 46. Taking the case as an example, a method for arranging connection terminals according to a modification of the present embodiment will be described.

図15〜図17は、本発明の実施の形態の変形例に係る接続端子の配設工程を示す図である。図15及び図17において、図12に示す構造体と同一構成部分には同一符号を付す。また、図16において、図15に示す構造体と同一構成部分には同一符号を付す。   15-17 is a figure which shows the arrangement | positioning process of the connection terminal which concerns on the modification of embodiment of this invention. In FIG.15 and FIG.17, the same code | symbol is attached | subjected to the same component as the structure shown in FIG. In FIG. 16, the same components as those in the structure shown in FIG.

始めに、先に説明した図8〜図11に示す工程と同様な処理を行う。次いで、図15に示す工程(1回目の接続端子振込工程)では、先に説明した図12に示す工程(接続端子振込工程)と同様な処理を行うことで、複数の開口部46に接続端子13を振り込み、その後、振動装置45を停止させる。この段階では、図15に示すように、接続端子13は、全ての開口部46に対して所定の向きAとなるように整列されていない。具体的には、図15に示す整列治具本体43の中央に位置する2つの開口部46には、所定の向きAとなるように接続端子13が振り込まれ、同図の左端の開口部46には接続端子13が振り込まれておらず、同図の右端の開口部46には所定の向きAとは異なる向きで接続端子13が振り込まれている。   First, the same process as that shown in FIGS. 8 to 11 described above is performed. Next, in the process shown in FIG. 15 (first connection terminal transfer process), the same process as the process shown in FIG. 12 (connection terminal transfer process) described above is performed, so that the connection terminals are connected to the plurality of openings 46. 13 is transferred, and then the vibration device 45 is stopped. At this stage, as shown in FIG. 15, the connection terminals 13 are not aligned so as to have a predetermined orientation A with respect to all the openings 46. Specifically, the connection terminal 13 is transferred into the two openings 46 located at the center of the alignment jig main body 43 shown in FIG. 15 so as to be in a predetermined direction A, and the opening 46 at the left end in FIG. The connection terminal 13 is not transferred, and the connection terminal 13 is transferred in a direction different from the predetermined direction A in the opening 46 at the right end of FIG.

また、第2の接続部37の表面には、磁化しやすい電解めっき膜33が形成されているため、図15に示す整列治具本体43の中央に位置する2つの開口部46に所定の向きAとなるように配置された接続端子13は、磁石44に吸着されている。   In addition, since the electroplating film 33 that is easily magnetized is formed on the surface of the second connection portion 37, the two openings 46 located at the center of the alignment jig body 43 shown in FIG. The connection terminal 13 arranged so as to be A is attracted to the magnet 44.

また、図15に示す右端の開口部46に配置された接続端子13は、磁化しない無電解めっき膜32が形成された第1の接続部36が磁石44と対向しているため、磁石44により吸着されていない。   Further, the connection terminal 13 arranged in the opening 46 at the right end shown in FIG. 15 has the first connection portion 36 on which the non-magnetized electroless plating film 32 is formed facing the magnet 44. Not adsorbed.

次いで、図16に示す工程では、図15に示す開口部46の接続端子13が振り込まれた整列治具41を上下逆さまにする(上下反転させる)ことで、所定の向きAとは異なる向きで配置された接続端子13を開口部46から除去する(接続端子除去工程)。   Next, in the process shown in FIG. 16, the alignment jig 41 into which the connection terminal 13 of the opening 46 shown in FIG. 15 is turned upside down (inverted upside down) is different from the predetermined direction A. The arranged connection terminal 13 is removed from the opening 46 (connection terminal removal step).

次いで、図17に示す工程では、全ての開口部46に振り込まれた接続端子13の向きが所定の向きAとなるまで、接続端子振込工程(図15参照)と、接続端子除去工程(図16に示す工程)とを繰り返し行う。   Next, in the process shown in FIG. 17, the connection terminal transfer process (see FIG. 15) and the connection terminal removal process (FIG. 16) until the direction of the connection terminal 13 transferred to all the openings 46 becomes a predetermined direction A. Step).

その後、先に説明した図13及び図14に示す工程と同様な処理を行うことで、これにより、導電性ペースト28を介して、基板11の全てのパッド25に、それぞれ1つの接続端子13が配設される。   Thereafter, by performing the same process as the process shown in FIGS. 13 and 14 described above, one connection terminal 13 is connected to all the pads 25 of the substrate 11 via the conductive paste 28. Arranged.

本実施の形態の変形例に係る接続端子の配設方法によれば、全ての開口部46に所定の向きAとなるように接続端子13が整列されない場合、整列治具41を上下逆さまにする(上下反転させる)ことで、所定の向きAとは異なる向きで配置された接続端子13を開口部46から除去する接続端子除去工程と、接続端子13が振り込まれていない開口部46に所定の向きとなるように接続端子13を振り込む接続端子振込工程とを繰り返し行うことにより、全ての開口部46に所定の向きAとなるように接続端子13を配置することが可能となるため、基板11に設けられた全てのパッド25に対して、確実に接続端子13を配設することができる。   According to the arrangement method of the connection terminals according to the modification of the present embodiment, the alignment jig 41 is turned upside down when the connection terminals 13 are not aligned so as to have the predetermined orientation A in all the openings 46. (Upside down), the connection terminal removing step of removing the connection terminal 13 arranged in a direction different from the predetermined direction A from the opening 46, and the opening 46 where the connection terminal 13 is not transferred By repeatedly performing the connection terminal transfer step of transferring the connection terminals 13 so as to be oriented, the connection terminals 13 can be arranged in all the openings 46 so as to have a predetermined orientation A. The connection terminals 13 can be reliably arranged for all the pads 25 provided in the.

以上、本発明の好ましい実施の形態について詳述したが、本発明はかかる特定の実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲内に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。   The preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, but the present invention is not limited to such specific embodiments, and within the scope of the present invention described in the claims, Various modifications and changes are possible.

例えば、本実施の形態では、整列治具本体43に凹状の開口部46が形成された整列治具41を用いた場合を例に挙げて説明したが、開口部46の代わりに整列治具本体43を貫通する開口部(該開口部の底面が磁石44で閉塞される)を有した整列治具を用いてもよい。   For example, in the present embodiment, the case where the alignment jig 41 in which the concave opening 46 is formed in the alignment jig main body 43 is used as an example, but the alignment jig main body 43 is used instead of the opening 46. You may use the alignment jig | tool which has the opening part which penetrates 43 (The bottom face of this opening part is obstruct | occluded with the magnet 44).

図18は、他の接続端子が整列された他の整列治具を示す断面図である。図18において、図17に示す構造体と同一構成部分には同一符号を付す。   FIG. 18 is a cross-sectional view showing another alignment jig in which other connection terminals are aligned. In FIG. 18, the same components as those in the structure shown in FIG.

なお、本実施の形態の接続端子の配設方法、及び本実施の形態の変形例に係る接続端子の配設方法では、基板11のパッド25に板状とされた支持部35を有した接続端子13を配設する場合を例に挙げて説明したが、接続端子13の形状は、これに限定されない。   In the connection terminal disposing method according to the present embodiment and the connecting terminal disposing method according to the modification of the present embodiment, a connection having a plate-like support portion 35 on the pad 25 of the substrate 11. Although the case where the terminal 13 is provided has been described as an example, the shape of the connection terminal 13 is not limited thereto.

本実施の形態の接続端子の配設方法、及び本実施の形態の変形例に係る接続端子の配設方法は、例えば、図18に示す接続端子51を基板11に設けられたパッド25に配設する場合にも適用可能である。   For example, the connection terminal disposition method according to the present embodiment and the connection terminal disposition method according to the modification of the present embodiment are arranged with the connection terminals 51 shown in FIG. It can also be applied to the installation.

接続端子51は、接続端子13を構成する接続端子本体31の代わりに、接続端子本体52を設けた以外は、接続端子13と同様に構成される。接続端子本体52は、接続端子本体31に設けられた支持部35の代わりに、V字型とされ、ばね性を有する支持部53を設けた以外は、接続端子本体31と同様に構成される。   The connection terminal 51 is configured in the same manner as the connection terminal 13 except that a connection terminal main body 52 is provided instead of the connection terminal main body 31 constituting the connection terminal 13. The connection terminal main body 52 is configured in the same manner as the connection terminal main body 31 except that the connection terminal main body 52 is V-shaped instead of the support portion 35 provided in the connection terminal main body 31, and a support portion 53 having spring properties is provided. .

上記構成とされた接続端子51を基板11に配設する場合、図18に示す整列治具61を用いる。整列治具61は、図11で説明した整列治具41に設けられた整列治具本体43の代わりに、接続端子51の形状に対応した開口部64を複数有する整列治具本体62を設けた以外は、整列治具41と同様な構成とされている。   When the connection terminal 51 having the above-described configuration is disposed on the substrate 11, an alignment jig 61 shown in FIG. 18 is used. The alignment jig 61 is provided with an alignment jig main body 62 having a plurality of openings 64 corresponding to the shape of the connection terminals 51 instead of the alignment jig main body 43 provided in the alignment jig 41 described in FIG. Other than that, the configuration is the same as that of the alignment jig 41.

また、本実施の形態の接続端子の配設方法、及び本実施の形態の変形例に係る接続端子の配設方法は、例えば、PGA(Pin Grid Array)に適用されるピン端子(ばね性を有していない接続端子)の整列にも適用可能である。   The connection terminal arrangement method according to the present embodiment and the connection terminal arrangement method according to the modification of the present embodiment include, for example, a pin terminal (spring property is applied to a PGA (Pin Grid Array). It is also applicable to alignment of connection terminals that do not have.

また、本実施の形態の接続端子の配設方法、及び本実施の形態の変形例に係る接続端子の配設方法では、実装基板15と接続される半導体装置10に接続端子13,51を配設する場合を例に挙げて説明したが、本実施の形態の接続端子の配設方法、及び本実施の形態の変形例に係る接続端子の配設方法は、電気部品(半導体パッケージ、配線基板、半導体チップ等)と実装基板15とを接続するインターポーザやソケット等の接続端子を配設する際にも適用可能である。   Further, in the connection terminal arrangement method according to the present embodiment and the connection terminal arrangement method according to the modification of the present embodiment, the connection terminals 13 and 51 are arranged on the semiconductor device 10 connected to the mounting substrate 15. In the above description, the connection terminal arranging method according to the present embodiment and the connecting terminal arranging method according to the modification of the present embodiment are electrical components (semiconductor package, wiring board). The present invention is also applicable when providing connection terminals such as an interposer and a socket for connecting the mounting substrate 15 and the semiconductor chip.

さらに、本実施の形態の接続端子の配設方法、及び本実施の形態の変形例に係る接続端子の配設方法は、電気部品(半導体パッケージ、配線基板、半導体チップ等)の電気的なテストの為のコンタクトプローブの接続端子の配設にも適用可能である。   Furthermore, the method for arranging the connection terminals according to the present embodiment and the method for arranging the connection terminals according to the modification of the present embodiment are used for electrical testing of electrical components (semiconductor packages, wiring boards, semiconductor chips, etc.). It is applicable also to arrangement | positioning of the connection terminal of the contact probe for this.

10 半導体装置
11 基板
12 電子部品
13,51 接続端子
15 実装基板
16 バンプ
17,25 パッド
21 基板本体
21A,21B,43A,43B 面
23 電子部品実装用パッド
23A,25A 接続面
24,26 ソルダーレジスト層
24A,26A 開口部
28 導電性ペースト
31,52 接続端子本体
32 無電解めっき膜
33 電解めっき膜
35,53 支持部
36 第1の接続部
37 第2の接続部
41,61 整列治具
43,62 整列治具本体
44 磁石
45 振動装置
46,64 開口部
46A 底面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Semiconductor device 11 Board | substrate 12 Electronic component 13,51 Connection terminal 15 Mounting board 16 Bump 17, 25 Pad 21 Board | substrate body 21A, 21B, 43A, 43B surface 23 Electronic component mounting pad 23A, 25A Connection surface 24, 26 Solder resist layer 24A, 26A Opening 28 Conductive paste 31, 52 Connection terminal body 32 Electroless plating film 33 Electrolytic plating film 35, 53 Supporting part 36 First connection part 37 Second connection part 41, 61 Alignment jigs 43, 62 Alignment jig body 44 Magnet 45 Vibration device 46, 64 Opening 46A Bottom

Claims (5)

接続面を備えた複数のパッドを有する基板を形成する基板形成工程と、
前記パッドと電気的に接続される第1の接続部と、他の基板と電気的に接続される第2の接続部とを備えた接続端子本体を複数形成する接続端子本体形成工程と、
無電解めっき法により、複数の前記接続端子本体に設けられた前記第1の接続部を覆う無電解めっき膜を形成すると共に、電解めっき法により、複数の前記接続端子本体に設けられた前記第2の接続部を覆う電解めっき膜を形成することで、前記接続端子本体、前記無電解めっき膜、及び前記電解めっき膜を備えた接続端子を複数形成する接続端子形成工程と、
1つの前記接続端子を収容する開口部を複数有した整列治具本体と、前記開口部が形成された前記整列治具本体の第1の面とは反対側に位置する前記整列治具本体の第2の面に、複数の前記開口部と対向するように配置された磁石と、を備えた整列治具を準備する整列治具準備工程と、
複数の前記開口部に前記接続端子を振り込む接続端子振込工程と、
前記接続端子振込工程後に、前記無電解めっき膜が形成された前記第1の接続部と前記基板のパッドとを導電性ペーストを介して接触させ、前記導電性ペーストを溶融させることで、複数の前記パッドに前記接続端子を配設する接続端子配設工程と、
前記接続端子配設工程後に、前記導電性ペーストを硬化させ、複数の前記接続端子が配設された前記基板を、前記整列治具から取り外す基板取外工程と、を含むことを特徴とする接続端子の配設方法。
A substrate forming step of forming a substrate having a plurality of pads with connection surfaces;
A connection terminal body forming step of forming a plurality of connection terminal bodies including a first connection portion electrically connected to the pad and a second connection portion electrically connected to another substrate;
An electroless plating film that covers the first connection portions provided on the plurality of connection terminal bodies is formed by an electroless plating method, and the first portions provided on the plurality of connection terminal bodies are formed by an electrolytic plating method. A connection terminal forming step of forming a plurality of connection terminals including the connection terminal main body, the electroless plating film, and the electrolytic plating film by forming an electrolytic plating film that covers two connection portions;
An alignment jig body having a plurality of openings for accommodating one connection terminal; and an alignment jig body positioned on the opposite side of the first surface of the alignment jig body in which the openings are formed. An alignment jig preparing step of preparing an alignment jig provided with a magnet disposed on the second surface so as to face the plurality of openings;
A connection terminal transfer step of transferring the connection terminal to the plurality of openings;
After the connection terminal transfer step, the first connection part on which the electroless plating film is formed and the pad of the substrate are brought into contact with each other through a conductive paste, and the conductive paste is melted, so that a plurality of A connection terminal disposing step of disposing the connection terminal on the pad;
A board removing step of curing the conductive paste after the connecting terminal arranging step and removing the substrate on which the plurality of connecting terminals are arranged from the alignment jig. Terminal arrangement method.
前記接続端子振込工程では、前記磁石の磁力により、前記整列治具本体の前記開口部に、前記電解めっき膜が形成された前記第2の接続部が吸引され、前記開口部に前記接続端子が振り込まれることを特徴とする請求項1記載の接続端子の配設方法。   In the connection terminal transfer step, the second connection part in which the electrolytic plating film is formed is sucked into the opening part of the alignment jig body by the magnetic force of the magnet, and the connection terminal is inserted into the opening part. 2. The connection terminal arranging method according to claim 1, wherein the connecting terminal is transferred. 前記接続端子振込工程において、全ての前記開口部に対して前記接続端子が所定の向きで振り込まれない場合、
前記接続端子振込工程と前記接続端子配設工程との間に、前記整列治具を上下逆さまにして、前記開口部に対して前記所定の向きで振り込まれなかった前記接続端子を除去する接続端子除去工程と、前記接続端子振込工程と、を繰り返し行うことを特徴とする請求項1または2記載の接続端子の配設方法。
In the connection terminal transfer step, when the connection terminal is not transferred in a predetermined direction for all the openings,
Between the connection terminal transfer step and the connection terminal placement step, the alignment jig is turned upside down to remove the connection terminal that has not been transferred in the predetermined direction with respect to the opening. The method for arranging connection terminals according to claim 1, wherein the removal step and the connection terminal transfer step are repeated.
前記無電解めっき膜は、リンを含むことを特徴とする請求項1ないし3のうち、いずれか1項記載の接続端子の配設方法。   The method for arranging connection terminals according to any one of claims 1 to 3, wherein the electroless plating film contains phosphorus. 前記無電解めっき膜は、前記リンの濃度が12wt%以上であることを特徴とする請求項4記載の接続端子の配設方法。   The method for arranging connection terminals according to claim 4, wherein the electroless plating film has a phosphorus concentration of 12 wt% or more.
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