JP2010258312A - Solid electrolytic capacitor and method of manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a solid electrolytic capacitor reducing a leak current inside a capacitor element, and also to provide a method of manufacturing the same. <P>SOLUTION: In a capacitor element 10, the area of a second surface 10S<SB>2</SB>is larger than that of a first surface 10S<SB>1</SB>and a third surface 10S<SB>3</SB>is formed to be inclined with respect to a counter surface 30S<SB>T</SB>of a resin mold part 30. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、樹脂モールド部を有する固体電解コンデンサ及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a solid electrolytic capacitor having a resin mold portion and a manufacturing method thereof.

従来、プリント基板などに表面実装される固体電解コンデンサが広く用いられている。一般的に、固体電解コンデンサは、コンデンサ素子と、コンデンサ素子から突出する陽極リードと、コンデンサ素子を封止する樹脂モールド部とを備える。コンデンサ素子は、直方体形状の陽極体と、陽極体を覆う誘電体層と、誘電体層を覆う電解質層と、電解質層を覆う導電層とによって構成される。コンデンサ素子は、陽極リードが突出する第1表面と、第1表面の反対側に形成された第2表面とを有する。   Conventionally, a solid electrolytic capacitor that is surface-mounted on a printed circuit board or the like has been widely used. In general, a solid electrolytic capacitor includes a capacitor element, an anode lead protruding from the capacitor element, and a resin mold part for sealing the capacitor element. The capacitor element includes a rectangular parallelepiped anode body, a dielectric layer covering the anode body, an electrolyte layer covering the dielectric layer, and a conductive layer covering the electrolyte layer. The capacitor element has a first surface from which the anode lead protrudes and a second surface formed on the opposite side of the first surface.

ここで、電解質層のうち陽極体のエッジに形成される部分の厚みを大きくする手法が提案されている(特許文献1参照)。この手法によれば、陽極体のエッジを精度良く電解質層で覆うことによって、コンデンサ素子内部での漏れ電流を低減することができる。   Here, a method of increasing the thickness of the portion of the electrolyte layer formed at the edge of the anode body has been proposed (see Patent Document 1). According to this method, the leakage current inside the capacitor element can be reduced by accurately covering the edge of the anode body with the electrolyte layer.

特開2001−143968号公報JP 2001-143968 A

ところで、コンデンサ素子を樹脂に封止する場合、金型内にコンデンサ素子を配置して、金型に設けられた注入口から樹脂を注入する。一般的に、樹脂は、金型の注入口からコンデンサ素子の第2表面に向かって注入され、金型とコンデンサ素子との間を第2面側から第1面側に向かって流される。そのため、樹脂から第2表面から第1表面に繋がる第3表面に応力がかかることによって、コンデンサ素子内部の誘電体層に損傷が生じる場合がある。その結果、コンデンサ素子内部における漏れ電流が増大するという問題があった。   By the way, when sealing a capacitor | condenser element to resin, a capacitor | condenser element is arrange | positioned in a metal mold | die and resin is inject | poured from the injection hole provided in the metal mold | die. Generally, the resin is injected from the injection port of the mold toward the second surface of the capacitor element, and flows between the mold and the capacitor element from the second surface side toward the first surface side. Therefore, a stress may be applied to the third surface that is connected from the second surface to the first surface from the resin, so that the dielectric layer inside the capacitor element may be damaged. As a result, there is a problem that leakage current inside the capacitor element increases.

なお、このような問題は、第2表面から第1表面に繋がる第3表面の略全面で発生しうるので、陽極体のエッジに形成される部分だけを厚くする特許文献1の手法では解消することができない。   Such a problem can occur over almost the entire third surface connected from the second surface to the first surface. Therefore, the method of Patent Document 1 in which only the portion formed at the edge of the anode body is thickened eliminates the problem. I can't.

本発明は、上述の問題に鑑みてなされたものであり、コンデンサ素子内部における漏れ電流を低減可能な固体電解コンデンサ及びその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a solid electrolytic capacitor capable of reducing leakage current inside the capacitor element and a method for manufacturing the same.

本発明の特徴に係る固体電解コンデンサは、陽極体と、陽極体を覆う誘電体層と、誘電体層を覆う陰極層とを含むコンデンサ素子と、コンデンサ素子から突出する陽極リードと、コンデンサ素子及び陽極リードを封止する樹脂モールド部とを備え、コンデンサ素子は、陽極リードが突出する第1表面と、第1表面の反対側に設けられる第2表面と、第1表面と第2表面とに繋がる第3表面とを有し、樹脂モールド部は、第3表面と対向する対向面を有しており、第2表面の面積は、第1表面の面積よりも大きく、第3表面と対向面との間隔は、第2表面側から第1表面側に向かって徐々に大きくなっていることを要旨とする。   A solid electrolytic capacitor according to a feature of the present invention includes a capacitor element including an anode body, a dielectric layer covering the anode body, and a cathode layer covering the dielectric layer, an anode lead protruding from the capacitor element, a capacitor element, and The capacitor element includes a resin mold portion for sealing the anode lead, and the capacitor element includes a first surface from which the anode lead protrudes, a second surface provided on the opposite side of the first surface, and a first surface and a second surface. The resin mold part has a facing surface facing the third surface, and the area of the second surface is larger than the area of the first surface, and the surface facing the third surface. The gist is that the distance from the second surface gradually increases from the second surface side toward the first surface side.

また、本発明の特徴に係る固体電解コンデンサにおいて、第2表面の面積は、第1表面の面積の1.02倍以上であってもよい。   In the solid electrolytic capacitor according to the feature of the present invention, the area of the second surface may be 1.02 times or more the area of the first surface.

本発明の特徴に係る固体電解コンデンサにおいて、第2表面側における陰極層の厚みは、第1表面側における陰極層の厚みより大きくてもよい。   In the solid electrolytic capacitor according to the feature of the present invention, the thickness of the cathode layer on the second surface side may be larger than the thickness of the cathode layer on the first surface side.

本発明の特徴に係る固体電解コンデンサにおいて、陰極層は、誘電体層を覆う電解質層と、電解質層を覆う導電層とを含み、第2表面側における電解質層の厚みは、20μm以上であってもよい。   In the solid electrolytic capacitor according to the feature of the present invention, the cathode layer includes an electrolyte layer covering the dielectric layer and a conductive layer covering the electrolyte layer, and the thickness of the electrolyte layer on the second surface side is 20 μm or more. Also good.

本発明の特徴に係る固体電解コンデンサにおいて、陰極層は、誘電体層を覆う電解質層と、電解質層を覆う導電層とを含み、電解質層の厚みは、第1表面側から第2表面側に向かって徐々に大きく形成されていてもよい。   In the solid electrolytic capacitor according to the feature of the present invention, the cathode layer includes an electrolyte layer covering the dielectric layer and a conductive layer covering the electrolyte layer, and the thickness of the electrolyte layer is from the first surface side to the second surface side. You may form gradually large toward it.

本発明の特徴に係る固体電解コンデンサの製造方法は、陽極リードの一端部が埋設された金属粉末の成形体を焼結することによって陽極体を形成する工程Aと、陽極体を覆う誘電体層を形成する工程Bと、誘電体層を覆う陰極層を形成することによってコンデンサ素子を形成する工程Cと、コンデンサ素子を金型内に配置して、コンデンサ素子のうち陽極リードが突出する第1表面の反対側に設けられる第2表面側から樹脂を流し込むことによって、コンデンサ素子を封止する樹脂モールド部を形成する工程Dとを備え、工程Cは、誘電体層が形成された陽極体を所定のモノマーを含む溶液に浸漬することによって、誘電体層を覆う第1電解質層を形成する工程と、第1電解質層が形成された陽極体のうち陽極リードが突出する面を含む一部分だけを溶液から引き上げることによって、陽極体のうち一部分以外に第2電解質層を形成する工程とを含み、工程Dにおいて、コンデンサ素子の第1表面と第2表面とに繋がる第3表面と金型の内壁との間隔は、第2表面側から第1表面側に向かって徐々に大きくなっていることを要旨とする。   A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to a feature of the present invention includes a step A for forming an anode body by sintering a metal powder molded body in which one end of an anode lead is embedded, and a dielectric layer covering the anode body. Forming a capacitor element by forming a cathode layer covering the dielectric layer; and disposing the capacitor element in a mold so that the anode lead projects out of the capacitor element. And a step D of forming a resin mold portion for sealing the capacitor element by pouring resin from the second surface side provided on the opposite side of the surface. The step C includes an anode body on which a dielectric layer is formed. A step of forming a first electrolyte layer covering the dielectric layer by dipping in a solution containing a predetermined monomer, and a part including a surface from which the anode lead protrudes in the anode body on which the first electrolyte layer is formed Forming a second electrolyte layer in addition to a portion of the anode body by pulling out only the solution from the solution, and in step D, a third surface and a mold connected to the first surface and the second surface of the capacitor element The gist is that the distance from the inner wall gradually increases from the second surface side toward the first surface side.

本発明によれば、陽極体と電解質層との間における短絡を抑制可能な固体電解コンデンサ及びその製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the solid electrolytic capacitor which can suppress the short circuit between an anode body and an electrolyte layer, and its manufacturing method can be provided.

本発明の第1実施形態に係る固体電解コンデンサ100の構造を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the structure of the solid electrolytic capacitor 100 which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図1のA−A線における断面図である。It is sectional drawing in the AA of FIG. 図1のB−B線における断面図である。It is sectional drawing in the BB line of FIG. 本発明の第1実施形態に係る固体電解コンデンサ100の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the solid electrolytic capacitor 100 which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る固体電解コンデンサ100の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the solid electrolytic capacitor 100 which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態に係る固体電解コンデンサ100の構造を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the structure of the solid electrolytic capacitor 100 which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態に係る固体電解コンデンサ100の構造を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the structure of the solid electrolytic capacitor 100 which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 実施例におけるサイズの測定方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the measuring method of the size in an Example. 実施例におけるサイズの測定方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the measuring method of the size in an Example. 実施例におけるサイズの測定方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the measuring method of the size in an Example.

次に、図面を用いて、本発明の実施形態について説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には、同一又は類似の符号を付している。ただし、図面は模式的なものであり、各寸法の比率等は現実のものとは異なることに留意すべきである。従って、具体的な寸法等は以下の説明を参酌して判断すべきものである。又、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることは勿論である。   Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description of the drawings, the same or similar parts are denoted by the same or similar reference numerals. However, it should be noted that the drawings are schematic and ratios of dimensions and the like are different from actual ones. Accordingly, specific dimensions and the like should be determined in consideration of the following description. Moreover, it is a matter of course that portions having different dimensional relationships and ratios are included between the drawings.

[第1実施形態]
(固体電解コンデンサの構成)
以下において、本発明の第1実施形態に係る固体電解コンデンサについて、図面を参照しながら説明する。図1は、第1実施形態に係る固体電解コンデンサ100の構造を模式的に示す断面図である。図2は、図1のA−A線における断面図である。図3は、図1のB−B線における断面図である。
[First Embodiment]
(Configuration of solid electrolytic capacitor)
Hereinafter, a solid electrolytic capacitor according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing the structure of the solid electrolytic capacitor 100 according to the first embodiment. 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line BB in FIG.

図1に示すように、固体電解コンデンサ100は、コンデンサ素子10、陽極リード20、樹脂モールド部30、陽極端子40、陰極端子50及び導電性接着層60を備える。   As shown in FIG. 1, the solid electrolytic capacitor 100 includes a capacitor element 10, an anode lead 20, a resin mold part 30, an anode terminal 40, a cathode terminal 50, and a conductive adhesive layer 60.

固体電解コンデンサ100は、例えば、扁平な直方体形に形成される。固体電解コンデンサ100は、プリント基板などに表面実装される固体電解コンデンサである。固体電解コンデンサ100は、樹脂モールド部30によって形成される底面Sを有する。固体電解コンデンサ100の底面Sは、プリント基板などの表面に当接される面である。   The solid electrolytic capacitor 100 is formed in a flat rectangular parallelepiped shape, for example. The solid electrolytic capacitor 100 is a solid electrolytic capacitor that is surface-mounted on a printed circuit board or the like. Solid electrolytic capacitor 100 has a bottom surface S formed by resin mold part 30. The bottom surface S of the solid electrolytic capacitor 100 is a surface that comes into contact with the surface of a printed circuit board or the like.

なお、以下の説明では、底面Sの長手方向を「第1方向」、底面Sの短手方向を「第2方向」、底面Sに垂直な方向を「垂直方向」と称する。   In the following description, the longitudinal direction of the bottom surface S is referred to as “first direction”, the short direction of the bottom surface S is referred to as “second direction”, and the direction perpendicular to the bottom surface S is referred to as “vertical direction”.

コンデンサ素子10は、陽極体11、誘電体層12、電解質層13及び導電層14を有する。本実施形態において、コンデンサ素子10の外形は、図1〜図3に示すように、四角錐台形に形成される。四角錐台とは、四角錐を頂点と底面との間で底面に平行な平面で切断することによって形成される2つの物体のうち底面を含む物体の形状である。   The capacitor element 10 includes an anode body 11, a dielectric layer 12, an electrolyte layer 13, and a conductive layer 14. In the present embodiment, the outer shape of the capacitor element 10 is formed in a quadrangular pyramid shape as shown in FIGS. The square pyramid is a shape of an object including the bottom surface of two objects formed by cutting the square pyramid between a vertex and the bottom surface in a plane parallel to the bottom surface.

コンデンサ素子10は、図1及び図2に示すように、陽極リード20が突出する第1表面10Sと、第1表面10Sの反対側に設けられる第2表面10Sと、第1表面10Sと第2表面10Sとに繋がる複数の第3表面10Sとを有する。第1表面10S及び第2表面10Sは第1方向に略垂直である。また、各第3表面10Sは第1方向に対して傾斜しており、一の第3表面10Sと一の第3表面10Sの反対側に設けられる他の第3表面10Sとの間隔は、第2表面10S側から第1表面10S側に向かって徐々に大きくなっている。 As shown in FIGS. 1 and 2, the capacitor element 10 includes a first surface 10S 1 from which the anode lead 20 protrudes, a second surface 10S 2 provided on the opposite side of the first surface 10S 1 , and a first surface 10S. 1 and a plurality of third surfaces 10S 3 connected to the second surface 10S 2 . The first surface 10S 1 and the second surface 10S 2 is substantially perpendicular to the first direction. In addition, each third surface 10S 3 is inclined with respect to the first direction, and there is a relationship between one third surface 10S 3 and another third surface 10S 3 provided on the opposite side of the one third surface 10S 3 . interval is gradually increased from the second surface 10S 2 side to the first surface 10S 1 side.

ここで、本実施形態において、第2表面10Sの面積は、第1表面10Sの面積よりも大きい。従って、コンデンサ素子10は、第1表面10Sを上面とし、第2表面10Sを底面とする四角錐台形に形成されている。すなわち、コンデンサ素子10は、第2表面10Sから第1表面10Sに向かって徐々に細く形成されている。換言すれば、コンデンサ素子10は、第2表面10S側から第1表面10S側に向かってテーパー状に形成されている。なお、第2表面10Sの面積は、第1表面10Sの面積の1.02倍以上であることが好ましい。 In the present embodiment, the area of the second surface 10S 2 is greater than the area of the first surface 10S 1. Thus, the capacitor element 10, the first surface 10S 1 and the upper surface, and a second surface 10S 2 is formed in a quadrangular pyramid trapezoidal to bottom. That is, the capacitor element 10 is gradually narrower formed from the second surface 10S 2 toward the first surface 10S 1. In other words, the capacitor element 10 is tapered from the second surface 10S 2 side to the first surface 10S 1 side. The area of the second surface 10S 2 is preferably not more than 1.02 times the first area of the surface 10S 1.

また、本実施形態において、第1表面10S及び第2表面10Sそれぞれは四角形状に形成されており、コンデンサ素子10は4つの第3表面10Sを有する。一方で、樹脂モールド部30の外形は略直方体に形成されており、4つの第3表面10Sそれぞれに対向する4つの対向面30Sを有する。各対向面30Sは、第1方向に沿って形成されている。従って、各第3表面10Sは、図1及び図2に示すように、各対向面30Sに対して傾斜しており、各第3表面10Sと対向面30Sとの間隔は、第2表面10S側から第1表面10S側に向かって徐々に大きくなっている。 Further, in the present embodiment, the first surface 10S 1 and the second surface 10S 2 each are formed in a square shape, the capacitor element 10 has four third surface 10S 3. On the other hand, the outer shape of the resin mold portion 30 is formed in a substantially rectangular parallelepiped, having four facing surfaces 30S T opposed to 3 each of the four third surfaces 10S. Each facing surface 30S T is formed along the first direction. Thus, each of the third surface 10S 3, as shown in FIGS. 1 and 2, are inclined relative to each opposing face 30S T, the interval between each of the third surface 10S 3 and the opposing surface 30S T is the is gradually increased from the second surface 10S 2 side to the first surface 10S 1 side.

なお、第1表面10Sの一部は、電解質層13によって形成され、第2表面10Sは、導電層14によって形成されている。第2表面10Sは、樹脂モールド部30を形成する工程において、注入樹脂が注入される側の面である。 Part of the first surface 10S 1 is formed by the electrolyte layer 13, and the second surface 10S 2 is formed by the conductive layer 14. The second surface 10S 2, in the step of forming the resin mold portion 30, a surface on which the injection resin is injected.

陽極体11は、弁作用金属粉末又は弁作用金属を含む合金粉末を焼結することによって形成される多孔質体である。弁作用金属としては、例えば、チタン、タンタル、アルミニウム、ニオブ、ハフニウム、ジルコニウム、亜鉛、タングステン、ビスマス、アンチモンなどを用いることができる。なお、チタン、タンタル、アルミニウム及びニオブは、誘電率が高く、かつ、容易に入手できるので、陽極体11の材料として好適である。特に、ニオブ及びチタンは、酸化物の誘電率がタンタルやアルミニウムよりも高いのでより好適である。また、陽極体11の材料として上述の弁作用金属と他の金属との合金を用いる場合には、弁作用金属の割合を50%以上とすることが好ましい。   The anode body 11 is a porous body formed by sintering a valve action metal powder or an alloy powder containing a valve action metal. As the valve action metal, for example, titanium, tantalum, aluminum, niobium, hafnium, zirconium, zinc, tungsten, bismuth, antimony, or the like can be used. Titanium, tantalum, aluminum, and niobium are suitable as materials for the anode body 11 because they have a high dielectric constant and are easily available. Niobium and titanium are particularly preferable because the oxide has a higher dielectric constant than tantalum and aluminum. Moreover, when using the alloy of the above-mentioned valve action metal and another metal as a material of the anode body 11, it is preferable that the ratio of a valve action metal shall be 50% or more.

誘電体層12は、陽極体11の表面上に形成されており、陽極体11を覆っている。ここで、誘電体層12は、図示しないが、多孔質体である陽極体11の孔の内壁面を覆っていることに留意すべきである。図1では、誘電体層12のうち陽極体11の外形に沿って形成された部分のみを示している。誘電体層12は、弁作用金属の酸化物によって形成される。例えば、陽極体11がニオブにより形成されている場合、陽極酸化法によって形成される誘電体層12は酸化ニオブである。   The dielectric layer 12 is formed on the surface of the anode body 11 and covers the anode body 11. Here, it should be noted that although not shown, the dielectric layer 12 covers the inner wall surface of the hole of the anode body 11 that is a porous body. In FIG. 1, only the part formed along the external shape of the anode body 11 among the dielectric material layers 12 is shown. The dielectric layer 12 is formed of an oxide of a valve action metal. For example, when the anode body 11 is made of niobium, the dielectric layer 12 formed by the anodic oxidation method is niobium oxide.

電解質層13は、誘電体層12の表面上に形成されており、誘電体層12を覆っている。ここで、電解質層13は、図示しないが、多孔質体である陽極体11の孔の内壁面を覆う誘電体層12を覆っていることに留意すべきである。図1では、電解質層13のうち陽極体11の外形に沿って形成された部分のみを示している。電解質層13は、酸化マンガンなどの導電性金属酸化物や、ポリピロール、ポリアニリン及びポリチオフェンなどの導電性高分子によって構成される。このような導電性高分子は、重合法によって形成される。   The electrolyte layer 13 is formed on the surface of the dielectric layer 12 and covers the dielectric layer 12. Here, it should be noted that the electrolyte layer 13 covers the dielectric layer 12 that covers the inner wall surface of the hole of the anode body 11 that is a porous body, although not shown. In FIG. 1, only a portion of the electrolyte layer 13 formed along the outer shape of the anode body 11 is shown. The electrolyte layer 13 is composed of a conductive metal oxide such as manganese oxide, or a conductive polymer such as polypyrrole, polyaniline, and polythiophene. Such a conductive polymer is formed by a polymerization method.

ここで、本実施形態において、電解質層13の外形は、四角錐台形に形成されている。具体的には、電解質層13の厚みは、図1及び図2に示すように、第1表面10S側から第2表面10S側に向かって徐々に大きくなるように形成されている。そのため、第2表面10S側における電解質層13の厚みαは、第1表面10S側における電解質層13の厚みαよりも大きい。このように電解質層13を形成することによって、コンデンサ素子10の外形は四角錐台形に形成される。なお、厚みαは、20μm以上であることが好ましい。 Here, in the present embodiment, the outer shape of the electrolyte layer 13 is formed in a quadrangular pyramid shape. Specifically, the thickness of the electrolyte layer 13, as shown in FIGS. 1 and 2, are formed so as to gradually increase from the first surface 10S 1 side to the second surface 10S 2 side. Therefore, the thickness α 2 of the electrolyte layer 13 on the second surface 10S 2 side is larger than the thickness α 1 of the electrolyte layer 13 on the first surface 10S 1 side. By forming the electrolyte layer 13 in this way, the outer shape of the capacitor element 10 is formed in a quadrangular pyramid shape. The thickness alpha 2 is preferably 20μm or more.

導電層14は、カーボン層141及び銀層142を有する。カーボン層141は、電解質層13の表面上に形成される。カーボン層141は、例えば、カーボンペーストを塗布することによって形成される。銀層142は、カーボン層141の表面上に形成される。銀層142は、例えば、銀ペーストを塗布することによって形成される。なお、本実施形態において、カーボン層141及び銀層142は、コンデンサ素子10の第1表面10Sには形成されない。 The conductive layer 14 includes a carbon layer 141 and a silver layer 142. The carbon layer 141 is formed on the surface of the electrolyte layer 13. The carbon layer 141 is formed, for example, by applying a carbon paste. The silver layer 142 is formed on the surface of the carbon layer 141. The silver layer 142 is formed, for example, by applying a silver paste. In the present embodiment, the carbon layer 141 and silver layer 142 is not formed on the first surface 10S 1 of the capacitor element 10.

ここで、電解質層13と導電層14とは、固体電解コンデンサ100の「陰極層」を構成することに留意すべきである。本実施形態では、カーボン層141及び銀層142それぞれの厚みは一様に形成されている。一方で、電解質層13の厚みは、第1表面10S側から第2表面10S側に向かって徐々に大きくなるように形成されている。従って、図1及び図2に示すように、第1表面10S側における陰極層の厚みαは、第2表面10S側における陰極層の厚みβよりも大きい。 Here, it should be noted that the electrolyte layer 13 and the conductive layer 14 constitute a “cathode layer” of the solid electrolytic capacitor 100. In the present embodiment, the carbon layer 141 and the silver layer 142 are uniformly formed. On the other hand, the thickness of the electrolyte layer 13 is formed so as to gradually increase from the first surface 10S 1 side to the second surface 10S 2 side. Therefore, as shown in FIGS. 1 and 2, the cathode layer thickness α 1 on the first surface 10S 1 side is larger than the cathode layer thickness β on the second surface 10S 2 side.

陽極リード20は、第1方向に沿って配設されている。陽極リード20は、コンデンサ素子10の第1表面10Sから突出する。陽極リード20の一端部は、陽極体11の内部に埋設及び結合されており、陽極リード20の他端部は、樹脂モールド層30に封止されている。陽極リード20は、例えば、陽極体11と同様の弁作用金属又は弁作用金属を含む合金によって構成される。 The anode lead 20 is disposed along the first direction. Anode lead 20 protrudes from the first surface 10S 1 of the capacitor element 10. One end of the anode lead 20 is embedded and bonded inside the anode body 11, and the other end of the anode lead 20 is sealed with a resin mold layer 30. The anode lead 20 is made of, for example, the same valve metal as the anode body 11 or an alloy containing the valve metal.

樹脂モールド部30は、コンデンサ素子10と陽極リード20とを封止する。樹脂モールド部30は、エポキシ樹脂、フェノール樹脂などによって構成される。樹脂モールド部30は、例えば、トランスファーモールド法によって形成される。上述の通り、樹脂モールド部30は、第3表面10Sと対向する対向面30Sを有する。 The resin mold part 30 seals the capacitor element 10 and the anode lead 20. The resin mold part 30 is comprised by an epoxy resin, a phenol resin, etc. The resin mold part 30 is formed by, for example, a transfer mold method. As described above, the resin mold portion 30 has a facing surface 30S T facing the third surface 10S 3.

陽極端子40は、ニッケルなどの導電性材料によって形成されるリードフレームである。陽極端子40は、樹脂モールド部30の内部から外部に引き出されている。具体的には、陽極端子40の一端部は、樹脂モールド部30の内部で陽極リード20の他端部に接続されており、陽極端子40の他端部は、樹脂モールド部30から露出する。   The anode terminal 40 is a lead frame formed of a conductive material such as nickel. The anode terminal 40 is drawn from the inside of the resin mold part 30 to the outside. Specifically, one end portion of the anode terminal 40 is connected to the other end portion of the anode lead 20 inside the resin mold portion 30, and the other end portion of the anode terminal 40 is exposed from the resin mold portion 30.

陰極端子50は、ニッケルなどの導電性材料によって形成されるリードフレームである。陰極端子50は、樹脂モールド部30の内部から外部に引き出されている。具体的には、陰極端子50の一端部は、樹脂モールド部30の内部で導電性接着層60によって、導電層14に接続されており、陰極端子50の他端部は、コンデンサ素子100から露出する。   The cathode terminal 50 is a lead frame formed of a conductive material such as nickel. The cathode terminal 50 is drawn out from the inside of the resin mold part 30. Specifically, one end portion of the cathode terminal 50 is connected to the conductive layer 14 by the conductive adhesive layer 60 inside the resin mold portion 30, and the other end portion of the cathode terminal 50 is exposed from the capacitor element 100. To do.

(固体電解コンデンサの製造方法)
次に、第1実施形態に係る固体電解コンデンサ100の製造方法について、図面を参照しながら説明する。
(Method for manufacturing solid electrolytic capacitor)
Next, a method for manufacturing the solid electrolytic capacitor 100 according to the first embodiment will be described with reference to the drawings.

まず、弁作用金属粉末又は弁作用金属を含む合金粉末の成形体に陽極リード20の一端部を埋設する。弁作用金属粉末又は弁作用金属を含む合金粉末の一次粒子の粒径は、例えば0.5μm程度であり、二次粒子の粒径は、例えば100μm程度である。   First, one end of the anode lead 20 is embedded in a molded body of valve action metal powder or alloy powder containing the valve action metal. The primary particle diameter of the valve action metal powder or the alloy powder containing the valve action metal is, for example, about 0.5 μm, and the secondary particle diameter is, for example, about 100 μm.

次に、成形体を真空中で焼結する。これによって、略直方体の外形を有する多孔質体である陽極体11が形成される。陽極リード20の一端部は、陽極体11に結合される。   Next, the compact is sintered in a vacuum. Thereby, the anode body 11 which is a porous body having a substantially rectangular parallelepiped outer shape is formed. One end of the anode lead 20 is coupled to the anode body 11.

次に、陽極酸化法によって、陽極体11を覆う誘電体層12を形成する。具体的には、例えば、リン酸水溶液(約60℃、約0.01重量%濃度)中において、約10Vの定電圧を印加することによって、陽極体11を酸化する。なお、誘電体層12は、陽極体11の多数の孔の内壁面上にも形成される。誘電体層12の厚みは、コンデンサ素子10の耐電圧及び静電容量を考慮して、10nm〜500nm程度であることが好ましいが、これに限られるものではない。   Next, a dielectric layer 12 covering the anode body 11 is formed by an anodic oxidation method. Specifically, for example, the anode body 11 is oxidized by applying a constant voltage of about 10 V in an aqueous phosphoric acid solution (about 60 ° C., about 0.01 wt% concentration). The dielectric layer 12 is also formed on the inner wall surfaces of the numerous holes of the anode body 11. The thickness of the dielectric layer 12 is preferably about 10 nm to 500 nm in consideration of the withstand voltage and capacitance of the capacitor element 10, but is not limited thereto.

次に、重合法によって、誘電体層12を覆う電解質層13を形成する。この重合工程について、図4を参照しながら説明する。   Next, an electrolyte layer 13 that covers the dielectric layer 12 is formed by a polymerization method. This polymerization step will be described with reference to FIG.

まず、図4(a)に示すように、誘電体層12が形成された陽極体11を酸化剤Kに浸漬する。   First, as shown in FIG. 4A, the anode body 11 on which the dielectric layer 12 is formed is immersed in an oxidizing agent K.

次に、図4(b)に示すように、誘電体層12が形成された陽極体11を、所定のモノマーを含む溶液Lに所定時間(例えば、10分間程度)浸漬することによって、誘電体層12を覆う第1電解質層13aを形成する。   Next, as shown in FIG. 4B, the anode body 11 on which the dielectric layer 12 is formed is immersed in a solution L containing a predetermined monomer for a predetermined time (for example, about 10 minutes), so that the dielectric A first electrolyte layer 13a covering the layer 12 is formed.

次に、図4(c)に示すように、第1電解質層13aが形成された陽極体11のうち陽極リードが突出する面を含む第1部分Q1だけを、溶液Lから引き上げる。   Next, as shown in FIG. 4C, only the first portion Q1 including the surface from which the anode lead projects out of the anode body 11 on which the first electrolyte layer 13a is formed is pulled up from the solution L.

次に、図4(c)に示すように、第1電解質層13aが形成された前記陽極体のうち第1部分Q1以外の第2部分Q2を溶液Lに所定時間(例えば、10分間程度)浸漬することによって、第2部分Q2を覆う第2電解質層13bを形成する。   Next, as shown in FIG. 4C, the second part Q2 other than the first part Q1 in the anode body on which the first electrolyte layer 13a is formed is kept in the solution L for a predetermined time (for example, about 10 minutes). By immersing, the second electrolyte layer 13b covering the second portion Q2 is formed.

次に、図4(d)に示すように、第2電解質層13bが形成された第2部分Q2の一部を溶液Lから引き上げるとともに、第3部分Q3だけを溶液Lに所定時間(例えば、10分間程度)浸漬することによって、第3部分Q3を覆う第3電解質層13cを形成する。   Next, as shown in FIG. 4D, a part of the second portion Q2 where the second electrolyte layer 13b is formed is pulled up from the solution L, and only the third portion Q3 is left in the solution L for a predetermined time (for example, The third electrolyte layer 13c covering the third portion Q3 is formed by dipping for about 10 minutes).

次に、図4(e)に示すように、第3電解質層13cが形成された第3部分Q3を、溶液Lから引き上げて、乾燥、水洗い、乾燥を順次施す。以上の工程によって、第1電解質層13a、第2電解質層13b及び第3電解質層13cによって構成される電解質層13が形成される。   Next, as shown in FIG. 4E, the third portion Q3 on which the third electrolyte layer 13c is formed is pulled up from the solution L, dried, washed with water, and dried sequentially. Through the above steps, the electrolyte layer 13 constituted by the first electrolyte layer 13a, the second electrolyte layer 13b, and the third electrolyte layer 13c is formed.

以上の図4(a)〜(e)に示す工程を複数回(例えば、7回程度)繰り返すことによって、陽極リード20が突出する面から離れるほど電解質層13の厚みを大きくする。その結果、電解質層13の外形は、陽極リード20が突出する面を上面とする四角錐台形に形成される。なお、溶液Lへの浸漬時間や陽極体11を引き上げる幅などを適宜変更することによって、電解質層13の外形、すなわち、四角錐台形の斜辺の傾きなどを調整することができる。   The steps shown in FIGS. 4A to 4E are repeated a plurality of times (for example, about 7 times), thereby increasing the thickness of the electrolyte layer 13 as the distance from the surface from which the anode lead 20 protrudes. As a result, the outer shape of the electrolyte layer 13 is formed in a quadrangular pyramid shape with the surface from which the anode lead 20 projects as the upper surface. Note that the outer shape of the electrolyte layer 13, that is, the slope of the hypotenuse of the quadrangular pyramid can be adjusted by appropriately changing the immersion time in the solution L, the width for pulling up the anode body 11, and the like.

次に、カーボンペーストを電解質層13の表面(陽極リード20が突出する面を除く)を覆うように塗布した後、カーボンペーストを乾燥させることによって、カーボン層141を略均一に形成する。続いて、銀ペーストをカーボン層141の表面を覆うように塗布した後、銀ペーストを乾燥させることによって、銀層142を略均一に形成する。これによって、電解質層13上に導電層14が形成される。   Next, after applying the carbon paste so as to cover the surface of the electrolyte layer 13 (excluding the surface from which the anode lead 20 protrudes), the carbon paste is dried to form the carbon layer 141 substantially uniformly. Subsequently, after applying the silver paste so as to cover the surface of the carbon layer 141, the silver paste is dried to form the silver layer 142 substantially uniformly. As a result, a conductive layer 14 is formed on the electrolyte layer 13.

以上によって、陽極体11と誘電体層12と陰極層(電解質層13及び導電層14)とによって構成され、第1表面10Sと第2表面10Sとを有するコンデンサ素子10が形成される。なお、コンデンサ素子10の外形は、電解質層13に対応する四角錐台形に形成される。 Or by being constituted by the anode body 11 and the dielectric layer 12 and the cathode layer (the electrolyte layer 13 and conductive layer 14), the capacitor element 10 having first surface 10S 1 and the second surface 10S 2 is formed. Note that the outer shape of the capacitor element 10 is formed in a quadrangular pyramid shape corresponding to the electrolyte layer 13.

次に、陽極リード20を陽極端子40に溶接するとともに、導電性接着剤を用いて、導電層14に陰極端子50を接着する。   Next, the anode lead 20 is welded to the anode terminal 40, and the cathode terminal 50 is bonded to the conductive layer 14 using a conductive adhesive.

次に、箱型の金型を用いたトランスファーモールド法によって樹脂モールド部30を形成する。具体的には、図5に示すように、金型200内にコンデンサ素子100を配置して、第2表面10S近傍に設けられた金型200の注入口200aから樹脂30Mを注入する。 Next, the resin mold portion 30 is formed by a transfer mold method using a box mold. Specifically, as shown in FIG. 5, by arranging the capacitor element 100 in the mold 200, injecting a resin 30M from the injection port 200a of the mold 200 provided 2 near the second surface 10S.

ここで、陽極リード20が突出する第1表面10Sの反対側から樹脂30Mを注入する理由について説明する。まず、陽極体11のうち陽極リード20を結合する領域(以下、「結合領域」)では、欠陥や歪が生じ易い。また、誘電体層12は、陽極体11を陽極酸化することによって形成された自己酸化膜である。そのため、結合領域近傍に形成された誘電体層12にも、欠陥や歪が生じ易い。従って、注入される樹脂30Mから受ける圧力によって、結合領域近傍の誘電体層12に欠陥や歪が生じるおそれがある。そこで、一般的に、樹脂30Mは、陽極リード20が突出する第1表面10Sの反対側から注入される。 The following describes the reason for injecting the resin 30M from the first surface 10S 1 of the opposite anode lead 20 is protruded. First, in the region of the anode body 11 where the anode lead 20 is bonded (hereinafter referred to as “bonded region”), defects and distortions are likely to occur. The dielectric layer 12 is a self-oxidized film formed by anodizing the anode body 11. Therefore, defects and strains are likely to occur in the dielectric layer 12 formed in the vicinity of the coupling region. Accordingly, the pressure received from the injected resin 30M may cause defects or distortion in the dielectric layer 12 near the bonding region. Therefore, generally, the resin 30M, the anode lead 20 is injected from the opposite side of the first surface 10S 1 projecting.

注入された樹脂30Mは、第2表面10Sに突き当たった後、第3表面10S上を第1表面10S側に向かって流される。なお、金型200の内部は略直方体状に形成されており、第3表面10Sは、金型200の内壁に対して傾斜しており、第3表面10Sと金型の内壁との間隔は、第2表面10S側から第1表面10S側に向かって徐々に大きくなっている。 Injected resin 30M, after hits the second surface 10S 2, flows toward the third surface 10S 3 on the first surface 10S 1 side. Incidentally, the interior of the mold 200 is formed in a substantially rectangular shape, a third surface 10S 3 is inclined with respect to the inner wall of the mold 200, the distance between the third surface 10S 3 mold inner wall is gradually increased from the second surface 10S 2 side to the first surface 10S 1 side.

(作用及び効果)
本実施形態に係るコンデンサ素子10において、第2表面10Sの面積は第1表面10Sの面積よりも大きく、第3表面10Sと対向面30Sとの間隔は、第2表面10S側から第1表面10S側に向かって徐々に大きくなるように形成される。
(Function and effect)
In the capacitor element 10 according to the present embodiment, the area of the second surface 10S 2 is larger than the area of the first surface 10S 1, the distance between the third surface 10S 3 and the opposing surface 30S T, the second surface 10S 2 side from toward the first surface 10S 1 side is formed so as to gradually increase.

そのため、固体電解コンデンサ100の製造方法において、コンデンサ素子10を金型200内に配置して、コンデンサ素子10の第2表面10S側から樹脂30Mを流し込む工程において、注入された樹脂30Mから第3表面10Sにかかる応力を小さくすることができる。その結果、誘電体層12の損傷を抑制できるので、コンデンサ素子10内部における漏れ電流を低減することができる。 Therefore, in the manufacturing method of solid electrolytic capacitor 100, a capacitor element 10 is placed in a mold 200, in the step of pouring the resin 30M from the second surface 10S 2 side of the capacitor element 10, the third from the injected resin 30M it is possible to reduce the stress on the surface 10S 3. As a result, since damage to the dielectric layer 12 can be suppressed, leakage current inside the capacitor element 10 can be reduced.

また、本実施形態において、コンデンサ素子10の第2表面10S側における陰極層の厚みβは、第1表面10S側における陰極層の厚みαよりも大きい。 Further, in the present embodiment, the thickness of the cathode layer β in the second surface 10S 2 side of the capacitor element 10 is greater than the thickness alpha 1 of the cathode layer at the first surface 10S 1 side.

従って、第2表面10Sにおけるコンデンサ素子10の強度、特に、第2表面10S側における誘電体層12の保護強度を向上することができる。そのため、第2表面10Sに樹脂30Mが突き当たった際の衝撃によって、第2表面10S側における誘電体層12が損傷を受けることを抑制することができる。 Thus, the strength of the capacitor element 10 in the second surface 10S 2, in particular, it is possible to improve the protection strength of the dielectric layer 12 in the second surface 10S 2 side. Therefore, it is possible to the second surface 10S 2 by impact when the resin 30M is abutted, to prevent the dielectric layer 12 in the second surface 10S 2 side is damaged.

また、本実施形態に係る固体電解コンデンサ100の製造方法において、誘電体層12を覆う陰極層(電解質層13及び導電層14)を形成する工程は、誘電体層12が形成された陽極体11を溶液Lに浸漬することによって、誘電体層12を覆う第1電解質層13aを形成する工程と、第1電解質層13aが形成された陽極体11のうち第1部分Q1だけを溶液Lから引き上げることによって、第1部分Q1以外の第2部分Q2に第2電解質層13bを形成する工程とを含む。   In the method for manufacturing the solid electrolytic capacitor 100 according to the present embodiment, the step of forming the cathode layer (the electrolyte layer 13 and the conductive layer 14) covering the dielectric layer 12 includes the anode body 11 on which the dielectric layer 12 is formed. In the solution L, the first electrolyte layer 13a covering the dielectric layer 12 is formed, and only the first portion Q1 of the anode body 11 on which the first electrolyte layer 13a is formed is pulled up from the solution L. And a step of forming the second electrolyte layer 13b in the second portion Q2 other than the first portion Q1.

このように、陽極体11を複数回に分けて引き上げることによって、第2表面10S側における電解質層13の厚みαを、第1表面10S側における電解質層13の厚みαよりも大きくすることができる。従って、工数の増加を抑えつつ、かつ、電解質層13の厚みを精度良く制御することができる。その結果、簡易かつ精度良く、第2表面10S側における陰極層の厚みβを第1表面10S側における陰極層の厚みαよりも大きくすることができる。 In this way, by lifting the anode body 11 in a plurality of times, the thickness α 2 of the electrolyte layer 13 on the second surface 10S 2 side is larger than the thickness α 1 of the electrolyte layer 13 on the first surface 10S 1 side. can do. Therefore, it is possible to accurately control the thickness of the electrolyte layer 13 while suppressing an increase in the number of steps. As a result, simply and accurately, it can be larger than the thickness alpha 1 of the cathode layer the thickness of the cathode layer β in the second surface 10S 2 side of the first surface 10S 1 side.

[第2実施形態]
次に、本発明の第2実施形態に係る固体電解コンデンサ100について、図面を参照しながら説明する。なお、以下においては、上記第1実施形態との相違点について主に説明する。
[Second Embodiment]
Next, a solid electrolytic capacitor 100 according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following, differences from the first embodiment will be mainly described.

図6は、第2実施形態に係る固体電解コンデンサ100の構造を模式的に示す断面図である。   FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing the structure of the solid electrolytic capacitor 100 according to the second embodiment.

陽極体11は、コンデンサ素子10の構成要素のうちコンデンサ素子10における占有体積率が最も大きい部材である。   The anode body 11 is a member having the largest occupied volume ratio in the capacitor element 10 among the constituent elements of the capacitor element 10.

本実施形態において、陽極体11の外形は、図6に示すように、四角錐台形に形成される。すなわち、コンデンサ素子10において、陽極体11は、第2表面10S側から第1表面10S側に向かってテーパー状に形成されている。このため、コンデンサ素子10の第3表面10Sは、第1方向に対して傾斜しており、一の第3表面10Sと一の第3表面10Sの反対側に設けられる他の第3表面10Sとの間隔は、第2表面10S側から第1表面10S側に向かって徐々に小さくなっている。 In the present embodiment, the outer shape of the anode body 11 is formed in a quadrangular pyramid shape as shown in FIG. That is, in the capacitor element 10, anode body 11 is tapered from the second surface 10S 2 side to the first surface 10S 1 side. Thus, third surface 10S 3 of the capacitor element 10 is inclined to the first direction, another third provided on the opposite side of the third surface 10S 3 of the first and one third surface 10S 3 distance between surface 10S 3 is a second surface 10S 2 side gradually decreases toward the first surface 10S 1 side.

このような陽極体11は、四角錐台形の内部空間を有する金型を用いて、弁作用金属粉末又は弁作用金属を含む合金粉末を成形することによって形成することができる。   Such an anode body 11 can be formed by molding a valve metal powder or an alloy powder containing a valve metal using a mold having a quadrangular pyramid internal space.

なお、第2実施形態において、電解質層13の厚みは、図6に示すように、略均一であることに留意すべきである。   In the second embodiment, it should be noted that the thickness of the electrolyte layer 13 is substantially uniform as shown in FIG.

(作用及び効果)
第2実施形態に係る陽極体11の外形は、四角錐台形に形成される。このように、コンデンサ素子10における占有体積率が最も多い部材を四角錐台形に形成することによって、コンデンサ素子10の外形は四角錐台形に形成されている。
(Function and effect)
The outer shape of the anode body 11 according to the second embodiment is formed in a quadrangular pyramid shape. Thus, by forming the member having the largest occupied volume ratio in the capacitor element 10 in a quadrangular pyramid shape, the outer shape of the capacitor element 10 is formed in a quadrangular pyramid shape.

そのため、コンデンサ素子10の設計の自由度を大きくすることができる。具体的には、コンデンサ素子10の第3表面10Sと樹脂モールド部30の対向面30Sとの傾きをより広い範囲、すなわち、コンデンサ素子10の第3表面10Sと金型200の内壁との間隔を広い範囲で調整できる。その結果、コンデンサ素子10の外形を樹脂30Mからの応力が軽減されやすい形状に簡易に調整することができる。 Therefore, the degree of freedom in designing the capacitor element 10 can be increased. More specifically, the third surface 10S 3 and a wider range of inclination of the opposing surface 30S T of the resin mold portion 30 of the capacitor element 10, i.e., the inner wall of the third surface 10S 3 mold 200 of the capacitor element 10 Can be adjusted over a wide range. As a result, the outer shape of the capacitor element 10 can be easily adjusted to a shape in which stress from the resin 30M is easily reduced.

[第3実施形態]
次に、本発明の第3実施形態に係る固体電解コンデンサ100について、図面を参照しながら説明する。なお、以下においては、上記第1実施形態との相違点について主に説明する。
[Third Embodiment]
Next, a solid electrolytic capacitor 100 according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following, differences from the first embodiment will be mainly described.

図7は、第3実施形態に係る固体電解コンデンサ100の構造を模式的に示す断面図である。   FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing the structure of the solid electrolytic capacitor 100 according to the third embodiment.

本実施形態において、導電層14の厚みは、第1表面10S側から第2表面10S側に向かって徐々に大きくなるように形成されており、導電層14の外形は、四角錐台形に形成されている。具体的には、導電層14のうち銀層142の厚みは、第1表面10S側から第2表面10S側に向かって徐々に大きくなるように形成されている。従って、第2表面10S側における陰極層の厚みβは、第1表面10S側における陰極層の厚みαよりも大きい。このように陰極層を形成することによって、コンデンサ素子10の外形は四角錐台形に形成される。 In the present embodiment, the thickness of the conductive layer 14 from the first surface 10S 1 side is formed so as to gradually increase toward the second surface 10S 2 side, the outer shape of the conductive layer 14, the quadrangular pyramid trapezoidal Is formed. Specifically, the thickness of the silver layer 142 of the conductive layer 14 is formed so as to gradually increase from the first surface 10S 1 side to the second surface 10S 2 side. Therefore, the thickness β of the cathode layer on the second surface 10S 2 side is larger than the thickness α 1 of the cathode layer on the first surface 10S 1 side. By forming the cathode layer in this manner, the outer shape of the capacitor element 10 is formed in a quadrangular pyramid shape.

このような導電層14は、カーボン層141の表面を覆うように、銀ペーストを第2表面10S側で重ね塗りすることによって形成することができる。 Such conductive layer 14 can be formed by recoating so as to cover the surface of the carbon layer 141, silver paste on the second surface 10S 2 side.

なお、第3実施形態において、電解質層13の厚みは、図7に示すように、略均一であることに留意すべきである。   In the third embodiment, it should be noted that the thickness of the electrolyte layer 13 is substantially uniform as shown in FIG.

(作用及び効果)
第3実施形態に係る導電層14の厚みは、第1表面10S側から第2表面10S側に向かって徐々に大きくなるように形成されている。従って、導電性ペーストを重ね塗りすることによって、コンデンサ素子10の外形を簡易に四角錐台形に形成することができる。
(Function and effect)
The thickness of the conductive layer 14 according to the third embodiment is formed so as to gradually increase from the first surface 10S 1 side to the second surface 10S 2 side. Therefore, the outer shape of the capacitor element 10 can be easily formed into a quadrangular pyramid shape by repeatedly applying the conductive paste.

(その他の実施形態)
本発明は上記実施形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
(Other embodiments)
Although the present invention has been described by using the above-described embodiments, it should not be understood that the description and drawings constituting a part of this disclosure limit the present invention. From this disclosure, various alternative embodiments, examples and operational techniques will be apparent to those skilled in the art.

例えば、上記実施形態では、コンデンサ素子10の外形を「四角錐台形」に形成することとしたが、これに限られるものではない。本発明に係るコンデンサ素子10の外形は、第2表面10Sの面積が、第1表面10Sの面積よりも大きく、第3表面10Sと対向面30Sとの間隔が、第2表面10S側から第1表面10S側に向かって徐々に大きい形状であれば良い。例えば、コンデンサ素子10の外形は、円錐台形や、四角錐以外の多角形台形であってもよい。 For example, in the embodiment described above, the outer shape of the capacitor element 10 is formed in a “square pyramid shape”, but the present invention is not limited to this. The outer shape of the capacitor element 10 according to the present invention, the area of the second surface 10S 2 is larger than the area of the first surface 10S 1, the distance between the third surface 10S 3 and the facing surface 30S T, a second surface 10S it may be a gradually larger shape from a 2 side to the first surface 10S 1 side. For example, the external shape of the capacitor element 10 may be a truncated cone or a polygonal trapezoid other than a quadrangular pyramid.

また、上記実施形態では、コンデンサ素子10が有する全ての第3表面10Sが樹脂モールド部30の対向面30S(すなわち、金型200の内壁)に対して傾いていることとしたが、これに限られるものではない。コンデンサ素子10の一の第3表面10Sが樹脂モールド部30の対向面30Sに対して傾いていれば、上記実施形態に係る効果を奏することができる。 In the above embodiment, the opposing surface 30S T of the third surface 10S 3 resin mold portion 30 all having the capacitor element 10 (i.e., the inner wall of the mold 200) is set to be inclined with respect to which It is not limited to. If one third surface 10S 3 of the capacitor element 10 is long inclined with respect to the opposing surface 30S T of the resin mold portion 30, it is possible to achieve the effect according to the embodiment.

また、上記実施形態では、リン酸水溶液を用いて陽極体11の陽極酸化を行ったが、本発明はこれに限らず、リン酸イオンを含む水溶液として、リン酸アンモニウム水溶液やリン酸ナトリウム水溶液などを用いてもよい。   Moreover, in the said embodiment, although the anodic oxidation of the anode body 11 was performed using phosphoric acid aqueous solution, this invention is not limited to this, As aqueous solution containing a phosphate ion, ammonium phosphate aqueous solution, sodium phosphate aqueous solution, etc. May be used.

また、上記実施形態では特に触れていないが、樹脂モールド部30を構成する樹脂は、酸化アンチモン、カルバナワックス、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランおよびカーボンブラックや、ワックス類、離型剤、着色剤、難燃剤、カップリング剤、可撓化剤などの各種添加剤が添加されていてもよい。   Although not particularly mentioned in the above embodiment, the resin constituting the resin mold part 30 is antimony oxide, carbana wax, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and carbon black, waxes, release agents, Various additives such as a colorant, a flame retardant, a coupling agent, and a flexible agent may be added.

このように本発明は、ここでは記載していない様々な実施形態等を包含するということを理解すべきである。したがって、本発明はこの開示から妥当な特許請求の範囲の発明特定事項によってのみ限定されるものである。  Thus, it should be understood that the present invention includes various embodiments and the like not described herein. Therefore, the present invention is limited only by the invention specifying matters in the scope of claims reasonable from this disclosure.

以下、本発明に係る固体電解コンデンサの実施例について具体的に説明するが、本発明は、下記の実施例に示したものに限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において、適宜変更して実施することができるものである。   Hereinafter, examples of the solid electrolytic capacitor according to the present invention will be specifically described. However, the present invention is not limited to those shown in the following examples, and may be appropriately changed within the scope not changing the gist thereof. Can be implemented.

なお、実施例1〜14では電解質層の外形を四角錐台形に形成することによって、また、実施例15,16では陽極体の外形を四角錐台形に形成することによって、また、実施例17では導電層の外形を四角錐台形に形成することによって、コンデンサ素子の外形を四角錐台形に形成していることに留意すべきである。   In Examples 1 to 14, the outer shape of the electrolyte layer is formed in a quadrangular pyramid shape, in Examples 15 and 16, the outer shape of the anode body is formed in a quadrangular pyramid shape, and in Example 17, It should be noted that the outer shape of the capacitor layer is formed into a quadrangular pyramid shape by forming the outer shape of the conductive layer into a quadrangular pyramid shape.

(実施例1)
以下のように、実施例1に係る固体電解コンデンサを作製した(図1参照)。
Example 1
A solid electrolytic capacitor according to Example 1 was produced as follows (see FIG. 1).

まず、1次粒径が0.5μmのニオブ金属粉に陽極リードを差し込んだ状態で真空焼結することによって、垂直方向高さ1.00mm、第1方向幅4.40mm、第2方向奥行き3.30mmとなる外形が略直方体の多孔質焼結体(陽極体)を形成した。   First, vacuum sintering is performed with an anode lead inserted in a niobium metal powder having a primary particle size of 0.5 μm, whereby a vertical height of 1.00 mm, a first direction width of 4.40 mm, and a second direction depth of 3 A porous sintered body (anode body) having an outer shape of approximately 30 mm was formed.

次に、多孔質焼結体をリン酸水溶液(60℃、約0.01重量%)に浸漬して、約10Vの電圧を印加した状態で10時間保持した。これによって、多孔質焼結体の表面及び内部に酸化被膜(誘電体層)を形成した。   Next, the porous sintered body was immersed in a phosphoric acid aqueous solution (60 ° C., about 0.01 wt%), and held for 10 hours in a state where a voltage of about 10 V was applied. Thus, an oxide film (dielectric layer) was formed on the surface and inside of the porous sintered body.

次に、誘電体層が形成された陽極体を酸化剤に浸漬した。   Next, the anode body on which the dielectric layer was formed was immersed in an oxidizing agent.

次に、陽極体全体をピロールモノマー液に10分間浸漬した。続いて、陽極体のうち陽極リードが突出する側の3分の1を液面から引き出した状態で、10分間保持した。続いて、陽極体のうち陽極リードが突出する側の3分の2を液面から引き出した状態で、さらに10分間保持した。続いて、陽極体全体を引き上げて、陽極体に乾燥、水洗、乾燥を順次施した。   Next, the entire anode body was immersed in a pyrrole monomer solution for 10 minutes. Subsequently, one third of the anode body on the side from which the anode lead protrudes was held for 10 minutes while being drawn from the liquid surface. Subsequently, two-thirds of the anode body on the side where the anode lead protrudes was held for another 10 minutes in a state where it was pulled out from the liquid surface. Subsequently, the whole anode body was pulled up, and the anode body was sequentially dried, washed with water, and dried.

以上説明したポリピロール膜(電解質層)の形成及び乾燥の工程を7回繰り返し行った。陽極リードが突出する表面における電解質層の平均厚みaは10μmであり、陽極リードが突出する表面の反対側表面における電解質層の平均厚みdは20μmであった。なお、平均厚みa,dの測定方法については後述する。   The polypyrrole film (electrolyte layer) formation and drying steps described above were repeated seven times. The average thickness a of the electrolyte layer on the surface from which the anode lead protrudes was 10 μm, and the average thickness d of the electrolyte layer on the surface opposite to the surface from which the anode lead protrudes was 20 μm. In addition, the measuring method of average thickness a and d is mentioned later.

次に、カーボンペーストと銀ペーストをポリピロール膜の表面を覆うように順次塗布することによって導電層を形成した。なお、銀ペースト塗布工程では、カーボン層が形成された陽極体を、陽極リードが突出する表面を露出させた状態で銀ペースト浴内に3分間浸漬した。   Next, a conductive layer was formed by sequentially applying a carbon paste and a silver paste so as to cover the surface of the polypyrrole film. In the silver paste coating step, the anode body on which the carbon layer was formed was immersed in a silver paste bath for 3 minutes with the surface from which the anode lead protruded exposed.

以上のようにして形成された四角錐台形のコンデンサ素子において、第1表面の面積は3.65mmであり、第1表面と反対側の第2表面の面積は3.74mmであった。 In the quadrangular frustum-shaped capacitor element formed as described above, the area of the first surface was 3.65 mm 2 , and the area of the second surface opposite to the first surface was 3.74 mm 2 .

次に、陽極端子と陽極リードとを溶接により接続した。続いて、導電性接着剤を用いて、銀層に陰極端子を接続した。   Next, the anode terminal and the anode lead were connected by welding. Subsequently, a cathode terminal was connected to the silver layer using a conductive adhesive.

次に、トランスファーモールド法によって、コンデンサ素子を樹脂に封止した。具体的には、略直方体の金型内にコンデンサ素子を配置して、樹脂を第2表面側から注入した。   Next, the capacitor element was sealed with resin by a transfer molding method. Specifically, the capacitor element was placed in a substantially rectangular parallelepiped mold, and the resin was injected from the second surface side.

(実施例2)
実施例2では、電解質層を形成する工程において、ピロールモノマー液への浸漬時間を調整することによって、陽極リードが突出する表面における電解質層の平均厚みaを13μmとし、反対側表面における電解質層の平均厚みdを25μmとした。
(Example 2)
In Example 2, in the step of forming the electrolyte layer, by adjusting the immersion time in the pyrrole monomer solution, the average thickness a of the electrolyte layer on the surface from which the anode lead protrudes is 13 μm, and the electrolyte layer on the opposite surface The average thickness d was 25 μm.

その他の工程は、上記実施例1と同様に行なった。   Other steps were performed in the same manner as in Example 1.

なお、実施例2に係るコンデンサ素子では、第1表面の面積は3.68mmであり、第1表面と反対側の第2表面の面積は3.79mmであった。 In the capacitor element according to Example 2, the area of the first surface was 3.68 mm 2 , and the area of the second surface opposite to the first surface was 3.79 mm 2 .

(実施例3)
実施例3では、電解質層を形成する工程において、ピロールモノマー液への浸漬時間を調整することによって、陽極リードが突出する表面における電解質層の平均厚みaを15μmとし、反対側表面における電解質層の平均厚みdを30μmとした。
(Example 3)
In Example 3, in the step of forming the electrolyte layer, by adjusting the immersion time in the pyrrole monomer solution, the average thickness a of the electrolyte layer on the surface from which the anode lead protrudes is set to 15 μm, and the electrolyte layer on the opposite surface is formed. The average thickness d was 30 μm.

その他の工程は、上記実施例1と同様に行なった。   Other steps were performed in the same manner as in Example 1.

なお、実施例3に係るコンデンサ素子では、第1表面の面積は3.70mmであり、第1表面と反対側の第2表面の面積は3.83mmであった。 In the capacitor element according to the third embodiment, the area of the first surface is 3.70 mm 2, the area of the opposite side of the second surface and the first surface was 3.83Mm 2.

(実施例4)
実施例4では、電解質層を形成する工程において、ピロールモノマー液への浸漬時間を調整することによって、陽極リードが突出する表面における電解質層の平均厚みaを6μmとし、反対側表面における電解質層の平均厚みdを30μmとした。
Example 4
In Example 4, in the step of forming the electrolyte layer, by adjusting the immersion time in the pyrrole monomer solution, the average thickness a of the electrolyte layer on the surface from which the anode lead protrudes is 6 μm, and the electrolyte layer on the opposite surface The average thickness d was 30 μm.

その他の工程は、上記実施例1と同様に行なった。   Other steps were performed in the same manner as in Example 1.

なお、実施例4に係るコンデンサ素子では、第1表面の面積は3.61mmであり、第1表面と反対側の第2表面の面積は3.83mmであった。 In the capacitor element according to Example 4, the area of the first surface was 3.61 mm 2 , and the area of the second surface opposite to the first surface was 3.83 mm 2 .

(実施例5)
実施例5では、電解質層を形成する工程において、ピロールモノマー液への浸漬時間を調整することによって、陽極リードが突出する表面における電解質層の平均厚みaを10μmとし、反対側表面における電解質層の平均厚みdを30μmとした。
(Example 5)
In Example 5, in the step of forming the electrolyte layer, by adjusting the immersion time in the pyrrole monomer solution, the average thickness a of the electrolyte layer on the surface from which the anode lead protrudes is 10 μm, and the electrolyte layer on the opposite surface The average thickness d was 30 μm.

その他の工程は、上記実施例1と同様に行なった。   Other steps were performed in the same manner as in Example 1.

なお、実施例5に係るコンデンサ素子では、第1表面の面積は3.65mmであり、第1表面と反対側の第2表面の面積は3.83mmであった。 In the capacitor element according to Example 5, the area of the first surface was 3.65 mm 2 , and the area of the second surface opposite to the first surface was 3.83 mm 2 .

(実施例6)
実施例6では、電解質層を形成する工程において、ピロールモノマー液への浸漬時間を調整することによって、陽極リードが突出する表面における電解質層の平均厚みaを12μmとし、反対側表面における電解質層の平均厚みdを30μmとした。
(Example 6)
In Example 6, in the step of forming the electrolyte layer, by adjusting the immersion time in the pyrrole monomer solution, the average thickness a of the electrolyte layer on the surface from which the anode lead protrudes is 12 μm, and the electrolyte layer on the opposite surface The average thickness d was 30 μm.

その他の工程は、上記実施例1と同様に行なった。   Other steps were performed in the same manner as in Example 1.

なお、実施例6に係るコンデンサ素子では、第1表面の面積は3.67mmであり、第1表面と反対側の第2表面の面積は3.83mmであった。 In the capacitor element according to Example 6, the area of the first surface is 3.67Mm 2, the area of the opposite side of the second surface and the first surface was 3.83Mm 2.

(実施例7)
実施例7では、電解質層を形成する工程において、ピロールモノマー液への浸漬時間を調整することによって、陽極リードが突出する表面における電解質層の平均厚みaを20μmとし、反対側表面における電解質層の平均厚みdを30μmとした。
(Example 7)
In Example 7, in the step of forming the electrolyte layer, by adjusting the immersion time in the pyrrole monomer solution, the average thickness a of the electrolyte layer on the surface from which the anode lead protrudes is 20 μm, and the electrolyte layer on the opposite surface The average thickness d was 30 μm.

その他の工程は、上記実施例1と同様に行なった。   Other steps were performed in the same manner as in Example 1.

なお、実施例7に係るコンデンサ素子では、第1表面の面積は3.74mmであり、第1表面と反対側の第2表面の面積は3.83mmであった。 In the capacitor element according to Example 7, the area of the first surface was 3.74 mm 2 , and the area of the second surface opposite to the first surface was 3.83 mm 2 .

(実施例8)
実施例8では、電解質層を形成する工程において、ピロールモノマー液への浸漬時間を調整することによって、陽極リードが突出する表面における電解質層の平均厚みaを25μmとし、反対側表面における電解質層の平均厚みdを30μmとした。
(Example 8)
In Example 8, in the step of forming the electrolyte layer, by adjusting the immersion time in the pyrrole monomer solution, the average thickness a of the electrolyte layer on the surface from which the anode lead protrudes is set to 25 μm, and the electrolyte layer on the opposite surface is formed. The average thickness d was 30 μm.

その他の工程は、上記実施例1と同様に行なった。   Other steps were performed in the same manner as in Example 1.

なお、実施例8に係るコンデンサ素子では、第1表面の面積は3.79mmであり、第1表面と反対側の第2表面の面積は3.83mmであった。 In the capacitor element according to Example 8, the area of the first surface is 3.79Mm 2, the area of the opposite side of the second surface and the first surface was 3.83Mm 2.

(実施例9)
実施例9では、電解質層を形成する工程において、ピロールモノマー液への浸漬時間を調整することによって、陽極リードが突出する表面における電解質層の平均厚みaを8μmとし、反対側表面における電解質層の平均厚みdを15μmとした。
Example 9
In Example 9, in the step of forming the electrolyte layer, by adjusting the immersion time in the pyrrole monomer solution, the average thickness a of the electrolyte layer on the surface from which the anode lead protrudes is 8 μm, and the electrolyte layer on the opposite surface The average thickness d was 15 μm.

その他の工程は、上記実施例1と同様に行なった。   Other steps were performed in the same manner as in Example 1.

なお、実施例9に係るコンデンサ素子では、第1表面の面積は3.63mmであり、第1表面と反対側の第2表面の面積は3.70mmであった。 In the capacitor element according to Example 9, the area of the first surface was 3.63 mm 2 , and the area of the second surface opposite to the first surface was 3.70 mm 2 .

(実施例10)
実施例10では、電解質層を形成する工程において、ピロールモノマー液への浸漬時間を調整することによって、陽極リードが突出する表面における電解質層の平均厚みaを6μmとし、反対側表面における電解質層の平均厚みdを12μmとした。
(Example 10)
In Example 10, in the step of forming the electrolyte layer, by adjusting the immersion time in the pyrrole monomer solution, the average thickness a of the electrolyte layer on the surface from which the anode lead protrudes is 6 μm, and the electrolyte layer on the opposite surface The average thickness d was 12 μm.

その他の工程は、上記実施例1と同様に行なった。   Other steps were performed in the same manner as in Example 1.

なお、実施例10に係るコンデンサ素子では、第1表面の面積は3.61mmであり、第1表面と反対側の第2表面の面積は3.67mmであった。 In the capacitor element according to Example 10, the area of the first surface is 3.61Mm 2, the area of the opposite side of the second surface and the first surface was 3.67Mm 2.

(実施例11)
実施例11では、電解質層を形成する工程において、ピロールモノマー液への浸漬時間を調整することによって、陽極リードが突出する表面における電解質層の平均厚みaを4μmとし、反対側表面における電解質層の平均厚みdを15μmとした。
(Example 11)
In Example 11, in the step of forming the electrolyte layer, by adjusting the immersion time in the pyrrole monomer solution, the average thickness a of the electrolyte layer on the surface from which the anode lead protrudes is 4 μm, and the electrolyte layer on the opposite surface The average thickness d was 15 μm.

その他の工程は、上記実施例1と同様に行なった。   Other steps were performed in the same manner as in Example 1.

なお、実施例11に係るコンデンサ素子では、第1表面の面積は3.60mmであり、第1表面と反対側の第2表面の面積は3.70mmであった。 In the capacitor element according to Example 11, the area of the first surface is 3.60 mm 2, the area of the opposite side of the second surface and the first surface was 3.70 mm 2.

(実施例12)
実施例12では、電解質層を形成する工程において、ピロールモノマー液への浸漬時間を調整することによって、陽極リードが突出する表面における電解質層の平均厚みaを6μmとし、反対側表面における電解質層の平均厚みdを15μmとした。
(Example 12)
In Example 12, in the step of forming the electrolyte layer, by adjusting the immersion time in the pyrrole monomer solution, the average thickness a of the electrolyte layer on the surface from which the anode lead protrudes is set to 6 μm, and the electrolyte layer on the opposite surface The average thickness d was 15 μm.

その他の工程は、上記実施例1と同様に行なった。   Other steps were performed in the same manner as in Example 1.

なお、実施例12に係るコンデンサ素子では、第1表面の面積は3.61mmであり、第1表面と反対側の第2表面の面積は3.70mmであった。 In the capacitor element according to Example 12, the area of the first surface was 3.61 mm 2 , and the area of the second surface opposite to the first surface was 3.70 mm 2 .

(実施例13)
実施例13では、電解質層を形成する工程において、ピロールモノマー液への浸漬時間を調整することによって、陽極リードが突出する表面における電解質層の平均厚みaを11μmとし、反対側表面における電解質層の平均厚みdを20μmとした。
(Example 13)
In Example 13, in the step of forming the electrolyte layer, by adjusting the immersion time in the pyrrole monomer solution, the average thickness a of the electrolyte layer on the surface from which the anode lead protrudes is 11 μm, and the electrolyte layer on the opposite surface The average thickness d was 20 μm.

その他の工程は、上記実施例1と同様に行なった。   Other steps were performed in the same manner as in Example 1.

なお、実施例13に係るコンデンサ素子では、第1表面の面積は3.66mmであり、第1表面と反対側の第2表面の面積は3.74mmであった。 In the capacitor element according to Example 13, the area of the first surface was 3.66 mm 2 , and the area of the second surface opposite to the first surface was 3.74 mm 2 .

(実施例14)
実施例14では、電解質層を形成する工程において、ピロールモノマー液への浸漬時間を調整することによって、陽極リードが突出する表面における電解質層の平均厚みaを13μmとし、反対側表面における電解質層の平均厚みdを20μmとした。
(Example 14)
In Example 14, in the step of forming the electrolyte layer, by adjusting the immersion time in the pyrrole monomer solution, the average thickness a of the electrolyte layer on the surface from which the anode lead protrudes is 13 μm, and the electrolyte layer on the opposite surface The average thickness d was 20 μm.

その他の工程は、上記実施例1と同様に行なった。   Other steps were performed in the same manner as in Example 1.

なお、実施例14に係るコンデンサ素子では、第1表面の面積は3.68mmであり、第1表面と反対側の第2表面の面積は3.74mmであった。 In the capacitor element according to Example 14, the area of the first surface was 3.68 mm 2 , and the area of the second surface opposite to the first surface was 3.74 mm 2 .

(実施例15)
実施例15では、陽極体の外形を四角錐台形に形成した。具体的には、陽極リードが突出する表面の寸法を垂直方向の平均高さ0.97mm、第2方向の平均奥行き3.20mmとし、陽極リードが突出する表面の反対表面の寸法を垂直方向の平均高さ1.00mm、第2方向の平均奥行き3.30mmとした。なお、第1方向の平均幅は、4.4mmであった。
(Example 15)
In Example 15, the outer shape of the anode body was formed in a quadrangular pyramid shape. Specifically, the dimension of the surface from which the anode lead protrudes has an average height of 0.97 mm in the vertical direction and an average depth of 3.20 mm in the second direction, and the dimension of the surface opposite to the surface from which the anode lead protrudes. The average height was 1.00 mm and the average depth in the second direction was 3.30 mm. The average width in the first direction was 4.4 mm.

また、電解質層を形成する工程において、ピロールモノマー液へ陽極体全体を30分間浸漬することによって、陽極リードが突出する表面における電解質層の平均厚みaを30μmとし、反対側表面における電解質層の平均厚みdを30μmとした。   Further, in the step of forming the electrolyte layer, by immersing the entire anode body in the pyrrole monomer solution for 30 minutes, the average thickness a of the electrolyte layer on the surface from which the anode lead protrudes becomes 30 μm, and the average of the electrolyte layer on the opposite surface The thickness d was 30 μm.

その他の工程は、上記実施例1と同様に行なった。   Other steps were performed in the same manner as in Example 1.

なお、実施例15に係るコンデンサ素子では、第1表面の面積は3.62mmであり、第1表面と反対側の第2表面の面積は3.83mmであった。 In the capacitor element according to Example 15, the area of the first surface is 3.62Mm 2, the area of the opposite side of the second surface and the first surface was 3.83Mm 2.

(実施例16)
実施例16では、陽極体の外形を四角錐台形に形成した。具体的には、陽極リードが突出する表面の寸法を垂直方向平均高さ0.97mm、第2方向平均奥行き3.20mmとし、陽極リードが突出する表面の反対表面の寸法を垂直方向平均高さ1.00mm、第2方向平均奥行き3.30mmとした。
(Example 16)
In Example 16, the outer shape of the anode body was formed in a quadrangular pyramid shape. Specifically, the dimension of the surface from which the anode lead projects is 0.97 mm in the vertical average height and the average depth in the second direction is 3.20 mm, and the dimension of the surface opposite to the surface from which the anode lead projects is the average height in the vertical direction. The average depth in the second direction was 3.30 mm.

また、電解質層を形成する工程において、ピロールモノマー液へ陽極体全体を10分間浸漬することによって、陽極リードが突出する表面における電解質層の平均厚みaを10μmとし、反対側表面における電解質層の平均厚みdを10μmとした。   Further, in the step of forming the electrolyte layer, by immersing the entire anode body in the pyrrole monomer liquid for 10 minutes, the average thickness a of the electrolyte layer on the surface from which the anode lead protrudes becomes 10 μm, and the average of the electrolyte layer on the opposite surface The thickness d was 10 μm.

その他の工程は、上記実施例1と同様に行なった。   Other steps were performed in the same manner as in Example 1.

なお、実施例16に係るコンデンサ素子では、第1表面の面積は3.44mmであり、第1表面と反対側の第2表面の面積は3.65mmであった。 In the capacitor element according to Example 16, the area of the first surface was 3.44 mm 2 , and the area of the second surface opposite to the first surface was 3.65 mm 2 .

(実施例17)
実施例17では、電解質層を形成する工程において、ピロールモノマー液へ陽極体全体を30分間浸漬した後に、陽極体全体を引き上げて、陽極体に乾燥、水洗、乾燥を順次施した。陽極リードが突出する表面における電解質層の平均厚みaは30μmであり、反対側表面における電解質層の平均厚みdは30μmであった。
(Example 17)
In Example 17, in the step of forming the electrolyte layer, the entire anode body was immersed in the pyrrole monomer solution for 30 minutes, and then the entire anode body was pulled up, and the anode body was sequentially dried, washed with water, and dried. The average thickness a of the electrolyte layer on the surface from which the anode lead protrudes was 30 μm, and the average thickness d of the electrolyte layer on the opposite surface was 30 μm.

また、実施例17では、銀ペースト塗布工程において、カーボン層が形成された陽極体を、陽極リードが突出する表面を露出させた状態で銀ペースト浴内に2分間浸漬した。続いて、陽極体のうち陽極リードが突出する側の3分の1を浴面から引き出した状態で、30秒間保持した。続いて、陽極体のうち陽極リードが突出する側の3分の2を浴面から引き出した状態で、さらに30秒間保持した。   In Example 17, in the silver paste application step, the anode body on which the carbon layer was formed was immersed in a silver paste bath for 2 minutes with the surface from which the anode lead protruded exposed. Subsequently, one third of the anode body on the side from which the anode lead protrudes was held for 30 seconds while being drawn from the bath surface. Subsequently, two-thirds of the anode body on the side from which the anode lead protrudes was held for another 30 seconds in a state of being pulled out from the bath surface.

その他の工程は、上記実施例1と同様に行なった。   Other steps were performed in the same manner as in Example 1.

なお、実施例17に係るコンデンサ素子では、第1表面の面積は3.70mmであり、第1表面と反対側の第2表面の面積は3.83mmであった。 In the capacitor element according to Example 17, the area of the first surface is 3.70 mm 2, the area of the opposite side of the second surface and the first surface was 3.83Mm 2.

(比較例1)
比較例1では、電解質層を形成する工程において、ピロールモノマー液へ陽極体全体を30分間浸漬した後に、陽極体全体を引き上げて、陽極体に乾燥、水洗、乾燥を順次施した。その他の工程は、上記実施例1と同様に行なった。
(Comparative Example 1)
In Comparative Example 1, in the step of forming the electrolyte layer, the entire anode body was immersed in a pyrrole monomer solution for 30 minutes, and then the entire anode body was pulled up, and the anode body was sequentially dried, washed with water, and dried. Other steps were performed in the same manner as in Example 1.

なお、比較例1に係るコンデンサ素子では、第1表面の面積及び第2表面の面積は、ともには3.83mmであった。 In the capacitor element according to Comparative Example 1, the area of the first surface and the area of the second surface were both 3.83 mm 2 .

(比較例2)
比較例2では、電解質層を形成する工程において、ピロールモノマー液へ陽極体全体を10分間浸漬した後に、陽極体全体を引き上げて、陽極体に乾燥、水洗、乾燥を順次施した。その他の工程は、上記実施例1と同様に行なった。
(Comparative Example 2)
In Comparative Example 2, in the step of forming the electrolyte layer, the entire anode body was immersed in a pyrrole monomer solution for 10 minutes, and then the entire anode body was pulled up, and the anode body was sequentially dried, washed with water, and dried. Other steps were performed in the same manner as in Example 1.

なお、比較例2に係るコンデンサ素子では、第1表面の面積及び第2表面の面積は、ともには3.65mmであった。 In the capacitor element according to Comparative Example 2, the area of the first surface and the area of the second surface were both 3.65 mm 2 .

(サイズの測定)
図8は、実施例1〜17及び比較例1,2に係る電解質層の平均厚みの測定方法を説明するための図である。具体的には、実施例1〜14及び比較例1,2について、図8に示すように、2箇所の測定位置aにおける電解質層の平均厚みと、4箇所の測定位置bにおける電解質層の平均厚みと、4箇所の測定位置cにおける電解質層の平均厚みと、3箇所の測定位置dにおける電解質層の平均厚みとを測定した。なお、電解質層の平均厚みは、陽極リードを含むように第2方向に垂直な切断面のSEM(走査型電子顕微鏡)写真において測定した。図8に示す測定位置a〜dにおける電解質層の平均厚みと、第2表面の面積の第1表面の面積に対する比(表中、「面積比」)とを下表に示す。
(Size measurement)
FIG. 8 is a diagram for explaining a method for measuring the average thickness of the electrolyte layers according to Examples 1 to 17 and Comparative Examples 1 and 2. Specifically, for Examples 1 to 14 and Comparative Examples 1 and 2, as shown in FIG. 8, the average thickness of the electrolyte layer at two measurement positions a and the average of the electrolyte layer at four measurement positions b The thickness, the average thickness of the electrolyte layer at four measurement positions c, and the average thickness of the electrolyte layer at three measurement positions d were measured. The average thickness of the electrolyte layer was measured in a SEM (scanning electron microscope) photograph of a cut surface perpendicular to the second direction so as to include the anode lead. The average thickness of the electrolyte layer at the measurement positions a to d shown in FIG. 8 and the ratio of the area of the second surface to the area of the first surface (“area ratio” in the table) are shown in the table below.

Figure 2010258312
Figure 2010258312

また、図9は、実施例15,16に係る陽極体の平均奥行き及び平均高さの測定方法を説明するための図である。具体的には、実施例15及び実施例16について、図9に示すように、1箇所の測定位置eにおける陽極体の平均奥行き及び平均高さと、2箇所の測定位置fにおける陽極体の平均奥行き及び平均高さと、2箇所の測定位置gにおける陽極体の平均奥行き及び平均高さと、1箇所の測定位置hにおける陽極体の平均奥行き及び平均高さとを測定した。なお、陽極体のサイズは、陽極リードを含むように第2方向に垂直な切断面の光学顕微鏡写真と、陽極リードを含むように垂直方向に垂直な切断面の光学顕微鏡写真とにおいて測定した。測定結果を下表に示す。  FIG. 9 is a diagram for explaining a method of measuring the average depth and the average height of the anode bodies according to Examples 15 and 16. Specifically, for Example 15 and Example 16, as shown in FIG. 9, the average depth and average height of the anode body at one measurement position e and the average depth of the anode body at two measurement positions f. The average height, the average depth and average height of the anode body at two measurement positions g, and the average depth and average height of the anode body at one measurement position h were measured. The size of the anode body was measured in an optical micrograph of a cut surface perpendicular to the second direction so as to include the anode lead and an optical micrograph of the cut surface perpendicular to the vertical direction so as to include the anode lead. The measurement results are shown in the table below.

Figure 2010258312
Figure 2010258312

また、実施例15及び実施例16について、2箇所の測定位置aにおける電解質層の平均厚みと、3箇所の測定位置dにおける電解質層の平均厚みとを測定した(図8参照)。なお、電解質層の平均厚みは、陽極リードを含むように第2方向に垂直な切断面のSEM写真において測定した。実施例15及び実施例16について、電解質層の平均厚みa,dの測定結果と、第2表面の面積の第1表面の面積に対する比(表中、「面積比」)とを下表に示す。   Moreover, about Example 15 and Example 16, the average thickness of the electrolyte layer in the two measurement positions a and the average thickness of the electrolyte layer in the three measurement positions d were measured (refer FIG. 8). The average thickness of the electrolyte layer was measured in a SEM photograph of a cut surface perpendicular to the second direction so as to include the anode lead. Regarding Example 15 and Example 16, the measurement results of the average thicknesses a and d of the electrolyte layer and the ratio of the area of the second surface to the area of the first surface (“area ratio” in the table) are shown in the table below. .

Figure 2010258312
Figure 2010258312

また、図10は、実施例17に係る導電層の厚みの測定方法を説明するための図である。具体的には、実施例17について、図10に示すように、2箇所の測定位置iにおける導電層の平均厚みと、4箇所の測定位置jにおける導電層の平均厚みと、4箇所の測定位置kにおける導電層の平均厚みと、3箇所の測定位置lにおける導電層の平均厚みとを測定した。なお、導電層の厚みは、陽極リードを含むように第2方向に垂直な切断面のSEM(走査型電子顕微鏡)写真において測定した。図10に示す測定位置i〜lにおける電解質層の平均厚みと、第2表面の面積の第1表面の面積に対する比(表中、「面積比」)とを下表に示す。   FIG. 10 is a diagram for explaining a method for measuring the thickness of the conductive layer according to Example 17. Specifically, for Example 17, as shown in FIG. 10, the average thickness of the conductive layer at two measurement positions i, the average thickness of the conductive layer at four measurement positions j, and the four measurement positions. The average thickness of the conductive layer at k and the average thickness of the conductive layer at three measurement positions 1 were measured. The thickness of the conductive layer was measured in a SEM (scanning electron microscope) photograph of a cut surface perpendicular to the second direction so as to include the anode lead. The average thickness of the electrolyte layer at the measurement positions i to 1 shown in FIG. 10 and the ratio of the area of the second surface to the area of the first surface (“area ratio” in the table) are shown in the table below.

Figure 2010258312
Figure 2010258312

(漏れ電流及び等価直列抵抗の測定)
実施例1〜17及び比較例1,2それぞれについて、電圧2.5Vを印加後5分における漏れ電流(LC)値と、100kHzにおける等価直列抵抗(ESR)値とを測定した。 測定結果を下表に示す。なお、下表に示す値は、実施例1の値で規格化されている。
(Measurement of leakage current and equivalent series resistance)
For each of Examples 1 to 17 and Comparative Examples 1 and 2, a leakage current (LC) value 5 minutes after application of voltage 2.5 V and an equivalent series resistance (ESR) value at 100 kHz were measured. The measurement results are shown in the table below. The values shown in the table below are normalized by the values in Example 1.

Figure 2010258312
Figure 2010258312

上表に示すように、実施例1〜17では、比較例1,2に比べて、LC値を低減することができた。これは、実施例1〜17において、第2表面の面積を第1表面の面積よりも大きくすることによって、コンデンサ素子と金型の内壁との間隔を第1表面側に向かって広げることができたためである。すなわち、コンデンサ素子の第3表面が注入される樹脂から受ける応力を緩和できたためである。一方で、比較例1,2では、コンデンサ素子と金型の内壁との間隔が一様である。そのため、第3表面が注入される樹脂から受ける応力によって誘電体層に損傷が生じ、漏れ電流が増加した。   As shown in the above table, in Examples 1 to 17, the LC value could be reduced as compared with Comparative Examples 1 and 2. In Examples 1 to 17, the distance between the capacitor element and the inner wall of the mold can be increased toward the first surface side by making the area of the second surface larger than the area of the first surface. This is because. That is, the stress received from the resin injected into the third surface of the capacitor element can be relaxed. On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, the distance between the capacitor element and the inner wall of the mold is uniform. Therefore, the dielectric layer was damaged by the stress received from the resin injected into the third surface, and the leakage current increased.

なお、実施例15,16においてもLC値が改善されたことに留意すべきである。実施例15,16それぞれの電解質層及び導電層の厚みは比較例1,2と同等であるので、コンデンサ素子と金型の内壁との間隔を第2表面側から第1表面側に向かって徐々に大きくすることのみによって、LC値を低減可能であることが確認された。   It should be noted that the LC values were improved also in Examples 15 and 16. Since the thicknesses of the electrolyte layers and the conductive layers in Examples 15 and 16 are the same as those in Comparative Examples 1 and 2, the distance between the capacitor element and the inner wall of the mold is gradually increased from the second surface side toward the first surface side. It was confirmed that the LC value can be reduced only by increasing the value to a small value.

ここで、面積比が大きいほど、すなわち、第2表面の面積が第1表面の面積に比べて大きいほど、漏れ電流が低減することが確認された。特に、第2表面の面積が、第1表面の面積の1.02倍以上である場合に、漏れ電流を効果的に低減できることが判った。   Here, it was confirmed that the leakage current is reduced as the area ratio is larger, that is, as the area of the second surface is larger than the area of the first surface. In particular, it was found that the leakage current can be effectively reduced when the area of the second surface is 1.02 times or more the area of the first surface.

これは、第2表面の面積を第1表面の面積に比べて大きくするほど、金型の内壁に対するコンデンサ素子の第3表面の傾きを大きくすることができるので、注入された樹脂から第3表面にかかる応力を小さくすることができたためである。   This is because the inclination of the third surface of the capacitor element with respect to the inner wall of the mold can be increased as the area of the second surface is made larger than the area of the first surface. This is because the stress applied to can be reduced.

また、第2表面側における電解質層の平均厚みが大きいほど、漏れ電流が低減することが確認された。特に、第2表面における電解質層の平均厚みが20μm以上である場合に、漏れ電流を効果的に低減できることが判った。   Moreover, it was confirmed that the leakage current decreases as the average thickness of the electrolyte layer on the second surface side increases. In particular, it has been found that the leakage current can be effectively reduced when the average thickness of the electrolyte layer on the second surface is 20 μm or more.

これは、第2表面側の電解質層又は導電層の厚みを大きくすることによって、第2表面側における誘電体層の保護強度を向上することができたためである。   This is because the protective strength of the dielectric layer on the second surface side could be improved by increasing the thickness of the electrolyte layer or conductive layer on the second surface side.

10…コンデンサ素子
11…陽極体
12…誘電体層
13…電解質層
14…導電層
141…カーボン層
142…銀層
20…陽極リード
30…樹脂モールド部
30M…樹脂
40…陽極端子
50…陰極端子
60…導電性接着層
100…固体電解コンデンサ
200…金型
L…溶液
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Capacitor element 11 ... Anode body 12 ... Dielectric layer 13 ... Electrolyte layer 14 ... Conductive layer 141 ... Carbon layer 142 ... Silver layer 20 ... Anode lead 30 ... Resin mold part 30M ... Resin 40 ... Anode terminal 50 ... Cathode terminal 60 ... Conductive adhesive layer 100 ... Solid electrolytic capacitor 200 ... Mold L ... Solution

Claims (6)

陽極体と、前記陽極体を覆う誘電体層と、前記誘電体層を覆う陰極層とを含むコンデンサ素子と、
前記コンデンサ素子から突出する陽極リードと、
前記コンデンサ素子及び前記陽極リードを封止する樹脂モールド部と
を備え、
前記コンデンサ素子は、
前記陽極リードが突出する第1表面と、
前記第1表面の反対側に設けられる第2表面と、
前記第1表面と前記第2表面とに繋がる第3表面と
を有し、
前記樹脂モールド部は、前記第3表面と対向する対向面を有しており、
前記第2表面の面積は、前記第1表面の面積よりも大きく、
前記第3表面と前記対向面との間隔は、前記第2表面側から前記第1表面側に向かって徐々に大きくなっている
ことを特徴とする固体電解コンデンサ。
A capacitor element including an anode body, a dielectric layer covering the anode body, and a cathode layer covering the dielectric layer;
An anode lead protruding from the capacitor element;
A resin mold part for sealing the capacitor element and the anode lead;
The capacitor element is
A first surface from which the anode lead protrudes;
A second surface provided on the opposite side of the first surface;
A third surface connected to the first surface and the second surface;
The resin mold portion has a facing surface facing the third surface,
The area of the second surface is larger than the area of the first surface,
The solid electrolytic capacitor is characterized in that an interval between the third surface and the facing surface is gradually increased from the second surface side toward the first surface side.
前記第2表面の面積は、前記第1表面の面積の1.02倍以上である
ことを特徴とする請求項1に記載の固体電解コンデンサ。
2. The solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein an area of the second surface is 1.02 times or more of an area of the first surface.
前記第2表面側における前記陰極層の厚みは、前記第1表面側における前記陰極層の厚みより大きい
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の固体電解コンデンサ。
3. The solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein a thickness of the cathode layer on the second surface side is larger than a thickness of the cathode layer on the first surface side.
前記陰極層は、
前記誘電体層を覆う電解質層と、
前記電解質層を覆う導電層と
を含み、
前記第2表面側における前記電解質層の厚みは、20μm以上である
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の固体電解コンデンサ。
The cathode layer is
An electrolyte layer covering the dielectric layer;
A conductive layer covering the electrolyte layer,
4. The solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein a thickness of the electrolyte layer on the second surface side is 20 μm or more. 5.
前記陰極層は、
前記誘電体層を覆う電解質層と、
前記電解質層を覆う導電層と
を含み、
前記電解質層の厚みは、前記第1表面側から前記第2表面側に向かって徐々に大きく形成されている
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の固体電解コンデンサ。
The cathode layer is
An electrolyte layer covering the dielectric layer;
A conductive layer covering the electrolyte layer,
5. The solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein a thickness of the electrolyte layer is gradually increased from the first surface side toward the second surface side. 6.
陽極リードの一端部が埋設された金属粉末の成形体を焼結することによって陽極体を形成する工程Aと、
前記陽極体を覆う誘電体層を形成する工程Bと、
前記誘電体層を覆う陰極層を形成することによってコンデンサ素子を形成する工程Cと、
前記コンデンサ素子を金型内に配置して、前記コンデンサ素子のうち前記陽極リードが突出する第1表面の反対側に設けられる第2表面側から樹脂を流し込むことによって、前記コンデンサ素子を封止する樹脂モールド部を形成する工程Dと
を備え、
前記工程Cは、
前記誘電体層が形成された前記陽極体を所定のモノマーを含む溶液に浸漬することによって、前記誘電体層を覆う第1電解質層を形成する工程と、
前記第1電解質層が形成された前記陽極体のうち前記陽極リードが突出する面を含む一部分だけを前記溶液から引き上げることによって、前記陽極体のうち前記一部分以外に第2電解質層を形成する工程と
を含み、
前記工程Dにおいて、
前記コンデンサ素子の前記第1表面と前記第2表面とに繋がる第3表面と前記金型の内壁との間隔は、前記第2表面側から前記第1表面側に向かって徐々に大きくなっている
ことを特徴とする固体電解コンデンサの製造方法。
A step of forming an anode body by sintering a molded body of metal powder in which one end of the anode lead is embedded,
Forming a dielectric layer covering the anode body;
Forming a capacitor element by forming a cathode layer covering the dielectric layer; and
The capacitor element is arranged in a mold, and the capacitor element is sealed by pouring resin from a second surface side provided on the opposite side of the capacitor element from the first surface from which the anode lead protrudes. And a step D of forming a resin mold part,
Step C includes
Forming a first electrolyte layer covering the dielectric layer by immersing the anode body on which the dielectric layer is formed in a solution containing a predetermined monomer;
Forming a second electrolyte layer in addition to the portion of the anode body by pulling out only a portion of the anode body on which the first electrolyte layer is formed, including the surface from which the anode lead protrudes, from the solution. Including
In step D,
The distance between the third surface connected to the first surface and the second surface of the capacitor element and the inner wall of the mold gradually increases from the second surface side toward the first surface side. A method for producing a solid electrolytic capacitor.
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