JP2010253767A - Hard coat molded article and method of manufacturing the same, and active energy ray curable coating composition - Google Patents

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Masanori Suzuki
正法 鈴木
Yukiko Kato
有希子 加藤
Mina Nomura
美菜 野村
Hideaki Kuwano
英昭 桑野
Akira Motonaga
彰 元永
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a silicone based hard coat molded article excellent in abrasion resistance and crack resistance which can be formed in a short time. <P>SOLUTION: The molded article has a silicone-based hard coat layer cured by an active energy ray on the surface of a base material. In the hard coat molded article, an area ratio A1/A2 of a peak area A1 of an infrared absorption spectrum resulting from a cyclic siloxane bond of the hard coat layer to a peak area A2 of the infrared absorption spectrum resulting from a straight-chain siloxane bond is 0.83 or larger and 0.97 or smaller, and an ratio A3/(A1+A2) of a peak area A3 of the infrared absorption spectrum resulting from a silanol group to the sum (A1+A2) of A1 and A2 is 0.020 or larger and 0.028 or smaller. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、耐擦傷性と耐クラック性に優れたシリコン系ハードコート成形品及びその製造方法、ならびにハードコート形成用の活性エネルギー線硬化性コーティング組成物に関する。   The present invention relates to a silicon-based hard coat molded article excellent in scratch resistance and crack resistance, a method for producing the same, and an active energy ray-curable coating composition for forming a hard coat.

近年、透明ガラスの代替として、耐破砕性、軽量性に優れるアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂などの透明プラスチック材料が広く使用されるようになってきた。しかし、透明プラスチック材料はガラスに比較して表面硬度が低いので、表面に傷を受け易いという問題を有している。   In recent years, transparent plastic materials such as acrylic resin and polycarbonate resin, which are excellent in crush resistance and light weight, have been widely used as an alternative to transparent glass. However, since the transparent plastic material has a lower surface hardness than glass, it has a problem that the surface is easily damaged.

そこで、従来からプラスチック材料の耐擦傷性を改良すべく多くの試みがなされてきた。最も一般的な方法の一つとして、アルコキシシラン化合物の加水分解とそれに続く縮合反応を利用して、基材表面にシロキサン結合を有する無機系高分子からなるハードコート層を形成する方法が広く知られている(特許文献1、2参照)。しかし、これらの方法では、ハードコート層を形成するために数十分から数時間もの加熱時間が必要となるので生産性の点で問題を有している。   Thus, many attempts have been made to improve the scratch resistance of plastic materials. As one of the most common methods, a method of forming a hard coat layer made of an inorganic polymer having a siloxane bond on the surface of a substrate by utilizing hydrolysis of an alkoxysilane compound and subsequent condensation reaction is widely known. (See Patent Documents 1 and 2). However, these methods have a problem in productivity because a heating time of several tens of minutes to several hours is required to form a hard coat layer.

これらの問題を解決するために、例えば、分子内にシロキサン骨格を有し、かつ反応性のシラノール基、アルコキシシラン基などを有するシロキサンオリゴマーと活性エネルギー線感応性カチオン重合開始剤を必須成分として含有し、活性エネルギー線照射により硬化して短時間でハードコート層を形成する組成物が提案されている(例えば特許文献3、4参照)。具体的には、このような組成物を基材に塗布し、紫外線等の活性エネルギー線を照射することでカチオン重合開始剤より発生する酸を触媒として、シラノール基、アルコキシシラン基間にシロキサン結合が形成されて硬化被膜が形成される。この方法によれば、短時間に被膜形成が可能であるが、使用するシロキサンオリゴマーの構造や、活性エネルギー線の照射方法によっては、得られる硬化被膜の物性が大きく変わり、耐擦傷性等の物性が発現されない問題があった。   In order to solve these problems, for example, a siloxane oligomer having a siloxane skeleton in the molecule and having a reactive silanol group, alkoxysilane group, etc. and an active energy ray-sensitive cationic polymerization initiator are contained as essential components. And the composition which hardens | cures by active energy ray irradiation and forms a hard-coat layer in a short time is proposed (for example, refer patent document 3, 4). Specifically, a siloxane bond is formed between a silanol group and an alkoxysilane group using an acid generated from a cationic polymerization initiator as a catalyst by applying such a composition to a substrate and irradiating active energy rays such as ultraviolet rays. Is formed to form a cured film. According to this method, a film can be formed in a short time. However, depending on the structure of the siloxane oligomer used and the irradiation method of the active energy ray, the physical properties of the obtained cured film are greatly changed, and physical properties such as scratch resistance are obtained. There was a problem that was not expressed.

これに対し、特許文献5では、硬化被膜の赤外線吸収スペクトルから耐擦傷性を評価する方法が提案されている。この方法によると、硬化被膜の赤外線吸収スペクトルを特定の範囲にすることで、実用的な耐擦傷性を有する硬化被膜を得ることができる。本発明者らが検討した結果、この方法は、特許文献1、2のように、加熱等により時間をかけて硬化反応を進行させて形成した硬化被膜に対しては有効であった。しかしながら、活性エネルギー線照射により短時間で形成した硬化被膜においては、急激な重縮合反応により収縮応力が大きくなるため、耐擦傷性は良好となるが、クラックが発生しやすくなって、実用的な被膜を形成することが困難であった。即ち、通常、シロキサンオリゴマーと活性エネルギー線感応性カチオン重合開始剤を主成分とし、活性エネルギー線を照射して得たハードコート層では、縮合反応を十分に進行することで架橋密度が増し、優れた耐擦傷性が発現するが、同時に縮合応力量が増大して耐クラック性が低下してしまい、耐擦傷性と耐クラック性はトレードオフの関係にある。   On the other hand, Patent Document 5 proposes a method for evaluating the scratch resistance from the infrared absorption spectrum of a cured coating. According to this method, a cured film having practical scratch resistance can be obtained by setting the infrared absorption spectrum of the cured film within a specific range. As a result of investigations by the present inventors, this method was effective for a cured film formed by advancing the curing reaction by heating or the like as in Patent Documents 1 and 2. However, in a cured film formed in a short time by irradiation with active energy rays, the shrinkage stress increases due to a rapid polycondensation reaction, so that the scratch resistance is good, but cracks tend to occur, and it is practical. It was difficult to form a film. That is, normally, a hard coat layer obtained by irradiating active energy rays with a siloxane oligomer and an active energy ray-sensitive cationic polymerization initiator as the main components increases the crosslink density by sufficiently proceeding with the condensation reaction, and is excellent. Although the scratch resistance is exhibited, the amount of condensation stress is increased at the same time and the crack resistance is lowered, and the scratch resistance and the crack resistance are in a trade-off relationship.

特開昭48−26822号公報JP 48-26822 A 特開昭55−94971号公報JP 55-94971 A 特開昭53−97098号公報JP-A-53-97098 特開昭56−106958号公報JP 56-106958 A 特開2003−41033号公報JP 2003-41033 A

本発明は、上述の従来技術における課題を解決するためになされたものである。すなわち本発明の目的は、短時間に形成可能で、耐擦傷性と耐クラック性に優れたシリコン系ハードコート成形品を提供することにある。   The present invention has been made to solve the above-described problems in the prior art. That is, an object of the present invention is to provide a silicon-based hard coat molded article that can be formed in a short time and has excellent scratch resistance and crack resistance.

本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、ハードコード成形品の赤外線吸収スペクトルにおいて、環状シロキサン結合に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A1と直鎖状シロキサン結合に起因する赤外線吸収スペクトルのA2との面積比A1/A2(以下、面積比A1/A2と記載する場合有り)、及び前記のシロキサン結合に起因する吸収の和(A1+A2)とシラノール基に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A3との比A3/(A1+A2)(以下、面積比A3/(A1+A2)と記載する場合有り)を特定の値にすることで、耐擦傷性と耐クラック性を両立し得ることを見出し、本発明に至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the inventors of the present invention have resulted from the peak area A1 of the infrared absorption spectrum due to the cyclic siloxane bond and the linear siloxane bond in the infrared absorption spectrum of the hard cord molded product. Area ratio A1 / A2 with respect to A2 of the infrared absorption spectrum (hereinafter referred to as area ratio A1 / A2), and the sum of absorption due to the siloxane bond (A1 + A2) and the infrared absorption spectrum due to the silanol group By making the ratio A3 / (A1 + A2) to the peak area A3 of (A1 / A2) (hereinafter, referred to as the area ratio A3 / (A1 + A2)) a specific value, both scratch resistance and crack resistance can be achieved. The headline, the present invention has been reached.

即ち、本発明は、
基材の表面に活性エネルギー線により硬化させたシリコン系ハードコート層を有する成形品であって、
前記シリコン系ハードコート層の環状シロキサン結合に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A1と直鎖状シロキサン結合に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A2との面積比A1/A2が0.83以上、0.97以下であり、且つ
前記A1とA2の和(A1+A2)とシラノール基に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A3との比A3/(A1+A2)が0.020以上、0.028以下であるハードコード成形品である。
That is, the present invention
A molded product having a silicon-based hard coat layer cured by active energy rays on the surface of the substrate,
The area ratio A1 / A2 between the peak area A1 of the infrared absorption spectrum caused by the cyclic siloxane bond of the silicon-based hard coat layer and the peak area A2 of the infrared absorption spectrum caused by the linear siloxane bond is 0.83 or more, 0 The ratio A3 / (A1 + A2) between the sum of A1 and A2 (A1 + A2) and the peak area A3 of the infrared absorption spectrum caused by the silanol group is 0.020 or more and 0.028 or less. Code molded product.

また、本発明者らは、特定の構造のシロキサンオリゴマーを使用することで、上記条件を満たすハードコード成形品を製造できることも見出し、本発明に至った。   The inventors have also found that a hard cord molded product satisfying the above conditions can be produced by using a siloxane oligomer having a specific structure, and the present invention has been achieved.

即ち、本発明は、
(A)環状シロキサン結合に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A4と直鎖状シロキサン結合に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A5との面積比A4/A5が1.83以上、2.03以下であり、且つ
前記A4とA5の和(A4+A5)とシラノール基に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A6との面積比A6/(A4+A5)が0.300以上、0.360以下であるシロキサンオリゴマーと、
(B)活性エネルギー線感応性カチオン重合開始剤と、を含有する活性エネルギー線硬化性コーティング組成物を前記基材表面に塗布し、活性エネルギー線を照射して架橋硬化する前記ハードコート成形品の製造方法である。
That is, the present invention
(A) The area ratio A4 / A5 between the peak area A4 of the infrared absorption spectrum caused by the cyclic siloxane bond and the peak area A5 of the infrared absorption spectrum caused by the linear siloxane bond is 1.83 or more and 2.03 or less. A siloxane oligomer having an area ratio A6 / (A4 + A5) of 0.300 or more and 0.360 or less between the sum of A4 and A5 (A4 + A5) and the peak area A6 of the infrared absorption spectrum caused by the silanol group;
(B) An active energy ray-sensitive cationic polymerization initiator and an active energy ray-curable coating composition that is applied to the surface of the base material and irradiated with active energy rays to be crosslinked and cured. It is a manufacturing method.

また、本発明は、
前記(A)シロキサンオリゴマーが、
(C)前記面積比A4/A5が1.83以上、2.50以下であり、且つ
前記面積比A6/(A4+A5)が0.200以上、0.300以下であるシロキサンオリゴマーと、
(D)前記面積比A4/A5が1.50以上、1.83未満であり、且つ
前記面積比A6/(A4+A5)が0.250以上、0.380以下であるシロキサンオリゴマーと、の混合物であるハードコート成形品の製造方法である。
The present invention also provides:
The (A) siloxane oligomer is
(C) a siloxane oligomer in which the area ratio A4 / A5 is 1.83 or more and 2.50 or less, and the area ratio A6 / (A4 + A5) is 0.200 or more and 0.300 or less;
(D) a mixture of the area ratio A4 / A5 is 1.50 or more and less than 1.83, and the area ratio A6 / (A4 + A5) is 0.250 or more and 0.380 or less. It is a manufacturing method of a certain hard coat molded article.

さらに本発明は、
(A)環状シロキサン結合に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A4と直鎖状シロキサン結合に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A5との面積比A4/A5が1.83以上、2.03以下であり、且つ
前記A4とA5の和(A4+A5)とシラノール基に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A6との面積比A6/(A4+A5)が0.300以上、0.360以下であるシロキサンオリゴマーと、
(B)活性エネルギー線感応性カチオン重合開始剤と、を含有する活性エネルギー線硬化性コーティング組成物である。
Furthermore, the present invention provides
(A) The area ratio A4 / A5 between the peak area A4 of the infrared absorption spectrum caused by the cyclic siloxane bond and the peak area A5 of the infrared absorption spectrum caused by the linear siloxane bond is 1.83 or more and 2.03 or less. A siloxane oligomer having an area ratio A6 / (A4 + A5) of 0.300 or more and 0.360 or less between the sum of A4 and A5 (A4 + A5) and the peak area A6 of the infrared absorption spectrum caused by the silanol group;
(B) An active energy ray-curable coating composition containing an active energy ray-sensitive cationic polymerization initiator.

さらに本発明は、
前記(A)シロキサンオリゴマーが、
(C)前記面積比A4/A5が1.83以上、2.50以下であり、且つ
前記面積比A6/(A4+A5)が0.200以上、0.300以下であるシロキサンオリゴマーと、
(D)前記面積比A4/A5が1.50以上、1.83未満であり、且つ
前記面積比A6/(A4+A5)が0.250以上、0.380以下であるシロキサンオリゴマーと、の混合物である硬化性コーティング組成物である。
Furthermore, the present invention provides
The (A) siloxane oligomer is
(C) a siloxane oligomer in which the area ratio A4 / A5 is 1.83 or more and 2.50 or less, and the area ratio A6 / (A4 + A5) is 0.200 or more and 0.300 or less;
(D) a mixture of the area ratio A4 / A5 is 1.50 or more and less than 1.83, and the area ratio A6 / (A4 + A5) is 0.250 or more and 0.380 or less. A curable coating composition.

本発明によれば、環状シロキサン結合と直鎖状シロキサン結合の比を特定の範囲にすることで、含有される環状シロキサン結合により適度な柔軟性が生じて耐クラック性を向上することができる。さらに、反応率の指標であるシロキサン結合量とシラノール基の比を特定の範囲にして、耐擦傷性の発現に十分な架橋密度にまで硬化させることで、耐クラック性と耐擦傷性とが両立したシリコン系ハードコート成形品を得ることができる。   According to the present invention, by setting the ratio of the cyclic siloxane bond to the linear siloxane bond within a specific range, the cyclic siloxane bond contained in the composition can provide appropriate flexibility and improve crack resistance. Furthermore, by setting the ratio of siloxane bonds and silanol groups, which are indicators of the reaction rate, to a specific range and curing to a crosslinking density sufficient to develop scratch resistance, both crack resistance and scratch resistance are achieved. A silicon-based hard coat molded product can be obtained.

シリコン系ハードコート層の赤外線吸収スペクトルの一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the infrared absorption spectrum of a silicon-type hard-coat layer. シロキサンオリゴマーの赤外線吸収スペクトルの一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the infrared absorption spectrum of a siloxane oligomer. 実施例1で得られたシリコン系ハードコート層の赤外線吸収スペクトルを示すグラフである。2 is a graph showing an infrared absorption spectrum of the silicon-based hard coat layer obtained in Example 1. FIG. 比較例1で得られたシリコン系ハードコート層の赤外線吸収スペクトルを示すグラフである。5 is a graph showing an infrared absorption spectrum of a silicon-based hard coat layer obtained in Comparative Example 1. 比較例2で得られたシリコン系ハードコート層の赤外線吸収スペクトルを示すグラフである。6 is a graph showing an infrared absorption spectrum of a silicon-based hard coat layer obtained in Comparative Example 2.

(ハードコード成形品)
本発明のハードコート成形品は、基材の表面又は表裏面に活性エネルギー線により硬化させたシリコン系ハードコート層を有する。
(Hard code molded product)
The hard coat molded article of the present invention has a silicon-based hard coat layer cured with active energy rays on the surface or front and back surfaces of a substrate.

ここで、基材にはプラスチック、金属、缶、紙、木質材、無機質材、電着塗装板、ラミネート板等の様々なものが用いられる。特にポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメタクリルスチレン等のプラスチック基材は、表面硬度が低く傷が付きやすいため、表面にハードコート層を設ける必要がある。   Here, various materials such as plastic, metal, can, paper, wood material, inorganic material, electrodeposition coating plate, and laminate plate are used as the base material. In particular, plastic base materials such as polymethyl methacrylate, polycarbonate, polystyrene, and polymethacryl styrene have a low surface hardness and are easily scratched. Therefore, it is necessary to provide a hard coat layer on the surface.

シリコン系ハードコート層が密着しにくい基材には、基材とシリコン系ハードコート層との間にプライマー層を形成することが好ましい。プライマー層としては特に限定されないが、活性エネルギー線ラジカル重合性ビニル系化合物と活性エネルギー線感応性ラジカル重合開始剤を含有する組成物を光硬化させて得られる層が好ましい。より具体的には、ポリカーボネートなどの基材に、多官能(メタ)アクリレートと活性エネルギー線感応性ラジカル重合開始剤を含む組成物でプライマー層を形成した基材などを例示することができるが、本発明はこれらに限られたものではない。尚、ここでいう多官能(メタ)アクリレートとは、分子内に2個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物である。また、(メタ)アクリレートとは、アクリレートとメタクリレートを示す。   It is preferable to form a primer layer between the base material and the silicon hard coat layer on the base material to which the silicon hard coat layer is difficult to adhere. Although it does not specifically limit as a primer layer, The layer obtained by photocuring the composition containing an active energy ray radically polymerizable vinyl compound and an active energy ray sensitive radical polymerization initiator is preferable. More specifically, examples of the base material such as polycarbonate may include a base material in which a primer layer is formed with a composition containing a polyfunctional (meth) acrylate and an active energy ray-sensitive radical polymerization initiator. The present invention is not limited to these. The polyfunctional (meth) acrylate here is a compound having two or more (meth) acryloyloxy groups in the molecule. Moreover, (meth) acrylate shows an acrylate and a methacrylate.

(シリコン系ハードコート層の構造)
次にシリコン系ハードコート層について説明する。本発明におけるシリコン系ハードコート層は、環状シロキサン結合に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A1と直鎖状シロキサン結合に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A2との面積比A1/A2が0.83以上、0.97以下であり、且つ前記A1とA2の和(A1+A2)とシラノール基に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A3との比A3/(A1+A2)が0.020以上、0.028以下である。
(Structure of silicon hard coat layer)
Next, the silicon hard coat layer will be described. In the silicon-based hard coat layer of the present invention, the area ratio A1 / A2 between the peak area A1 of the infrared absorption spectrum due to the cyclic siloxane bond and the peak area A2 of the infrared absorption spectrum due to the linear siloxane bond is 0.83. The ratio A3 / (A1 + A2) between the sum of A1 and A2 (A1 + A2) and the peak area A3 of the infrared absorption spectrum caused by the silanol group is 0.020 or more and 0.028 or less. It is.

環状シロキサン結合と直鎖状シロキサン結合の面積比A1/A2を0.83以上にすることで、含有される環状シロキサン結合により十分な柔軟性が生じて耐クラック性を向上することができる。また、0.97以下にすることで、環状シロキサン結合の含有による耐擦傷性の低下の影響を小さくすることができ、十分な耐擦傷性を得ることができる。   By setting the area ratio A1 / A2 between the cyclic siloxane bond and the linear siloxane bond to 0.83 or more, sufficient cyclic flexibility is generated by the contained cyclic siloxane bond, and crack resistance can be improved. Moreover, by setting it as 0.97 or less, the influence of the abrasion-resistant fall by inclusion of a cyclic siloxane bond can be made small, and sufficient abrasion resistance can be obtained.

また、面積比A3/(A1+A2)を0.020以上にすることで、重縮合反応の進行により生じる硬化収縮量が少なく、ハードコート層にクラックを生じにくくすることができ、また、0.028以下にすることで、重縮合反応が十分に進行して、十分な耐擦傷性が得られる。   Further, by setting the area ratio A3 / (A1 + A2) to 0.020 or more, the amount of curing shrinkage caused by the progress of the polycondensation reaction is small, and the hard coat layer is less likely to be cracked. By making it below, the polycondensation reaction proceeds sufficiently and sufficient scratch resistance is obtained.

(シリコン系ハードコート層の赤外線吸収スペクトルのピーク面積の求め方)
ここで、シリコン系ハードコート層の環状シロキサン結合及び直鎖状シロキサン結合、シラノール基に起因する赤外線吸収スペクトルの各ピーク面積A1、A2及びA3の求め方について説明する。
(How to determine the peak area of the infrared absorption spectrum of a silicon hard coat layer)
Here, how to determine the peak areas A1, A2, and A3 of the infrared absorption spectrum caused by the cyclic siloxane bond, the linear siloxane bond, and the silanol group of the silicon hard coat layer will be described.

シリコン系ハードコート層の赤外線吸収スペクトルは、FT−IRによる全反射法(ATR;Attenuated Total Reflectance)により測定を行う。図1はこの方法で測定されたシリコン系ハードコート層の赤外線吸収スペクトルの一例である。   The infrared absorption spectrum of the silicon-based hard coat layer is measured by an FT-IR total reflection method (ATR: Attenuated Total Reflectance). FIG. 1 is an example of an infrared absorption spectrum of a silicon-based hard coat layer measured by this method.

シロキサン結合は960〜1240cm-1に吸収を持っており、そのうち1050cm-1よりも高波数側は環状シロキサン結合に、低波数側は直鎖状シロキサン結合に帰属される。なお、環状シロキサン結合とは、シロキサン結合のうち環状構造を形成しているものであり、直鎖状シロキサン結合とは、環状構造を形成していないものである。 Siloxane bond has a absorption in 960~1240Cm -1, of which a high wave number side than 1050 cm -1 in the cyclic siloxane bond, lower wavenumber side is attributed to a linear siloxane bonds. The cyclic siloxane bond is a siloxane bond that forms a cyclic structure, and the linear siloxane bond is a ring that does not form a cyclic structure.

図1において、1240cm-1での吸光度を示す点Aと960cm-1での吸光度を示す点Bとを結ぶ線分を線分ABとし、線分AB上の1050cm-1における点を点Cとする。環状シロキサン結合に起因するピーク面積A1は、線分ACとその間のスペクトル曲線とで囲まれる面積である。また、直鎖状シロキサン結合に起因するピーク面積A2は、線分CBとその間のスペクトル曲線とで囲まれる面積である。 In Figure 1, a line segment connecting the point B indicates the absorbance at A and 960 cm -1 that indicates the absorbance at 1240 cm -1 and a line segment AB, and the point C to a point at 1050 cm -1 on the line segment AB To do. The peak area A1 resulting from the cyclic siloxane bond is an area surrounded by the line segment AC and the spectrum curve therebetween. Moreover, the peak area A2 resulting from the linear siloxane bond is an area surrounded by the line segment CB and the spectrum curve therebetween.

また、シラノール基は860〜960cm-1に吸収を持っており、点Bと860cm-1での吸光度を示す点Dとを結ぶ線分を線分BDとすると、シラノール基に起因するピーク面積A3は、線分BDとその間のスペクトル曲線とで囲まれる面積である。 Moreover, the silanol group has a absorption in 860~960Cm -1, when a line segment connecting the point D shows the absorbance at point B and 860 cm -1 and a line segment BD, peak area attributed to silanol groups A3 Is the area surrounded by the line segment BD and the spectral curve between them.

測定条件としては、Geクリスタルを用い入射角45°、1回反射で測定すれば良く、例えばFT−IR(商品名:「NEXUS470」、サーモニコレー(株)社製)にATR測定用アクセサリー(商品名「FOUNDATION ThunderDome」、スペクトラテック社製)を取り付け、分解能4cm-1、積算回数32回で測定する。また、ピーク面積は任意の方法で求めることができ、例えばFT−IR解析ソフト(商品名「OMNIC」、サーモニコレー(株)社製)の積分ツールを用いて求めることができる。 As the measurement conditions, a Ge crystal may be used with an incident angle of 45 ° and a single reflection measurement. For example, an FT-IR (trade name: “NEXUS470”, manufactured by Thermo Nicolet Co., Ltd.) and an ATR measurement accessory (product) A name “FOUNDATION ThunderDome” (Spectratech Co., Ltd.) is attached, and measurement is performed with a resolution of 4 cm −1 and 32 integrations. The peak area can be obtained by an arbitrary method, for example, using an integration tool of FT-IR analysis software (trade name “OMNIC”, manufactured by Thermo Nicolay Co., Ltd.).

(シロキサンオリゴマー(A)の構造)
前記シリコン系ハードコート層は、特定の構造を有するシロキサンオリゴマー(A)と、活性エネルギー線感応性カチオン重合開始剤(B)とを含有する活性エネルギー線硬化性コーティング組成物を前記基材表面に塗布し、活性エネルギー線を照射して架橋硬化することで形成することができる。
(Structure of siloxane oligomer (A))
The silicon-based hard coat layer has an active energy ray-curable coating composition containing a siloxane oligomer (A) having a specific structure and an active energy ray-sensitive cationic polymerization initiator (B) on the substrate surface. It can be formed by coating, irradiating with active energy rays and curing by crosslinking.

本発明において用いるシロキサンオリゴマー(A)は、環状シロキサン結合に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A4と直鎖状シロキサン結合に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A5との面積比A4/A5が1.83以上、2.03以下であり、且つA4とA5の和(A4+A5)とシラノール基に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A6との面積比A6/(A4+A5)が0.300以上、0.360以下であることが好ましい。   In the siloxane oligomer (A) used in the present invention, the area ratio A4 / A5 between the peak area A4 of the infrared absorption spectrum caused by the cyclic siloxane bond and the peak area A5 of the infrared absorption spectrum caused by the linear siloxane bond is 1. The area ratio A6 / (A4 + A5) between the sum of A4 and A5 (A4 + A5) and the peak area A6 of the infrared absorption spectrum caused by the silanol group is from 0.300 to 0.360. The following is preferable.

前記シリコン系ハードコート層における面積比A1/A2の値は、使用するシロキサンオリゴマー(A)における面積比A4/A5の値と相関がある。面積比A4/A5が1.83以上、2.03以下のシロキサンオリゴマー(A)を用いることで、硬化後のハードコート層の面積比A1/A2を0.83以上、0.97以下にすることができ、より耐クラック性、耐擦傷性を向上できる。また、面積比A6/(A4+A5)が0.300以上、0.360以下のシロキサンオリゴマー(A)を用いることで、ハードコート層の面積比A3/(A1+A2)を0.020以上、0.028以下にすることができ、より収縮応力の増大を抑えることができ、ハードコート層にクラックを生じにくくすることができる。   The value of the area ratio A1 / A2 in the silicon-based hard coat layer has a correlation with the value of the area ratio A4 / A5 in the siloxane oligomer (A) to be used. By using the siloxane oligomer (A) having an area ratio A4 / A5 of 1.83 or more and 2.03 or less, the area ratio A1 / A2 of the hard coat layer after curing is made 0.83 or more and 0.97 or less. It is possible to improve crack resistance and scratch resistance. Further, by using the siloxane oligomer (A) having an area ratio A6 / (A4 + A5) of 0.300 or more and 0.360 or less, the area ratio A3 / (A1 + A2) of the hard coat layer is 0.020 or more and 0.028. The increase in shrinkage stress can be further suppressed, and cracks can be made difficult to occur in the hard coat layer.

(シロキサンオリゴマーの赤外線吸収スペクトルのピーク面積の求め方)
ここで、シロキサンオリゴマーの環状シロキサン結合及び直鎖状シロキサン結合、シラノール基に起因する赤外線吸収スペクトルの各ピーク面積A4、A5及びA6の求め方について説明する。
(How to find the peak area of infrared absorption spectrum of siloxane oligomer)
Here, how to obtain the peak areas A4, A5, and A6 of the infrared absorption spectrum caused by the cyclic siloxane bond, the linear siloxane bond, and the silanol group of the siloxane oligomer will be described.

シロキサンオリゴマーの赤外線吸収スペクトルは、基材上にシロキサンオリゴマー溶液を塗布し、室温にて溶剤を十分に乾燥させてから、FT−IRによる全反射法(ATR;Attenuated Total Reflectance)により測定を行う。図2は、この方法で測定されたシロキサンオリゴマーの赤外線吸収スペクトルの一例である。   The infrared absorption spectrum of the siloxane oligomer is measured by applying a siloxane oligomer solution on a substrate, sufficiently drying the solvent at room temperature, and then measuring the total reflection method (ATR; Attenuated Total Reflectance) using FT-IR. FIG. 2 is an example of an infrared absorption spectrum of a siloxane oligomer measured by this method.

シロキサン結合は前述したように960〜1240cm-1に吸収を持っており、そのうち1050cm-1よりも高波数側は環状シロキサン結合に、低波数側は直鎖状シロキサン結合に帰属される。 As described above, the siloxane bond has absorption at 960 to 1240 cm −1 , of which the higher wave number than 1050 cm −1 is attributed to the cyclic siloxane bond, and the lower wave number is attributed to the linear siloxane bond.

図2において、1240cm-1での吸光度を示す点Eと960cm-1での吸光度を示す点Fとを結ぶ線分を線分EFとし、線分EF上の1050cm-1における点を点Gとする。環状シロキサン結合に起因するピーク面積A4は、線分EGとその間のスペクトル曲線とで囲まれる面積である。また、直鎖状シロキサン結合に起因するピーク面積A5は、線分GFとその間のスペクトル曲線とで囲まれる面積である。 2, a line segment connecting the point F indicates the absorbance at E and 960 cm -1 that indicates the absorbance at 1240 cm -1 and the line segment EF, and the point a point in 1050 cm -1 on the line EF G To do. The peak area A4 resulting from the cyclic siloxane bond is an area surrounded by the line segment EG and the spectrum curve therebetween. Moreover, the peak area A5 resulting from the linear siloxane bond is an area surrounded by the line segment GF and the spectrum curve therebetween.

また、シラノール基は860〜960cm-1に吸収を持っており、点Fと860cm-1での吸光度を示す点Hとを結ぶ線分を線分FHとすると、シラノール基に起因するピーク面積A6は、線分FHとその間のスペクトル曲線とで囲まれる面積である。 Moreover, the silanol group has a absorption in 860~960Cm -1, when a line segment connecting the point H which shows the absorbance at point F and 860 cm -1 line segment FH, peak area attributed to silanol groups A6 Is the area surrounded by the line segment FH and the spectral curve between them.

測定条件は、前記シリコン系ハードコート層における条件と同様である。   The measurement conditions are the same as those for the silicon hard coat layer.

(シロキサンオリゴマー(A)の合成方法)
シロキサンオリゴマー(A)は、オルガノシロキサン類、アルキルシリケート類を加水分解・縮合することにより得られる。
(Synthesis method of siloxane oligomer (A))
The siloxane oligomer (A) can be obtained by hydrolyzing and condensing organosiloxanes and alkyl silicates.

オルガノシラン類及びアルキルシリケート類を予め加水分解・縮合し、分子間に架橋構造を形成して高分子量化したシロキサンオリゴマー(A)を使用することにより、得られるハードコート層の硬化性と物性を向上させることができる。また、高分子量化したシロキサンオリゴマー(A)を用いることにより、硬化時の重縮合による収縮とそれに伴い発生する応力を低減でき、その結果クラックの低減と基材密着性を向上することができる。   By using the siloxane oligomer (A), which is obtained by hydrolyzing and condensing organosilanes and alkyl silicates in advance and forming a crosslinked structure between molecules to increase the molecular weight, the curability and physical properties of the obtained hard coat layer can be improved. Can be improved. Moreover, by using the high molecular weight siloxane oligomer (A), shrinkage due to polycondensation during curing and the stress generated therewith can be reduced, and as a result, crack reduction and substrate adhesion can be improved.

シロキサンオリゴマー(A)は、例えば、下記式(1)で示されるオルガノシラン85〜95モル%と、下記式(2)で示されるオルガノシラン5〜15モル%と、下記式(3)で示されるオルガノシラン又は下記式(4)で示されるアルキルシリケート0〜10モル%とを加水分解・縮合して得られる。
CH3Si(OR13 ・・・(1)
65Si(OR23 ・・・(2)
(式(1)、(2)中、R1、R2はそれぞれ炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜4のアシル基を示す。)
3 aSi(OR44-a ・・・(3)
(式(3)中、R3は炭素数1〜10の有機基を示し、R4は炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜4のアシル基を示す。aは1〜3の整数を示す。ただし、aが1のときR3はメチル基、フェニル基以外の有機基を示す。)
The siloxane oligomer (A) is represented by, for example, 85 to 95 mol% of an organosilane represented by the following formula (1), 5 to 15 mol% of an organosilane represented by the following formula (2), and the following formula (3). It is obtained by hydrolyzing and condensing an organosilane or an alkyl silicate represented by the following formula (4) 0 to 10 mol%.
CH 3 Si (OR 1 ) 3 (1)
C 6 H 5 Si (OR 2 ) 3 (2)
(In formulas (1) and (2), R 1 and R 2 each represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an acyl group having 1 to 4 carbon atoms.)
R 3 a Si (OR 4 ) 4-a (3)
(In the formula (3), R 3 is an organic group having 1 to 10 carbon atoms, R 4 is of .a 1-3 showing the acyl group of 1 to 4 alkyl groups or C1-5 atoms Represents an integer, provided that when a is 1, R 3 represents an organic group other than a methyl group or a phenyl group.)

Figure 2010253767
Figure 2010253767

(式(4)中、R5、R6、R7及びR8はそれぞれ同一もしくは異なってもよく、炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜4のアシル基を示す。nは1〜20の整数を示す。)。 (In the formula (4), R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an acyl group having 1 to 4 carbon atoms. Represents an integer of ~ 20).

前記式(1)で示されるオルガノシラン類は、ケイ素原子にメチル基が一つ結合した3官能性のオルガノシランであり、シロキサンオリゴマー(A)における主成分である。これを85〜95モル%含有することで、4官能性のアルキルシリケート類を主成分とした場合に比べて、ハードコート層の柔軟性が向上してクラックの発生を低減させることができる。さらに、メチル基は立体障害が少ないため、より緻密なシロキサンネットワークが形成されて、耐擦傷性の良好なハードコート層を得ることができる。   The organosilane represented by the formula (1) is a trifunctional organosilane in which one methyl group is bonded to a silicon atom, and is a main component in the siloxane oligomer (A). By containing this in an amount of 85 to 95 mol%, the flexibility of the hard coat layer can be improved and the occurrence of cracks can be reduced as compared with the case where a tetrafunctional alkyl silicate is used as a main component. Furthermore, since the methyl group has less steric hindrance, a denser siloxane network is formed, and a hard coat layer with good scratch resistance can be obtained.

前記式(1)において、R1の炭素数1〜5のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基等が挙げられる。また、炭素数1〜4のアシル基としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基等が挙げられる。製造が容易な点、加水分解速度が速い点から、R1はメチル基又はエチル基が好ましい。 In the formula (1), the alkyl group of 1 to 5 carbon atoms for R 1, a methyl group, an ethyl group, n- propyl group, an isopropyl group, n- butyl group, n- pentyl group. Examples of the acyl group having 1 to 4 carbon atoms include formyl group, acetyl group, propionyl group, and butyryl group. R 1 is preferably a methyl group or an ethyl group from the viewpoint of easy production and a high hydrolysis rate.

前記式(1)で示されるオルガノシラン類の具体例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of the organosilanes represented by the formula (1) include, but are not limited to, methyltrimethoxysilane and methyltriethoxysilane.

前記式(2)で示されるオルガノシラン類は、ケイ素原子にフェニル基が一つ結合した3官能性のオルガノシランである。これをシロキサンオリゴマー(A)中に5モル%以上配合することで、ハードコート層の柔軟性が向上し、クラックの発生を低減させたり、基材への密着性を向上させることができる。また、配合量を15モル%以下にすることで、過度の柔軟化を抑制でき、耐擦傷性の良好なハードコート層を得ることができる。   The organosilane represented by the formula (2) is a trifunctional organosilane in which one phenyl group is bonded to a silicon atom. By blending this with 5 mol% or more in the siloxane oligomer (A), the flexibility of the hard coat layer can be improved, the occurrence of cracks can be reduced, and the adhesion to the substrate can be improved. Moreover, by making a compounding quantity 15 mol% or less, excessive softening can be suppressed and a hard-coat layer with favorable abrasion resistance can be obtained.

前記式(2)において、R2はR1と同様とすることができ、製造が容易な点、加水分解速度が速い点から、メチル基又はエチル基が好ましい。 In the formula (2), R 2 can be the same as R 1 , and a methyl group or an ethyl group is preferable from the viewpoint of easy production and a high hydrolysis rate.

前記式(2)で示されるオルガノシラン類の具体例としては、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of the organosilanes represented by the formula (2) include phenyltrimethoxysilane and phenyltriethoxysilane, but are not limited thereto.

前記式(3)において、R3の炭素数1〜10の有機基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ビニル基、グリシジル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、フェニル基等が挙げられる。ただし、aが1のときR3はメチル基、フェニル基以外の有機基を示す。この中でもR3としては、立体障害が少ない点から、メチル基、エチル基などが好ましい。R4はR1と同様とすることができ、製造が容易な点、加水分解速度が速い点から、メチル基又はエチル基が好ましい。 In the formula (3), as the organic group having 1 to 10 carbon atoms of R 3 , a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group, Cyclohexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, formyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, vinyl group, glycidyl group, acryloyl group, methacryloyl group, styryl group, A phenyl group etc. are mentioned. However, when a is 1, R 3 represents an organic group other than a methyl group or a phenyl group. Among these, as R 3 , a methyl group, an ethyl group, and the like are preferable from the viewpoint of less steric hindrance. R 4 can be the same as R 1 and is preferably a methyl group or an ethyl group from the viewpoint of easy production and a high hydrolysis rate.

前記式(3)で示されるオルガノシラン類の具体例としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、p−スチリルトリエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリエチルエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。この中でも、立体障害が少ない点から、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシランなどが好ましい。本発明においては、これらを1種又は2種以上の混合物として使用できる。   Specific examples of the organosilanes represented by the formula (3) include vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, and 2- (3,4-epoxy. (Cyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloyloxypropyl Triethoxysilane, 3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane, p-styryltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, trimethylmethoxysilane Triethyl silane, trimethyl silane, but triethyl silane and the like, but is not limited thereto. Of these, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, and the like are preferable from the viewpoint of less steric hindrance. In the present invention, these can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.

前記式(4)において、R5、R6、R7及びR8はそれぞれ炭素原子数1〜5のアルキル基又は炭素原子数1〜4のアシル基を示す。それらの基は、同一でも良いし異なっていても良い。nは、アルキルシリケート類の繰り返し単位の数を表し、1〜20の整数である。nが20より大きいと、加水分解・縮合の際にゲル化し易くなる。良好な硬化性、被膜物性が得られる点とゲル化し難い点から、nは1〜10の整数であることが好ましい。R5、R6、R7及びR8はR1と同様とすることができるが、メチル基、エチル基が好ましい。 In the formula (4), R 5 , R 6 , R 7 and R 8 each represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an acyl group having 1 to 4 carbon atoms. These groups may be the same or different. n represents the number of repeating units of the alkyl silicate, and is an integer of 1-20. When n is larger than 20, gelation tends to occur during hydrolysis and condensation. It is preferable that n is an integer of 1 to 10 from the viewpoint of obtaining good curability and physical properties of the film and being difficult to gel. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 can be the same as R 1 , but a methyl group and an ethyl group are preferred.

前記式(4)で示されるアルキルシリケート類の具体例としては、R5〜R8がメチル基であるメチルシリケート、R5〜R8がエチル基であるエチルシリケート、R5〜R8がイソプロピル基であるイソプロピルシリケート、R5〜R8がn−プロピル基であるn−プロピルシリケート、R5〜R8がn−ブチル基であるn−ブチルシリケート、R5〜R8がn−ペンチル基であるn−ペンチルシリケート、R5〜R8がアセチル基であるアセチルシリケート等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。この中でも、入手が容易な点、加水分解速度が速い点から、メチルシリケート、エチルシリケートが好ましい。 Specific examples of the alkyl silicates represented by the formula (4) include methyl silicates in which R 5 to R 8 are methyl groups, ethyl silicates in which R 5 to R 8 are ethyl groups, and R 5 to R 8 are isopropyl. isopropyl silicate is a group, R 5 to R 8 is a n- propyl group n- propyl silicate, R 5 to R 8 is a n- butyl group n- butyl silicate, R 5 to R 8 is n- pentyl group N-pentyl silicate, R 5 to R 8 are acetyl silicates, and the like, but are not limited thereto. Among these, methyl silicate and ethyl silicate are preferable because they are easily available and have a high hydrolysis rate.

加水分解は、既知の方法を用いて行うことができる。例えば、前記オルガノシラン類をアルコール類に混合し、さらに水(オルガノシラン類1モルに対して、例えば水1〜1000モル)及び塩酸や酢酸などの酸を加えて溶液を酸性(例えばpH2〜4)とし、攪拌する方法がある。   Hydrolysis can be performed using known methods. For example, the organosilane is mixed with an alcohol, and water (for example, 1 to 1000 mol of water with respect to 1 mol of the organosilane) and an acid such as hydrochloric acid or acetic acid are added to make the solution acidic (for example, pH 2 to 4). ) And stirring.

また、前記オルガノシラン類をアルコール類に混合し、さらに水(オルガノシラン類1モルに対して、例えば1〜1000モル)を加えて加熱(例えば30〜100℃)する方法がある。加水分解に際して発生するアルコールは、系外に留去してもよい。加水分解に続く縮合は、加水分解状態にあるオルガノシラン類を放置することにより進行させることができる。その際、加熱(例えば30〜100℃)する、あるいは、pHを中性付近(例えば、pH6〜7)に制御することにより、縮合の進行を速めることができる。縮合に際して発生する水は、系外に留去してもよい。   In addition, there is a method in which the organosilane is mixed with an alcohol, and water (for example, 1 to 1000 mol per 1 mol of the organosilane) is added and heated (for example, 30 to 100 ° C.). The alcohol generated during the hydrolysis may be distilled out of the system. Condensation following hydrolysis can be allowed to proceed by leaving the organosilanes in the hydrolyzed state. At that time, the progress of the condensation can be accelerated by heating (for example, 30 to 100 ° C.) or controlling the pH to be near neutral (for example, pH 6 to 7). The water generated during the condensation may be distilled out of the system.

オルガノシラン類とアルキルシリケート類との比率は、ハードコート層の耐クラック性が良好となれば特に限定されないが、オルガノシラン1モルに対して、アルキルシリケート0モル〜1モルが好ましく、0〜0.1モルがより好ましい。   The ratio of the organosilane to the alkyl silicate is not particularly limited as long as the crack resistance of the hard coat layer is good, but the alkyl silicate is preferably 0 mol to 1 mol with respect to 1 mol of the organosilane. More preferred is 1 mole.

(シロキサンオリゴマーのブレンド)
前記シロキサンオリゴマー(A)は、面積比A4/A5及び面積比A6/(A4+A5)が上述の範囲に当てはまるものであれば、1種のシロキサンオリゴマー単一で使用しても良い。しかし、面積比A4/A5を1.83以上、2.03以下の範囲にしようとすると、面積比A6/(A4+A5)が0.300よりも小さくなる傾向があり、相当するシロキサンオリゴマーを得ることが困難な場合がある。これは、環状シロキサン結合が形成されやすい酸性領域(pH=4以下)では、加水分解が十分に進行して反応性の高いシラノール基が多く存在し、縮合反応が生じやすいためと考えられる。そのため、後述するように、構造の異なる二種以上のシロキサンオリゴマーを混合し、上述の範囲に当てはまるようにしてシロキサンオリゴマー(A)を調製し、使用しても良い。
(Blend of siloxane oligomer)
The siloxane oligomer (A) may be used alone as long as the area ratio A4 / A5 and the area ratio A6 / (A4 + A5) are within the above ranges. However, if the area ratio A4 / A5 is in the range of 1.83 or more and 2.03 or less, the area ratio A6 / (A4 + A5) tends to be smaller than 0.300, and a corresponding siloxane oligomer is obtained. May be difficult. This is presumably because, in an acidic region (pH = 4 or less) in which a cyclic siloxane bond is easily formed, hydrolysis proceeds sufficiently and many highly reactive silanol groups are present, so that a condensation reaction is likely to occur. Therefore, as described later, two or more types of siloxane oligomers having different structures may be mixed to prepare and use the siloxane oligomer (A) so as to fall within the above range.

(シロキサンオリゴマー(C)の合成)
前記二種以上のシロキサンオリゴマーを混合したシロキサンオリゴマー(A)において、混合するシロキサンオリゴマーのうち少なくとも一種は、環状シロキサン結合を多く有するシロキサンオリゴマー(C)であることが好ましい。該シロキサンオリゴマー(C)は、前記面積比A4/A5が1.83以上、2.50以下であり、且つ前記面積比A6/(A4+A5)が0.200以上、0.300以下である。
(Synthesis of siloxane oligomer (C))
In the siloxane oligomer (A) in which two or more siloxane oligomers are mixed, at least one of the siloxane oligomers to be mixed is preferably a siloxane oligomer (C) having many cyclic siloxane bonds. In the siloxane oligomer (C), the area ratio A4 / A5 is 1.83 to 2.50, and the area ratio A6 / (A4 + A5) is 0.200 to 0.300.

このようなシロキサンオリゴマー(C)は、加水分解を十分に進行させた状態で縮合を行うことで合成することができる。これは、加水分解が十分に進行し、シラノール基が多く存在する状態では、近隣に存在するシラノール基間での縮合が生じ易くなり、シロキサンオリゴマー分子内での縮合が進行して、環状シロキサン結合が多く生成するためである。   Such a siloxane oligomer (C) can be synthesized by performing condensation in a state where hydrolysis is sufficiently advanced. This is because hydrolysis proceeds sufficiently, and in the state where there are many silanol groups, condensation between silanol groups present in the vicinity tends to occur, and condensation within the siloxane oligomer molecule proceeds, resulting in cyclic siloxane bonds. This is because many generate.

シロキサンオリゴマー(C)の合成方法としては、例えば、まず、シロキサンオリゴマー(A)の原料であるオルガノシラン類及びアルキルシリケート類をアルコール類に混合する。その後、オルガノシラン類及びアルキルシリケート類が有するアルコキシル基の合計1モルに対し0.5モル以上の水を加え、さらに塩酸や酢酸などの酸を加えて溶液をpH=4以下の酸性領域にして加水分解・縮合を行う。ここで、アルコキシル基の合計1モルを完全に加水分解・縮合するのに要する水は0.5モルであり、0.5モル以上の水を加えることで、アルコキシル基の加水分解・縮合を十分に進行させることができる。アルコキシル基の合計1モルに対する水の添加量は、好ましくは0.8モル以上であり、より好ましくは1モル以上である。また、オルガノシラン類及びアルキルシリケート類の加水分解・縮合は、pHに応じて反応速度が変化し、pH=4以下の領域では、加水分解速度が縮合速度に比べて速く、加水分解を十分に進行させることができる。この時のpHは、好ましくはpH=3.8以下である。   As a method for synthesizing the siloxane oligomer (C), for example, first, organosilanes and alkyl silicates which are raw materials of the siloxane oligomer (A) are mixed with alcohols. Thereafter, 0.5 mol or more of water is added to 1 mol of the total alkoxyl groups of the organosilanes and alkyl silicates, and an acid such as hydrochloric acid or acetic acid is further added to make the solution an acidic region of pH = 4 or less. Perform hydrolysis and condensation. Here, the water required for complete hydrolysis / condensation of a total of 1 mol of alkoxyl groups is 0.5 mol, and addition of 0.5 mol or more of water is sufficient for hydrolysis / condensation of alkoxyl groups. Can proceed to. The amount of water added to a total of 1 mol of alkoxyl groups is preferably 0.8 mol or more, more preferably 1 mol or more. In addition, the hydrolysis / condensation of organosilanes and alkyl silicates varies depending on the pH, and in the region of pH = 4 or less, the hydrolysis rate is faster than the condensation rate, and the hydrolysis is sufficiently performed. Can be advanced. The pH at this time is preferably pH = 3.8 or less.

この際、加熱(例えば30〜100℃)することもでき、温度が高いほど反応の進行が速まり、より短時間でシロキサンオリゴマー(C)を得ることができる。面積比A6/(A4+A5)が0.200以上、0.300以下になるまで縮合を進行させることで、面積比A4/A5が1.83以上、2.50以下の範囲にあるシロキサンオリゴマー(C)を合成することができる。   Under the present circumstances, it can also heat (for example, 30-100 degreeC), progress of reaction becomes quick, so that temperature is high, and a siloxane oligomer (C) can be obtained in a shorter time. By proceeding with condensation until the area ratio A6 / (A4 + A5) is not less than 0.200 and not more than 0.300, a siloxane oligomer having an area ratio A4 / A5 in the range of 1.83 to 2.50 (C ) Can be synthesized.

(シロキサンオリゴマー(D)の合成)
また、前記二種以上のシロキサンオリゴマーを混合したシロキサンオリゴマー(A)において、前記シロキサンオリゴマー(C)と混合するシロキサンオリゴマーは、直鎖状シロキサン結合を多く有するシロキサンオリゴマー(D)であることが好ましい。該シロキサンオリゴマー(D)は、前記面積比A4/A5が1.50以上、1.83未満であり、且つ前記面積比A6/(A4+A5)が0.250以上、0.380以下である。このようなシロキサンオリゴマー(D)は、加水分解が十分に進行しない状態で縮合を行うことで合成することができる。これは、加水分解が十分に進行せず、アルコキシル基が多く存在する状態では、アルコキシル基同士の縮合は生じ難いため、シロキサンオリゴマー分子内での縮合が生じ難く、直鎖状シロキサン結合が多く生成するためである。
(Synthesis of siloxane oligomer (D))
Further, in the siloxane oligomer (A) obtained by mixing the two or more siloxane oligomers, the siloxane oligomer mixed with the siloxane oligomer (C) is preferably a siloxane oligomer (D) having many linear siloxane bonds. . In the siloxane oligomer (D), the area ratio A4 / A5 is 1.50 or more and less than 1.83, and the area ratio A6 / (A4 + A5) is 0.250 or more and 0.380 or less. Such a siloxane oligomer (D) can be synthesized by performing condensation in a state where hydrolysis does not proceed sufficiently. This is because hydrolysis does not proceed sufficiently, and in the state where many alkoxyl groups are present, condensation between alkoxyl groups is unlikely to occur, so condensation within the siloxane oligomer molecule is unlikely to occur and many linear siloxane bonds are formed. It is to do.

シロキサンオリゴマー(D)の合成方法としては、例えば、まず、シロキサンオリゴマー(A)の原料であるオルガノシラン類及びアルキルシリケート類をアルコール類に混合する。その後、オルガノシラン類及びアルキルシリケート類が有するアルコキシル基の合計1モルに対し0.5モル未満の水を加えて加水分解・縮合を行う。また、0.5モル以上の水を加える時は、水酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどの塩基や酢酸ナトリウムなどの塩を加えて溶液をpH=4を超える弱酸性〜中性領域にして加水分解・縮合を行う。ここで、アルコキシル基の合計1モルを完全に加水分解・縮合するのに要する水は0.5モルであり、水の添加量を0.5モル未満にすることで、加水分解・縮合が完全に進行しない状態で留めることができる。アルコキシル基の合計1モルに対する水の添加量は、好ましくは0.45モル未満であり、さらに好ましくは0.4モル未満である。また、オルガノシラン類及びアルキルシリケート類の加水分解・縮合は、pHに応じて反応速度が変化し、pH=4を超える領域では、縮合速度が加水分解速度に比べて速く、加水分解が十分に進行しない状態で縮合を行うことができる。この時のpHは、好ましくはpH=4.8以上である。   As a method for synthesizing the siloxane oligomer (D), for example, first, organosilanes and alkyl silicates which are raw materials of the siloxane oligomer (A) are mixed with alcohols. Thereafter, hydrolysis and condensation are carried out by adding less than 0.5 mol of water to a total of 1 mol of alkoxyl groups of the organosilanes and alkyl silicates. In addition, when adding 0.5 mol or more of water, a base such as sodium hydroxide or potassium hydroxide or a salt such as sodium acetate is added to make the solution into a weakly acidic to neutral region exceeding pH = 4.・ Condensation. Here, the amount of water required to completely hydrolyze and condense a total of 1 mol of alkoxyl groups is 0.5 mol, and the amount of water added is less than 0.5 mol, so that hydrolysis and condensation are complete. Can be kept in a state of not progressing. The amount of water added to a total of 1 mol of alkoxyl groups is preferably less than 0.45 mol, and more preferably less than 0.4 mol. In addition, the hydrolysis / condensation of organosilanes and alkylsilicates varies depending on the pH, and in the region where the pH exceeds 4, the condensation rate is faster than the hydrolysis rate, and the hydrolysis is sufficient. Condensation can be carried out without progressing. The pH at this time is preferably pH = 4.8 or more.

この際、加熱(例えば30〜100℃)することもでき、温度が高いほど反応の進行が速まり、より短時間でシロキサンオリゴマー(D)を得ることができる。面積比A6/(A4+A5)が0.250以上、0.380以下になるまで縮合を進行させることで、面積比A4/A5が1.50以上、1.83未満の範囲にあるシロキサンオリゴマー(D)を合成することができる。   Under the present circumstances, it can also heat (for example, 30-100 degreeC), progress of reaction becomes quick, so that temperature is high, and a siloxane oligomer (D) can be obtained in a shorter time. By proceeding with condensation until the area ratio A6 / (A4 + A5) is not less than 0.250 and not more than 0.380, a siloxane oligomer having an area ratio A4 / A5 in the range of 1.50 or more and less than 1.83 (D ) Can be synthesized.

(シロキサンオリゴマーブレンド割合)
これらのシロキサンオリゴマーの混合は、シロキサンオリゴマー混合物の面積比A4/A5が1.83以上、2.03以下であり、且つ面積比A6/(A4+A5)が0.300以上、0.360以下となるように行う。シロキサンオリゴマー混合物の面積比は、混合するシロキサンオリゴマー単独の面積比と混合割合から算出する。例えば、シロキサンオリゴマーX(A4/A5=a、A6/(A4+A5)=b)とシロキサンオリゴマーY(A4/A5=c、A6/(A4+A5)=d)とをX:Y=l:m(ここで、l+m=1)の質量比で混合したシロキサンオリゴマー混合物の場合、面積比A4/A5はa×l+c×m、面積比A6/(A4+A5)はb×l+d×mとして求められる。
(Siloxane oligomer blend ratio)
As for the mixing of these siloxane oligomers, the area ratio A4 / A5 of the siloxane oligomer mixture is 1.83 or more and 2.03 or less, and the area ratio A6 / (A4 + A5) is 0.300 or more and 0.360 or less. Do as follows. The area ratio of the siloxane oligomer mixture is calculated from the area ratio and mixing ratio of the siloxane oligomer alone to be mixed. For example, siloxane oligomer X (A4 / A5 = a, A6 / (A4 + A5) = b) and siloxane oligomer Y (A4 / A5 = c, A6 / (A4 + A5) = d) are represented by X: Y = 1: m (here In the case of a siloxane oligomer mixture mixed at a mass ratio of l + m = 1), the area ratio A4 / A5 is determined as a × l + c × m, and the area ratio A6 / (A4 + A5) is determined as b × l + d × m.

前記シロキサンオリゴマー(C)とシロキサンオリゴマー(D)を混合してシロキサンオリゴマー(A)を調製する場合には、面積比A4/A5及び面積比A6/(A4+A5)が前記範囲となるようにして混合するが、具体的には、シロキサンオリゴマー(C)100質量部に対し、シロキサンオリゴマー(D)が1〜10000質量部、好ましくは10〜1000質量部、さらに好ましくは20〜800質量部の範囲で混合することができる。   When the siloxane oligomer (A) is prepared by mixing the siloxane oligomer (C) and the siloxane oligomer (D), the area ratio A4 / A5 and the area ratio A6 / (A4 + A5) are mixed within the above ranges. Specifically, the siloxane oligomer (D) is 1 to 10000 parts by mass, preferably 10 to 1000 parts by mass, more preferably 20 to 800 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the siloxane oligomer (C). Can be mixed.

(活性エネルギー線感応性カチオン重合開始剤(B))
また、本発明で使用する活性エネルギー線感応性カチオン重合開始剤(B)は、可視光線、紫外線、熱線、電子線などの活性エネルギー線によりカチオン重合反応を起こす開始剤である。可視光線、紫外線により酸を発生する光感応性カチオン重合開始剤、熱線により酸を発生する熱感応性カチオン重合開始剤が好ましい。中でも、活性が高い点、プラスチック材料に熱劣化を与えない点から、光感応性カチオン重合開始剤がより好ましい。
(Active energy ray-sensitive cationic polymerization initiator (B))
The active energy ray-sensitive cationic polymerization initiator (B) used in the present invention is an initiator that causes a cationic polymerization reaction by active energy rays such as visible light, ultraviolet rays, heat rays, and electron beams. Photosensitive cationic polymerization initiators that generate acid by visible light and ultraviolet light, and heat sensitive cationic polymerization initiators that generate acid by heat rays are preferred. Among these, a photosensitive cationic polymerization initiator is more preferable because it has high activity and does not cause thermal deterioration of the plastic material.

光感応性カチオン重合開始剤としては、例えば、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、セレニウム塩、オキソニウム塩、アンモニウム塩化合物等が挙げられる。具体例としては、「イルガキュア250」(チバ・ジャパン(株)製、商品名)、「アデカオプトマーSP−150」、「アデカオプトマーSP−170」(以上、(株)ADEKA製、商品名)、「サイラキュアUVI−6970」、「サイラキュアUVI−6974」、「サイラキュアUVI−6990」、「サイラキュアUVI−6992」、「サイラキュアUVI−6950」(以上、ダウケミカル社製、商品名)、「DAICATII」(ダイセル化学工業(株)社製、商品名)、「UVAC1591」(ダイセル・ユーシービー(株)社製、商品名)、「CI−2734」、「CI−2855」、「CI−2823」、「CI−2758」(以上、日本曹達(株)製、商品名)、「サンエイドSI−60」、「サンエイドSI−80」、「サンエイドSI−100」、「サンエイドSI−110」、「サンエイドSI−150」、「サンエイドSI−180」(以上、三新化学工業(株)社製、商品名)などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。中でも、カウンターイオンが六フッ化アンチモン酸イオンである光感応性カチオン重合開始剤が、重合度が高くなる点から好ましい。   Examples of the photosensitive cationic polymerization initiator include diazonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, phosphonium salts, selenium salts, oxonium salts, ammonium salt compounds, and the like. Specific examples include “Irgacure 250” (trade name, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.), “Adekaoptomer SP-150”, “Adekaoptomer SP-170” (above, manufactured by ADEKA Corporation, trade name). ), “Syracure UVI-6970”, “Syracure UVI-6974”, “Syracure UVI-6990”, “Syracure UVI-6922”, “Syracure UVI-6950” (above, trade name, manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.), “DAICATII” "(Trade name) manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.", "UVAC1591" (trade name, manufactured by Daicel UCB), "CI-2734", "CI-2855", "CI-2823" , “CI-2758” (trade name, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.), “Sun Aid SI-60”, “Sun Aid SI-” 0 "," Sun-Aid SI-100 "," Sun-Aid SI-110 "," Sun-Aid SI-150 "," Sun-Aid SI-180 "(above, trade name, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) However, it is not limited to these. Among these, a photosensitive cationic polymerization initiator whose counter ion is hexafluoroantimonate ion is preferable from the viewpoint of increasing the degree of polymerization.

活性エネルギー線感応性カチオン重合開始剤(B)の配合量は、特に限定されないが、シロキサンオリゴマー(A)の固形分100質量部に対して、0.01〜10質量部の範囲内が好ましい。但し、固形分とは、シロキサンオリゴマー(A)のオルガノシロキサン類及びアルキルシリケート類が完全に加水分解・縮合したと仮定した場合に生成する加水分解縮合物の質量部を意味する。0.01質量部以上であれば、活性エネルギー線の照射によって十分に硬化し、良好なハードコート層が得られる傾向にある。また、10質量部以下であれば、硬化して得られるハードコート層の物性について、特に着色が低く、表面硬度や耐擦傷性が良好となる傾向にある。さらに、硬化性が良好である点、良好な性能のハードコート層が得られる点から、その配合量は0.05〜5質量部の範囲内がより好ましい。   The blending amount of the active energy ray-sensitive cationic polymerization initiator (B) is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the solid content of the siloxane oligomer (A). However, solid content means the mass part of the hydrolysis condensate produced | generated when it is assumed that the organosiloxane and alkyl silicate of siloxane oligomer (A) were completely hydrolyzed and condensed. If it is 0.01 mass part or more, it will fully harden | cure by irradiation of an active energy ray, and there exists a tendency for a favorable hard-coat layer to be obtained. If it is 10 parts by mass or less, the physical properties of the hard coat layer obtained by curing tend to be particularly low in color, and the surface hardness and scratch resistance tend to be good. Furthermore, the compounding amount is more preferably in the range of 0.05 to 5 parts by mass from the viewpoint of good curability and a hard coat layer having good performance.

なお、これらの活性エネルギー線感応性カチオン重合開始剤は単独で使用しても良いし、2種以上を混合して使用しても良い。   In addition, these active energy ray sensitive cationic polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

(溶剤)
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、固形分濃度調整、分散安定性向上、塗布性向上、基材への密着性向上等を目的として、有機溶剤を含有することが好ましい。有機溶媒としては、例えば、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、セロソルブ類、芳香族化合物類などが挙げられる。
(solvent)
The active energy ray-curable composition of the present invention preferably contains an organic solvent for the purpose of adjusting the solid content concentration, improving the dispersion stability, improving the coating property, and improving the adhesion to the substrate. Examples of the organic solvent include alcohols, ketones, ethers, esters, cellosolves, aromatic compounds, and the like.

具体的には、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、イソブチルアルコール、t−ブチルアルコール、ベンジルアルコール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−(メトキシメトキシ)エタノール、2−ブトキシエタノール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−エトキシ−2−プロパノール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジアセトンアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、2−ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン、4−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、アセトフェノン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アニソール、フェネトール、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,2−ジメトキシエタン、1,2−ジエトキシエタン、1,2−ジブトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、グリセリンエーテル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸sec−ブチル、酢酸ペンチル、酢酸イソペンチル、3−メトキシブチルアセテート、2−エチルブチルアセテート、2−エチルヘキシルアセテート、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、γ−ブチロラクトン、2−メトキシエチルアセテート、2−エトキシエチルアセテート、2−ブトキシエチルアセテート、2−フェノキシエチルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの有機溶媒は、単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。   Specifically, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, isobutyl alcohol, t-butyl alcohol, benzyl alcohol, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2- (methoxy Methoxy) ethanol, 2-butoxyethanol, furfuryl alcohol, tetrahydrofurfuryl alcohol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 1-ethoxy-2-propanol, dipropylene glycol Monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, diacetone alcohol, Seton, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, 3-pentanone, 2-hexanone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone, 4-heptanone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, acetophenone, diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether , Dihexyl ether, anisole, phenetole, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, 1,2-dimethoxyethane, 1,2-diethoxyethane, 1,2-dibutoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, glycerin ether, Methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, isoacetic acid Chill, sec-butyl acetate, pentyl acetate, isopentyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, 2-ethylbutyl acetate, 2-ethylhexyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, butyl propionate, γ-butyrolactone, 2-methoxyethyl Examples include, but are not limited to, acetate, 2-ethoxyethyl acetate, 2-butoxyethyl acetate, 2-phenoxyethyl acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, benzene, toluene, xylene and the like. . These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

(シリコン系ハードコート層の形成方法)
次に、本発明におけるシリコン系ハードコート層の形成方法について説明する。
(Silicon hard coat layer formation method)
Next, a method for forming a silicon hard coat layer in the present invention will be described.

本発明におけるシリコン系ハードコート層は、特定の構造を有するシロキサンオリゴマー(A)と、活性エネルギー線感応性カチオン重合開始剤(B)とを主成分とする活性エネルギー線硬化性コーティング組成物を基材表面に塗布し、活性エネルギー線を照射して架橋硬化させて形成する。   The silicon-based hard coat layer in the present invention is based on an active energy ray-curable coating composition mainly composed of a siloxane oligomer (A) having a specific structure and an active energy ray-sensitive cationic polymerization initiator (B). It is applied to the surface of the material and formed by irradiating with active energy rays and crosslinking and curing.

活性エネルギー線硬化性組成物の塗布は、従来から公知の方法、例えば、バーコート法、スプレーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソコート法、スクリーン法、スピンコート法、フローコート法、静電塗装法等で行うことができる。   The application of the active energy ray curable composition is conventionally known methods, for example, bar coating method, spray coating method, roll coating method, gravure coating method, flexo coating method, screen method, spin coating method, flow coating method, It can be performed by an electrostatic coating method or the like.

活性エネルギー線硬化性組成物の塗布により形成した被膜の膜厚としては、より耐擦傷性と耐クラック性を向上できる点から5〜200μmが好ましい。   As a film thickness of the film formed by application | coating of an active energy ray curable composition, 5-200 micrometers is preferable from the point which can improve abrasion resistance and crack resistance more.

活性エネルギー線としては、真空紫外線、紫外線、可視光線、近赤外線、赤外線、遠赤外線、マイクロ波、電子線、β線、γ線などが挙げられる。中でも、紫外線、可視光線を、カウンターイオンが六フッ化アンチモン酸イオンである光感応性カチオン重合開始剤と組み合わせて使用することが、重合速度が速い点、基材の劣化が比較的少ない点から好ましい。   Examples of the active energy rays include vacuum ultraviolet rays, ultraviolet rays, visible rays, near infrared rays, infrared rays, far infrared rays, microwaves, electron beams, β rays, and γ rays. Among them, it is possible to use ultraviolet light and visible light in combination with a photosensitive cationic polymerization initiator whose counter ion is hexafluoroantimonate ion because the polymerization rate is fast and the deterioration of the substrate is relatively small. preferable.

具体例としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、白熱電球、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマーレーザー、太陽などを光源とする活性エネルギー線が挙げられる。活性エネルギー線は、一種類を単独で使用しても良いし、異なるものを複数種使用しても良い。異なる複数種の活性エネルギー線を使用する場合は、同時に照射しても良いし、順番に照射しても良い。   Specific examples include low-pressure mercury lamps, medium-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, incandescent bulbs, xenon lamps, halogen lamps, carbon arc lamps, metal halide lamps, fluorescent lamps, tungsten lamps, gallium lamps, excimer lasers, and the sun. An active energy ray as a light source can be mentioned. One type of active energy ray may be used alone, or a plurality of different types may be used. When different types of active energy rays are used, they may be irradiated simultaneously or sequentially.

さらに、活性エネルギー線の照射による被膜の硬化効率が良くなる点から、活性エネルギー線の照射と被膜の特定の温度範囲への加熱を併用することが好ましい。被膜を加熱する際の最適な被膜温度は60℃〜90℃である。被膜温度が60℃以上の場合には、活性エネルギー線照射による被膜の硬化を効果的に促進することができる。また、90℃以下の場合には、急激な硬化収縮に伴い発生する応力によるクラックの発生や基材密着性の低下を抑制しつつ硬化を促進することができる。また、基材の耐熱温度が上記温度よりも低い場合には、基材の耐熱温度未満とすることが好ましい。   Furthermore, from the viewpoint of improving the curing efficiency of the film by irradiation with active energy rays, it is preferable to use both irradiation with active energy rays and heating the coating to a specific temperature range. The optimum coating temperature for heating the coating is 60 ° C to 90 ° C. When the coating temperature is 60 ° C. or higher, curing of the coating by irradiation with active energy rays can be effectively promoted. Moreover, in the case of 90 degrees C or less, hardening can be accelerated | stimulated, suppressing generation | occurrence | production of the crack by the stress which generate | occur | produces with rapid hardening shrinkage | contraction, and the fall of base-material adhesiveness. Moreover, when the heat-resistant temperature of a base material is lower than the said temperature, it is preferable to set it as less than the heat-resistant temperature of a base material.

被膜を特定の温度範囲に加熱する方法は特に制限されないが、例えば熱風炉、電気炉、蒸気乾燥炉、赤外線照射、誘導加熱などを用いることができる。被膜を特定の温度に加熱する工程は、活性エネルギー線の照射前、照射中、照射後のいずれにおいても行うことができるが、活性エネルギー線の照射前に加熱を行った場合には、活性エネルギー線を照射する際の被膜温度が自然冷却によって特定の温度範囲を外れないように、保温材などを用いて保温しても良い。   The method for heating the coating to a specific temperature range is not particularly limited, and for example, a hot air furnace, an electric furnace, a steam drying furnace, infrared irradiation, induction heating, or the like can be used. The step of heating the coating to a specific temperature can be performed before, during, or after irradiation of the active energy ray. You may heat-retain using a heat insulating material etc. so that the film temperature at the time of irradiating a line may not deviate from a specific temperature range by natural cooling.

これにより、本発明に係る基材の表面にシリコン系ハードコート層を有するハードコート成形品が得られる。なお、該シリコン系ハードコート層の膜厚は、より耐擦傷性と耐クラック性を向上できる点から0.5〜100μmであることが好ましい。   Thereby, the hard coat molded article which has a silicon-type hard-coat layer on the surface of the base material which concerns on this invention is obtained. In addition, it is preferable that the film thickness of this silicon-type hard-coat layer is 0.5-100 micrometers from the point which can improve abrasion resistance and crack resistance more.

以下に、本発明について実施例を掲げて詳細に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。以下の記載において「部」は「質量部」を示す。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the examples. In the following description, “part” means “part by mass”.

<合成例1:シロキサンオリゴマー(C1)の合成>
オルガノシラン類としてメチルトリメトキシシラン(多摩化学工業株式会社製、分子量136)126.48部(93モル%)、フェニルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製、分子量198)13.86部(7モル%)に、イソプロピルアルコール108.28部を加え、攪拌して均一な溶液とした。さらに、水107.76部、1mol/L塩酸水溶液0.24部を加え、攪拌しつつ80℃で3時間加熱し、加水分解・縮合を行った。この時のアルコキシル基と水のモル比はアルコキシル基/水=1/2であり、溶液のpHは3.5であった。その後25℃まで冷却し、24時間攪拌して縮合を進行させ、固形分濃度20質量%のシロキサンオリゴマー(C1)の溶液356.62部を得た。
<Synthesis Example 1: Synthesis of Siloxane Oligomer (C1)>
As organosilanes, methyltrimethoxysilane (manufactured by Tama Chemical Co., Ltd., molecular weight 136) 126.48 parts (93 mol%), phenyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., molecular weight 198) 13.86 parts (7 Mol%) was added with 108.28 parts of isopropyl alcohol and stirred to obtain a uniform solution. Furthermore, 107.76 parts of water and 0.24 part of a 1 mol / L hydrochloric acid aqueous solution were added, and the mixture was heated at 80 ° C. for 3 hours with stirring to perform hydrolysis and condensation. At this time, the molar ratio of the alkoxyl group to water was alkoxyl group / water = 1/2, and the pH of the solution was 3.5. Thereafter, the mixture was cooled to 25 ° C. and stirred for 24 hours to allow condensation to proceed to obtain 356.62 parts of a siloxane oligomer (C1) solution having a solid concentration of 20% by mass.

得られたシロキサンオリゴマー(C1)について、長さ10cm、幅10cm、厚み3mmのアクリル板(商品名:「アクリライトEX」、三菱レイヨン株式会社製)上に適量滴下し、バーコート法(バーコーターNo.28使用)にて塗布し、常温にて溶剤を乾燥させた。その後、FT−IR(商品名:「NEXUS470」、サーモニコレー(株)社製)によるATR法にて赤外線吸収測定を行った。測定条件としては、ATR測定用アクセサリー(商品名「FOUNDATION ThunderDome」、スペクトラテック社製)を取り付け、分解能4cm-1、積算回数32回で測定した。また、ピーク面積は、FT−IR解析ソフト(商品名「OMNIC」、サーモニコレー(株)社製)の積分ツールを用いて求めた。 About the obtained siloxane oligomer (C1), an appropriate amount is dropped on an acrylic plate (trade name: “Acrylite EX”, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) having a length of 10 cm, a width of 10 cm, and a thickness of 3 mm, and a bar coating method (bar coater). No. 28) and the solvent was dried at room temperature. Thereafter, infrared absorption measurement was performed by the ATR method using FT-IR (trade name: “NEXUS470”, manufactured by Thermo Nicolet Co., Ltd.). As measurement conditions, an ATR measurement accessory (trade name “FOUNDATION ThunderDome”, manufactured by Spectratech) was attached, and the measurement was performed with a resolution of 4 cm −1 and 32 integrations. Moreover, the peak area was calculated | required using the integration tool of FT-IR analysis software (Brand name "OMNIC", the product made by Thermo Nicolet Co., Ltd.).

その結果、シロキサンオリゴマー(C1)の環状シロキサン結合に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A4と直鎖状シロキサン結合に起因する赤外線吸収スペクトルのA5との面積比A4/A5は2.17であった。また、シロキサン結合に起因する吸収の和(A4+A5)とシラノール基に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A6との比A6/(A4+A5)は0.299であった。結果を表1に示す。   As a result, the area ratio A4 / A5 of the peak area A4 of the infrared absorption spectrum caused by the cyclic siloxane bond of the siloxane oligomer (C1) and A5 of the infrared absorption spectrum caused by the linear siloxane bond was 2.17. . Further, the ratio A6 / (A4 + A5) between the sum of absorption caused by the siloxane bond (A4 + A5) and the peak area A6 of the infrared absorption spectrum caused by the silanol group was 0.299. The results are shown in Table 1.

<合成例2:シロキサンオリゴマー(D1)の合成>
1mol/L塩酸水溶液0.24部を加えず、水の添加量を108.00部とした他は、合成例1と同様にして固形分濃度20質量%のシロキサンオリゴマー(D1)の溶液356.62部を得た。なお、この場合の溶液のpHは4.8であった。得られたシロキサンオリゴマー(D1)の赤外線吸収スペクトルのピーク面積比A4/A5は1.75であり、ピーク面積比A6/(A4+A5)が0.345であった。結果を表1に示す。
<Synthesis Example 2: Synthesis of Siloxane Oligomer (D1)>
A solution of siloxane oligomer (D1) having a solid content concentration of 20% by mass, as in Synthesis Example 1, except that 0.24 part of 1 mol / L hydrochloric acid aqueous solution was not added and the amount of water added was 108.00 parts. 62 parts were obtained. In this case, the pH of the solution was 4.8. The peak area ratio A4 / A5 of the infrared absorption spectrum of the obtained siloxane oligomer (D1) was 1.75, and the peak area ratio A6 / (A4 + A5) was 0.345. The results are shown in Table 1.

<合成例3:シロキサンオリゴマー(C2)の合成>
オルガノシラン類としてメチルトリメトキシシラン(多摩化学工業株式会社製、分子量136)122.40部(90モル%)、フェニルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製、分子量198)13.86部(7モル%)、アルキルシリケート類としてテトラメトキシシラン(多摩化学工業株式会社製、分子量152)4.56部(3モル%)に、イソプロピルアルコール105.67部を加え、攪拌して均一な溶液とした。さらに、水108.84部、1mol/L塩酸水溶液0.24部を加え、攪拌しつつ80℃で3時間加熱し、加水分解・縮合を行った。この時のアルコキシル基と水のモル比はアルコキシル基/水=1/2であり、溶液のpHは3.6であった。その後25℃まで冷却し、24時間攪拌して縮合を進行させ、固形分濃度20質量%のシロキサンオリゴマー(C2)の溶液355.57部を得た。得られたシロキサンオリゴマー(C2)の赤外線吸収スペクトルのピーク面積比A4/A5は2.23であり、ピーク面積比A6/(A4+A5)が0.281であった。結果を表1に示す。
<Synthesis Example 3: Synthesis of Siloxane Oligomer (C2)>
As organosilanes, methyltrimethoxysilane (manufactured by Tama Chemical Co., Ltd., molecular weight 136) 122.40 parts (90 mol%), phenyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., molecular weight 198) 13.86 parts (7 Mol.%), 105.67 parts of isopropyl alcohol was added to 4.56 parts (3 mol%) of tetramethoxysilane (manufactured by Tama Chemical Co., Ltd., molecular weight 152) as alkyl silicates, and stirred to obtain a uniform solution. . Further, 108.84 parts of water and 0.24 part of a 1 mol / L hydrochloric acid aqueous solution were added, and the mixture was heated at 80 ° C. for 3 hours with stirring to perform hydrolysis and condensation. At this time, the molar ratio of alkoxyl group to water was alkoxyl group / water = 1/2, and the pH of the solution was 3.6. Thereafter, the mixture was cooled to 25 ° C. and stirred for 24 hours to proceed with condensation to obtain 355.57 parts of a siloxane oligomer (C2) solution having a solid concentration of 20% by mass. The peak area ratio A4 / A5 of the infrared absorption spectrum of the obtained siloxane oligomer (C2) was 2.23, and the peak area ratio A6 / (A4 + A5) was 0.281. The results are shown in Table 1.

<合成例4:シロキサンオリゴマー(D2)の合成>
1mol/L塩酸水溶液0.24部を加えず、水の添加量を109.08部とした他は、合成例3と同様にして固形分濃度20質量%のシロキサンオリゴマー(D2)の溶液355.57部を得た。なお、この場合の溶液のpHは4.8であった。得られたシロキサンオリゴマー(D2)の赤外線吸収スペクトルのピーク面積比A4/A5は1.77であり、ピーク面積比A6/(A4+A5)が0.322であった。結果を表1に示す。
<Synthesis Example 4: Synthesis of Siloxane Oligomer (D2)>
A solution of siloxane oligomer (D2) having a solid content concentration of 20% by mass, as in Synthesis Example 3, except that 0.24 part of 1 mol / L hydrochloric acid aqueous solution was not added and the amount of water added was 109.08 parts. 57 parts were obtained. In this case, the pH of the solution was 4.8. The peak area ratio A4 / A5 of the infrared absorption spectrum of the obtained siloxane oligomer (D2) was 1.77, and the peak area ratio A6 / (A4 + A5) was 0.322. The results are shown in Table 1.

<実施例1>
[活性エネルギー線硬化性組成物の調製]
(C)成分として合成例1で得たシロキサンオリゴマー(C1)の固形分濃度20質量%溶液10.0部(固形分2.0部)と、(D)成分として合成例2で得たシロキサンオリゴマー(D1)の固形分濃度20質量%溶液40.0部(固形分8.0部)とを混合し、(A)シロキサンオリゴマー混合物50.0部(固形分10.0部)を得た。この(A)シロキサンオリゴマー混合物について、各シロキサンオリゴマー単独の面積比と混合割合から算出した赤外線吸収スペクトルのピーク面積比A4/A5は1.83であり、面積比A6/(A4+A5)は0.336であった。この(A)シロキサンオリゴマー混合物に、(B)成分として「サンエイドSI−80L」(三新化学工業(株)社製、スルホニウム塩系光感応性カチオン重合開始剤、固形分濃度50質量%γ―ブチロラクトン溶液、商品名)0.2部(固形分0.1部)を配合した。さらに、溶媒としてイソプロピルアルコール10.0部、γ−ブチロラクトン15.0部、ブチルセロソルブ10.0部、レベリング剤としてシリコーン系界面活性剤(商品名:「L−7001」、東レダウコーニング株式会社製)0.01部を混合して、活性エネルギー線硬化性組成物を得た。
<Example 1>
[Preparation of active energy ray-curable composition]
10.0 parts (solid content 2.0 parts) of a 20% by mass solid content concentration of the siloxane oligomer (C1) obtained in Synthesis Example 1 as the component (C) and the siloxane obtained in Synthesis Example 2 as the component (D) 40.0 parts (solid content 8.0 parts) of 20% by weight solid content concentration of oligomer (D1) were mixed to obtain 50.0 parts (A) siloxane oligomer mixture (solid content 10.0 parts). . For this (A) siloxane oligomer mixture, the peak area ratio A4 / A5 of the infrared absorption spectrum calculated from the area ratio and mixing ratio of each siloxane oligomer alone is 1.83, and the area ratio A6 / (A4 + A5) is 0.336. Met. To this (A) siloxane oligomer mixture, as component (B), “Sun Aid SI-80L” (manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd., sulfonium salt-based photosensitive cationic polymerization initiator, solid concentration 50 mass% γ- Butyrolactone solution (trade name) 0.2 part (solid content 0.1 part) was blended. Furthermore, 10.0 parts of isopropyl alcohol, 15.0 parts of γ-butyrolactone, 10.0 parts of butyl cellosolve as a solvent, and a silicone surfactant as a leveling agent (trade name: “L-7001”, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) 0.01 part was mixed and the active energy ray curable composition was obtained.

[被膜の形成]
この活性エネルギー線硬化性組成物を、長さ10cm、幅10cm、厚み3mmのアクリル板(商品名:「アクリライトEX」、三菱レイヨン株式会社製)上に適量滴下し、バーコート法(バーコーターNo.28使用)にて塗布した。これを乾燥機にて90℃で10分間加熱した。
[Formation of film]
An appropriate amount of this active energy ray-curable composition is dropped on an acrylic plate (trade name: “Acrylite EX”, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) having a length of 10 cm, a width of 10 cm, and a thickness of 3 mm, and a bar coating method (bar coater). No. 28 use). This was heated in a dryer at 90 ° C. for 10 minutes.

[被膜の硬化]
加熱後の被膜温度を放射温度計(商品名:「IT−311」、アズワン株式会社製)にて測定した。該被膜温度が90℃の状態で、被膜が冷えない内に素早くベルトコンベアー型高圧水銀灯(株式会社オーク製作所製、紫外線照射装置、商品名:「ハンディーUV−1200、QRU−2161型」)にて、約1,000mJ/cm2の紫外線を照射した。これにより、シリコン系ハードコート層を有するハードコート成形品を得た。尚、紫外線照射量は、紫外線光量計(商品名:「UV−351型」、株式会社オーク製作所製、ピーク感度波長360nm)にて測定した。また、照射直後の被膜温度は、76℃であった。
[Curing of coating]
The film temperature after the heating was measured with a radiation thermometer (trade name: “IT-311”, manufactured by ASONE CORPORATION). With the coating temperature at 90 ° C., the belt conveyor type high-pressure mercury lamp (Oak Manufacturing Co., Ltd., ultraviolet irradiation device, trade name: “Handy UV-1200, QRU-2161”) quickly while the coating has not cooled. The sample was irradiated with ultraviolet rays of about 1,000 mJ / cm 2 . As a result, a hard coat molded article having a silicon hard coat layer was obtained. The amount of ultraviolet irradiation was measured with an ultraviolet light meter (trade name: “UV-351 type”, manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd., peak sensitivity wavelength 360 nm). The coating temperature immediately after irradiation was 76 ° C.

[ハードコート層の評価]
得られたハードコート層を、以下の方法により評価した。
[Evaluation of hard coat layer]
The obtained hard coat layer was evaluated by the following methods.

1)赤外線吸収測定
FT−IR(商品名:「NEXUS470」、サーモニコレー社製)によるATR法にてハードコート層の赤外線吸収測定を行った。測定条件としては、ATR測定用アクセサリー(商品名「FOUNDATION ThunderDome」、スペクトラテック社製)を取り付け、分解能4cm-1、積算回数32回で測定した。また、ピーク面積は、FT−IR解析ソフト(商品名「OMNIC」、サーモニコレー社製)の積分ツールを用いて求めた。得られた赤外線吸収スペクトルから、ピーク面積比A1/A2、及びピーク面積比A3/(A1+A2)を求めた。
1) Infrared absorption measurement Infrared absorption measurement of the hard coat layer was performed by the ATR method by FT-IR (trade name: “NEXUS470”, manufactured by Thermo Nicolet). As measurement conditions, an ATR measurement accessory (trade name “FOUNDATION ThunderDome”, manufactured by Spectratech) was attached, and the measurement was performed with a resolution of 4 cm −1 and 32 integrations. Moreover, the peak area was calculated | required using the integration tool of FT-IR analysis software (Brand name "OMNIC", the product made from a Thermo Nicolet company). From the obtained infrared absorption spectrum, the peak area ratio A1 / A2 and the peak area ratio A3 / (A1 + A2) were determined.

2)外観
目視にてハードコート層を有するアクリル板の透明性、耐クラック性、白化の有無を観察し、以下の基準により評価した。
「○」:透明で、クラックや白化等の欠陥の無いもの(良好)。
「×」:不透明な部分のあったもの、クラック、白化等の欠陥があったもの(不良)。
2) Appearance The transparency, crack resistance, and whitening of the acrylic plate having the hard coat layer were visually observed and evaluated according to the following criteria.
“◯”: Transparent and free from defects such as cracks and whitening (good).
“X”: An opaque part, a defect such as a crack or whitening (defect).

3)膜厚
ハードコート層を有するアクリル板の断面を走査型電子顕微鏡で観察しハードコート層の膜厚を測定した。
3) Film thickness The cross section of the acrylic board which has a hard-coat layer was observed with the scanning electron microscope, and the film thickness of the hard-coat layer was measured.

4)基材密着性
アクリル板表面のハードコート層へ、カミソリの刃で1mm間隔に縦横11本ずつの切れ目を入れて100個のマス目を作り、セロハンテープを良く密着させた。その後、45度手前方向に急激に剥がし、ハードコート層が剥離せずに残存したマス目数を計測して、以下の基準で評価した。
「○」:剥離したマス目がない(密着性良好)。
「△」:剥離したマス目が1〜5個(密着性中程度)。
「×」:剥離したマス目が6個以上(密着性不良)。
4) Adhesiveness of base material 11 pieces of vertical and horizontal cuts were made at intervals of 1 mm with a razor blade on the hard coat layer on the surface of the acrylic plate to make 100 squares, and the cellophane tape was well adhered. Then, it peeled off rapidly 45 degree | times, and the number of squares which the hard-coat layer remained without peeling was measured, and the following references | standards evaluated.
“◯”: There is no peeled cell (good adhesion).
“Δ”: 1 to 5 peeled squares (medium adhesion).
"X": Six or more squares which peeled (adhesion failure).

5)耐擦傷性
ハードコート層を有するアクリル板の表面を、#0000スチールウールで、9.8×104Paの圧力を加えて10往復擦り、1cm×3cmの範囲に発生した傷の程度を観察し、以下の基準で評価した。
「A」:キズが付かない。
「B」:1〜9本のキズが付く。光沢面あり。
「C+」:10〜49本のキズが付く。光沢面あり。
「C−」:50〜99本のキズが付く。光沢面あり。
「D」:100本以上のキズが付く。光沢面あり。
「E」:光沢面が無くなる。
5) Scratch resistance The surface of the acrylic board having the hard coat layer was rubbed 10 times with # 0000 steel wool by applying a pressure of 9.8 × 10 4 Pa, and the degree of scratches generated in the range of 1 cm × 3 cm was determined. Observed and evaluated according to the following criteria.
“A”: There is no scratch.
“B”: 1 to 9 scratches are attached. There is a glossy surface.
“C +”: 10 to 49 scratches are attached. There is a glossy surface.
"C-": 50 to 99 scratches are attached. There is a glossy surface.
"D": 100 or more scratches are attached. There is a glossy surface.
“E”: The glossy surface disappears.

6)耐クラック性
アクリル板に塗工したハードコート層を温度25℃、湿度50%の環境下、一定期間放置して、クラックの発生状況を目視で確認した。
「○」:3ヶ月以上クラックが発生しない。
「△」:1週間でクラックは発生していないが、3ヶ月後にはクラックの発生を確認。
「×」:1週間でクラックが発生。
6) Crack resistance The hard coat layer coated on the acrylic plate was left standing for a certain period in an environment of a temperature of 25 ° C. and a humidity of 50%, and the occurrence of cracks was visually confirmed.
“O”: No cracks occurred for more than 3 months.
“△”: No cracks occurred in 1 week, but cracks were confirmed after 3 months.
“×”: Crack occurred in one week.

実施例1で得られたハードコート層の赤外線吸収スペクトルを図3に示す。上記評価の結果、本実施例に係るハードコート層は、面積比A1/A2、及び面積比A3/(A1+A2)が最適な範囲に適合した値であり、良好な外観、基材密着性、耐擦傷性、耐クラック性を有していた。結果を表2に示す。   The infrared absorption spectrum of the hard coat layer obtained in Example 1 is shown in FIG. As a result of the above evaluation, the hard coat layer according to the present example is a value in which the area ratio A1 / A2 and the area ratio A3 / (A1 + A2) are in the optimum range, and has good appearance, substrate adhesion, resistance It had scratch resistance and crack resistance. The results are shown in Table 2.

<実施例2>
(C)成分として合成例1で得たシロキサンオリゴマー(C1)の固形分濃度20質量%溶液30.0部(固形分6.0部)、(D)成分として合成例2で得たシロキサンオリゴマー(D1)の固形分濃度20質量%溶液20.0部(固形分4.0部)とを混合した(A)シロキサンオリゴマー混合物50.0部(固形分10.0部)を使用した。それ以外は、実施例1と同様にして、活性エネルギー線硬化性組成物の調製、被膜の形成・硬化、ハードコート層の評価を実施した。結果を表2に示す。
<Example 2>
As component (C), 30.0 parts (solid content 6.0 parts) of a 20% by mass solid content concentration of the siloxane oligomer (C1) obtained in Synthesis Example 1 and as component (D), the siloxane oligomer obtained in Synthesis Example 2 50.0 parts (solid content 10.0 parts) of (A) siloxane oligomer mixed with 20.0 parts (solid content 4.0 parts) of a solid content concentration 20 mass% solution of (D1) was used. Other than that was carried out similarly to Example 1, and prepared active energy ray-curable composition, formation and hardening of a film, and evaluation of the hard-coat layer. The results are shown in Table 2.

<実施例3>
(C)成分として合成例3で得たシロキサンオリゴマー(C2)の固形分濃度20質量%溶液10.0部(固形分2.0部)、(D)成分として合成例4で得たシロキサンオリゴマー(D2)の固形分濃度20質量%溶液40.0部(固形分8.0部)とを混合した(A)シロキサンオリゴマー混合物50.0部(固形分10.0部)を使用した。それ以外は、実施例1と同様にして、活性エネルギー線硬化性組成物の調製、被膜の形成・硬化、ハードコート層の評価を実施した。結果を表2に示す。
<Example 3>
10.0 parts (solid content 2.0 parts) of a 20% by mass solid content concentration of the siloxane oligomer (C2) obtained in Synthesis Example 3 as the component (C), and the siloxane oligomer obtained in Synthesis Example 4 as the component (D) 50.0 parts (solid content 10.0 parts) of (A) siloxane oligomer mixed with 40.0 parts (solid content 8.0 parts) of a solid content concentration 20% by mass solution of (D2) was used. Other than that was carried out similarly to Example 1, and prepared active energy ray-curable composition, formation and hardening of a film, and evaluation of the hard-coat layer. The results are shown in Table 2.

<実施例4>
(C)成分として合成例3で得たシロキサンオリゴマー(C2)の固形分濃度20質量%溶液25.0部(固形分5.0部)、(D)成分として合成例4で得たシロキサンオリゴマー(D2)の固形分濃度20質量%溶液25.0部(固形分5.0部)とを混合した(A)シロキサンオリゴマー混合物50.0部(固形分10.0部)を使用した。それ以外は、実施例1と同様にして、活性エネルギー線硬化性組成物の調製、被膜の形成・硬化、ハードコート層の評価を実施した。結果を表2に示す。
<Example 4>
(C) 25.0 parts (solid content 5.0 parts) of a 20% by weight solid content concentration of the siloxane oligomer (C2) obtained in Synthesis Example 3 as the component, and (siloxane) oligomer obtained in Synthesis Example 4 as the component (D) 50.0 parts (solid content 10.0 parts) of (A) siloxane oligomer mixed with 25.0 parts (solid content 5.0 parts) of a solid content concentration 20 mass% solution of (D2) was used. Other than that was carried out similarly to Example 1, and prepared active energy ray-curable composition, formation and hardening of a film, and evaluation of the hard-coat layer. The results are shown in Table 2.

<比較例1>
(A)成分として合成例1で得たシロキサンオリゴマー(C1)の固形分濃度20質量%溶液50.0部(固形分5.0部)を使用し、(D)成分を混合しなかった。それ以外は、実施例1と同様にして、活性エネルギー線硬化性組成物の調製、被膜の形成・硬化、ハードコート層の評価を実施した。
<Comparative Example 1>
As component (A), 50.0 parts (solid content 5.0 parts) of a 20% by mass solid content concentration of the siloxane oligomer (C1) obtained in Synthesis Example 1 was used, and component (D) was not mixed. Other than that was carried out similarly to Example 1, and prepared active energy ray-curable composition, formation and hardening of a film, and evaluation of the hard-coat layer.

比較例1で得られたハードコート層の赤外線吸収スペクトルを図4に示す。(A)シロキサンオリゴマーの面積比A4/A5が大きく、その結果、ハードコート層の面積比A1/A2も大きくなり、含まれる環状シロキサン結合量が多いため、耐擦傷性が実施例1に比べて劣っていた。結果を表3に示す。   The infrared absorption spectrum of the hard coat layer obtained in Comparative Example 1 is shown in FIG. (A) The area ratio A4 / A5 of the siloxane oligomer is large. As a result, the area ratio A1 / A2 of the hard coat layer is also large, and the amount of cyclic siloxane bonds contained is large, so that the scratch resistance is higher than that of Example 1. It was inferior. The results are shown in Table 3.

<比較例2>
(A)成分として合成例2で得たシロキサンオリゴマー(D1)の固形分濃度20質量%溶液50.0部(固形分5.0部)を使用し、(C)成分を混合しなかった。それ以外は、実施例1と同様にして、活性エネルギー線硬化性組成物の調製、被膜の形成・硬化、ハードコート層の評価を実施した。
<Comparative example 2>
As component (A), 50.0 parts (solid content 5.0 parts) of a 20% by weight solid content concentration of the siloxane oligomer (D1) obtained in Synthesis Example 2 was used, and component (C) was not mixed. Other than that was carried out similarly to Example 1, and prepared active energy ray-curable composition, formation and hardening of a film, and evaluation of the hard-coat layer.

比較例2で得られたハードコート層の赤外線吸収スペクトルを図5に示す。(A)シロキサンオリゴマーの面積比A4/A5が小さく、その結果、ハードコート層の面積比A1/A2も小さくなり、含まれる環状シロキサン結合量が少ないため、耐クラック性が実施例1に比べて劣っていた。結果を表3に示す。   The infrared absorption spectrum of the hard coat layer obtained in Comparative Example 2 is shown in FIG. (A) The area ratio A4 / A5 of the siloxane oligomer is small. As a result, the area ratio A1 / A2 of the hard coat layer is also small, and the amount of cyclic siloxane bonds contained is small. It was inferior. The results are shown in Table 3.

<比較例3>
(C)成分として合成例1で得たシロキサンオリゴマー(C1)の固形分濃度20質量%溶液5.0部(固形分1.0部)、(D)成分として合成例2で得たシロキサンオリゴマー(D1)の固形分濃度20質量%溶液45.0部(固形分9.0部)とを混合した(A)シロキサンオリゴマー混合物50.0部(固形分10.0部)を使用した。それ以外は、実施例1と同様にして、活性エネルギー線硬化性組成物の調製、被膜の形成・硬化、ハードコート層の評価を実施した。
<Comparative Example 3>
The component (C) is a siloxane oligomer (C1) obtained in Synthesis Example 1 having a solid content concentration of 20 parts by mass of 5.0 parts (solid content: 1.0 part), and the component (D) is a siloxane oligomer obtained in Synthesis Example 2. 50.0 parts (solid content 10.0 parts) of (A) siloxane oligomer mixed with 45.0 parts (solid content 9.0 parts) of a solid content concentration 20% by mass solution of (D1) was used. Other than that was carried out similarly to Example 1, and prepared active energy ray-curable composition, formation and hardening of a film, and evaluation of the hard-coat layer.

(A)シロキサンオリゴマー混合物の面積比A4/A5が小さく、その結果、ハードコート層の面積比A1/A2も小さくなり、含まれる環状シロキサン結合量が少ないため、耐クラック性が実施例1に比べて劣っていた。結果を表3に示す。   (A) The area ratio A4 / A5 of the siloxane oligomer mixture is small. As a result, the area ratio A1 / A2 of the hard coat layer is also small, and the amount of cyclic siloxane bonds contained is small. It was inferior. The results are shown in Table 3.

<比較例4>
(C)成分として合成例1で得たシロキサンオリゴマー(C1)の固形分濃度20質量%溶液35.0部(固形分7.0部)、(D)成分として合成例2で得たシロキサンオリゴマー(D1)の固形分濃度20質量%溶液15.0部(固形分3.0部)とを混合した(A)シロキサンオリゴマー混合物50.0部(固形分10.0部)を使用した。それ以外は、実施例1と同様にして、活性エネルギー線硬化性組成物の調製、被膜の形成・硬化、ハードコート層の評価を実施した。
<Comparative example 4>
(C) 35.0 parts (solid content 7.0 parts) of a 20% by weight solid content concentration of the siloxane oligomer (C1) obtained in Synthesis Example 1 as the component, and (siloxane) oligomer obtained in Synthesis Example 2 as the component (D) 50.0 parts (solid content 10.0 parts) of (A) siloxane oligomer mixed with 15.0 parts (solid content 3.0 parts) of a solid content concentration 20 mass% solution of (D1) was used. Other than that was carried out similarly to Example 1, and prepared active energy ray-curable composition, formation and hardening of a film, and evaluation of the hard-coat layer.

(A)シロキサンオリゴマー混合物の面積比A4/A5が大きく、その結果、ハードコート層の面積比A1/A2も大きくなり、含まれる環状シロキサン結合量が多いため、耐擦傷性が実施例1に比べて劣っていた。結果を表3に示す。   (A) The area ratio A4 / A5 of the siloxane oligomer mixture is large. As a result, the area ratio A1 / A2 of the hard coat layer is also large, and the amount of cyclic siloxane bonds contained is large, so the scratch resistance is higher than that of Example 1. It was inferior. The results are shown in Table 3.

<比較例5>
(C)成分として合成例3で得たシロキサンオリゴマー(C2)の固形分濃度20質量%溶液5.0部(固形分1.0部)、(D)成分として合成例4で得たシロキサンオリゴマー(D2)の固形分濃度20質量%溶液45.0部(固形分9.0部)とを混合した(A)シロキサンオリゴマー混合物50.0部(固形分10.0部)を使用した。それ以外は、実施例3と同様にして、活性エネルギー線硬化性組成物の調製、被膜の形成・硬化、ハードコート層の評価を実施した。
<Comparative Example 5>
The component (C) is a siloxane oligomer (C2) obtained in Synthesis Example 3 having a solid content concentration of 20 parts by mass of 5.0 parts (solid content: 1.0 part), and the component (D) is a siloxane oligomer obtained in Synthesis Example 4. 50.0 parts (solid content 10.0 parts) of (A) siloxane oligomer mixed with 45.0 parts (solid content 9.0 parts) of a solid content concentration 20% by mass solution of (D2) was used. Other than that was carried out similarly to Example 3, and preparation of the active energy ray hardening composition, formation and hardening of a film, and evaluation of the hard-coat layer were implemented.

(A)シロキサンオリゴマー混合物の面積比A4/A5が小さく、その結果、ハードコート層の面積比A1/A2も小さくなり、含まれる環状シロキサン結合量が少ないため、耐クラック性が実施例3に比べて劣っていた。結果を表3に示す。   (A) The area ratio A4 / A5 of the siloxane oligomer mixture is small. As a result, the area ratio A1 / A2 of the hard coat layer is also small, and the amount of cyclic siloxane bonds contained is small. It was inferior. The results are shown in Table 3.

<比較例6>
(C)成分として合成例3で得たシロキサンオリゴマー(C2)の固形分濃度20質量%溶液30.0部(固形分6.0部)、(D)成分として合成例4で得たシロキサンオリゴマー(D2)の固形分濃度20質量%溶液20.0部(固形分4.0部)とを混合した(A)シロキサンオリゴマー混合物50.0部(固形分10.0部)を使用した。それ以外は、実施例3と同様にして、活性エネルギー線硬化性組成物の調製、被膜の形成・硬化、ハードコート層の評価を実施した。
<Comparative Example 6>
As component (C), 30.0 parts (solid content 6.0 parts) of a 20% by weight solid content concentration of the siloxane oligomer (C2) obtained in Synthesis Example 3 as a component, and the siloxane oligomer obtained in Synthesis Example 4 as a component (D). 50.0 parts (solid content 10.0 parts) of (A) siloxane oligomer mixed with 20.0 parts (solid content 4.0 parts) of a solid content concentration 20% by mass solution of (D2) was used. Other than that was carried out similarly to Example 3, and preparation of the active energy ray hardening composition, formation and hardening of a film, and evaluation of the hard-coat layer were implemented.

(A)シロキサンオリゴマー混合物の面積比A4/A5が大きく、その結果、ハードコート層の面積比A1/A2も大きくなり、含まれる環状シロキサン結合量が多いため、耐擦傷性が実施例3に比べて劣っていた。結果を表3に示す。   (A) The area ratio A4 / A5 of the siloxane oligomer mixture is large. As a result, the area ratio A1 / A2 of the hard coat layer is also large, and the amount of cyclic siloxane bonds contained is large. It was inferior. The results are shown in Table 3.

下記表2及び表3から明らかなように、実施例のハードコート層は、比較例のものと比較して、耐擦傷性、耐クラック性が良好で、併せて外観、基材密着性も良好であった。

As is clear from Tables 2 and 3 below, the hard coat layers of the examples have better scratch resistance and crack resistance than those of the comparative examples, and also have good appearance and substrate adhesion. Met.

Figure 2010253767
Figure 2010253767

Figure 2010253767
Figure 2010253767

Figure 2010253767
Figure 2010253767

A シリコン系ハードコート層の赤外線吸収スペクトルにおける1240cm-1での吸光度を示す点
B シリコン系ハードコート層の赤外線吸収スペクトルにおける960cm-1での吸光度を示す点
C シリコン系ハードコート層の赤外線吸収スペクトルにおける線分AB上の1050cm-1における点
D シリコン系ハードコート層の赤外線吸収スペクトルにおける860cm-1での吸光度を示す点
E シロキサンオリゴマーの赤外線吸収スペクトルにおける1240cm-1での吸光度を示す点
F シロキサンオリゴマーの赤外線吸収スペクトルにおける960cm-1での吸光度を示す点
G シロキサンオリゴマーの赤外線吸収スペクトルにおける線分EF上の1050cm-1における点
H シロキサンオリゴマーの赤外線吸収スペクトルにおける860cm-1での吸光度を示す点
A1 シリコン系ハードコート層の環状シロキサン結合に起因するスペクトルの赤外線吸収ピーク面積
A2 シリコン系ハードコート層の直鎖状シロキサン結合に起因するスペクトルの赤外線吸収ピーク面積
A3 シリコン系ハードコート層のシラノール基に起因するスペクトルの赤外線吸収ピーク面積
A4 シロキサンオリゴマーの環状シロキサン結合に起因するスペクトルの赤外線吸収ピーク面積
A5 シロキサンオリゴマーの直鎖状シロキサン結合に起因するスペクトルの赤外線吸収ピーク面積
A6 シロキサンオリゴマーのシラノール基に起因するスペクトルの赤外線吸収ピーク面積
Infrared absorption spectrum of the absorbance C silicon-based hard coat layer point indicating the at 960 cm -1 in the infrared absorption spectrum of the point B silicon-based hard coat layer exhibiting absorbance at 1240 cm -1 in the infrared absorption spectrum of A silicon-based hard coat layer F siloxane point indicating the absorbance at 1240 cm -1 in the infrared absorption spectrum of the E siloxane oligomer that shows the absorbance at 860 cm -1 in the infrared absorption spectrum of the point D silicon-based hard coat layer at 1050 cm -1 on the line segment AB in 8 in the infrared absorption spectrum of the point H siloxane oligomers in 1050 cm -1 on the line segment EF in the infrared absorption spectrum of the G siloxane oligomer that shows the absorbance at 960 cm -1 in the infrared absorption spectrum of the oligomer Infrared absorption peak area of the spectrum due to the straight-chain siloxane bond infrared absorption peak area A2 silicon-based hard coat layer of the spectrum due to the cyclic siloxane bond absorbance A1 silicon-based hard coat layer point indicating the at 0 cm -1 A3 Infrared absorption peak area of spectrum caused by silanol group of silicon hard coat layer A4 Infrared absorption peak area of spectrum caused by cyclic siloxane bond of siloxane oligomer A5 Infrared absorption peak of spectrum caused by linear siloxane bond of siloxane oligomer Area A6 Infrared absorption peak area of spectrum caused by silanol group of siloxane oligomer

Claims (7)

基材の表面に活性エネルギー線により硬化させたシリコン系ハードコート層を有する成形品であって、
前記シリコン系ハードコート層の環状シロキサン結合に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A1と直鎖状シロキサン結合に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A2との面積比A1/A2が0.83以上、0.97以下であり、且つ
前記A1とA2の和(A1+A2)とシラノール基に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A3との比A3/(A1+A2)が0.020以上、0.028以下であるハードコード成形品。
A molded product having a silicon-based hard coat layer cured by active energy rays on the surface of the substrate,
The area ratio A1 / A2 between the peak area A1 of the infrared absorption spectrum caused by the cyclic siloxane bond of the silicon-based hard coat layer and the peak area A2 of the infrared absorption spectrum caused by the linear siloxane bond is 0.83 or more, 0 The ratio A3 / (A1 + A2) between the sum of A1 and A2 (A1 + A2) and the peak area A3 of the infrared absorption spectrum caused by the silanol group is 0.020 or more and 0.028 or less. Code molded product.
(A)環状シロキサン結合に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A4と直鎖状シロキサン結合に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A5との面積比A4/A5が1.83以上、2.03以下であり、且つ
前記A4とA5の和(A4+A5)とシラノール基に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A6との面積比A6/(A4+A5)が0.300以上、0.360以下であるシロキサンオリゴマーと、
(B)活性エネルギー線感応性カチオン重合開始剤と、を含有する活性エネルギー線硬化性コーティング組成物を前記基材表面に塗布し、活性エネルギー線を照射して架橋硬化する請求項1に記載のハードコート成形品の製造方法。
(A) The area ratio A4 / A5 between the peak area A4 of the infrared absorption spectrum caused by the cyclic siloxane bond and the peak area A5 of the infrared absorption spectrum caused by the linear siloxane bond is 1.83 or more and 2.03 or less. A siloxane oligomer having an area ratio A6 / (A4 + A5) of 0.300 or more and 0.360 or less between the sum of A4 and A5 (A4 + A5) and the peak area A6 of the infrared absorption spectrum caused by the silanol group;
The active energy ray-curable cationic polymerization initiator containing (B) an active energy ray-sensitive cationic polymerization initiator is applied to the surface of the base material, and the active energy ray is irradiated and crosslinked and cured. Manufacturing method of hard coat molded product.
前記(A)シロキサンオリゴマーが、
(C)前記面積比A4/A5が1.83以上、2.50以下であり、且つ
前記面積比A6/(A4+A5)が0.200以上、0.300以下であるシロキサンオリゴマーと、
(D)前記面積比A4/A5が1.50以上、1.83未満であり、且つ
前記面積比A6/(A4+A5)が0.250以上、0.380以下であるシロキサンオリゴマーと、の混合物である請求項2に記載のハードコート成形品の製造方法。
The (A) siloxane oligomer is
(C) a siloxane oligomer in which the area ratio A4 / A5 is 1.83 or more and 2.50 or less, and the area ratio A6 / (A4 + A5) is 0.200 or more and 0.300 or less;
(D) a mixture of the area ratio A4 / A5 is 1.50 or more and less than 1.83, and the area ratio A6 / (A4 + A5) is 0.250 or more and 0.380 or less. The manufacturing method of the hard coat molded article of a certain 2 item | term.
(A)環状シロキサン結合に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A4と直鎖状シロキサン結合に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A5との面積比A4/A5が1.83以上、2.03以下であり、且つ
前記A4とA5の和(A4+A5)とシラノール基に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A6との面積比A6/(A4+A5)が0.300以上、0.360以下であるシロキサンオリゴマーと、
(B)活性エネルギー線感応性カチオン重合開始剤と、を含有する活性エネルギー線硬化性コーティング組成物。
(A) The area ratio A4 / A5 between the peak area A4 of the infrared absorption spectrum caused by the cyclic siloxane bond and the peak area A5 of the infrared absorption spectrum caused by the linear siloxane bond is 1.83 or more and 2.03 or less. A siloxane oligomer having an area ratio A6 / (A4 + A5) of 0.300 or more and 0.360 or less between the sum of A4 and A5 (A4 + A5) and the peak area A6 of the infrared absorption spectrum caused by the silanol group;
(B) An active energy ray-curable coating composition containing an active energy ray-sensitive cationic polymerization initiator.
前記(A)シロキサンオリゴマーが、
(C)前記面積比A4/A5が1.83以上、2.50以下であり、且つ
前記面積比A6/(A4+A5)が0.200以上、0.300以下であるシロキサンオリゴマーと、
(D)前記面積比A4/A5が1.50以上、1.83未満であり、且つ
前記面積比A6/(A4+A5)が0.250以上、0.380以下であるシロキサンオリゴマーと、の混合物である請求項4に記載の活性エネルギー線硬化性コーティング組成物。
The (A) siloxane oligomer is
(C) a siloxane oligomer in which the area ratio A4 / A5 is 1.83 or more and 2.50 or less, and the area ratio A6 / (A4 + A5) is 0.200 or more and 0.300 or less;
(D) a mixture of the area ratio A4 / A5 is 1.50 or more and less than 1.83, and the area ratio A6 / (A4 + A5) is 0.250 or more and 0.380 or less. The active energy ray-curable coating composition according to claim 4.
(C)環状シロキサン結合に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A4と直鎖状シロキサン結合に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A5との面積比A4/A5が1.83以上、2.50以下であり、且つ
前記A4とA5の和(A4+A5)とシラノール基に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A6との面積比A6/(A4+A5)が0.200以上、0.300以下であるシロキサンオリゴマーと、
(D)前記面積比A4/A5が1.50以上、1.83未満であり、且つ
前記面積比A6/(A4+A5)が0.250以上、0.380以下であるシロキサンオリゴマーと、
(B)活性エネルギー線感応性カチオン重合開始剤と、を含有する活性エネルギー線硬化性コーティング組成物を前記基材表面に塗布し、活性エネルギー線を照射して架橋硬化する請求項1に記載のハードコート成形品の製造方法。
(C) The area ratio A4 / A5 between the peak area A4 of the infrared absorption spectrum caused by the cyclic siloxane bond and the peak area A5 of the infrared absorption spectrum caused by the linear siloxane bond is 1.83 or more and 2.50 or less. A siloxane oligomer having an area ratio A6 / (A4 + A5) of 0.200 or more and 0.300 or less between the sum of A4 and A5 (A4 + A5) and the peak area A6 of the infrared absorption spectrum caused by the silanol group;
(D) a siloxane oligomer in which the area ratio A4 / A5 is 1.50 or more and less than 1.83, and the area ratio A6 / (A4 + A5) is 0.250 or more and 0.380 or less;
The active energy ray-curable cationic polymerization initiator containing (B) an active energy ray-sensitive cationic polymerization initiator is applied to the surface of the base material, and the active energy ray is irradiated and crosslinked and cured. Manufacturing method of hard coat molded product.
(C)環状シロキサン結合に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A4と直鎖状シロキサン結合に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A5との面積比A4/A5が1.83以上、2.50以下であり、且つ
前記A4とA5の和(A4+A5)とシラノール基に起因する赤外線吸収スペクトルのピーク面積A6との面積比A6/(A4+A5)が0.200以上、0.300以下であるシロキサンオリゴマーと、
(D)前記面積比A4/A5が1.50以上、1.83未満であり、且つ
前記面積比A6/(A4+A5)が0.250以上、0.380以下であるシロキサンオリゴマーと、
(B)活性エネルギー線感応性カチオン重合開始剤と、を含有する活性エネルギー線硬化性コーティング組成物。
(C) The area ratio A4 / A5 between the peak area A4 of the infrared absorption spectrum caused by the cyclic siloxane bond and the peak area A5 of the infrared absorption spectrum caused by the linear siloxane bond is 1.83 or more and 2.50 or less. A siloxane oligomer having an area ratio A6 / (A4 + A5) of 0.200 or more and 0.300 or less between the sum of A4 and A5 (A4 + A5) and the peak area A6 of the infrared absorption spectrum caused by the silanol group;
(D) a siloxane oligomer in which the area ratio A4 / A5 is 1.50 or more and less than 1.83, and the area ratio A6 / (A4 + A5) is 0.250 or more and 0.380 or less;
(B) An active energy ray-curable coating composition containing an active energy ray-sensitive cationic polymerization initiator.
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