JP2010253568A - Suction holding hand, transfer device, holding method, seating method, and transfer method - Google Patents

Suction holding hand, transfer device, holding method, seating method, and transfer method Download PDF

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JP2010253568A JP2009102744A JP2009102744A JP2010253568A JP 2010253568 A JP2010253568 A JP 2010253568A JP 2009102744 A JP2009102744 A JP 2009102744A JP 2009102744 A JP2009102744 A JP 2009102744A JP 2010253568 A JP2010253568 A JP 2010253568A
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Takeshi Fujiwara
健史 藤原
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a suction holding hand; a transfer device; a holding method; a seating method; and a transfer method, which position a holding object or a transfer object with respect to the transfer device and a seating position of the holding object or the transfer object without increasing cost and transfer time due to installation of a position detection sensor, calculation of misregistration amount, and execution of position correction. <P>SOLUTION: The suction holding hand non-contactedly and suckingly holds the holding object by a negative pressure occurred at the center of a gas swirling flow generated in a swirling flow generation chamber, and a gas flowing sideways from an end of the swirling flow generation chamber. The swirling flow generation chamber is opened. The suction holding hand includes a suckingly holding surface inclined relative to a horizontal direction; a regulation member which is disposed on a low side in a vertical direction on the inclined suckingly holding surface, and regulates movement of the holding object in at least two directions in a direction parallel to the suckingly holding surface; and a support member for supporting the suckingly holding surface and the regulation member. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、保持対象物を吸引保持する吸引保持ハンド、搬送対象物を吸引保持して搬送する搬送装置、保持対象物を吸引保持する保持方法、保持した搬送対象物を所定の着座位置に着座させる着座方法、及び搬送対象物を吸引保持して搬送する搬送方法に関する。   The present invention relates to a suction holding hand for sucking and holding a holding object, a conveying device for sucking and holding a conveying object, a holding method for sucking and holding a holding object, and a holding conveying object to be seated at a predetermined seating position. The present invention relates to a seating method to be carried out, and a conveyance method to convey and convey an object to be conveyed.

従来から、液晶装置を構成する基板のように、部材の多くの部分が接触することによって汚染されることが好ましくない部分であるような被加工部材などは、被加工部材を取り上げて保持し、他の位置まで移動させて、当該位置に置く搬送作業を自動的に行う搬送装置を用いて取扱うことによって、汚染されることを抑制している。効率良く搬送するための様々な工夫がなされており、特許文献1には、基板を搬送する方向に対応して、基板の面の方向を調整することによって、移動される基板が受ける空気抵抗の増大や塵埃の巻き上げなどの不都合な状態が発生しない基板搬送装置、および基板搬送方法が開示されている。   Conventionally, a member to be processed, such as a substrate constituting a liquid crystal device, which is not preferably contaminated by contact with many parts of the member, picks up and holds the member to be processed, By moving it to another position and handling it using a transfer device that automatically performs the transfer operation placed at that position, contamination is suppressed. Various devices have been devised for efficient transport, and Patent Document 1 discloses that the air resistance received by the substrate to be moved is adjusted by adjusting the direction of the surface of the substrate corresponding to the direction of transporting the substrate. A substrate transport apparatus and a substrate transport method that do not cause an inconvenient state such as increase or dust winding are disclosed.

また、液晶装置を構成する基板のように、微細な構造を精密に形成することが必要な被加工部材においては、多くの場合、加工装置に対して被加工部材を所定の着座位置に正確に着座させることが必要である。被加工部材を、定められた着座位置に精度よく着座させるためには、搬送装置における所定の被加工部材保持位置に正確に被加工部材を保持させて、当該被加工部材保持位置を定められた被加工部材の着座位置に対応する位置に位置させて、当該位置で被加工部材を着座させることによって可能となる。
特許文献2には、位置検出センサーを設け、搬送対象物の位置ズレ量を求めて、位置ズレ量に対応して搬送装置による移動量などの補正を行うセラミック板搬送装置及び方法が開示されている。
In many cases, such as a substrate that constitutes a liquid crystal device, a workpiece that needs to be precisely formed with a fine structure is accurately placed at a predetermined seating position with respect to the machining device. It is necessary to be seated. In order to allow the workpiece to be accurately seated at a predetermined seating position, the workpiece is accurately held at a predetermined workpiece-holding position in the conveying device, and the workpiece-holding position is determined. This is possible by positioning the workpiece at a position corresponding to the seating position of the workpiece and seating the workpiece at the position.
Patent Document 2 discloses a ceramic plate transport device and method that includes a position detection sensor, obtains a positional shift amount of a transport target, and corrects a movement amount by the transport device in accordance with the positional shift amount. Yes.

特開2001−53126号公報JP 2001-53126 A 特開平6−286829号公報JP-A-6-286829

しかしながら、特許文献2に開示された搬送装置のように位置検出センサーを設けた装置では、位置検出センサーを設けるために、装置の大きさが増大したり、装置の製造コストが増大したりする可能性があるという課題があった。また、位置ズレ量を検出するための時間及び移動量などを補正する時間が必要であり、検出された位置ズレ量から移動量などの補正量を算出するための時間も必要であり、搬送時間が増大するという課題もあった。さらに、補正量の算出などを実施する搬送装置の制御装置の負荷が増大するという課題もあった。   However, in a device provided with a position detection sensor such as the conveyance device disclosed in Patent Document 2, the size of the device may increase and the manufacturing cost of the device may increase because the position detection sensor is provided. There was a problem that there was sex. In addition, a time for detecting the positional deviation amount and a time for correcting the movement amount are required, and a time for calculating a correction amount such as the movement amount from the detected positional deviation amount is also required. There was also a problem that increased. Furthermore, there is a problem that the load on the control device of the transport device that performs the calculation of the correction amount increases.

本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]本適用例にかかる吸引保持ハンドは、旋回流発生室に発生させた気体の旋回流の中心部に生じる負圧と、前記旋回流発生室の端から側方に流出する気体とにより、保持対象物を非接触で吸引保持する吸引保持ハンドであって、前記旋回流発生室が開口しており、水平方向(鉛直方向に直交する方向)に対して傾いている吸引保持面と、前記吸引保持面に対して、傾いた前記吸引保持面における鉛直方向において低い側に配設された、前記吸引保持面に平行な方向の少なくとも2方向への前記保持対象物の移動を規制する規制部材と、前記吸引保持面が傾いた状態を維持して、前記吸引保持面及び前記規制部材を支持する支持部材と、を備えることを特徴とする。   [Application Example 1] The suction holding hand according to this application example includes a negative pressure generated in a central portion of a swirl flow of gas generated in a swirl flow generation chamber, and a gas flowing out from an end of the swirl flow generation chamber. A suction holding hand for holding and holding the object to be held in a non-contact manner, wherein the swirl flow generation chamber is open and inclined with respect to a horizontal direction (a direction perpendicular to the vertical direction) And the movement of the object to be held in at least two directions parallel to the suction holding surface, which is disposed on the lower side in the vertical direction of the suction holding surface inclined with respect to the suction holding surface. And a support member that supports the suction holding surface and the regulating member while maintaining the inclined state of the suction holding surface.

本適用例の吸引保持ハンドによれば、保持対象物を非接触で吸引保持し、保持対象物を吸引保持する吸引保持面が水平方向から傾いており、傾いた低い側には、規制部材が配設されている。
旋回流発生室に発生させた気体の旋回流の中心部に生じる負圧と、旋回流発生室の端から側方に流出する気体とにより、保持対象物を非接触で吸引保持するチャッキング装置は、ベルヌーイの定理を利用したものであり、ベルヌーイチャックとも呼ばれる。ベルヌーイの定理を利用したベルヌーイチャックは、旋回流発生室に発生させた気体の旋回流の中心部に生じた負圧によって保持対象物を吸引する。旋回流発生室の気体は、吸引保持面に開口した吸引用吹出し口から流出するため、保持対象物を吸引保持面から離反させる方向の力を被吸引面に作用させることから、吸引された保持対象物と吸引保持面との非接触状態が形成される。
一般的に、吸引保持面は、支持部材によって鉛直方向の下向きに支持されており、吸引保持ハンドは、保持対象物を懸吊する状態で保持する。保持対象物は吸引保持面と非接触状態であるため、保持対象物が吸引保持される力によって吸引保持面に平行な方向の拘束力を受けることは、ほとんどない。このため、傾いた吸引保持面に吸引保持された保持対象物は、吸引保持面と一定の隙間を維持した状態で、重力によって傾いた下側に移動する。傾いた下側には、規制部材が配設されているため、保持対象物は、端面が規制部材に当接した状態で吸引保持される。これにより、吸引保持ハンドに対して、保持対象物の位置を、一定の位置に位置決めすることができる。
According to the suction holding hand of this application example, the holding object is sucked and held without contact, and the suction holding surface for sucking and holding the holding object is inclined from the horizontal direction. It is arranged.
Chucking device that sucks and holds the object to be held in a non-contact manner by the negative pressure generated at the center of the swirling flow of the gas generated in the swirling flow generating chamber and the gas flowing out from the end of the swirling flow generating chamber to the side Uses Bernoulli's theorem and is also called Bernoulli chuck. The Bernoulli chuck using Bernoulli's theorem sucks the object to be held by the negative pressure generated at the center of the swirling flow of gas generated in the swirling flow generating chamber. Since the gas in the swirling flow generation chamber flows out from the suction outlet opening on the suction holding surface, the force in the direction of moving the object to be held away from the suction holding surface acts on the suction target surface, so that the suctioned holding A non-contact state between the object and the suction holding surface is formed.
Generally, the suction holding surface is supported downward in the vertical direction by a support member, and the suction holding hand holds the holding object in a suspended state. Since the holding object is not in contact with the suction holding surface, the holding object is hardly subjected to a restraining force in a direction parallel to the suction holding surface by the force by which the holding object is sucked and held. For this reason, the holding object sucked and held by the tilted suction holding surface moves to the lower side tilted by gravity while maintaining a certain clearance from the suction holding surface. Since the regulating member is disposed on the inclined lower side, the object to be held is sucked and held with the end face in contact with the regulating member. Thereby, the position of the holding object can be positioned at a fixed position with respect to the suction holding hand.

[適用例2]上記適用例にかかる吸引保持ハンドは、前記規制部材の前記吸引保持面からの高さ寸法が、前記保持対象物の厚さより小さいことが好ましい。   Application Example 2 In the suction holding hand according to the application example described above, it is preferable that a height dimension of the restriction member from the suction holding surface is smaller than a thickness of the holding object.

この吸引保持ハンドによれば、規制部材の吸引保持面からの高さ寸法が保持対象物の厚さより小さいため、規制部材に当接した状態の保持対象物において、規制部材に当接した端面は、高さ方向において規制部材に当接しない部分が存在する。このため、当該部分を、保持対象物を規制部材に当接させる力と同じ力を利用して、別の部材に当接させることで、保持対象物を別の部材に当接させて、その位置に位置決めすることができる。   According to this suction holding hand, since the height dimension of the regulating member from the suction holding surface is smaller than the thickness of the holding object, the end surface in contact with the regulating member in the holding object in contact with the regulating member is There is a portion that does not contact the regulating member in the height direction. For this reason, the holding object is brought into contact with another member by using the same force as the force for bringing the holding object into contact with the regulating member, thereby bringing the holding object into contact with another member. Can be positioned.

[適用例3]上記適用例にかかる吸引保持ハンドは、前記吸引保持面に対して、傾いた前記吸引保持面における鉛直方向において高い側に配設された、前記吸引保持面に平行な方向の少なくとも2方向への前記保持対象物の移動を規制する第二の規制部材をさらに備え、前記第二の規制部材の前記吸引保持面からの高さ寸法は、前記保持対象物の厚さより大きいことが好ましい。   Application Example 3 The suction holding hand according to the application example described above is arranged on the higher side in the vertical direction of the suction holding surface inclined with respect to the suction holding surface, in a direction parallel to the suction holding surface. A second restricting member for restricting movement of the object to be held in at least two directions, wherein a height dimension of the second restricting member from the suction holding surface is larger than a thickness of the object to be held; Is preferred.

この吸引保持ハンドによれば、傾いた吸引保持面における鉛直方向において高い側に、保持対象物の移動を規制する第二の規制部材が配設されている。これにより、吸引保持ハンドからの吸引力によって吸引保持面に向かって持ち上げられた保持対象物が、吸引保持面が傾いていることに起因して発生する、保持対象物に対して吸引保持面に平行な方向に付勢するように作用する分力によって、傾いた吸引保持面の高い側に移動することを規制することができる。第二の規制部材の吸引保持面からの高さ寸法が、保持対象物の厚さより大きいことによって、保持対象物が吸引力を及ぼされる早い段階から、保持対象物が傾いた吸引保持面の高い側に移動することを規制できる状態にすることができる。   According to this suction holding hand, the second regulating member that regulates the movement of the holding object is disposed on the higher side in the vertical direction of the inclined suction holding surface. As a result, the object to be held lifted toward the suction holding surface by the suction force from the suction holding hand is generated due to the suction holding surface being inclined. The movement to the higher side of the inclined suction holding surface can be restricted by the component force acting so as to urge in the parallel direction. Since the height dimension of the second regulating member from the suction holding surface is larger than the thickness of the holding object, the suction holding surface is tilted high from the early stage when the holding object is exerted with a suction force. It can be in the state which can control moving to the side.

[適用例4]上記適用例にかかる吸引保持ハンドは、前記吸引保持面の水平方向に対する角度を変える角度変更手段をさらに備えることが好ましい。   Application Example 4 It is preferable that the suction holding hand according to the application example further includes an angle changing unit that changes an angle of the suction holding surface with respect to a horizontal direction.

この吸引保持ハンドによれば、角度変更手段を備え、吸引保持面の水平方向に対する角度を変えることができる。これにより、吸引保持する時点と、吸引保持している状態とで、それぞれ吸引保持面の角度を変えて、吸引保持する時点や吸引保持している状態における、それぞれの適切な吸引保持面の角度に吸引保持面の角度を調整することができる。   According to this suction holding hand, the angle changing means is provided, and the angle of the suction holding surface with respect to the horizontal direction can be changed. As a result, the angle of the suction holding surface is changed between the time of suction holding and the state of suction holding, respectively, and the angle of each appropriate suction holding surface at the time of suction holding or the state of suction holding The angle of the suction holding surface can be adjusted.

[適用例5]本適用例にかかる搬送装置は、旋回流発生室に発生させた気体の旋回流の中心部に生じる負圧と、前記旋回流発生室の端から側方に流出する気体とにより、搬送対象物を非接触で吸引保持する保持手段を備え、前記保持手段によって保持した前記搬送対象物を搬送する搬送装置であって、前記保持手段は、前記旋回流発生室が開口しており、水平方向(鉛直方向に直交する方向)に対して傾いている吸引保持面と、前記吸引保持面に対して、傾いた前記吸引保持面における鉛直方向において低い側に配設された、前記吸引保持面に平行な方向の少なくとも2方向への前記搬送対象物の移動を規制する規制部材と、前記吸引保持面が傾いた状態を維持して、前記吸引保持面及び前記規制部材を支持する支持部材と、を備えることを特徴とする。   [Application Example 5] The transfer device according to this application example includes a negative pressure generated in a central portion of a swirl flow of gas generated in a swirl flow generation chamber, and a gas flowing out from an end of the swirl flow generation chamber to the side. And a holding device that sucks and holds the object to be conveyed in a non-contact manner, and conveys the object to be conveyed held by the holding means, wherein the holding means has the swirl flow generation chamber open. A suction holding surface that is inclined with respect to a horizontal direction (a direction perpendicular to the vertical direction), and the suction holding surface that is disposed on a lower side in the vertical direction of the suction holding surface that is inclined with respect to the suction holding surface. A regulating member that regulates movement of the object to be conveyed in at least two directions parallel to the suction holding surface, and a state in which the suction holding surface is tilted to support the suction holding surface and the regulating member. A support member, And butterflies.

本適用例の搬送装置によれば、搬送対象物を非接触で吸引保持し、搬送対象物を吸引保持する吸引保持面が水平方向から傾いており、傾いた低い側には、規制部材が配設されている。
旋回流発生室に発生させた気体の旋回流の中心部に生じる負圧と、旋回流発生室の端から側方に流出する気体とにより、搬送対象物を非接触で吸引保持するチャッキング装置は、ベルヌーイの定理を利用したものであり、ベルヌーイチャックとも呼ばれる。ベルヌーイの定理を利用したベルヌーイチャックは、旋回流発生室に発生させた気体の旋回流の中心部に生じた負圧によって搬送対象物を吸引する。旋回流発生室の気体は、吸引保持面に開口した吸引用吹出し口から流出するため、搬送対象物を吸引保持面から離反させる方向の力を被吸引面に作用させることから、吸引された搬送対象物と吸引保持面との非接触状態が形成される。
一般的に、吸引保持面は、支持部材によって鉛直方向の下向きに支持されており、保持手段は、搬送対象物を懸吊する状態で保持する。搬送対象物は吸引保持面と非接触状態であるため、搬送対象物が吸引保持される力によって吸引保持面に平行な方向の拘束力を受けることは、ほとんどない。このため、傾いた吸引保持面に吸引保持された搬送対象物は、吸引保持面と一定の隙間を維持した状態で、重力によって傾いた下側に移動する。傾いた下側には、規制部材が配設されているため、搬送対象物は、端面が規制部材に当接した状態で吸引保持される。これにより、吸引保持ハンドに対して、搬送対象物の位置を、一定の位置に位置決めすることができる。
According to the transport device of this application example, the transport target is sucked and held without contact, and the suction holding surface for sucking and holding the transport target is tilted from the horizontal direction, and the regulating member is arranged on the tilted lower side. It is installed.
Chucking device that sucks and holds the object to be conveyed in a non-contact manner by the negative pressure generated at the center of the swirling flow of the gas generated in the swirling flow generating chamber and the gas flowing out from the end of the swirling flow generating chamber to the side Uses Bernoulli's theorem and is also called Bernoulli chuck. The Bernoulli chuck using Bernoulli's theorem sucks the object to be conveyed by the negative pressure generated at the center of the swirling flow of gas generated in the swirling flow generating chamber. Since the gas in the swirl flow generation chamber flows out from the suction outlet opening in the suction holding surface, the force in the direction of moving the object to be transported away from the suction holding surface acts on the suction target surface. A non-contact state between the object and the suction holding surface is formed.
Generally, the suction holding surface is supported downward in the vertical direction by a support member, and the holding means holds the conveyance object in a suspended state. Since the conveyance object is in a non-contact state with the suction holding surface, the restraint force in the direction parallel to the suction holding surface is hardly received by the force by which the conveyance object is sucked and held. For this reason, the conveyance object sucked and held by the tilted suction holding surface moves to the lower side tilted by gravity while maintaining a certain clearance from the suction holding surface. Since the regulating member is disposed on the inclined lower side, the conveyance object is sucked and held in a state where the end surface is in contact with the regulating member. Thereby, the position of a conveyance target object can be positioned in a fixed position with respect to the suction holding hand.

[適用例6]上記適用例にかかる搬送装置は、前記規制部材の前記吸引保持面からの高さ寸法が、前記搬送対象物の厚さより小さいことが好ましい。   Application Example 6 In the conveyance device according to the application example described above, it is preferable that a height dimension of the restriction member from the suction holding surface is smaller than a thickness of the conveyance object.

この搬送装置によれば、規制部材の吸引保持面からの高さ寸法が搬送対象物の厚さより小さいため、規制部材に当接した状態の搬送対象物において、規制部材に当接した端面は、高さ方向において規制部材に当接しない部分が存在する。このため、当該部分を、搬送対象物を規制部材に当接させる力と同じ力を利用して、別の部材に当接させることで、搬送対象物を別の部材に当接させて、その位置に位置決めすることができる。   According to this transport apparatus, since the height dimension of the regulating member from the suction holding surface is smaller than the thickness of the transport object, the end surface that is in contact with the regulating member in the transport object in contact with the regulating member is There is a portion that does not contact the regulating member in the height direction. For this reason, using the same force as the force for bringing the object to be conveyed against the regulating member, the part is brought into contact with another member, so that the object to be conveyed is brought into contact with another member. Can be positioned.

[適用例7]上記適用例にかかる搬送装置は、前記保持手段が、前記吸引保持面に対して、傾いた前記吸引保持面における鉛直方向において高い側に配設された、前記吸引保持面に平行な方向の少なくとも2方向への前記搬送対象物の移動を規制する第二の規制部材をさらに備え、前記第二の規制部材の前記吸引保持面からの高さ寸法は、前記搬送対象物の厚さより大きいことが好ましい。   Application Example 7 In the conveyance device according to the application example, the holding unit is arranged on the suction holding surface, which is disposed on a higher side in the vertical direction of the suction holding surface inclined with respect to the suction holding surface. A second restricting member for restricting movement of the transport object in at least two parallel directions; and a height dimension of the second restricting member from the suction holding surface of the transport object. It is preferable that the thickness is larger.

この搬送装置によれば、傾いた吸引保持面における鉛直方向において高い側に、搬送対象物の移動を規制する第二の規制部材が配設されている。これにより、吸引保持ハンドからの吸引力によって吸引保持面に向かって持ち上げられた搬送対象物が、吸引保持面が傾いていることに起因して発生する、搬送対象物に対して吸引保持面に平行な方向に付勢するように作用する分力によって、傾いた吸引保持面の高い側に移動することを規制することができる。第二の規制部材の吸引保持面からの高さ寸法が、搬送対象物の厚さより大きいことによって、搬送対象物が吸引力を及ぼされる早い段階から、搬送対象物が傾いた吸引保持面の高い側に移動することを規制できる状態にすることができる。   According to this conveyance apparatus, the 2nd control member which controls the movement of a conveyance target object is arrange | positioned by the high side in the perpendicular direction in the inclined suction holding surface. As a result, the object to be transported lifted toward the suction holding surface by the suction force from the suction holding hand is generated on the suction holding surface with respect to the object to be transported, which is caused by the inclination of the suction holding surface. The movement to the higher side of the inclined suction holding surface can be restricted by the component force acting so as to urge in the parallel direction. Since the height of the second restricting member from the suction holding surface is larger than the thickness of the transport target, the suction target surface where the transport target is inclined is high from the early stage when the transport target is exerted with a suction force. It can be in the state which can control moving to the side.

[適用例8]上記適用例にかかる搬送装置は、前記吸引保持面の水平方向に対する角度を変える角度変更手段をさらに備えることが好ましい。   Application Example 8 It is preferable that the transfer device according to the application example further includes an angle changing unit that changes an angle of the suction holding surface with respect to a horizontal direction.

この搬送装置によれば、角度変更手段を備え、吸引保持面の水平方向に対する角度を変えることができる。これにより、吸引保持する時点と、吸引保持している状態とで、それぞれ吸引保持面の角度を変えて、吸引保持する時点や吸引保持している状態における、それぞれの適切な吸引保持面の角度に吸引保持面の角度を調整することができる。   According to this transport device, the angle changing means is provided, and the angle of the suction holding surface with respect to the horizontal direction can be changed. As a result, the angle of the suction holding surface is changed between the time of suction holding and the state of suction holding, respectively, and the angle of each appropriate suction holding surface at the time of suction holding or the state of suction holding The angle of the suction holding surface can be adjusted.

[適用例9]本適用例にかかる保持方法は、保持対象物を保持する保持方法であって、旋回流発生室が開口しており、水平方向(鉛直方向に直交する方向)に対して傾いている吸引保持面を備える吸引保持端末の前記吸引保持面を前記保持対象物の被吸引保持面に接近させる接近工程と、前記旋回流発生室に発生させた気体の旋回流の中心部に生じる負圧と、前記旋回流発生室の端から側方に流出する気体とにより、前記保持対象物を非接触で吸引保持する吸引保持工程と、前記吸引保持面に対して、傾いた前記吸引保持面における鉛直方向において低い側に配設された、前記吸引保持面に平行な方向の少なくとも2方向への前記保持対象物の移動を規制する規制部材に前記保持対象物を当接させる位置決め工程と、を有することを特徴とする。   Application Example 9 The holding method according to this application example is a holding method for holding a holding object, in which a swirl flow generation chamber is open and tilted with respect to a horizontal direction (a direction perpendicular to the vertical direction). The suction holding surface of the suction holding terminal provided with the suction holding surface is caused to approach the suction holding surface of the object to be held, and the center of the swirling flow of the gas generated in the swirling flow generating chamber is generated. A suction holding process for sucking and holding the object to be held in a non-contact manner by a negative pressure and a gas flowing out from an end of the swirl flow generation chamber, and the suction holding inclined to the suction holding surface A positioning step of bringing the holding object into contact with a restricting member that is disposed on a lower side in the vertical direction of the surface and restricts movement of the holding object in at least two directions parallel to the suction holding surface; , Characterized by having .

本適用例の保持方法によれば、吸引保持面を備える吸引保持端末の吸引保持面を保持対象物の被吸引保持面に接近させる接近工程を有する。
旋回流発生室に発生させた気体の旋回流の中心部に生じる負圧と、旋回流発生室の端から側方に流出する気体とにより、保持対象物を非接触で吸引保持するチャッキング装置は、ベルヌーイの定理を利用したものであり、ベルヌーイチャックとも呼ばれる。ベルヌーイの定理を利用したベルヌーイチャックは、旋回流発生室に発生させた気体の旋回流の中心部に生じた負圧によって保持対象物を吸引する。接近工程によって、保持対象物を吸引保持端末に吸引することができる。旋回流発生室の気体は、吸引保持面に開口した吸引用吹出し口から流出するため、保持対象物を吸引保持面から離反させる方向の力を被吸引面に作用させることから、吸引された保持対象物と吸引保持面との非接触状態が形成され、吸引保持工程が実施される。
一般的に、吸引保持面は、支持部材によって鉛直方向の下向きに支持されており、吸引保持ハンドは、保持対象物を懸吊する状態で保持する。保持対象物は吸引保持面と非接触状態であるため、保持対象物が吸引保持される力によって吸引保持面に平行な方向の拘束力を受けることは、ほとんどない。このため、傾いた吸引保持面に吸引保持された保持対象物は、吸引保持面と一定の隙間を維持した状態で、重力によって傾いた下側に移動する。傾いた下側には、規制部材が配設されているため、保持対象物は、端面が規制部材に当接した状態で吸引保持され、位置決め工程が実施される。これにより、吸引保持端末に対して、保持対象物の位置を、一定の位置に位置決めすることができる。
According to the holding method of this application example, there is an approach step of bringing the suction holding surface of the suction holding terminal including the suction holding surface closer to the suction holding surface of the holding object.
Chucking device that sucks and holds the object to be held in a non-contact manner by the negative pressure generated at the center of the swirling flow of the gas generated in the swirling flow generating chamber and the gas flowing out from the end of the swirling flow generating chamber to the side Uses Bernoulli's theorem and is also called Bernoulli chuck. The Bernoulli chuck using Bernoulli's theorem sucks the object to be held by the negative pressure generated at the center of the swirling flow of gas generated in the swirling flow generating chamber. The holding object can be sucked into the suction holding terminal by the approaching step. Since the gas in the swirling flow generation chamber flows out from the suction outlet opening on the suction holding surface, the force in the direction of moving the object to be held away from the suction holding surface acts on the suction target surface, so that the suctioned holding A non-contact state between the object and the suction holding surface is formed, and the suction holding process is performed.
Generally, the suction holding surface is supported downward in the vertical direction by a support member, and the suction holding hand holds the holding object in a suspended state. Since the holding object is not in contact with the suction holding surface, the holding object is hardly subjected to a restraining force in a direction parallel to the suction holding surface by the force by which the holding object is sucked and held. For this reason, the holding object sucked and held by the tilted suction holding surface moves to the lower side tilted by gravity while maintaining a certain clearance from the suction holding surface. Since the regulating member is disposed on the inclined lower side, the object to be held is sucked and held in a state where the end surface is in contact with the regulating member, and the positioning step is performed. Thereby, the position of the holding object can be positioned at a fixed position with respect to the suction holding terminal.

[適用例10]本適用例にかかる着座方法は、保持した搬送対象物を予め規定された着座位置に着座させる着座方法であって、旋回流発生室が開口しており、水平方向(鉛直方向に直交する方向)に対して傾いている吸引保持面を備える吸引保持端末に、前記旋回流発生室に発生させた気体の旋回流の中心部に生じる負圧と、前記旋回流発生室の端から側方に流出する気体とにより、吸引保持し、前記吸引保持面に対して、傾いた前記吸引保持面における鉛直方向において低い側に配設された、前記吸引保持面に平行な方向の少なくとも2方向への前記搬送対象物の移動を規制する規制部材に端面を当接させた前記搬送対象物の前記端面を、前記搬送対象物の前記着座位置に形成された位置規定壁に当接させる当接工程と、前記搬送対象物の前記端面を、前記位置規定壁に当接させた状態で前記搬送対象物を着座させる着座工程と、を有することを特徴とする。   [Application Example 10] A seating method according to this application example is a seating method in which a held conveyance object is seated at a predetermined seating position, in which a swirl flow generation chamber is opened, and the horizontal direction (vertical direction) A negative pressure generated at the center of the swirl flow of the gas generated in the swirl flow generation chamber, and an end of the swirl flow generation chamber. At least in a direction parallel to the suction holding surface, which is disposed on the lower side in the vertical direction of the suction holding surface inclined with respect to the suction holding surface. The end surface of the transport object that is in contact with the regulating member that restricts the movement of the transport object in two directions is brought into contact with a position defining wall formed at the seating position of the transport object. The abutting step and the conveyance object The serial end face, characterized by having a a seating step of seating said transport object being in contact with the said position-defining wall.

本適用例の着座方法によれば、規制部材に端面を当接させた搬送対象物の当該端面を、搬送対象物の着座位置に形成された位置規定壁に当接させる当接工程を有する。
搬送対象物は吸引保持面と非接触状態であるため、搬送対象物が吸引保持される力によって吸引保持面に平行な方向の拘束力を受けることは、ほとんどない。このため、傾いた吸引保持面に吸引保持された搬送対象物は、吸引保持面と一定の隙間を維持した状態で、重力によって傾いた下側に移動して規制部材に端面を当接させている。このため、規制部材に対する搬送対象物の位置はほとんど一定であり、規制部材の位置を基準として移動させることによって、搬送対象物の端面を位置規定壁に当接させることができる。搬送対象物は、吸引保持面に対して吸引保持面に平行な方向に微小な力で容易に移動できるため、位置規定壁に対して搬送対象物を予め正確に位置決めすることを必要とせずに、当接させるだけで、搬送対象物が位置規定壁に当接して位置決めされた状態にすることができる。着座工程を実施することで、位置規定壁によって規定される位置に搬送対象物を着座させることができる。
According to the seating method of this application example, there is a contact step in which the end surface of the transport target object whose end surface is in contact with the regulating member is in contact with the position defining wall formed at the seating position of the transport target object.
Since the conveyance object is in a non-contact state with the suction holding surface, the restraint force in the direction parallel to the suction holding surface is hardly received by the force by which the conveyance object is sucked and held. For this reason, the conveyance object sucked and held by the tilted suction holding surface moves to the lower side inclined by the gravity while maintaining a certain clearance from the suction holding surface, and the end surface is brought into contact with the regulating member. Yes. For this reason, the position of the conveyance target object with respect to the regulating member is almost constant, and the end surface of the conveyance target object can be brought into contact with the position defining wall by being moved with reference to the position of the regulating member. Since the transport object can be easily moved with a small force in a direction parallel to the suction holding surface with respect to the suction holding surface, it is not necessary to accurately position the transport target with respect to the position defining wall in advance. By simply bringing them into contact, the object to be conveyed can be brought into contact with the position defining wall and positioned. By carrying out the seating step, the object to be transported can be seated at a position defined by the position defining wall.

[適用例11]本適用例にかかる搬送方法は、第一の位置に在る搬送対象物を第二の位置に移動させる搬送方法であって、旋回流発生室が開口しており、水平方向(鉛直方向に直交する方向)に対して傾いている吸引保持面を備える吸引保持端末の前記吸引保持面を前記第一の位置に在る前記搬送対象物の被吸引保持面に接近させる接近工程と、前記旋回流発生室に発生させた気体の旋回流の中心部に生じる負圧と、前記旋回流発生室の端から側方に流出する気体とにより、前記搬送対象物を非接触で吸引保持する吸引保持工程と、前記吸引保持面に対して、傾いた前記吸引保持面における鉛直方向において低い側に配設された、前記吸引保持面に平行な方向の少なくとも2方向への前記搬送対象物の移動を規制する規制部材に前記搬送対象物の端面を当接させる位置決め工程と、位置決めされた前記搬送対象物を前記吸引保持端末が吸引保持した状態で、前記吸引保持端末を移動させる移動工程と、前記吸引保持端末を前記第二の位置に停止して、前記搬送対象物の吸引保持状態を解除して、前記搬送対象物を着座させる着座工程とを有することを特徴とする。   [Application Example 11] The transfer method according to this application example is a transfer method for moving a transfer object in a first position to a second position, in which a swirl flow generation chamber is opened, and the horizontal direction An approaching step of bringing the suction holding surface of a suction holding terminal provided with a suction holding surface tilted with respect to (a direction perpendicular to the vertical direction) closer to the suction holding surface of the conveyance object at the first position. And the negative pressure generated in the central portion of the swirl flow of the gas generated in the swirl flow generation chamber and the gas flowing out from the end of the swirl flow generation chamber in a non-contact manner A suction holding step for holding, and the object to be conveyed in at least two directions parallel to the suction holding surface, which is disposed on a lower side in the vertical direction of the suction holding surface inclined with respect to the suction holding surface The object to be conveyed is a regulating member that regulates the movement of objects. A positioning step of bringing the end surface into contact with each other, a moving step of moving the suction holding terminal in a state where the suction holding terminal sucks and holds the positioned conveyance object, and the suction holding terminal at the second position. And a seating step of releasing the suction holding state of the transport object and seating the transport object.

本適用例の搬送方法によれば、吸引保持面を備える吸引保持端末の吸引保持面を搬送対象物の被吸引保持面に接近させる接近工程を有する。
旋回流発生室に発生させた気体の旋回流の中心部に生じる負圧と、旋回流発生室の端から側方に流出する気体とにより、搬送対象物を非接触で吸引保持するチャッキング装置は、ベルヌーイの定理を利用したものであり、ベルヌーイチャックとも呼ばれる。ベルヌーイの定理を利用したベルヌーイチャックは、旋回流発生室に発生させた気体の旋回流の中心部に生じた負圧によって搬送対象物を吸引する。接近工程によって、搬送対象物を吸引保持端末に吸引することができる。旋回流発生室の気体は、吸引保持面に開口した吸引用吹出し口から流出するため、搬送対象物を吸引保持面から離反させる方向の力を被吸引面に作用させることから、吸引された搬送対象物と吸引保持面との非接触状態が形成され、吸引保持工程が実施される。
一般的に、吸引保持面は、支持部材によって鉛直方向の下向きに支持されており、吸引保持ハンドは、搬送対象物を懸吊する状態で保持する。搬送対象物は吸引保持面と非接触状態であるため、搬送対象物が吸引保持される力によって吸引保持面に平行な方向の拘束力を受けることは、ほとんどない。このため、傾いた吸引保持面に吸引保持された搬送対象物は、吸引保持面と一定の隙間を維持した状態で、重力によって傾いた下側に移動する。傾いた下側には、規制部材が配設されているため、搬送対象物は、端面が規制部材に当接した状態で吸引保持され、位置決め工程が実施される。これにより、吸引保持端末に対して、搬送対象物の位置を、一定の位置に位置決めすることができる。吸引保持端末に対して、搬送対象物の位置が一定の位置に位置決めされているため、当該状態を維持して吸引保持端末を搬送対象物の第二の位置に対応する所定の位置に移動させて、その位置において搬送対象物の吸引保持状態を解除して着座させることで、搬送対象物を第二の位置に着座させることができる。
According to the conveyance method of this application example, the method includes an approach step of bringing the suction holding surface of the suction holding terminal including the suction holding surface closer to the suction holding surface of the object to be transferred.
Chucking device that sucks and holds the object to be conveyed in a non-contact manner by the negative pressure generated at the center of the swirling flow of the gas generated in the swirling flow generating chamber and the gas flowing out from the end of the swirling flow generating chamber to the side Uses Bernoulli's theorem and is also called Bernoulli chuck. The Bernoulli chuck using Bernoulli's theorem sucks the object to be conveyed by the negative pressure generated at the center of the swirling flow of gas generated in the swirling flow generating chamber. By the approaching step, the conveyance object can be sucked into the suction holding terminal. Since the gas in the swirl flow generation chamber flows out from the suction outlet opening in the suction holding surface, the force in the direction of moving the object to be transported away from the suction holding surface acts on the suction target surface. A non-contact state between the object and the suction holding surface is formed, and the suction holding process is performed.
Generally, the suction holding surface is supported downward in the vertical direction by a support member, and the suction holding hand holds the object to be transported in a suspended state. Since the conveyance object is in a non-contact state with the suction holding surface, the restraint force in the direction parallel to the suction holding surface is hardly received by the force by which the conveyance object is sucked and held. For this reason, the conveyance object sucked and held by the tilted suction holding surface moves to the lower side tilted by gravity while maintaining a certain clearance from the suction holding surface. Since the regulating member is disposed on the inclined lower side, the object to be conveyed is sucked and held in a state where the end surface is in contact with the regulating member, and the positioning step is performed. Thereby, the position of a conveyance target object can be positioned in a fixed position with respect to the suction holding terminal. Since the position of the conveyance object is positioned at a fixed position with respect to the suction holding terminal, the state is maintained and the suction holding terminal is moved to a predetermined position corresponding to the second position of the conveyance object. Thus, the conveyance object can be seated at the second position by releasing the suction holding state of the conveyance object at that position and causing the object to be seated.

[適用例12]上記適用例にかかる搬送方法は、前記第二の位置における前記搬送対象物の配置位置に形成された位置規定壁に、前記搬送対象物における前記規制部材に当接している端面を当接させる工程をさらに有することが好ましい。   [Application Example 12] In the conveyance method according to the application example, an end surface of the conveyance object that is in contact with the restriction member is formed on a position defining wall formed at the arrangement position of the conveyance object at the second position. It is preferable that the method further includes a step of abutting.

この搬送方法によれば、規制部材に端面を当接させた搬送対象物の当該端面を、位置規定壁に当接させる当接工程を有する。
搬送対象物は吸引保持面と非接触状態であるため、搬送対象物が吸引保持される力によって吸引保持面に平行な方向の拘束力を受けることは、ほとんどない。このため、傾いた吸引保持面に吸引保持された搬送対象物は、吸引保持面と一定の隙間を維持した状態で、重力によって傾いた下側に移動して規制部材に端面を当接させている。このため、規制部材に対する搬送対象物の位置はほとんど一定であり、規制部材の位置を基準として移動させることによって、搬送対象物の端面を位置規定壁に当接させることができる。搬送対象物は、吸引保持面に対して吸引保持面に平行な方向に微小な力で容易に移動できるため、位置規定壁に対して搬送対象物を予め正確に位置決めすることを必要とせずに、当接させるだけで、搬送対象物が位置規定壁に当接して位置決めされた状態にすることができる。着座工程を実施することで、位置規定壁によって規定される位置に搬送対象物を着座させることができる。
According to this conveyance method, it has the contact process which contacts the said end surface of the conveyance target object which made the end surface contact | abut to a control member to a position regulation wall.
Since the conveyance object is in a non-contact state with the suction holding surface, the restraint force in the direction parallel to the suction holding surface is hardly received by the force by which the conveyance object is sucked and held. For this reason, the conveyance object sucked and held by the tilted suction holding surface moves to the lower side inclined by the gravity while maintaining a certain clearance from the suction holding surface, and the end surface is brought into contact with the regulating member. Yes. For this reason, the position of the conveyance target object with respect to the regulating member is almost constant, and the end surface of the conveyance target object can be brought into contact with the position defining wall by being moved with reference to the position of the regulating member. Since the transport object can be easily moved with a small force in a direction parallel to the suction holding surface with respect to the suction holding surface, it is not necessary to accurately position the transport target with respect to the position defining wall in advance. By simply bringing them into contact, the object to be conveyed can be brought into contact with the position defining wall and positioned. By carrying out the seating step, the object to be transported can be seated at a position defined by the position defining wall.

(a)は、液晶変調パネルについて、各構成要素と共に対向基板側から見た平面図。(b)は、(a)にH−Hで示した断面における断面形状を示す概略断面図。(A) is the top view seen from the counter substrate side with each component about the liquid crystal modulation panel. (B) is a schematic sectional drawing which shows the cross-sectional shape in the cross section shown by HH in (a). 搬送装置の概形状を示す外観斜視図。The external appearance perspective view which shows the general shape of a conveying apparatus. 吸引パットの構造を示す斜視図。The perspective view which shows the structure of a suction pad. ヘッドケースの構成を示す平面図。The top view which shows the structure of a head case. (a)は、ヘッドケースに吸引パットが取り付けられた状態を示す断面図。(b)は、ヘッドケースに吸引パットが取り付けられた状態を吸引パット側から見た平面図。(A) is sectional drawing which shows the state by which the suction pad was attached to the head case. (B) is the top view which looked at the state by which the suction pad was attached to the head case from the suction pad side. (a)は、吸引保持ハンドの全体構成を示す分解斜視図。(b)は、装置取付部の構造を示す側面図。(A) is a disassembled perspective view which shows the whole structure of a suction holding hand. (B) is a side view which shows the structure of an apparatus attaching part. (a)は、ワークガイドの外観斜視図。(b)は、ワークガイドの平面図。(c)は、ワークガイドの側面図。(A) is an external perspective view of a work guide. (B) is a top view of a work guide. (C) is a side view of a work guide. (a)は、吸引保持端末の側面図。(b)は、吸引保持端末を吸引保持面側から見た平面図。(A) is a side view of a suction holding terminal. (B) is the top view which looked at the suction holding terminal from the suction holding surface side. 対向基板の搬送工程の各工程を示すフローチャート。The flowchart which shows each process of the conveyance process of a counter substrate. 対向基板の搬送工程の各工程における吸引保持端末と対向基板との位置関係を示す説明図。Explanatory drawing which shows the positional relationship of the suction holding | maintenance terminal and counter substrate in each process of the conveyance process of a counter substrate.

以下、吸引保持ハンド、搬送装置、保持方法、着座方法、及び搬送方法の一実施形態について、図面を参照して説明する。実施形態は、搬送対象物を搬送して、定められた位置に着座させて整列させる搬送装置を例にして説明する。実施形態の搬送装置は、液晶装置の製造工程において、搬送用トレイに載せて搬送されてきた液晶装置を構成するフィルター基板(対向基板)などを加工装置に供給するために、加工用トレイに整列させる装置である。なお、以下の説明において参照する図面では、構成部材をわかり易く表示するために、部材又は部分の縦横の縮尺や部分ごとの縮尺を実際のものとは異なるように表す場合がある。   Hereinafter, an embodiment of a suction holding hand, a transfer device, a holding method, a seating method, and a transfer method will be described with reference to the drawings. The embodiment will be described with reference to an example of a transport device that transports an object to be transported and is seated and aligned at a predetermined position. The transport device of the embodiment is aligned with the processing tray in order to supply the processing device with a filter substrate (counter substrate) constituting the liquid crystal device that has been transported on the transport tray in the manufacturing process of the liquid crystal device. It is a device to let you. In the drawings referred to in the following description, the vertical and horizontal scales of members or parts and the scales of each part may be shown differently from actual ones in order to display the constituent members in an easy-to-understand manner.

<液晶変調パネル>
最初に、搬送装置10(図2参照)が扱う対向基板150を備える液晶変調パネル140について、図1を参照して説明する。液晶変調パネル140は、液晶光変調装置を構成する主要要素であり、液晶光変調装置は、投射型表示装置のライトバルブとして用いられる光変調装置である。
図1は、液晶変調パネルの構造を示す模式図である。図1(a)は、液晶変調パネルについて、各構成要素と共に対向基板側から見た平面図であり、図1(b)は、図1(a)にH−Hで示した断面における断面形状を示す概略断面図である。本実施形態に係る液晶変調パネル140は、電気光学素子の一例である駆動回路内蔵型のTFTアクティブマトリクス駆動方式の液晶パネルである。
<LCD panel>
First, the liquid crystal modulation panel 140 including the counter substrate 150 handled by the transport apparatus 10 (see FIG. 2) will be described with reference to FIG. The liquid crystal modulation panel 140 is a main element constituting the liquid crystal light modulation device, and the liquid crystal light modulation device is a light modulation device used as a light valve of a projection display device.
FIG. 1 is a schematic diagram showing the structure of a liquid crystal modulation panel. FIG. 1A is a plan view of a liquid crystal modulation panel viewed from the counter substrate side together with each component, and FIG. 1B is a cross-sectional shape taken along line HH in FIG. It is a schematic sectional drawing which shows. The liquid crystal modulation panel 140 according to this embodiment is a TFT active matrix driving type liquid crystal panel with a built-in driving circuit, which is an example of an electro-optical element.

図1に示したように、液晶変調パネル140は、TFTアレイ基板155と対向基板150とが対向配置されている。TFTアレイ基板155と対向基板150との間に液晶層157が封入されており、TFTアレイ基板155と対向基板150とは、画像表示領域142aの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材152により相互に接着されている。   As shown in FIG. 1, in the liquid crystal modulation panel 140, the TFT array substrate 155 and the counter substrate 150 are disposed to face each other. A liquid crystal layer 157 is sealed between the TFT array substrate 155 and the counter substrate 150, and the TFT array substrate 155 and the counter substrate 150 are provided with a sealing material 152 provided in a seal region located around the image display region 142a. Are bonded to each other.

シール材152は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてTFTアレイ基板155上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。また、シール材152中には、TFTアレイ基板155と対向基板150との間隔(基板間ギャップ)を所定値とするためのグラスファイバー或いはガラスビーズ等のギャップ材が散布されている。   The sealing material 152 is made of, for example, an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, or the like for bonding the two substrates, and is applied on the TFT array substrate 155 in the manufacturing process and then cured by ultraviolet irradiation, heating, or the like. It is. Further, a gap material such as glass fiber or glass bead is dispersed in the sealing material 152 for setting the distance (inter-substrate gap) between the TFT array substrate 155 and the counter substrate 150 to a predetermined value.

シール材152が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域142aの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜153が、対向基板150側に設けられている。但し、このような額縁遮光膜153の一部又は全部は、TFTアレイ基板155側に内蔵遮光膜として設けてもよい。   A light-shielding frame light-shielding film 153 that defines the frame area of the image display area 142a is provided on the counter substrate 150 side in parallel with the inside of the seal area where the sealant 152 is disposed. However, part or all of the frame light shielding film 153 may be provided as a built-in light shielding film on the TFT array substrate 155 side.

画像表示領域142aの周辺に広がる領域のうち、シール材152が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路161及び外部回路接続端子162がTFTアレイ基板155の一辺に沿って設けられている。また、走査線駆動回路164は、この一辺に隣接する2辺に沿い、且つ、額縁遮光膜153に覆われるようにして設けられている。更に、このように画像表示領域142aの両側に設けられた二つの走査線駆動回路164間をつなぐため、TFTアレイ基板155の残る一辺に沿い、且つ、額縁遮光膜153に覆われるようにして複数の配線165が設けられている。   Of the area extending around the image display area 142 a, the data line driving circuit 161 and the external circuit connection terminal 162 extend along one side of the TFT array substrate 155 in the area located outside the sealing area where the sealing material 152 is disposed. Is provided. The scanning line driving circuit 164 is provided along two sides adjacent to the one side so as to be covered with the frame light shielding film 153. Further, in order to connect the two scanning line driving circuits 164 provided on both sides of the image display area 142 a in this way, a plurality of the pixel lines are covered along the remaining side of the TFT array substrate 155 and covered with the frame light shielding film 153. Wiring 165 is provided.

対向基板150の4つのコーナー部には、両基板間の上下導通端子として機能する上下導通材166が配置されている。他方、TFTアレイ基板155にはこれらのコーナーに対向する領域において上下導通端子が設けられている。これらにより、TFTアレイ基板155と対向基板150との間で電気的な導通をとることができる。   Vertical conductive members 166 functioning as vertical conductive terminals between the two substrates are disposed at the four corners of the counter substrate 150. On the other hand, the TFT array substrate 155 is provided with vertical conduction terminals in a region facing these corners. Thus, electrical conduction can be established between the TFT array substrate 155 and the counter substrate 150.

図1(b)において、TFTアレイ基板155上には、画素スイッチング用のTFTや走査線、データ線等の配線が形成された後の画素電極169上に、図示しない配向膜が形成されている。他方、対向基板150上には、対向電極167の他、格子状又はストライプ状の遮光膜168、更には最上層部分に図示しない配向膜が形成されている。また、液晶層157は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜間で、所定の配向状態をとる。   In FIG. 1B, on the TFT array substrate 155, an alignment film (not shown) is formed on the pixel electrode 169 after the pixel switching TFT, the scanning line, the data line, and the like are formed. . On the other hand, on the counter substrate 150, in addition to the counter electrode 167, a lattice-shaped or stripe-shaped light shielding film 168 and an alignment film (not shown) are formed in the uppermost layer portion. The liquid crystal layer 157 is made of, for example, a liquid crystal in which one or several types of nematic liquid crystals are mixed, and takes a predetermined alignment state between the pair of alignment films.

なお、図1に示したTFTアレイ基板155上には、これらのデータ線駆動回路161、走査線駆動回路164等に加えて、他の回路を形成してもよい。他の回路として、画像信号線上の画像信号をサンプリングしてデータ線に供給するサンプリング回路、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該電気光学装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。   In addition to the data line driving circuit 161, the scanning line driving circuit 164, and the like, other circuits may be formed on the TFT array substrate 155 shown in FIG. As other circuits, a sampling circuit that samples an image signal on an image signal line and supplies it to a data line, a precharge circuit that supplies a precharge signal of a predetermined voltage level to a plurality of data lines before the image signal, and manufacturing An inspection circuit or the like for inspecting the quality, defects, etc. of the electro-optical device in the middle or at the time of shipment may be formed.

<搬送装置>
次に、搬送装置10について、図2を参照して説明する。図2は、搬送装置の概形状を示す外観斜視図である。
図2に示すように、搬送装置10は、吸引保持ハンド20と、ハンド移動腕31と装置機台38とを備えるロボット機構30と、搬送装置制御部39とを備えている。
<Conveyor>
Next, the transport apparatus 10 will be described with reference to FIG. FIG. 2 is an external perspective view showing a general shape of the transport device.
As shown in FIG. 2, the transport device 10 includes a suction holding hand 20, a robot mechanism 30 including a hand moving arm 31 and a device base 38, and a transport device control unit 39.

ハンド移動腕31は、腕部32aと、腕部32bと、腕関節部33と、ハンド保持機構34と、腕軸部36とを備えている。腕部32aの一端と腕部32bの一端とは、腕関節部33で接続されている。腕部32bの腕関節部33に接続された一端の反対側の一端は、腕軸部36に接続されている。腕軸部36は、腕部32bを腕軸部36の回動軸を中心に回動可能に支持している。腕軸部36の回動軸の軸方向は、略鉛直方向である。腕部32bは、腕部32aを、腕関節部33を介して、腕関節部33の回動軸を中心に回動可能に支持している。腕部32aと腕部32bとは、腕関節部33において互いのなす角度を調整可能である。即ち、ハンド移動腕31は、腕関節部33において屈伸可能である。腕軸部36の回動軸の軸方向と、腕関節部33の回動軸の軸方向とは、互いに略平行である。装置機台38は、内蔵する摺動支持機構(図示省略)を介して、腕軸部36を腕軸部36の回動軸の軸方向に摺動自在に、且つ精密に位置決め固定可能に支持している。   The hand moving arm 31 includes an arm portion 32a, an arm portion 32b, an arm joint portion 33, a hand holding mechanism 34, and an arm shaft portion 36. One end of the arm portion 32 a and one end of the arm portion 32 b are connected by an arm joint portion 33. One end of the arm portion 32 b opposite to the one end connected to the arm joint portion 33 is connected to the arm shaft portion 36. The arm shaft portion 36 supports the arm portion 32 b so as to be rotatable about the rotation shaft of the arm shaft portion 36. The axial direction of the rotation shaft of the arm shaft portion 36 is a substantially vertical direction. The arm portion 32 b supports the arm portion 32 a through the arm joint portion 33 so as to be rotatable about the rotation axis of the arm joint portion 33. The arm portion 32 a and the arm portion 32 b can adjust the angle formed by each other in the arm joint portion 33. That is, the hand moving arm 31 can bend and stretch at the arm joint portion 33. The axial direction of the rotation shaft of the arm shaft portion 36 and the axial direction of the rotation shaft of the arm joint portion 33 are substantially parallel to each other. The device base 38 supports the arm shaft portion 36 so as to be slidable in the axial direction of the rotation axis of the arm shaft portion 36 and to be accurately positioned and fixed via a built-in sliding support mechanism (not shown). is doing.

腕部32aの腕関節部33に接続された一端の反対側の一端には、ハンド保持機構34が固定されている。ハンド保持機構34には、吸引保持ハンド20が固定されている。ハンド保持機構34は、腕軸部36の回動軸の軸方向及び腕関節部33の回動軸の軸方向と同じ軸方向の回動軸を有している。したがって、ハンド保持機構34の回動軸の軸方向は、略鉛直方向である。ハンド保持機構34は、腕部32aに対して、当該回動軸を中心に吸引保持ハンド20を回動可能に支持している。   A hand holding mechanism 34 is fixed to one end of the arm portion 32a opposite to the one end connected to the arm joint portion 33. The suction holding hand 20 is fixed to the hand holding mechanism 34. The hand holding mechanism 34 has a rotation axis in the same axial direction as the axial direction of the rotation axis of the arm shaft portion 36 and the axial direction of the rotation shaft of the arm joint portion 33. Therefore, the axial direction of the rotation shaft of the hand holding mechanism 34 is a substantially vertical direction. The hand holding mechanism 34 supports the suction holding hand 20 so as to be rotatable about the rotation axis with respect to the arm portion 32a.

吸引保持ハンド20は、後述する吸引パット21(図3参照)を4個備えており、吸引保持ハンド20の吸引保持面182A(図8参照)は、4個の吸引パット21が備える4個の吸引保持面182(図3参照)で構成されている。吸引保持ハンド20の吸引保持面182A(吸引保持面182)は、ハンド保持機構34の回動軸と略垂直な面に対して傾いている。吸引保持ハンド20が、吸引保持ハンド又は保持手段に相当する。
ハンド保持機構34によって吸引保持ハンド20を回動させることで、吸引保持面の傾き方向(傾いた面の高い方と低い方との平面方向における位置関係)を変えることができる。
搬送装置制御部39は、情報入出力装置(図示省略)を介して予め入力された制御プログラムに基づいて、搬送装置10の各部の動作を統括制御する。
The suction holding hand 20 includes four suction pads 21 (see FIG. 3), which will be described later, and the suction holding surface 182A (see FIG. 8) of the suction holding hand 20 includes four suction pads 21 included in the four suction pads 21. It is comprised by the suction holding surface 182 (refer FIG. 3). The suction holding surface 182A (suction holding surface 182) of the suction holding hand 20 is inclined with respect to a surface substantially perpendicular to the rotation axis of the hand holding mechanism 34. The suction holding hand 20 corresponds to a suction holding hand or holding means.
By rotating the suction holding hand 20 by the hand holding mechanism 34, the inclination direction of the suction holding surface (the positional relationship in the plane direction between the higher and lower sides of the inclined surface) can be changed.
The transport device control unit 39 performs overall control of the operation of each unit of the transport device 10 based on a control program input in advance via an information input / output device (not shown).

次に、搬送装置10によってワークを搬送する際の搬送装置10の動作について説明する。
最初に、腕軸部36によって、ハンド移動腕31を回動させて任意の方向に向け、腕関節部33においてハンド移動腕31を屈伸させることによって、吸引保持ハンド20を任意の位置、例えば、ワークを吸引保持可能な位置に位置させる。次に、装置機台38の摺動支持機構によって、腕軸部36を腕軸部36の回動軸の軸方向に摺動させることによって、吸引保持ハンド20の吸引保持面をワークを吸引保持可能な距離まで接近させ、当該位置でワークを吸引保持する。次に、装置機台38の摺動支持機構によって腕軸部36を摺動させて、吸引保持ハンド20を移動させ、ワークを持ち上げる。
次に、腕軸部36によって、ハンド移動腕31を回動させて、ハンド移動腕31をワークを載置する方向に向け、腕関節部33においてハンド移動腕31を屈伸させることによって、ワークを吸引保持した吸引保持ハンド20を、ワークが載置位置に臨む位置に位置させる。次に、装置機台38の摺動支持機構によって、腕軸部36を腕軸部36の回動軸の軸方向に摺動させることによって、吸引保持ハンド20が吸引保持したワークを載置面に載置可能な距離まで接近させ、当該位置でワークの吸引保持を解除し、ワークを載置面に着座させる。搬送装置10によって搬送される対向基板150などのワークが、保持対象物又は搬送対象物に相当する。
Next, the operation of the transfer device 10 when the workpiece is transferred by the transfer device 10 will be described.
First, by rotating the hand moving arm 31 by the arm shaft portion 36 in the arbitrary direction and bending the hand moving arm 31 at the arm joint portion 33, the suction holding hand 20 is moved to an arbitrary position, for example, Position the workpiece in a position where suction can be held. Next, the arm shaft portion 36 is slid in the axial direction of the rotation shaft of the arm shaft portion 36 by the sliding support mechanism of the apparatus base 38, thereby sucking and holding the work on the suction holding surface of the suction holding hand 20. Approach to a possible distance and suck and hold the workpiece at that position. Next, the arm shaft portion 36 is slid by the sliding support mechanism of the apparatus base 38, the suction holding hand 20 is moved, and the workpiece is lifted.
Next, the hand moving arm 31 is rotated by the arm shaft portion 36, the hand moving arm 31 is directed in the direction in which the work is placed, and the hand moving arm 31 is bent and extended at the arm joint portion 33. The suction holding hand 20 that has been sucked and held is positioned at a position where the workpiece faces the placement position. Next, the work supported by the suction holding hand 20 is placed on the mounting surface by sliding the arm shaft portion 36 in the axial direction of the rotation shaft of the arm shaft portion 36 by the sliding support mechanism of the device base 38. The workpiece is brought close to a distance that can be placed, and the suction holding of the workpiece is released at the position, and the workpiece is seated on the placement surface. A workpiece such as the counter substrate 150 conveyed by the conveyance device 10 corresponds to a holding object or a conveyance object.

<吸引パット>
次に、吸引保持ハンド20が備える吸引パット21について、図3を参照して説明する。吸引パット21は、ベルヌーイの定理を応用して、吸引保持する部材を吸引するとともに、流出する気体によって部材に押し力を加えることによって、部材と吸引パットとの非接触状態を維持して、非接触で部材を保持するものである。図3は、吸引パットの構造を示す斜視図である。
<Suction pad>
Next, the suction pad 21 provided in the suction holding hand 20 will be described with reference to FIG. The suction pad 21 applies Bernoulli's theorem to suck the member to be sucked and held, and applies a pressing force to the member by the outflowing gas, thereby maintaining the non-contact state between the member and the suction pad. The member is held by contact. FIG. 3 is a perspective view showing the structure of the suction pad.

図3に示すように、吸引パット21は、旋回流発生室181と、吸引保持面182と、一対の気体噴出流路183,183と、一対のチャンバ流路185,185と、を備えている。旋回流発生室181は、円柱状の凹部である。吸引保持面182は、吸引パット21の旋回流発生室181が開口する端面であり、旋回流発生室181の開口側端に連なり、吸引保持された状態の被吸引部材が臨む面である。気体噴出流路183は、一端が旋回流発生室181の内周面184に開口しており、旋回流発生室181に圧縮空気を噴出させて、旋回流発生室181に旋回流を発生させる。チャンバ流路185は、各気体噴出流路183の上流端に連通し、気体供給源28(図6参照)からの圧縮空気を供給する。気体供給源28から供給された圧縮空気は、一対のチャンバ流路185に同時に流入し、それぞれ気体噴出流路183を通って旋回流発生室181に噴出される。   As shown in FIG. 3, the suction pad 21 includes a swirl flow generation chamber 181, a suction holding surface 182, a pair of gas ejection channels 183 and 183, and a pair of chamber channels 185 and 185. . The swirl flow generation chamber 181 is a cylindrical recess. The suction holding surface 182 is an end surface where the swirl flow generation chamber 181 of the suction pad 21 is opened, and is a surface that is connected to the opening side end of the swirl flow generation chamber 181 and faces the sucked and held member. One end of the gas ejection flow path 183 is open to the inner peripheral surface 184 of the swirl flow generation chamber 181, and the swirl flow generation chamber 181 is caused to eject compressed air to generate a swirl flow in the swirl flow generation chamber 181. The chamber flow path 185 communicates with the upstream end of each gas ejection flow path 183 and supplies compressed air from the gas supply source 28 (see FIG. 6). The compressed air supplied from the gas supply source 28 flows into the pair of chamber flow paths 185 at the same time, and is ejected to the swirl flow generation chamber 181 through the gas ejection flow paths 183.

吸引パット21の外形は、略円形の吸引保持面182を端面とする略円筒形状であり、円筒の途中から吸引保持面182の反対側の端面までは、一部が切り欠かれた形状をしている。切り欠かれた部分は、平坦な面であって、互いに平行な一対の面186,186で構成されている。チャンバ流路185の気体噴出流路183に連通する側の反対側は、面186に開口している。   The outer shape of the suction pad 21 is a substantially cylindrical shape with a substantially circular suction holding surface 182 as an end surface, and a part of the suction pad 21 is cut out from the middle of the cylinder to the end surface opposite to the suction holding surface 182. ing. The notched portion is a flat surface and is composed of a pair of surfaces 186 and 186 parallel to each other. An opposite side of the chamber channel 185 that communicates with the gas ejection channel 183 is open to the surface 186.

旋回流発生室181は、その内周面184の一端が閉塞された円柱状に形成されており、旋回流発生室181の閉塞側には、一対の気体噴出流路183が形成されている。旋回流発生室181に流入した圧縮空気は、その内周面184に沿うように流れ、強い旋回流となってやがて開放端から側方に流出する。旋回流の中心部には、ベルヌーイの定理に従って負圧が生じ、この負圧により対向基板150などを吸引する。   The swirl flow generation chamber 181 is formed in a columnar shape with one end of the inner peripheral surface 184 closed, and a pair of gas ejection flow paths 183 are formed on the closed side of the swirl flow generation chamber 181. The compressed air that has flowed into the swirl flow generation chamber 181 flows along the inner peripheral surface 184, becomes a strong swirl flow, and eventually flows laterally from the open end. A negative pressure is generated at the center of the swirling flow according to Bernoulli's theorem, and the counter substrate 150 and the like are sucked by this negative pressure.

吸引保持面182は、旋回流発生室181の開口側端に連なり、旋回流の旋回軸に対して略直交する形状に形成されている。旋回流発生室181で発生した旋回流は、旋回流発生室181の開放端に達すると、その遠心力により吸引保持面182に沿って内周側から外周側に向って渦流となって流れ出す。旋回流発生室181から流出して、吸引保持面182上を流れ出す空気により、対向基板150などと吸引保持面182との間隙が維持される。   The suction holding surface 182 is connected to the opening side end of the swirl flow generating chamber 181 and is formed in a shape substantially orthogonal to the swirl axis of swirl flow. When the swirl flow generated in the swirl flow generation chamber 181 reaches the open end of the swirl flow generation chamber 181, it flows out as a vortex from the inner peripheral side toward the outer peripheral side along the suction holding surface 182 by the centrifugal force. The gap between the counter substrate 150 and the suction holding surface 182 is maintained by the air flowing out of the swirl flow generation chamber 181 and flowing out on the suction holding surface 182.

図3に示した吸引パット21では、旋回流発生室181に発生する旋回流は、吸引保持面182側から見て、時計まわりに旋回する。気体噴出流路183の位置を、旋回流発生室181の中心軸を含む面に関して面対称の位置にすると、旋回流発生室181に発生する旋回流は、吸引保持面182側から見て、反時計まわりに旋回する。本実施形態では、旋回方向に関わらず、いずれの旋回方向の旋回流を発生するものも、吸引パット21と表記する。
なお、吸引パット21の形状は、旋回流発生室181の開口端が徐々に広がるようにベルマウス形状としてもよいし、吸引保持面182に渦流を維持する渦形の溝を形成するようにしてもよい。
In the suction pad 21 shown in FIG. 3, the swirl flow generated in the swirl flow generation chamber 181 swirls clockwise as viewed from the suction holding surface 182 side. When the position of the gas ejection channel 183 is set to a plane-symmetrical position with respect to the plane including the central axis of the swirling flow generation chamber 181, the swirling flow generated in the swirling flow generation chamber 181 is opposite to the suction holding surface 182 side. Turn clockwise. In the present embodiment, a thing that generates a swirling flow in any swirling direction regardless of the swirling direction is referred to as a suction pad 21.
The shape of the suction pad 21 may be a bell mouth shape so that the opening end of the swirling flow generation chamber 181 gradually widens, or a vortex-shaped groove for maintaining a vortex flow is formed on the suction holding surface 182. Also good.

<ヘッドケース>
次に、吸引パット21が固定されており、吸引保持ヘッド25(図6参照)を構成するヘッドケース51について、図4及び図5を参照して説明する。図4は、ヘッドケースの構成を示す平面図である。図5は、ヘッドケースに吸引パットが取り付けられた状態を示す図である。図5(a)は、ヘッドケースに吸引パットが取り付けられた状態を示す断面図であり、図5(b)は、ヘッドケースに吸引パットが取り付けられた状態を吸引パット側から見た平面図である。
<Head case>
Next, a head case 51 that has the suction pad 21 fixed and that constitutes the suction holding head 25 (see FIG. 6) will be described with reference to FIGS. FIG. 4 is a plan view showing the configuration of the head case. FIG. 5 is a diagram illustrating a state in which a suction pad is attached to the head case. 5A is a cross-sectional view showing a state in which the suction pad is attached to the head case, and FIG. 5B is a plan view of the state in which the suction pad is attached to the head case as viewed from the suction pad side. It is.

図4及び図5に示すように、ヘッドケース51は、4個の吸引パット21を下方に突出させ、且つそれぞれの旋回流発生室181の端が同一平面内に位置するように保持している。具体的には、ヘッドケース51には、4個の固定装着穴がマトリクス状に形成されている。固定装着穴は、上述した吸引パット21の一対の面186,186と隙間なく嵌合できる平坦面を備えている。各吸引パット21は、面186が形成された部分が固定装着穴に嵌合されて、接着固定されている。吸引パット21で発生する旋回流の旋回方向は、4個の吸引パット21の中で対角に位置する2個の吸引パット21が時計まわりに旋回する旋回流を発生し、他方の対角に位置する2個の吸引パット21が反時計まわりに旋回する旋回流を発生するように、4個の吸引パット21が配置されている。   As shown in FIGS. 4 and 5, the head case 51 holds the four suction pads 21 so as to protrude downward, and the ends of the respective swirl flow generation chambers 181 are positioned in the same plane. . Specifically, the head case 51 has four fixed mounting holes formed in a matrix. The fixed mounting hole includes a flat surface that can be fitted to the pair of surfaces 186 and 186 of the suction pad 21 without a gap. Each suction pad 21 is bonded and fixed by fitting a portion where the surface 186 is formed into a fixed mounting hole. The swirling direction of the swirling flow generated by the suction pad 21 generates a swirling flow in which the two suction pads 21 positioned diagonally among the four suction pads 21 swirl clockwise, and the other diagonal. The four suction pads 21 are arranged so that the two suction pads 21 positioned generate a swirling flow swirling counterclockwise.

図4に示すように、ヘッドケース51に形成した圧空溝88は、4個の吸引パット21を二分する位置に配設した幅広の主圧空溝84と、主圧空溝84から各吸引パット21に向って垂直に分岐した各吸引パット21ごとに1組、計4組の幅狭の副圧空溝85と、から形成されている。各副圧空溝85は、長い長尺副圧空溝85aと短い短尺副圧空溝85bとから成り、取り付けられた吸引パット21を挟み込む位置に配設されている。吸引パット21がヘッドケース51に取り付けられた状態で、長尺副圧空溝85a及び短尺副圧空溝85bは、吸引パット21の面186に開口しているチャンバ流路185にそれぞれ連通している。後述する気体供給源28(図6参照)から供給される圧縮空気が、後述する蓋ケース52(図6参照)の吸引気体孔54から流入し、主圧空溝84及び各副圧空溝85を介して、各吸引パット21に流入する。吸引パット21に流入した圧縮空気は、旋回流発生室181に噴出され、図5に示した矢印aのように旋回する旋回流が発生する。蓋ケース52は、ヘッドケース51の周縁に形成された突設枠部87の内側に嵌合することで、ヘッドケース51に対して位置決めされる。   As shown in FIG. 4, the pressure air groove 88 formed in the head case 51 includes a wide main pressure air groove 84 disposed at a position that bisects the four suction pads 21, and the main pressure air groove 84 to each suction pad 21. Each of the suction pads 21 branched perpendicularly to each other is formed of a total of four sets of sub-pressure air grooves 85 having a narrow width. Each sub pressure air groove 85 includes a long long sub pressure air groove 85a and a short short sub pressure air groove 85b, and is disposed at a position where the attached suction pad 21 is sandwiched. In a state where the suction pad 21 is attached to the head case 51, the long auxiliary pressure air groove 85 a and the short auxiliary pressure air groove 85 b communicate with the chamber flow path 185 opened in the surface 186 of the suction pad 21. Compressed air supplied from a gas supply source 28 (see FIG. 6), which will be described later, flows from a suction gas hole 54 of a lid case 52 (see FIG. 6), which will be described later, and passes through the main pressure air groove 84 and each sub pressure air groove 85. And flows into each suction pad 21. The compressed air that has flowed into the suction pad 21 is jetted into the swirl flow generation chamber 181 to generate a swirl flow that swirls as indicated by the arrow a shown in FIG. The lid case 52 is positioned with respect to the head case 51 by fitting inside the protruding frame portion 87 formed on the periphery of the head case 51.

<吸引保持ハンド>
次に、吸引保持ハンド20の全体構成について、図6を参照して説明する。図6は、吸引保持ハンドの全体構成を示す図である。図6(a)は、吸引保持ハンドの全体構成を示す分解斜視図であり、図6(b)は、装置取付部の構造を示す側面図である。
図6に示すように、吸引保持ハンド20は、対向基板150などのワークを吸引保持する複数(図示のものは、4個)の吸引パット21と、吸引パット21を保持するパットホルダー23と、パットホルダー23を支持する装置取付部24と、非接触保持用の空気を供給する気体供給源28と、を備えている。
<Suction holding hand>
Next, the overall configuration of the suction holding hand 20 will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a diagram illustrating an overall configuration of the suction holding hand. FIG. 6A is an exploded perspective view showing the entire configuration of the suction holding hand, and FIG. 6B is a side view showing the structure of the device mounting portion.
As shown in FIG. 6, the suction holding hand 20 includes a plurality of (four in the illustrated example) suction pads 21 for holding a workpiece such as the counter substrate 150, a pad holder 23 for holding the suction pads 21, An apparatus mounting portion 24 that supports the pad holder 23 and a gas supply source 28 that supplies air for non-contact holding are provided.

パットホルダー23は、上述したヘッドケース51を有する吸引保持ヘッド25と、吸引保持ヘッド25を垂設支持するワークガイド26と、ワークガイド26を垂設支持するジョイント部材27と、を同軸上に重ねる状態に構成されている。
吸引保持ヘッド25は、ヘッドケース51と蓋ケース52とを備え、蓋ケース52がヘッドケース51の周縁に形成された突設枠部87の内側に嵌合して、隙間なく固定されている。蓋ケース52がヘッドケース51に固定されることで、ヘッドケース51に形成された主圧空溝84及び各副圧空溝85が、蓋ケース52に形成された吸引気体孔54、及び吸引パット21に形成されたチャンバ流路185に連通する気体流路となっている。
The pad holder 23 coaxially overlaps the suction holding head 25 having the above-described head case 51, the work guide 26 that vertically supports the suction holding head 25, and the joint member 27 that vertically supports the work guide 26. Configured to state.
The suction holding head 25 includes a head case 51 and a lid case 52, and the lid case 52 is fitted inside a protruding frame portion 87 formed on the periphery of the head case 51 and is fixed without a gap. By fixing the lid case 52 to the head case 51, the main pressure air groove 84 and each sub pressure air groove 85 formed in the head case 51 are formed in the suction gas hole 54 and the suction pad 21 formed in the cover case 52. It is a gas flow path communicating with the formed chamber flow path 185.

気体供給源28は、例えば圧空ポンプのような、圧縮空気を送出する装置である。気体供給源28には、圧縮空気を送るための吸引給気管29の一端が接続されている。吸引給気管29の他端は、パットホルダー23のジョイント部材27に形成された吸引給気流路74に接続されている。   The gas supply source 28 is a device that sends out compressed air, such as a compressed air pump. One end of a suction air supply pipe 29 for sending compressed air is connected to the gas supply source 28. The other end of the suction air supply pipe 29 is connected to a suction air supply flow path 74 formed in the joint member 27 of the pad holder 23.

吸引保持ハンド20の装置取付部24は、略円筒形状に形成され、上半部の内部には太径の取付孔41が、下半部の内部には細径の装着孔42がそれぞれ形成されている。取付孔41は、中心軸である取付孔軸41aが略円筒形状の外形と同軸に形成されている。装着孔42は、中心軸である装着孔軸42aが、取付孔軸41aと交差すると共に、取付孔軸41aに対して傾いて形成されている。取付孔41は、吸引保持ハンド20をロボット機構30のハンド保持機構34に取り付けるための部位として機能し、装着孔42には、ジョイント部材27の装着部72が差し込み装着される。装着孔軸42aと取付孔軸41aとが互いに傾いていることを明示するために、傾き角度を大きくして図示しているが、実際の傾き角度は、数度である。
ハンド保持機構34と装置取付部24とは、取付孔41に嵌入したハンド保持機構34の部分を、上ネジ孔43に螺合した止めネジで固定することによって、互いに固定される。装置取付部24とジョイント部材27とは、装着孔42に嵌入した装着部72を、下ネジ孔44に螺合した止めネジで固定することによって、互いに固定される。装置取付部24が、支持部材に相当する。
The device mounting portion 24 of the suction holding hand 20 is formed in a substantially cylindrical shape, and a large-diameter mounting hole 41 is formed inside the upper half, and a small mounting hole 42 is formed inside the lower half. ing. In the mounting hole 41, a mounting hole shaft 41a, which is a central axis, is formed coaxially with the substantially cylindrical outer shape. The mounting hole 42 is formed such that a mounting hole shaft 42a as a central axis intersects with the mounting hole shaft 41a and is inclined with respect to the mounting hole shaft 41a. The attachment hole 41 functions as a part for attaching the suction holding hand 20 to the hand holding mechanism 34 of the robot mechanism 30, and the attachment portion 72 of the joint member 27 is inserted and attached to the attachment hole 42. In order to clearly show that the mounting hole shaft 42a and the mounting hole shaft 41a are inclined with respect to each other, the inclination angle is enlarged and illustrated, but the actual inclination angle is several degrees.
The hand holding mechanism 34 and the device mounting portion 24 are fixed to each other by fixing the portion of the hand holding mechanism 34 fitted in the mounting hole 41 with a set screw screwed into the upper screw hole 43. The device mounting portion 24 and the joint member 27 are fixed to each other by fixing the mounting portion 72 fitted in the mounting hole 42 with a set screw screwed into the lower screw hole 44. The device attachment portion 24 corresponds to a support member.

パットホルダー23のジョイント部材27は、装着部72及び垂設部71を備えている。略角柱形状を有する垂設部71の一端の頂面に、垂設部71の略角柱形状の中心と中心軸が略一致する円柱形状の装着部72が立設されている。略円柱形状の装着部72の側面の一部が切り欠かれて、上述した下ネジ孔44に螺合した止めネジが突き当てられる平坦部72aが形成されている。装着部72を装置取付部24の装着孔42嵌合し、止めネジを下ネジ孔44に螺合することにより、ジョイント部材27が装置取付部24に装着される。垂設部71の装着部72が突設された端面の反対側の端面には、略方形の角を面取りした形状の台座79が突設されている。この台座79にワークガイド26に形成された台座着座部69(図7参照)が嵌合して、位置決め固定される。   The joint member 27 of the pad holder 23 includes a mounting portion 72 and a hanging portion 71. On the top surface of one end of the hanging portion 71 having a substantially prismatic shape, a columnar mounting portion 72 whose center axis substantially coincides with the center of the substantially prismatic shape of the hanging portion 71 is erected. A part of the side surface of the mounting portion 72 having a substantially cylindrical shape is cut away to form a flat portion 72a against which the set screw screwed into the lower screw hole 44 is abutted. The joint member 27 is attached to the device attachment portion 24 by fitting the attachment portion 72 into the attachment hole 42 of the device attachment portion 24 and screwing the set screw into the lower screw hole 44. A pedestal 79 having a substantially square corner is chamfered on the end surface of the hanging portion 71 opposite to the end surface from which the mounting portion 72 is projected. A pedestal seat 69 (see FIG. 7) formed on the work guide 26 is fitted to the pedestal 79, and is positioned and fixed.

垂設部71の内部には、吸引給気流路74が形成されている。吸引給気流路74は、吸引給気管29が接続されると共に、吸引パット21の旋回流発生室181に連なる略「L」字状の流路である。吸引給気流路74は、横流路75と、縦流路76とを有している。横流路75は、略角柱形状の垂設部71の側面に開口し、当該側面に略垂直に形成されており、当該開口に、継手77を介して吸引給気管29が接続されている。縦流路76は、一端が台座79の面の略中心位置に開口し、当該面に略垂直に形成されており、当該開口は、台座79に嵌合したワークガイド26の吸引気体孔64に接続されている。横流路75及び縦流路76における開口端と反対側の端は、互いに接合して、略「L」字状の吸引給気流路74を形成している。   A suction air supply channel 74 is formed inside the hanging portion 71. The suction air supply channel 74 is a substantially “L” -shaped channel that is connected to the suction air supply pipe 29 and is continuous with the swirl flow generation chamber 181 of the suction pad 21. The suction air supply channel 74 has a horizontal channel 75 and a vertical channel 76. The lateral flow path 75 opens to the side surface of the substantially prismatic hanging portion 71 and is formed substantially perpendicular to the side surface. The suction air supply pipe 29 is connected to the opening via a joint 77. One end of the longitudinal channel 76 opens at a substantially central position of the surface of the pedestal 79 and is formed substantially perpendicular to the surface. The opening is formed in the suction gas hole 64 of the work guide 26 fitted to the pedestal 79. It is connected. Ends of the horizontal flow path 75 and the vertical flow path 76 opposite to the opening ends are joined to each other to form a substantially “L” -shaped suction / air supply flow path 74.

ワークガイド26は、略方形の厚板の4角が面取りされた形状に形成されたガイド本体61と、一つの対角に位置する面取り部の両側においてガイド本体61の板面に立設された、2個のガイド突起62及び2個のガイド突起63と、が一体に形成されている。
ガイド本体61におけるガイド突起62及びガイド突起63が立設された面の反対側の面には、垂設部71の台座79が嵌入する台座着座部69が窪入形成されている。垂設部71(ジョイント部材27)の端面に形成された台座79が台座着座部69に係合して固定されることで、ワークガイド26が、垂設部71に懸吊支持されている。
The work guide 26 is erected on the plate surface of the guide main body 61 on both sides of the chamfered portion located at one diagonal and the guide main body 61 formed in a shape in which four corners of a substantially square thick plate are chamfered. Two guide protrusions 62 and two guide protrusions 63 are integrally formed.
A pedestal seat portion 69 into which the pedestal 79 of the suspending portion 71 is fitted is recessedly formed on the surface of the guide body 61 opposite to the surface on which the guide protrusion 62 and the guide protrusion 63 are erected. The pedestal 79 formed on the end surface of the hanging portion 71 (joint member 27) is engaged with and fixed to the pedestal seating portion 69, whereby the work guide 26 is suspended and supported by the hanging portion 71.

上述した吸引保持ヘッド25は、ワークガイド26に懸吊支持されている。吸引保持ヘッド25がワークガイド26に懸吊支持されている状態で、ワークガイド26の略中央に形成された吸引気体孔64は、蓋ケース52の略中央に形成された吸引気体孔54と連通している。   The suction holding head 25 described above is suspended and supported by the work guide 26. In a state where the suction holding head 25 is suspended and supported by the work guide 26, the suction gas hole 64 formed in the approximate center of the work guide 26 communicates with the suction gas hole 54 formed in the approximate center of the lid case 52. is doing.

<ワークガイド>
次に、ワークガイド26について、図7を参照して詳細に説明する。図7は、ワークガイドの形状を示す図である。図7(a)は、ワークガイドの外観斜視図であり、図7(b)は、ワークガイドの平面図であり、図7(c)は、ワークガイドの側面図である。
<Work guide>
Next, the work guide 26 will be described in detail with reference to FIG. FIG. 7 is a diagram showing the shape of the work guide. FIG. 7A is an external perspective view of the work guide, FIG. 7B is a plan view of the work guide, and FIG. 7C is a side view of the work guide.

上述したように、ワークガイド26は、ガイド本体61と、2個のガイド突起62及び2個のガイド突起63と、ガイド本体61の略中央に形成された吸引気体孔64と、台座着座部69とを備えている。
図7に示すように、ガイド本体61は、略方形の板の4角が面取りされた形状を有している。面取りされた角の一つにおいて、面取りの両側の各辺の端に、それぞれガイド突起62が立設されている。ガイド突起62の内側(ガイド本体61の中央側)のガイド面62aは、ガイド本体61の本体面61aに略垂直に形成されている。2個所のガイド面62aは、本体面61aに平行な方向において、互いに略直交する方向を向いている。ガイド本体61上に位置したワークは、それぞれのガイド突起62に当接することで、2方向への移動を規制される。
ガイド突起62が形成されている角部と対角の位置の角部には、ガイド本体61の中心に関してガイド突起62と略点対称の位置に、ガイド突起63が立設されている。ガイド突起63の内側の面も、ガイド本体61の本体面61aに略垂直に形成されている。2個所のガイド面63aは、本体面61aに平行な方向において、互いに略直交する方向を向いている。ガイド本体61上に位置したワークは、それぞれのガイド突起63に当接することで、ガイド突起62に当接することで移動を規制される方向と反対側の2方向への移動を規制される。
ガイド突起62の方が、ガイド突起63より立設高さが低くなっている。ガイド突起62が、規制部材に相当する。ガイド突起63が、第二の規制部材に相当する。
As described above, the work guide 26 includes the guide main body 61, the two guide protrusions 62 and the two guide protrusions 63, the suction gas hole 64 formed substantially at the center of the guide main body 61, and the base seat portion 69. And.
As shown in FIG. 7, the guide body 61 has a shape in which four corners of a substantially square plate are chamfered. In one of the chamfered corners, guide protrusions 62 are erected at the ends of the sides on both sides of the chamfer. A guide surface 62 a on the inner side of the guide protrusion 62 (center side of the guide main body 61) is formed substantially perpendicular to the main body surface 61 a of the guide main body 61. The two guide surfaces 62a face in directions substantially orthogonal to each other in a direction parallel to the main body surface 61a. The workpiece positioned on the guide main body 61 is restricted from moving in two directions by coming into contact with the respective guide protrusions 62.
A guide protrusion 63 is erected at a position diagonally opposite the guide protrusion 62 with respect to the center of the guide body 61 at a corner opposite to the corner where the guide protrusion 62 is formed. The inner surface of the guide protrusion 63 is also formed substantially perpendicular to the main body surface 61 a of the guide main body 61. The two guide surfaces 63a face in directions substantially orthogonal to each other in a direction parallel to the main body surface 61a. The work positioned on the guide main body 61 is in contact with the guide protrusions 63, and the movement in two directions opposite to the direction in which the movement is restricted is in contact with the guide protrusions 62.
The guide protrusion 62 has a lower standing height than the guide protrusion 63. The guide protrusion 62 corresponds to a restriction member. The guide protrusion 63 corresponds to a second restricting member.

<吸引保持端末>
次に、吸引保持端末90について、図8を参照して説明する。4個の吸引パット21と、吸引保持ヘッド25と、ワークガイド26との組を吸引保持端末90と表記する。図8は、吸引保持端末の形状を示す外観図である。図8(a)は、吸引保持端末の側面図であり、図8(b)は、吸引保持端末を吸引保持面側から見た平面図である。
<Suction holding terminal>
Next, the suction holding terminal 90 will be described with reference to FIG. A set of the four suction pads 21, the suction holding head 25, and the work guide 26 is referred to as a suction holding terminal 90. FIG. 8 is an external view showing the shape of the suction holding terminal. FIG. 8A is a side view of the suction holding terminal, and FIG. 8B is a plan view of the suction holding terminal viewed from the suction holding surface side.

図8(a)に示した装着孔軸42aは、上述した装置取付部24の装着孔42の中心軸である装着孔軸42aである。軸40aは、取付孔軸41aに平行な軸であり、吸引保持ハンド20がロボット機構30のハンド保持機構34に取り付けられた状態では、軸40aの方向が鉛直方向である。装着孔軸42aと軸40aとが互いに傾いていることを明示するために、傾き角度を大きくして図示しているが、実際の傾き角度は、数度である。   The mounting hole shaft 42a shown in FIG. 8A is a mounting hole shaft 42a that is the central axis of the mounting hole 42 of the device mounting portion 24 described above. The shaft 40a is an axis parallel to the mounting hole shaft 41a, and in a state where the suction holding hand 20 is attached to the hand holding mechanism 34 of the robot mechanism 30, the direction of the shaft 40a is the vertical direction. In order to clearly show that the mounting hole shaft 42a and the shaft 40a are inclined with respect to each other, the inclination angle is enlarged and illustrated, but the actual inclination angle is several degrees.

上述したように、4個の吸引パット21は、吸引保持ヘッド25のヘッドケース51に固定されており、吸引保持ヘッド25は、ワークガイド26のガイド本体61上に固定されている。ワークガイド26は、ジョイント部材27に固定されている。ジョイント部材27の装着部72は、装置取付部24の装着孔42に嵌合して固定されている。この構成により、図8に示すように、4個の吸引パット21の吸引保持面182に平行な方向は、装着孔軸42aと略直交する方向であり、水平方向(鉛直方向である軸40aの方向と直交する方向)に対して傾いている。4個の吸引パット21の吸引保持面182を総称して、吸引保持面182Aと表記する。装着孔軸42aは、吸引保持面182Aの略中央に位置している。   As described above, the four suction pads 21 are fixed to the head case 51 of the suction holding head 25, and the suction holding head 25 is fixed on the guide main body 61 of the work guide 26. The work guide 26 is fixed to the joint member 27. The mounting portion 72 of the joint member 27 is fitted and fixed in the mounting hole 42 of the device mounting portion 24. With this configuration, as shown in FIG. 8, the direction parallel to the suction holding surface 182 of the four suction pads 21 is a direction substantially orthogonal to the mounting hole shaft 42a, and is horizontal (the vertical direction of the shaft 40a). In a direction perpendicular to the direction). The suction holding surfaces 182 of the four suction pads 21 are collectively referred to as a suction holding surface 182A. The mounting hole shaft 42a is located approximately at the center of the suction holding surface 182A.

ガイド突起62は、装着孔軸42aの軸方向において、吸引保持面182Aより、例えば対向基板150の厚さの半分程度、突出している。ガイド突起63は、装着孔軸42aの軸方向において、吸引保持面182Aより、例えば対向基板150の厚さの1.2倍程度、突出している。
吸引保持面182Aを囲む4方向には、それぞれガイド突起62又はガイド突起63が配設されており、吸引保持面182Aに吸引保持された対向基板150などのワークは、ガイド突起62又はガイド突起63によって、吸引保持面182Aに平行な方向への移動を規制される。言い換えると、ワークがガイド本体61と重なる位置に在り、ワークの1個の角が近接して配設された2個のガイド突起62の間に在って、当該角を構成する2辺がそれぞれ1個のガイド突起62に略当接しており、当該角の対角に位置する角も近接して配設された他の2個のガイド突起63の間に在って、その角を構成する2辺がそれぞれ1個のガイド突起63に略当接している状態にワークを位置させることができる位置に、4個のガイド突起62又はガイド突起63が配設されている。4個のガイド突起62又はガイド突起63によって、略長方形又は正方形のワークの、ガイド本体61の面方向の移動を規制することができる。4個のガイド突起62又はガイド突起63の位置を変えることによって、異なる大きさや平面形状のワークを吸引保持することができる。
なお、図示したガイド突起62及びガイド突起63は、明確に図示するために大きく示してあるが、ガイド突起62及びガイド突起63の大きさは、加えられる力に耐えられる強度が得られる大きさであれば充分である。
The guide protrusion 62 protrudes from the suction holding surface 182A, for example, about half the thickness of the counter substrate 150 in the axial direction of the mounting hole shaft 42a. The guide protrusion 63 protrudes, for example, about 1.2 times the thickness of the counter substrate 150 from the suction holding surface 182A in the axial direction of the mounting hole shaft 42a.
Guide projections 62 or guide projections 63 are arranged in four directions surrounding the suction holding surface 182A, and the workpiece such as the counter substrate 150 sucked and held by the suction holding surface 182A is guided by the guide projections 62 or the guide projections 63. Therefore, the movement in the direction parallel to the suction holding surface 182A is restricted. In other words, the workpiece is in a position where it overlaps with the guide main body 61, and one corner of the workpiece is between two guide projections 62 arranged close to each other, and the two sides constituting the corner are respectively A corner that is substantially in contact with one guide projection 62 and located at the opposite corner of the corner is between the other two guide projections 63 disposed in proximity to each other to form the corner. Four guide protrusions 62 or guide protrusions 63 are arranged at positions where the workpiece can be positioned in a state where the two sides are substantially in contact with one guide protrusion 63. By the four guide projections 62 or the guide projections 63, the movement of the substantially rectangular or square workpiece in the surface direction of the guide main body 61 can be restricted. By changing the positions of the four guide protrusions 62 or the guide protrusions 63, workpieces having different sizes or planar shapes can be sucked and held.
The guide protrusions 62 and the guide protrusions 63 shown in the figure are shown large for the sake of clarity, but the guide protrusions 62 and the guide protrusions 63 are large enough to withstand the applied force. If there is enough.

<搬送>
次に、吸引保持ハンド20によって対向基板150を吸引保持、移動、及び着座する搬送工程について、図9及び図10を参照して説明する。搬送工程は、搬送用パレット100に置かれた対向基板150を吸引保持し、加工用パレット120の着座領域121に着座させて整列させる工程である。図9は、対向基板の搬送工程の各工程を示すフローチャートである。図10は、対向基板の搬送工程の各工程における吸引保持端末と対向基板との位置関係を示す説明図である。
<Transport>
Next, a transporting process in which the counter substrate 150 is sucked, held, moved, and seated by the suction holding hand 20 will be described with reference to FIGS. 9 and 10. The transporting process is a process of sucking and holding the counter substrate 150 placed on the transporting pallet 100 and seating the counter substrate 150 on the seating region 121 of the processing pallet 120 for alignment. FIG. 9 is a flowchart showing each step of the counter substrate transfer step. FIG. 10 is an explanatory diagram showing the positional relationship between the suction holding terminal and the counter substrate in each step of the counter substrate transfer process.

最初に、図9のステップS1では、ロボット機構30によって吸引保持ハンド20を移動させて、吸引保持端末90が搬送用パレット100に置かれた対向基板150を吸引保持できる吸引位置に移動させる。後述するが、後工程で吸引保持端末90に対する対向基板150の位置合わせを実施するため、ステップS1における対向基板150の位置に対する吸引保持端末90の位置精度は、図10(a)に示すように、ガイド突起62及びガイド突起63の間に対向基板150が入れば充分である。   First, in step S <b> 1 of FIG. 9, the suction holding hand 20 is moved by the robot mechanism 30, and the suction holding terminal 90 is moved to a suction position where the counter substrate 150 placed on the transfer pallet 100 can be sucked and held. As will be described later, since the positioning of the counter substrate 150 with respect to the suction holding terminal 90 is performed in a later process, the positional accuracy of the suction holding terminal 90 with respect to the position of the counter substrate 150 in step S1 is as shown in FIG. It is sufficient if the counter substrate 150 is inserted between the guide protrusion 62 and the guide protrusion 63.

図10に示した装着孔軸42aは、上述した装置取付部24の装着孔42の中心軸である装着孔軸42aである。軸40aは、上述したように、装置取付部24の取付孔軸41aに平行な軸であり、搬送工程は吸引保持ハンド20がロボット機構30のハンド保持機構34に取り付けられた状態の搬送装置10を用いて実施されるため、軸40aの方向が鉛直方向である。したがって、装着孔軸42aは鉛直方向に対して傾いており、装着孔軸42aに直交する吸引保持面182Aは、水平面に対して傾いている。装着孔軸42aと軸40aとが互いに傾いていることを明示するために、傾き角度を大きくして図示しているが、実際の傾き角度は、数度である。   The mounting hole shaft 42a shown in FIG. 10 is a mounting hole shaft 42a that is the central axis of the mounting hole 42 of the device mounting portion 24 described above. As described above, the shaft 40 a is a shaft parallel to the mounting hole shaft 41 a of the device mounting portion 24, and the transporting device 10 in a state where the suction holding hand 20 is attached to the hand holding mechanism 34 of the robot mechanism 30 in the transporting process. Therefore, the direction of the shaft 40a is the vertical direction. Therefore, the mounting hole shaft 42a is inclined with respect to the vertical direction, and the suction holding surface 182A orthogonal to the mounting hole shaft 42a is inclined with respect to the horizontal plane. In order to clearly show that the mounting hole shaft 42a and the shaft 40a are inclined with respect to each other, the inclination angle is enlarged and illustrated, but the actual inclination angle is several degrees.

次に、図9のステップS2では、図10(b)に示すように、吸引保持端末90によって対向基板150を、非接触で吸引保持する。この工程は、気体供給源28から吸引パット21に圧縮空気を送り、旋回流発生室181に負圧を発生させていることで、ステップS1を実施することによって、ステップS1の完了と略同時に、実施される。なお、図10では、対向基板150と吸引パット21とが接して示されているが、正確には、対向基板150と吸引パット21との間には、微小な隙間が存在する。   Next, in step S2 of FIG. 9, as shown in FIG. 10B, the counter substrate 150 is sucked and held by the suction holding terminal 90 in a non-contact manner. In this process, compressed air is sent from the gas supply source 28 to the suction pad 21, and negative pressure is generated in the swirl flow generation chamber 181. By performing Step S1, almost simultaneously with the completion of Step S1, To be implemented. In FIG. 10, the counter substrate 150 and the suction pad 21 are shown in contact with each other, but precisely, a minute gap exists between the counter substrate 150 and the suction pad 21.

次に、図9のステップS3では、図10(c)に示すように、対向基板150の端面をガイド突起62に当接させることで、対向基板150を、吸引保持端末90(搬送装置10)に対して位置決めする。
吸引保持面182Aが水平面に対して傾いていることとから、対向基板150に加わる重力によって吸引保持面182Aに平行な方向の力が発生し、対向基板150に加わる。吸引パット21が非接触で対向基板150を吸引保持しているため、対向基板150は吸引保持面182Aの面方向に摺動自在に保持されている。吸引保持面182Aに平行な方向の力が対向基板150に加わることと、対向基板150は吸引保持面182Aの面方向に摺動自在に保持されていることとによって、対向基板150は吸引保持面182Aに沿って、傾いた吸引保持面182Aの低い側に、移動する。傾いた吸引保持面182Aの低い側には、対向基板150の移動を規制可能なガイド突起62が形成されているため、移動した対向基板150の端面がガイド突起62に当接する。このように、ステップS3の工程は、ステップS2の完了と略同時に、自動的に実施される。
上述したように、ガイド突起62は、装着孔軸42aの軸方向において、吸引保持面182Aより、例えば対向基板150の厚さの半分程度、突出している。このため、対向基板150は、厚さの半分程度がガイド突起62よりとび出した状態で保持されている。
Next, in step S3 of FIG. 9, as shown in FIG. 10C, the counter substrate 150 is held by the suction holding terminal 90 (the transfer device 10) by bringing the end surface of the counter substrate 150 into contact with the guide protrusion 62. Position with respect to.
Since the suction holding surface 182A is inclined with respect to the horizontal plane, a force in a direction parallel to the suction holding surface 182A is generated by the gravity applied to the counter substrate 150 and applied to the counter substrate 150. Since the suction pad 21 holds and holds the counter substrate 150 in a non-contact manner, the counter substrate 150 is slidably held in the surface direction of the suction holding surface 182A. The counter substrate 150 is supported by the suction holding surface by applying a force in a direction parallel to the suction holding surface 182A to the counter substrate 150 and holding the counter substrate 150 slidably in the surface direction of the suction holding surface 182A. It moves to the lower side of the inclined suction holding surface 182A along 182A. Since the guide protrusion 62 capable of restricting the movement of the counter substrate 150 is formed on the lower side of the inclined suction holding surface 182A, the end surface of the counter substrate 150 that has moved contacts the guide protrusion 62. Thus, the process of step S3 is automatically performed substantially simultaneously with the completion of step S2.
As described above, the guide protrusion 62 protrudes from the suction holding surface 182A, for example, about half the thickness of the counter substrate 150 in the axial direction of the mounting hole shaft 42a. For this reason, the counter substrate 150 is held in a state where about half of the thickness protrudes from the guide protrusion 62.

次に、図9のステップS4では、ロボット機構30によって、対向基板150を吸引保持した吸引保持ハンド20を移動させて、対向基板150を吸引保持した吸引保持端末90が加工用パレット120における所定の着座領域121に臨む位置に、移動させる。吸引保持端末90が所定の着座領域121に臨む位置を、吸引保持端末90の着座実施位置と表記する。   Next, in step S <b> 4 of FIG. 9, the suction holding hand 20 that sucks and holds the counter substrate 150 is moved by the robot mechanism 30, and the suction holding terminal 90 that sucks and holds the counter substrate 150 is a predetermined in the processing pallet 120. Move to a position facing the seating area 121. A position where the suction holding terminal 90 faces the predetermined seating area 121 is referred to as a seating execution position of the suction holding terminal 90.

次に、図9のステップS5では、図10(d)に示すように、対向基板150のガイド突起62に当接していた端面を、加工用パレット120における所定の着座領域121の端に形成されて着座領域121の範囲を規定している位置規定壁122に当接させる。対向基板150は、厚さの半分程度がガイド突起62よりとび出した状態で保持されているため、とび出した部分を位置規定壁122に当接させることができる。
対向基板150は、吸引保持面182Aが水平方向に対して傾いていることによって、対向基板150に加わる重力の吸引保持面182Aに平行な方向の分力が作用し、当該分力によって、ガイド突起62に当接しているため、対向基板150がガイド突起62に当接する力は微小な力である。このため、対向基板150が位置規定壁122に当接させられることで、対向基板150は、容易にガイド突起62から離されて、吸引保持面182Aに平行な方向の位置を位置規定壁122によって規定される状態で、吸引保持ハンド20に吸引保持されている。
Next, in step S5 of FIG. 9, as shown in FIG. 10D, the end face that has been in contact with the guide protrusion 62 of the counter substrate 150 is formed at the end of a predetermined seating region 121 in the processing pallet 120. And a position defining wall 122 that defines the range of the seating area 121. Since the counter substrate 150 is held in a state in which about half of the thickness protrudes from the guide protrusion 62, the protruding portion can be brought into contact with the position defining wall 122.
Since the suction holding surface 182A is inclined with respect to the horizontal direction, the counter substrate 150 has a component force in a direction parallel to the suction holding surface 182A of gravity applied to the counter substrate 150. Since the counter substrate 150 is in contact with the guide protrusion 62, the force with which the counter substrate 150 is in contact with the guide protrusion 62 is very small. For this reason, when the counter substrate 150 is brought into contact with the position defining wall 122, the counter substrate 150 is easily separated from the guide protrusion 62, and the position in the direction parallel to the suction holding surface 182A is set by the position defining wall 122. In a prescribed state, the suction holding hand 20 holds the suction.

対向基板150を位置規定壁122に向けて接近させる方向は、図10(d)に矢印bで示したように、水平面に対して、吸引保持面182Aが傾いた方向と同じ方向に傾いた方向であることが好ましい。傾いた方向から接近させることで、位置規定壁122に対向基板150の端面を当接させるために必要な、位置規定壁122に対する対向基板150の端面の、水平方向における位置精度を大きくすることができる。図10(d)に二点鎖線で示した対向基板150のように、吸引保持端末90に吸引保持された対向基板150が着座領域121の底に当接した場合でも、対向基板150が吸引保持面182Aに平行な方向に逃げる可能性が高いため、対向基板150が吸引パット21と加工用パレット120との間に挟まれる可能性を小さくすることができる。   The direction in which the counter substrate 150 is approached toward the position defining wall 122 is a direction inclined in the same direction as the direction in which the suction holding surface 182A is inclined with respect to the horizontal plane, as indicated by an arrow b in FIG. It is preferable that By approaching from the inclined direction, it is possible to increase the positional accuracy in the horizontal direction of the end surface of the counter substrate 150 with respect to the position defining wall 122, which is necessary for bringing the end surface of the counter substrate 150 into contact with the position defining wall 122. it can. The counter substrate 150 is sucked and held even when the counter substrate 150 sucked and held by the sucking and holding terminal 90 abuts against the bottom of the seating region 121 like the counter substrate 150 indicated by a two-dot chain line in FIG. Since there is a high possibility of escaping in a direction parallel to the surface 182A, the possibility that the counter substrate 150 is sandwiched between the suction pad 21 and the processing pallet 120 can be reduced.

次に、図9のステップS6では、吸引パット21に対する圧縮空気の供給を停止して、吸引保持状態を解除することで、対向基板150を加工用パレット120の着座領域121に着座させる。吸引保持端末90に吸引保持された対向基板150は、図10(e)に二点鎖線で示した対向基板150のように位置規定壁122に当接している。吸引保持状態が解除されると、対向基板150には水平方向の力が加えられる可能性はほとんどないため、重力によって鉛直方向に落下して、端面を位置規定壁122に略接した状態で、着座領域121に着座する。
ステップS6を実施して、1個の対向基板150を搬送用パレット100から搬送して、加工用パレット120の着座領域121に着座させる工程を終了する。この工程を繰り返すことによって、搬送用パレット100に載せられた対向基板150を搬送して、加工用パレット120の上に整列させる。
Next, in step S <b> 6 of FIG. 9, the supply of compressed air to the suction pad 21 is stopped and the suction holding state is released, so that the counter substrate 150 is seated on the seating region 121 of the processing pallet 120. The counter substrate 150 sucked and held by the suction holding terminal 90 is in contact with the position defining wall 122 like the counter substrate 150 indicated by a two-dot chain line in FIG. When the suction holding state is released, there is almost no possibility that a force in the horizontal direction is applied to the counter substrate 150, so that it falls in the vertical direction due to gravity, and the end surface is substantially in contact with the position defining wall 122. Sit in the seating area 121.
Step S6 is performed, and the process of carrying one counter substrate 150 from the carrying pallet 100 and seating it on the seating region 121 of the processing pallet 120 is completed. By repeating this process, the counter substrate 150 placed on the transfer pallet 100 is transferred and aligned on the processing pallet 120.

以下、実施形態による効果を記載する。本実施形態によれば、以下の効果が得られる。
(1)吸引保持面182Aが水平面に対して傾かせることによって、対向基板150に加わる重力によって吸引保持面182Aに平行な方向の力を、対向基板150に加えることができる。
Hereinafter, the effect by embodiment is described. According to the present embodiment, the following effects can be obtained.
(1) When the suction holding surface 182A is inclined with respect to the horizontal plane, a force in a direction parallel to the suction holding surface 182A can be applied to the counter substrate 150 by gravity applied to the counter substrate 150.

(2)吸引パット21が非接触で対向基板150を吸引保持しているため、対向基板150は吸引保持面182Aの面方向に摺動自在に保持されていることから、対向基板150は、吸引保持面182Aに平行な方向の力によって容易に移動させることができる。   (2) Since the suction pad 21 holds and holds the counter substrate 150 in a non-contact manner, the counter substrate 150 is slidably held in the surface direction of the suction holding surface 182A. It can be easily moved by a force in a direction parallel to the holding surface 182A.

(3)傾いた吸引保持面182Aの低い側には、対向基板150の移動を規制可能なガイド突起62が形成されているため、対向基板150の端面がガイド突起62に当接することで、対向基板150を係止することができる。対向基板150の端面がガイド突起62に当接した状態にすることで、吸引保持端末90(吸引保持ハンド20)に対して対向基板150の位置を一定位置にすることができる。   (3) Since the guide protrusion 62 capable of restricting the movement of the counter substrate 150 is formed on the lower side of the inclined suction holding surface 182A, the end surface of the counter substrate 150 contacts the guide protrusion 62, so The substrate 150 can be locked. By setting the end surface of the counter substrate 150 in contact with the guide protrusion 62, the position of the counter substrate 150 can be set to a fixed position with respect to the suction holding terminal 90 (suction holding hand 20).

(4)吸引保持端末90に吸引保持された対向基板150は、吸引保持面182Aが水平面に対して傾かせて形成されていることによって、ガイド突起62に当接して、吸引保持端末90(吸引保持ハンド20)に対して一定の位置に位置決めされる。このため、吸引保持ハンド20によって対向基板150を吸引保持する時点においては、対向基板150を吸引保持端末90に対して正確に位置決めすることは不要である。これにより、対向基板150を吸引保持するために吸引保持端末90を対向基板150に接近させる際の、対向基板150に対する吸引保持端末90の位置精度の許容誤差を大きくすることができる。   (4) The counter substrate 150 sucked and held by the suction holding terminal 90 is in contact with the guide protrusion 62 by the suction holding surface 182A being inclined with respect to the horizontal plane, so that the suction holding terminal 90 (suction It is positioned at a fixed position with respect to the holding hand 20). For this reason, when the counter substrate 150 is sucked and held by the suction holding hand 20, it is not necessary to accurately position the counter substrate 150 with respect to the suction holding terminal 90. Thereby, when the suction holding terminal 90 is brought close to the counter substrate 150 in order to suck and hold the counter substrate 150, the tolerance of the positional accuracy of the suction holding terminal 90 with respect to the counter substrate 150 can be increased.

(5)ガイド突起62は、装着孔軸42aの軸方向において、吸引保持面182Aより、例えば対向基板150の厚さの半分程度、突出している。このため、対向基板150は、厚さの半分程度がガイド突起62よりとび出した状態で保持されている。これにより、対向基板150の端面がガイド突起62に当接した状態のまま、対向基板150の端面を位置規定壁122に当接させることができる。   (5) The guide protrusion 62 protrudes from the suction holding surface 182A in the axial direction of the mounting hole shaft 42a, for example, about half the thickness of the counter substrate 150. For this reason, the counter substrate 150 is held in a state where about half of the thickness protrudes from the guide protrusion 62. Accordingly, the end surface of the counter substrate 150 can be brought into contact with the position defining wall 122 while the end surface of the counter substrate 150 is in contact with the guide protrusion 62.

(6)対向基板150を着座領域121に着座させる際には、対向基板150の端面を位置規定壁122に当接させる。対向基板150の端面を位置規定壁122に当接させることにとって、対向基板150の位置規定壁122に対する位置を一定の位置にすることができる。これにより、対向基板150を加工用パレット120の着座領域121における所定の位置に位置決めすることができる。   (6) When the counter substrate 150 is seated on the seating region 121, the end surface of the counter substrate 150 is brought into contact with the position defining wall 122. By bringing the end surface of the counter substrate 150 into contact with the position defining wall 122, the position of the counter substrate 150 with respect to the position defining wall 122 can be set to a fixed position. Thereby, the counter substrate 150 can be positioned at a predetermined position in the seating region 121 of the processing pallet 120.

(7)対向基板150の端面を位置規定壁122に当接させることで、対向基板150を加工用パレット120の着座領域121における所定の位置に位置決めすることができるため、対向基板150を着座領域121に着座させる際の、着座領域121に対向基板150の位置精度の許容誤差を大きくすることができる。   (7) Since the counter substrate 150 can be positioned at a predetermined position in the seating region 121 of the processing pallet 120 by bringing the end surface of the counter substrate 150 into contact with the position defining wall 122, the counter substrate 150 is placed in the seating region. The tolerance of the positional accuracy of the counter substrate 150 in the seating area 121 when seated on the seat 121 can be increased.

(8)ガイド突起63は、傾いた吸引保持面182Aの高い側に配設されており、吸引保持面182Aからの高さがガイド突起62より高くなっている。これにより、吸引保持端末90が搬送用パレット100に置かれた対向基板150を吸引保持する際に、ガイド突起63と対向基板150との距離が小さくなる。これにより、吸引保持端末90が対向基板150に近づく過程において、吸引保持端末90と対向基板150との距離が遠い状態でも、ガイド突起63が対向基板150の位置を規制する機能を有する状態にすることができる。   (8) The guide protrusion 63 is disposed on the higher side of the inclined suction holding surface 182A, and the height from the suction holding surface 182A is higher than the guide protrusion 62. Thus, when the suction holding terminal 90 sucks and holds the counter substrate 150 placed on the transfer pallet 100, the distance between the guide protrusion 63 and the counter substrate 150 is reduced. Thus, in the process in which the suction holding terminal 90 approaches the counter substrate 150, the guide protrusion 63 has a function of regulating the position of the counter substrate 150 even when the distance between the suction holding terminal 90 and the counter substrate 150 is long. be able to.

以上、添付図面を参照しながら好適な実施形態について説明したが、好適な実施形態は、前記実施形態に限らない。実施形態は、要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論であり、以下のように実施することもできる。   As mentioned above, although preferred embodiment was described referring an accompanying drawing, suitable embodiment is not restricted to the said embodiment. The embodiment can of course be modified in various ways without departing from the scope, and can also be implemented as follows.

(変形例1)前記実施形態においては、対向基板150を着座領域121に着座させる際には、対向基板150の端面を位置規定壁122に当接させていたが、保持対象物又は搬送対象物を着座位置に対して位置決めするために保持対象物又は搬送対象物を位置規定壁に当接させることは必須ではない。保持対象物又は搬送対象物の移動を規制する規制部材に当接させることによって、保持対象物又は搬送対象物を吸引保持ハンド又は搬送装置に対して位置決めしているため、吸引保持ハンド又は保持手段を着座位置に対して正確な位置に位置させることで、保持対象物又は搬送対象物を、着座位置に対して位置決めしてもよい。この場合、位置規定壁を必要としないため、位置規定壁のような位置を規定する部材が存在しない着座位置に対しても、保持対象物又は搬送対象物を位置決めすることができる。   (Modification 1) In the above embodiment, when the counter substrate 150 is seated on the seating region 121, the end surface of the counter substrate 150 is in contact with the position defining wall 122. It is not essential to bring the object to be held or the object to be transported into contact with the position defining wall in order to position the object relative to the seating position. Since the holding object or the conveyance object is positioned with respect to the suction holding hand or the conveying device by contacting the holding member or the conveying object with a regulating member that regulates the movement of the holding object or the conveying object, the suction holding hand or the holding means The object to be held or the object to be transported may be positioned with respect to the seating position by positioning at a position accurate with respect to the seating position. In this case, since the position defining wall is not required, the holding object or the conveyance object can be positioned even at the seating position where there is no member that defines the position, such as the position defining wall.

(変形例2)前記実施形態においては、吸引保持ハンド20は4個の吸引パット21を備えていたが、吸引保持ハンドが備える吸引パットは、4個に限らない。吸引保持する保持対象物の大きさや重量に対応した適切な吸引保持力を実現できれば、吸引保持ハンドが備える吸引パットは、いくつであってもよい。   (Modification 2) In the above-described embodiment, the suction holding hand 20 includes the four suction pads 21, but the number of suction pads included in the suction holding hand is not limited to four. Any number of suction pads may be provided in the suction holding hand as long as an appropriate suction holding force corresponding to the size and weight of the holding object to be sucked and held can be realized.

(変形例3)前記実施形態においては、ガイド本体61は略方形の平面形状を有していたが、ガイド本体の形状は略方形に限らない。ガイド本体の形状は、ワークの形状に対応した形状であればどのような形状であってもよい。   (Modification 3) In the above embodiment, the guide body 61 has a substantially square planar shape, but the shape of the guide body is not limited to a substantially square shape. The shape of the guide body may be any shape as long as it corresponds to the shape of the workpiece.

(変形例4)前記実施形態においては、装置取付部24は、取付孔41と装着孔42とが一体に形成された部材であり、取付孔軸41aと装着孔軸42aとがなす角度は固定であって、吸引保持面182Aが水平面に対する傾きは固定であったが、当該傾きが固定であることは必須ではない。例えば、装置取付部24を、取付孔41を有する部分と、装着孔42を有する部分との二体構造として、二体を、角度を変えることができる接続機構を介して接続することによって、取付孔軸41aと装着孔軸42aとがなす角度を、適宜変えられる構造にしてもよい。吸引保持工程や、位置決め工程などにおいて、吸引保持面の傾き角度をそれぞれその工程に適した角度にすることができる。水平が好ましい工程では水平にすることもできる。この場合の角度を変えることができる接続機構が、角度変更手段に相当する。   (Modification 4) In the above embodiment, the device mounting portion 24 is a member in which the mounting hole 41 and the mounting hole 42 are integrally formed, and the angle formed by the mounting hole shaft 41a and the mounting hole shaft 42a is fixed. In addition, although the inclination of the suction holding surface 182A with respect to the horizontal plane is fixed, it is not essential that the inclination is fixed. For example, the device mounting portion 24 is mounted as a two-body structure of a portion having the mounting hole 41 and a portion having the mounting hole 42 by connecting the two bodies via a connection mechanism capable of changing the angle. You may make it the structure which can change suitably the angle which the hole axis | shaft 41a and the mounting hole axis | shaft 42a make. In the suction holding process, the positioning process, and the like, the inclination angle of the suction holding surface can be set to an angle suitable for each process. In processes where horizontal is preferred, it can also be horizontal. The connection mechanism that can change the angle in this case corresponds to the angle changing means.

(変形例5)前記実施形態においては、吸引保持ハンド20は、傾いた吸引保持面182Aの高い側に配設されたガイド突起63を備えていたが、ガイド突起63のような第二の規制部材を設けることは必須ではない。吸引保持工程が終了して吸引保持された状態の保持対象物及び搬送対象物は、規制部材に当接しており、第二の規制部材に位置規制されることが必要となる可能性は小さいため、吸引保持ハンド又は保持手段は、ガイド突起63のような第二の規制部材を設けない構成であってもよい。   (Modification 5) In the above-described embodiment, the suction holding hand 20 includes the guide protrusion 63 disposed on the higher side of the inclined suction holding surface 182A. It is not essential to provide a member. The object to be held and the object to be conveyed that have been sucked and held after the suction and holding step are in contact with the restricting member, and it is unlikely that the position is required to be restricted by the second restricting member. The suction holding hand or the holding means may be configured such that the second restricting member such as the guide protrusion 63 is not provided.

10…搬送装置、20…吸引保持ハンド、21…吸引パット、24…装置取付部、26…ワークガイド、27…ジョイント部材、28…気体供給源、30…ロボット機構、34…ハンド保持機構、38…装置機台、39…搬送装置制御部、40a…軸、41…取付孔、41a…取付孔軸、42…装着孔、42a…装着孔軸、51…ヘッドケース、61…ガイド本体、61a…本体面、62…ガイド突起、62a…ガイド面、63…ガイド突起、63a…ガイド面、74…吸引給気流路、84…主圧空溝、85…副圧空溝、88…圧空溝、90…吸引保持端末、100…搬送用パレット、120…加工用パレット、121…着座領域、122…位置規定壁、140…液晶変調パネル、150…対向基板、155…TFTアレイ基板、157…液晶層、181…旋回流発生室、182…吸引保持面、182A…吸引保持面、183…気体噴出流路、184…内周面、185…チャンバ流路。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Conveying device, 20 ... Suction holding hand, 21 ... Suction pad, 24 ... Device mounting part, 26 ... Work guide, 27 ... Joint member, 28 ... Gas supply source, 30 ... Robot mechanism, 34 ... Hand holding mechanism, 38 DESCRIPTION OF SYMBOLS EQUIPMENT MACHINE, 39 ... CONVEYING DEVICE CONTROL UNIT, 40a ... SHAFT, 41 ... INSTALLATION HOLE, 41A ... INSTALLATION HOLE SHAFT, 42 ... INSTALLATION HOLE, 42A ... INSTALLATION HOLE SHAFT, 51 ... HEAD CASE, 61 ... Guide body, 61a ... Main body surface, 62 ... guide protrusion, 62a ... guide surface, 63 ... guide protrusion, 63a ... guide surface, 74 ... suction air supply channel, 84 ... main pressure air groove, 85 ... sub pressure air groove, 88 ... pressure air groove, 90 ... suction Holding terminal, 100... Pallet for transfer, 120... Pallet for processing, 121... Seating area, 122... Position defining wall, 140. Layers, 181 ... swirling flow generating chamber, 182 ... sucking and holding surface, 182A ... sucking and holding surface, 183 ... gas ejection passage, 184 ... inner circumferential surface, 185 ... chamber flow.

Claims (12)

旋回流発生室に発生させた気体の旋回流の中心部に生じる負圧と、前記旋回流発生室の端から側方に流出する気体とにより、保持対象物を非接触で吸引保持する吸引保持ハンドであって、
前記旋回流発生室が開口しており、水平方向(鉛直方向に直交する方向)に対して傾いている吸引保持面と、
前記吸引保持面に対して、傾いた前記吸引保持面における鉛直方向において低い側に配設された、前記吸引保持面に平行な方向の少なくとも2方向への前記保持対象物の移動を規制する規制部材と、
前記吸引保持面が傾いた状態を維持して、前記吸引保持面及び前記規制部材を支持する支持部材と、を備えることを特徴とする吸引保持ハンド。
Suction holding that holds the object to be held in a non-contact manner by the negative pressure generated in the center of the swirling flow of the gas generated in the swirling flow generating chamber and the gas flowing out from the end of the swirling flow generating chamber to the side. Hand,
The swirl flow generating chamber is open, and a suction holding surface inclined with respect to a horizontal direction (a direction perpendicular to the vertical direction);
Restriction for restricting movement of the object to be held in at least two directions parallel to the suction holding surface, which is disposed on the lower side in the vertical direction of the inclined suction holding surface with respect to the suction holding surface. A member,
A suction holding hand comprising: a support member that supports the suction holding surface and the regulating member while maintaining the state in which the suction holding surface is inclined.
前記規制部材の前記吸引保持面からの高さ寸法は、前記保持対象物の厚さより小さいことを特徴とする、請求項1に記載の吸引保持ハンド。   The suction holding hand according to claim 1, wherein a height dimension of the restriction member from the suction holding surface is smaller than a thickness of the holding object. 前記吸引保持面に対して、傾いた前記吸引保持面における鉛直方向において高い側に配設された、前記吸引保持面に平行な方向の少なくとも2方向への前記保持対象物の移動を規制する第二の規制部材をさらに備え、前記第二の規制部材の前記吸引保持面からの高さ寸法は、前記保持対象物の厚さより大きいことを特徴とする、請求項1又は2に記載の吸引保持ハンド。   A first member for restricting movement of the object to be held in at least two directions parallel to the suction holding surface, which is disposed on a higher side in the vertical direction of the suction holding surface inclined with respect to the suction holding surface. The suction holding device according to claim 1, further comprising a second regulating member, wherein a height dimension of the second regulating member from the suction holding surface is larger than a thickness of the holding object. hand. 前記吸引保持面の水平方向に対する角度を変える角度変更手段をさらに備えることを特徴とする、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の吸引保持ハンド。   The suction holding hand according to any one of claims 1 to 3, further comprising angle changing means for changing an angle of the suction holding surface with respect to a horizontal direction. 旋回流発生室に発生させた気体の旋回流の中心部に生じる負圧と、前記旋回流発生室の端から側方に流出する気体とにより、搬送対象物を非接触で吸引保持する保持手段を備え、前記保持手段によって保持した前記搬送対象物を搬送する搬送装置であって、
前記保持手段は、前記旋回流発生室が開口しており、水平方向(鉛直方向に直交する方向)に対して傾いている吸引保持面と、
前記吸引保持面に対して、傾いた前記吸引保持面における鉛直方向において低い側に配設された、前記吸引保持面に平行な方向の少なくとも2方向への前記搬送対象物の移動を規制する規制部材と、
前記吸引保持面が傾いた状態を維持して、前記吸引保持面及び前記規制部材を支持する支持部材と、を備えることを特徴とする搬送装置。
Holding means for sucking and holding the object to be conveyed in a non-contact manner by the negative pressure generated in the center of the swirling flow of the gas generated in the swirling flow generating chamber and the gas flowing out from the end of the swirling flow generating chamber to the side A transfer device for transferring the transfer object held by the holding means,
The holding means has a suction holding surface in which the swirl flow generating chamber is open and inclined with respect to a horizontal direction (a direction perpendicular to the vertical direction);
Restriction for restricting movement of the object to be conveyed in at least two directions parallel to the suction holding surface, which is disposed on the lower side in the vertical direction of the inclined suction holding surface with respect to the suction holding surface. A member,
A conveying device comprising: a support member that supports the suction holding surface and the regulating member while maintaining the state in which the suction holding surface is inclined.
前記規制部材の前記吸引保持面からの高さ寸法は、前記搬送対象物の厚さより小さいことを特徴とする、請求項5に記載の搬送装置。   The transport apparatus according to claim 5, wherein a height dimension of the restricting member from the suction holding surface is smaller than a thickness of the transport target object. 前記保持手段は、前記吸引保持面に対して、傾いた前記吸引保持面における鉛直方向において高い側に配設された、前記吸引保持面に平行な方向の少なくとも2方向への前記搬送対象物の移動を規制する第二の規制部材をさらに備え、前記第二の規制部材の前記吸引保持面からの高さ寸法は、前記搬送対象物の厚さより大きいことを特徴とする、請求項5又は6に記載の搬送装置。   The holding means is disposed on a higher side in the vertical direction of the suction holding surface inclined with respect to the suction holding surface, and the holding object is arranged in at least two directions parallel to the suction holding surface. A second restriction member for restricting movement is further provided, and a height dimension of the second restriction member from the suction holding surface is larger than a thickness of the conveyance object. The conveying apparatus as described in. 前記吸引保持面の水平方向に対する角度を変える角度変更手段をさらに備えることを特徴とする、請求項5乃至7のいずれか一項に記載の搬送装置。   The transport apparatus according to claim 5, further comprising an angle changing unit that changes an angle of the suction holding surface with respect to a horizontal direction. 保持対象物を保持する保持方法であって、
旋回流発生室が開口しており、水平方向(鉛直方向に直交する方向)に対して傾いている吸引保持面を備える吸引保持端末の前記吸引保持面を前記保持対象物の被吸引保持面に接近させる接近工程と、
前記旋回流発生室に発生させた気体の旋回流の中心部に生じる負圧と、前記旋回流発生室の端から側方に流出する気体とにより、前記保持対象物を非接触で吸引保持する吸引保持工程と、
前記吸引保持面に対して、傾いた前記吸引保持面における鉛直方向において低い側に配設された、前記吸引保持面に平行な方向の少なくとも2方向への前記保持対象物の移動を規制する規制部材に前記保持対象物を当接させる位置決め工程と、を有することを特徴とする保持方法。
A holding method for holding a holding object,
A suction holding surface of a suction holding terminal having a suction holding surface that is open with a swirl flow generation chamber and is inclined with respect to a horizontal direction (a direction perpendicular to the vertical direction) is a suction holding surface of the holding object. An approaching process to approach,
The holding object is sucked and held in a non-contact manner by the negative pressure generated in the central portion of the swirl flow of the gas generated in the swirl flow generation chamber and the gas flowing out from the end of the swirl flow generation chamber to the side. A suction holding step;
Restriction for restricting movement of the object to be held in at least two directions parallel to the suction holding surface, which is disposed on the lower side in the vertical direction of the inclined suction holding surface with respect to the suction holding surface. And a positioning step of bringing the holding object into contact with a member.
保持した搬送対象物を予め規定された着座位置に着座させる着座方法であって、
旋回流発生室が開口しており、水平方向(鉛直方向に直交する方向)に対して傾いている吸引保持面を備える吸引保持端末に、前記旋回流発生室に発生させた気体の旋回流の中心部に生じる負圧と、前記旋回流発生室の端から側方に流出する気体とにより、吸引保持し、前記吸引保持面に対して、傾いた前記吸引保持面における鉛直方向において低い側に配設された、前記吸引保持面に平行な方向の少なくとも2方向への前記搬送対象物の移動を規制する規制部材に端面を当接させた前記搬送対象物の前記端面を、前記搬送対象物の前記着座位置に形成された位置規定壁に当接させる当接工程と、
前記搬送対象物の前記端面を、前記位置規定壁に当接させた状態で前記搬送対象物を着座させる着座工程と、を有することを特徴とする着座方法。
A seating method for seating a held transport object at a predefined seating position,
A swirl flow generating chamber is opened, and a suction holding terminal having a suction holding surface inclined with respect to a horizontal direction (a direction perpendicular to the vertical direction) is connected to the swirl flow of the gas generated in the swirl flow generating chamber. The negative pressure generated in the center and the gas flowing out from the end of the swirl flow generation chamber are sucked and held, and lower than the suction holding surface in the vertical direction of the inclined suction holding surface. The end surface of the object to be transported, the end surface of which is in contact with a regulating member that restricts movement of the object to be transported in at least two directions parallel to the suction holding surface, An abutting step of abutting against a position defining wall formed at the seating position;
A seating method comprising: a seating step of seating the transport object in a state where the end surface of the transport object is in contact with the position defining wall.
第一の位置に在る搬送対象物を第二の位置に移動させる搬送方法であって、
旋回流発生室が開口しており、水平方向(鉛直方向に直交する方向)に対して傾いている吸引保持面を備える吸引保持端末の前記吸引保持面を前記第一の位置に在る前記搬送対象物の被吸引保持面に接近させる接近工程と、
前記旋回流発生室に発生させた気体の旋回流の中心部に生じる負圧と、前記旋回流発生室の端から側方に流出する気体とにより、前記搬送対象物を非接触で吸引保持する吸引保持工程と、
前記吸引保持面に対して、傾いた前記吸引保持面における鉛直方向において低い側に配設された、前記吸引保持面に平行な方向の少なくとも2方向への前記搬送対象物の移動を規制する規制部材に前記搬送対象物の端面を当接させる位置決め工程と、
位置決めされた前記搬送対象物を前記吸引保持端末が吸引保持した状態で、前記吸引保持端末を移動させる移動工程と、
前記吸引保持端末を前記第二の位置に停止して、前記搬送対象物の吸引保持状態を解除して、前記搬送対象物を着座させる着座工程とを有することを特徴とする搬送方法。
A transport method for moving a transport object in a first position to a second position,
The conveyance in which the suction holding surface of the suction holding terminal provided with the suction holding surface having an opening in the swirl flow generation chamber and inclined with respect to the horizontal direction (direction perpendicular to the vertical direction) is in the first position An approaching step of approaching the suction holding surface of the object;
The negative pressure generated in the central portion of the swirl flow of the gas generated in the swirl flow generation chamber and the gas flowing out from the end of the swirl flow generation chamber are sucked and held in a non-contact manner. A suction holding step;
Restriction for restricting movement of the object to be conveyed in at least two directions parallel to the suction holding surface, which is disposed on the lower side in the vertical direction of the inclined suction holding surface with respect to the suction holding surface. A positioning step of bringing the end surface of the conveyance object into contact with a member;
A moving step of moving the suction holding terminal in a state where the suction holding terminal sucks and holds the positioned conveyance object;
And a seating step in which the suction holding terminal is stopped at the second position, the suction holding state of the transport target is released, and the transport target is seated.
前記第二の位置における前記搬送対象物の配置位置に形成された位置規定壁に、前記搬送対象物における前記規制部材に当接している端面を当接させる工程をさらに有することを特徴とする、請求項11に記載の搬送方法。   The method further comprises a step of abutting an end surface of the conveyance target object that is in contact with the regulating member on a position defining wall formed at an arrangement position of the conveyance target object in the second position. The transport method according to claim 11.
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