JP2010251380A - Method and apparatus for loading/unloading wafer - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and apparatus for loading/unloading a wafer for improving through-put by shortening a time to be required for opening/closing the door of a wafer cassette. <P>SOLUTION: An apparatus for loading/unloading a wafer includes a wafer cassette placement part 26 having the door 13 arranged in a take-out port and opened/closed, and placing the wafer cassette 10 for storing a plurality of wafers W; door movement mechanisms 22-25 for moving the door 13; and a waver carrying arm 30 for carrying-in/out the wafers to/of the wafer cassette 10, and the door 13 is closed in a normal case, opened immediately before carrying-in/out the wafer, and closed after carrying-in/out the wafer. The door movement mechanisms change the opening position of the door, according to the storage position of the wafer to be carried-in/out inside the wafer cassette. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、複数のウエハを収容したウエハカセットとの間でウエハを搬出・搬入するウエハローディング・アンローディング方法および装置に関し、特にウエハカセットが取り出し口に設けられた開閉されるドアを有し、通常時はドアを閉め、ウエハを搬出・搬入する直前にドアを開き、ウエハを搬出・搬入した後ドアを閉じるウエハローディング・アンローディング方法および装置に関する。   The present invention relates to a wafer loading / unloading method and apparatus for unloading / loading wafers to / from a wafer cassette containing a plurality of wafers, and in particular, has a door that is opened and closed provided at the take-out port of the wafer cassette, The present invention relates to a wafer loading / unloading method and apparatus in which a door is normally closed, the door is opened immediately before unloading / loading a wafer, and the door is closed after unloading / loading a wafer.

半導体製造工程では、工程間でウエハを搬送する必要がある。搬送中にウエハ表面が汚染されるのを防止するため、ウエハはウエハカセットに収容されて、密閉された状態で搬送される。   In a semiconductor manufacturing process, it is necessary to transfer a wafer between processes. In order to prevent contamination of the wafer surface during transfer, the wafer is accommodated in a wafer cassette and transferred in a sealed state.

図1は、広く使用されているウエハカセット10を示す図である。図1に示すように、ウエハカセット10は、内部に複数のウエハWを載置する支持部を有する本体部11と、ウエハWを搬出・搬入するためのウエハ取り出し口の枠12と、枠12に取り付け・取り外し可能なドア13と、を有する。ドア13を枠12に取り付けることにより、本体部11の内部は密閉された状態になり、内部に収容しウエハWの汚染を防止する。   FIG. 1 shows a widely used wafer cassette 10. As shown in FIG. 1, a wafer cassette 10 includes a main body portion 11 having a support portion on which a plurality of wafers W are placed, a wafer take-out port frame 12 for unloading and loading the wafer W, and a frame 12. And a door 13 that can be attached and detached. By attaching the door 13 to the frame 12, the inside of the main body portion 11 is hermetically sealed and accommodated inside to prevent contamination of the wafer W.

図2は、ドア13の開閉動作を説明する図であり、(A)はドア13を閉めた状態を、(B)はドアを開いた状態を示す。参照番号14は、カセット11に底部に設けられた脚部である。   2A and 2B are diagrams for explaining the opening / closing operation of the door 13, wherein FIG. 2A shows a state in which the door 13 is closed, and FIG. 2B shows a state in which the door is opened. Reference numeral 14 is a leg provided on the bottom of the cassette 11.

ウエハカセット10内に収容されたウエハWを処理する場合には、ウエハカセット10の枠12を、内部がクリーンな環境である処理装置の取り出し口が設けられた壁21に押し当てる。壁21の取り出し口は、移動可能な封止板22で密閉されており、処理装置の内部はクリーンな状態である。ウエハカセット10を壁21に押し当てた状態で、封止板22に設けられた接続部23は、ドア13に設けられたキーを外してドア13を空気圧による吸着により保持する。この状態で、封止板22は一旦水平方向に移動した後、下方に移動する。これにより、ウエハカセット10との間でウエハWを搬出・搬入できる状態になる。ウエハWの処理が終了して処理済みのウエハWをウエハカセット10内に戻した後、上記と逆の動作により、ドア13を枠12に取り付け、封止板22を壁21に押し当てる。この状態で、ウエハカセット10の内部および処理装置の内部は密閉された状態になる。そして、ウエハカセット10を取り外す。   When processing the wafer W accommodated in the wafer cassette 10, the frame 12 of the wafer cassette 10 is pressed against a wall 21 provided with a take-out port of a processing apparatus whose inside is a clean environment. The outlet of the wall 21 is sealed with a movable sealing plate 22, and the inside of the processing apparatus is in a clean state. In a state where the wafer cassette 10 is pressed against the wall 21, the connecting portion 23 provided on the sealing plate 22 removes the key provided on the door 13 and holds the door 13 by air suction. In this state, the sealing plate 22 once moves in the horizontal direction and then moves downward. As a result, the wafer W can be unloaded / loaded into / from the wafer cassette 10. After the processing of the wafer W is completed and the processed wafer W is returned into the wafer cassette 10, the door 13 is attached to the frame 12 and the sealing plate 22 is pressed against the wall 21 by the reverse operation. In this state, the inside of the wafer cassette 10 and the inside of the processing apparatus are sealed. Then, the wafer cassette 10 is removed.

ドア13および封止板22は、ウエハカセット10内のすべてのウエハWが搬出できる位置、すなわち全開状態まで移動する。   The door 13 and the sealing plate 22 move to a position where all the wafers W in the wafer cassette 10 can be carried out, that is, to a fully opened state.

ウエハカセット10のドア13を図2のように移動する機構は、ドアの着脱を行うウエハローディング・アンローディングに要する部分を小さくすることが可能であり、広く使用されており、規格も定められている。したがって、これ以上の説明は省略する。   The mechanism for moving the door 13 of the wafer cassette 10 as shown in FIG. 2 can reduce the portion required for wafer loading / unloading for attaching / detaching the door, and is widely used. Yes. Therefore, further explanation is omitted.

内部のウエハWがアクセス可能な状態にセットした後、ウエハカセット10内のすべてのウエハWの処理が終了して処理済みのウエハWがウエハカセット10内に戻されるまでの間、ウエハカセット10のドア13を開いたままに保持すると、処理装置内部の雰囲気がウエハカセット10内にウエハWに影響したり、処理装置の動作に伴う振動によりウエハカセット10内のウエハWがウエハカセット10外にせり出してくるという問題が生じる。特に、1枚のウエハWの処理時間が長くなると、この影響が大きくなる。   After the internal wafer W is set in an accessible state, the processing of all the wafers W in the wafer cassette 10 is completed and the processed wafers W are returned to the wafer cassette 10 until the processed wafers W are returned to the wafer cassette 10. If the door 13 is held open, the atmosphere inside the processing apparatus affects the wafer W in the wafer cassette 10, or the wafer W in the wafer cassette 10 protrudes out of the wafer cassette 10 due to vibration caused by the operation of the processing apparatus. The problem of coming. In particular, when the processing time of one wafer W is increased, this influence is increased.

そこで、ウエハカセット10から処理装置にウエハWを取り出した後、一旦ドア13を閉じ、処理装置におけるウエハWの処理が終了すると、ドア13を開き、処理済みのウエハWをウエハカセット10に戻し、次に処理するウエハWをウエハカセット10からウエハWを取り出した後、再びドア13を閉じるという動作が行われる。   Therefore, after the wafer W is taken out from the wafer cassette 10 to the processing apparatus, the door 13 is once closed, and when the processing of the wafer W in the processing apparatus is completed, the door 13 is opened, and the processed wafer W is returned to the wafer cassette 10. Next, after the wafer W to be processed is taken out from the wafer cassette 10, the operation of closing the door 13 again is performed.

特開平9−306975号公報JP-A-9-306975 特開2001−203252号公報JP 2001-203252 A

ドア13および封止板22は、上記のドア13の開閉が行われる度に、全開と全閉を繰り返す。   The door 13 and the sealing plate 22 are fully opened and fully closed each time the door 13 is opened and closed.

多数枚のウエハを収容するウエハカセット10は、ウエハカセット10の高さが高くなるため、全開動作および全閉動作に要する時間が長くなる。この長くなった時間は、処理装置のスループットを低下させる。   In the wafer cassette 10 that accommodates a large number of wafers, the height of the wafer cassette 10 is increased, so that the time required for the fully opening operation and the fully closing operation becomes long. This increased time reduces the throughput of the processing apparatus.

本発明は、ウエハカセット10の開閉に要する時間を短縮して、スループットを向上することを目的とする。   An object of the present invention is to shorten the time required to open and close the wafer cassette 10 and improve the throughput.

上記目的を実現するため、本発明のウエハローディング・アンローディング方法および装置では、搬出・搬入するウエハのウエハカセット内の収容位置に応じて、ドアの開き位置を変化させる。具体的には、ウエハカセットの上部に位置するウエハを搬出する場合およびウエハをウエハカセットの上部に搬入する場合には、ドアの開け量を小さくしてドアの開閉に要する時間を短縮する。ウエハカセットの最下部に位置するウエハを搬出する場合およびウエハをウエハカセットの最下部に搬入する場合には、ドアの開け量は従来と同様に全開とする。   In order to achieve the above object, in the wafer loading / unloading method and apparatus of the present invention, the opening position of the door is changed in accordance with the accommodation position of the wafer to be unloaded / loaded in the wafer cassette. Specifically, when unloading a wafer located above the wafer cassette and when loading a wafer into the upper portion of the wafer cassette, the door opening amount is reduced to shorten the time required to open and close the door. When the wafer located at the bottom of the wafer cassette is carried out and when the wafer is carried into the bottom of the wafer cassette, the door opening amount is fully opened as in the prior art.

ドアの移動機構は、ドアを全閉と全開の間の中間位置で停止できることが必要であり、中間位置での停止が容易に行えるモータ駆動であることが望ましい。   The door moving mechanism needs to be able to stop the door at an intermediate position between the fully closed position and the fully open position, and is preferably motor-driven to easily stop at the intermediate position.

また、ドアを中間位置で正確に停止できるように、位置検出のためのセンサや、停止位置ごとにストッパを設けてもよい。   Further, a sensor for position detection and a stopper for each stop position may be provided so that the door can be accurately stopped at the intermediate position.

本発明によれば、ウエハカセットのドアは、搬出・搬入するウエハのウエハカセット内の収容位置に応じて必要最小限だけ移動するので、ドアの開閉に要する時間を短縮してスループットを向上できる。しかも、ドアの移動機構がステッピングモータを使用している場合には、ステッピングモータの駆動シーケンスを変更するだけで停止位置を任意に設定できるので、コストはほとんど増加しない。また、位置制御できないモータを使用する場合でも、位置センサや、ストッパを設けるだけで低コストで実現できる。   According to the present invention, since the door of the wafer cassette moves only as much as necessary according to the accommodation position in the wafer cassette of the wafer to be carried in / out, the time required for opening and closing the door can be shortened and the throughput can be improved. In addition, when the door moving mechanism uses a stepping motor, the stop position can be arbitrarily set only by changing the driving sequence of the stepping motor, so the cost hardly increases. Even when using a motor whose position cannot be controlled, it can be realized at low cost simply by providing a position sensor and a stopper.

一般的に使用されるウエハカセットの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the wafer cassette generally used. 従来のウエハカセットのドア開閉動作を示す図である。It is a figure which shows the door opening / closing operation | movement of the conventional wafer cassette. 本発明の実施形態のウエハローディング・アンローディング装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the wafer loading / unloading apparatus of embodiment of this invention.

図3は、本発明の実施形態のウエハローディング・アンローディング装置の構成および動作を示す図であり、(A)はウエハカセットの最上部に位置するウエハを搬出・搬入する場合を、(B)はウエハカセットの下部に位置するウエハを搬出・搬入する場合を示す。なお、図1および図2と同じ要素には同じ参照符号を付しており、上記の説明を援用するものとする。   FIG. 3 is a diagram showing the configuration and operation of the wafer loading / unloading apparatus according to the embodiment of the present invention. FIG. 3 (A) shows a case where the wafer located at the top of the wafer cassette is unloaded / loaded in. Indicates a case where a wafer located under the wafer cassette is unloaded and loaded. The same elements as those in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and the above description is incorporated.

図3の(A)および(B)に示すように、処理装置20の内部には、封止板22を保持して水平および垂直方向に移動する移動部材24と、移動部材24を移動する駆動部25と、スケール27と、インジケータ28と、を有するドア移動機構が設けられている。ドア移動機構は、接続部23を介してドア13に設けられたキーを操作する機構も設けられている。スケール27およびインジケータ28を除く部分は、従来のウエハローディング・アンローディング装置と同じである。また、スケール27およびインジケータ28は、移動部材24の移動量を検出する機構であり、従来から広く使用されている技術で実現できる。   As shown in FIGS. 3A and 3B, in the processing apparatus 20, a moving member 24 that moves in the horizontal and vertical directions while holding the sealing plate 22 and a drive that moves the moving member 24 are provided. A door moving mechanism having a portion 25, a scale 27, and an indicator 28 is provided. The door moving mechanism is also provided with a mechanism for operating a key provided on the door 13 via the connecting portion 23. The parts other than the scale 27 and the indicator 28 are the same as those of the conventional wafer loading / unloading apparatus. The scale 27 and the indicator 28 are mechanisms for detecting the movement amount of the moving member 24, and can be realized by a technique that has been widely used.

また、処理装置20の内部には、従来例と同様に、ウエハカセット10内のウエハWを搬出・搬入するための搬送アーム機構が設けられている。搬送アーム機構は、2段のアームA1およびA2と、アームA1およびA2をそれぞれ回転する回転軸31と、回転軸31を上下移動する以上軸32と、を有する。搬送アーム機構も従来例と同じであり、詳しい説明は省略する。   In addition, similarly to the conventional example, a transfer arm mechanism for unloading and loading the wafer W in the wafer cassette 10 is provided inside the processing apparatus 20. The transfer arm mechanism includes two-stage arms A1 and A2, a rotating shaft 31 that rotates the arms A1 and A2, and a shaft 32 that moves the rotating shaft 31 up and down. The transfer arm mechanism is also the same as the conventional example, and detailed description thereof is omitted.

さらに、処理装置20には、ウエハカセット10を載置するカセット載置部26が設けられている。カセット載置部26は、載置されたウエハカセット10を保持して処理装置20の壁21に押し当てる。カセット載置部26も、従来技術で実現される。   Further, the processing apparatus 20 is provided with a cassette mounting portion 26 for mounting the wafer cassette 10. The cassette placing unit 26 holds the placed wafer cassette 10 and presses it against the wall 21 of the processing apparatus 20. The cassette placing unit 26 is also realized by the conventional technology.

図3の(A)に示すように、ウエハカセット10の最上部に位置するウエハを搬出・搬入する場合には、搬送アーム機構が、ドア13を保持した封止板22を、最上部に位置するウエハを搬出・搬入可能な最小限のスペース(隙間)を生じる位置まで移動し停止させる。この状態でウエハの搬出・搬入動作を行い、この動作が終了すると、搬送アーム機構が、ドア13を枠12に取り付けるように動作する。封止板22はドア13を枠12に取り付ける位置に保持される。
図3の(B)に示すように、ウエハカセット10の最下部に位置するウエハを搬出・搬入する場合には、搬送アーム機構が、ドア13を保持した封止板22を、最下部に位置するウエハを搬出・搬入可能な最小限のスペース(隙間)を生じる位置、すなわち従来例と同様の位置まで移動し停止させる。この状態でウエハの搬出・搬入動作を行い、この動作が終了すると、搬送アーム機構が、ドア13を枠12に取り付けるように動作する。封止板22はドア13を枠12に取り付ける位置に保持される。
As shown in FIG. 3A, when the wafer located at the top of the wafer cassette 10 is unloaded / loaded in, the transfer arm mechanism positions the sealing plate 22 holding the door 13 at the top. The wafer to be moved is moved to a position where a minimum space (gap) in which the wafer can be unloaded and loaded is generated and stopped. In this state, the wafer is carried out / in, and when this operation is completed, the transfer arm mechanism operates to attach the door 13 to the frame 12. The sealing plate 22 is held at a position where the door 13 is attached to the frame 12.
As shown in FIG. 3B, when the wafer located at the bottom of the wafer cassette 10 is unloaded / loaded in, the transfer arm mechanism places the sealing plate 22 holding the door 13 at the bottom. The wafer to be moved is moved to a position where a minimum space (gap) in which the wafer can be unloaded and loaded, that is, a position similar to the conventional example is stopped. In this state, the wafer is carried out / in, and when this operation is completed, the transfer arm mechanism operates to attach the door 13 to the frame 12. The sealing plate 22 is held at a position where the door 13 is attached to the frame 12.

ウエハカセット10の最上部と最下部の中間に位置するウエハを搬出・搬入する場合には、搬送アーム機構が、ドア13を保持した封止板22を、中間に位置するウエハを搬出・搬入可能な最小限のスペース(隙間)を生じる位置まで移動し停止させる。この状態でウエハの搬出・搬入動作を行い、この動作が終了すると、搬送アーム機構が、ドア13を枠12に取り付けるように動作する。封止板22はドア13を枠12に取り付ける位置に保持される。   When unloading / loading a wafer located between the uppermost part and the lowermost part of the wafer cassette 10, the transfer arm mechanism can unload / load the wafer positioned in the middle of the sealing plate 22 holding the door 13. Move to a position where a minimal space (gap) is created and stop. In this state, the wafer is carried out and carried in, and when this operation is completed, the transfer arm mechanism operates to attach the door 13 to the frame 12. The sealing plate 22 is held at a position where the door 13 is attached to the frame 12.

ここで、ドア移動機構の駆動部25がステッピングモータを駆動源とする場合には、ステッピングモータの制御信号により任意の位置に停止させることが可能であるので、駆動シーケンスを変更する。この場合には、スケール27およびインジケータ28は、設ける必要がない。また、駆動部25が可逆回転の通常のモータを駆動源とする場合には、スケール27およびインジケータ28の生成する位置信号に応じてモータの回転制御を行い、所定の位置に停止させる。   Here, when the drive unit 25 of the door moving mechanism uses a stepping motor as a drive source, it can be stopped at an arbitrary position by a control signal of the stepping motor, so the drive sequence is changed. In this case, the scale 27 and the indicator 28 need not be provided. When the drive unit 25 uses a normal motor with reversible rotation as a drive source, the rotation control of the motor is performed according to the position signal generated by the scale 27 and the indicator 28, and the motor is stopped at a predetermined position.

以上の動作により、ドア13を、搬出・搬入するウエハのウエハカセット内の収容位置に応じて必要最小限だけ移動するので、ドアの開閉に要する時間を短縮してスループットを向上できる。   With the above operation, the door 13 is moved as much as necessary in accordance with the accommodation position in the wafer cassette of the wafer to be carried out / in, so that the time required for opening and closing the door can be shortened and the throughput can be improved.

また、処理済みのウエハをウエハカセット10に戻すと同時に、ウエハカセット10から次に処理するウエハを取り出す場合には、戻すウエハのウエハカセット10の位置と、取り出すウエハのウエハカセット10の位置とが異なる。この場合には、いずれか下に位置するウエハの位置に合わせて封止板22を移動する。このため、ウエハを上側の位置と下側の位置の一方に戻し、上側の位置と下側の位置の他方からウエハを取り出す場合には、本発明の効果が低減されるが、処理は通常ウエハカセット10に収容されたウエハWを、上からまたは下から順に取り出して処理を行い、その後戻す動作を行うので、上記と同様の効果が得られる。   When the processed wafer is returned to the wafer cassette 10 and the wafer to be processed next is taken out from the wafer cassette 10, the position of the wafer cassette 10 to be returned and the position of the wafer cassette 10 to be taken out are determined. Different. In this case, the sealing plate 22 is moved according to the position of the wafer located below. Therefore, when the wafer is returned to one of the upper position and the lower position and the wafer is taken out from the other of the upper position and the lower position, the effect of the present invention is reduced. Since the wafer W accommodated in the cassette 10 is taken out from the top or bottom in order, processed, and then returned, the same effect as described above can be obtained.

本発明のウエハローディング・アンローディング方法および装置は、複数枚のウエハを収容するウエハカセットを使用して処理するウエハの供給および回収が行われ、ウエハを搬出・搬入した後一旦ウエハカセットのドアを閉めるシーケンスを行うのであれば、どのような半導体処理装置に使用する場合にも適用可能である。   In the wafer loading / unloading method and apparatus according to the present invention, a wafer cassette to be processed is supplied and recovered using a wafer cassette containing a plurality of wafers. After the wafer is unloaded and loaded, the wafer cassette door is temporarily opened. The present invention can be applied to any semiconductor processing apparatus as long as the closing sequence is performed.

10 ウエハカセット
11 ウエハカセット本体部
12 枠
13 ドア
22 封止板
23 接続部
26 カセット載置部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Wafer cassette 11 Wafer cassette main-body part 12 Frame 13 Door 22 Sealing plate 23 Connection part 26 Cassette mounting part

Claims (4)

取り出し口に設けられた開閉されるドアを有するウエハカセットに収容された複数のウエハを搬出・搬入するウエハローディング・アンローディング方法であって、
通常時は前記ドアを閉め、前記ウエハを搬出・搬入する直前に前記ドアを開き、前記ウエハを搬出・搬入した後前記ドアを閉じ、
搬出・搬入するウエハの前記ウエハカセット内の収容位置に応じて、前記ドアの開き位置を変化させることを特徴とするウエハローディング・アンローディング方法。
A wafer loading / unloading method for carrying out and carrying in a plurality of wafers housed in a wafer cassette having a door that is opened and closed provided at a take-out port,
Normally, the door is closed, the door is opened immediately before unloading / loading the wafer, the door is closed after unloading / loading the wafer,
A wafer loading / unloading method, wherein an opening position of the door is changed in accordance with a position where a wafer to be loaded / unloaded is accommodated in the wafer cassette.
前記ドアの移動機構は、モータ駆動である請求項1に記載のウエハローディング・アンローディング方法。   The wafer loading / unloading method according to claim 1, wherein the door moving mechanism is motor-driven. 取り出し口に設けられた開閉されるドアを有し、複数のウエハを収容するウエハカセットを載置するウエハカセット載置部と、
前記ドアを移動するドア移動機構と、
前記ウエハカセットとの間で前記ウエハを搬出・搬入するウエハ搬送アームと、を備え、
通常時は前記ドアを閉め、前記ウエハを搬出・搬入する直前に前記ドアを開き、前記ウエハを搬出・搬入した後前記ドアを閉じるウエハローディング・アンローディング装置であって、
前記ドア移動機構は、搬出・搬入するウエハの前記ウエハカセット内の収容位置に応じて、前記ドアの開き位置を変化させることを特徴とするウエハローディング・アンローディング装置。
A wafer cassette mounting portion for mounting a wafer cassette for storing a plurality of wafers;
A door moving mechanism for moving the door;
A wafer transfer arm for carrying out and carrying in the wafer between the wafer cassette,
A wafer loading / unloading apparatus that normally closes the door, opens the door immediately before unloading / loading the wafer, and closes the door after unloading / loading the wafer,
The wafer loading / unloading apparatus, wherein the door moving mechanism changes an opening position of the door in accordance with an accommodation position in the wafer cassette of a wafer to be carried in / out.
前記ドア移動機構は、モータ駆動である請求項3に記載のウエハローディング・アンローディング装置。   4. The wafer loading / unloading apparatus according to claim 3, wherein the door moving mechanism is motor driven.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014067940A (en) * 2012-09-27 2014-04-17 Tokyo Electron Ltd Substrate processing system
KR20210080523A (en) * 2018-11-05 2021-06-30 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 A method of opening and closing a cover of a substrate processing apparatus and a substrate receiving container

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014067940A (en) * 2012-09-27 2014-04-17 Tokyo Electron Ltd Substrate processing system
KR20210080523A (en) * 2018-11-05 2021-06-30 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 A method of opening and closing a cover of a substrate processing apparatus and a substrate receiving container
KR102511267B1 (en) 2018-11-05 2023-03-20 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 How to open and close the cover of the substrate processing device and the substrate container

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