JP2010250035A - Method for manufacturing display, the display, and electronic device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce a region required to mount a semiconductor element and a wiring board, in comparison with the case of securing a space for the escape of a surplus part of an adhesive film, when mounting the semiconductor element to the board using the adhesive film of outline dimensions which are larger than ideal dimensions. <P>SOLUTION: A display includes a drive board 3, having a display region E1 and a non-display region E2; the semiconductor element 5 mounted on the non-display region E2 of the drive board 3 using the adhesive film 7; and the wiring board 6 mounted on the non-display region E2 of the drive board 3, side by side with the semiconductor element 5. The display is manufactured by carrying out a first mounting process for mounting the wiring board 6 on the non-display region E2 of the drive board 3 via the adhesive film 8, and a second mounting process for mounting the semiconductor element 5 on the non-display region E2 of the drive board 3, side by side with the mounted wiring board 6, after sticking the adhesive film 7 to the non-display region E2 of the drive board 3. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、基板を用いて構成される表示装置とその製造方法、及び電子機器に関する。   The present invention relates to a display device configured using a substrate, a manufacturing method thereof, and an electronic device.

一般に、液晶表示装置の表示パネルは、2枚の基板で液晶をサンドイッチ状に挟み込んだ構造になっている。液晶を挟持する2枚の基板のうち、一方の基板は他方の基板よりも外形寸法が大きいため、2枚の基板を貼り合わせると、外形寸法が大きい一方の基板の一部が他方の基板から張り出した状態となる。このように他方の基板から張り出す一方の基板の張り出し領域に、半導体素子及び配線基板を実装したものが知られている(例えば、特許文献1を参照)。   In general, a display panel of a liquid crystal display device has a structure in which liquid crystals are sandwiched between two substrates. Of the two substrates sandwiching the liquid crystal, one substrate has a larger outer dimension than the other substrate, so when two substrates are bonded together, a part of one substrate having a larger outer dimension is separated from the other substrate. It will be overhanging. As described above, a semiconductor element and a wiring board are mounted on an extended region of one substrate protruding from the other substrate (see, for example, Patent Document 1).

図12は従来の液晶表示装置の構成例を示す斜視図であり、図13は同側断面図である。図示した液晶表示装置51の表示パネル52は、それぞれ矩形をなす2枚の基板53,54を用いて構成されている。一方の基板53は駆動基板となっており、他方の基板54は対向基板となっている。   FIG. 12 is a perspective view showing a configuration example of a conventional liquid crystal display device, and FIG. 13 is a cross-sectional side view of the same. The display panel 52 of the illustrated liquid crystal display device 51 is configured using two substrates 53 and 54 each having a rectangular shape. One substrate 53 is a drive substrate, and the other substrate 54 is a counter substrate.

駆動基板53と対向基板54は、図示しない液晶を介して対向する状態に貼り合わせられている。駆動基板53には、半導体素子55と配線基板56が実装されている。半導体素子55は、接着フィルム57を用いて実装されている。配線基板56は、接着フィルム58を用いて実装されている。   The drive substrate 53 and the counter substrate 54 are bonded to each other with a liquid crystal (not shown) facing each other. A semiconductor element 55 and a wiring board 56 are mounted on the drive board 53. The semiconductor element 55 is mounted using an adhesive film 57. The wiring board 56 is mounted using an adhesive film 58.

図14は液晶表示装置を製造する場合に適用される実装工程のフロー図である。図示のように、実装工程F100は、第1の実装工程F101と、第2の実装工程F102とに分かれている。第1の実装工程F101は、表示パネル52の駆動基板53に半導体素子55を実装する工程であって、貼り付け工程F101aと、仮圧着工程F101bと、本圧着工程F101cとを有している。第2の実装工程F102は、表示パネル52の駆動基板53に配線基板56を実装する工程であって、貼り付け工程F102aと、本圧着工程F102bとを有している。   FIG. 14 is a flowchart of a mounting process applied when manufacturing a liquid crystal display device. As illustrated, the mounting process F100 is divided into a first mounting process F101 and a second mounting process F102. The first mounting step F101 is a step of mounting the semiconductor element 55 on the drive substrate 53 of the display panel 52, and includes an attaching step F101a, a temporary pressure bonding step F101b, and a main pressure bonding step F101c. The second mounting process F102 is a process of mounting the wiring board 56 on the drive substrate 53 of the display panel 52, and includes an attaching process F102a and a main press bonding process F102b.

まず、第1の実装工程F101について説明する。貼り付け工程F101aでは、半導体素子55の実装位置に対応して駆動基板53に接着フィルム57を貼り付ける。仮圧着工程F101bでは、貼り付け工程F101aで貼り付けた接着フィルム57上の所定位置に半導体素子55を位置決めして仮付けする。本圧着工程F101cでは、仮圧着工程F101bで仮圧着した半導体素子55を駆動基板53に押し付けるように高温の圧着ヘッドで加圧及び加熱する。   First, the first mounting process F101 will be described. In the attaching step F101a, the adhesive film 57 is attached to the drive substrate 53 in accordance with the mounting position of the semiconductor element 55. In the pre-bonding step F101b, the semiconductor element 55 is positioned and temporarily attached to a predetermined position on the adhesive film 57 attached in the attaching step F101a. In the main pressure bonding process F101c, the semiconductor element 55 temporarily bonded in the temporary pressure bonding process F101b is pressurized and heated by a high-temperature pressure bonding head so as to press against the drive substrate 53.

次に、第2の実装工程F102について説明する。貼り付け工程F102aでは、配線基板56に形成されている電極の位置に対応して当該FPC基板56の電極形成面に接着フィルム58を貼り付ける。本圧着工程F102bでは、貼り付け工程F102aで接着フィルム58を貼り付けた配線基板56を、駆動基板53の所定位置に位置決めした後、加圧及び加熱により駆動基板53に圧着する。   Next, the second mounting process F102 will be described. In the attaching step F102a, an adhesive film 58 is attached to the electrode forming surface of the FPC board 56 corresponding to the position of the electrode formed on the wiring board 56. In the main press-bonding step F102b, the wiring substrate 56 to which the adhesive film 58 has been attached in the attaching step F102a is positioned at a predetermined position on the drive substrate 53, and is then crimped to the drive substrate 53 by pressurization and heating.

以上述べた実装工程F100のなかで、第1の実装工程F101の貼り付け工程F101aでは、半導体素子55の実装位置を接着フィルム57で確実に覆うために、半導体素子55の外形寸法よりも大きな外形寸法を有する接着フィルム57を用いる必要がある。その場合、理想的には、接着フィルム57の製造上の寸法公差や、接着フィルム57の貼り付けに用いる設備の精度に依存する貼り付け公差などを考慮した余剰寸法を、半導体素子55の外形寸法に上乗せした寸法で接着フィルム57の外形寸法を規定すればよい。   Among the mounting processes F100 described above, in the attaching process F101a of the first mounting process F101, an outer shape larger than the outer dimensions of the semiconductor element 55 is provided in order to reliably cover the mounting position of the semiconductor element 55 with the adhesive film 57. It is necessary to use an adhesive film 57 having dimensions. In that case, ideally, an extra dimension in consideration of a dimensional tolerance in manufacturing of the adhesive film 57 and an attaching tolerance depending on accuracy of equipment used for attaching the adhesive film 57 is used as an outer dimension of the semiconductor element 55. What is necessary is just to prescribe | regulate the external dimension of the adhesive film 57 by the dimension added on.

ところが、接着フィルム57の外形寸法は、半導体素子55の外形寸法に合わせて自由に変えることができない状況にある。その理由は、接着フィルム57を製造する場合に、フィルムの外形寸法(幅、長さ)が、フィルム製造設備の都合で複数の種類に限定されるためである。具体的には、シート状に作られた接着フィルム素材を、フィルム製造設備の1つとなるカッターで裁断する場合に、裁断によって得られる接着フィルムの外形寸法は、カッターの種類(寸法)によって決まる。裁断用のカッターは、接着フィルムの外形寸法の種類ごとに専用品が用意されている。したがって、接着フィルム57を製造する場合は、理想とする接着フィルム57の外形寸法に適合する専用のカッターがない場合もあり得る。   However, the external dimensions of the adhesive film 57 cannot be freely changed in accordance with the external dimensions of the semiconductor element 55. The reason is that when the adhesive film 57 is manufactured, the outer dimensions (width, length) of the film are limited to a plurality of types for the convenience of the film manufacturing facility. Specifically, when the adhesive film material made into a sheet shape is cut with a cutter that is one of the film manufacturing facilities, the outer dimensions of the adhesive film obtained by cutting are determined by the type (size) of the cutter. A dedicated cutter is prepared for each type of outer dimensions of the adhesive film. Therefore, when manufacturing the adhesive film 57, there may be a case where there is no dedicated cutter that matches the ideal outer dimensions of the adhesive film 57.

そのような場合に、例えば専用のカッターを新たに作製するとなると、そのための作製費用に加えて、フィルム製造設備の条件出しや調整などに多大な労力を要する。このため従来では、理想とされる外形寸法(以下、「理想寸法」とも記す)よりも大きな外形寸法の接着フィルム57を用いて、半導体素子55を実装している。   In such a case, for example, when a dedicated cutter is newly produced, in addition to the production cost for that purpose, a great deal of labor is required for condition setting and adjustment of the film production equipment. For this reason, conventionally, the semiconductor element 55 is mounted using an adhesive film 57 having a larger outer dimension than an ideal outer dimension (hereinafter also referred to as “ideal dimension”).

特開2002−229055号公報JP 2002-229055 A

しかしながら、理想寸法よりも大きな接着フィルム57を用いて半導体素子55を実装する場合は、半導体素子55の実装位置の周囲に生じる余剰なフィルム部分を逃がすためのスペースを駆動基板53上に確保する必要がある。接着フィルム57の余剰部を対向基板54側に逃がす場合は、接着フィルム57を駆動基板53に貼り付けるときに、接着フィルム57の一部が対向基板54に干渉(接触)することで、接着フィルム57の貼り付け不良や貼り付け位置のずれなどが生じる。このため、接着フィルム57の余剰部を対向基板54側に逃がすことはできない。   However, when the semiconductor element 55 is mounted using the adhesive film 57 larger than the ideal dimension, it is necessary to secure a space on the drive substrate 53 for releasing an excess film portion generated around the mounting position of the semiconductor element 55. There is. When the surplus portion of the adhesive film 57 is allowed to escape to the counter substrate 54 side, when the adhesive film 57 is attached to the drive substrate 53, a part of the adhesive film 57 interferes (contacts) with the counter substrate 54, whereby the adhesive film 57, an attachment failure, a displacement of the attachment position, and the like occur. For this reason, the surplus part of the adhesive film 57 cannot escape to the counter substrate 54 side.

一方、接着フィルム57の余剰部を配線基板56側に逃がす場合は、配線基板56の実装位置にかからないように接着フィルム57の余剰部を配置する必要がある。このため、半導体素子55及び配線基板56の並び方向においては、接着フィルム57の余剰寸法分を見込んで、駆動基板53の面内に半導体素子55の実装位置と配線基板56の実装位置を設定する必要がある。したがって、半導体素子55と配線基板56を実装するのに必要な領域が広くなってしまう。   On the other hand, when the surplus portion of the adhesive film 57 is released to the wiring substrate 56 side, it is necessary to dispose the surplus portion of the adhesive film 57 so as not to reach the mounting position of the wiring substrate 56. For this reason, in the arrangement direction of the semiconductor element 55 and the wiring substrate 56, the mounting position of the semiconductor element 55 and the mounting position of the wiring substrate 56 are set in the plane of the drive substrate 53 in view of the excess dimension of the adhesive film 57. There is a need. Therefore, an area necessary for mounting the semiconductor element 55 and the wiring board 56 is widened.

一例として、半導体素子55及び配線基板56の並び方向を各部材の幅方向と定義し、チップ幅が1140μmの半導体素子55を実装する場合を考える。この場合、接着フィルム57の理想的な幅寸法を“チップ幅+200μm”で規定すると、接着フィルム57の理想的な幅寸法は1340μmとなる。これに対して、フィルム製造上の理由により、理想とする1340μm幅の接着フィルム57が存在せず、それよりも大きな接着フィルムで理想寸法に最も近いフィルム幅が1800μmであったと仮定する。そうした場合は、1800μm幅の接着フィルム57を使用して半導体素子55を駆動基板53に実装することになる。   As an example, a case where the arrangement direction of the semiconductor element 55 and the wiring board 56 is defined as the width direction of each member and the semiconductor element 55 having a chip width of 1140 μm is mounted is considered. In this case, if the ideal width dimension of the adhesive film 57 is defined as “chip width + 200 μm”, the ideal width dimension of the adhesive film 57 is 1340 μm. On the other hand, it is assumed that the ideal adhesive film 57 having a width of 1340 μm does not exist due to film manufacturing, and that the film width closest to the ideal dimension is 1800 μm with a larger adhesive film. In such a case, the semiconductor element 55 is mounted on the drive substrate 53 using the adhesive film 57 having a width of 1800 μm.

このため、対向基板54の貼り合わせ位置に干渉することなく、半導体素子55の実装位置を接着フィルム57で確実に覆うためには、各部材の寸法公差や設備の能力などを考慮して、各部材間の距離を例えば図15のように設定する必要がある。図15においては、対向基板54の端部から200μmの距離を隔てた位置に接着フィルム57の一方の端部を配置し、かつ配線基板56の端部から200μmの距離を隔てた位置に接着フィルム57の他方の端部を配置している。そして、対向基板54と半導体素子55の間の離間距離を、接着フィルム57の余剰寸法を含めて550μmに設定している。また、半導体素子55と配線基板56の間の離間距離を、接着フィルム57の余剰寸法を含めて510μmに設定している。このため、対向基板54と配線基板56の間の離間距離は、2200μmとなっている。   For this reason, in order to reliably cover the mounting position of the semiconductor element 55 with the adhesive film 57 without interfering with the bonding position of the counter substrate 54, each component is considered in consideration of the dimensional tolerance of each member and the capability of the equipment. For example, the distance between the members needs to be set as shown in FIG. In FIG. 15, one end of the adhesive film 57 is disposed at a position separated by 200 μm from the end of the counter substrate 54, and the adhesive film is disposed at a position separated by 200 μm from the end of the wiring board 56. The other end of 57 is disposed. The separation distance between the counter substrate 54 and the semiconductor element 55 is set to 550 μm including the surplus dimension of the adhesive film 57. Further, the separation distance between the semiconductor element 55 and the wiring substrate 56 is set to 510 μm including the surplus dimension of the adhesive film 57. For this reason, the separation distance between the counter substrate 54 and the wiring substrate 56 is 2200 μm.

これに対して、理想とする1340μm幅の接着フィルム57を使用した場合は、接着フィルム57に余剰寸法が生じない。このため、図16に示すように、対向基板54と半導体素子55の間の離間距離と、半導体素子55と配線基板56の間の離間距離を、いずれも300μmに設定することができる。したがって、対向基板54と配線基板56の間の離間距離は、1800μm幅の接着テープを使用する場合に比べて460μm短い1740μmとなる。   On the other hand, when the ideal adhesive film 57 having a width of 1340 μm is used, no excessive dimension is generated in the adhesive film 57. Therefore, as shown in FIG. 16, the separation distance between the counter substrate 54 and the semiconductor element 55 and the separation distance between the semiconductor element 55 and the wiring board 56 can both be set to 300 μm. Therefore, the separation distance between the counter substrate 54 and the wiring substrate 56 is 1740 μm, which is 460 μm shorter than that when an adhesive tape having a width of 1800 μm is used.

本発明に係る表示装置の製造方法は、表示領域と非表示領域を有する基板と、前記基板の非表示領域に接着フィルムを用いて実装された半導体素子と、前記基板の非表示領域に前記半導体素子と並んで実装された配線基板とを備える表示装置を製造する場合に、前記基板の非表示領域に前記配線基板を実装する第1の実装工程と、前記基板の非表示領域に前記接着フィルムを貼り付けた後、前記第1の実装工程で実装した前記配線基板と並べて前記基板の非表示領域に前記半導体素子を実装する第2の実装工程とを行なう。   The display device manufacturing method according to the present invention includes a substrate having a display region and a non-display region, a semiconductor element mounted on the non-display region of the substrate using an adhesive film, and the semiconductor in the non-display region of the substrate. When manufacturing a display device including a wiring substrate mounted side by side with an element, a first mounting step of mounting the wiring substrate in a non-display region of the substrate, and the adhesive film in the non-display region of the substrate Then, a second mounting step of mounting the semiconductor element in a non-display region of the substrate is performed along with the wiring board mounted in the first mounting step.

本発明に係る表示装置の製造方法においては、理想寸法よりも大きな外形寸法の接着フィルムを用いて基板に半導体素子を実装する場合に、当該接着フィルムの余剰部を逃がすためのスペースを基板上に確保する必要がなくなる。このため、半導体素子の実装に用いられる接着フィルムの外形寸法によらず、基板の非表示領域において半導体素子の実装位置と配線基板の実装位置を決めることが可能となる。   In the method of manufacturing a display device according to the present invention, when a semiconductor element is mounted on a substrate using an adhesive film having an outer dimension larger than the ideal dimension, a space for allowing an excess portion of the adhesive film to escape is formed on the substrate. There is no need to secure it. For this reason, it becomes possible to determine the mounting position of the semiconductor element and the mounting position of the wiring board in the non-display area of the substrate regardless of the outer dimensions of the adhesive film used for mounting the semiconductor element.

本発明に係る表示装置は、表示領域と非表示領域を有する基板と、前記基板の非表示領域に接着フィルムを用いて実装された半導体素子と、前記基板の非表示領域に前記半導体素子と並んで実装された配線基板とを備え、前記接着フィルムは、前記半導体素子の実装位置に対応して前記基板の非表示領域に貼り付けられるとともに、当該接着フィルムの一部は、前記基板の非表示領域に実装された前記配線基板の上に重なる状態で配置された構成となっている。また、本発明に係る電子機器は、上記構成の表示装置を有する。   A display device according to the present invention includes a substrate having a display region and a non-display region, a semiconductor element mounted on the non-display region of the substrate using an adhesive film, and the semiconductor element in the non-display region of the substrate. The adhesive film is attached to a non-display area of the substrate corresponding to the mounting position of the semiconductor element, and a part of the adhesive film is not displayed on the substrate. It is the structure arrange | positioned in the state which overlaps with the said wiring board mounted in the area | region. An electronic apparatus according to the present invention includes the display device having the above structure.

本発明に係る表示装置とこれを有する電子機器においては、理想寸法よりも大きな外形寸法の接着フィルムを用いて基板に半導体素子を実装する場合に、当該接着フィルムの一部を配線基板の上に重ねることで、当該接着フィルムの余剰部を逃がす。これにより、接着フィルムの余剰部を逃がすためのスペースを基板上に確保する必要がなくなる。このため、半導体素子の実装に用いられる接着フィルムの外形寸法によらず、基板の非表示領域において半導体素子の実装位置と配線基板の実装位置を決めることが可能となる。   In a display device according to the present invention and an electronic apparatus having the same, when a semiconductor element is mounted on a substrate using an adhesive film having an outer dimension larger than the ideal dimension, a part of the adhesive film is placed on the wiring substrate. By overlapping, the surplus part of the adhesive film is released. Thereby, it is not necessary to secure a space on the substrate for allowing the excess portion of the adhesive film to escape. For this reason, it becomes possible to determine the mounting position of the semiconductor element and the mounting position of the wiring board in the non-display area of the substrate regardless of the outer dimensions of the adhesive film used for mounting the semiconductor element.

本発明によれば、理想寸法よりも大きな外形寸法の接着フィルムを用いて基板に半導体素子を実装する場合に、接着フィルムの余剰部を逃がすためのスペースを基板上に確保する場合に比べて、半導体素子及び配線基板の実装に必要となる領域を縮小することができる。   According to the present invention, when a semiconductor element is mounted on a substrate using an adhesive film having an outer dimension larger than the ideal dimension, compared to a case where a space for releasing an excess portion of the adhesive film is secured on the substrate, The area required for mounting the semiconductor element and the wiring board can be reduced.

本発明の実施の形態に係る液晶表示装置の構成例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structural example of the liquid crystal display device which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る液晶表示装置の構成例を示す側断面図である。It is a sectional side view which shows the structural example of the liquid crystal display device which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る液晶表示装置を製造する場合に適用される実装工程のフロー図である。It is a flowchart of the mounting process applied when manufacturing the liquid crystal display device which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る第1の実装工程を説明する図である。It is a figure explaining the 1st mounting process concerning an embodiment of the invention. 本発明の実施の形態に係る第2の実装工程を説明する図である。It is a figure explaining the 2nd mounting process concerning an embodiment of the invention. 半導体素子及び配線基板を実装した状態での寸法例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the example of a dimension in the state which mounted the semiconductor element and the wiring board. 第1適用例となるテレビを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the television used as the 1st application example. 第2適用例となるデジタルカメラを示す図である。It is a figure which shows the digital camera used as the 2nd application example. 第3適用例となるノート型パーソナルコンピュータを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the notebook personal computer used as the 3rd application example. 第4適用例となるビデオカメラを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the video camera used as the 4th application example. 第5適用例となる携帯端末装置を示す図である。It is a figure which shows the portable terminal device used as the 5th application example. 従来の液晶表示装置の構成例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structural example of the conventional liquid crystal display device. 従来の液晶表示装置の構成例を示す側断面図である。It is a sectional side view which shows the structural example of the conventional liquid crystal display device. 従来において液晶表示装置を製造する場合に適用される実装工程のフロー図である。It is a flowchart of the mounting process applied when manufacturing a liquid crystal display device conventionally. 半導体素子及び配線基板を実装した状態での寸法例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the example of a dimension in the state which mounted the semiconductor element and the wiring board. 半導体素子及び配線基板を実装した状態での寸法例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the example of a dimension in the state which mounted the semiconductor element and the wiring board.

以下、本発明の具体的な実施の形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、本発明の技術的範囲は以下に記述する実施の形態に限定されるものではなく、発明の構成要件やその組み合わせによって得られる特定の効果を導き出せる範囲において、種々の変更や改良を加えた形態も含む。   Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. It should be noted that the technical scope of the present invention is not limited to the embodiments described below, and various modifications and improvements have been made within the scope of deriving specific effects obtained by the constituent requirements of the invention and combinations thereof. Including form.

本発明の実施の形態については、以下の順序で説明する。
1.表示装置の構成
2.表示装置の製造方法
3.適用例
Embodiments of the present invention will be described in the following order.
1. 1. Configuration of display device 2. Manufacturing method of display device Application examples

<1.表示装置の構成>
図1は本発明の実施の形態に係る液晶表示装置の構成例を示す斜視図であり、図2は同側断面図である。図示した液晶表示装置1の表示パネル2は、それぞれ矩形をなす2枚の基板3,4を用いて構成されている。一方の基板3は、相対的に外形寸法の大きい駆動基板となっており、他方の基板4は、相対的に外形寸法の小さい対向基板となっている。駆動基板3と対向基板4は、それぞれガラス基板を用いて構成されている。駆動基板3には、例えば薄膜トランジスタを含む画素回路やこれに繋がる配線パターンなどが形成されている。対向基板4には、例えば、画素単位で赤,緑,青に色分けされたカラーフィルタ層などが形成されている。カラーフィルタ層が形成される対向基板4は、カラーフィルタ基板とも呼ばれる。
<1. Configuration of display device>
FIG. 1 is a perspective view showing a configuration example of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional side view thereof. The display panel 2 of the illustrated liquid crystal display device 1 is configured using two substrates 3 and 4 each having a rectangular shape. One substrate 3 is a drive substrate having a relatively large external dimension, and the other substrate 4 is a counter substrate having a relatively small external dimension. The drive substrate 3 and the counter substrate 4 are each configured using a glass substrate. For example, a pixel circuit including a thin film transistor and a wiring pattern connected to the pixel circuit are formed on the drive substrate 3. On the counter substrate 4, for example, a color filter layer that is color-coded in red, green, and blue in pixel units is formed. The counter substrate 4 on which the color filter layer is formed is also called a color filter substrate.

駆動基板3と対向基板4は、図示しない液晶を介して対向する状態に貼り合わせられている。駆動基板3と対向基板4との間には、図示しない球状又は柱状のスペーサの介在により、隙間が確保されている。これに対して、液晶は、駆動基板3と対向基板4との間にスペーサによって確保される隙間に封入されている。駆動基板3と対向基板4を貼り合わせた状態では、駆動基板3の一部が対向基板4から張り出しており、当該張り出した部分に半導体素子5と配線基板6が実装されている。   The drive substrate 3 and the counter substrate 4 are bonded to each other with a liquid crystal (not shown) facing each other. A gap is secured between the drive substrate 3 and the counter substrate 4 by interposing a spherical or columnar spacer (not shown). In contrast, the liquid crystal is sealed in a gap secured by a spacer between the driving substrate 3 and the counter substrate 4. In a state in which the driving substrate 3 and the counter substrate 4 are bonded together, a part of the driving substrate 3 protrudes from the counter substrate 4, and the semiconductor element 5 and the wiring substrate 6 are mounted on the protruding portion.

半導体素子5は、例えば、液晶表示装置1の表示パネル2を駆動する駆動回路(垂直駆動回路、水平駆動回路など)を構成するものである。半導体素子5は、例えば、平面視矩形のICチップ、LSIチップ等によって構成されるものである。半導体素子5は、ベアチップの状態で駆動基板3に実装されている。また、半導体素子5は、図示しない電極が形成されている面を下向きにした、いわゆるフェースダウンの状態で駆動基板3に実装されている。   The semiconductor element 5 constitutes, for example, a drive circuit (vertical drive circuit, horizontal drive circuit, etc.) that drives the display panel 2 of the liquid crystal display device 1. The semiconductor element 5 is composed of, for example, a rectangular IC chip, LSI chip or the like in plan view. The semiconductor element 5 is mounted on the drive substrate 3 in a bare chip state. The semiconductor element 5 is mounted on the drive substrate 3 in a so-called face-down state in which a surface on which an electrode (not shown) is formed faces downward.

配線基板6は、例えば、フレキシブルプリント配線基板などによって構成されるものである。フレキシブルプリント配線基板は、薄いフィルム状の絶縁基板に配線パターンを形成することで基板全体に柔軟性(可撓性)をもたせた配線基板である。フレキシブルプリント配線基板用の絶縁基板としては、例えば、ポリエステルフィルム、ポリイミドフィルムなどの樹脂フィルムが用いられる。また、フレキシブルプリント配線基板用の配線パターンとしては、例えば、銅の配線パターンが用いられる。配線基板6の端部には、駆動基板3との電気的な接続のための端子(不図示)が形成されている。   The wiring board 6 is constituted by, for example, a flexible printed wiring board. The flexible printed wiring board is a wiring board in which a wiring pattern is formed on a thin film-like insulating substrate to give flexibility (flexibility) to the entire substrate. As an insulating substrate for a flexible printed wiring board, for example, a resin film such as a polyester film or a polyimide film is used. Moreover, as a wiring pattern for flexible printed wiring boards, for example, a copper wiring pattern is used. Terminals (not shown) for electrical connection with the drive board 3 are formed at the end of the wiring board 6.

ここで、駆動基板3を平面的に見たときの全領域のうち、駆動基板3と対向基板4を貼り合わせたときに、両基板が重なり合う領域を表示領域E1と定義し、それ以外の領域を非表示領域E2と定義する。そうした場合、駆動基板3の表示領域E1は、対向基板4との貼り合わせ領域に相当するものとなり、駆動基板3の非表示領域E2は、対向基板4からはみ出した部分の領域に相当するものとなる。このため、駆動基板3の表示領域E1の面積は、対向基板4の面積に一致したものとなり、駆動基板3の非表示領域E2の面積は、駆動基板3の平面積から表示領域E1の面積を差し引いた値になる。また、駆動基板3の面内では、表示領域E1と非表示領域E2が互いに隣接した位置関係になる。ちなみに、表示パネル2で実際に画像(映像)が表示される領域を有効表示領域と定義すると、この有効表示領域は、駆動基板3と対向基板4を接合する枠状のシール材よりも内側の領域となる。このため、有効表示領域の面積は対向基板4の面積よりも狭くなる。   Here, of the entire area when the drive substrate 3 is viewed in plan, the area where the drive substrate 3 and the counter substrate 4 are bonded together is defined as the display area E1, and the other areas are defined. Is defined as a non-display area E2. In such a case, the display area E1 of the driving substrate 3 corresponds to a bonding area with the counter substrate 4, and the non-display area E2 of the driving substrate 3 corresponds to an area of a portion protruding from the counter substrate 4. Become. For this reason, the area of the display region E1 of the drive substrate 3 is the same as the area of the counter substrate 4, and the area of the non-display region E2 of the drive substrate 3 is changed from the plane area of the drive substrate 3 to the area of the display region E1. Subtracted value. Further, in the plane of the driving substrate 3, the display area E1 and the non-display area E2 are in a positional relationship adjacent to each other. Incidentally, if an area where an image (video) is actually displayed on the display panel 2 is defined as an effective display area, this effective display area is located on the inner side of the frame-shaped sealing material that joins the drive substrate 3 and the counter substrate 4. It becomes an area. For this reason, the area of the effective display region is narrower than the area of the counter substrate 4.

半導体素子5は、接着フィルム7を用いて駆動基板3の非表示領域E2に実装されている。半導体素子5は、駆動基板3の両面のうち、対向基板4が貼り合わせられている面と同じ面上に実装されている。すなわち、駆動基板3の一方の面を第1の主面3aと定義し、同他方の面を第2の主面3bと定義すると、対向基板4は駆動基板3の第1の主面3aに貼り合わせられ、それと同じ面上に対向基板4と並んで半導体素子5が実装されている。半導体素子5の実装位置は、駆動基板3の第1の主面3a内で、対向基板4の貼り合わせ位置と配線基板6の実装位置の間に設定されている。半導体素子5の実装位置とは、駆動基板3の第1の主面3aにおける非表示領域E2内で、駆動基板3と配線基板6を電気的かつ機械的に接続するために、予め決められた位置をいう。半導体素子5の実装位置は、当該半導体素子5の全部を駆動基板3の上に重ねて実装することから、当該半導体素子5の外形寸法に相当する寸法で規定されるものとなる。   The semiconductor element 5 is mounted on the non-display area E <b> 2 of the drive substrate 3 using the adhesive film 7. The semiconductor element 5 is mounted on the same surface of the drive substrate 3 as the surface on which the counter substrate 4 is bonded. That is, when one surface of the drive substrate 3 is defined as the first main surface 3 a and the other surface is defined as the second main surface 3 b, the counter substrate 4 is formed on the first main surface 3 a of the drive substrate 3. The semiconductor element 5 is mounted along with the counter substrate 4 on the same surface. The mounting position of the semiconductor element 5 is set between the bonding position of the counter substrate 4 and the mounting position of the wiring substrate 6 in the first main surface 3 a of the drive substrate 3. The mounting position of the semiconductor element 5 is determined in advance in order to electrically and mechanically connect the drive substrate 3 and the wiring substrate 6 in the non-display area E2 on the first main surface 3a of the drive substrate 3. Says the position. The mounting position of the semiconductor element 5 is defined by a dimension corresponding to the outer dimension of the semiconductor element 5 because the entire semiconductor element 5 is mounted on the driving substrate 3 in an overlapping manner.

配線基板6は、接着フィルム8を用いて駆動基板3の非表示領域E2に実装されている。配線基板6は、駆動基板3の第1の主面3a上に実装されている。つまり、駆動基板3の第1の主面3a上には、対向基板4及び半導体素子5と並んで配線基板6が実装されている。配線基板6の実装位置は、半導体素子5及び配線基板6の並び方向において、半導体素子5よりも駆動基板3の端部寄りに設定されている。配線基板6の実装位置とは、駆動基板3の第1の主面3aにおける非表示領域E2内で、駆動基板3と配線基板6を電気的かつ機械的に接続するために、予め決められた位置をいう。配線基板6の実装位置は、当該配線基板6の一部(端部)を駆動基板3の上に重ねて実装することから、当該配線基板6の外形寸法よりも小さい寸法で規定されるものとなる。   The wiring board 6 is mounted on the non-display area E <b> 2 of the driving board 3 using the adhesive film 8. The wiring board 6 is mounted on the first main surface 3 a of the drive board 3. That is, the wiring substrate 6 is mounted on the first main surface 3 a of the drive substrate 3 along with the counter substrate 4 and the semiconductor element 5. The mounting position of the wiring board 6 is set closer to the end of the driving board 3 than the semiconductor element 5 in the arrangement direction of the semiconductor element 5 and the wiring board 6. The mounting position of the wiring board 6 is determined in advance in order to electrically and mechanically connect the driving board 3 and the wiring board 6 within the non-display area E2 on the first main surface 3a of the driving board 3. Says the position. The mounting position of the wiring board 6 is defined by a dimension smaller than the outer dimension of the wiring board 6 because a part (end part) of the wiring board 6 is mounted on the driving board 3 in an overlapping manner. Become.

接着フィルム7は、半導体素子5の実装位置に対応して駆動基板3の非表示領域E2に貼り付けられている。接着フィルム7の外形寸法は、半導体素子5の外形寸法よりも大きく設定されている。そして、駆動基板3の非表示領域E2内では、半導体素子5の実装位置を覆う状態で、接着フィルム7が駆動基板3の第1の主面3aに貼り付けられている。半導体素子5は、接着フィルム7を介して駆動基板3の第1の主面3a上に実装されている。また、半導体素子5は、接着フィルム7の外縁部よりも内側(フィルム中心側)に収まるように配置されている。このため、半導体素子5の全周にわたって接着フィルム7の一部が半導体素子5の外側にはみ出した状態になっている。   The adhesive film 7 is attached to the non-display area E <b> 2 of the drive substrate 3 corresponding to the mounting position of the semiconductor element 5. The outer dimension of the adhesive film 7 is set larger than the outer dimension of the semiconductor element 5. In the non-display area E <b> 2 of the drive substrate 3, the adhesive film 7 is attached to the first main surface 3 a of the drive substrate 3 so as to cover the mounting position of the semiconductor element 5. The semiconductor element 5 is mounted on the first main surface 3 a of the drive substrate 3 via the adhesive film 7. Further, the semiconductor element 5 is disposed so as to be located on the inner side (film center side) than the outer edge portion of the adhesive film 7. For this reason, a part of the adhesive film 7 protrudes outside the semiconductor element 5 over the entire circumference of the semiconductor element 5.

また、配線基板6の実装位置側にはみ出す接着フィルム7の一部7aは、駆動基板3の非表示領域E2に実装されている配線基板6の上に重なる状態で配置されている。さらに詳述すると、半導体素子5の実装位置とその周辺では接着フィルム7が駆動基板3の第1の主面3aに貼り付けられているが、配線基板6の実装位置側にはみ出す接着フィルム7の一部7aは、駆動基板3の第1の主面3aに貼り付けられていない。具体的には、接着フィルム7の一部7aは、駆動基板3の第1の主面3aから浮いた状態(離間した状態)で斜めに折れ曲がり、この折れ曲がり部分が配線基板6の上に乗り上げるように重なっている。そして、接着フィルム7は、その一部7aを除いて、駆動基板3の第1の主面3aに貼り付けられている。   A part 7 a of the adhesive film 7 that protrudes to the mounting position side of the wiring board 6 is disposed so as to overlap the wiring board 6 mounted in the non-display area E <b> 2 of the driving board 3. More specifically, the adhesive film 7 is attached to the first main surface 3a of the driving substrate 3 at and around the mounting position of the semiconductor element 5, but the adhesive film 7 protruding to the mounting position side of the wiring substrate 6 is used. The part 7 a is not attached to the first main surface 3 a of the drive substrate 3. Specifically, a part 7 a of the adhesive film 7 is bent obliquely in a state where it is lifted (separated) from the first main surface 3 a of the drive substrate 3, and the bent portion runs on the wiring substrate 6. It overlaps with. And the adhesive film 7 is affixed on the 1st main surface 3a of the drive substrate 3 except the part 7a.

接着フィルム8は、配線基板6の実装位置に対応して駆動基板3の非表示領域E2に貼り付けられている。駆動基板3の第1の主面3aには、配線基板6の実装位置に合わせて複数の電極が形成されている。接着フィルム8は、それらの電極形成部を含む配線基板6の実装位置に合わせて駆動基板3の第1の主面3aに貼り付けられている。配線基板6は、接着フィルム8を介して駆動基板3の第1の主面3a上に実装されている。   The adhesive film 8 is attached to the non-display area E <b> 2 of the drive substrate 3 corresponding to the mounting position of the wiring substrate 6. A plurality of electrodes are formed on the first main surface 3 a of the drive substrate 3 in accordance with the mounting position of the wiring substrate 6. The adhesive film 8 is affixed to the first main surface 3a of the drive substrate 3 in accordance with the mounting position of the wiring substrate 6 including those electrode forming portions. The wiring substrate 6 is mounted on the first main surface 3 a of the drive substrate 3 via the adhesive film 8.

接着フィルム7,8としては、異方性導電フィルム(Anisotropic Conductive Film)を用いることができる。異方性導電フィルムは、絶縁性の樹脂中に導電性の粒子を分散させたものである。このため、異方性導電フィルムは、厚み方向に導電性を有し、それと直交する面方向に絶縁性を有するものとなっている。   As the adhesive films 7 and 8, an anisotropic conductive film can be used. An anisotropic conductive film is obtained by dispersing conductive particles in an insulating resin. For this reason, an anisotropic conductive film has electroconductivity in the thickness direction, and has insulation in the surface direction orthogonal to it.

接着フィルム7としては、異方性導電フィルムに限らず、非導電フィルム(Non-Conductive Film)を用いることもできる。非導電フィルムは、導電性の粒子を含まない、絶縁性の樹脂で形成されるものである。   The adhesive film 7 is not limited to an anisotropic conductive film, and a non-conductive film can also be used. The non-conductive film is formed of an insulating resin that does not include conductive particles.

<2.表示装置の製造方法>
続いて、本発明の実施の形態に係る液晶表示装置の製造方法について説明する。
<2. Manufacturing method of display device>
Next, a manufacturing method of the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention will be described.

[実装工程]
図3は本発明の実施の形態に係る液晶表示装置を製造する場合に適用される実装工程のフロー図である。図示のように、実装工程F10は、第1の実装工程F11と、第2の実装工程F12とに分かれている。第2の実装工程F12は、第1の実装工程F11の後に行なわれる。
[Mounting process]
FIG. 3 is a flowchart of a mounting process applied when manufacturing the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention. As illustrated, the mounting process F10 is divided into a first mounting process F11 and a second mounting process F12. The second mounting process F12 is performed after the first mounting process F11.

[第1の実装工程]
まず、第1の実装工程F11について説明する。第1の実装工程F11は、駆動基板3の非表示領域E2に配線基板6を実装する工程であって、駆動基板3に半導体素子5を実装する前に行なわれる。第1の実装工程F11は、上記図3に示すように、貼り付け工程11aと、本圧着工程11bとを有する。第1の実装工程F11で採用する実装方式は、駆動基板3がガラス基板であるとすると、ガラス基板上にフィルム状の配線基板6を実装することから、FOG(film on glass)実装方式とも呼ばれる。
[First mounting process]
First, the first mounting process F11 will be described. The first mounting process F <b> 11 is a process of mounting the wiring board 6 in the non-display area E <b> 2 of the driving substrate 3 and is performed before mounting the semiconductor element 5 on the driving substrate 3. As shown in FIG. 3, the first mounting process F11 includes an attaching process 11a and a main press bonding process 11b. The mounting method employed in the first mounting process F11 is also referred to as a FOG (film on glass) mounting method because the film-like wiring substrate 6 is mounted on the glass substrate when the driving substrate 3 is a glass substrate. .

[貼り付け工程]
貼り付け工程F11aでは、図4(A)に示すように、配線基板6に形成されている端子の位置に対応して当該配線基板6の端部(端子形成部位)に接着フィルム8を貼り付ける。このとき、接着フィルム8の端部と配線基板6の端部を揃える。これにより、配線基板6に形成されている端子が接着フィルム8で覆われた状態となる。
[Paste process]
In the attaching step F11a, as shown in FIG. 4A, the adhesive film 8 is attached to the end portion (terminal forming portion) of the wiring board 6 corresponding to the position of the terminal formed on the wiring board 6. . At this time, the end of the adhesive film 8 and the end of the wiring substrate 6 are aligned. As a result, the terminals formed on the wiring board 6 are covered with the adhesive film 8.

[本圧着工程]
本圧着工程F11bでは、図4(B)に示すように、上記貼り付け工程F11aで接着フィルム8を貼り付けた配線基板6を、駆動基板3の所定位置に位置決めした後、加圧及び加熱により駆動基板3に圧着(本圧着)する。これにより、駆動基板3に対して配線基板6が電気的かつ機械的に接続された状態となる。
[Main crimping process]
In the main press-bonding step F11b, as shown in FIG. 4B, after the wiring substrate 6 to which the adhesive film 8 has been attached in the attaching step F11a is positioned at a predetermined position of the driving substrate 3, by pressurization and heating. The drive substrate 3 is pressure bonded (main pressure bonded). As a result, the wiring board 6 is electrically and mechanically connected to the driving board 3.

[第2の実装工程]
次に、第2の実装工程F12について説明する。第2の実装工程F12は、駆動基板3の非表示領域E2に半導体素子5を実装する工程であって、駆動基板3に配線基板6を実装した後に行なわれる。第2の実装工程F12は、上記図3に示すように、貼り付け工程F12aと、仮圧着工程F12bと、本圧着工程F12cとを有する。第2の実装工程F12で採用する実装方式は、駆動基板3がガラス基板であるとすると、ガラス基板上にチップ状の半導体素子5を実装することから、COG(chip on glass)実装方式とも呼ばれる。
[Second mounting process]
Next, the second mounting process F12 will be described. The second mounting step F <b> 12 is a step of mounting the semiconductor element 5 in the non-display area E <b> 2 of the driving substrate 3 and is performed after mounting the wiring substrate 6 on the driving substrate 3. As shown in FIG. 3, the second mounting process F12 includes a bonding process F12a, a temporary pressure bonding process F12b, and a main pressure bonding process F12c. The mounting method employed in the second mounting step F12 is also called a COG (chip on glass) mounting method because the chip-like semiconductor element 5 is mounted on the glass substrate when the driving substrate 3 is a glass substrate. .

[貼り付け工程]
貼り付け工程F12aでは、図5(A)に示すように、半導体素子5の実装位置に対応して駆動基板3の非表示領域E2に接着フィルム7を貼り付ける。半導体素子5の実装位置は、半導体素子5と電気的に接続するために駆動基板3に形成された電極の位置に合わせて決まる。接着フィルム7の貼り付けに際しては、半導体素子5の実装位置を接着フィルム7で確実に覆うために、少なくとも半導体素子5の実装位置よりも広い面積をもって駆動基板3の第1の主面3aに接着フィルム7を貼り付ける。
[Paste process]
In the attaching step F12a, the adhesive film 7 is attached to the non-display area E2 of the drive substrate 3 corresponding to the mounting position of the semiconductor element 5, as shown in FIG. The mounting position of the semiconductor element 5 is determined in accordance with the position of the electrode formed on the drive substrate 3 in order to be electrically connected to the semiconductor element 5. When the adhesive film 7 is attached, in order to reliably cover the mounting position of the semiconductor element 5 with the adhesive film 7, the adhesive film 7 is bonded to the first main surface 3a of the drive substrate 3 with a larger area than at least the mounting position of the semiconductor element 5. A film 7 is pasted.

具体的な貼り付け方法としては、例えば、次のような方法が用いられる。セパレータのついた異方性導電フィルムからなる接着フィルム7を使用する場合は、当該セパレータ付きの接着フィルム7を表示パネル2の駆動基板3の上方に配置し、そこで半導体素子5の実装位置に合わせて接着フィルム7を位置決めする。次に、接着フィルム7の上から図示しないヘッドを下ろして、接着フィルム7をヘッドと一緒に下降させることにより、接着フィルム7を駆動基板3に貼り付ける。ヘッドの大きさは、対向基板4の貼り合わせ位置や配線基板6の実装位置に干渉しない大きさになっている。次に、接着フィルム7からセパレータを剥がす。   As a specific pasting method, for example, the following method is used. When the adhesive film 7 made of an anisotropic conductive film with a separator is used, the adhesive film 7 with the separator is disposed above the drive substrate 3 of the display panel 2 and is aligned with the mounting position of the semiconductor element 5 there. Then, the adhesive film 7 is positioned. Next, the head (not shown) is lowered from above the adhesive film 7 and the adhesive film 7 is lowered together with the head, so that the adhesive film 7 is attached to the drive substrate 3. The size of the head is such that it does not interfere with the bonding position of the counter substrate 4 or the mounting position of the wiring substrate 6. Next, the separator is peeled off from the adhesive film 7.

その際、半導体素子5の実装位置からはみ出す接着フィルム7の余剰部のうち、配線基板6の実装位置に干渉するほど接着フィルム7の一部7aが大きくはみ出す場合は、当該接着フィルム7の一部7aを、配線基板6の上に乗り上げるように重ね合わせる。これにより、接着フィルム7の一部7aは、上記第1の実装工程F11で駆動基板3に実装した配線基板6の上に重なった状態となる。この場合、配線基板6及び接着フィルム8を合わせた厚み寸法は、対向基板4の厚み寸法に比較して十分に小さい。このため、配線基板6の上に接着フィルム7の一部7aを重ねた状態で、駆動基板3に接着フィルム7を貼り付けても、接着フィルム7の貼り付け不良や貼り付け位置のずれなどが生じる恐れはない。また、接着フィルム7の一部7aが配線基板6の実装位置に干渉するほど大きくはみ出さない場合は、接着フィルム7の一部7aを配線基板6の上に重ねることなく駆動基板3に貼り合わせる。その場合は、接着フィルム7全体が駆動基板3に貼り付けられることになる。   At that time, when a part 7a of the adhesive film 7 protrudes so large as to interfere with the mounting position of the wiring board 6 among the surplus parts of the adhesive film 7 protruding from the mounting position of the semiconductor element 5, a part of the adhesive film 7 7a is superposed so as to ride on the wiring board 6. Thereby, a part 7a of the adhesive film 7 is in a state of being overlaid on the wiring substrate 6 mounted on the driving substrate 3 in the first mounting step F11. In this case, the combined thickness dimension of the wiring substrate 6 and the adhesive film 8 is sufficiently smaller than the thickness dimension of the counter substrate 4. For this reason, even if the adhesive film 7 is pasted on the drive substrate 3 in a state where the part 7a of the adhesive film 7 is overlapped on the wiring board 6, there is a problem of poor pasting of the adhesive film 7 or displacement of the pasting position. There is no fear. Further, when the part 7 a of the adhesive film 7 does not protrude so much as to interfere with the mounting position of the wiring board 6, the part 7 a of the adhesive film 7 is bonded to the driving board 3 without overlapping the wiring board 6. . In that case, the entire adhesive film 7 is affixed to the drive substrate 3.

[仮圧着工程]
仮圧着工程F12bでは、図5(B)に示すように、貼り付け工程F12aで貼り付けた接着フィルム7上の所定位置に半導体素子5を位置決めして仮付けする。具体的には、例えば、半導体素子5を図示しないヘッドで保持し、その状態で半導体素子5を駆動基板3の上方で位置決めした後、ヘッドの下降により半導体素子5を接着フィルム7に押し付ける。これにより、駆動基板3に形成されている電極とこれに対応して半導体素子5に形成されている電極の位置が合わせられる。また、駆動基板3の非表示領域E2には、先に実装した配線基板6と並べて半導体素子5が実装される。
[Temporary crimping process]
In the temporary press-bonding step F12b, as shown in FIG. 5B, the semiconductor element 5 is positioned and temporarily attached to a predetermined position on the adhesive film 7 attached in the attaching step F12a. Specifically, for example, the semiconductor element 5 is held by a head (not shown), and the semiconductor element 5 is positioned above the drive substrate 3 in that state, and then the semiconductor element 5 is pressed against the adhesive film 7 by lowering the head. Thereby, the positions of the electrodes formed on the drive substrate 3 and the electrodes formed on the semiconductor element 5 corresponding thereto are aligned. In addition, the semiconductor element 5 is mounted in the non-display area E2 of the drive substrate 3 along with the wiring substrate 6 mounted previously.

[本圧着工程]
本圧着工程F12cでは、仮圧着工程F12bで仮圧着した半導体素子5を駆動基板3に押し付けるように高温の圧着ヘッドで加圧及び加熱する。これにより、半導体素子5が接着フィルム7の接着作用により駆動基板3に強固に接合された状態となる。仮圧着工程F12bで使用するヘッドと、本圧着工程F12cで使用するヘッド(圧着ヘッド)は、共通のヘッドであってもよいし、別個のヘッドであってもよい。
[Main crimping process]
In the main pressure bonding process F12c, the semiconductor element 5 temporarily bonded in the temporary pressure bonding process F12b is pressurized and heated by a high-temperature pressure bonding head so as to press against the drive substrate 3. As a result, the semiconductor element 5 is firmly bonded to the drive substrate 3 by the adhesive action of the adhesive film 7. The head used in the temporary press-bonding step F12b and the head (crimp head) used in the main press-bonding step F12c may be a common head or separate heads.

以上述べた実装工程F10のなかで、第1の実装工程F11では、駆動基板3の非表示領域E2に接着フィルム8を貼り付けた後、当該接着フィルム8を介して駆動基板3の非表示領域E2に配線基板6を実装する。また、第1の実装工程F11の後で行なわれる第2の実装工程F12では、駆動基板3の非表示領域E2に接着フィルム7を貼り付けた後、当該接着フィルム7を介して駆動基板3の非表示領域E2に半導体素子5を実装する。また、第2の実装工程F12では、第1の実装工程F11で実装した配線基板6と並べて駆動基板3の非表示領域E2に半導体素子5を実装する。また、第2の実装工程F12では、第1の実装工程F11で実装した配線基板6の上に接着フィルム7の一部7aを重ねた状態で、駆動基板3の非表示領域E2に接着フィルム7を貼り付ける。   Among the mounting processes F10 described above, in the first mounting process F11, after the adhesive film 8 is attached to the non-display area E2 of the drive substrate 3, the non-display area of the drive substrate 3 is interposed via the adhesive film 8. The wiring board 6 is mounted on E2. In the second mounting step F12 performed after the first mounting step F11, the adhesive film 7 is attached to the non-display area E2 of the drive substrate 3, and then the drive substrate 3 is interposed via the adhesive film 7. The semiconductor element 5 is mounted in the non-display area E2. In the second mounting step F12, the semiconductor element 5 is mounted in the non-display area E2 of the drive substrate 3 along with the wiring substrate 6 mounted in the first mounting step F11. In the second mounting step F12, the adhesive film 7 is applied to the non-display area E2 of the drive substrate 3 in a state where a part 7a of the adhesive film 7 is overlapped on the wiring substrate 6 mounted in the first mounting step F11. Paste.

このような製造方法を採用すれば、半導体素子5及び配線基板6の並び方向において、両者(5,6)の間に接着フィルム7の余剰部を逃がすためのスペースを確保する必要がなくなる。したがって、駆動基板4と半導体素子5の間の離間距離や、半導体素子5と配線基板6の間の離間距離を、理想とする外形寸法の接着フィルム7を使用した場合と同じ寸法に設定することができる。   If such a manufacturing method is adopted, it is not necessary to secure a space for escaping the excess portion of the adhesive film 7 between the two (5, 6) in the direction in which the semiconductor element 5 and the wiring substrate 6 are arranged. Accordingly, the separation distance between the driving substrate 4 and the semiconductor element 5 and the separation distance between the semiconductor element 5 and the wiring substrate 6 should be set to the same dimensions as when the adhesive film 7 having an ideal outer dimension is used. Can do.

例えば、接着フィルム7の理想的な幅寸法が、“チップ幅+200μm”で規定されるものとすると、チップ幅が1140μmの半導体素子5を実装する場合は、接着フィルム7の理想的な幅寸法が1340μmとなる。この場合、理想する1340μm幅の接着フィルム7が存在せず、それよりも大きな接着フィルムで理想寸法に最も近いフィルム幅が1800μmであったと仮定する。そうした場合は、1800μm幅の接着フィルム7を使用して半導体素子5を駆動基板3に実装することになる。   For example, when the ideal width dimension of the adhesive film 7 is defined by “chip width + 200 μm”, when the semiconductor element 5 having a chip width of 1140 μm is mounted, the ideal width dimension of the adhesive film 7 is 1340 μm. In this case, it is assumed that the ideal adhesive film 7 having a width of 1340 μm does not exist, and the film width closest to the ideal dimension with an adhesive film larger than that is 1800 μm. In such a case, the semiconductor element 5 is mounted on the drive substrate 3 using the adhesive film 7 having a width of 1800 μm.

このため、対向基板4の貼り合わせ位置に干渉することなく、半導体素子5の実装位置を接着フィルム7で確実に覆うためには、各部材の寸法公差や設備の能力などを考慮して、各部材間の距離を例えば図6のように設定する必要がある。図6においては、対向基板4の端部から200μmの距離を隔てた位置に接着フィルム7の一方の端部を配置している。このため、対向基板4と半導体素子5との間の離間距離を300μmに設定している。また、半導体素子5と配線基板6との間の離間距離は、対向基板4と半導体素子5の間の離間距離と同じ300μmに設定している。また、半導体素子5の実装位置から配線基板6側にはみ出す接着フィルム7の一部(余剰部)7aは、配線基板6の上に重なっている。   For this reason, in order to reliably cover the mounting position of the semiconductor element 5 with the adhesive film 7 without interfering with the bonding position of the counter substrate 4, in consideration of the dimensional tolerance of each member, the capability of equipment, etc. For example, the distance between the members needs to be set as shown in FIG. In FIG. 6, one end portion of the adhesive film 7 is disposed at a position separated from the end portion of the counter substrate 4 by a distance of 200 μm. For this reason, the separation distance between the counter substrate 4 and the semiconductor element 5 is set to 300 μm. Further, the separation distance between the semiconductor element 5 and the wiring substrate 6 is set to 300 μm, which is the same as the separation distance between the counter substrate 4 and the semiconductor element 5. Further, a part (excess part) 7 a of the adhesive film 7 that protrudes from the mounting position of the semiconductor element 5 to the wiring board 6 side overlaps the wiring board 6.

このように接着フィルム7の一部7aを配線基板6の上に重ねた状態で、接着フィルム7の余剰部を配線基板6側に逃がすことにより、次のような効果が得られる。すなわち、理想とする1340μm幅よりも大きい1800μm幅の接着フィルム7を使用した場合でも、理想とする1340μm幅の接着フィルムを使用した場合(図16を参照)と同様に、部材間の離間距離を設定することができる。具体的には、対向基板4と半導体素子5との間の離間距離と、半導体素子5と配線基板6との間の離間距離を、それぞれ300μmに設定することができる。このため、理想寸法よりも大きい1800μm幅の接着テープを使用しているにもかかわらず、対向基板4と配線基板6の間の離間距離は、理想とする1340μm幅の接着テープを使用した場合と同様に1740μmとなる。したがって、上記図15に示す実装形態と比べて、対向基板4と配線基板6の間の離間距離を460μm短縮することができる。   Thus, the following effects are acquired by letting the excess part of the adhesive film 7 escape to the wiring board 6 side in the state where the part 7a of the adhesive film 7 is overlapped on the wiring board 6. That is, even when the 1800 μm wide adhesive film 7 larger than the ideal 1340 μm width is used, the separation distance between the members is set as in the case of using the ideal 1340 μm wide adhesive film (see FIG. 16). Can be set. Specifically, the separation distance between the counter substrate 4 and the semiconductor element 5 and the separation distance between the semiconductor element 5 and the wiring board 6 can be set to 300 μm, respectively. For this reason, the distance between the counter substrate 4 and the wiring substrate 6 is the same as the case where the ideal 1340 μm wide adhesive tape is used, although the 1800 μm wide adhesive tape larger than the ideal dimension is used. Similarly, it is 1740 μm. Therefore, as compared with the mounting form shown in FIG. 15, the separation distance between the counter substrate 4 and the wiring substrate 6 can be shortened by 460 μm.

その結果、液晶表示装置の狭額縁化を実現することができる。また、単位面積あたりのパネル基板材料から作り出せる表示パネルの個数を増やすことができる。このため、液晶表示装置のコストダウンを図ることができる。また、接着フィルム7の一部7aを配線基板6の上に重ねることで、両者の位置的な干渉が許容されるため、接着フィルム7の外形寸法に依存することなく、半導体素子5や配線基板6の実装位置を決めることができる。さらに、半導体素子5や配線基板6の実装位置を決めるにあたって、接着フィルム7の寸法(フィルム幅)の公差を考慮しなくても済む。   As a result, a narrow frame of the liquid crystal display device can be realized. In addition, the number of display panels that can be created from the panel substrate material per unit area can be increased. For this reason, the cost of the liquid crystal display device can be reduced. In addition, since a part of the adhesive film 7 is overlapped on the wiring substrate 6 to allow positional interference between the two, the semiconductor element 5 and the wiring substrate can be used without depending on the external dimensions of the adhesive film 7. 6 mounting positions can be determined. Furthermore, in determining the mounting position of the semiconductor element 5 and the wiring board 6, it is not necessary to consider the tolerance of the dimension (film width) of the adhesive film 7.

本発明に係る表示装置は、液晶表示装置だけでなく、他の平面型表示装置、例えば有機EL(Electro Luminescence)表示装置にも適用可能である。また、駆動基板3の1辺だけに非表示領域を有するものだけでなく、駆動基板3の2辺以上に非表示領域を有するものにも適用可能である。また、駆動基板3の非表示領域に実装される半導体素子5の個数は、1個に限らず、複数個であってもよい。同様に、駆動基板3の非表示領域に実装されるFPC基板6の個数も、1個に限らず、複数個であってもよい。   The display device according to the present invention is applicable not only to a liquid crystal display device but also to other flat display devices such as an organic EL (Electro Luminescence) display device. Further, the present invention can be applied not only to one having a non-display region on only one side of the drive substrate 3 but also to one having a non-display region on two or more sides of the drive substrate 3. Further, the number of semiconductor elements 5 mounted in the non-display area of the drive substrate 3 is not limited to one, and may be plural. Similarly, the number of FPC boards 6 mounted on the non-display area of the drive board 3 is not limited to one and may be plural.

<3.適用例>
本発明に係る表示装置は様々な電子機器に適用可能である。例えば、電子機器に入力された映像信号、又は、電子機器内で生成した映像信号を、画像又は映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用可能である。具体的には、例えば、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置、ビデオカメラなどに適用可能である。以下に、本発明が適用される電子機器の一例について説明する。
<3. Application example>
The display device according to the present invention can be applied to various electronic devices. For example, the present invention can be applied to display devices of electronic devices in all fields that display video signals input to electronic devices or video signals generated in electronic devices as images or videos. Specifically, for example, the present invention can be applied to a digital camera, a notebook personal computer, a mobile terminal device such as a mobile phone, a video camera, and the like. An example of an electronic device to which the present invention is applied will be described below.

図7は第1適用例となるテレビを示す斜視図である。本適用例に係るテレビは、フロントパネル102やフィルターガラス103等から構成される映像表示画面部101を含み、その映像表示画面部101に本発明の表示装置を適用可能である。   FIG. 7 is a perspective view showing a television as a first application example. The television according to this application example includes a video display screen unit 101 including a front panel 102, a filter glass 103, and the like, and the display device of the present invention can be applied to the video display screen unit 101.

図8は第2適用例となるデジタルカメラを示す図であり、(A)は表側から見た斜視図、(B)は裏側から見た斜視図である。本適用例に係るデジタルカメラは、フラッシュ用の発光部111、表示部112、メニュースイッチ113、シャッターボタン114等を含み、その表示部112に本発明の表示装置を適用可能である。   8A and 8B are diagrams showing a digital camera as a second application example, where FIG. 8A is a perspective view seen from the front side, and FIG. 8B is a perspective view seen from the back side. The digital camera according to this application example includes a light emitting unit 111 for flash, a display unit 112, a menu switch 113, a shutter button 114, and the like, and the display device of the present invention can be applied to the display unit 112.

図9は第3適用例となるノート型パーソナルコンピュータを示す斜視図である。本適用例に係るノート型パーソナルコンピュータは、本体121に、文字等を入力するとき操作されるキーボード122、画像を表示する表示部123等を含み、その表示部123に本発明の表示装置を適用可能である。   FIG. 9 is a perspective view showing a notebook personal computer as a third application example. The notebook personal computer according to this application example includes a main body 121 including a keyboard 122 operated when inputting characters and the like, a display unit 123 that displays an image, and the like, and the display device of the present invention is applied to the display unit 123. Is possible.

図10は第4適用例となるビデオカメラを示す斜視図である。本適用例に係るビデオカメラは、本体部131、前方を向いた側面に被写体撮影用のレンズ132、撮影時のスタート/ストップスイッチ133、表示部134等を含み、その表示部134に本発明の表示装置を適用可能である。   FIG. 10 is a perspective view showing a video camera as a fourth application example. The video camera according to this application example includes a main body 131, a lens 132 for photographing an object on a side facing forward, a start / stop switch 133 at the time of photographing, a display unit 134, and the like. A display device can be applied.

図11は第5適用例となる携帯端末装置、例えば携帯電話機を示す図である。図中の(A)は携帯電話機を開いた状態での正面図、(B)はその側面図である。また、図中の(C)は携帯電話機を閉じた状態での正面図、(D)は左側面図、(E)は右側面図、(F)は上面図、(G)は下面図である。本適用例に係る携帯電話機は、上側筐体141、下側筐体142、連結部(ここではヒンジ部)143、ディスプレイ144、サブディスプレイ145、ピクチャーライト146、カメラ147等を含んでいる。そして、そのディスプレイ144やサブディスプレイ145に本発明の表示装置を適用可能である。   FIG. 11 is a diagram showing a mobile terminal device, for example, a mobile phone, as a fifth application example. (A) in a figure is a front view in the state which opened the mobile telephone, (B) is the side view. Also, (C) in the figure is a front view with the mobile phone closed, (D) is a left side view, (E) is a right side view, (F) is a top view, and (G) is a bottom view. is there. A cellular phone according to this application example includes an upper casing 141, a lower casing 142, a connecting portion (here, a hinge portion) 143, a display 144, a sub-display 145, a picture light 146, a camera 147, and the like. The display device of the present invention can be applied to the display 144 and the sub display 145.

3…駆動基板、4…対向基板、5…半導体素子、6…配線基板、7…接着フィルム   3 ... Drive substrate, 4 ... Counter substrate, 5 ... Semiconductor element, 6 ... Wiring substrate, 7 ... Adhesive film

Claims (5)

表示領域と非表示領域を有する基板と、
前記基板の非表示領域に接着フィルムを用いて実装された半導体素子と、
前記基板の非表示領域に前記半導体素子と並んで実装された配線基板と
を備える表示装置を製造する場合に、
前記基板の非表示領域に前記配線基板を実装する第1の実装工程と、
前記基板の非表示領域に前記接着フィルムを貼り付けた後、前記第1の実装工程で実装した前記配線基板と並べて前記基板の非表示領域に前記半導体素子を実装する第2の実装工程と
を行なう表示装置の製造方法。
A substrate having a display area and a non-display area;
A semiconductor element mounted using an adhesive film in a non-display area of the substrate;
When manufacturing a display device comprising a wiring board mounted in parallel with the semiconductor element in a non-display area of the substrate,
A first mounting step of mounting the wiring substrate on a non-display area of the substrate;
A second mounting step of mounting the semiconductor element in the non-display region of the substrate side by side with the wiring substrate mounted in the first mounting step after the adhesive film is attached to the non-display region of the substrate; A method for manufacturing a display device.
前記第2の実装工程では、前記第1の実装工程で実装した前記配線基板の上に前記接着フィルムの一部を重ねる状態で、前記基板の非表示領域に前記接着フィルムを貼り付ける
請求項1記載の表示装置の製造方法。
2. In the second mounting step, the adhesive film is attached to a non-display area of the substrate in a state where a part of the adhesive film is overlaid on the wiring substrate mounted in the first mounting step. The manufacturing method of the display apparatus of description.
表示領域と非表示領域を有する基板と、
前記基板の非表示領域に接着フィルムを用いて実装された半導体素子と、
前記基板の非表示領域に前記半導体素子と並んで実装された配線基板と
を備え、
前記接着フィルムは、前記半導体素子の実装位置に対応して前記基板の非表示領域に貼り付けられるとともに、当該接着フィルムの一部は、前記基板の非表示領域に実装された前記配線基板の上に重なる状態で配置されている
表示装置。
A substrate having a display area and a non-display area;
A semiconductor element mounted using an adhesive film in a non-display area of the substrate;
A wiring board mounted side by side with the semiconductor element in a non-display area of the board,
The adhesive film is attached to the non-display area of the substrate corresponding to the mounting position of the semiconductor element, and a part of the adhesive film is placed on the wiring board mounted on the non-display area of the substrate. A display device that is placed in a state of overlapping.
前記接着フィルムは、異方性導電フィルム又は非導電フィルムである
請求項3記載の表示装置。
The display device according to claim 3, wherein the adhesive film is an anisotropic conductive film or a non-conductive film.
表示領域と非表示領域を有する基板と、
前記基板の非表示領域に接着フィルムを用いて実装された半導体素子と、
前記基板の非表示領域に前記半導体素子と並んで実装された配線基板と
を備え、
前記接着フィルムは、前記半導体素子の実装位置に対応して前記基板の非表示領域に貼り付けられるとともに、当該接着フィルムの一部は、前記基板の非表示領域に実装された前記配線基板の上に重なる状態で配置されている
表示装置を有する電子機器。
A substrate having a display area and a non-display area;
A semiconductor element mounted using an adhesive film in a non-display area of the substrate;
A wiring board mounted side by side with the semiconductor element in a non-display area of the board,
The adhesive film is attached to the non-display area of the substrate corresponding to the mounting position of the semiconductor element, and a part of the adhesive film is placed on the wiring board mounted on the non-display area of the substrate. An electronic device having a display device arranged so as to overlap with the display device.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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