JP2010234067A - Gas sterilization, pasteurization method and device of capillary part - Google Patents

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法喜 大澤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gas sterilization, pasteurization method and device of a capillary part which can gas-sterilize and pasteurize the capillary part without depending on a kind of gas. <P>SOLUTION: When the capillary part 11 to be sterilized is accommodated in a sterilization chamber 10 to sterilize and pasteurize the capillary part 11, in a vacuum buffer tank 81, an introducing port 83 formed with an orifice and a check valve 85 are provided to form a vacuum cartridge 80. The capillary part 11 is connected to the vacuum buffer tank 81 through the introducing port 83 and the capillary part 11 and the vacuum cartridge 80 are accommodated in the sterilization chamber 10. Then, the pressure of the sterilization chamber 10 is reduced and vacuum energy is accumulated in the vacuum buffer tank 81 through the check valve 85, and a sterilization gas is supplied to the sterilization chamber 10 to suck the sterilization gas to the vacuum buffer tank 81 through the capillary part 11 and the introducing port 83 and sterilize the capillary part 11. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、細管部の内外をオゾン等のガスで殺菌するための細管部のガス殺菌・滅菌方法及び装置に関するものである。   The present invention relates to a gas sterilization / sterilization method and apparatus for a thin tube portion for sterilizing the inside and outside of the thin tube portion with a gas such as ozone.

現在利用または開発されているガス殺菌・滅菌方法および装置としてはエチレンオキサイドガス(EOG)滅菌、過酸化水素ガス(VHP)殺菌、低温プラズマ(VHP+プラズマ)滅菌、ホルムアルデヒドガス殺菌、オゾンガス殺菌・滅菌などがある。   Gas sterilization / sterilization methods and devices currently used or developed include ethylene oxide gas (EOG) sterilization, hydrogen peroxide gas (VHP) sterilization, low temperature plasma (VHP + plasma) sterilization, formaldehyde gas sterilization, ozone gas sterilization / sterilization, etc. There is.

ガス滅菌手法は、高圧蒸気滅菌のように熱を利用した滅菌手法と異なり、物理的に滅菌剤であるガスが滅菌したい部位に到達し、微生物と反応することによって滅菌するものである。したがってカテーテルなど細管部等の狭隘を有する滅菌対象物の場合は、ガスが到達し難いため、滅菌ガス雰囲気中に対象物を配置しただけでは滅菌が困難といわれている。   The gas sterilization technique is different from a sterilization technique using heat such as high-pressure steam sterilization, in which gas that is a sterilizing agent physically reaches a site to be sterilized and reacts with microorganisms to sterilize. Therefore, in the case of an object to be sterilized such as a narrow tube part such as a catheter, it is difficult for gas to reach. Therefore, it is said that sterilization is difficult only by placing the object in a sterilized gas atmosphere.

そこで一般的にはEOG滅菌に代表されるように滅菌チャンバー内の減圧・ガス再導入を繰り返すことによって細管対象物への滅菌ガス浸透効果を高める方法が採用されている。しかし、滅菌剤となるガス種の拡散特性によっては減圧・再導入だけでは滅菌効果が得られないという問題がある。   Therefore, generally, as represented by EOG sterilization, a method of increasing the sterilization gas permeation effect into the thin tube object by repeating decompression and gas reintroduction in the sterilization chamber is adopted. However, depending on the diffusion characteristics of the gas species used as the sterilant, there is a problem that the sterilization effect cannot be obtained only by decompression and reintroduction.

従来この問題を解決するための様々な試みがなされている。   Conventionally, various attempts have been made to solve this problem.

例えば低温プラズマ滅菌では小型カートリッジ方式が採用されている。   For example, in low temperature plasma sterilization, a small cartridge system is adopted.

この方式は滅菌剤である液体過酸化水素の小型カートリッジを細管対象物に接続した上でチャンバー内の減圧・復圧を繰り返し小型カートリッジから気化したVHPを細管対象物に直接供給することで効果的な滅菌を可能としている(特許文献2)。   This method is effective by connecting a small cartridge of liquid hydrogen peroxide, which is a sterilizing agent, to the capillary object, and then supplying VHP vaporized from the small cartridge directly to the capillary object by repeatedly depressurizing and restoring the pressure in the chamber. Sterilization is possible (Patent Document 2).

しかしこの方式はガスの気化・液化・濃縮保存が難しいガス種の場合には適用できない。また、この小型カートリッジは細管対象物に接続するまでの誤流出防止対策は考えられているが、滅菌完了後に滅菌剤が残留する可能性がある。   However, this method cannot be applied to gas types that are difficult to vaporize, liquefy, and concentrate. In addition, although this small cartridge has been considered to prevent erroneous outflow until it is connected to a thin tube object, a sterilant may remain after sterilization is completed.

一方オゾンガス殺菌・滅菌ではオゾンの自己分解が早く濃縮保存も困難なため小型カートリッジによる方式は採用できない。   On the other hand, in ozone gas sterilization and sterilization, the self-decomposition of ozone is fast and it is difficult to condense and store it.

そこでオゾンガス殺菌・滅菌では循環供給方式が提案されている。この方式は滅菌工程中にチャンバー内のオゾンガスを直接細管対象物に循環供給する方法である(特許文献1、3、4)。   Therefore, a circulation supply system has been proposed for ozone gas sterilization and sterilization. This method is a method in which ozone gas in the chamber is directly circulated and supplied to the capillary object during the sterilization process (Patent Documents 1, 3, and 4).

特開平11−347106号公報JP 11-347106 A 特開平09−000609号公報JP 09-000609 A 特表平09−501845号公報Japanese National Patent Publication No. 09-501845 特表平06−510932号公報Japanese National Patent Publication No. 06-510932

しかしこの方式では装置に専用のガス循環系統を追加する必要がある。また循環供給方式では滅菌完了後の無菌性確保が困難である。一般的に滅菌対象物は滅菌バッグという、滅菌ガスは透過するが菌は透過しない特殊な包装材で包装された状態で滅菌することによって滅菌後の保管時の無菌性が確保されるが、循環供給方式では装置側のガス循環系統と細管対象物をチャンバー内に設置した専用ポートを介して配管接続するため、滅菌バッグによる包装と干渉が生じるためである。   However, in this method, it is necessary to add a dedicated gas circulation system to the apparatus. In addition, it is difficult to ensure sterility after completion of sterilization in the circulation supply system. In general, the sterilization target is called a sterilization bag, and sterilization is performed with a special packaging material that allows sterilization gas to permeate but bacteria does not. This is because, in the supply system, the gas circulation system on the apparatus side and the thin tube object are connected by piping through a dedicated port installed in the chamber, which causes interference with packaging by a sterilization bag.

また細管滅菌のための準備作業時には通常は人の作業が介在するため、小型カートリッジ方式でも循環供給方式でも言える事であるが、人的ミスによって細管対象物が閉塞状態となり、滅菌できない可能性がある。さらに循環供給方式では、この閉塞状態によって、装置や細管部が壊れる可能性もある。   In addition, since human work is usually involved during preparatory work for thin tube sterilization, this can be said for both the small cartridge system and the circulation supply system. However, there is a possibility that the thin tube object will be blocked due to human error and cannot be sterilized. is there. Furthermore, in the circulation supply method, the device and the thin tube portion may be broken due to this closed state.

そこで、本発明の目的は、上記課題を解決し、ガス種に依存せずに細管部をガス殺菌・滅菌できる細管部のガス殺菌・滅菌方法及び装置を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a gas sterilization / sterilization method and apparatus for a thin tube portion that can solve the above-described problems and can sterilize and sterilize the thin tube portion without depending on the gas type.

上記目的を達成するために請求項1の発明は、殺菌チャンバー内に殺菌すべき細管部を収容し、その殺菌チャンバー内に殺菌ガスを供給すると共に細管部内に殺菌ガスを供給して殺菌・滅菌を行う細管部のガス殺菌・滅菌方法において、真空バッファタンクにオリフィスからなる導入ポートと逆止弁とを設けて真空カートリッジを形成し、その真空バッファタンクに導入ポートを介して細管部を接続すると共にその細管部と真空カートリッジを、殺菌チャンバー内に収容し、その後、殺菌チャンバー内を減圧すると共に逆止弁を介して真空バッファタンク内に真空エネルギを蓄積し、殺菌チャンバー内に殺菌ガスを供給して、その殺菌ガスを、細管部と導入ポートを通して真空バッファタンク内に吸引して細管部内を殺菌することを特徴とする細管部のガス殺菌・滅菌方法である。   In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, a narrow tube part to be sterilized is accommodated in a sterilization chamber, a sterilization gas is supplied into the sterilization chamber, and a sterilization gas is supplied into the narrow tube part to sterilize and sterilize. In the gas sterilization / sterilization method for the thin tube portion, the vacuum buffer tank is provided with an inlet port made of an orifice and a check valve to form a vacuum cartridge, and the thin tube portion is connected to the vacuum buffer tank through the inlet port At the same time, the narrow tube part and the vacuum cartridge are accommodated in the sterilization chamber, and then the sterilization chamber is decompressed and vacuum energy is accumulated in the vacuum buffer tank via the check valve, and sterilization gas is supplied into the sterilization chamber. The sterilizing gas is sucked into the vacuum buffer tank through the narrow tube portion and the introduction port, and the inside of the narrow tube portion is sterilized. A gas sterilization method of sterilizing a tubular portion.

請求項2の発明は、殺菌チャンバー内に殺菌すべき細管部を収容し、その殺菌チャンバー内に殺菌ガスを供給すると共に細管部内に殺菌ガスを供給して殺菌・滅菌を行う細管部のガス殺菌・滅菌装置において、真空バッファタンクにオリフィスからなる導入ポートと逆止弁とを設けて真空カートリッジを形成し、その真空バッファタンクに導入ポートを介して細管部を接続すると共にその細管部と真空カートリッジを、殺菌チャンバー内に収容し、その後、殺菌チャンバー内を減圧すると共に逆止弁を介して真空バッファタンク内に真空エネルギを蓄積し、殺菌チャンバー内に殺菌ガスを供給して、その殺菌ガスを、細管部と導入ポートを通して真空バッファタンクに吸引して細管部内を殺菌することを特徴とする細管部のガス殺菌・滅菌装置である。   According to the invention of claim 2, a narrow tube portion to be sterilized is housed in a sterilization chamber, a sterilization gas is supplied into the sterilization chamber, and a sterilization gas is supplied into the narrow tube portion for sterilization and sterilization. In a sterilization apparatus, a vacuum cartridge is formed by providing a vacuum buffer tank with an introduction port made of an orifice and a check valve, and a thin tube portion is connected to the vacuum buffer tank via the introduction port, and the thin tube portion and the vacuum cartridge Is stored in the sterilization chamber, and then the sterilization chamber is decompressed and vacuum energy is accumulated in the vacuum buffer tank via the check valve. The sterilization gas is supplied into the sterilization chamber, and the sterilization gas is removed. The gas sterilization / sterilization device for the narrow tube section is characterized by sterilizing the inside of the narrow tube section by sucking into the vacuum buffer tank through the narrow tube section and the introduction port. It is.

本発明によれば、細管部に殺菌ガスを供給して殺菌するにおいて、殺菌チャンバーと細管部に殺菌ガスを切り替えて供給することで、細管部の最適な殺菌が行える。また細管部が閉塞しているときに細管部へ供給する殺菌ガスをリリーフすることで、装置を保護できる。また細管部を真空カートリッジに接続し、真空カートリッジごと殺菌チャンバーに収容して殺菌するようにしたので、殺菌後はそのまま取り出しても、殺菌後の無菌性を維持できるという優れた効果を発揮するものである。   According to the present invention, when the sterilization gas is supplied to the narrow tube portion and sterilized, the sterilization gas can be switched to and supplied to the sterilization chamber and the thin tube portion, whereby the narrow tube portion can be optimally sterilized. Further, the device can be protected by relieving the sterilizing gas supplied to the narrow tube portion when the narrow tube portion is closed. In addition, the thin tube part is connected to the vacuum cartridge, and the entire vacuum cartridge is housed in the sterilization chamber so that it can be sterilized. It is.

本発明における殺菌チャンバーの詳細図である。It is detail drawing of the sterilization chamber in this invention. 図1における通常殺菌時の各機器の動作のシーケンスを説明する図である。It is a figure explaining the sequence of operation | movement of each apparatus at the time of the normal sterilization in FIG. 図1における細管部の殺菌時の各機器の動作のシーケンスを説明する図である。It is a figure explaining the sequence of operation | movement of each apparatus at the time of the disinfection of the thin tube part in FIG. 本発明において殺菌チャンバー内で細管部を殺菌する際に用いる真空カートリッジの一実施の形態を示す図である。It is a figure which shows one Embodiment of the vacuum cartridge used when sterilizing a thin tube part in a sterilization chamber in this invention.

以下、本発明の好適な一実施の形態を添付図面に基づいて詳述する。   A preferred embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

先ず、図1により殺菌チャンバーの基本構成を説明する。   First, the basic structure of the sterilization chamber will be described with reference to FIG.

図1において、10は、カテーテルなどの細管部11を収容する密閉された殺菌チャンバーで、オゾン供給手段12からのオゾン等の殺菌ガス(滅菌ガス)が殺菌チャンバー10内に供給されると共に、細管部11内にもオゾンが供給されるようになっている。   In FIG. 1, reference numeral 10 denotes a sealed sterilization chamber that accommodates a narrow tube portion 11 such as a catheter. A sterilization gas (sterilization gas) such as ozone from the ozone supply means 12 is supplied into the sterilization chamber 10, and the narrow tube Ozone is also supplied into the part 11.

オゾン供給手段12は、空気中の酸素を吸着し、吸着後酸素を脱着して酸素を製造する酸素製造装置13と、酸素製造装置13で製造された酸素をオゾンガスとするオゾナイザ14と、オゾナイザ14からのオゾンガスを殺菌チャンバー10や細管部11内に供給するオゾン供給ライン15とからなる。   The ozone supply means 12 adsorbs oxygen in the air, desorbs oxygen after adsorption to produce oxygen, an ozonizer 14 that uses oxygen produced by the oxygen production apparatus 13 as ozone gas, and an ozonizer 14. The ozone supply line 15 supplies ozone gas from the inside of the sterilization chamber 10 and the narrow tube portion 11.

オゾン供給ライン15は、オゾナイザ14からの上流側メインライン16に、第1三方弁17が接続され、その第1三方弁17で、メインライン16がチャンバー側ライン18と細管側ライン19に分岐され、さらにそのチャンバー側ライン18に第2三方弁20が接続され、その第2三方弁20で、チャンバー側ライン18が抵抗の異なるチャンバー側第1ライン(抵抗大)18aとチャンバー側第2ライン(抵抗小)18bに分岐され、細管側ライン19に第3三方弁21が接続され、その第3三方弁21で、細管側ライン19が、抵抗の異なる細管側第1ライン(抵抗大)19aと細管側第2ライン(抵抗小)19bに分岐され、これらライン18a、18b、19a、19bに開閉弁22a、22b、23a、23bが接続されると共に、その下流側のライン18a、18b、19a、19bが下流側メインライン24に合流され、そのメインライン24に第4三方弁25が接続され、そのメインライン24が、再度チャンバー側ライン26と細管側ライン27に分岐されて構成される。   In the ozone supply line 15, a first three-way valve 17 is connected to an upstream main line 16 from the ozonizer 14, and the main line 16 is branched into a chamber side line 18 and a narrow tube side line 19 by the first three-way valve 17. Further, a second three-way valve 20 is connected to the chamber-side line 18, and the second three-way valve 20 includes a chamber-side first line (large resistance) 18 a and a chamber-side second line ( Branching to a small tube side line 19, and a third three-way valve 21 is connected to the thin tube side line 19. The third three-way valve 21 is connected to a thin tube side first line (high resistance) 19a having a different resistance. When branching to the thin tube side second line (small resistance) 19b, the on-off valves 22a, 22b, 23a, 23b are connected to these lines 18a, 18b, 19a, 19b. The downstream lines 18a, 18b, 19a, 19b are joined to the downstream main line 24, the fourth three-way valve 25 is connected to the main line 24, and the main line 24 is connected to the chamber side line 26 again. It is configured to be branched into a narrow tube side line 27.

チャンバー側ライン26は、殺菌チャンバー10内に直接オゾンを吹き込むようにされ、細管側ライン27は、リリーフ弁28、フローメータ29を介して細管部11に接続されるようになっている。   The chamber side line 26 is configured to blow ozone directly into the sterilization chamber 10, and the thin tube side line 27 is connected to the thin tube portion 11 via a relief valve 28 and a flow meter 29.

リリーフ弁28のクラッキング圧は、接続される細管部11の配管抵抗以上で、構成機器や細管部11を保護できる圧力下限値以下に設定されている。リリーフ弁28の二次側には、リリーフライン30が接続され、後述するオゾンキラー31側に接続されるようになっている。なお、このリリーフライン30を接続せずにリリーフ弁28の二次側から直接殺菌チャンバー10に排気するようにしてもよい。   The cracking pressure of the relief valve 28 is set to be equal to or higher than the piping resistance of the connected narrow tube portion 11 and is equal to or lower than the pressure lower limit value capable of protecting the constituent devices and the thin tube portion 11. A relief line 30 is connected to the secondary side of the relief valve 28 and is connected to the ozone killer 31 side described later. It is noted that the exhaust line 30 may be exhausted directly from the secondary side of the relief valve 28 without connecting the relief line 30.

殺菌チャンバー10には、チャンバー10内のオゾンを排気弁32、オゾンキラー31、真空ポンプ33を介して排気する排気ライン34が接続される。   Connected to the sterilization chamber 10 is an exhaust line 34 for exhausting ozone in the chamber 10 through an exhaust valve 32, an ozone killer 31, and a vacuum pump 33.

殺菌チャンバー10には、オゾン濃度計35と循環ポンプ36からなるオゾン濃度モニタ37が接続され、チャンバー10内のオゾンをオゾン濃度計35を介して吸引した後、循環ポンプ36からチャンバー10に戻して常時オゾン濃度をモニタできるようになっている。   An ozone concentration monitor 37 comprising an ozone concentration meter 35 and a circulation pump 36 is connected to the sterilization chamber 10. After the ozone in the chamber 10 is sucked through the ozone concentration meter 35, the ozone is returned to the chamber 10 from the circulation pump 36. The ozone concentration can be monitored constantly.

殺菌チャンバー10には、プレフィルタ38、滅菌フィルタ39、開閉弁40が順次接続された外気吸引ライン41が接続される。   Connected to the sterilization chamber 10 is an external air suction line 41 to which a prefilter 38, a sterilization filter 39, and an on-off valve 40 are sequentially connected.

殺菌チャンバー10には、温度センサ42、湿度センサ43が設けられる。   The sterilization chamber 10 is provided with a temperature sensor 42 and a humidity sensor 43.

以上において、本発明では、オゾンガスなど滅菌剤となるガス種の拡散特性、自己分解特性、気化・液化・濃縮保存特性によらず細管部11の滅菌が可能で、且つ、細管部11に滅菌ガスが導入されたことの検知、さらに人的接続ミスからの装置や細管部の保護、残留する滅菌剤のパージなどが可能となる。なお本発明は滅菌や殺菌といった微生物制御レベルの区別なく適用が可能である。   As described above, in the present invention, the narrow tube section 11 can be sterilized regardless of the diffusion characteristics, self-decomposition characteristics, vaporization / liquefaction / concentration preservation characteristics of the gas species that are sterilizing agents such as ozone gas, and the sterilized gas is contained in the narrow tube section 11 It is possible to detect the introduction of the liquid, to protect the device and the thin tube portion from a human connection error, and to purge the remaining sterilant. In addition, this invention is applicable without distinction of microorganisms control levels, such as sterilization and disinfection.

以下に殺菌チャンバーを用いたガス殺菌・滅菌方法を説明する。   The gas sterilization / sterilization method using the sterilization chamber will be described below.

殺菌チャンバー10内に細管部11を収容し、細管部11を、細管側ライン27のフローメータ29に接続する。このフローメータ29、リリーフ弁28の接続専用ポートは作業性を考えて殺菌チャンバー10の入口側に設置すると良い。   The thin tube portion 11 is accommodated in the sterilization chamber 10, and the thin tube portion 11 is connected to the flow meter 29 of the thin tube side line 27. The connection port for the flow meter 29 and the relief valve 28 may be installed on the inlet side of the sterilization chamber 10 in consideration of workability.

細管部11の他端は、殺菌チャンバー10内で開放されている。   The other end of the thin tube portion 11 is opened in the sterilization chamber 10.

酸素製造装置13で製造された酸素は、オソナイザ14でオゾンとされ、オゾン供給ライン15からチャンバー側ライン26を介して、殺菌チャンバー10内に、或いは細管側ライン27から細管部11内に供給される。   Oxygen produced by the oxygen producing device 13 is converted into ozone by the ozonizer 14 and supplied from the ozone supply line 15 through the chamber side line 26 into the sterilization chamber 10 or from the narrow tube side line 27 into the narrow tube unit 11. The

この際、チャンバー側ライン26へは、第1三方弁17から第2三方弁20を介し、抵抗大の開閉弁22aを通して、或いは抵抗小の開閉弁22bを通して導入し、細管側ライン27へは、第1三方弁17から第3三方弁21を介し、抵抗大の開閉弁23aを通して、或いは抵抗小の開閉弁23bを通して導入する。   At this time, the chamber side line 26 is introduced from the first three-way valve 17 through the second three-way valve 20 through the large resistance on-off valve 22a or through the small resistance on-off valve 22b. The first three-way valve 17 is introduced through the third three-way valve 21 through the large resistance on-off valve 23a or the small resistance on-off valve 23b.

また、殺菌チャンバー10内にオゾンを供給する際には、排気ライン34の真空ポンプ33で殺菌チャンバー10内を減圧した後に、オゾン供給を行い、オゾン供給で、滅菌・殺菌した後は、外気吸入ライン41から外気を導入してエアレーションを行う。   Further, when supplying ozone into the sterilization chamber 10, the inside of the sterilization chamber 10 is depressurized by the vacuum pump 33 of the exhaust line 34, then ozone is supplied, and after sterilization and sterilization by ozone supply, outside air is inhaled. Aeration is performed by introducing outside air from the line 41.

図2は、殺菌チャンバー10内の通常殺菌を、図3は細管部11の殺菌・滅菌のシーケンスを示したものである。   FIG. 2 shows normal sterilization in the sterilization chamber 10, and FIG. 3 shows a sterilization / sterilization sequence of the thin tube portion 11.

図2においては、各機器の起動準備を行った後、真空ポンプ33による減圧、オゾナイザ14の運転、抵抗大の開閉弁22aを開いて、殺菌チャンバー10内にオゾンガスを小流量で流して滅菌を行い、次に抵抗小の開閉バルブ22bを開いてオゾン殺菌を行う第1回暴露処理を行った後、同様に第2回暴露処理を行った後、真空ポンプ33による減圧、外気吸入ライン41による空気導入を交互に繰り返してエアレーション処理を行ったのち、片付け処理を行う。   In FIG. 2, after each device is prepared for start-up, the pressure is reduced by the vacuum pump 33, the operation of the ozonizer 14, the large open / close valve 22 a is opened, and ozone gas is allowed to flow into the sterilization chamber 10 at a small flow rate for sterilization. Next, after opening the open / close valve 22b with low resistance and performing the first exposure process for sterilizing ozone, the second exposure process is performed in the same manner, and then the pressure is reduced by the vacuum pump 33 and the outside air suction line 41 is used. After the aeration process is performed by alternately repeating the air introduction, the tidying process is performed.

図3においては、各機器の起動準備を行った後、真空ポンプ33による減圧、オゾナイザ14の運転、開閉弁23aを開いて、細管部11に小流量でオゾンガスを流した後、抵抗大の開閉弁22aを開いて、殺菌チャンバー10内にオゾンガスを小流量で流し、次に開閉弁23bを開いて、細管部11に大流量でオゾンガスを流した後、抵抗小の開閉弁22bを開いて、殺菌チャンバー10内にオゾンガスを大流量で流してオゾン殺菌を行う第1回暴露処理を行った後、同様に第2回暴露処理を行った後、真空ポンプ33による減圧、外気吸入ライン41による空気導入を交互に繰り返してエアレーション処理を行ったのち、片付け処理を行う。   In FIG. 3, after starting preparation of each device, decompression by the vacuum pump 33, operation of the ozonizer 14, opening the on-off valve 23a, flowing ozone gas at a small flow rate through the narrow tube portion 11, and opening / closing of the large resistance Open the valve 22a, flow ozone gas into the sterilization chamber 10 at a small flow rate, then open the on-off valve 23b, flow ozone gas at a large flow rate into the narrow tube portion 11, then open the on-off valve 22b with low resistance, After the first exposure process for ozone sterilization by flowing ozone gas at a large flow rate into the sterilization chamber 10, the second exposure process is performed in the same manner, and then the pressure is reduced by the vacuum pump 33 and the air is supplied by the outside air suction line 41. The aeration process is performed by alternately repeating the introduction, and then the tidying process is performed.

このシーケンス制御は、通常滅菌時の減圧・オゾン導入工程のオゾン導入中に配管分岐部に設置した三方弁17、20、21と開閉弁22a、22b,23a、23bの切替によって通常滅菌系統と細管滅菌系統を切り替えることによって実現する。減圧・導入が複数回実施される場合は毎回バルブ切替を行なっても良い。   This sequence control is performed by switching between the three-way valves 17, 20, 21 and the on-off valves 22 a, 22 b, 23 a, 23 b installed in the pipe branch during ozone introduction in the decompression / ozone introduction process during normal sterilization. This is achieved by switching the sterilization system. When the pressure reduction / introduction is performed a plurality of times, the valve may be switched every time.

オゾン導入中の通常滅菌・細管滅菌のバルブ切替タイミング・回数・時間の最適値は対象とする細管部11の寸法条件・材質条件に依存するが、本方式であれば最適値が既知であれば、バルブ切替のシーケンス設定だけで最適な条件に設定できる。チャンバヘのオゾンガス導入をすべて細管対象物を通して実現することも可能であるが、細管対象物構成材料へのダメージや細管対象物構成材料による自己分解促進などを考慮して最適な条件で交互にオゾンガスを導入することが望ましい。   The optimum values of valve switching timing, number of times, and time for normal sterilization and capillary sterilization during ozone introduction depend on the dimensional conditions and material conditions of the target capillary tube 11; The optimal conditions can be set only by setting the valve switching sequence. Although it is possible to introduce all ozone gas into the chamber through a thin tube object, ozone gas is alternately applied under optimum conditions in consideration of damage to the material constituting the thin tube object and promotion of self-decomposition by the material constituting the thin tube object. It is desirable to introduce.

一般的にオゾナイザの発生するオゾンガス濃度は滅菌条件より十分高いが、細管対象物へのオゾン供給はオゾナイザが発生する高濃度オゾンの直接供給とする。これによりオゾンガスの自己分解を考慮した上で滅菌条件(CT値=オゾン濃度×曝露時間の積)を満足させることが可能となる。   In general, the ozone gas concentration generated by the ozonizer is sufficiently higher than the sterilization conditions, but the ozone supply to the capillary object is a direct supply of high concentration ozone generated by the ozonizer. This makes it possible to satisfy the sterilization conditions (product of CT value = ozone concentration × exposure time) in consideration of the self-decomposition of ozone gas.

通常滅菌系統と細管滅菌系統の配管抵抗の違いをキャンセルする目的や、ガス導入中のチャンバー内真空度の変化に応じて配管抵抗を調整する目的として、自動圧力制御機能や配管抵抗の異なる複数系統のラインを切り替えて使用する機能を追加することにより、オゾナイザに作用する圧力を最適状態に維持しオゾン発生効率を向上させても良い。   Multiple systems with different automatic pressure control functions and pipe resistances for the purpose of canceling the difference in pipe resistance between the normal sterilization system and the thin tube sterilization system, or adjusting the pipe resistance according to the change in the degree of vacuum in the chamber during gas introduction By adding a function for switching the line, the pressure acting on the ozonizer may be maintained in an optimum state to improve the ozone generation efficiency.

次に装置や細管部の保護について説明する。   Next, protection of the apparatus and the thin tube portion will be described.

人的ミスで細管部11が閉塞状態になった場合に、オゾナイザ14等の構成機器に過大な圧力がかかり装置や細管部を破損する可能性がある。これを回避するために、細管側ライン27に接続したリリーフ弁28によりリリーフライン30にてリリーフし、オゾンキラー32より真空ポンプ33にて排気する。これによって、オゾナイザ14等の構成機器や細管部を保護できる。   When the thin tube portion 11 is closed due to a human error, an excessive pressure is applied to components such as the ozonizer 14 and the device or the thin tube portion may be damaged. In order to avoid this, the relief valve 28 connected to the narrow tube side line 27 reliefs at the relief line 30 and exhausts from the ozone killer 32 with the vacuum pump 33. Thereby, components such as the ozonizer 14 and the thin tube portion can be protected.

リリーフ弁28のクラッキング圧は接続される細管部11の配管抵抗以上で構成機器を保獲できる圧力下限値以下を設定する。なお、リリーフ弁28の二次側は殺菌チャンバー10に開放しても良い。   The cracking pressure of the relief valve 28 is set to a value equal to or lower than the lower limit of pressure at which the component device can be caught by the piping resistance of the connected narrow tube portion 11 or more. The secondary side of the relief valve 28 may be opened to the sterilization chamber 10.

細管部に滅菌ガスが導入されたことの検知について説明する。   The detection of the introduction of sterilization gas into the thin tube will be described.

人的ミスで細管部11が閉塞状態になった場合に細管滅菌系統にオゾンガスが導入されない可能性がある。オゾンガスが導入され滅菌されたことを検知するために、細管滅菌系統にリリーフ弁28のクラッキング圧を検知する圧力スイッチ(図示せず)を設置する。   There is a possibility that ozone gas may not be introduced into the thin tube sterilization system when the thin tube portion 11 is closed due to a human error. In order to detect that the ozone gas has been introduced and sterilized, a pressure switch (not shown) for detecting the cracking pressure of the relief valve 28 is installed in the capillary sterilization system.

人的ミスで細管部11が閉塞状態になっているかどうかを滅菌運転開始前に知るために、オゾンを発生しないでオゾン原料ガス(酸素ガスや空気)のみを供給するモードを準備し、この時点でリリーフ弁28のクラッキング圧を検知しても良い。   In order to know before the start of the sterilization operation whether or not the narrow tube portion 11 is closed due to human error, a mode for supplying only ozone source gas (oxygen gas or air) without generating ozone is prepared. Thus, the cracking pressure of the relief valve 28 may be detected.

人的ミスで細管対象物が閉塞状態になっているかどうかを人が容易に目視確認できるように、細管滅菌系統にフローメータ29などの確認手段を設置しても良い。   A confirmation means such as a flow meter 29 may be installed in the thin tube sterilization system so that a person can easily visually check whether or not the thin tube object is blocked due to a human error.

圧力スイッチ以外の閉塞状態確認方法として、一回目の減圧後のオゾン導入を細管滅菌系統へのオゾン導入から開始して通常滅菌系統に切り替わる前にチャンバー内オゾン濃度測定用モニタ37でオゾンを検知することにより、細管部11にオゾンガスが導入されたことを確認しても良い。   As a method for checking the occlusion state other than the pressure switch, the ozone introduction is detected by the ozone concentration measurement monitor 37 in the chamber before the ozone introduction after the first decompression is started from the introduction of the ozone into the capillary sterilization system and before switching to the normal sterilization system. Accordingly, it may be confirmed that the ozone gas has been introduced into the narrow tube portion 11.

逆に人的ミスで細管対象物が専用ポートに接続されていない状態を検知するために、細管部11の二次側端部に第二のリリーフ弁やフローメータ(図示せず)を設置して、圧力スイッチや目視確認で細管対象物への接続有無を確認しても良い。この場合、第二のリリーフ弁のクラッキング圧は第一のリリーフ弁のクラッキング圧より小さくする。   Conversely, a second relief valve or a flow meter (not shown) is installed at the secondary side end of the narrow tube portion 11 in order to detect a state in which the thin tube object is not connected to the dedicated port due to human error. The presence or absence of connection to the thin tube object may be confirmed by a pressure switch or visual confirmation. In this case, the cracking pressure of the second relief valve is made smaller than the cracking pressure of the first relief valve.

なお、細管部11内の残留滅菌ガスのパージにおいて、細管部11内に滅菌ガスが到達し難いということは、エアレーションでも滅菌ガスが除去しにくいということになる。本発明では、滅菌終了後のエアレーション時に細管滅菌系統に装置側からパージガス供給することが可能なので、滅菌ガスを十分除去可能である。また、細管部11は、オゾン殺菌後に殺菌チャンバー10から取り出すが、細管部11の配管接続部は、オゾンと接触しないため滅菌されないが、チューブ類のように端部を切断・廃棄しても良い細管部の場合は、使用直前に接続部を切断する。   In purging the residual sterilization gas in the narrow tube portion 11, the fact that the sterilization gas does not easily reach the narrow tube portion 11 means that the sterilization gas is difficult to remove even by aeration. In the present invention, the purge gas can be supplied from the apparatus side to the capillary sterilization system at the time of aeration after completion of sterilization, so that the sterilization gas can be sufficiently removed. Moreover, although the thin tube part 11 is taken out from the sterilization chamber 10 after ozone sterilization, the pipe connection part of the thin tube part 11 is not sterilized because it does not come into contact with ozone, but the end may be cut and discarded like tubes. In the case of a thin tube portion, the connection portion is cut immediately before use.

細管部11の配管接続部が遠隔操作あるいはタイマー動作によって把持を解除できる機溝とし、細管滅菌が完了した後に滅菌ガス雰囲気中で把持を解除することで、接続部の滅菌を実施することもできる。細管対象物の配管接続部が遠隔操作あるいはタイマー動作で把持部を移動できる機構とし、細管滅菌中に複数回持ち替えることにより、接続部の滅菌を実施することもできる。   The pipe connection part of the thin tube part 11 can be a machine groove that can be released from gripping by remote operation or timer operation, and the connection part can be sterilized by releasing the gripping in a sterilizing gas atmosphere after completion of the thin tube sterilization. . The pipe connection part of the thin tube object can be a mechanism that can move the grip part by remote operation or timer operation, and the connection part can be sterilized by changing it several times during the thin tube sterilization.

さらに細管部11の配管接続部が金属製の場合は、接続機構に加熱手段を設けることにより、細管滅菌中に熱により殺菌することができる。   Furthermore, when the pipe connection portion of the thin tube portion 11 is made of metal, it can be sterilized by heat during thin tube sterilization by providing a heating means in the connection mechanism.

次に、殺菌チャンバー10内に収容される細管部11の先端に取り付ける真空カートリッジを図4により説明する。   Next, a vacuum cartridge attached to the tip of the thin tube portion 11 accommodated in the sterilization chamber 10 will be described with reference to FIG.

図4は、ガス種に依存しない細管部11の滅菌に使用する真空カートリッジ80の例を示したものである。   FIG. 4 shows an example of a vacuum cartridge 80 used for sterilization of the narrow tube portion 11 independent of the gas type.

この真空カートリッジ80は、細管滅菌に必要な容量を有する真空バッファタンク81と、細管部11と接続する接続ポート82と、その接続ポート82に臨んで真空バッファタンク81に形成されたオリフィスからなるオゾン導入ポート83と、減圧ポート84と、その減圧ポート84に設けられた逆止弁85からなる。逆止弁85は、減圧ポート84をスプリング86で常時閉じる方向に付勢された弁体87とからなる。   The vacuum cartridge 80 is composed of a vacuum buffer tank 81 having a capacity necessary for capillary sterilization, a connection port 82 connected to the capillary tube portion 11, and an ozone formed of an orifice formed in the vacuum buffer tank 81 facing the connection port 82. It comprises an introduction port 83, a pressure reducing port 84, and a check valve 85 provided in the pressure reducing port 84. The check valve 85 includes a valve body 87 urged in a direction in which the pressure reducing port 84 is always closed by a spring 86.

真空カートリッジ80は、接続ポート82を細管部11に接続した状態で、図1に示した殺菌チャンバー10内に収容し、他端は、殺菌チャンバー10に開放したままにしておく。   The vacuum cartridge 80 is accommodated in the sterilization chamber 10 shown in FIG. 1 with the connection port 82 connected to the narrow tube portion 11, and the other end is left open in the sterilization chamber 10.

この図4の真空カートリッジ80は、殺菌チャンバー10内が減圧されるにおいて、逆止弁85が開く、この際、オリフィスからなるオゾン導入ポート83の流体抵抗が大きいので、減圧時には大口径の減圧ポート84から殺菌チャンバー10側にエアが抜ける。殺菌チャンバー10内の減圧完了時には、真空バッファタンク81内は逆止機能のクラッキング圧分だけ低い真空度まで到達して、真空バッファタンク81内に真空エネルギを蓄積できる。   In the vacuum cartridge 80 of FIG. 4, when the inside of the sterilization chamber 10 is decompressed, the check valve 85 is opened. At this time, the fluid resistance of the ozone introduction port 83 formed of an orifice is large. Air escapes from 84 to the sterilization chamber 10 side. When the pressure reduction in the sterilization chamber 10 is completed, the vacuum buffer tank 81 reaches a vacuum level lower than the cracking pressure of the check function, and the vacuum energy can be stored in the vacuum buffer tank 81.

殺菌チャンバー10に、図1のチャンバー側ライン26からオゾン導入が開始されると、細管部11内部は、チャンバー10の圧力にほぼ追従した速度で復圧し容積に比例したオゾンを取り込んだ後は、オゾンは分解されるだけであるが、真空カートリッジ80の真空バッファタンク81内部の真空エネルギはオゾン導入完了後も減圧状態を保ち、オゾン導入ポート83を通して少しずつ復圧するため、結果として殺菌チャンバー10内のオゾンを真空バッファタンク81の容積分、細管部11にオゾンを常時導入することが可能となる。   When the introduction of ozone into the sterilization chamber 10 is started from the chamber side line 26 in FIG. 1, the inside of the thin tube portion 11 is restored at a speed substantially following the pressure in the chamber 10 and after taking in ozone in proportion to the volume, Although ozone is only decomposed, the vacuum energy inside the vacuum buffer tank 81 of the vacuum cartridge 80 remains in a reduced pressure state even after the completion of ozone introduction, and gradually returns through the ozone introduction port 83, resulting in the inside of the sterilization chamber 10. It is possible to constantly introduce ozone into the narrow tube portion 11 by the volume of the vacuum buffer tank 81.

この真空カートリッジ80を用いることで、細管側ライン27に細管部11を接続することなく細管部11をチャンバー10内に収容できるため、殺菌処理後の細管部11を取り外す必要がなくそのまま真空カートリッジ80ごと、或いは真空カートリッジ80から取り外してチャンバー10外に取り出すことができる。   By using the vacuum cartridge 80, the thin tube portion 11 can be accommodated in the chamber 10 without connecting the thin tube portion 11 to the thin tube side line 27. Therefore, it is not necessary to remove the thin tube portion 11 after sterilization treatment, and the vacuum cartridge 80 is used as it is. Or can be removed from the vacuum cartridge 80 and taken out of the chamber 10.

また、真空カートリッジと細管部を接続した状態で一般の滅菌バックに入れることにより処理後の無菌性を確保できる。   Moreover, the sterility after a process is securable by putting in a general sterilization bag in the state which connected the vacuum cartridge and the thin tube part.

10 殺菌チャンバー
11 細管部
27 細管側ライン
28 リリーフ弁
80 真空カートリッジ
81 真空バッファタンク
83 オゾン導入ポート
85 逆止弁
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Sterilization chamber 11 Narrow pipe part 27 Narrow pipe side line 28 Relief valve 80 Vacuum cartridge 81 Vacuum buffer tank 83 Ozone introduction port 85 Check valve

Claims (2)

殺菌チャンバー内に殺菌すべき細管部を収容し、その殺菌チャンバー内に殺菌ガスを供給すると共に細管部内に殺菌ガスを供給して殺菌・滅菌を行う細管部のガス殺菌・滅菌方法において、真空バッファタンクにオリフィスからなる導入ポートと逆止弁とを設けて真空カートリッジを形成し、その真空バッファタンクに導入ポートを介して細管部を接続すると共にその細管部と真空カートリッジを、殺菌チャンバー内に収容し、その後、殺菌チャンバー内を減圧すると共に逆止弁を介して真空バッファタンク内に真空エネルギを蓄積し、殺菌チャンバー内に殺菌ガスを供給して、その殺菌ガスを、細管部と導入ポートを通して真空バッファタンク内に吸引して細管部内を殺菌することを特徴とする細管部のガス殺菌・滅菌方法。   In a gas sterilization / sterilization method for a thin tube portion in which a narrow tube portion to be sterilized is housed in a sterilization chamber and sterilization gas is supplied into the sterilization chamber and sterilization gas is supplied into the narrow tube portion for sterilization and sterilization. A tank is provided with an inlet port consisting of an orifice and a check valve to form a vacuum cartridge. A thin tube portion is connected to the vacuum buffer tank via the introduction port, and the thin tube portion and the vacuum cartridge are accommodated in a sterilization chamber. Then, the inside of the sterilization chamber is depressurized and vacuum energy is accumulated in the vacuum buffer tank through the check valve. The sterilization gas is supplied into the sterilization chamber, and the sterilization gas is passed through the narrow tube portion and the introduction port. A method for gas sterilization and sterilization of a thin tube part, wherein the tube part is sterilized by suction into a vacuum buffer tank. 殺菌チャンバー内に殺菌すべき細管部を収容し、その殺菌チャンバー内に殺菌ガスを供給すると共に細管部内に殺菌ガスを供給して殺菌・滅菌を行う細管部のガス殺菌・滅菌装置において、真空バッファタンクにオリフィスからなる導入ポートと逆止弁とを設けて真空カートリッジを形成し、その真空バッファタンクに導入ポートを介して細管部を接続すると共にその細管部と真空カートリッジを、殺菌チャンバー内に収容し、その後、殺菌チャンバー内を減圧すると共に逆止弁を介して真空バッファタンク内に真空エネルギを蓄積し、殺菌チャンバー内に殺菌ガスを供給して、その殺菌ガスを、細管部と導入ポートを通して真空バッファタンクに吸引して細管部内を殺菌することを特徴とする細管部のガス殺菌・滅菌装置。   In a gas sterilization / sterilization apparatus of a thin tube section that houses a narrow tube part to be sterilized in a sterilization chamber, supplies sterilization gas into the sterilization chamber, and supplies sterilization gas into the narrow tube part to perform sterilization and sterilization. A tank is provided with an inlet port consisting of an orifice and a check valve to form a vacuum cartridge. A thin tube portion is connected to the vacuum buffer tank via the introduction port, and the thin tube portion and the vacuum cartridge are accommodated in a sterilization chamber. Then, the inside of the sterilization chamber is depressurized and vacuum energy is accumulated in the vacuum buffer tank through the check valve. The sterilization gas is supplied into the sterilization chamber, and the sterilization gas is passed through the narrow tube portion and the introduction port. A gas sterilization / sterilization apparatus for a thin tube part, which is sterilized by sucking it into a vacuum buffer tank.
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