JP2010225986A - 固体撮像素子及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】薄膜板状のシリコン層と、前記シリコン層の片方の面側に設けられた配線層と、前記シリコン層の前記配線層と反対側の面に受光部を面して形成された複数の光電変換素子と、前記シリコン層の光電変換素子を形成した面側であって、隣接する受光部間の間隙に形成されたシリコンからなる凸部と、前記シリコンからなる凸部を覆って平坦面を形成する平坦化透明層と、前記平坦化透明層の上面に前記光電変換素子受光部の各々に対応して設けられたカラーフィルタと、を有する。
【選択図】図1
Description
0による遮蔽効果は充分でないので、入射光82の一定割合の光が配線層の表面に入射し、配線層20の入射光側の面で反射される。上記のように、裏面照射型の固体撮像素子において、光電変換素子間の隙間を通して入射した光が配線層で反射することとなり、この反射光が固体撮像素子内部での散乱光もしくは迷光となり、ノイズや混色の問題を生じ易い。
図5は、本発明の固体撮像素子の製造方法の一例を説明するための断面模式図であって、(a)、(b)の工程順に示す。図5(a)に示すシリコン層11は、図1〜図4のシリコン層10と同じものであるが、光電変換素子30の形成領域としてのシリコン層領域を他の加工されるシリコン層領域と区別して表す。配線層20を形成する面(シリコン基板のオモテ面側)の反対面(シリコン基板の裏面側)に受光部を向けて、かつ、素材のシリコン基板内部にあって配線層20に近い側に、通常の半導体のウェハプロセスにより、光電変換素子30を配列させて設ける。また、シリコン基板の光電変換素子を形成した面とは反対側の表(オモテ)面に絶縁層90を配しているが、絶縁層90内に前記配線層20を成膜工程およびフォトリソグラフィー工程により、形成する。前記配線層20を多層配線層とする場合に、層間の絶縁層と導通部分を構成に含むが、通常の手法で行われるものであって、図面での詳細説明は省略する。その後、シリコン基板の裏面から、グラインダーを用いてシリコンを一定量研磨する。研磨は、少なくとも後述するシリコンからなる凸部の高さが所望する高さを得られるまでの厚さとなるように行う。研磨除去領域のシリコン層13を除いて、光電変換素子30の配列された受光部より上のシリコン層12を加工する工程を、図5(b)に示す。
シリコンからなる凸部40を間隙上に設けた光電変換素子30の配列に対応してカラーフィルタを設けるために、上記光電変換素子30とシリコンからなる凸部40の有効領域全体を覆うように、平坦化透明層50を形成する。平坦化透明層50は、カラーフィルタ61、62、63を形成する下地面の平坦化を行うために設けられるので、シリコンからなる凸部40を有しない従来とは異なり、本発明においては、充分な厚さと平坦性を持つことが必要である。透明な樹脂を塗布して、平坦化透明層50を形成する際、透明樹脂の粘度にもよるが、1回の塗布では充分な厚さが得られない場合、複数回に分けて透明樹脂を塗布して積層することにより、形成できる。
11・・・シリコン層(光電変換素子形成領域)
12・・・シリコン層(シリコン凸部形成領域)
13・・・シリコン層(研磨除去領域)
14・・・シリコン層(ドライエッチング除去領域)
20・・・配線層
30・・・光電変換素子
40・・・シリコンからなる凸部
50・・・平坦化透明層
61、62、63・・・カラーフィルタ
70・・・マイクロレンズ
81、82・・・入射光
90・・・絶縁層
Claims (3)
- 薄膜板状のシリコン層と、前記シリコン層の片方の面側に設けられた配線層と、前記シリコン層の前記配線層と反対側の面に受光部を面して形成された複数の光電変換素子と、前記シリコン層の光電変換素子を形成した面側であって、隣接する受光部間の間隙に形成されたシリコンからなる凸部と、前記シリコンからなる凸部を覆って平坦面を形成する平坦化透明層と、前記平坦化透明層の上面に前記光電変換素子受光部の各々に対応して設けられたカラーフィルタと、を有することを特徴とする固体撮像素子。
- 前記カラーフィルタの上面に前記光電変換素子受光部の各々に対応して、マイクロレンズが設けられたことを特徴とする請求項1に記載の固体撮像素子。
- 請求項1または2に記載の固体撮像素子を製造する方法であって、前記シリコンからなる凸部は前記シリコン層と一体であり、前記シリコンからなる凸部を形成する工程が、前記薄膜板状のシリコン層の片面を選択的にエッチングすることを特徴とする固体撮像素子の製造方法。
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06310697A (ja) * | 1993-04-27 | 1994-11-04 | Hamamatsu Photonics Kk | 固体撮像装置及びその製造方法 |
JP2005057058A (ja) * | 2003-08-05 | 2005-03-03 | Sanyo Electric Co Ltd | 固体撮像装置 |
JP2005167003A (ja) * | 2003-12-03 | 2005-06-23 | Canon Inc | 固体撮像装置、その製造方法、および該固体撮像装置を備えた撮像システム |
JP2007184603A (ja) * | 2005-12-29 | 2007-07-19 | Magnachip Semiconductor Ltd | バックサイド照明構造のcmosイメージセンサ及びその製造方法 |
JP2008034836A (ja) * | 2006-07-03 | 2008-02-14 | Univ Kinki | 固体撮像素子 |
JP2008210846A (ja) * | 2007-02-23 | 2008-09-11 | Fujifilm Corp | 裏面照射型固体撮像素子及びその製造方法 |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06310697A (ja) * | 1993-04-27 | 1994-11-04 | Hamamatsu Photonics Kk | 固体撮像装置及びその製造方法 |
JP2005057058A (ja) * | 2003-08-05 | 2005-03-03 | Sanyo Electric Co Ltd | 固体撮像装置 |
JP2005167003A (ja) * | 2003-12-03 | 2005-06-23 | Canon Inc | 固体撮像装置、その製造方法、および該固体撮像装置を備えた撮像システム |
JP2007184603A (ja) * | 2005-12-29 | 2007-07-19 | Magnachip Semiconductor Ltd | バックサイド照明構造のcmosイメージセンサ及びその製造方法 |
JP2008034836A (ja) * | 2006-07-03 | 2008-02-14 | Univ Kinki | 固体撮像素子 |
JP2008210846A (ja) * | 2007-02-23 | 2008-09-11 | Fujifilm Corp | 裏面照射型固体撮像素子及びその製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017143211A (ja) * | 2016-02-12 | 2017-08-17 | 凸版印刷株式会社 | 固体撮像素子及びその製造方法 |
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