JP2010225641A - 基板搬送装置及び基板搬送方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板搬送装置13の装置本体の上部には大気導入部41が設けられ、下部には大気排出部49が設けられている。大気導入部41と大気排出部49との間の基板搬送部には、ウエハWを支持するピック43、搬送アーム腕部42及びマッピングアーム44を備えた搬送アーム機構19が配置されている。大気導入部41に隣接してFFU34が設けられており、FFU34は、大気導入部41から流入し、基板搬送部を経て大気排出部49から流出する大気の下向流を形成する。FFU34と基板搬送部との間に軟X線レーザ光照射装置52及び整流板51が配置されており、これによって大気をイオン化して帯電したパーティクルを除電し、残留する帯電したパーティクルを捕集する。
【選択図】図2
Description
11 プロセスシップ
13 ローダーモジュール(基板搬送装置)
19 搬送アーム機構
25 プロセスモジュール
34 ファンフィルタユニット(FFU)
41 大気導入部
49 大気排出部
51 パーティクル捕集部(整流板)
52 軟X線レーザ光照射装置
Claims (9)
- 装置本体の上部に設けられた大気導入部及び下部に設けられた大気排出部と、
前記大気導入部と前記大気排出部との間の基板搬送部と、
前記大気導入部に隣接して設けられ、該大気導入部から流入し、前記基板搬送部を経て前記大気排出部から流出する大気の下向流を形成する下向流形成部と、を有し、
前記下向流形成部と前記基板搬送部との間に、前記下向流の流通方向に沿って順次前記大気をイオン化するガスイオン化装置及び前記大気中のパーティクルを捕集するパーティクル捕集部を設けたことを特徴とする基板搬送装置。 - 前記ガスイオン化装置は、軟X線レーザ光照射装置であることを特徴とする請求項1記載の基板搬送装置。
- 前記ガスイオン化装置は、コロナ放電方式のイオン発生装置であることを特徴とする請求項1記載の基板搬送装置。
- 前記パーティクル捕集部は、それぞれ異なる極性のバイアス電圧が印加された2枚の整流板であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の基板搬送装置。
- 装置本体の上部に設けられた大気導入部及び下部に設けられた大気排出部と、
前記大気導入部と前記大気排出部との間の基板搬送部と、
前記大気導入部に隣接して設けられた下向流形成部と、
を有する基板搬送装置の前記基板搬送部内で基板を搬送する際に、
前記下向流形成部によって、前記大気導入部から流入し、前記基板搬送部を経て前記大気排出部から流出する大気の下向流を形成し、
前記大気を、前記下向流形成部と前記基板搬送部との間に設けられたガスイオン化装置でイオン化して前記大気に含まれる帯電したパーティクルを除電すると共に、前記大気中に残留する帯電したパーティクルを前記ガスイオン化装置の下流側に隣接して設けられたパーティクル捕集部で捕集することを特徴とする基板搬送方法。 - 前記ガスイオン化装置として、軟X線レーザ光照射装置を用いることを特徴とする請求項5記載の基板搬送方法。
- 前記ガスイオン化装置として、コロナ放電方式のイオン発生装置を用いることを特徴とする請求項5記載の基板搬送方法。
- 前記パーティクル捕集部として、それぞれ異なる極性のバイアス電圧が印加された2枚の整流板を用いることを特徴とする請求項5乃至7のいずれか1項に記載の基板搬送方法。
- 前記基板の搬送停止中は、前記2枚の整流板に印加されたバイアス電圧の極性をそれぞれ変更するか又は電圧印加を停止して前記整流板に捕集されたパーティクルを離脱させることを特徴とする請求項8記載の基板搬送方法。
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